WO2014119735A1

WO2014119735A1 - 処理装置、噴射処理方法および電極材料の製造方法

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Abstract

　本発明は、主室（１１）の内部にガスを噴射する処理部（１０）と、主室（１１）の内部および外部の双方に連通するシール室（１３，１４）と、主室（１１）および／またはシール室（１３，１４）の内部を排気する排気部（１５）と、シール室（１３，１４）の内部の圧力と第１の基準圧力との第１の差圧を制御する制御部（１７）とを備える処理装置において、排気部（１５）は、シール室（１３，１４）の内部を排気する第１排気系統（１５０）を有し、制御部（１７）は、主室（１１）の内部に噴射されるガスの量の増加に応じて動作モードを、第１の差圧に基づくフィードバック制御をして第１排気系統（１５０）を動作させる第１モードから、第１の差圧に基づくフィードバック制御とは異なる制御をして第１排気系統（１５０）を動作させる第２モードに移行させるものである。　当該構成により、処理部により短時間に大量のガスが噴射されても、主室からのガスの流出及び主室内への外気の流入を抑制することができる。

Description

処理装置、噴射処理方法および電極材料の製造方法

　本発明は、処理装置、噴射処理方法および電極材料の製造方法に関する。

　従来から、薄膜材料に処理を施すための処理容器内の気密性を得るために、処理容器内に入ろうとする気体の拡散経路を複雑にするラビリンス機構を有するシール装置が知られている（たとえば特許文献１）。

日本国特開２００６－２２９２２号公報

　しかしながら、シール装置のラビリンス機構を構成する邪魔板が製品と接触することによって、製品に傷をつけたり、処理容器内に材料を送る際の抵抗となったりするために、製品の品質と処理容器内の気密性の低下抑制とを両立させることが困難である。

　本発明の第１の態様によると、処理装置は、主室と、主室の内部にガスを噴射する処理部と、主室の内部および外部の双方に連通するシール室と、主室および／またはシール室の内部を排気する排気部と、排気部を動作させて、シール室の内部の圧力と第１の基準圧力との第１の差圧を制御する制御部とを備え、排気部は、シール室の内部を排気する第１排気系統を有し、制御部は、第１の差圧を制御するための排気部の動作モードとして、第１の差圧に基づくフィードバック制御をして第１排気系統を動作させる第１モードと、第１の差圧に基づくフィードバック制御とは異なる制御をして第１排気系統を動作させる第２モードとを有し、制御部は、処理部により主室の内部に噴射されるガスの量の増加に応じて、動作モードを第１モードから第２モードに移行させる。
　本発明の第２の態様によると、第１の態様の処置装置において、制御部は、処理部により主室の内部に噴射されるガスの量が第１閾値を超える場合、動作モードを第１モードから第２モードに移行させることができる。
　本発明の第３の態様によると、第１または第２の態様の処理装置において、制御部は、第２モードの場合には、予め設定された所定の排気量で、第１排気系統にシール室の内部から排気させることができる。
　本発明の第４の態様によると、第１乃至３の何れか一態様の処理装置において、制御部は、第２モード時におけるシール室の内部の圧力低下に応じて、動作モードを第２モードから第１モードに移行させることができる。
　本発明の第５の態様によると、第１乃至３の何れか一態様の処理装置において、制御部は、第２モードに移行してから所定時間が経過した場合、動作モードを第２モードから第１モードに移行させることができる。
　本発明の第６の態様によると、第４の態様の処理装置において、制御部は、第２モードの継続中において、第１の差圧が第２閾値を下回る場合に、動作モードを第２モードから第１モードに移行させることができる。
　本発明の第７の態様によると、第１乃至６の何れか一態様の処理装置において、第１排気系統は、シール室の内部を排気するために第１排気装置と、第１排気装置の吸気側または排気側に設けられた第１可変バルブとを備え、制御部は、第１排気装置の排気能力と第１可変バルブの開度とのうち少なくとも一方を変化させることにより第１の差圧を制御することができる。
　本発明の第８の態様によると、第１乃至７の何れか一態様の処理装置において、排気部は、主室の内部を排気する第２排気系統を有し、制御部は、さらに、主室の内部の圧力と第２の基準圧力との第２の差圧を制御するための排気部の動作モードとして、第２の差圧に基づくフィードバック制御をして第２排気系統を動作させる第３モードと、第２の差圧に基づくフィードバック制御とは異なる制御をして第２排気系統を動作させる第４モードとを有し、制御部は、処理部によって主室の内部へ噴射されるガスの量の増加に応じて、動作モードを第３モードから第４モードへ移行させることができる。
　本発明の第９の態様によると、第８の態様の処理装置において、制御部は、処理部により主室の内部に噴射されるガスの量が第３閾値を超える場合、動作モードを第３モードから第４モードに移行させることができる。
　本発明の第１０の態様によると、第８または９の態様の処理装置において、第４モードは、予め設定された所定の排気量で、第２排気系統に主室の内部から排気させることができる。
　本発明の第１１の態様によると、第８乃至１０の何れか一態様の処理装置において、制御部は、第４モード時における主室の圧力低下に応じて、動作モードを第４モードから第３モードに移行させることができる。
　本発明の第１２の態様によると、第８乃至１０の何れか一態様の処理装置において、制御部は、第４モードに移行してから所定時間が経過した場合、動作モードを第４モードから第３モードに移行させることができる。
　本発明の第１３の態様によると、第１１の態様の処理装置において、制御部は、第４モードの継続中において、第２の差圧が第４閾値を下回る場合に、第２排気系統の動作モードを第４モードから第３モードに移行させることができる。
　本発明の第１４の態様によると、第８乃至１３の何れか一態様の処理装置において、第２排気系統は、主室の内部を排出するための第２排気装置と、第２排気装置の吸気側または排気側に設けられた第２可変バルブとを備え、制御部は、第２排気装置の排気能力と第２可変バルブの開度とのうち少なくとも一方を変化させることにより、第２の差圧を制御することができる。
　本発明の第１５の態様によると、第８乃至１４の何れか一態様の処理装置において、第２排気系統は、第２排気装置の排気側から主室の内部にガスを還流させる還流経路と、還流経路に設けられた第３可変バルブとを有し、制御部は、第２排気装置の排気能力、第２可変バルブの開度および第３可変バルブの開度のうち、少なくとも一つを変化させることにより、第２の差圧を制御することができる。
　本発明の第１６の態様によると、第１５の態様の処理装置において、制御部は、第２可変バルブの開度と、第３可変バルブの開度とを相補的に変化させることができる。
　本発明の第１７の態様によると、第１乃至１６の何れか一態様の処理装置において、第１の基準圧力は、主室の内部の圧力またはシール室の外部の圧力とすることができる。
　本発明の第１８の態様によると、第８乃至１７の何れか一態様の処理装置において、第２の基準圧力は、主室の外部の圧力またはシール室の内部の圧力とすることができる。
　本発明の第１９の態様によると、第８乃至１４の何れか一態様の処理装置において、第１閾値は第３閾値よりも小さくすることができる。
　本発明の第２０の態様によると、噴射処理方法は、第１乃至１９の何れか一態様の処理装置を用い、主室内で被処理物に噴射処理を行う。
　本発明の第２１の態様によると、第２０の態様の噴射処理方法において、噴射処理は、被処理物に固気二相流を噴射することができる。
　本発明の第２２の態様によると、電極材料の製造方法は、第１乃至１９の何れか一態様の処理装置を用い、集電体表面に活物質皮膜を形成する。

　本発明によれば、処理部により主室内に噴射されるガスの量の増加に応じて排気部の動作モードが、フィードバック制御をして動作する第１モードからフィードバック制御とは異なる制御をして動作する第２モードへ移行するので、主室の気密性の低下を抑制しつつ製品の品質劣化を防止できる。

本発明の第１の実施の形態による処理装置の構成を示すブロック図第１の実施の形態による処理装置の動作を説明するフローチャート第２の実施の形態による処理装置の動作を説明するフローチャート第３の実施の形態による処理装置の構成を示すブロック図第３の実施の形態による処理装置の動作を説明するフローチャート第３の実施の形態による処理装置の動作を説明するフローチャート第３の実施の形態による処理装置の動作を説明するフローチャート第４の実施の形態による処理装置の動作を説明するフローチャート第４の実施の形態による処理装置の動作を説明するフローチャート変形例による処理装置の構成を示すブロック図本発明による噴射処理装置を用いた噴射処理方法を説明するフローチャート

　本発明の態様の処理装置は、ガスの噴射を伴う加工処理をそのガス雰囲気の主室内で行う際に、主室に被処理物を搬入および／または搬出するための開口部に設けられたシール室内の圧力と主室外部の圧力との差圧を制御して、シール室内の圧力を主室外部の圧力よりも低圧側に保持する。これにより、主室から外部へのガスの流出、主室の外部から主室内部への外気の流入を抑制している。以下、実施の形態を用いて詳細に説明する。

－第１の実施の形態－
　図面を参照しながら、本発明の第１の実施の形態による処理装置１について説明する。図１は、処理装置１の構成を模式的に示すブロック図である。処理装置１は、噴射処理装置１０と、主室１１と、送り装置１２と、入口シール室１３と、出口シール室１４と、排気装置１５と、制御装置１７と、圧力センサ１８ａおよび１８ｂとを備えている。

　噴射処理装置１０は、主室１１の内部に設けられ、電池電極の負極集電体となる銅箔や電池電極の正極集電体となるアルミニウム箔等の被処理物Ｓに対して成膜処理を行う。噴射処理装置１０の一例は、図示しない粉体供給装置から供給される微粒子を図示しない気体供給源から供給される窒素ガス等の不活性ガスと混合して、被処理物Ｓに対して吹き付けるＰＪＤ（Powder Jet Deposition）方式による成膜処理装置である。

