WO2014103043A1 - 発光装置 - Google Patents

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WO2014103043A1
WO2014103043A1 PCT/JP2012/084167 JP2012084167W WO2014103043A1 WO 2014103043 A1 WO2014103043 A1 WO 2014103043A1 JP 2012084167 W JP2012084167 W JP 2012084167W WO 2014103043 A1 WO2014103043 A1 WO 2014103043A1
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WO
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light
layer
inclined surface
emitting device
organic functional
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Application number
PCT/JP2012/084167
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English (en)
French (fr)
Inventor
黒田　和男
Original Assignee
パイオニア株式会社
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    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/80—Constructional details
    • H10K50/85—Arrangements for extracting light from the devices
    • H10K50/856—Arrangements for extracting light from the devices comprising reflective means

Definitions

  • the present invention relates to a light emitting device having an organic light emitting layer.
  • a light emitting device having an organic light emitting layer as one of the light emitting devices.
  • this light emitting device it is desired to improve the ratio of light emitted to the outside (light extraction efficiency) of the light generated in the organic light emitting layer.
  • a surface light source device described in Patent Document 1 includes a light extraction substrate that constitutes a light emission surface of a light emitting element, a transparent resin layer provided on the light emission surface side of the substrate, and a light emission surface of the transparent resin layer. And a high refractive index thin film provided on the side surface.
  • the transparent resin layer has a pyramid-shaped or prism-shaped concavo-convex structure on its light-emitting surface side. The angle formed between the pyramid-shaped or prism-shaped slope and the light exit surface is more than 40 ° and less than 65 °.
  • the high refractive index thin film is provided along the concavo-convex structure, and the film thickness at each location is within an average film thickness ⁇ 30%.
  • the refractive index of the high refractive index thin film is higher than the refractive index of the transparent resin layer. 15-30% higher.
  • Patent Document 2 describes a technique for taking out light confined in the light emitting layer by total reflection to the outside of the light emitting layer by arranging a reflector obliquely on the side of the light emitting layer.
  • the portion facing the light emission space in the light emitting device is constituted by two faces of a triangular prism shape. These two surfaces are alternately arranged in the x direction parallel to the light emitting layer, extend in the y direction parallel to the light emitting layer and orthogonal to the x direction, and Is inclined. One of these two surfaces is light reflective.
  • JP 2009-146654 A JP-T-2001-507503 Special table 2011-507164
  • an organic EL (Electro Luminescence) light emitting device configured by laminating a light transmitting electrode, an organic functional layer including a light emitting layer, and a metal electrode on a light transmitting substrate such as a glass substrate.
  • a light transmitting electrode such as a glass substrate.
  • a metal electrode on a light transmitting substrate such as a glass substrate.
  • each layer The light transmitted through each layer is attenuated according to the light transmittance of each layer constituting the organic EL light emitting device.
  • the light incident in an oblique direction with respect to the light-transmitting electrode having a relatively low light transmittance has a significant attenuation because the optical path length becomes long.
  • FIG. 1 is a diagram schematically showing the direction in which light is emitted from the light emitting point of the light emitting layer. Light is emitted in all directions (spherically) from the light emitting point of the light emitting layer. Note that FIG. 1 shows a state in which light is emitted in a hemispherical form from the light emitting point P1 in order to make the drawing easy to see. In the present general light emitting device, only light having an angle of about 20 degrees or less (light in the circular region R101 shown in FIG. 1) can be extracted from the light emitting device with reference to a line perpendicular to the translucent electrode. Absent.
  • the region having a larger angle with the line perpendicular to the translucent electrode has a larger total amount of light emitted from the light emitting point P1.
  • the area of the region R102 is larger than that of the region R101 shown in FIG.
  • the angle of the light extracted from the light emitting device is more than the angle that is within about 20 degrees with respect to a line perpendicular to the translucent electrode, for example, improved by 5 degrees to about 25 degrees.
  • the improvement effect of the light extraction efficiency is larger when the extraction efficiency of light having a large current (for example, light in the region R102 shown in FIG. 1) is improved by 5 degrees.
  • the thickness of the light emitting layer of the organic EL light emitting device is very thin. For this reason, in the technique of Patent Document 2, unless the light emitting layers and the reflectors are alternately arranged at short intervals in the surface direction of the light emitting layer, light is attenuated by repeated reflection in the light emitting layer. For this reason, since the area which can arrange
  • An example of a problem to be solved by the present invention is to improve the light extraction efficiency of the light emitting device.
  • the invention according to claim 1 includes an organic functional layer including a light emitting layer, A light-transmitting layer disposed on the light extraction side with respect to the organic functional layer;
  • the translucent layer is A first inclined surface inclined with respect to the organic functional layer;
  • Have A plurality of the first inclined surfaces and a plurality of the second inclined surfaces are arranged in the first direction parallel to the organic functional layer such that the first inclined surfaces and the second inclined surfaces are alternately positioned.
  • a plurality of the third inclined surfaces and a plurality of the third inclined surfaces are arranged so that the third inclined surfaces and the fourth inclined surfaces are alternately positioned in a second direction parallel to the organic functional layer and intersecting the first direction.
  • a first light reflecting film is formed along at least one of the plurality of first inclined surfaces and the plurality of second inclined surfaces;
  • a second light reflecting film is formed along at least one of the plurality of third inclined surfaces and the plurality of fourth inclined surfaces.
  • FIG. 5A is a perspective view of a translucent substrate
  • FIG. 5B is a perspective view of a translucent layer.
  • FIG. 6C are cross-sectional views illustrating paths until light generated in the organic functional layer is emitted to the outside in the light emitting device according to the embodiment.
  • FIG. 7A to FIG. 7C are cross-sectional views illustrating paths through which light generated in the organic functional layer is emitted to the outside in the light emitting device according to the embodiment.
  • FIGS. 8A to 8C are cross-sectional views illustrating paths through which light generated in the organic functional layer is emitted to the outside in the light emitting device according to the comparative example.
  • FIG. 9A to FIG. 9C are cross-sectional views illustrating paths through which light generated in the organic functional layer is emitted to the outside in the light emitting device according to the comparative example.
  • FIG. 12A is a plan view of the light-emitting device according to Example 1
  • FIG. 12B is a cross-sectional view taken along the line CC in FIG. 12A
  • 13A and 13B are cross-sectional views of the light emitting device according to the second embodiment.
  • FIG. 14A is a cross-sectional view showing a part of the light-emitting device according to the third embodiment
  • FIG. 14B is a cross-sectional view showing a part of the light-emitting device according to the fourth embodiment.
  • FIG. 15A is a cross-sectional view showing a part of the light emitting device according to Example 5
  • FIG. 15B is a plan view showing a part of the light-transmitting layer in Example 5
  • FIG. It is a perspective view which shows a part of translucent layer.
  • 10 is a cross-sectional view showing a part of a light emitting device according to Example 6.
  • FIG. 10 is a cross-sectional view illustrating a part of the light emitting device according to Example 7.
  • FIG. 18A to FIG. 18E are cross-sectional views illustrating a method for manufacturing a light emitting device according to Example 7.
  • FIG. 10 is a cross-sectional view illustrating a part of the light emitting device according to Example 8.
  • FIG. 10 is a cross-sectional view showing a part of the light emitting device according to Example 8.
  • FIG. 10 is a cross-sectional view illustrating a part of the light emitting device according to Example 9;
  • FIG. 21A to FIG. 21D are cross-sectional views illustrating the method for manufacturing the light emitting device according to the ninth embodiment.
  • 22A to 22D are cross-sectional views illustrating the method for manufacturing the light-emitting device according to Example 10.
  • 12 is a sectional view of a light emitting device according to Example 11.
  • 26A is a perspective view of a main part of the light-emitting device according to Example 14, and FIG.
  • FIG. 26B is a cross-sectional view of the light-emitting device according to Example 14 when viewed in the direction of arrow A in FIG. .
  • FIG. 16 is a perspective view of a light emitting device according to Example 15.
  • 28A is a side sectional view of a part of the light-emitting device according to Example 15 as viewed from the direction of arrow A in FIG. 27, and
  • FIG. 28B is a part of the light-emitting device according to Example 15 as shown by arrow B in FIG. It is the sectional side view seen from the direction.
  • 22 is a plan view of a light emitting device according to Example 16.
  • FIG. It is a top view of the light-emitting device concerning Example 17.
  • the light emitting device includes an organic EL element.
  • This light-emitting device can be used as a light source such as a display, a lighting device, or an optical communication device.
  • FIG. 2 is a perspective view of the light emitting device according to the embodiment.
  • 3A is a cross-sectional view of a portion (region R11) of the light emitting device according to the embodiment as viewed in the direction of arrow A in FIG. 2, and
  • FIG. 3B is a portion of the light emitting device according to the embodiment (region R12). It is sectional drawing seen in the arrow B direction of FIG.
  • FIG. 4 is a plan view of the light emitting device according to the embodiment.
  • substrate 120 is abbreviate
  • the light-emitting device includes an organic functional layer 50 including a light-emitting layer, and a light-transmitting layer 110 disposed on the light extraction side with respect to the organic functional layer 50 as a reference.
  • the light extraction side is a side that emits light to the outside from the light emitting device. That is, the side on which the light extraction surface d is disposed with respect to the organic functional layer 50 is the light extraction side.
  • the translucent layer 110 is inclined with respect to the organic functional layer 50 in a first inclined surface 35a, and the organic functional layer 50 is inclined in a direction opposite to the inclined direction of the first inclined surface 35a.
  • the plurality of first inclined surfaces 35a and the plurality of second inclined surfaces are arranged such that the first inclined surfaces 35a and the second inclined surfaces 35b are alternately positioned in the first direction (arrow B direction) parallel to the organic functional layer 50. 35b are arranged side by side in the first direction.
  • a plurality of third inclined surfaces are arranged such that the third inclined surfaces 36a and the fourth inclined surfaces 36b are alternately positioned in a second direction (arrow A direction) parallel to the organic functional layer 50 and intersecting the first direction.
  • the surface 36a and the plurality of fourth inclined surfaces 36b are arranged side by side in the second direction.
  • the first light reflection film 25 is formed along at least one of the plurality of first inclined surfaces 35a and the plurality of second inclined surfaces 35b.
  • the second light reflecting film 26 is formed along at least one of the plurality of third inclined surfaces 36a and the plurality of fourth inclined surfaces 36b.
  • being inclined with respect to the organic functional layer 50 means being inclined with respect to the surface on which the organic functional layer 50 extends, for example, with respect to the upper surface of the organic functional layer 50.
  • At least one of the first inclined surface 35a and the second inclined surface 35b adjacent to each other is not formed with a light reflecting film, and is a light transmitting surface.
  • at least one of the third inclined surface 36a and the fourth inclined surface 36b adjacent to each other is not formed with a light reflecting film and is a light transmitting surface.
  • the light emitting device includes a region where the first inclined surface 35a and the second inclined surface 35b are alternately arranged (hereinafter referred to as a first region R11), a third inclined surface 36a and a second inclined surface 36a.
  • the four inclined surfaces 36b are alternately arranged in regions (hereinafter referred to as second regions R12) in different arrangements in plan view.
  • the planar shape of the first region R11 and the second region R12 is arbitrary. 2 and 4 show examples in which the planar shapes of the first region R11 and the second region R12 are square, respectively.
  • first inclined surface 35a, the second inclined surface 35b, the third inclined surface 36a, and the fourth inclined surface 36b are arranged along the same plane.
