WO2014104780A1 - 전자파-고주파 혼성 플라즈마 토치 - Google Patents

전자파-고주파 혼성 플라즈마 토치 Download PDF

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WO2014104780A1
WO2014104780A1 PCT/KR2013/012252 KR2013012252W WO2014104780A1 WO 2014104780 A1 WO2014104780 A1 WO 2014104780A1 KR 2013012252 W KR2013012252 W KR 2013012252W WO 2014104780 A1 WO2014104780 A1 WO 2014104780A1
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plasma
electromagnetic wave
cooling water
electromagnetic
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홍용철
윤정식
김지훈
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Korea Basic Science Institute KBSI
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    • H05H1/461—Microwave discharges
    • H05H1/4622—Microwave discharges using waveguides

Definitions

  • the present invention relates to an electromagnetic-high frequency hybrid plasma torch, and more particularly, to a hybrid plasma torch for introducing a plasma generated by electromagnetic waves into a high frequency plasma torch.
  • Patent Document 1 Patent No. 10-0631828
  • an integrated inductively coupled plasma torch having a cylindrical induction coil structure is disclosed.
  • the induction coil portion of the high-frequency plasma torch is made into a cylindrical induction coil structure and disposed coaxially between the outer wall of the torch and the plasma confinement tube, between the outer wall and the induction coil structure, between the induction coil structure and the confinement pipe.
  • the high frequency plasma torch is melted or evaporated by heating an infusion of a solid powder or spray liquid by using an ultra high temperature (8,000 to 10,000 K) thermal plasma formed in a large and large volume inside the torch. Or by heating the gas to increase pyrolysis or enthalpy.
  • This is usually done inside a confinement tube made of refractory material that can withstand 2,000 K or more, or it can be done outside the conduit exit by ejecting a plasma flame in the form of a jet. It is used in a wide range of fields such as synthesis of ultra fine powder, chemical vapor deposition, waste incineration and pyrolysis treatment, and its use is increasing in various fields for the development of new technologies.
  • the high frequency plasma torch which is characterized by an electrodeless, large volume, moderate gas velocity and the like, is desirable for various scientific and industrial applications.
  • the absence of electrodes makes the high frequency plasma torch very sensitive to external disturbances, such as the introduction of reactants into the plasma. Indeed, when the amount of reactant exceeds any small amount, the inflow of the reactant into the plasma creates fluctuations in the plasma and induces rapid quenching of the plasma.
  • the sensitive characteristics of the high frequency plasma act as a deterrent to entry into various fields.
  • the present inventors have recognized such a problem, and after the research, by introducing the following configuration, it solves the problem of the conventional high frequency plasma torch, the electromagnetic wave-high frequency hybrid plasma which can overcome the fast quenching and instability of the high frequency plasma
  • the torch has been developed.
  • Patent Document 1 KR10-0631828 B1
  • An object of the present invention is to solve the problems of the conventional high frequency plasma torch, to develop a plasma torch that can overcome the fast quenching and thereby instability of the high frequency plasma.
  • the present invention can disclose an electromagnetic wave-high frequency hybrid plasma torch.
  • the electromagnetic wave-high frequency hybrid plasma torch includes an electromagnetic wave oscillator for generating electromagnetic waves, a power supply unit for supplying power to the electromagnetic wave oscillator, an electromagnetic wave transmission line through which electromagnetic waves generated from the electromagnetic wave oscillator are transmitted, and a first plasma for injecting plasma forming gas.
  • a forming gas supply unit an electromagnetic discharge tube in which plasma is generated by the electromagnetic wave introduced from the electromagnetic wave transmission line and the plasma forming gas injected from the first plasma forming gas supply unit, a high frequency discharge tube into which an electromagnetic plasma flow flows from the electromagnetic discharge tube, and the high frequency
  • An induction coil structure coaxial with the discharge tube and having an induction coil inserted therein, an outer wall surrounding the induction coil structure, a cooling water in which cooling water flows in and out of the high frequency discharge tube, and a high frequency discharge tube
  • the forming gas flows that do may comprise two plasma-forming gas supply.
  • the electromagnetic wave-high frequency hybrid plasma torch may further include a reaction gas supply unit for injecting a reaction gas into the high frequency discharge tube.
  • the electromagnetic wave-high frequency hybrid plasma torch may further include a high frequency input / output copper tube for inputting and outputting high frequency to the induction coil structure.
  • the plasma forming gas is CO 2
  • the reaction gas may be one of CH 4 , H 2 O or O 2 .
  • the cooling water path may include an annular first cooling water path existing between the outer wall and the induction coil structure, and an annular second cooling water path existing between the induction coil structure and the high frequency discharge tube.
  • the first cooling water passage and the second cooling water passage may be connected to and isolated from the outside, and the cooling water injected into one side of the cooling water passage may be circulated along the cooling water passage and discharged to the other side.