　噴射処理装置１０が噴射する微粒子としては、金、銀、銅、アルミニウム、スズ、ニッケル、チタン等の各種金属からなるものや、Ｓｉ－Ｃｕ系やＳｉ－Ｓｎ系などの各種合金乃至金属間化合物からなるものや、酸化アルミニウムや酸化ジルコニウム等のセラミックスや各種無機ガラス材料からなるもの、ポリエチレン等の高分子化合物からなるもの等を特に制限なく用いることができる。また、メカニカルアロイング法等によって異種材料を複合化した微粒子や、異種材料を表面にコーティングした微粒子を用いることもできる。

　なお、噴射処理装置１０はＰＪＤ方式により成膜処理を行うものに代えて、コールドスプレー方式、エアロゾルデポジション方式等の種々の成膜処理装置を用いることができる。また、噴射処理装置１０は、被処理物Ｓに微粒子を噴射して電極活物質材料の膜を形成させるものだけでなく、被処理物Ｓの被処理面に噴射した微粒子によって種々の皮膜を形成するものでもよい。噴射処理装置１０は被処理物Ｓの被処理面に噴射した微粒子によって除去処理を行う除去処理装置であってもよい。被処理物Ｓは処理の目的に応じて適宜選択することができる。

　噴射処理装置１０は、処理時に、制御装置１７からの噴射指令を受けて噴射量Ｔ１（ｍ^３／ｍｉｎ）にて微粒子を混合した不活性ガスを噴射する。制御装置１７は複数の噴射量Ｔ１を記憶しており、予め設定された加工プログラムに従って適切なタイミングで噴射量Ｔ１を増減（噴射停止を含む）させる。また、噴射処理装置１０は、所定の時間間隔で噴射量Ｔ１を増減させることができる。

　主室１１は、被処理物Ｓや噴射する微粒子の酸化防止、防爆、湿気防止等を目的として一定の雰囲気ガス下で噴射処理装置１０が被処理物Ｓの処理を行うための容器である。主室１１には、被処理物Ｓを内部に搬入するための入口１１１と、主室１１内で噴射処理装置１０によって処理が施された被処理物Ｓを外部に搬出するための出口１１２とが設けられている。主室１１は、入口１１１と出口１１２の他は、外部と連通する開口部を実質的に有していない密閉容器となっている。

　送り装置１２は、複数のローラー等によって構成され、シート状に形成された被処理物Ｓを入口１１１から主室１１内部に搬入し、主室１１内で処理が施された被処理物Ｓを出口１１２から主室１１外部に搬出する。その結果、噴射処理装置１０は被処理物Ｓに対してロールツーロール（Roll to Roll）方式によって処理を行うことができる。なお、本実施の形態においては、一例として、送り装置１２による被処理物Ｓの送り速度は、１ｍｍ／ｓｅｃ～１００ｍｍ／ｓｅｃとすることができる。被処理物Ｓの搬送は連続的に行うことができ、必要に応じて搬送・停止を繰り返す間欠動作を行ってもよい。入口１１１と出口１１２は、被処理物Ｓとの間に適当なクリアランス（間隔）を保ちながら被処理物Ｓを搬送できるよう、適切な大きさに形成される。なお、主室１１の気密性を保持する観点からは、入口１１１および出口１１２と被処理物Ｓとの間隔は、できるだけ小さく構成することが好ましい。本実施の形態において、入口１１１および出口１１２はラビリンス構造等の特別な機構を必要としない。

　入口シール室１３は、主室１１の入口１１１の外側に設けられ、主室１１の内部と外部との双方に連通している。出口シール室１４は、主室１１の出口１１２の外側に設けられ、主室１１の内部と外部との双方に連通している。入口シール室１３および出口シール室１４は、主室１１内の不活性ガスが外部へ流出することを防止しつつ、外部の空気が主室１１内部に流入することを防止するために設けられている。このため、入口シール室１３および出口シール室１４内の圧力Ｐ１ａおよびＰ１ｂは、後述する排気装置１５によって外部圧力Ｐ０との差圧が所定の範囲内となるように制御される。なお、所定の範囲内とは、後述するように、主室１１内の不活性ガスや微粒子が入口シール室１３または出口シール室１４を経由して外部に放出されることを防止可能とする差圧の範囲を指す。

　主室１１に対して入口シール室１３の構造と出口シール室１４の構造とが対称的である場合、圧力Ｐ１ａとＰ１ｂとは常にほぼ同一の圧力となる。また、外部圧力Ｐ０はどちらのシール室に関しても同一の値である。したがって、この場合、圧力Ｐ１ａまたはＰ１ｂのどちらか一方の圧力と外部圧力Ｐ０との差圧が所定の範囲内となるように制御すればよい。また、主室１１に対して入口シール室１３の構造と出口シール室１４の構造とが非対称な場合は、圧力Ｐ１ａとＰ１ｂとの間に差が生じることも考えられる。この場合は、圧力Ｐ１ａとＰ１ｂとのうち、外部圧力Ｐ０との差圧がより小さい方を制御対象として選択すればよい。シール室圧力と外部圧力Ｐ０との差圧がより小さい方が、シール室から外部へガスや微粒子が流出する可能性が高くなるためである。なお、以後の説明で入口シール室１３と出口シール室１４とを区別せず、単にシール室圧力またはＰ１と称したときは、上記のようにして選択された制御対象となる側のシール室圧力を指すものとする。また、シール室の圧力が外部圧力よりも高い場合には差圧は負の値であるものとする。

　本実施の形態において、主室１１内の不活性ガスや微粒子が入口シール室１３または出口シール室１４を経由して外部に放出されないようにするためには、シール室圧力Ｐ１を外部圧力Ｐ０と比較して８Ｐａ～１３Ｐａ程度低い圧力に維持することが好ましい。本実施の形態において外部から供給された気体は、噴射処理装置１０から主室１１の内部に噴射される。その際、シール室圧力Ｐ１ａおよびＰ１ｂは常に主室１１内の圧力よりも低い圧力となるように、入口シール室１３および出口シール室１４から排気される。

　排気装置１５は、第１ファン１５１と、第１可変バルブ１５２と、管路１５４とを備える第１排気系統１５０を有し、後述する制御装置１７からの指示により動作して、入口シール室１３および出口シール室１４から気体を排気する。第１ファン１５１は、ターボファン等によって構成され、後述する制御装置１７からの駆動信号が入力されると駆動して、入口シール室１３および出口シール室１４内の気体を主室１１の外部へ排出する。第１ファン１５１として、回転翼の回転数を可変にするもの、回転翼の角度を可変にするもの、両者を組み合わせたものを用いることができ、制御装置１７からの駆動信号により回転翼の回転数、回転翼の角度または両者の組み合わせにより、入口シール室１３および出口シール室１４外部へ排出可能な量（排気能力）が設定される。

　第１可変バルブ１５２はモータ駆動式の電気制御弁により構成されている。第１可変バルブ１５２は、後述する制御装置１７から入力された開度信号に応じて電気制御弁の開度が調節され、入口シール室１３および出口シール室１４から外部へ排出される気体の排気量を設定する。

　管路１５４には、上述した第１ファン１５１と第１可変バルブ１５２とが設けられている。図１に示すように、第１可変バルブ１５２は第１ファン１５１の吸気側に設けられている。上記のように第１ファン１５１と第１可変バルブ１５２とが調節されることによって、入口シール室１３および出口シール室１４の不活性ガスが、管路１５４を通って外部へ排出される。なお、第１可変バルブ１５２は、図１に示すように第１ファン１５１の吸気側の管路１５４に設けられるものに代えて、第１ファン１５１の排気側の管路１５４に設けられてもよい。

　圧力センサ１８ａおよび１８ｂは、それぞれ二つの圧力計測口を有し、二つの入力圧力の差圧を検出して出力する差圧計である。圧力センサ１８ａおよび１８ｂのそれぞれの圧力計測口は、一方が主室１１の外部に向けて開放され、それぞれの他方は各シール室に接続されている。これにより圧力センサ１８ａおよび１８ｂは、外部圧力Ｐ０と入口シール室１３の圧力Ｐ１ａとの差圧および外部圧力Ｐ０と出口シール室１４の圧力Ｐ１ｂとの差圧を検出して、検出した差圧に応じた信号（以下、差圧信号と呼ぶ）を制御装置１７へ出力する。

　制御装置１７は、ＣＰＵ、ＲＯＭ、ＲＡＭなどを有し、各種のデータ処理を実行する演算装置である。制御装置１７は、入力した差圧信号に基づいて排気装置１５を動作させ、入口シール室１３および出口シール室１４からの気体の排気量を調整することにより、シール室の圧力と外部圧力との差圧を制御する。この場合、制御装置１７は、第１ファン１５１に駆動を指示する駆動信号を出力する。さらに、制御装置１７は、第１可変バルブ１５２を構成する電気制御弁の開度を指定する開度信号を第１可変バルブ１５２に出力する。制御装置１７は、入口シール室１３および出口シール室１４からの気体の排気量を調整するために、第１排気系統１５０の動作モードを第１モードまたは第２モードに選択する。

　（１）第１モード
　第１モードでは、制御装置１７は、シール室の圧力と外部圧力との差圧に基づいて、第１排気系統１５０を動作させるフィードバック制御を行う。この場合、制御装置１７は、シール室圧力Ｐ１と第１の基準圧力である外部圧力Ｐ０との差圧ΔＰ１を被制御変数として、第１伝達関数を用いて第１可変バルブ１５２の開度、すなわち電気制御弁の操作量を算出し、開度信号として第１可変バルブ１５２へ出力する。なお、第１伝達関数は、差圧ΔＰ１をＰＩ制御やＰＩＤ制御等のフィードバック制御するために第１バルブ１５２の操作量を算出するための関数である。本実施の形態における第１伝達関数の関数形に関して特別な制限はなく、被制御系の応答特性等に応じて、Ｐ制御やＰＩ制御、ＰＩＤ制御等の伝達関数を適宜実装して用いることができる。その結果、入口シール室１３および出口シール室１４からの気体の排気量が調整される。