  • first to fourth inclined surfaces 35 a, 35 b, 36 a, 36 b are arranged along one plane parallel to the organic functional layer 50, for example. That is, the distance from the organic functional layer 50 to each first inclined surface 35a, the distance from the organic functional layer 50 to each second inclined surface 35b, the distance from the organic functional layer 50 to each third inclined surface 36a, The distances from the organic functional layer 50 to the fourth inclined surfaces 36b are equal to each other.
  • the light-emitting device further includes a light-transmitting substrate 120 that is in contact with the upper surface of the light-transmitting layer 110 (the surface opposite to the organic functional layer 50 side of the light-transmitting layer 110).
  • the upper surface of the light transmitting layer 110 (the surface in contact with the light transmitting substrate 120 in the light transmitting layer 110) includes the first inclined surface 35a, the second inclined surface 35b, the third inclined surface 36a, and the fourth inclined surface 36b.
  • the interface between the translucent layer 110 and the translucent substrate 120 includes the first to fourth inclined surfaces 35a, 35b, 36a, 36b.
  • first interface 35 the interface between the translucent layer 110 and the translucent substrate 120 in the first region R11
  • second interface 36 the interface between the translucent layer 110 and the translucent substrate 120 in the second region R12
  • the translucent substrate 120 is made of a translucent material such as glass or resin.
  • the refractive index of the translucent substrate 120 is, for example, about 1.5.
  • the translucent substrate 120 may be a translucent film.
  • the refractive index of the translucent substrate 120 is smaller than the refractive index of the translucent layer 110.
  • the upper surface of the translucent substrate 120 (the surface opposite to the organic functional layer 50 in the translucent substrate 120) is in contact with the light emission space 200 outside the light emitting device.
  • the light transmissive layer 110 has a refractive index smaller than that of the light transmissive layer 110 and the high refractive index layer (first electrode 40) having a refractive index equal to or higher than that of the light transmissive layer 110. It arrange
  • the upper surface of the translucent substrate 120 constitutes a light extraction surface d that emits light from the light emitting device to the light emission space 200.
  • the light emitting space 200 is an air layer and has a refractive index of 1. In other words, the upper surface of the translucent substrate 120 is in contact with the gas layer.
  • the light extraction film is affixed on the upper surface of the translucent board
  • the light emitting device further includes a first electrode (translucent electrode) 40 disposed between the organic functional layer 50 and the translucent layer 110, and a second electrode facing the first electrode 40 with the organic functional layer 50 interposed therebetween. Electrode 60. That is, the first electrode 40 is disposed on one surface side of the organic functional layer 50, and the second electrode 60 is disposed on the other surface side of the organic functional layer 50.
  • the first electrode 40 may be a transparent electrode made of a metal oxide conductor such as ITO (Indium Tin Oxide) or IZO (Indium Zinc Oxide). However, the first electrode 40 may be a metal thin film that is thin enough to transmit light.
  • a metal oxide conductor such as ITO (Indium Tin Oxide) or IZO (Indium Zinc Oxide).
  • the first electrode 40 may be a metal thin film that is thin enough to transmit light.
  • the second electrode 60 is a reflective electrode made of a metal film such as Al or Ag.
  • the second electrode 60 reflects light traveling from the organic functional layer 50 toward the second electrode 60 toward the light extraction surface d.
  • the light emitting layer of the organic functional layer 50 emits light.
  • the translucent layer 110, the translucent substrate 120, the first electrode 40, and the organic functional layer 50 all transmit at least part of the light emitted by the light emitting layer of the organic functional layer 50.
  • Part of the light emitted from the light emitting layer is emitted (extracted) from the light extraction surface d of the translucent substrate 120 to the outside of the light emitting device (that is, the light emission space 200).
  • FIG. 5A is a perspective view of the translucent substrate 120
  • FIG. 5B is a perspective view of the translucent layer 110.
  • the lower surface 122 of the translucent substrate 120 is formed in an uneven shape that meshes with the uneven shape of the upper surface 111 of the translucent layer 110.
  • the interface between the lower surface 122 and the upper surface 111 in the first region R11 is the first interface 35
  • the interface between the lower surface 122 and the upper surface 111 in the second region R12 is the second interface 36.
  • the upper surface 121 of the translucent substrate 120 is formed flat. However, a certain degree of surface roughness of the upper surface 121 is allowed.
  • the lower surface 112 of the translucent layer 110 is formed flat. However, a certain degree of surface roughness of the lower surface 112 is allowed.
  • the lower surface 112 and the upper surface 121 are disposed in parallel to the organic functional layer 50.
  • the portion forming the first interface 35 is formed in an uneven shape having a first inclined surface 35a and a second inclined surface 35b.
  • a plurality of first inclined surfaces 35a and a plurality of second inclined surfaces 35b can be formed by forming a plurality of parallel V-grooves on the upper surface of the light transmitting layer 110.
  • the first inclined surface 35a and the second inclined surface 35b are alternately arranged with no gap.
  • substrate 120 side is formed of the 1st inclined surface 35a and the 2nd inclined surface 35b which are mutually arrange
  • the portion forming the second interface 36 is formed in an uneven shape having a third inclined surface 36a and a fourth inclined surface 36b.
  • a plurality of third inclined surfaces 36 a and a plurality of fourth inclined surfaces 36 b can be formed by forming a plurality of V grooves parallel to each other on the upper surface of the light transmitting layer 110.
  • the third inclined surface 36a and the fourth inclined surface 36b are alternately arranged side by side without a gap.
  • substrate 120 side is formed of the 3rd inclined surface 36a and the 4th inclined surface 36b which are mutually arrange
  • the portion forming the first interface 35 is formed in an uneven shape (hereinafter referred to as a first uneven shape) that meshes with the first inclined surface 35 a and the second inclined surface 35 b.
  • the first concavo-convex shape can be formed by forming a plurality of parallel V-grooves on the lower surface 122 of the translucent substrate 120.
  • the first concavo-convex shape can be formed by processing the surface of the translucent substrate 120 using a known surface processing technique such as cutting and polishing, laser processing, chemical etching, or thermal imprinting.
  • the first concavo-convex shape may be formed by attaching a plurality of triangular prism-shaped protrusions formed separately from the flat main body portion of the translucent substrate 120 to the lower surface of the main body portion in parallel with each other.
  • the portion forming the second interface 36 is formed in an uneven shape (hereinafter referred to as a second uneven shape) that meshes with the third inclined surface 36a and the fourth inclined surface 36b. ing.
  • the method of forming the second concavo-convex shape is the same as the method of forming the first concavo-convex shape.
  • the first direction which is the direction in which the first inclined surface 35a and the second inclined surface 35b are arranged
  • the second direction in which the third inclined surface 36a and the fourth inclined surface 36b are arranged
  • the first direction and the second direction only need to cross each other, and the angle formed by the first direction and the second direction may be other than 90 degrees.
  • the first inclined surface 35 a has a rectangular surface parallel to the organic functional layer 50, and the first rotation direction about the first rotation axis parallel to the organic functional layer 50.
  • the surface is rotated by a first angle.
  • the second inclined surface 35b located next to the first inclined surface 35a is a rectangular surface parallel to the organic functional layer 50 and is opposite to the first rotation direction around the first rotation axis. It is a surface rotated by a second angle in the second rotation direction of the direction.
  • the first rotation axis is orthogonal to the first direction.
  • the inclination angles (first angles) of the first inclined surfaces 35a with respect to the organic functional layer 50 are equal to each other, for example.
  • each second inclined surface 35b with respect to the organic functional layer 50 is equal to each other, for example.
  • the magnitudes of the first angle and the second angle are, for example, equal to each other. However, the magnitudes of the first angle and the second angle may be different from each other.
  • the third inclined surface 36a is a rectangular surface parallel to the organic functional layer 50, parallel to the organic functional layer 50 and in a direction different from the first rotation axis (for example, the first rotation). This is a surface rotated by a third angle in the third rotation direction around the second rotation axis extending in the direction orthogonal to the axis.
  • the fourth inclined surface 36b located next to the third inclined surface 36a is a rectangular surface parallel to the organic functional layer 50 and is opposite to the third rotation direction around the second rotation axis. The surface is rotated by a fourth angle in the fourth direction of rotation.
  • the second rotation axis is orthogonal to the second direction.
  • the inclination angles (third angles) of the third inclined surfaces 36a with respect to the organic functional layer 50 are equal to each other, for example.
  • the inclination angle (fourth angle) of each fourth inclined surface 36b with respect to the organic functional layer 50 is equal to each other, for example.
  • the third angle and the fourth angle are equal to each other, for example.
  • the magnitudes of the third angle and the fourth angle may be different from each other.
  • the magnitudes of the first to fourth angles may be equal to each other or different from each other.
  • the first inclined surface 35a and the second inclined surface 35b are formed in the same shape and size, for example.
  • the third inclined surface 36a and the fourth inclined surface 36b are formed in the same shape and size, for example.
  • the first to fourth inclined surfaces 35a, 35b, 36a, 36b are formed in the same shape and size. It is preferable that the dimension of the first to fourth inclined surfaces 35a, 35b, 36a, 36b in the short direction (the rectangular short dimension) is sufficiently larger than the wavelength of light generated in the organic functional layer 50. .
  • the first light reflection film 25 is formed along one of the first inclined surface 35a and the second inclined surface 35b adjacent to each other.
  • the first light reflecting film 25 is formed along each of the plurality of second inclined surfaces 35b.
  • the second light reflecting film 26 is formed along any one of the third inclined surface 36a and the fourth inclined surface 36b adjacent to each other.
  • the second light reflecting film 26 is formed along each of the plurality of fourth inclined surfaces 36b.
  • the first light reflecting film 25 is formed along the entire surface of the second inclined surface 35b
  • the second light reflecting film 26 is formed along the entire surface of the fourth inclined surface 36b.
  • the first light reflecting film 25 and the second light reflecting film 26 may be formed along a part of each of the second inclined surface 35b and the fourth inclined surface 36b as in the embodiments described later.
  • the first light reflection film 25 and the second light reflection film 26 are made of a material having a high reflectance, for example, a metal such as Ag or Al.
  • the first light reflecting film 25 is, for example, a metal on the lower surface of the translucent substrate 120 with respect to a surface facing one of the first inclined surface 35a and the second inclined surface 35b (for example, the second inclined surface 35b).
  • the film is formed by selectively depositing a film by oblique deposition (see FIG. 5A).
  • the second light reflecting film 26 is, for example, on the lower surface of the translucent substrate 120 on a surface facing one of the third inclined surface 36a and the fourth inclined surface 36b (for example, the fourth inclined surface 36b). On the other hand, it is formed by selectively obliquely depositing a metal film.
  • the refractive index of the translucent layer 110 is larger than the refractive index of the translucent substrate 120. This facilitates extraction of light from the first electrode 40 side to the translucent layer 110 side.
  • the refractive index of the translucent layer 110 is, for example, about the same as the refractive index of the first electrode 40.
  • the translucent layer 110 is made of, for example, a dielectric material.
  • the translucent layer 110 is composed of, for example, an epoxy resin having a refractive index of about 1.8 and a barrier film that suppresses the influence on the organic material.
  • the light transmitting layer 110 may be constituted by such a high refractive index material and high refractive index nanocomposite thin film containing nanoparticles with BaTiO 3.
  • the translucent layer 110 may be made of the same material as the organic functional layer 50.
  • the refractive index of the translucent layer 110 is, for example, not less than the refractive index of the first electrode 40 and not more than 2.3.