  • FIG. 1 is a functional block diagram of an electromagnetic wave-high frequency hybrid plasma torch according to a preferred embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a schematic diagram of an electromagnetic-frequency hybrid plasma torch in accordance with a preferred embodiment of the present invention.
  • first and second may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another.
  • the first component may be referred to as the second component, and similarly, the second component may also be referred to as the first component.
  • Korean Patent Publication No. 10-0394994 which is a previously registered patent of the inventor of the present application. This patent is incorporated herein by reference in its entirety.
  • FIG. 1 is a functional block diagram of an electromagnetic wave-high frequency hybrid plasma torch according to a preferred embodiment of the present invention.
  • the electromagnetic wave-frequency hybrid plasma torch 100 includes an electromagnetic wave oscillator 120 for oscillating electromagnetic waves, a power supply unit 110 for supplying power to the electromagnetic wave oscillator, and an electromagnetic wave transmission line 130 for transmitting electromagnetic waves generated from the electromagnetic wave oscillator. And plasma generated by the first plasma forming gas supply unit 170 for injecting the plasma forming gas and the electromagnetic wave introduced from the electromagnetic wave transmission line 130 and the plasma forming gas injected from the first plasma forming gas supply unit.
  • Discharge tube 150 high frequency discharge tube 160 into which electromagnetic wave plasma flows from the electromagnetic discharge tube, induction coil structure 111 coaxial with the high frequency discharge tube, and an induction coil inserted therein, and an outer wall surrounding the induction coil structure
  • Cooling water passage 190 in which cooling water is introduced and discharged around the high frequency discharge tube, It may include a second plasma generation gas supply unit 180 which is a plasma-forming gas introduced into the high-frequency discharge tube.
  • the electromagnetic wave-high frequency hybrid plasma torch 100 may further include a reaction gas supply unit 140 for injecting a reaction gas into the high frequency discharge tube.
  • the electromagnetic wave-high frequency hybrid plasma torch 100 may further include a high frequency input / output copper tube 112 for inputting and outputting high frequency to the induction coil structure.
  • the plasma forming gas is CO 2
  • the reaction gas may be one of CH 4 , H 2 O or O 2 .
  • the cooling water passage 190 includes an annular first cooling water passage existing between the outer wall and the induction coil structure, and an annular second cooling water passage existing between the induction coil structure and the high frequency discharge tube.
  • the cooling water injected into one side of the cooling water passage may be connected to the first cooling water passage and the second cooling water passage, and may be discharged to the other side by circulating along the cooling water passage.
  • the power supply unit 110 may be configured of, for example, a full-wave voltage multiplier and a pulse and direct current (DC) device to supply power to the electromagnetic wave oscillator 120.
  • a full-wave voltage multiplier and a pulse and direct current (DC) device to supply power to the electromagnetic wave oscillator 120.
  • DC direct current
  • the electromagnetic wave oscillator 120 may be, for example, a magnetron that oscillates electromagnetic waves in the 10 MHz to 10 GHz band.
  • the electromagnetic wave transmission line 130 is a kind of waveguide, and is configured to transmit the electromagnetic wave to the electromagnetic wave discharge tube 150.
  • the electromagnetic wave discharge tube 150 is installed to penetrate the electromagnetic wave transmission line 130 and is configured to provide a space in which plasma is generated by electromagnetic waves input through the electromagnetic wave transmission line 130.
  • the first plasma forming gas supply unit 170 supplies a gas for forming a plasma, such as carbon dioxide (CO 2 ), to the electromagnetic wave discharge tube 150.
  • a gas for forming a plasma such as carbon dioxide (CO 2 )
  • the electromagnetic wave discharge tube 150 generates plasma by electromagnetic waves, and the generated plasma flows into the high frequency discharge tube 160 associated with the electromagnetic wave discharge tube.
  • Cooling water introduced through the cooling water passage 190 circulates between the outer wall, the induction coil structure 111, and the high frequency discharge tube 160 to cool the outer wall, the induction coil structure 111, and the high frequency discharge tube 160.
  • reaction gas supply unit 140 for example, a reaction gas such as CH 4 , H 2 O or O 2 may be introduced into the high frequency discharge tube 160.
  • the induction coil structure 111 may include an induction coil surrounding the high frequency discharge tube 160 in an annular shape.
  • the high frequency current may form plasma in the high frequency discharge tube using induction heating by eddy current according to the Faraday's law and the ampere law.
  • FIG. 2 is a schematic diagram of an electromagnetic-frequency hybrid plasma torch 200 according to a preferred embodiment of the present invention.
  • the electromagnetic wave When the power supply unit supplies power to the electromagnetic wave oscillator, the electromagnetic wave may be oscillated by the electromagnetic wave oscillator, and the electromagnetic waves generated from the electromagnetic wave oscillator may be transmitted through the electromagnetic wave transmission line 230.