　（２）第２モード
　第２モードでは、制御装置１７は、フィードバック制御は行わずフィードフォーワード制御を行うことにより第１排気系統１５０を動作させて、入口シール室１３および出口シール室１４から排気させる。この場合、制御装置１７は、噴射処理装置１０に噴射指令を出力すると同時に、第１可変バルブ１５２の電気制御弁の操作量を予め定められた値に設定して、開度信号として第１可変バルブ１５２へ出力する。たとえば、制御装置１７は、第１可変バルブ１５２の電気制御弁の開度が最大開度に保持されるように開度信号を出力する。これにより、第１排気系統１５０は、第１可変バルブ１５２の開度に応じた排気量で動作する。なお、第１可変バルブ１５２の電気制御弁の開度は最大開度に保持されるものに限定されず、例えば最大開度の９０％あるいは８０％等予め設定された開度に保持されるものや、時間経過に応じて開度を変化させるものは本発明の一態様に含まれる。また、上記の電気制御弁の操作量は、後述する時間ｔ１の経過後に第１モードにて気体の排気量を調整しても外部への気体の流出が抑制可能となるように、噴射処理装置１０の処理により主室１１内で急激に増加した不活性ガスを排気可能な排気量が得られる値として、実験等により予め計測され所定のメモリ（不図示）に記録されているものとする。なお、噴射処理装置１０への噴射指令の出力と同時に第１排気系統１５０を動作させるものに限定されず、噴射指令の出力から所定時間遡って動作させるものや、噴射処理装置１０からの噴射量に基づいて動作させるものについても本発明の一態様に含まれる。

　制御装置１７は、上記の第１モードと第２モードとを適宜切り換えることにより、入口シール室１３および出口シール室１４からの気体の排気量を調整して、シール室圧力Ｐ１と外部圧力Ｐ０との差圧ΔＰ１を制御する。上述したように、入口シール室１３および出口シール室１４は、それぞれ主室１１と連通し、主室１１の圧力よりも低い圧力となる。このため、入口シール室１３および出口シール室１４から排気されることによって、噴射処理装置１０により主室１１内に噴射された不活性ガスは入口シール室１３および出口シール室１４に流入して、排気装置１５によって外部へ排出される。排気装置１５の排気端には必要に応じてスクラバーやフィルター等の除害装置を設置することができる。以下、制御装置１７による第１モードの設定と第２モードの設定とについて説明する。

　制御装置１７は、噴射処理装置１０が処理の際に噴射する不活性ガスの噴射量Ｔ１の大きさに応じて、排気装置１５の動作モードを第１モードと第２モードとのいずれかに設定する。すなわち、制御装置１７は、必要に応じて第１モードと第２モードとの間で移行と復帰とを行う。本実施の形態では、制御装置１７は、噴射処理装置１０により噴射しようとする不活性ガスの噴射量Ｔ１が予め設定された所定の閾値Ｔ１ａ以下の場合に第１モードを設定し、閾値Ｔ１ａを超える場合には第２モードを設定する。排気装置１５が第１モードで動作しているときに、噴射量Ｔ１が閾値Ｔ１ａを超えると判定されると、制御装置１７は動作モードを第１モードから第２モードに移行させる。なお、上記の閾値Ｔ１ａは、噴射処理装置１０の処理により主室１１内で急激に増加した不活性ガスを第１モードで調整しても外部への気体の流出が抑制可能な排気量として、実験等により予め計測され所定のメモリ（不図示）に記録されているものとする。噴射処理装置１０が制御装置１７とは独立に制御されている場合には、噴射と同時にまたは噴射に先立って、噴射処理装置１０が噴射する噴射量Ｔ１を示す信号を制御装置１７に送信する構成としても良い。

　制御装置１７は、排気装置１５の動作が第２モードに移行すると、図示しないタイマを起動して、排気装置１５が第２モードで動作を開始してからの時間計測を開始する。時間計測を開始してから所定時間ｔ１が経過すると、制御装置１７は、排気装置１５の動作モードを第２モードから第１モードに移行させる。すなわち、制御装置１７は、シール室圧力Ｐ１と外部圧力Ｐ０との差圧ΔＰ１を被制御変数として第１可変バルブ１５２の電気制御弁の開度を算出し、開度信号として第１可変バルブ１５２へ出力するフィードバック制御を行う。なお、上記の所定時間ｔ１は、噴射処理装置１０の処理により主室１１内で急激に増加した不活性ガスが第２モードにより第１排気系統１５０を動作させて排気することにより、差圧ΔＰ１を第１モードによる第１排気系統１５０の動作にて制御可能となるまでに要する時間として、実験等により予め計測され所定のメモリ（不図示）に記録されているものとする。
　なお、制御装置１７は、第１可変バルブ１５２の電気制御弁の開度を変化させるものとしたが、第１ファン１５１の排気能力を変化させるもの、第１ファン１５１の排気能力および第１可変バルブ１５２の電気制御弁の開度の組み合わせを変化させるものについても、本発明の一態様に含まれる。

　図２のフローチャートを用いて、制御装置１７による処理を説明する。図２のフローチャートに示す各処理は、制御装置１７でプログラムを実行して行われる。このプログラムは、メモリ（不図示）に格納されており、処理装置１の動作開始とともに制御装置１７により起動され、実行される。

　ステップＳ１０では、噴射処理装置１０による不活性ガスの噴射量Ｔ１が閾値Ｔ１ａを超えるか否かを判定する。噴射量Ｔ１が閾値Ｔ１ａ以下の場合には、ステップＳ１０が否定判定されてステップＳ１１へ進む。ステップＳ１１では、排気装置１５を第１モードにて動作させてステップＳ１２へ進む。ステップＳ１２では、処理装置１の動作を終了するか否かを判定する。処理装置１の動作を終了する場合には、ステップＳ１２が肯定判定されて処理を終了する。処理装置１が動作を継続する場合には、ステップＳ１２が否定判定されてステップＳ１０へ戻る。

　ステップＳ１０にて噴射処理装置１０による不活性ガスの噴射量Ｔ１が閾値Ｔ１ａを超える場合には、ステップＳ１０が肯定判定されてステップＳ１３へ進む。ステップＳ１３では、排気装置１５を第２モードにて動作させてステップＳ１４へ進む。なお、ステップＳ１３では、図示しないタイマを起動させて時間計測を開始する。ステップＳ１４では、ステップＳ１３にてタイマにより時間計測を開始させてから所定時間ｔ１が経過したか否かを判定する。所定時間ｔ１が経過した場合には、ステップＳ１４が肯定判定されてステップＳ１１へ進む。所定時間ｔ１が経過していない場合には、ステップＳ１４が否定判定されてステップＳ１４の処理を繰り返す。

　上述した処理装置１内で噴射処理装置１０によって行われる処理方法について説明する。処理装置１が動作を開始すると、送り装置１２によって、ロールツーロール方式にて、シート状に形成された被処理物Ｓの入口１１１から主室１１内部へ搬入が開始される。制御装置１７は、シール室圧力Ｐ１と外部圧力Ｐ０との差圧ΔＰ１の制御を開始する。噴射処理装置１０は、主室１１内に搬入された被処理物Ｓに向けて微粒子と気体との混合流体を噴射する。この場合、主室１１から外部への不活性ガスの流出を防止する観点から、噴射処理工装置１０による混合流体の噴射開始に先立って排気装置１５の動作を開始させるのが良い。噴射された微粒子は、噴射処理装置１０の噴射開口（不図示）から０．５ｍｍ～５ｍｍ程度の距離に搬送された被処理物Ｓの被付着面に衝突して付着する。処理が施され微粒子が付着した被処理物Ｓは、送り装置１２によって、順次、出口１１２から主室１１外部に搬出される。

　図１１に示すフローチャートを参照して、噴射処理装置１０による処理方法を説明する。ステップＳ８０では、制御装置７は排気装置１５を動作させてシール室圧力Ｐ１と外部圧力Ｐ０との差圧ΔＰ１の制御を開始させてステップＳ８１へ進む。ステップＳ８１においては、送り装置１２による被処理物Ｓの主室１１内への搬入を開始し、噴射処理装置１０は微粒子と気体との混合流体を被処理物Ｓに向けて噴射して被付着面に衝突させて付着させ、処理後の被処理物Ｓを送り装置１２により主室１１の外部へ搬出して処理を終了する。

　以上で説明した処理装置１を用いることにより、ＰＪＤ（Powder Jet Deposition）法により電極基材上に活物質被膜を形成して、たとえばリチウムイオン二次電池等の電池用の負極材料を形成することができる。この場合、被処理物Ｓとしての電極基材には、集電体を構成する材料として、たとえば銅（Ｃｕ）や導電性樹脂等の導電性基材が用いられる。電極材料の製造を行う場合についても、図１１に示す噴射処理装置１０による処理方法と同様にして、集電体を構成する材料の表面に活物質被膜を形成することができる。