  • the translucent layer 110 is configured, for example, by applying an organic material to the lower surface of the translucent substrate 120 and curing it. Thereby, the upper surface 111 of the translucent layer 110 becomes a shape reflecting the uneven shape of the lower surface of the translucent substrate 120.
  • the translucent layer 110 may be formed separately from the translucent substrate 120 and then attached to the translucent substrate 120.
  • the first electrode 40 is configured, for example, by sputtering a metal oxide conductor such as ITO or IZO on the lower surface 112 of the translucent layer 110. Furthermore, for example, a partition wall is formed on the lower surface of the first electrode 40.
  • the organic functional layer 50 is configured by depositing or applying an organic material including a light emitting layer between the partition walls.
  • the second electrode 60 is configured by evaporating a metal material on the lower surface of the organic functional layer 50.
  • the surface (lower surface) opposite to the light transmitting substrate 120 side in the light transmitting layer 110 and one surface (upper surface) of the first electrode 40 are in contact with each other. Further, the other surface (lower surface) of the first electrode 40 and one surface (upper surface) of the organic functional layer 50 are in contact with each other. Further, the other surface (lower surface) of the organic functional layer 50 and one surface (upper surface) of the second electrode 60 are in contact with each other.
  • another layer may exist between the translucent layer 110 and the first electrode 40. Similarly, another layer may exist between the first electrode 40 and the organic functional layer 50. Similarly, another layer may exist between the organic functional layer 50 and the second electrode 60.
  • a plurality of first regions R11 (a region where the first inclined surface 35a and the second inclined surface 35b are arranged) and a plurality of second regions R12 (the third inclined surface 36a and the fourth inclined surface). And the region where the surface 36b is disposed) are alternately adjacent to each other in plan view. Specifically, for example, a plurality of first regions R11 and a plurality of second regions R12 are arranged adjacent to each other in a staggered manner.
  • the portion arranged in each first region R11 and the portion arranged in each second region R12 are formed as individual blocks, and these are arranged side by side on the same plane. May be.
  • a portion disposed in each first region R11 and a portion disposed in each second region R12 are formed as individual blocks, and are arranged side by side on the same plane. You may do it.
  • the whole of the translucent substrate 120 and the translucent layer 110 may be integrally formed.
  • FIGS. 7 (a) to 7 (c) show how many paths until light generated in the organic functional layer 50 is emitted to the outside in the light emitting device according to the present embodiment. It is sectional drawing which illustrated this. 6A to 6C and FIGS. 7A to 7C, the region R1 is on the low refractive index side (translucent substrate 120), and the region R2 is on the high refractive index side (translucent layer 110). ). 6 (a) to 6 (c) and FIGS. 7 (a) to 7 (c) are for explaining the function of the first interface 35 of the first region R11.
  • the translucent layer 110, the first electrode 40, and the organic functional layer 50 have, for example, the same refractive index, refraction and reflection do not occur at the interfaces. Further, the uneven structure of the first interface 35 in the translucent substrate 120 is periodic. Furthermore, since the thickness of the translucent layer 110 and the translucent substrate 120 is about 10 ⁇ m, for example, the thickness of the first electrode 40 and the organic functional layer 50 is about 100 nm, for example. The thicknesses of the first electrode 40 and the organic functional layer 50 are negligible compared to the thickness of 110 and the translucent substrate 120.
  • the light ray A has an angle ⁇ 1 with respect to the normal line n1 of the surface a1 (second inclined surface 35b) having the first light reflecting film 25, and the light transmitting layer 110 (region R2).
  • the surface a1 is reached from the side.
  • the light ray A is reflected by the surface a1, and then reaches the surface b1 at an angle ⁇ 2 with respect to the normal line n2 of the surface b1 (first inclined surface 35a) adjacent to the surface a1.
  • the light beam A is refracted at the surface b1 and is incident on the translucent substrate 120 at the angle ⁇ 3, and the direction toward the surface b1 side at the adjacent surface a2 (second inclined surface 35b).
  • the light is reflected with a component and travels toward the upper surface 121 (light extraction surface d) of the translucent substrate 120.
  • the angle ⁇ 1 of the light beam B is larger than the angle ⁇ 1 of the light beam A.
  • the light beam B is reflected by the surface a1, then refracted by the surface b1, and enters the light transmitting substrate 120 (region R1) from the light transmitting layer 110 (region R2).
  • the surface a2 reflects with a directional component on the surface b2 side, which is the first inclined surface 35a opposite to the surface b1, and travels toward the upper surface 121 (light extraction surface d) of the translucent substrate 120.
  • the light ray C is almost parallel to the surface a1.
  • the light ray C is refracted on the surface b1 and enters the light-transmitting substrate 120 (region R1) from the light-transmitting layer 110 (region R2) and travels toward the upper surface 121 (light extraction surface d) of the light-transmitting substrate 120.
  • the light beam D reflected by the surface a1 and returning to the original state is reflected by the plane c which is the upper surface of the second electrode 60 and travels toward the surface b1. Since the light beam D is incident perpendicular to the surface b1, the light beam D is directly incident on the translucent substrate 120 (region R1) from the translucent layer 110 (region R2) and the upper surface 121 of the translucent substrate 120 (light extraction). Head to face d).
  • the light beam E is a light beam having a polarity different from that of the angle ⁇ 1 of the light beam A, and travels from the left side of the normal line n1 to the surface a1.
  • the light beam E is reflected on the surface a1, reflected on the plane c which is the upper surface of the second electrode 60, and then reflected again on the surface a1.
  • the light beam E enters the translucent substrate 120 (region R1) from the surface b1, reflects off the surface a2, and travels toward the upper surface 121 (light extraction surface d) of the translucent substrate 120.
  • the light ray F is the light which injects with respect to the surface b1 at an angle more than a total reflection angle.
  • the light beam F totally reflected by the surface b1 is reflected by the surface a1, then reflected by the plane c which is the upper surface of the second electrode 60, and then reaches the surface b1 again.
  • the light beam F further enters the translucent substrate 120 (region R1) from the surface b1, and then travels toward the upper surface 121 (light extraction surface d) of the translucent substrate 120.
  • the light beams that reach the first interface 35 in various directions are actuated by the first inclined surface 35 a, the second inclined surface 35 b, and the first light reflecting film 25 of the first interface 35. 121 (light extraction surface d) can be directed.
  • a third inclined surface 36a and a fourth inclined surface 36b that are inclined in different directions from the first inclined surface 35a and the second inclined surface 35b are formed on the second interface 36 of the second region R12.
  • a second light reflecting film 26 is formed on the inclined surface 36b.
  • the third inclination of the second interface 36 is also applied to light that cannot be sufficiently changed upward by the action of the first inclined surface 35a, the second inclined surface 35b, and the first light reflecting film 25 of the first interface 35.
  • the surface 36a, the fourth inclined surface 36b, and the second light reflecting film 26 can be changed upward sufficiently so that they can be taken out from the light emitting device.
  • the operation pattern is such that the reflection is repeated between the first light reflecting film 25 of the second inclined surface 35b and the first inclined surface 35a having an interface with different refractive index and the second electrode 60 that is a reflective electrode. Even light rays of a certain angle can be taken out from the repeated operation pattern by the action of the third inclined surface 36a, the fourth inclined surface 36b and the second light reflecting film 26 of the second interface 36, and taken out to the air layer. Can do.
  • the second light reflection film 26 on the fourth inclined surface 36b, the third inclined surface 36a having an interface with different refractive index, and the second electrode 60, which is a reflective electrode have an operation pattern that repeats reflection.
  • the first inclined surface 35a, the second inclined surface 35b, and the first light reflecting film 25 of the first interface 35 can be made to escape from the repeated operation pattern and taken out to the air layer. be able to. Therefore, the light extraction efficiency of the light emitting device can be improved.
  • FIG. 8A, FIG. 8B, FIG. 8C, FIG. 9A, FIG. 9B, and FIG. 9C are generated in the organic functional layer in the light emitting device according to the comparative example. It is sectional drawing which illustrated the path
  • the angles of the light rays A to F shown in FIGS. 8A to 8C and 9A to 9C are respectively shown in FIGS. 6A to 6C and FIG. The angles are the same as those of the light rays A to F shown in (a) to (c) of FIG.
  • the light beam A (FIG. 8A), the light beam B (FIG. 8B), the light beam E (FIG. 9B), and the light beam F (FIG. 9C).
  • the angle toward the upper surface 121 (light extraction surface d) of the translucent substrate 120 is smaller than that in the present embodiment. Therefore, in the comparative example, the possibility that the light is totally reflected on the light extraction surface d (possibility that the light is not emitted to the outside from the light extraction surface d) is higher than that in the present embodiment. That is, according to the present embodiment, the light extraction efficiency can be increased as compared with the comparative example.
  • FIG. 10 is a diagram showing a first example of the layer structure of the organic functional layer 50.
  • the organic functional layer 50 has a structure in which a hole injection layer 51, a hole transport layer 52, a light emitting layer 53, an electron transport layer 54, and an electron injection layer 55 are stacked in this order. That is, the organic functional layer 50 is an organic electroluminescence light emitting layer.
  • the hole injection layer 51 and the hole transport layer 52 one layer having the functions of these two layers may be provided.
  • the electron transport layer 54 and the electron injection layer 55 one layer having the functions of these two layers may be provided.
  • the light emitting layer 53 is, for example, a layer that emits red light, a layer that emits blue light, a layer that emits yellow light, or a layer that emits green light.
  • a region having the light emitting layer 53 that emits red light, a region having the light emitting layer 53 that emits green light, and a region having the light emitting layer 53 that emits blue light are repeated. It may be provided. In this case, when each region emits light simultaneously, the light emitting device emits light in a single light emission color such as white.
  • the light emitting layer 53 may be configured to emit light in a single light emission color such as white by mixing materials for emitting a plurality of colors.
  • FIG. 11 is a diagram showing a second example of the layer structure of the organic functional layer 50.
  • the light emitting layer 53 of the organic functional layer 50 has a structure in which light emitting layers 53a, 53b, and 53c are laminated in this order.
  • the light emitting layers 53a, 53b, and 53c emit light of different colors (for example, red, green, and blue).
  • the light emitting layers 53a, 53b, and 53c emit light at the same time, so that the light emitting device emits light in a single emission color such as white.
  • the translucent layer 110 includes the plurality of first inclined surfaces 35a, the plurality of second inclined surfaces 35b, the plurality of third inclined surfaces 36a, and the plurality of fourth inclined surfaces 36b. And have. Therefore, in the translucent layer 110, it is possible to reduce light incident at an angle greater than the critical angle with respect to the surface on which the first to fourth inclined surfaces 35a, 35b, 36a, and 36b are formed. Reflection can be suppressed. Thereby, in each of the first to fourth inclined surfaces 35a, 35b, 36a, 36b, light having a large angle can be incident on an adjacent layer, so that the light extraction efficiency is improved.
  • the first light reflecting film 25 is formed along at least one of the plurality of first inclined surfaces 35a and the plurality of second inclined surfaces 35b.
  • the inclined surface on which the light reflecting film (first light reflecting film 25) is not formed transmits light
  • the inclined surface on which the light reflecting film is formed reflects light.
  • the second light reflecting film 26 is formed along at least one of the plurality of third inclined surfaces 36a and the plurality of fourth inclined surfaces 36b.
  • the inclined surface on which the light reflecting film (second light reflecting film 26) is not formed transmits light, and the inclined surface on which the light reflecting film is formed reflects light.
  • the inclined surface on which the light reflecting film is formed reflects light.