  • the electromagnetic wave transmission line 230 may be a waveguide having a bent shape in which an inlet through which electromagnetic waves are introduced is bent between 0 degrees and 90 degrees.
  • the plasma forming gas for example, CO 2
  • the plasma forming gas may be injected into the electromagnetic discharge tube 250 through the first plasma forming gas supply unit 270.
  • an annular electromagnetic wave discharge tube 250 is formed through the electromagnetic wave transmission line 230, and electromagnetic waves introduced from the electromagnetic wave transmission line 230 and the first plasma are formed in the electromagnetic wave discharge tube 250.
  • the plasma may be generated by the plasma forming gas injected from the gas supply unit.
  • the electromagnetic wave transmission line 230 is closed at its end, and thus the transmitted electromagnetic wave is reflected.
  • the electromagnetic wave discharge tube 250 penetrates at the quarter wavelength of the terminal end of the electromagnetic wave transmission line 230 so as to be strongest. It is possible to cause the electric field to appear in the electromagnetic discharge tube.
  • the plasma generated from the electromagnetic wave discharge tube 250 flows into the high frequency discharge tube 260.
  • An annular induction coil structure 211 is formed coaxially with the high frequency discharge tube 260.
  • An induction coil 213 is inserted into the induction coil structure 211 in a vertical axis with the high frequency discharge tube 230.
  • the outer wall 210 surrounds the induction coil structure 211.
  • Cooling water flows in through the cooling water passages 290a, 290b, 290c, and 290d around the high frequency discharge tube, and is discharged, thereby circulating between the outer wall, the induction coil structure 211, and the high frequency discharge tube 260.
  • the structure 211 and the high frequency discharge tube 260 are cooled.
  • the cooling water passages 290a, 290b, 290c, and 290d may include an annular first cooling water passage 290c existing between the outer wall 210 and the induction coil structure 211, and the induction coil structure 211 and the induction coil structure 211. And an annular second cooling water passage 290d existing between the high frequency discharge tubes 260, wherein the first cooling water passage 290c and the second cooling water passage 290d are connected and isolated from the outside to the cooling water passage. Cooling water injected into one side portion 290a may be circulated along the cooling water passage and discharged to the other side portion 290b.
  • a high frequency is input to the induction coil structure 211 through the high frequency input / output copper tube 212 so that a high frequency current may form a plasma in the high frequency discharge tube using induction heating by eddy current according to Faraday's law and Ampere's law.
  • the second plasma forming gas supply unit 280 supplies a gas for forming a plasma such as carbon dioxide (CO 2 ) to the high frequency discharge tube 260, for example.
  • a gas for forming a plasma such as carbon dioxide (CO 2 )
  • reaction gas supply unit 240 for example, a reaction gas such as CH 4 , H 2 O or O 2 may be introduced into the high frequency discharge tube 260.

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Abstract

본 발명의 목적은 종래 고주파 플라즈마 토치의 문제점을 해결하여, 고주파 플라즈마의 빠른 퀀칭과 이에 따른 불안정성을 극복할 수 있는 플라즈마 토치를 개발하는 것이다. 위와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따르면, 본 발명은, 전자파-고주파 혼성 플라즈마 토치를 개시할 수 있다. 상기 전자파-고주파 혼성 플라즈마 토치는 전자파를 발진시키는 전자파 발진기, 상기 전자파 발진기에 전원을 공급하는 전원공급부, 상기 전자파 발진기로부터 발생된 전자파가 전송되는 전자파 전송라인, 플라즈마 형성가스를 주입하기 위한 제 1 플라즈마 형성가스 공급부, 상기 전자파 전송라인으로부터 유입된 전자파와 상기 제 1 가스공급부로부터 주입된 플라즈마 형성가스에 의해 플라즈마가 발생되는 전자파 방전관, 상기 전자파 방전관으로부터 전자파 플라즈마 플로우가 유입되는 고주파 방전관, 상기 고주파 방전관과 동축이고 내부에 유도코일이 삽입되어 있는 유도코일 구조체, 상기 고주파 방전관을 중심으로 냉각수가 유입되어 배출되는 냉각수로, 및 상기 고주파 방전관으로 플라즈마 형성가스가 유입되는 제 2 플라즈마 형성가스 공급부를 포함할 수 있다.

Description

전자파-고주파 혼성 플라즈마 토치
본 발명은 전자파-고주파 혼성 플라즈마 토치에 관한 것으로서, 더 구체적으로 전자파에 의해 발생된 플라즈마를 고주파 플라즈마 토치로 유입시키는 혼성 플라즈마 토치에 관한 것이다.
전자파를 이용한 플라즈마 토치 및 고주파를 이용한 플라즈마 토치를 이용한 합성 방법 및 장치들은 개발되고 소개되고 있다.
종래의 특허문헌 1(등록특허 제10-0631828호)을 참조하면 원통형 유도코일 구조체를 갖는 일체형 유도 결합플라즈마 토치가 개시되어 있다.