　この電極材料を電池の形態（たとえば円筒形型、角型、セル型、ラミネート型等）に合わせた形状寸法に打ち抜くことによって負極が形成される。アルミ箔にコバルト酸リチウム等のリチウム遷移金属酸化物を正極活物質として付着形成された公知の正極と、上記の負極とをセパレータを挟んで対峙させ、公知の溶媒中に公知の電解質（非水電解質）とともに封入することによって、リチウムイオン二次電池が構成される。なお、公知の溶媒はプロピレンカーボネートやエチレンカーボネート等であり、公知の電解質はＬｉＣｌＯ_４やＬｉＰＦ_６等である。この結果、高い電気容量と長期間安定的に保持可能なリチウムイオン二次電池が得られる。なお、噴射処理装置１を用いて、リチウムイオン二次電池の負極材料を形成するものに代えて、正極材料を形成するものであってもよい。この場合、電極基材としては、たとえばアルミニウムや導電性樹脂等の導電性基材が用いられる。

　上述した第１の実施の形態による処理装置１によれば、次の作用効果が得られる。
（１）制御装置１７は、排気装置１５の動作モードを第１モードと第２モードとの間で移行させることにより、第１排気系統１５０による排気量を調整してシール室圧力Ｐ１と外部圧力Ｐ０との差圧ΔＰ１を制御する。第１モードでは、制御装置１７は、シール室圧力Ｐ１と第１の基準圧力である外部圧力Ｐ０との差圧ΔＰ１を被制御変数とし、第１伝達関数により算出される操作量にしたがって差圧ΔＰ１をフィードバック制御する。第２モードでは、制御装置１７は、シール室圧力Ｐ１と外部圧力Ｐ０との差圧ΔＰ１に関わらず排気量を所定の設定値に設定する。そして、制御装置１７は、噴射処理装置１０により主室１１の内部に噴射される不活性ガスの噴射量Ｔ１が閾値Ｔ１ａを超える場合、第１排気系統１５０の制御モードを第１モードから第２モードに移行させるようにした。

　上記の構成を有することにより、第１の実施の形態による処理装置１は、第１排気系統１５０を用いてシール室圧力Ｐ１と外部圧力Ｐ０との差圧ΔＰ１をフィードフォーワード制御とフィードバック制御とを切り換えながら、シール室圧力Ｐ１が外部圧力Ｐ０よりも低い圧力となるように制御する。このため、シール室圧力Ｐ１と外部圧力Ｐ０との差圧ΔＰ１が所定の範囲にある場合には、フィードバック制御を用いてシール室圧力Ｐ１が外部圧力Ｐ０よりも所定圧力だけ低圧となる状態を維持できる。噴射処理装置１０により噴射された不活性ガスが急増し、差圧ΔＰ１がフィードバック制御の範囲を超えることが予想される場合には、フィードフォーワード制御を用いてシール室からの排気を行うことにより、差圧ΔＰ１をフィードバック制御にて制御可能な値となるまで短期間で復帰させ、シール室圧力Ｐ１を外部圧力Ｐ０に対して所定の大きさだけ低圧にすることができる。この結果、噴射処理装置１０により短時間に大量の不活性ガスの噴射を伴う処理が行われても、主室１１からの不活性ガスの流出、主室１１内への外気流入を抑制することができる。すなわち、主室１１からの不活性ガスの主室１１外部への流出や、主室１１の外部からの酸化性ガスの主室１１への流入を防止するための特別なラビリンス機構等を有することなく、主室１１の気密性を保持することができる。また、被処理物Ｓと接触するシール部材を設ける必要がないので、被処理物Ｓに傷をつけたりする不具合が無く、製品の品質劣化を防止できる。さらに、被処理物Ｓと接触する又は接触するおそれのあるシール部材を有さずに済むため、送り装置１２は抵抗なく駆動して、被処理物Ｓを主室１１に出し入れすることができる。

（２）制御装置１７は、第２モードに移行してから所定時間ｔ１が経過した場合、第１排気系統１５０の動作モードを第２モードから第１モードに移行させるようにした。したがって、簡単な機構を用いてフィードバック制御とフィードフォーワード制御とを適宜切り換えて、シール室圧力Ｐ１を外部圧力Ｐ０よりも低圧に保持して、主室１１から外部への不活性ガスの流出、主室１１内への外気流入を抑制することができる。

（３）第１排気系統１５０は、入口シール室１３および出口シール室１４の内部の不活性ガスを外部に排出するために第１ファン１５１と、第１ファン１５１の吸気側または排気側に設けられた第１可変バルブ１５２とを備えている。そして、制御装置１７は、第１ファン１５１の排気能力と第１可変バルブ１５２の開度とのうち少なくとも一方を制御することにより第１排気系統１５０の排気量を調整するようにした。このため、ファンを用いた簡便な構成によって、シール室圧力Ｐ１を外部圧力Ｐ０よりも低圧となるように保持して、主室１１の気密性を維持することができる。なお、第１ファン１５１に代えて、ロータリーポンプ、揺動ピストン型ポンプ等の真空ポンプ等を用いても同等の効果を実現することが可能である。

（４）シール室圧力Ｐ１と外部圧力Ｐ０との差圧ΔＰ１が所定の範囲内となるように制御するようにした。この結果、停電時等で処理装置１が緊急停止した場合であっても、主室１１からの不活性ガスの流出、主室１１内への外気流入を抑制することができる。

－第２の実施の形態－
　本発明の第２の実施の形態による処理装置を説明する。以下の説明では、第１の実施の形態と同じ構成要素には同じ符号を付し、第１の実施の形態との相違点を主に説明する。特に説明しない点については、第１の実施の形態と同じである。本実施の形態では、第２モードにて排気装置が動作することによるシール室圧力の低下に基づいて排気装置の動作モードを第２モードから第１モードに移行させる点で、第１の実施の形態と異なる。

　第２の実施の形態による処理装置１は、図１に示す第１の実施の形態と同一の構成を有している。制御装置１７は、第２モードにて排気装置１５の動作を開始させた後でも、圧力センサ１８ａまたは１８ｂから入力したシール室圧力Ｐ１と外部圧力Ｐ０との差圧ΔＰ１を被制御変数として、第１伝達関数を用いて第１可変バルブ１５２の開度、すなわち電気制御弁の操作量を算出する。制御装置１７は、算出した操作量と所定の閾値Ｔ２ａの大小を比較する。比較の結果、算出した操作量が閾値Ｔ２ａ以下である場合には、シール室圧力Ｐ１と外部圧力Ｐ０との差圧ΔＰ１が第１モードにより制御可能な圧力に低下したと判定し、制御装置１７は、第２モードから第１モードに移行して排気装置１５を動作させる。

　制御装置１７は、上記の操作量の算出と、閾値Ｔ２ａとの大小の比較とを、第２モードによる排気装置１５の動作が継続されている間、所定の周期（時間間隔）ごとに行う。また、上記の閾値Ｔ２ａは、噴射処理装置１０の処理により主室１１内で急激に増加した不活性ガスが、ハンチング等を発生させることなく第１モードで排気可能な最大の操作量として、実験等により予め計測され所定のメモリ（不図示）に記録されているものとする。

　図３のフローチャートを用いて、制御装置１７による処理を説明する。図３のフローチャートに示す各処理は、制御装置１７でプログラムを実行して行われる。このプログラムは、メモリ（不図示）に格納されており、処理装置１の動作開始とともに制御装置１７により起動され、実行される。

　ステップＳ２０（噴射量Ｔ１と閾値Ｔ１ａとの大小判定）からステップＳ２３（第２モード設定）までの各処理は、図２のステップＳ１０（噴射量Ｔ１と閾値Ｔ１ａとの大小判定）からステップＳ１３（第２モード設定）までの各処理と同様である。ステップＳ２４では、圧力センサ１８ａまたは１８ｂから入力したシール室圧力Ｐ１と外部圧力Ｐ０との差圧ΔＰ１を被制御変数として、第１伝達関数を用いて第１可変バルブ１５２の開度、すなわち電気制御弁の操作量を算出してステップＳ２５へ進む。

　ステップＳ２５では、算出した操作量が閾値Ｔ２ａ以下か否かを判定する。操作量が閾値Ｔ２ａ以下の場合には、ステップＳ２５が肯定判定されてステップＳ２１へ進む。操作量が閾値Ｔ２ａを超える場合には、ステップＳ２５が否定判定されてステップＳ２３へ戻る。

　上述した第２の実施の形態による処理装置１によれば、第１の実施の形態により得られた（１）、（３）、（４）の作用効果に加えて、次の作用効果が得られる。
　制御装置１７は、第２モードの継続中において、第１伝達関数により操作量の値を算出し、算出した操作量の値が閾値Ｔ２ａを下回る場合に、第１排気系統１５０の制御モードを第２モードから第１モードに復帰させるようにした。したがって、時間計測の結果に基づいて第１モードに復帰させる場合に比べて、直接的に操作量に基づいて第１モードへ復帰できるので、差圧ΔＰ１をより高精度に所望の圧力に保持することができる。

　なお、第２モードの継続中に算出した操作量と閾値Ｔ２ａとを比較するものに限定されない。制御装置１７は圧力センサ１８ａまたは１８ｂから入力したシール室圧力Ｐ１と外部圧力Ｐ０との差圧ΔＰ１が予め決められた閾値以下となった場合に、第１排気系統１５０の動作モードを第２モードから第１モードに移行させるものについても本発明の一態様に含まれる。この場合、上記の閾値は、噴射処理装置１０の処理により主室１１内で急激に増加した不活性ガスが、ハンチング等を発生させることなく第１モードで排気可能な最大の差圧として、実験等により予め計測され所定のメモリ（不図示）に記録されている。

－第３の実施の形態－
　本発明の第３の実施の形態による処理装置を説明する。以下の説明では、第１の実施の形態と同じ構成要素には同じ符号を付して、第１の実施の形態との相違点を主に説明する。特に説明しない点については、第１の実施の形態と同じである。本実施の形態では、処理装置の排気装置は、入口シール室および出口シール室から不活性ガスを排気するための第１排気系統に加えて、主室から不活性ガスを排気するための第２排気系統を備える点で、第１の実施の形態と異なる。