  • the third inclined surface 36a, the fourth inclined surface 36b, and the second inclined surface 36a, the second inclined surface 36b, and the second inclined surface 35a, the second inclined surface 35b, and the light that cannot be changed upward sufficiently by the function of the first light reflecting film 25 are also described.
  • the light reflecting film 26 can be changed upward sufficiently so that it can be taken out from the light emitting device.
  • the first inclined surface 35a, the second inclined surface 35b, and the second The light can be taken out from the light emitting device by sufficiently changing upward by the action of the one light reflecting film 25.
  • first to fourth inclined surfaces 35a, 35b, 36a, and 36b are arranged along the same plane, an increase in the dimension in the thickness direction of the light emitting device can be suppressed.
  • the light emitting device includes the first electrode 40 disposed between the organic functional layer 50 and the light transmissive layer 110, and the refractive index of the light transmissive layer 110 is equal to or higher than the refractive index of the first electrode 40, and 2 or less. This facilitates the extraction of light from the first electrode 40 toward the translucent layer 110 and suppresses a decrease in the efficiency of extracting light from the translucent layer 110 to the translucent substrate 120.
  • the light-emitting device further includes a light-transmitting substrate 120 that is in contact with the surface of the light-transmitting layer 110 opposite to the organic functional layer 50 side, and the surface of the light-transmitting layer 110 that is in contact with the light-transmitting substrate 120 is first to 4th inclined surface 35a, 35b, 36a, 36b is included. Accordingly, the light emitting device can be easily manufactured by sequentially stacking the light transmitting layer 110 and the like on the light transmitting substrate 120.
  • the first light reflecting film 25 is formed along one of the first inclined surface 35a and the second inclined surface 35b adjacent to each other, and the third inclined surface 36a and the fourth inclined surface adjacent to each other are formed.
  • the second light reflection film 26 is formed along any one of the surfaces 36b.
  • the 2nd light reflection film 26 is arrange
  • the periodicity of the arrangement of the first light reflecting film 25 at the first interface 35 and the periodicity of the arrangement of the second light reflecting film 26 at the second interface 36 can be made more uniform. Therefore, the extraction efficiency can be improved more uniformly in any region of the light emitting device.
  • a plurality of first regions R11 in which the first inclined surface 35a and the second inclined surface 35b are arranged, and a plurality of second regions R12 in which the third inclined surface 36a and the fourth inclined surface 36b are arranged are planar. They are arranged adjacent to each other alternately in view.
  • the first region R11 the light having an angle that forms a repetitive reflection pattern that is not extracted from the light-emitting device is not located far from the first region R11 but is adjacent to the first region R11. It can be changed upward in the two regions R12. Therefore, there is a high possibility that the direction of the light can be changed to a direction in which the light can be extracted from the light extraction surface d before the light is attenuated.
  • the light having an angle that forms a repetitive reflection pattern that is not extracted from the light emitting device is adjacent to the second region R12, not far from the second region R12. It can be changed upward in the first region R11. Therefore, there is a high possibility that the direction of the light can be changed to a direction in which the light can be extracted from the light extraction surface d before the light is attenuated.
  • Example 1 In Example 1, an example of a more specific configuration of the light emitting device according to the embodiment will be described.
  • 12A is a plan view showing the structure of the light-emitting device according to Example 1
  • FIG. 12B is a cross-sectional view taken along the line CC in FIG. 12A. In FIG. 12B and FIG. 12A, the top and bottom are inverted from FIG.
  • the first electrode 40 constitutes an anode.
  • the plurality of first electrodes 40 each extend in the Y direction in a strip shape. Adjacent first electrodes 40 are spaced apart at regular intervals in the X direction orthogonal to the Y direction.
  • Each of the first electrodes 40 is made of, for example, a metal oxide conductor such as ITO or IZO.
  • the 1st electrode 40 may be a metal thin film which has the thickness of the grade which has translucency.
  • the refractive index of the first electrode 40 is, for example, about the same as that of the translucent layer 110 (for example, about 1.8).
  • a bus line (bus electrode) 72 for supplying a power supply voltage to the first electrode 40 is formed on each surface of the first electrode 40.
  • An insulating film is formed on the light transmitting layer 110 and the first electrode 40.
  • a plurality of stripe-shaped openings each extending in the Y direction are formed.
  • a plurality of partition walls 71 made of an insulating film are formed.
  • Each opening formed in the insulating film reaches the first electrode 40, and the surface of each first electrode 40 is exposed at the bottom of the opening.
  • An organic functional layer 50 is formed on the first electrode 40 in each opening of the insulating film.
  • the organic functional layer 50 is configured by laminating a hole injection layer 51, a hole transport layer 52, a light emitting layer 53 (light emitting layers 53R, 53G, 53B), and an electron transport layer 54 in this order.
  • Materials for the hole injection layer 51 and the hole transport layer 52 include aromatic amine derivatives, phthalocyanine derivatives, porphyrin derivatives, oligothiophene derivatives, polythiophene derivatives, benzylphenyl derivatives, compounds in which tertiary amines are linked by fluorene groups, hydrazones.
  • the light emitting layers 53R, 53G, and 53B are made of a fluorescent organometallic compound that emits red light, green light, and blue light, respectively.
  • the light emitting layers 53R, 53G, and 53B are arranged side by side in a state of being separated from each other by the partition wall portion 71. That is, the organic functional layer 50 forms a plurality of light emitting regions separated by the partition wall 71.
  • An electron transport layer 54 is formed so as to cover the surfaces of the light emitting layers 53R, 53G, 53B and the partition wall 71.
  • a second electrode 60 is formed so as to cover the surface of the electron transport layer 54.
  • the second electrode 60 constitutes a cathode.
  • the second electrode 60 is formed in a strip shape.
  • the second electrode 60 is made of a metal or alloy such as Al or Ag having a low work function and high reflectivity.
  • the refractive index of the organic functional layer 50 is approximately the same as that of the first electrode 40 and the light transmitting layer 110 (for example, a refractive index of approximately 1.8).
  • the light emitting layers 53R, 53G, and 53B that emit red, green, and blue light are repeatedly arranged in a stripe shape. From the surface of the translucent substrate 120 serving as the light extraction surface d, red, Green and blue light are mixed at an arbitrary ratio to emit light that is recognized as a single emission color (for example, white).
  • Example 1 the same effect as the above embodiment can be obtained.
  • FIGS. 13A and 13B are cross-sectional views of the light emitting device according to this example.
  • FIG. 13 (a) corresponds to FIG. 3 (a)
  • FIG. 13 (b) corresponds to FIG. 3 (b).
  • the translucent layer 110 and the first electrode 40 are provided separately.
  • the translucent layer 110 has a function of a translucent electrode. It may be. That is, in this case, the light transmissive layer 110 is formed of a light transmissive conductor such as a metal oxide conductor such as ITO. According to the present embodiment, since the light transmissive layer 110 also functions as a light transmissive electrode, the number of components of the light emitting device can be reduced.
  • FIG. 14A is a cross-sectional view showing a part of the light emitting device according to the present embodiment.
  • the top of the gable roof-shaped ridge 31 and the valley between the adjacent ridges 31 constituting the concavo-convex shape of the upper surface of the light-transmitting layer 110 are in the organic functional layer 50.
  • the first light reflecting film 25 is not formed on the surface 31a and the surface 31b, and the surface 31a and the surface 31b are light transmitting surfaces. That is, the first interface 35 of the light emitting device according to the present embodiment has the surfaces 31 a and 31 b that are light transmission surfaces formed in parallel to the organic functional layer 50.
  • the surfaces 31a and 31b substantially parallel to the organic functional layer 50 as light transmitting surfaces, it is possible to easily extract light rays substantially orthogonal to the organic functional layer 50 to the outside in the first region R11. . With respect to the light in such a direction, it is possible to improve the light extraction efficiency by extracting the light outside without being reflected by the first light reflection film 25.
  • FIG. 14B is a cross-sectional view showing a part of the light emitting device according to this example.
  • the surfaces 31a and 31b are reflected by the first light so that the surfaces 31a and 31b substantially parallel to the organic functional layer 50 become light transmission surfaces.
  • the film 25 may be covered. That is, the film thickness of the portion of the first light reflection film 25 covering the surface 31a and the surface 31b is smaller than the film thickness of the portion of the first light reflection film 25 forming the light reflection surface. It is possible to form such a film thickness distribution by forming the first light reflecting film 25 by oblique vapor deposition. According to the present embodiment, the same effect as that of the third embodiment can be obtained.
  • FIG. 15A is a cross-sectional view showing a part of the first region R11 of the light emitting device according to this embodiment
  • FIG. 15B is a part of the light transmitting layer 110 in the first region R11 of the light emitting device according to this embodiment
  • FIG. 15C is a perspective view showing a part of the light transmitting layer 110 in the first region R11 of the light emitting device according to this example.
  • the shape of each protrusion 31 on the upper surface of the translucent layer 110 is changed. As shown in these drawings, each of the protrusions 31 has a trapezoidal cross-sectional shape, and the upper base is a surface 31 d substantially parallel to the organic functional layer 50.
  • the 1st inclined surface 35a and the 2nd inclined surface 35b which comprise the protrusion 31 are mutually spaced apart in those arrangement directions.
  • the first light reflection film 25 is formed on the surface 31d, and the surface 31d forms a light transmission surface.
  • the surface 31d substantially parallel to the organic functional layer 50 as a light transmission surface, the light rays perpendicularly incident on the surface 31d are incident on the first light reflecting film as in the third embodiment. Since the light is emitted to the outside without being reflected by 25, the light extraction efficiency can be improved.
  • FIG. 16 is a cross-sectional view showing a part of the first region R11 of the light emitting device according to this example.
  • the adjacent protrusions 31 are separated from each other in the arrangement direction thereof.
  • a surface 31 d substantially parallel to the organic functional layer 50 is formed between adjacent protrusions 31.
  • the first light reflecting film 25 is not formed on the surface 31d, and the surface 31d forms a light transmission surface. According to the present embodiment, the same effect as that of the fifth embodiment can be obtained.
  • Examples 3 to 6 only the first interface 35 out of the first interface 35 and the second interface 36 has been described. However, the organic function of the second interface 36 is also the same as in Examples 3 to 6. A light transmission surface substantially parallel to the layer 50 can be formed.
  • FIG. 17 is a cross-sectional view showing a part of the light emitting device according to this example.
  • the light reflecting structure 22 formed on the first interface 35 is different from the above embodiment. That is, in the above-described embodiment, the light reflecting structure is configured by the first light reflecting film 25, whereas the light reflecting structure 22 in this example includes the first light reflecting film 25 and the translucent substrate.
  • a low refractive index film 21 made of a material having a refractive index lower than 120 (for example, SiO 2 or the like) is laminated.
  • the light beam I incident on the light reflecting structure 22 at an incident angle larger than the critical angle from the translucent substrate 120 side is totally reflected at the interface between the translucent substrate 120 and the low refractive index film 21, and the translucent substrate 120.
  • the reflectivity of the total reflection is 100%, and the reflectivity of the reflective film such as metal is about 90%. Therefore, the total reflection by the low refractive index film 21 is performed only by the first light reflection film 25. Compared with the case of reflecting, it is possible to expect an improvement in reflectance and, in turn, an improvement in light extraction efficiency.
  • the light beam J incident on the light reflecting structure 22 at an incident angle smaller than the critical angle from the light transmitting substrate 120 side is transmitted through the low refractive index film 21 and reflected by the surface of the first light reflecting film 25. It faces the upper surface 121 (light extraction surface d) of the optical substrate 120.