종래의 특허문헌 1에 따르면, 고주파 플라즈마 토치의 유도코일 부분을 원통형 유도코일 구조체로 만들어 토치 외벽과 플라즈마 가둠관 사이에 동축으로 배치함으로써, 외벽과 유도코일 구조체 사이, 유도코일 구조체와 가둠관 사이에 이중의 환형 유로(23,24)를 얻고, 고주파 입력단을 통해 유도코일 구조체와 토치 외벽을 일체화시킴으로써 토치의 주요 구성품이 토치 외벽, 유도코일 구조체, 플라즈마 가둠관으로 분리되게 하여 필요에 따라 토치 각 구성품에 대한 최적 재료와 가공법을 선정, 사용함으로써 토치 성능 및 경제성을 향상시키는 구성이 개시되어 있다.
이와 같은 종래의 고주파 플라즈마 토치에 따르면, 고주파 플라즈마 토치는 토치 내부에서 넓고 큰 부피로 형성되는 초고온(8,000 - 10,000K) 열 플라즈마를 이용하여 고상 분말 또는 분무 액상의 주입물을 가열하여 용융 또는 증발시키거나, 기체를 가열하여 열분해 또는 엔탈피를 증가시키는데 사용될 수 있다. 이러한 작업은 일반적으로 2,000K 이상을 견딜 수 있는 내화물질로 이루어진 가둠관 내부에서 이루어지거나, 제트(jet) 형태로 플라즈마 불꽃을 분출시켜 가둠관 출구 외부에서 행해질 수 있기 때문에 고융점물질의 융사 코팅, 초미세 분말의 합성, 화학증착, 폐기물 소각 및 열분해 처리 등의 광범위한 분야에서 사용되고 있으며 신기술 개발을 위한 다양한 분야에서 그 활용성이 증대되고 있다.
무전극, 큰 부피, 적당한 가스 속도 등의 특징을 갖는 고주파 플라즈마 토치는 다양한 과학과 산업분야의 적용에 바람직하게 보인다. 그러나, 전극의 부재는 고주파 플라즈마 토치가 플라즈마 내로의 반응물의 유입과 같은 외부 방해 요인에 매우 민감하게 한다. 실제, 반응물의 양이 임의의 작은 양을 초과할 때, 반응물의 플라즈마 내 유입은 플라즈마의 요동을 만들고 플라즈마의 빠른 퀀칭(quenching)을 유도한다. 이러한 고주파 플라즈마의 민감한 특징은 다양한 분야로의 진출에 방해 요인으로 작용한다.
따라서, 다양한 분야에서 고주파 플라즈마 토치의 작동이 성공하느냐 여부는 특히, 반응물이 플라즈마 내로 주입될 때, 안정적 플라즈마를 유지하느냐 여부라 해도 과언이 아니다. 이를 위해서는 고주파 플라즈마 발생 영역 내로 고온(~ 5,000K), 고밀도의 플라즈마 플로우를 유입함으로써 고주파 플라즈마의 빠른 퀀칭과 이에 따른 불안정성을 극복할 수 있다.
이에, 본 발명자는 이러한 문제점을 인식하고, 연구 끝에, 아래와 같은 구성을 도입함으로서, 종래 고주파 플라즈마 토치의 문제점을 해결하여, 고주파 플라즈마의 빠른 퀀칭과 이에 따른 불안정성을 극복할 수 있는 전자파-고주파 혼성 플라즈마 토치를 개발하기에 이르렀다.
[선행기술문헌]
[특허문헌]
(특허문헌 1) KR10-0631828 B1
본 발명의 목적은 종래 고주파 플라즈마 토치의 문제점을 해결하여, 고주파 플라즈마의 빠른 퀀칭과 이에 따른 불안정성을 극복할 수 있는 플라즈마 토치를 개발하는 것이다.
위와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따르면, 본 발명은, 전자파-고주파 혼성 플라즈마 토치를 개시할 수 있다. 상기 전자파-고주파 혼성 플라즈마 토치는 전자파를 발진시키는 전자파 발진기, 상기 전자파 발진기에 전원을 공급하는 전원공급부, 상기 전자파 발진기로부터 발생된 전자파가 전송되는 전자파 전송라인, 플라즈마 형성가스를 주입하기 위한 제 1 플라즈마 형성가스 공급부, 상기 전자파 전송라인으로부터 유입된 전자파와 상기 제 1 플라즈마 형성가스 공급부로부터 주입된 플라즈마 형성가스에 의해 플라즈마가 발생되는 전자파 방전관, 상기 전자파 방전관으로부터 전자파 플라즈마 플로우가 유입되는 고주파 방전관, 상기 고주파 방전관과 동축이고 내부에 유도코일이 삽입되어 있는 유도코일 구조체, 상기 유도코일 구조체를 둘러싸는 외벽, 상기 고주파 방전관을 중심으로 냉각수가 유입되어 배출되는 냉각수로, 및 상기 고주파 방전관으로 플라즈마 형성가스가 유입되는 제 2 플라즈마 형성가스 공급부를 포함할 수 있다.