　第３の実施の形態では、シール室内の圧力と主室の外部の圧力との差圧を制御することに加えて、さらに主室の内部圧力と主室の外部圧力との差圧を制御するために、主室からの排気も行う。このように主室からの排気を行うことで、噴射処理装置による不活性ガスの噴射量が多い場合であっても、主室からシール室へ過度に気体が流入することにより、シール室内圧力が外部圧力よりも高圧となって外部へガスが流出することを抑制している。以下、詳細に説明する。

　図４に示すように、第３の実施の形態による処理装置１は、主室圧力センサ２０をさらに備え、排気装置１５は第１排気系統１５０に加えて第２排気系統１６０を有している。主室圧力センサ２０は、二つの圧力計測口を有し、二つの入力圧力の差圧を検出して出力する差圧計であり、一方の圧力計測口は主室１１に接続され、他方は主室１１の外部に向けて開放されている。これにより、主室圧力センサ２０は、外部圧力Ｐ０と主室１１の圧力Ｐ２との差圧を検出し、検出した差圧に応じた信号（以下、主室差圧信号）を制御装置１７へ出力する。排気装置１５の第２排気系統１６０は、第２ファン１６１と、第２可変バルブ１６２と、第３可変バルブ１６３と、管路１６４とを備える第２排気系統１６０をさらに有し、後述するようにして制御装置１７からの駆動信号により、主室１１から不活性ガスを排気する。

　第２ファン１６１は、後述するように制御装置１７からの駆動信号が入力されると回転駆動を行って、主室１１内の不活性ガスを外部へ排出する。第２ファン１６１は、第１ファン１５１と同様に、回転翼の回転数を可変にするもの、回転翼の角度を可変にするもの、両者を組み合わせたものを用いることができ、制御装置１７からの駆動信号により回転翼の回転数、回転翼の角度または両者の組み合わせにより、主室１１外部へ排出可能な量（排気能力）が設定される。第２可変バルブ１６２および第３可変バルブ１６３はモータ駆動式の電気制御弁により構成され、制御装置１７から入力された開度信号に応じて第２可変バルブ１６２および第３可変バルブ１６３の電気制御弁の開度が調整される。その結果、主室１１から外部へ排出される不活性ガスの排出量が設定される。

　管路１６４は、主室１１から排気した不活性ガスを外部へ排出するための排気管路１６４ａと、主室１１から一旦排気した不活性ガスを再び主室１１へ還流させる還流管路１６４ｂとから構成されている。図４に示すように、上述した第２可変バルブ１６２は排気管路１６４ａに設けられ、第３可変バルブ１６３は還流管路１６４ｂに設けられる。なお、管路１６４が還流管路１６４ｂおよび第３可変バルブ１６３を備えないものについても本発明の一態様に含まれる。この場合、第２排気系統１６０は、制御装置１７からの指令に応じて、主室１１から不活性ガスの外部への排出のみを行う。

　制御装置１７は、第１の実施の形態と同様にして排気装置１５の第１排気系統１５０を動作させて、入口シール室１３および出口シール室１４からの排気量を調整することにより差圧ΔＰ１を制御する。さらに、制御装置１７は、主室１１の主室圧力Ｐ２と外部圧力Ｐ０との差圧を、第２排気系統１６０によって所定の範囲内となるように制御する。なお、本実施の形態では、一例として、主室圧力Ｐ２は、外部圧力Ｐ０と比較して５Ｐａ～１０Ｐａ程度低い圧力となるように差圧が制御されるものとして説明する。なお、主室１１の圧力は、上記の値に制御されるものに限定されるものではなく、主室１１の大きさや、噴射処理装置１０による不活性ガスの噴射量Ｔ１等に応じて設定されるのが好ましい。

　制御装置１７は、第２排気系統１６０を動作させて、主室１１からの不活性ガスの排気量を調整する。この場合、制御装置１７は、第２ファン１６１に駆動を指示する駆動信号を出力する。制御装置１７は、第２可変バルブ１６２、第３可変バルブ１６３を構成する電気制御弁の開度を指定する開度信号を第２可変バルブ１６２、第３可変バルブ１６３にそれぞれ出力する。制御装置１７は、第２排気系統１６０の動作モードを第３モードと第４モードとの間で移行させることにより、主室圧力Ｐ２と外部圧力Ｐ０との差圧を制御する。

　（１）第３モード
　第３モードでは、制御装置１７は、主室１１の主室圧力Ｐ２と外部圧力Ｐ０との差圧に基づいて、第２排気系統１６０を動作させるフィードバック制御を行う。この場合、制御装置１７は、主室圧力センサ２０から入力した主室差圧信号に基づいて、主室圧力Ｐ２と第２の基準圧力である外部圧力Ｐ０との差圧ΔＰ２を被制御変数として、第２伝達関数を用いて第２可変バルブ１６２および第３可変バルブ１６３の開度、すなわち電気制御弁の操作量を算出し、開度信号として第２可変バルブ１６２および第３可変バルブ１６３へ出力する。なお、第２伝達関数は、差圧ΔＰ２をＰＩ制御やＰＩＤ制御等のフィードバック制御するために第２可変バルブ１６２および第３可変バルブ１６３の操作量を算出するための関数である。本実施の形態における第２伝達関数の関数形に関して特別な制限はなく、被制御系の応答特性等に応じて、Ｐ制御やＰＩ制御、ＰＩＤ制御等の伝達関数を適宜実装して用いることができる。制御装置１７は、第２可変バルブ１６２および第３可変バルブ１６３の開度を相補的に制御して、主室１１から第２ファン１６１を通して排気される不活性ガスの全量を一定に保ちながら、主室１１に還流させる割合と、外部に排出する不活性ガスの割合とを変化させることにより、主室１１から正味の排気量を増減する。たとえば、主室１１から排気される不活性ガスの全量のうち２０パーセントを主室１１に還流させる場合には、８０パーセントを外部に排出させるように、第２可変バルブ１６２および第３可変バルブ１６３の開度を調節する。

　（２）第４モード
　第４モードでは、制御装置１７は、フィードバック制御を行わずフィードフォーワード制御をすることにより第２排気系統１６０を動作させて、主室１１から排気させる。この場合、制御装置１７は、噴射処理装置１０に噴射指令を出力すると同時に第２可変バルブ１６２の電気制御弁の操作量を予め定められた値に設定して、開度信号として第２可変バルブ１６２へ出力する。たとえば、制御装置１７は、第２可変バルブ１６２の電気制御弁の開度が最大開度になるように開度信号を出力する。これにより、第２排気系統１６０は、第２可変バルブ１６２の開度に応じた排気量で動作する。なお、第２可変バルブ１６２の電気制御弁の開度は最大開度に保持されるものに限定されず、例えば最大開度の９０％あるいは８０％等、予め設定された開度に保持されるものや、時間経過に応じて開度を変化させるものは本発明の一態様に含まれる。また、上記の電気制御弁の操作量は、後述する時間ｔ２の経過後に第３モードにて気体の排気量を調整しても外部への気体の流出が抑制可能となるように、噴射処理装置１０の処理により主室１１内で急激に増加した不活性ガスを排気可能な排気量が得られる値として、実験等により予め計測され所定のメモリ（不図示）に記録されているものとする。なお、噴射処理装置１０への噴射指令の出力と同時に第２排気系統１６０を動作させるものに限定されず、噴射指令の出力から所定時間遡って動作させるものや、噴射処理装置１０からの噴射量に基づいて動作させるものについても本発明の一態様に含まれる。

　制御装置１７は、第１の実施の形態の場合と同様に、第１排気系統１５０の動作モードを第１モードと第２モードとの間で所定の条件に基づいて移行させることにより、入口シール室１３および出口シール室１４からの排気量を調整して、シール室圧力Ｐ１と外部圧力Ｐ０との差圧ΔＰ１を制御する。さらに、制御装置１７は、第２排気系統１６０の動作モードを第３モードと第４モードとの間で所定の条件に基づいて移行させることにより、主室１１からの排気量を調整して、主室圧力Ｐ２と外部圧力Ｐ０との差圧ΔＰ２を制御する。以下、制御装置１７による第１モード～第４モードの設定について説明する。

　制御装置１７は、噴射処理装置１０が処理の際に噴射しようとする不活性ガスの噴射量Ｔ１が、予め設定された所定の閾値Ｔ１ｂを超える場合に、第２モードと第４モードとを設定する。噴射量Ｔ１が閾値Ｔ１ｂを超える場合には、制御装置１７は、第２モードにて第１排気系統１５０を動作させ、第４モードにて第２排気系統１６０を動作させる。

　噴射量Ｔ１が閾値Ｔ１ｂ以下の場合には、制御装置１７は、第２排気系統１６０を第３モードにより動作させる。すなわち、制御装置１７は、主室圧力センサ２０から入力した主室圧力Ｐ２と外部圧力Ｐ０との差圧ΔＰ２を被制御変数として算出した開度信号を第２可変バルブ１６２および第３可変バルブ１６３へ出力するフィードバック制御を行う。なお、閾値Ｔ１ｂは、閾値Ｔ１ａよりも大きな値となるように設定され、噴射処理装置１０の処理により主室１１内に不活性ガスが噴射された場合において、第２排気系統１６０を第３モードで動作させても差圧ΔＰ２が制御可能である値として、実験等により予め計測され予めメモリ（不図示）に記録されているものとする。