  • the low refractive index film 21 on the first light reflecting film 25
  • a part of the light rays (light rays I and the like) are totally reflected by the low refractive index film 21, so that the translucent substrate 120. Since it can be directed to the upper surface 121 (light extraction surface d) side, an improvement in reflectance and, in turn, an improvement in light extraction efficiency can be expected.
  • FIG. 17 shows an example in which the low refractive index film 21 is in contact with the translucent substrate 120 and the first light reflection film 25 is in contact with the translucent layer 110.
  • the arrangement with the low refractive index film 21 may be exchanged.
  • the light reflecting structure formed on the second interface 36 may be similar to the light reflecting structure 22 described above.
  • FIGS. 18A to 18E are cross-sectional views showing a method for manufacturing a light-emitting device according to this example.
  • FIGS. 18A to 18E only the configuration of the first region R11 is shown.
  • a translucent substrate 120 having a concavo-convex shape formed on the lower surface is prepared (FIG. 18A).
  • a low refractive index film 21 made of SiO 2 or the like having a refractive index lower than that of the light transmitting substrate 120 is formed on the lower surface of the light transmitting substrate 120 by sputtering or the like. Thereafter, the low refractive index film 21 is partially removed by a lift-off method, an etching method, or the like, and the low refractive index film 21 is patterned (FIG. 18B).
  • the first light reflection film 25 and the second light reflection film 26 made of a metal having high reflectivity such as Ag or Al are formed on the lower surface of the translucent substrate 120 by an oblique deposition method or the like.
  • the first light reflecting film 25 is laminated on the low refractive index film 21 to form, for example, the light reflecting structure 22 along the second inclined surface 35b (FIG. 18C).
  • the second light reflecting film 26 is laminated on the low refractive index film 21 to form a light reflecting structure along the fourth inclined surface 36b, for example.
  • a UV curable resin having a refractive index higher than the refractive index of the translucent substrate 120 and the same refractive index as that of the first electrode 40 and the organic functional layer 50 is applied to the lower surface of the translucent substrate 120.
  • the UV curable resin is irradiated with ultraviolet rays to be cured.
  • the light-transmitting layer 110 in contact with the concave-convex shape of the light-transmitting substrate 120 and the light reflecting structure (including the light reflecting structure 22) is formed on the lower surface of the light transmitting substrate 120 (FIG. 18D).
  • a transparent conductive film made of a metal oxide conductor such as ITO is formed on the lower surface of the light transmitting layer 110 by sputtering or the like, and is patterned by etching to form the first electrode 40.
  • a photosensitive resist (not shown) is applied so as to cover the first electrode 40.
  • a plurality of openings reaching the first electrode 40 are formed in the photosensitive resist through exposure and development processes.
  • the partition part which separates an organic functional layer for every luminescent color is formed.
  • an organic material is applied to the inside of each of the plurality of openings by an inkjet method.
  • the organic functional layer 50 configured by laminating the hole injection layer, the hole transport layer, the light emitting layer, and the electron transport layer on the first electrode 40 is formed.
  • an electrode material such as Al or Ag is deposited on the organic functional layer 50 in a desired pattern by vapor deposition or the like.
  • the electrode 60 is formed (FIG. 18E). It is good also as forming a sealing layer on the 2nd electrode 60 as needed.
  • FIG. 19 is a cross-sectional view showing a part of the light emitting device according to this example.
  • the light reflecting structure 22 a has a sandwich structure in which a pair of low refractive index films 21 having a refractive index smaller than that of the translucent substrate 120 holds the first light reflecting film 25.
  • the second light reflecting film 26 may be sandwiched between the pair of low refractive index films 21 in the same manner.
  • FIG. 20 is a cross-sectional view showing a part of the light emitting device according to this example.
  • the low refractive index layer of the light reflecting structure 24 includes a gap portion 23 provided between the translucent substrate 120 and the translucent layer 110. That is, the light reflecting structure 24 is constituted by the gap portion 23 and the first light reflecting film 25.
  • the gap 23 may be filled with air or other gas having a refractive index smaller than that of the translucent substrate 120, or may be a vacuum.
  • the gap 23 Since the refractive index of the gap 23 is smaller than the refractive index of the translucent substrate 120, the gap 23 has the same function as the low refractive index film 21. 20 illustrates the case where the gap portion 23 is in contact with the translucent substrate 120 and the first light reflecting film 25 is in contact with the light transmissive layer 110. However, the gap portion 23 and the first light reflection are illustrated. The arrangement with the film 25 may be exchanged. Although illustration is omitted, similarly, a gap 23 is formed between the second light reflecting film 26 and the light transmitting substrate 120 or the second light reflecting film 26 and the light transmitting layer 110 are formed. A gap 23 may be formed between them.
  • FIGS. 21A to 21E show only the configuration of the first region R11.
  • a translucent substrate 120 having a concavo-convex shape formed on the lower surface is prepared (FIG. 21A).
  • the first light reflection film 25 and the second light reflection film 26 made of a metal having high reflectivity such as Ag or Al are formed on the lower surface of the translucent substrate 120 by an oblique deposition method or the like, respectively ( FIG. 21 (b)).
  • the translucent layer 110 is made of an epoxy resin having a refractive index larger than that of the translucent substrate 120 and having the same refractive index as that of the first electrode 40 and the organic functional layer 50.
  • a concavo-convex shape that meshes with the concavo-convex shape on the lower surface of the translucent substrate 120 is formed on the upper surface of the light-transmitting layer 110. Further, a fine protrusion 32 is formed on the upper surface of the light transmitting layer 110 (FIG. 21C).
  • the concave and convex shape on the lower surface of the translucent substrate 120 and the concave and convex shape on the upper surface of the translucent layer 110 are brought into contact with each other using the minute protrusion 32 as a spacer.
  • the microprotrusions 32 are in contact with the first light reflecting film 25 and the second light reflecting film 26, respectively, and a gap 23 is formed between the first light reflecting film 25 and the upper surface of the light transmitting layer 110, and the second A gap 23 is formed between the light reflecting film 26 and the upper surface of the light transmitting layer 110.
  • the first light reflecting film 25 and the second light reflecting film 26 may be formed on the upper surface of the light transmitting layer 110, or on both the upper surface of the light transmitting layer 110 and the lower surface of the light transmitting substrate 120. It may be formed. Further, the fine protrusions 32 that function as spacers may be provided on the lower surface of the light-transmitting substrate 120, or may be provided on both the upper surface of the light-transmitting layer 110 and the lower surface of the light-transmitting substrate 120. Good. Alternatively, a structure separate from the light-transmitting layer 110 and the light-transmitting substrate 120 may be disposed between the upper surface of the light-transmitting layer 110 and the lower surface of the light-transmitting substrate 120 and function as a spacer. good.
  • Example 10 22A to 22D are cross-sectional views illustrating the method for manufacturing the light-emitting device according to Example 10.
  • Example 10 an example in which the light reflecting structure 24 including the first light reflecting film 25 and the gap 23 is changed and a manufacturing method thereof will be described.
  • a translucent substrate 120 having a concavo-convex shape formed on the lower surface is prepared (FIG. 22A).
  • a light-transmitting layer 110 is prepared in the same manner as in Example 9 above. However, in the present embodiment, the microprojections 32 are not formed on the light transmitting layer 110.
  • the first light reflecting film 25 and the second light reflecting film 26 made of a metal having a high reflectance such as Ag or Al are selectively formed on the upper surface of the light transmitting layer 110 by an oblique deposition method or the like. (FIG. 22B).
  • a buckling structure (to the first light reflecting film 25 and the second light reflecting film 26 ( A swell).
  • the first light reflection film 25 and the second light reflection film 26 are formed in a shape that undulates vertically in a sectional view.
  • the buckling structure is formed in the first light reflecting film 25 and the second light reflecting film 26 by lowering the temperature to room temperature. (FIG. 22C).
  • a light reflection structure including the second light reflection film 26 and the gap portion 23 generated with the buckling structure of the second light reflection film 26 is formed (FIG. 22 ( d)).
  • the light-emitting device has the light reflecting structure 24 including the first light reflecting film 25 and the gap portion 23 generated along with the buckling structure of the first light reflecting film 25.
  • it has a light reflection structure including the second light reflection film 26 and a gap portion 23 generated with the buckling structure of the second light reflection film 26. According to the present embodiment, the same effect as that of the ninth embodiment can be obtained.
  • FIG. 23 is a cross-sectional view of the light emitting device according to this example.
  • the light emitting device according to this example has a light-transmitting protective film 130 in addition to the configuration of the above embodiment.
  • the protective film 130 covers the upper surface of the translucent substrate 120.
  • the protective film 130 may be made of an inorganic material such as a silicon oxide film, or may be made of the same material as the first electrode 40.
  • the protective film 130 is formed using, for example, a vapor deposition method such as a CVD method or a sputtering method.
  • the upper surface of the protective film 130 constitutes the light extraction surface d.
  • the same effect as in the embodiment can be obtained. Further, since the light-transmitting substrate 120 is protected by the protective film 130, durability of the light-emitting device can be improved.
  • FIG. 24 is a cross-sectional view of the light emitting device according to this example.
  • a translucent protective member for example, protective glass
  • the protection member 140 is supported on the base member 80 via the support member 84, for example.
  • the light emitting device having the structure described in the above embodiment is fixed.
  • the space surrounded by the base member 80, the protection member 140, and the support member 84 is sealed.
  • a gas for example, air or inert gas
  • the upper surface of the protection member 140 constitutes the light extraction surface d.
  • the same effect as in the above embodiment can be obtained. Moreover, since the translucent substrate 120 is protected by the protective member 140, the durability of the light emitting device can be improved.
  • FIG. 25 is a cross-sectional view of the light emitting device according to this example.
  • the base member 80 can be a sealing body (sealing layer), for example.
  • a conductor 191 for electrically connecting the second electrode 60 to the outside is provided through the base member 80 at a portion covering the partition wall 71. Also in this embodiment, the same effect as that of Embodiment 12 can be obtained.
  • FIG. 26A is a perspective view of a main part of the light emitting device according to this embodiment
  • FIG. 26B is a cross-sectional view of the light emitting device according to this embodiment when viewed in the direction of arrow A in FIG. .
  • the light-emitting device includes the first light reflecting film 25 disposed along the first inclined surface 35a and the first light reflecting film 25 disposed along the second inclined surface 35b.
  • the first light reflecting film 25 is formed along each first inclined surface 35a in the left region, and each second inclined surface is formed in the right region.
  • a first light reflecting film 25 is formed along 35b.
  • the light emitting device includes the second light reflecting film 26 arranged along the third inclined surface 36a and the second light film arranged along the fourth inclined surface 36b. And a light reflection film 26.
  • the following effects can be obtained. That is, in each of the first interface 35 and the second interface 36, the direction of the light reflecting film (the first light reflecting film 25 and the second light reflecting film 26) can be set to two directions. Therefore, it can be expected that light of various angles can be extracted from the light emitting device to the outside.
  • FIG. 27 is a perspective view of a main part of the light emitting device according to this example.
  • 28A is a cross-sectional view of the light-emitting device according to the present embodiment as viewed in the direction of arrow A in FIG. 27, and
  • FIG. 28B is a cross-sectional view of the light-emitting device according to the present embodiment as viewed in the direction of arrow B in FIG. FIG.
  • the light emitting device includes the light transmitting substrate 120.
  • the light emitting device does not include the light transmitting substrate 120.