또한, 상기 전자파-고주파 혼성 플라즈마 토치는 상기 고주파 방전관으로 반응 가스를 주입하기 위한 반응 가스 공급부를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 전자파-고주파 혼성 플라즈마 토치는 상기 유도코일 구조체에 고주파를 입출력하기 위한 고주파 입출력용 동관을 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 플라즈마 형성 가스는 CO2이고, 상기 반응 가스는 CH4, H2O 또는 O2 중 하나일 수 있다.
또한, 상기 냉각수로는, 상기 외벽과 상기 유도 코일 구조체 사이에 존재하는 환형의 제 1 냉각수로,및 상기 유도코일 구조체와 상기 고주파 방전관 사이에 존재하는 환형의 제 2 냉각수로를 포함하고, 상기 제 1 냉각수로 및 상기 제 2 냉각수로는 연결되고 외부로부터 격리되어 상기 냉각수로의 일측부로 주입된 냉각수가 상기 냉각수로를 따라 순환하여 타측부로 배출이 가능할 수 있다.
위와 같은 본원 발명의 구성에 따르면, 고주파 플라즈마 발생 영역 내로 고온(~5,000K), 고밀도의 플라즈마 플로우를 유입함으로써 고주파 플라즈마의 빠른 퀀칭과 이에 따른 불안정성을 극복할 수 있는 효과가 있다.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 전자파-고주파 혼성 플라즈마 토치의 기능 블록도이다.
도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 전자파-고주파 혼성 플라즈마 토치의 개략도이다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 전자파-고주파 혼성 플라즈마 토치에 대해 상세히 설명한다. 본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시 예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 본 발명의 명확성을 기하기 위하여 실제보다 확대하여 도시한 것이다.
제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시 예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
전자파 플라즈마 토치 발생 장치에 대해서는 본원 특허의 발명자의 이전 등록 특허인, 대한민국 특허공보 10-0394994호가 참조된다. 이 특허는 본원에 그대로 참조로서 통합된다.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 전자파-고주파 혼성 플라즈마 토치의 기능 블록도이다.
전자파-고주파 혼성 플라즈마 토치(100)는 전자파를 발진시키는 전자파 발진기(120), 상기 전자파 발진기에 전원을 공급하는 전원공급부(110), 상기 전자파 발진기로부터 발생된 전자파가 전송되는 전자파 전송라인(130), 플라즈마 형성가스를 주입하기 위한 제 1 플라즈마 형성가스 공급부(170), 상기 전자파 전송라인(130)으로부터 유입된 전자파와 상기 제 1 플라즈마 형성가스 공급부로부터 주입된 플라즈마 형성가스에 의해 플라즈마가 발생되는 전자파 방전관(150), 상기 전자파 방전관으로부터 전자파 플라즈마 플로우가 유입되는 고주파 방전관(160), 상기 고주파 방전관과 동축이고 내부에 유도코일이 삽입되어 있는 유도코일 구조체(111), 상기 유도코일 구조체를 둘러싸는 외벽, 상기 고주파 방전관을 중심으로 냉각수가 유입되어 배출되는 냉각수로(190), 및 상기 고주파 방전관으로 플라즈마 형성가스가 유입되는 제 2 플라즈마 형성가스 공급부(180)를 포함할 수 있다.
또한, 상기 전자파-고주파 혼성 플라즈마 토치(100)는 상기 고주파 방전관으로 반응 가스를 주입하기 위한 반응 가스 공급부(140)를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 전자파-고주파 혼성 플라즈마 토치(100)는 상기 유도코일 구조체에 고주파를 입출력하기 위한 고주파 입출력용 동관(112)을 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 플라즈마 형성 가스는 CO2이고, 상기 반응 가스는 CH4, H2O 또는 O2 중 하나일 수 있다.
또한, 상기 냉각수로(190)는, 상기 외벽과 상기 유도 코일 구조체 사이에 존재하는 환형의 제 1 냉각수로,및 상기 유도코일 구조체와 상기 고주파 방전관 사이에 존재하는 환형의 제 2 냉각수로를 포함하고, 상기 제 1 냉각수로 및 상기 제 2 냉각수로는 연결되고 외부로부터 격리되어 상기 냉각수로의 일측부로 주입된 냉각수가 상기 냉각수로를 따라 순환하여 타측부로 배출이 가능할 수 있다.
상기 전원공급부(110)는 예를 들어, 전파전압배율기와 펄스 및 직류(DC)장치로 구성되어 상기 전자파 발진기(120)로 전력을 공급하도록 구성될 수 있다.
상기 전자파 발진기(120)는 예를 어, 10 ㎒ 내지 10 ㎓ 대역의 전자파를 발진하는 마그네트론이 사용될 수 있다.