　制御装置１７は、第２排気系統１６０に対して第４モードによる動作を指示すると、図示しないタイマを起動して、第２排気系統１６０が第４モードによる動作を開始してからの時間計測を開始する。時間計測を開始してから所定時間ｔ２が経過すると、制御装置１７は、第２排気系統１６０の動作モードを第４モードから第３モードに移行させる。なお、上記の所定時間ｔ２は、噴射処理装置１０の処理により主室１１内で急激に増加した不活性ガスが第４モードにより第２排気系統１６０を動作させて排気することにより、差圧ΔＰ２を第３モードによる第２排気系統１６０の動作で制御可能となるまでに要する時間として、実験等により予め計測され所定のメモリ（不図示）に記録されているものとする。

　上述したように噴射量Ｔ１が閾値Ｔ１ｂ以下の場合、すなわち第２排気系統１６０が第３モードにより動作している場合には、制御装置１７は、さらに噴射量Ｔ１と閾値Ｔ１ａとの大小を比較する。比較結果に応じて、制御装置１７は、第１の実施の形態の場合と同様にして、第１排気系統１５０によりシール室圧力Ｐ１と外部圧力Ｐ０との差圧ΔＰ１を制御する。すなわち、制御装置１７は、噴射量Ｔ１が閾値Ｔ１ａ以下の場合には、第１モードにて第１排気系統１５０を動作させ、噴射量Ｔ１が閾値Ｔ１ａを超える場合には、第２モードにて第１排気系統１５０を動作させる。
　なお、制御装置１７は、第３モードおよび第４モードにおいて、第２可変バルブ１６２の電気制御弁の開度を変化させるものとしたが、第２ファン１６１の排気能力を変化させるもの、第２ファン１６１の排気能力および第２可変バルブ１６２の電気制御弁の開度の組み合わせを変化させるものについても、本発明の一態様に含まれる。

　図５～図７のフローチャートを用いて、制御装置１７による処理を説明する。図５～図７のフローチャートに示す各処理は、制御装置１７でプログラムを実行して行われる。このプログラムは、メモリ（不図示）に格納されており、処理装置１の動作開始とともに制御装置１７により起動され、実行される。

　図５のステップＳ３１では、排気処理を行ってステップＳ３２へ進む。なお、排気処理の詳細については、図６および図７にて後述する。ステップＳ３２では、処理装置１の動作を終了するか否かを判定する。処理装置１の動作を終了する場合には、ステップＳ３２が肯定判定されて処理を終了する。処理装置１が動作を継続する場合には、ステップＳ３２が否定判定されてステップＳ３０へ戻る。

　次に、ステップＳ３１の排気処理における、第１排気系統１５０を動作させるための処理について、図６を参照しながら説明する。ステップＳ４０では、噴射処理装置１０により噴射しようとする不活性ガスの噴射量Ｔ１が閾値Ｔ１ｂを超えるか否かを判定する。噴射量Ｔ１が閾値Ｔ１ｂを超える場合には、ステップＳ４０が肯定判定されてステップＳ４１へ進む。噴射量Ｔ１が閾値Ｔ１ｂ以下の場合には、ステップＳ４０が否定判定されて後述するステップＳ４３へ進む。

　ステップＳ４１では、第１排気系統１５０を第２モードにて動作させてステップＳ４２へ進む。なお、ステップＳ４１では、図示しないタイマを起動させて時間計測を開始する。ステップＳ４２では、ステップＳ４１にてタイマにより時間計測を開始させてから所定時間ｔ１が経過したか否かを判定する。所定時間ｔ１が経過した場合には、ステップＳ４２が肯定判定されて後述するステップＳ４４へ進む。所定時間ｔ１が経過していない場合には、ステップＳ４２が否定判定されてステップＳ４２の処理を繰り返す。

　噴射量Ｔ１が閾値Ｔ１ｂ以下の場合には、ステップＳ４０が否定判定されてステップＳ４３へ進む。ステップＳ４３では、噴射量が閾値Ｔ１ａを超えるか否かを判定する。噴射量が閾値Ｔ１ａを超える場合には、ステップＳ４３が肯定判定されてステップＳ４１へ進む。噴射量Ｔ１が閾値Ｔ１ａ以下の場合には、ステップＳ４３が否定判定されてステップＳ４４へ進む。ステップＳ４４では、第１排気系統１５０を第１モードにて動作させて、図６に示す処理を終了する。

　図５のステップＳ３１の排気処理における、第２排気系統１６０を動作させるための処理について、図７を参照しながら説明する。ステップＳ５０では、噴射処理装置１０による不活性ガスの噴射量Ｔ１が閾値Ｔ１ｂを超えるか否かを判定する。噴射量Ｔ１が閾値Ｔ１ｂを超える場合には、ステップＳ５０が肯定判定されてステップＳ５１へ進む。噴射量Ｔ１が閾値Ｔ１ｂ以下の場合には、ステップＳ５０が否定判定されて後述するステップＳ５３へ進む。

　ステップＳ５１では、第２排気系統１６０を第４モードにて動作させてステップＳ５２へ進む。なお、ステップＳ５１では、図示しないタイマを起動させて時間計測を開始する。ステップＳ５２では、ステップＳ５１にてタイマにより時間計測を開始させてから所定時間ｔ２が経過したか否かを判定する。所定時間ｔ２が経過した場合には、ステップＳ５２が肯定判定されてステップＳ５３へ進む。所定時間ｔ２が経過していない場合には、ステップＳ５２が否定判定されてステップＳ５２の処理を繰り返す。噴射量Ｔ１が閾値Ｔ１ｂ以下の場合には、ステップＳ５０が否定判定されてステップＳ５３へ進む。ステップＳ５３では、第２排気系統１６０を第３モードにて動作させて、図７に示す処理を終了する。

［実施例］
　第３の実施の形態における実施例を次に示す。処理装置１を構成する主室１１は１３４０ｍｍ×１３００ｍｍ×５９０ｍｍの寸法であり、約１．２ｍ^３程度の容積を有する。処理装置１は４台の噴射処理装置１０を備え、そのうちの２台の噴射処理装置１０は被処理物Ｓの表面に成膜処理を施し、残りの２台の噴射処理装置１０は被処理物Ｓの裏面に成膜処理を施す。４台の噴射処理装置１０は個別に噴射・停止が制御され、４台の合計の噴射量Ｔ１は、０ｍ^３／ｍｉｎ、０．３ｍ^３／ｍｉｎ、０．６ｍ^３／ｍｉｎ、０．９ｍ^３／ｍｉｎおよび１．２ｍ^３／ｍｉｎの４段階のうちの何れかであり、最大１秒間隔で噴射量Ｔ１を増減させることが可能に構成されている。第１ファン１５１は、風量８．１ｍ^３／ｍｉｎ、静圧２．１ｋＰａ、動力０．４ｋｗ／２００Ｖにて動作する。第２ファン１６１は、風量１２ｍ^３／ｍｉｎ、静圧２ｋＰａ、動力０．４ｋｗ／２００Ｖにて動作する。第１可変バルブ１５２の電磁制御弁、第２可変バルブ１６２の電磁制御弁および第３可変バルブ１６３の電磁制御弁は、１．５ｓｅｃ以下で全開～全閉の動作を行う。管路１５４は口径が４０ｍｍの配管であり、管路１６４は口径が８０ｍｍの配管である。

　上述した第３の実施の形態による処理装置１によれば、第１の実施の形態により得られた（１）～（４）の作用効果に加えて、次の作用効果が得られる。
（１）第３モードでは、制御装置１７は、主室圧力Ｐ２と外部圧力Ｐ０との差圧ΔＰ２を被制御変数とし、第２伝達関数により算出される操作量にしたがって差圧ΔＰ２をフィードバック制御する。第４モードでは、制御装置１７は、主室１１の内部の圧力Ｐ２と外部圧力Ｐ０との差圧ΔＰ２に関わらず排気量を所定の設定値に設定する。制御装置１７は、噴射処理装置１０によって主室１１の内部へ噴射される不活性ガスの噴射量Ｔ１が閾値Ｔ１ｂを超える場合に、第２排気系統１６０の動作モードを第３モードから第４モードへ移行させるようにした。上記の構成を有することにより、入口シール室１３、出口シール室１４からの排気に加えて、主室１１からの排気を行うことにより、主室１１から入口シール室１３、出口シール室１４へ不活性ガスが流入する量を抑制できるので、短い期間でシール室圧力Ｐ１が外部圧力Ｐ０に対して所定の圧力だけ低圧となるようにすることができる。したがって、噴射処理装置１０の噴射により主室圧力Ｐ２が大きく変動する場合であっても、主室１１の外部への不活性ガスの流出および主室１１内への外気流入を抑制して、主室１１の気密性を向上できる。

（２）制御装置１７は、第４モードに移行してから所定時間ｔ２が経過した場合に、第２排気系統１６０の動作モードを第４モードから第３モードに移行させるようにした。したがって、簡単な機構を用いてフィードバック制御とフィードフォーワード制御とを適宜切り換えて、シール室圧力Ｐ１を外部圧力Ｐ０よりも低圧に保持して、主室１１から外部への不活性ガスの流出、主室１１内への外気流入を抑制することができる。

（３）第２排気系統１６０は、第２ファン１６１の排気側から主室１１の内部に不活性ガスを還流させる還流管路１６４ｂと、還流管路１６４ｂに設けられた第３可変バルブ１６３とを有している。制御装置１７は、第２ファン１６１の排気量、第２可変バルブ１６２の開度および第３可変バルブ１６３の開度のうち、少なくとも一つを制御することにより第２排気系統１６０の排気量を調整するようにした。このため、ファンを用いた簡便な構成によって、主室１１の外部への不活性ガスの流出および主室１１内への外気流入を防止して、主室１１の気密性を維持することができる。なお、第１ファン１５１に代えて、ロータリーポンプ、揺動ピストン型ポンプ等の真空ポンプ等を用いても同等の効果を実現することが可能である。