  • the upper surface of the light transmissive layer 110 (the surface opposite to the organic functional layer 50 in the light transmissive layer 110) is in contact with the light emission space 200 outside the light emitting device.
  • the light transmissive layer 110 includes a high refractive index layer (first electrode 40) having a refractive index equal to or higher than that of the light transmissive layer 110, and an air layer (light emission space 200). Arranged between.
  • the upper surface of the light transmitting layer 110 constitutes a light extraction surface d.
  • a light extraction film may be provided on the upper surface of the light transmissive layer 110, and the upper surface of the light extraction film may be used as the light extraction surface d.
  • the translucent layer 110 can be composed of high refractive index glass or the like.
  • a known surface processing technique such as cutting and polishing, laser processing, chemical etching, or thermal imprinting can be used.
  • the concavo-convex shape may be formed by attaching a plurality of triangular prism-shaped protrusions formed separately from the flat main body portion of the translucent layer 110 to the lower surface of the main body portion in parallel with each other.
  • the light-transmitting layer 110 may be formed of a high refractive index film, and in this case, the uneven shape can be easily formed on the light-transmitting layer 110.
  • FIG. 29 is a plan view of the light emitting device according to this example.
  • the direction in which the inclined surface extends is the direction in which the first inclined surface 35a and the second inclined surface 35b extend (the direction orthogonal to the first direction), the third inclined surface 36a, and the fourth inclined surface.
  • the direction (direction orthogonal to the 2nd direction) where 36b is extended was demonstrated.
  • the fifth inclined surface 37a and the sixth inclined surface 37b extend in a direction different by 45 degrees clockwise in plan view with respect to the direction in which the first inclined surface 35a and the second inclined surface 35b extend.
  • the fifth inclined surface 37a is inclined with respect to the organic functional layer 50
  • the sixth inclined surface 37b is inclined with respect to the organic functional layer 50 in a direction opposite to the inclination direction of the fifth inclined surface 37a.
  • the plurality of fifth inclined surfaces 37a and the plurality of sixth inclined surfaces in the third region R13. 37b are alternately arranged, and a plurality of gable roof-shaped protrusions are formed.
  • the seventh inclined surface 38a and the eighth inclined surface 38b extend in directions different by 45 degrees counterclockwise in plan view with respect to the direction in which the first inclined surface 35a and the second inclined surface 35b extend. is doing.
  • the seventh inclined surface 38a is inclined with respect to the organic functional layer 50
  • the eighth inclined surface 38b is inclined with respect to the organic functional layer 50 in a direction opposite to the inclination direction of the seventh inclined surface 38a.
  • the plurality of seventh inclined surfaces 38a and the plurality of eighth inclined surfaces in the fourth region R14. 38b are alternately arranged to form a plurality of gable roof-shaped protrusions.
  • the upper surface of the translucent layer 110 has more inclined surfaces in the inclined direction than in the above embodiment, so that it can be expected that the light extraction efficiency is further improved.
  • FIG. 30 is a plan view of the light emitting device according to this example.
  • an example in which there are two types of directions in which the inclined surface of the light transmitting layer 110 extends has been described.
  • First to sixth inclined surfaces 35 a, 35 b, 36 a, 36 b, 37 a, and 37 b are formed on the upper surface of the light transmitting layer 110.
  • the third inclined surface 36a and the fourth inclined surface 36b are different from each other in a direction different by 60 degrees clockwise in plan view with respect to the direction in which the first inclined surface 35a and the second inclined surface 35b extend. It is extended.
  • the fifth inclined surface 37a and the sixth inclined surface 37b extend in a direction different by 60 degrees counterclockwise in a plan view with respect to the direction in which the first inclined surface 35a and the second inclined surface 35b extend. ing.
  • the fifth inclined surface 37a is inclined with respect to the organic functional layer 50
  • the sixth inclined surface 37b is inclined with respect to the organic functional layer 50 in a direction opposite to the inclination direction of the fifth inclined surface 37a.
  • the plurality of fifth inclined surfaces 37a and the plurality of sixth inclined surfaces in the third region R13. 37b are alternately arranged to form a plurality of gable roof-shaped ridges.
  • a third light reflecting film 27 similar to the first light reflecting film 25 is formed along each sixth inclined surface 37b.
  • the upper surface of the translucent layer 110 has more kinds of inclined surfaces in the inclined direction than the above embodiment, it can be expected that the light extraction efficiency is further improved.

Abstract

　発光装置は、発光層を含む有機機能層（５０）と有機機能層（５０）の光取り出し側に配置された透光層（１１０）を備える。透光層（１１０）は、有機機能層（５０）に対して傾斜した第１傾斜面（３５ａ）と、その反対方向に傾斜した第２傾斜面（３５ｂ）と、有機機能層（５０）に対して第１傾斜面（３５ａ）及び第２傾斜面（３５ｂ）の何れの傾斜方向とも異なる方向に傾斜した第３傾斜面（３６ａ）と、その反対方向に傾斜した第４傾斜面（３６ｂ）と、を有する。複数の第１傾斜面（３５ａ）と複数の第２傾斜面（３５ｂ）とのうちの少なくとも何れか１つの傾斜面に沿って第１光反射膜（２５）が形成され、複数の第３傾斜面（３６ａ）と複数の第４傾斜面（３６ｂ）とのうちの少なくとも何れか１つの傾斜面に沿って第２光反射膜（２６）が形成されている。

Description

発光装置
　本発明は、有機発光層を有する発光装置に関する。
　発光装置の１つに有機発光層を有する発光装置がある。この発光装置においては、有機発光層で発生した光のうち外部に放射される光の割合（光取り出し効率）を向上することが望まれている。