상기 전자파 전송라인(130)은 일종의 도파관으로서, 상기 전자파를 전자파 방전관(150)으로 전송하도록 구성된다.
상기 전자파 방전관(150)은 상기 전자파 전송라인(130)을 관통하도록 설치되어 상기 전자파 전송라인(130)을 통해 입력되는 전자파에 의해 플라즈마가 생성되는 공간을 제공하도록 구성된다.
상기 제 1 플라즈마 형성가스 공급부(170)는 예를 들어, 이산화탄소(CO2)와 같은 플라즈마를 형성하기 위한 가스를 전자파 방전관(150)에 공급한다.
상기 전자파 방전관(150)에서는 전자파에 의한 플라즈마가 생성되고, 생성된 플라즈마는 전자파 방전관과 연관되어 있는 고주파 방전관(160)으로 유입된다.
냉각수로(190)를 통하여 유입된 냉각수는 외벽, 유도코일 구조체(111), 및 고주파 방전관(160) 사이를 순환함으로써 외벽, 유도코일 구조체(111), 및 고주파 방전관(160)을 냉각시킨다.
상기 반응가스 공급부(140)를 통하여 예를 들어, CH4, H2O 또는 O2 와 같은 반응가스가 고주파 방전관(160)으로 유입될 수 있다.
유도코일 구조체(111)는 환형으로 고주파 방전관(160)을 감싸고 있는 유도코일을 포함할 수 있다.
고주파 입출력용 동관(112)을 통하여 고주파를 유도코일에 입력하면 고주파 전류가 패러데이 법칙 및 암페어 법칙에 따라 와전류에 의한 유도 가열을 이용하여 고주파 방전관 내에 플라즈마를 형성시킬 수 있다.
도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 전자파-고주파 혼성 플라즈마 토치(200)의 개략도이다.
전원공급부에서 전자파 발진기에 전원을 공급하면, 전자파 발진기에 의하여 전자파가 발진될 수 있고, 전자파 발진기로부터 발생된 전자파는 전자파 전송라인(230)을 통해 전송될 수 있다.
전자파 전송라인(230)은 도시된 바와 같이, 전자파가 인입되는 입구가 0도에서 90도 사이의 구부러진 형태의 도파관일 수 있다.
제 1 플라즈마 형성가스 공급부(270)를 통하여 예를 들어, CO2와 같은 플라즈마 형성가스를 전자파 방전관(250)으로 주입할 수 있다.
도 2에 도시된 바와 같이 전자파 전송라인(230)을 관통하여 환형의 전자파 방전관(250)이 형성되어 있고, 전자파 방전관(250)에서 전자파 전송라인(230)으로부터 유입된 전자파와 상기 제 1 플라즈마 형성가스 공급부로부터 주입된 플라즈마 형성가스에 의해 플라즈마가 발생될 수 있다.
전자파 전송라인(230)은 종단이 막혀 있어 전송된 전자파는 반사되고, 예를 들어, 전자파 전송라인(230)의 종단 끝의 1/4 파장이 되는 곳에 전자파 방전관(250)이 관통되도록 하여 가장 강한 전기장이 전자파 방전관 내에 나타나도록 할 수 있다.
전자파 방전관(250)과 고주파 방전관(260)이 연결되어 있기 때문에 전자파 방전관(250)으로부터 발생된 플라즈마는 고주파 방전관(260)으로 유입된다.
고주파 방전관(260)과 동축으로 환형의 유도코일 구조체(211)가 형성되어 있다. 유도코일 구조체(211) 내부에는 유도코일(213)이 고주파 방전관(230)과 수직축으로 삽입되어 있다.
외벽(210)이 유도코일 구조체(211)를 둘러싸고 있다.
냉각수로(290a, 290b, 290c, 290d)를 통하여 냉각수가 상기 고주파 방전관을 중심으로 냉각수가 유입되어 배출되어 외벽, 유도코일 구조체(211), 및 고주파 방전관(260) 사이를 순환함으로써 외벽, 유도코일 구조체(211), 및 고주파 방전관(260)을 냉각시킨다.
냉각수로(290a, 290b, 290c, 290d)는, 상기 외벽(210)과 상기 유도 코일 구조체(211) 사이에 존재하는 환형의 제 1 냉각수로(290c),및 상기 유도코일 구조체(211)와 상기 고주파 방전관(260) 사이에 존재하는 환형의 제 2 냉각수로(290d)를 포함하고, 상기 제 1 냉각수로(290c) 및 상기 제 2 냉각수로(290d)는 연결되고 외부로부터 격리되어 상기 냉각수로의 일측부(290a)로 주입된 냉각수가 상기 냉각수로를 따라 순환하여 타측부(290b)로 배출이 가능할 수 있다.