－第４の実施の形態－
　本発明の第４の実施の形態による処理装置を説明する。以下の説明では、第３の実施の形態と同じ構成要素には同じ符号を付して、第３の実施の形態との相違点を主に説明する。特に説明しない点については、第３の実施の形態と同じである。本実施の形態では、処理装置は、以下の（１）、（２）の点で第３の実施の形態と異なる。
（１）シール室圧力Ｐ１と外部圧力Ｐ０との差圧に基づいて、第１排気装置の動作モードを第２モードから第１モードに移行させる。
（２）主室圧力Ｐ２と外部圧力Ｐ０との差圧に基づいて、第２排気系統の動作モードを第４モードから第３モードに移行させる。

（１）シール室圧力Ｐ１と外部圧力Ｐ０との差圧に基づく、第１排気系統の動作モードを第２モードから第１モードへ移行
　制御装置１７は、第２の実施の形態の場合と同様の処理を行う。すなわち、制御装置１７は、第１伝達関数を用いて算出された操作量と、閾値Ｔ２ａとの大小の比較とを、第１モードによる排気装置１５の制御が継続されている間、所定の周期（時間間隔）ごとに行う。比較の結果、算出した操作量が閾値Ｔ２ａ以下である場合には、シール室圧力Ｐ１の低下によってシール室圧力Ｐ１と外部圧力Ｐ０との差圧ΔＰ１が第１モードにより制御可能な圧力に低下したと判定し、制御装置１７は、第２モードから第１モードに移行させて第１排気系統１５０を動作させる。

（２）主室圧力Ｐ２と外部圧力Ｐ０との差圧に基づく、第２排気系統１６０の動作モードを第４モードから第３モードへ移行
　制御装置１７は、第４モードにて第２排気系統１６０の制御を開始した後でも、主室圧力センサ２０から入力した主室圧力信号に基づく主室圧力Ｐ２と外部圧力Ｐ０との差圧ΔＰ２を被制御変数として、第２伝達関数を用いて第３可変バルブ１６３の開度、すなわち電気制御弁の操作量を算出する。制御装置１７は、算出した操作量と所定の閾値Ｔ２ｂの大小を比較する。比較の結果、算出した操作量が閾値Ｔ２ｂ以下である場合には、主室圧力Ｐ２の圧力低下によって主室圧力Ｐ２と外部圧力Ｐ０との差圧ΔＰ２が第３モードにより制御可能な圧力に低下したと判定し、制御装置１７は、第４モードから第３モードに移行させて第２排気系統１６０を動作させる。

　制御装置１７は、上記の操作量の算出と、閾値Ｔ２ｂとの大小の比較とを、第４モードによる第２排気系統１６０の動作が継続されている間、所定の周期（時間間隔）ごとに行う。また、上記の閾値Ｔ２ｂは、噴射処理装置１０の処理により主室１１内で急激に増加した不活性ガスが、ハンチング等を発生させることなく第３モードで排出可能な操作量として、実験等により予め計測され所定のメモリ（不図示）に記録されているものとする。

　図５、図８、図９のフローチャートを用いて、制御装置１７による処理を説明する。図５、図８、図９のフローチャートに示す各処理は、制御装置１７でプログラムを実行して行われる。このプログラムは、メモリ（不図示）に格納されており、処理装置１の動作開始とともに制御装置１７により起動され、実行される。

　図８は、図５のステップＳ３１における第１排気系統１５０を動作させるための処理を示す。ステップＳ６０（噴射量Ｔ１と閾値Ｔ１ｂとの大小判定）、ステップＳ６１（第２モード設定）の各処理は、図６のステップＳ４０（噴射量Ｔ１と閾値Ｔ１ｂとの大小判定）とステップＳ４１（第２モード設定）の各処理と同様である。

　ステップＳ６２では、圧力センサ１８ａまたはｂから入力したシール室圧力信号に基づくシール室圧力Ｐ１と外部圧力Ｐ０との差圧ΔＰ１を被制御変数として、第１伝達関数を用いて第１可変バルブ１５２の開度、すなわち電気制御弁の操作量を算出してステップＳ６３へ進む。ステップＳ６３では、ステップＳ６２で算出した操作量が閾値Ｔ２ａ以下か否かを判定する。操作量が閾値Ｔ２ａ以下の場合には、ステップＳ６３が肯定判定されてステップＳ６５へ進む。操作量が閾値Ｔ２ａを超える場合には、ステップＳ６３が否定判定されてステップＳ６１へ戻る。ステップＳ６４（噴射量Ｔ１と閾値Ｔ１ａとの大小判定）、ステップＳ６５（第１モード設定）の各処理は、図６のステップＳ４３（噴射量Ｔ１と閾値Ｔ１ａとの大小判定）、ステップＳ４４（第１モード設定）の各処理と同様である。

　図９は、図５のステップＳ３１における第２排気系統１６０を動作させるための処理を示す。ステップＳ７０（噴射量Ｔ１と閾値Ｔ１ａとの大小判定）、ステップＳ７１（第４モード設定）の各処理は、図７のステップＳ５０（噴射量Ｔ１と閾値Ｔ１ａとの大小判定）とステップＳ５１（第２モード設定）の各処理と同様である。

　ステップＳ７２では、主室圧力センサ２０から入力した主室圧力信号に基づく主室圧力Ｐ２と外部圧力Ｐ０との差圧ΔＰ２を被制御変数として、第２伝達関数を用いて第３可変バルブ１６３の開度、すなわち電気制御弁の操作量を算出してステップＳ７３へ進む。ステップＳ７３では、ステップＳ７２で算出した操作量が閾値Ｔ２ｂ以下か否かを判定する。操作量が閾値Ｔ２ｂ以下の場合には、ステップＳ７３が肯定判定されてステップＳ７４へ進む。操作量が閾値Ｔ２ｂを超える場合には、ステップＳ７３が否定判定されてステップＳ７１へ戻る。ステップＳ７４では、図７のステップＳ５３と同様に第２排気系統１６０を第３モードにて制御させて図９に示す処理を終了する。

　上述した第４の実施の形態による処理装置１によれば、第１の実施の形態により得られた（１）～（３）の作用効果および第３の実施の形態により得られた（１）、（３）の作用効果に加えて、次の作用効果が得られる。
　制御装置１７は、第４モードの継続中において、第２伝達関数により算出される操作量の値と閾値Ｔ２ａとを比較し、閾値Ｔ２ａを下回る場合に、第２排気系統１６０の制御モードを第４モードから第３モードに復帰させるようにした。したがって、時間計測の結果に基づいて第３モードに復帰させる場合に比べて、直接的に操作量に基づいて第３モードへ復帰できるので、主室１１の気密性をより高精度に保持することができる。

　なお、上述したように、制御装置１７は圧力センサ１８ａまたは１８ｂから入力したシール室圧力Ｐ１と外部圧力Ｐ０との差圧ΔＰ１が予め決められた閾値以下となった場合に、第１排気系統１５０の動作モードを第２モードから第１モードに移行させるものについても本発明の一態様に含まれる。この場合、上記の閾値は、噴射処理装置１０の処理により主室１１内で急激に増加した不活性ガスが、ハンチング等を発生させることなく第１モードで排気可能な最大の差圧として、実験等により予め計測され所定のメモリ（不図示）に記録されているものとする。

　また、制御装置１７は主室圧力センサ２０から入力した主室圧力Ｐ２と外部圧力Ｐ０との差圧ΔＰ２が予め決められた閾値以下となった場合に、第２排気系統１６０の動作モードを第４モードから第３モードに移行させるものについても本発明の一態様に含まれる。この場合、上記の閾値は、噴射処理装置１０の処理により主室１１内で急激に増加した不活性ガスが、ハンチング等を発生させることなく第３モードで排気可能な最大の差圧として、実験等により予め計測され所定のメモリ（不図示）に記録されているものとする。

　上述した第３および第４の実施の形態では、第１の基準圧力および第２の基準圧力として外部圧力Ｐ０を共通に用いている。そして、第１排気系統の排気量をシール室圧力Ｐ１と外部圧力Ｐ０との差圧ΔＰ１に基づいて調整し、第２排気系統の排気量を主室圧力Ｐ２と外部圧力Ｐ０との差圧ΔＰ２に基づいて調整することにより、結果として主室圧力Ｐ２とシール室圧力Ｐ１との差圧が所望の値に制御され、シール室から主室１１への気体の逆流が抑制される。この場合、シール室圧力Ｐ１と主室圧力Ｐ２は共通の基準圧力Ｐ０に基づいて制御されるので、基準圧力の変動が差圧制御に与える影響を少なくすることができ、精度の高い差圧制御が実現される。

　本発明の別の実施の形態として、主室圧力Ｐ２を第１の基準圧力とする形態、およびシール室圧力Ｐ１を第２の基準圧力とする形態を挙げることができる。
（１）外部圧力Ｐ０を第１の基準圧力としてシール室圧力Ｐ１と外部圧力Ｐ０との差圧ΔＰ１を制御し、シール室圧力Ｐ１を第２の基準圧力として主室圧力Ｐ２とシール室圧力Ｐ１との差圧を制御する。この場合、容量が小さいシール室の圧力を第２の基準圧力としているので、第２排気系統１６０は高い応答性にて排気可能となる。
（２）主室圧力Ｐ２を第１の基準圧力として、シール室圧力Ｐ１と主室圧力Ｐ２との差圧を制御し、外部圧力Ｐ０を第２の基準圧力として主室圧力Ｐ２と外部圧力Ｐ０との差圧ΔＰ２を制御する。この場合、噴射処理装置１０の処理により主室１１内部で不活性ガスが急激に増加しても、シール室圧力Ｐ１と主室圧力Ｐ２との差圧を直接計測・制御するため、主室１１内の圧力の変化に対して第１排気系統１５０はより高い応答性にて排気可能となり、シール室からの不活性ガスの流出および／またはシール室から主室内への気体の流入を抑制できる。また、上記差圧が大きく振動するハンチングをより発生しにくくできる。さらに、主室１１内の圧力を第１の基準圧力とすることにより、制御対象となる差圧は、外部圧力Ｐ０を第１の基準圧力として差圧ΔＰ１を制御対象とする場合と比較して、小さな値となるので、第１排気系統１５０をより小さな動力にて駆動させることができる。