　光取り出し効率の向上を目的とした技術としては、特許文献１に記載のものがある。特許文献１に記載された面光源装置は、発光素子の出光面を構成する光取り出し用の基板と、基板の出光面側の面上に設けられた透明樹脂層と、透明樹脂層の出光面側の面上に設けられた高屈折率薄膜とを有する。透明樹脂層は、その出光面側の面に、角錐形状又はプリズム形状の凹凸構造を有する。そして、角錐形状又はプリズム形状の斜面と、出光面とがなす角は４０°超６５°未満である。そして、高屈折率薄膜は、凹凸構造に沿って設けられるとともに、各箇所での膜厚が平均膜厚±３０％以内であり、高屈折率薄膜の屈折率は、透明樹脂層の屈折率より１５～３０％高い。
　また、特許文献２には、発光層の側方に反射板を斜めに配置したことによって、全反射により発光層に閉じ込められる光を発光層の外部に取り出すための技術が記載されている。
　また、特許文献３の技術では、発光装置において光放出空間に面する部分を三角柱形状の２つの面により構成している。これら２つの面は、発光層に対して平行なｘ方向において交互に配置され、発光層に対して平行で且つｘ方向に対して直交するｙ方向に延在し、且つ、それぞれ発光層に対して傾斜している。これら２つの面のうち一方の面は光反射性となっている。
特開２００９－１４６６５４号公報 特表２００１－５０７５０３号公報 特表２０１１－５０７１６４号公報
　ガラス基板等の透光性基板上に透光性電極、発光層を含む有機機能層、金属電極を積層して構成される有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ　Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）発光装置において、光取り出し効率を低下させている要因としては、以下の３つが挙げられる。（１）透光性基板と透光性電極との屈折率差に起因して、これらの界面で全反射が起こり、発光層で生成された光が透光性基板に入射しない。（２）透光性基板と光放出空間（空気）との屈折率差に起因して、これらの界面で全反射が起こり、発光層で生成された光が外部に放出されない。（３）有機ＥＬ発光装置を構成する各層の光透過率に応じて各層を透過する光が減衰する。特に、光透過率の比較的低い透光性電極に対して斜め方向に入射する光は、光路長が長くなる故、減衰が顕著となる。
　図１は発光層の発光点から光が放射される方向を模式的に示す図である。発光層の発光点からは、全方向に（球状に）光が放射される。なお、図１では、図面を見やすくするために、発光点Ｐ１から半球状に光が放射される様子を示している。現在の一般的な発光装置においては、透光性電極に対して垂直な線を基準として２０度程度以内の角度の光（図１に示す円状の領域Ｒ１０１の光）しか発光装置から取り出せていない。しかし、透光性電極に対して垂直な線との角度が大きい領域（例えば図１に示す環状の領域Ｒ１０２）の方が、発光点Ｐ１から放射される光の総量が多い。なぜなら、図１に示す領域Ｒ１０１よりも領域Ｒ１０２の方が面積が大きいためである。このため、発光装置から取り出される光の角度について、透光性電極に対して垂直な線を基準として２０度程度以内であるところを例えば５度改善して２５度程度とするよりも、より角度が大きい光（例えば図１に示す領域Ｒ１０２の光）の取り出し効率を５度分改善する方が、光取り出し効率の改善効果が大きい。
　特許文献１の技術では、透光性基板と光放出空間（空気）との界面で生じる全反射を抑制して光取り出し効率の向上を図るものであり、上記（２）の要因を排除しようとするものと認められる。しかしながら、上記（２）の要因を排除したとしても、透光性電極と透光性基板との界面で生じる全反射を効率的に抑制しない限り（すなわち、上記（１）の要因を効率よく排除しない限り）光取り出し効率を飛躍的に高めることはできない。すなわち、上記した特許文献１に記載の構造でも、外部に取り出すことのできない光が多く存在し、更なる光取り出し効率の向上を図る必要があるものと考えられる。
　有機ＥＬ発光装置の発光層の厚みは非常に薄い。このため、特許文献２の技術では、発光層の面方向において短い間隔で発光層と反射板とを交互に配置しないと、光が発光層内で反射を繰り返すことにより減衰してしまう。このため、発光装置の面積に比して発光層を配置できる面積が小さくなることから、発光装置全体での発光効率が悪い。
　特許文献３の技術では、ｙ方向の方向成分を持つ臨界角以上の角度の光のうちｘ方向の方向成分を持たない光は上記２つの面にて全反射し光放出空間に取り出されないため、光取り出し効率に改善の余地がある。
　本発明が解決しようとする課題としては、発光装置の光取り出し効率を向上することが一例として挙げられる。
　請求項１に記載の発明は、発光層を含む有機機能層と、
　前記有機機能層を基準として光取り出し側に配置された透光層と、
　を備え、
　前記透光層は、
　前記有機機能層に対して傾斜している第１傾斜面と、
　前記有機機能層に対して前記第１傾斜面の傾斜方向とは反対方向に傾斜している第２傾斜面と、
　前記有機機能層に対して前記第１傾斜面及び前記第２傾斜面の何れの傾斜方向とも異なる方向に傾斜している第３傾斜面と、
　前記有機機能層に対して前記第３傾斜面の傾斜方向とは反対方向に傾斜している第４傾斜面と、
　を有し、
　前記有機機能層と平行な第１方向において前記第１傾斜面と前記第２傾斜面とが交互に位置するように、複数の前記第１傾斜面と複数の前記第２傾斜面とが前記第１方向において並んで配置され、
　前記有機機能層と平行で且つ前記第１方向に対して交差する第２方向において前記第３傾斜面と前記第４傾斜面とが交互に位置するように、複数の前記第３傾斜面と複数の前記第４傾斜面とが前記第２方向において並んで配置され、
　前記複数の第１傾斜面と前記複数の第２傾斜面とのうちの少なくとも何れか１つの傾斜面に沿って第１光反射膜が形成され、
　前記複数の第３傾斜面と前記複数の第４傾斜面とのうちの少なくとも何れか１つの傾斜面に沿って第２光反射膜が形成されている発光装置である。
　上述した目的、およびその他の目的、特徴および利点は、以下に述べる好適な実施の形態、およびそれに付随する以下の図面によってさらに明らかになる。
発光層の発光点から光が放射される方向を模式的に示す図である。 実施形態に係る発光装置の斜視図である。 図３（ａ）は実施形態に係る発光装置の一部分を図２の矢印Ａ方向に見た側断面図、図３（ｂ）は実施形態に係る発光装置の一部分を図２の矢印Ｂ方向に見た側断面図である。 実施形態に係る発光装置の平面図である。 図５（ａ）は透光性基板の斜視図、図５（ｂ）は透光層の斜視図である。 図６（ａ）～図６（ｃ）は、実施形態に係る発光装置において、有機機能層で生成された光が外部に放出されるまでの経路を例示した断面図である。 図７（ａ）～図７（ｃ）は、実施形態に係る発光装置において、有機機能層で生成された光が外部に放出されるまでの経路を例示した断面図である。 図８（ａ）～図８（ｃ）は、比較例に係る発光装置において、有機機能層で生成された光が外部に放出されるまでの経路を例示した断面図である。 図９（ａ）～図９（ｃ）は、比較例に係る発光装置において、有機機能層で生成された光が外部に放出されるまでの経路を例示した断面図である。 有機機能層の層構造の第１例を示す断面図である。 有機機能層の層構造の第２例を示す断面図である。 図１２（ａ）は実施例１に係る発光装置の平面図であり、図１２（ｂ）は図１２（ａ）におけるＣ－Ｃ線に沿った断面図である。 図１３（ａ）および図１３（ｂ）は実施例２に係る発光装置の断面図である。 図１４（ａ）は実施例３に係る発光装置の一部分を示す断面図、図１４（ｂ）は実施例４に係る発光装置の一部分を示す断面図である。 図１５（ａ）は実施例５に係る発光装置の一部分を示す断面図、図１５（ｂ）は実施例５における透光層の一部分を示す平面図、図１５（ｃ）は実施例５における透光層の一部分を示す斜視図である。 実施例６に係る発光装置の一部分を示す断面図である。 実施例７に係る発光装置の一部分を示す断面図である。 図１８（ａ）～図１８（ｅ）は実施例７に係る発光装置の製造方法を示す断面図である。 実施例８に係る発光装置の一部分を示す断面図である。 実施例９に係る発光装置の一部分を示す断面図である。 図２１（ａ）～図２１（ｄ）は、実施例９に係る発光装置の製造方法を示す断面図である。 図２２（ａ）～図２２（ｄ）は、実施例１０に係る発光装置の製造方法を示す断面図である。 実施例１１に係る発光装置の断面図である。 実施例１２に係る発光装置の断面図である。 実施例１３に係る発光装置の断面図である。 図２６（ａ）は実施例１４に係る発光装置の要部の斜視図、図２６（ｂ）は実施例１４に係る発光装置を図２６（ａ）の矢印Ａ方向に見た断面図である。 実施例１５に係る発光装置の斜視図である。 図２８（ａ）は実施例１５に係る発光装置の一部分を図２７の矢印Ａ方向から見た側断面図、図２８（ｂ）は実施例１５に係る発光装置の一部分を図２７の矢印Ｂ方向から見た側断面図である。 実施例１６に係る発光装置の平面図である。 実施例１７に係る発光装置の平面図である。
　以下、実施の形態について、図面を用いて説明する。尚、すべての図面において、同様の構成要素には同一の符号を付し、適宜説明を省略する。
　（実施形態）
　本実施形態に係る発光装置は、有機ＥＬ素子を含んで構成される。この発光装置は、例えばディスプレイ、照明装置、又は光通信装置等の光源として用いることができる。
　図２は実施形態に係る発光装置の斜視図である。図３（ａ）は実施形態に係る発光装置の一部分（領域Ｒ１１）を図２の矢印Ａ方向に見た断面図、図３（ｂ）は実施形態に係る発光装置の一部分（領域Ｒ１２）を図２の矢印Ｂ方向に見た断面図である。図４は実施形態に係る発光装置の平面図である。なお、図４においては透光性基板１２０の図示を省略している。
　本実施形態に係る発光装置は、発光層を含む有機機能層５０と、有機機能層５０を基準として光取り出し側に配置された透光層１１０と、を備える。ここで、光取り出し側とは、発光装置から外部に光を出射する側である。すなわち、有機機能層５０を基準として、光取り出し面ｄが配置されている側が、光取り出し側である。透光層１１０は、有機機能層５０に対して傾斜している第１傾斜面３５ａと、有機機能層５０に対して第１傾斜面３５ａの傾斜方向とは反対方向に傾斜している第２傾斜面３５ｂと、有機機能層５０に対して第１傾斜面３５ａ及び第２傾斜面３５ｂの何れの傾斜方向とも異なる方向に傾斜している第３傾斜面３６ａと、有機機能層５０に対して第３傾斜面３６ａの傾斜方向とは反対方向に傾斜している第４傾斜面３６ｂと、を有する。有機機能層５０と平行な第１方向（矢印Ｂ方向）において第１傾斜面３５ａと第２傾斜面３５ｂとが交互に位置するように、複数の第１傾斜面３５ａと複数の第２傾斜面３５ｂとが第１方向において並んで配置されている。有機機能層５０と平行で且つ第１方向に対して交差する第２方向（矢印Ａ方向）において第３傾斜面３６ａと第４傾斜面３６ｂとが交互に位置するように、複数の第３傾斜面３６ａと複数の第４傾斜面３６ｂとが第２方向において並んで配置されている。複数の第１傾斜面３５ａと複数の第２傾斜面３５ｂとのうちの少なくとも何れか１つの傾斜面に沿って第１光反射膜２５が形成されている。複数の第３傾斜面３６ａと複数の第４傾斜面３６ｂとのうちの少なくとも何れか１つの傾斜面に沿って第２光反射膜２６が形成されている。ここで、有機機能層５０に対して傾斜しているとは、有機機能層５０が延在する面に対して傾斜していることを意味し、例えば、有機機能層５０の上面に対して傾斜していることを意味する。
　なお、互いに隣り合う第１傾斜面３５ａと第２傾斜面３５ｂとのうち少なくとも何れか一方は、光反射膜が形成されておらず、光透過面となっている。同様に、互いに隣り合う第３傾斜面３６ａと第４傾斜面３６ｂとのうち少なくとも何れか一方は、光反射膜が形成されておらず、光透過面となっている。
　以下においては、説明を簡単にするため、発光装置の各構成要素の位置関係（上下関係等）が各図に示す関係であるものとして説明を行う。ただし、この説明における位置関係は、発光装置の使用時の位置関係とは無関係である。
　図２及び図４に示すように、発光装置は、第１傾斜面３５ａと第２傾斜面３５ｂとが交互に配置された領域（以下、第１領域Ｒ１１）と、第３傾斜面３６ａと第４傾斜面３６ｂとが交互に配置された領域（以下、第２領域Ｒ１２）と、を平面視において互いに異なる配置で有する。第１領域Ｒ１１および第２領域Ｒ１２の平面形状は任意である。図２及び図４では、第１領域Ｒ１１および第２領域Ｒ１２の平面形状がそれぞれ正方形である例を示している。
　例えば、第１傾斜面３５ａ、第２傾斜面３５ｂ、第３傾斜面３６ａおよび第４傾斜面３６ｂは同一平面に沿って配置されている。
　より具体的には、第１乃至第４傾斜面３５ａ、３５ｂ、３６ａ、３６ｂは、例えば、有機機能層５０に対して平行な一の平面に沿って配置されている。すなわち、有機機能層５０から各第１傾斜面３５ａまでの距離と、有機機能層５０から各第２傾斜面３５ｂまでの距離と、有機機能層５０から各第３傾斜面３６ａまでの距離と、有機機能層５０から各第４傾斜面３６ｂまでの距離とは、互いに等しい。
　本実施形態の場合、発光装置は、透光層１１０の上面（透光層１１０の有機機能層５０側とは反対側の面）に接する透光性基板１２０を更に有している。そして、透光層１１０の上面（透光層１１０において透光性基板１２０に接する面）が第１傾斜面３５ａ、第２傾斜面３５ｂ、第３傾斜面３６ａおよび第４傾斜面３６ｂを含んでいる。換言すれば、透光層１１０と透光性基板１２０との界面が、第１乃至第４傾斜面３５ａ、３５ｂ、３６ａ、３６ｂを含む。なお、以下では、第１領域Ｒ１１における透光層１１０と透光性基板１２０との界面を第１界面３５と称し、第２領域Ｒ１２における透光層１１０と透光性基板１２０との界面を第２界面３６と称する。