고주파 입출력용 동관(212)을 통하여 유도코일 구조체(211)에 고주파가 입력되어 고주파 전류가 패러데이 법칙 및 암페어 법칙에 따라 와전류에 의한 유도 가열을 이용하여 고주파 방전관 내에 플라즈마를 형성시킬 수 있다.
상기 제 2 플라즈마 형성가스 공급부(280)는 예를 들어, 이산화탄소(CO2)와 같은 플라즈마를 형성하기 위한 가스를 고주파 방전관(260)에 공급한다.
반응가스 공급부(240)를 통하여 예를 들어, CH4, H2O 또는 O2 와 같은 반응가스가 고주파 방전관(260)으로 유입될 수 있다.
제시된 실시예들에 대한 설명은 임의의 본 발명의 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 이용하거나 또는 실시할 수 있도록 제공된다. 이러한 실시예들에 대한 다양한 변형들은 본 발명의 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명백할 것이며, 여기에 정의된 일반적인 원리들은 본 발명의 범위를 벗어남이 없이 다른 실시예들에 적용될 수 있다. 그리하여, 본 발명은 여기에 제시된 실시예들로 한정되는 것이 아니라, 여기에 제시된 원리들 및 신규한 특징들과 일관되는 최광의의 범위에서 해석되어야 할 것이다.

Claims (5)

  1. 전자파를 발진시키는 전자파 발진기,
    상기 전자파 발진기에 전원을 공급하는 전원공급부,
    상기 전자파 발진기로부터 발생된 전자파가 전송되는 전자파 전송라인,
    플라즈마 형성가스를 주입하기 위한 제 1 플라즈마 형성가스 공급부,
    상기 전자파 전송라인으로부터 유입된 전자파와 상기 제 1 플라즈마 형성가스 공급부로부터 주입된 플라즈마 형성가스에 의해 플라즈마가 발생되는 전자파 방전관,
    상기 전자파 방전관으로부터 전자파 플라즈마 플로우가 유입되는 고주파 방전관,
    상기 고주파 방전관과 동축이고 내부에 유도코일이 삽입되어 있는 원통형의 유도코일 구조체,
    상기 유도코일 구조체를 둘러싸는 외벽,
    상기 고주파 방전관을 중심으로 냉각수가 유입되어 배출되는 냉각수로, 및
    상기 고주파 방전관으로 플라즈마 형성가스가 유입되는 제 2 플라즈마 형성가스 공급부
    를 포함하는, 전자파-고주파 혼성 플라즈마 토치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 고주파 방전관으로 반응 가스를 주입하기 위한 반응 가스 공급부
    를 더 포함하는, 전자파-고주파 혼성 플라즈마 토치.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 유도코일 구조체에 고주파를 입출력하기 위한 고주파 입출력용 동관
    을 더 포함하는, 전자파-고주파 혼성 플라즈마 토치.
  4. 제 2 항에 있어서,
    상기 플라즈마 형성 가스는 CO2이고,
    상기 반응 가스는 CH4, H2O 또는 O2 중 하나인,
    전자파-고주파 혼성 플라즈마 토치.
  5. 제 2 항에 있어서,
    상기 냉각수로는,
    상기 외벽과 상기 유도 코일 구조체 사이에 존재하는 환형의 제 1 냉각수로,및
    상기 유도코일 구조체와 상기 고주파 방전관 사이에 존재하는 환형의 제 2 냉각수로
    를 포함하고,
    상기 제 1 냉각수로 및 상기 제 2 냉각수로는 연결되고 외부로부터 격리되어 상기 냉각수로의 일측부로 주입된 냉각수가 상기 냉각수로를 따라 순환하여 타측부로 배출이 가능한, 전자파-고주파 혼성 플라즈마 토치.