　本発明は、第１～第４の実施の形態により説明した処理装置１を、次のように変形したものを含む。
（１）主室１１は入口１１１または出口１１２の何れか一方を備え、対応する入口シール室１３または出口シール室１４の何れか一方が設けられているものも本発明の一態様に含まれる。図１０に、一例として、入口１１１と入口シール室１３が設けられている場合を示す。この場合、制御装置１７は、第１排気系統１５０に入口シール室１３から排気を行わせることにより、シール室圧力Ｐ１と外部圧力Ｐ０との差圧ΔＰ１を制御する。なお、図１０に示す例の場合には、ロールツーロール方式により主室１１に搬入された被処理物Ｓのうち、処理が施された部分は主室１１内部で巻き取りを行い留め置かれ、全ての被処理物Ｓに対して処理が終了した後、主室１１から取り出せばよい。この場合、処理が施された部分に対して噴射処理装置１０により噴射される微粒子がさらに付着しないように、主室１１内にシールド室等の別室１１ａを設け処理済みの部分は別室１１ａ内に搬入されるようにすることが望ましい。

（２）圧力センサ１８ａおよび１８ｂや主室圧力センサ２０のような差圧センサに代えて、入口シール室１３、出口シール室１４、主室１１の各絶対圧力を計測する圧力センサをそれぞれ備えるものも本発明の一態様に含まれる。この場合、主室１１の外部の絶対圧力を計測する外部圧力センサをさらに設け、制御装置１７は入口シール室１３、出口シール室１４、主室１１の絶対圧力と主室１１の絶対圧力との差分を算出することにより、シール室圧力Ｐ１、主室圧力Ｐ２を得る。なお、入口シール室１３と出口シール室１４の絶対圧力が異なる場合には、高い圧力値を示す圧力センサからの入力と外部の絶対圧力との差分をシール室圧力Ｐ１とすればよい。

（３）閾値Ｔ１ａおよびＴ１ｂは、それぞれ噴射量（ｍ^３／ｍｉｎ）に代えて、一定時間内における噴射量（ｍ^３）により設定してもよい。
（４）主室１１内に複数の噴射処理装置を備え、それぞれの噴射処理装置が別々の噴射量および噴射タイミングで動作するものであってもよい。この場合は、各噴射処理装置の噴射量の合計量に基づいて閾値Ｔ１ａおよびＴ１ｂを設定してもよい。

　本発明の特徴を損なわない限り、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で考えられるその他の形態についても、本発明の範囲内に含まれる。

　次の優先権基礎出願の開示内容は引用文としてここに組み込まれる。
　日本国特許出願２０１３年第１７２８０号（２０１３年１月３１日出願）

１…処理装置、１０…噴射処理装置、１１…主室、１３…入口シール室、
１４…出口シール室、１５…排気装置、１７…制御装置、
１８ａ、１８ｂ…圧力センサ、２０…主室圧力センサ、
１５０…第１排気系統、１５１…第１ファン、１５２…第１可変バルブ、
１６０…第２排気系統、１６１…第２ファン、１６２…第２可変バルブ、
１６３…第３可変バルブ

Claims

　主室と、
　前記主室の内部にガスを噴射する処理部と、
　前記主室の内部および外部の双方に連通するシール室と、
　前記主室および／または前記シール室の内部を排気する排気部と、
　前記排気部を動作させて、前記シール室の内部の圧力と第１の基準圧力との第１の差圧を制御する制御部とを備え、
　前記排気部は、前記シール室の内部を排気する第１排気系統を有し、
　前記制御部は、前記第１の差圧を制御するための前記排気部の動作モードとして、前記第１の差圧に基づくフィードバック制御をして前記第１排気系統を動作させる第１モードと、前記第１の差圧に基づくフィードバック制御とは異なる制御をして前記第１排気系統を動作させる第２モードとを有し、
　前記制御部は、前記処理部により前記主室の内部に噴射される前記ガスの量の増加に応じて、前記動作モードを前記第１モードから前記第２モードに移行させる処理装置。
　請求項１に記載の処置装置において、
　前記制御部は、前記処理部により前記主室の内部に噴射されるガスの量が第１閾値を超える場合、前記動作モードを前記第１モードから前記第２モードに移行させる処理装置。
　請求項１または２に記載の処理装置において、
　前記制御部は、前記第２モードの場合には、予め設定された所定の排気量で、第１排気系統から排気させる処理装置。
　請求項１乃至３の何れか一項に記載の処理装置において、
　前記制御部は、前記第２モード時における前記シール室の内部の圧力低下に応じて、前記動作モードを前記第２モードから前記第１モードに移行させる処理装置。
　請求項１乃至３の何れか一項に記載の処理装置において、
　前記制御部は、前記第２モードに移行してから所定時間が経過した場合、前記動作モードを前記第２モードから前記第１モードに移行させる処理装置。
　請求項４に記載の処理装置において、
　前記制御部は、前記第２モードの継続中において、前記第１の差圧が第２閾値を下回る場合に、前記動作モードを前記第２モードから前記第１モードに移行させる処理装置。
　請求項１乃至６の何れか一項に記載の処理装置において、
　前記第１排気系統は、前記シール室の内部を排気するために第１排気装置と、前記第１排気装置の吸気側または排気側に設けられた第１可変バルブとを備え、
　前記制御部は、前記第１排気装置の排気能力と前記第１可変バルブの開度とのうち少なくとも一方を変化させることにより前記第１の差圧を制御する処理装置。
　請求項１乃至７の何れか一項に記載の処理装置において、
　前記排気部は、前記主室の内部を排気する第２排気系統を有し、
　前記制御部は、さらに、前記主室の内部の圧力と第２の基準圧力との第２の差圧を制御するための前記排気部の動作モードとして、前記第２の差圧に基づくフィードバック制御をして前記第２排気系統を動作させる第３モードと、前記第２の差圧に基づくフィードバック制御とは異なる制御をして前記第２排気系統を動作させる第４モードとを有し、
　前記制御部は、前記処理部によって前記主室の内部へ噴射される前記ガスの量の増加に応じて、前記動作モードを前記第３モードから前記第４モードへ移行させる処理装置。
　請求項８に記載の処理装置において、
　前記制御部は、前記処理部により前記主室の内部に噴射される前記ガスの量が第３閾値を超える場合、前記動作モードを前記第３モードから前記第４モードに移行させる処理装置。
　請求項８または９に記載の処理装置において、
　前記第４モードは、予め設定された所定の排気量で、第２排気系統に前記主室の内部から排気させる処理装置。
　請求項８乃至１０の何れか一項に記載の処理装置において、
　前記制御部は、前記第４モード時における前記主室の圧力低下に応じて、前記動作モードを前記第４モードから前記第３モードに移行させる処理装置。
　請求項８乃至１０の何れか一項に記載の処理装置において、
　前記制御部は、前記第４モードに移行してから所定時間が経過した場合、前記動作モードを前記第４モードから前記第３モードに移行させる処理装置。
　請求項１１に記載の処理装置において、
　前記制御部は、前記第４モードの継続中において、前記第２の差圧が第４閾値を下回る場合に、前記第２排気系統の動作モードを前記第４モードから前記第３モードに移行させる処理装置。
　請求項８乃至１３の何れか一項に記載の処理装置において、
　前記第２排気系統は、前記主室の内部を排出するための第２排気装置と、前記第２排気装置の吸気側または排気側に設けられた第２可変バルブとを備え、
　前記制御部は、前記第２排気装置の排気能力と前記第２可変バルブの開度とのうち少なくとも一方を変化させることにより、前記第２の差圧を制御する処理装置。
　請求項８乃至１４の何れか一項に記載の処理装置において、
　前記第２排気系統は、前記第２排気装置の排気側から前記主室の内部にガスを還流させる還流経路と、前記還流経路に設けられた第３可変バルブとを有し、
　前記制御部は、前記第２排気装置の排気能力、前記第２可変バルブの開度および前記第３可変バルブの開度のうち、少なくとも一つを変化させることにより、前記第２の差圧を制御する処理装置。
　請求項１５に記載の処理装置において、
　前記制御部は、前記第２可変バルブの開度と、前記第３可変バルブの開度とを相補的に変化させる処理装置。
　請求項１乃至１６の何れか一項に記載の処理装置において、
　前記第１の基準圧力は、前記主室の内部の圧力または前記シール室の外部の圧力である処理装置。
　請求項８乃至１７の何れか一項に記載の処理装置において、
　前記第２の基準圧力は、前記主室の外部の圧力または前記シール室の内部の圧力である処理装置。
　請求項８乃至１４の何れか一項に記載の処理装置において、
　前記第１閾値は前記第３閾値よりも小さい処理装置。
　請求項１乃至１９の何れか一項に記載の処理装置を用い、前記主室内で被加工物に噴射処理を行う噴射処理方法。
　請求項２０に記載の噴射処理方法において、
　前記噴射処理は、前記被加工物に固気二相流を噴射するものである噴射処理方法。
　請求項１乃至１９の何れか一項に記載の処理装置を用い、集電体表面に活物質皮膜を形成する電極材料の製造方法。