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Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9717139B1 (en) * 2013-08-26 2017-07-25 Elemental Scientific, Inc. Torch cooling device
KR101620009B1 (ko) * 2014-07-11 2016-05-12 한국기계연구원 다중 특성을 가지는 플라즈마 반응기
CN106817834A (zh) * 2017-02-24 2017-06-09 中国航天空气动力技术研究院 一种高频感应等离子发生器双水冷电感线圈
CN107182164B (zh) * 2017-06-27 2023-12-08 云航时代(重庆)科技有限公司 一种水冷笼式高频感应耦合等离子体反应器
KR102722787B1 (ko) * 2017-12-04 2024-10-25 포항공과대학교 산학협력단 이중의 고주파수를 이용한 플라즈마의 시스와 벌크의 확장방법
US20200263285A1 (en) * 2018-08-02 2020-08-20 Lyten, Inc. Covetic materials
KR102124125B1 (ko) * 2018-10-08 2020-06-17 한국기초과학지원연구원 이중 노즐 플라즈마 토치를 이용한 냉각 폴리머 합성장치
CN109585032B (zh) * 2018-10-29 2021-02-02 大连民族大学 一种耐高温全钨面向等离子体反应器
KR102216854B1 (ko) * 2019-09-30 2021-02-17 포항공과대학교 산학협력단 마이크로파 플라즈마를 이용한 아크 방전장치 및 아크 방전방법
KR102473148B1 (ko) * 2020-03-27 2022-12-01 한국기계연구원 플라즈마 초음속 유동 발생장치
EP4348696A4 (en) * 2021-06-02 2025-03-05 Rimere, LLC SYSTEMS AND METHODS FOR GENERATING PLASMA WITH MICROWAVE ENERGY
KR102605372B1 (ko) 2022-12-02 2023-11-22 이상주 마이크로웨이브 플라즈마 생성기 및 이를 포함하는 장치

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20060018195A (ko) * 2004-08-23 2006-02-28 엄환섭 전자파 플라즈마 토치를 이용한 메탄의 이산화탄소 개질방법
KR100631828B1 (ko) * 2003-05-12 2006-10-04 재단법인서울대학교산학협력재단 원통형 유도코일 구조체를 갖는 일체형 유도 결합플라즈마 토치
KR100699699B1 (ko) * 2006-03-16 2007-03-26 엄환섭 고온 대용량 전자파 플라즈마 버너를 이용한 화생 독가스제거 장치 및 방법
KR20080086583A (ko) * 2007-03-23 2008-09-26 엄환섭 전자파로 발생한 순수 수증기 토치 발생장치 및 이를 이용한 수소발생장치
KR20090108745A (ko) * 2008-04-14 2009-10-19 엄환섭 전자파 플라즈마토치에서 발생한 활성입자의 화학반응 장치

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2616614B1 (fr) * 1987-06-10 1989-10-20 Air Liquide Torche a plasma micro-onde, dispositif comportant une telle torche et procede pour la fabrication de poudre les mettant en oeuvre
US5427827A (en) * 1991-03-29 1995-06-27 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Deposition of diamond-like films by ECR microwave plasma
US5279669A (en) * 1991-12-13 1994-01-18 International Business Machines Corporation Plasma reactor for processing substrates comprising means for inducing electron cyclotron resonance (ECR) and ion cyclotron resonance (ICR) conditions
US5743961A (en) * 1996-05-09 1998-04-28 United Technologies Corporation Thermal spray coating apparatus
JP3599564B2 (ja) * 1998-06-25 2004-12-08 東京エレクトロン株式会社 イオン流形成方法及び装置
US6372156B1 (en) * 1999-08-19 2002-04-16 Bechtel Bwxt Idaho, Llc Methods of chemically converting first materials to second materials utilizing hybrid-plasma systems
CN1283131C (zh) * 2001-10-05 2006-11-01 泰克纳等离子系统公司 用于固态电源的多线圈感应等离子体火炬
JP2004247177A (ja) * 2003-02-13 2004-09-02 Jeol Ltd 複合型プラズマ発生装置
US20040235299A1 (en) * 2003-05-22 2004-11-25 Axcelis Technologies, Inc. Plasma ashing apparatus and endpoint detection process
JP2006324146A (ja) * 2005-05-19 2006-11-30 Shimada Phys & Chem Ind Co Ltd 大気圧マイクロ波プラズマ反応装置および方法
US7742167B2 (en) * 2005-06-17 2010-06-22 Perkinelmer Health Sciences, Inc. Optical emission device with boost device
KR100638109B1 (ko) 2005-06-21 2006-10-24 엄환섭 플라즈마 화염 발생장치
US8932430B2 (en) * 2011-05-06 2015-01-13 Axcelis Technologies, Inc. RF coupled plasma abatement system comprising an integrated power oscillator
JP4866331B2 (ja) * 2007-11-05 2012-02-01 富士夫 堀 複合粒子製造装置
JP5891341B2 (ja) * 2009-01-13 2016-03-23 ヘルスセンシング株式会社 プラズマ生成装置及び方法
JP2011222222A (ja) * 2010-04-07 2011-11-04 Jeol Ltd ハイブリッドプラズマ発生装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100631828B1 (ko) * 2003-05-12 2006-10-04 재단법인서울대학교산학협력재단 원통형 유도코일 구조체를 갖는 일체형 유도 결합플라즈마 토치
KR20060018195A (ko) * 2004-08-23 2006-02-28 엄환섭 전자파 플라즈마 토치를 이용한 메탄의 이산화탄소 개질방법
KR100699699B1 (ko) * 2006-03-16 2007-03-26 엄환섭 고온 대용량 전자파 플라즈마 버너를 이용한 화생 독가스제거 장치 및 방법
KR20080086583A (ko) * 2007-03-23 2008-09-26 엄환섭 전자파로 발생한 순수 수증기 토치 발생장치 및 이를 이용한 수소발생장치
KR20090108745A (ko) * 2008-04-14 2009-10-19 엄환섭 전자파 플라즈마토치에서 발생한 활성입자의 화학반응 장치

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