　透光性基板１２０は、例えば、ガラス又は樹脂などの透光性の材料により構成されている。透光性基板１２０がガラスにより構成される場合、透光性基板１２０の屈折率は、例えば、１．５程度である。透光性基板１２０は、透光性のフィルムであっても良い。透光性基板１２０の屈折率は、透光層１１０の屈折率よりも小さい。
　本実施形態の場合、透光性基板１２０の上面（透光性基板１２０において有機機能層５０とは反対側の面）は、発光装置の外部の光放出空間２００に接している。換言すれば、本実施形態の場合、透光層１１０は、透光層１１０と同等以上の屈折率を有する高屈折率層（第１電極４０）と、透光層１１０よりも屈折率が小さい低屈折率層（透光性基板１２０）との間に配置されている。そして、透光性基板１２０の上面は、発光装置から光放出空間２００に光を放出する光取り出し面ｄを構成している。光放出空間２００は、空気層であり、屈折率が１である。換言すれば、透光性基板１２０の上面は、気体からなる層に接している。なお、透光性基板１２０の上面には、光取り出しフィルムが貼り付けられており、この光取り出しフィルムの上面が、光取り出し面ｄを構成していても良い。
　発光装置は、更に、有機機能層５０と透光層１１０との間に配置された第１電極（透光性電極）４０と、有機機能層５０を挟んで第１電極４０と対向する第２電極６０と、を有する。すなわち、有機機能層５０の一方の面側に第１電極４０が配置され、有機機能層５０の他方の面側に第２電極６０が配置されている。
　第１電極４０は、例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｔｉｎ　Ｏｘｉｄｅ）やＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｚｉｎｃ　Ｏｘｉｄｅ）などの金属酸化物導電体からなる透明電極とすることができる。ただし、第１電極４０は、光が透過する程度に薄い金属薄膜であっても良い。
　第２電極６０は、例えば、ＡｌやＡｇなどの金属膜からなる反射電極である。第２電極６０は、有機機能層５０から第２電極６０側に向かう光を、光取り出し面ｄ側に向けて反射する。
　第１電極４０と第２電極６０との間に電圧が印加されることにより、有機機能層５０の発光層が発光する。透光層１１０、透光性基板１２０、第１電極４０、及び、有機機能層５０は、いずれも、有機機能層５０の発光層が発光した光の少なくとも一部を透過する。発光層が発光した光の一部は、透光性基板１２０の光取り出し面ｄから、発光装置の外部（つまり上記光放出空間２００）に放射される（取り出される）。
　図５（ａ）は透光性基板１２０の斜視図、図５（ｂ）は透光層１１０の斜視図である。
　透光性基板１２０の下面１２２は、透光層１１０の上面１１１の凹凸形状と噛み合う凹凸形状に形成されている。第１領域Ｒ１１における下面１２２と上面１１１との界面が第１界面３５であり、第２領域Ｒ１２における下面１２２と上面１１１との界面が第２界面３６である。
　透光性基板１２０の上面１２１は平坦に形成されている。ただし、上面１２１のある程度の表面粗さは許容される。
　同様に、透光層１１０の下面１１２は平坦に形成されている。ただし、下面１１２のある程度の表面粗さは許容される。下面１１２および上面１２１は有機機能層５０に対して平行に配置されている。
　透光層１１０の上面１１１において、第１界面３５を形成する部分は、第１傾斜面３５ａと第２傾斜面３５ｂとを有する凹凸形状に形成されている。透光層１１０の上面に、互いに並列な複数のＶ溝を形成することによって、複数の第１傾斜面３５ａ及び複数の第２傾斜面３５ｂを形成することができる。例えば、有機機能層５０と平行な第１方向（矢印Ｂ方向）に沿って、第１傾斜面３５ａと第２傾斜面３５ｂとが交互に隙間無く並んで配置されている。このため、互いに隣り合って配置された第１傾斜面３５ａ及び第２傾斜面３５ｂにより、透光性基板１２０側に向けて突出する切妻屋根状の突条が形成されている。
　同様に、透光層１１０の上面１１１において、第２界面３６を形成する部分は、第３傾斜面３６ａと第４傾斜面３６ｂとを有する凹凸形状に形成されている。透光層１１０の上面に、互いに並列な複数のＶ溝を形成することによって、複数の第３傾斜面３６ａ及び複数の第４傾斜面３６ｂを形成することができる。例えば、有機機能層５０と平行な第２方向（矢印Ａ方向）に沿って、第３傾斜面３６ａと第４傾斜面３６ｂとが交互に隙間無く並んで配置されている。このため、互いに隣り合って配置された第３傾斜面３６ａ及び第４傾斜面３６ｂにより、透光性基板１２０側に向けて突出する切妻屋根状の突条が形成されている。
　透光性基板１２０の下面１２２において、第１界面３５を形成する部分は、第１傾斜面３５ａおよび第２傾斜面３５ｂと噛み合う凹凸形状（以下、第１凹凸形状という）に形成されている。例えば、透光性基板１２０の下面１２２に、互いに並列な複数のＶ溝を形成することによって、第１凹凸形状を形成することができる。第１凹凸形状は、切削研磨、レーザー加工、化学的エッチング、熱インプリントなどの公知の表面加工技術を用いて透光性基板１２０の表面を加工することにより形成することができる。ただし、透光性基板１２０の平坦な本体部とは別に形成した三角柱形状の複数の突条を互いに並列にその本体部の下面に取り付けることによって、第１凹凸形状を形成しても良い。
　同様に、透光性基板１２０の下面１２２において、第２界面３６を形成する部分は、第３傾斜面３６ａおよび第４傾斜面３６ｂと噛み合う凹凸形状（以下、第２凹凸形状という）に形成されている。この第２凹凸形状の形成の仕方は、第１凹凸形状の形成の仕方と同様である。
　第１傾斜面３５ａ及び第２傾斜面３５ｂが並ぶ方向である第１方向と、第３傾斜面３６ａ及び第４傾斜面３６ｂが並ぶ方向である第２方向とは、例えば、互いに直交している。ただし、第１方向と第２方向とは、互いに交差していれば良く、第１方向と第２方向とのなす角度は９０度以外であっても良い。
　より具体的には、例えば、第１傾斜面３５ａは、有機機能層５０に対して平行な長方形状の面を、有機機能層５０に対して平行な第１回転軸を中心に第１回転方向に第１角度だけ回転させた面である。また、この第１傾斜面３５ａの隣に位置する第２傾斜面３５ｂは、有機機能層５０に対して平行な長方形状の面を、上記第１回転軸を中心に第１回転方向とは反対方向の第２回転方向に第２角度だけ回転させた面である。第１回転軸は、例えば、第１方向に対して直交している。また、有機機能層５０に対する各第１傾斜面３５ａの傾斜角度（第１角度）は、例えば、互いに等しい。同様に、有機機能層５０に対する各第２傾斜面３５ｂの傾斜角度（第２角度）は、例えば、互いに等しい。第１角度と第２角度の大きさは、例えば、互いに等しい。ただし、第１角度と第２角度との大きさは、互いに異なっていても良い。
　同様に、例えば、第３傾斜面３６ａは、有機機能層５０に対して平行な長方形状の面を、有機機能層５０に対して平行で且つ第１回転軸とは異なる方向（例えば第１回転軸に対して直交する方向）に延在する第２回転軸を中心に第３回転方向に第３角度だけ回転させた面である。また、この第３傾斜面３６ａの隣に位置する第４傾斜面３６ｂは、有機機能層５０に対して平行な長方形状の面を、上記第２回転軸を中心に第３回転方向とは反対方向の第４回転方向に第４角度だけ回転させた面である。第２回転軸は、例えば、第２方向に対して直交している。また、有機機能層５０に対する各第３傾斜面３６ａの傾斜角度（第３角度）は、例えば、互いに等しい。同様に、有機機能層５０に対する各第４傾斜面３６ｂの傾斜角度（第４角度）は、例えば、互いに等しい。第３角度と第４角度の大きさは、例えば、互いに等しい。ただし、第３角度と第４角度との大きさは、互いに異なっていても良い。さらには、第１～第４角度の大きさは、互いに等しくても良いし、互いに異なっていても良い。
　第１傾斜面３５ａと第２傾斜面３５ｂとは、例えば互いに同じ形状及びサイズに形成されている。同様に、第３傾斜面３６ａと第４傾斜面３６ｂとは、例えば互いに同じ形状及びサイズに形成されている。例えば、第１乃至第４傾斜面３５ａ、３５ｂ、３６ａ、３６ｂは互いに同じ形状及びサイズに形成されている。第１乃至第４傾斜面３５ａ、３５ｂ、３６ａ、３６ｂの短手方向の寸法（上記長方形状の短手寸法）は、有機機能層５０において生成される光の波長よりも十分に大きいことが好ましい。
　例えば、互いに隣り合う第１傾斜面３５ａと第２傾斜面３５ｂとのうち何れか一方に沿って第１光反射膜２５が形成されている。例えば、複数の第２傾斜面３５ｂの各々に沿って第１光反射膜２５が形成されている。同様に、互いに隣り合う第３傾斜面３６ａと第４傾斜面３６ｂとのうち何れか一方に沿って第２光反射膜２６が形成されている。例えば、複数の第４傾斜面３６ｂの各々に沿って第２光反射膜２６が形成されている。
　例えば、第１光反射膜２５は、第２傾斜面３５ｂの全面に沿って形成され、第２光反射膜２６は、第４傾斜面３６ｂの全面に沿って形成されている。ただし、後述する実施例のように、第１光反射膜２５、第２光反射膜２６は、第２傾斜面３５ｂ、第４傾斜面３６ｂのそれぞれ一部分に沿って形成されていても良い。
　第１光反射膜２５及び第２光反射膜２６は、高反射率を有する材料、例えばＡｇやＡｌなどの金属により構成される。第１光反射膜２５は、例えば、透光性基板１２０の下面において、第１傾斜面３５ａと第２傾斜面３５ｂとのうち一方（例えば第２傾斜面３５ｂ）と対向する面に対して金属膜を選択的に斜め蒸着し成膜することによって形成されている（図５（ａ）参照）。同様に、第２光反射膜２６は、例えば、透光性基板１２０の下面において、第３傾斜面３６ａと第４傾斜面３６ｂとのうち一方（例えば第４傾斜面３６ｂ）と対向する面に対して金属膜を選択的に斜め蒸着し成膜することによって形成されている。
　透光層１１０の屈折率は、透光性基板１２０の屈折率よりも大きい。これにより、第１電極４０側から透光層１１０側への光の取り出しが容易となる。透光層１１０の屈折率は、例えば、第１電極４０の屈折率と同程度である。透光層１１０は、例えば、誘電体材料により構成されている。透光層１１０は、例えば屈折率１．８程度のエポキシ樹脂と有機材料への影響を抑制するバリア膜とにより構成される。あるいは、透光層１１０は、ＢａＴｉＯ３を用いたナノパーティクルを含有する高屈折率材料や高屈折率ナノコンポジット薄膜などによって構成しても良い。ただし、透光層１１０は、有機機能層５０と同じ材料により構成されていても良い。
　透光層１１０の屈折率は、例えば、第１電極４０の屈折率以上であり、且つ、２．３以下である。
　透光層１１０は、例えば、透光性基板１２０の下面に有機材料を塗布し、これを硬化させることにより構成されている。これにより、透光層１１０の上面１１１は、透光性基板１２０の下面の凹凸形状を反映した形状となる。ただし、透光層１１０は、透光性基板１２０とは別個に形成した後に、透光性基板１２０に対して貼り付けられても良い。
　第１電極４０は、例えば、透光層１１０の下面１１２に対してＩＴＯやＩＺＯなどの金属酸化物導電体をスパッタリングすることにより構成されている。更に、第１電極４０の下面には、例えば隔壁部が形成されている。
　有機機能層５０は、隔壁部間に発光層を含む有機材料を蒸着又は塗布することによって構成されている。第２電極６０は、有機機能層５０の下面に金属材料を蒸着することにより構成されている。
　なお、透光層１１０における透光性基板１２０側とは反対側の面（下面）と第１電極４０の一方の面（上面）とが相互に接している。また、第１電極４０の他方の面（下面）と有機機能層５０の一方の面（上面）とが相互に接している。また、有機機能層５０の他方の面（下面）と第２電極６０の一方の面（上面）とが相互に接している。ただし、透光層１１０と第１電極４０との間には他の層が存在していても良い。同様に、第１電極４０と有機機能層５０との間には他の層が存在していても良い。同様に、有機機能層５０と第２電極６０との間には他の層が存在していても良い。
　例えば、図４に示すように、複数の第１領域Ｒ１１（第１傾斜面３５ａおよび第２傾斜面３５ｂが配置された領域）と複数の第２領域Ｒ１２（第３傾斜面３６ａおよび第４傾斜面３６ｂが配置された領域）とが平面視において交互に隣接して配置されている。具体的には、例えば、複数の第１領域Ｒ１１と複数の第２領域Ｒ１２とが千鳥状に互いに隣接して配置されている。
　なお、透光性基板１２０において、各第１領域Ｒ１１に配置される部分と、各第２領域Ｒ１２に配置される部分と、を個別のブロックとして形成し、それらを同一平面上に並べて配置しても良い。同様に、透光層１１０についても、各第１領域Ｒ１１に配置される部分と、各第２領域Ｒ１２に配置される部分と、を個別のブロックとして形成し、それらを同一平面上に並べて配置しても良い。ただし、透光性基板１２０および透光層１１０は、それぞれ全体を一体形成しても良い。
　図６（ａ）～（ｃ）及び図７（ａ）～（ｃ）は、本実施形態に係る発光装置において、有機機能層５０で生成された光が外部に放出されるまでの経路のいくつかを例示した断面図である。図６（ａ）～（ｃ）及び図７（ａ）～（ｃ）において、領域Ｒ１が低屈折率側（透光性基板１２０）であり、領域Ｒ２が高屈折率側（透光層１１０）である。図６（ａ）～（ｃ）及び図７（ａ）～（ｃ）は、第１領域Ｒ１１の第１界面３５の機能を説明するためのものである。
　ここで、透光層１１０、第１電極４０及び有機機能層５０は、例えば、互いに同程度の屈折率を有するため、互いの界面において屈折や反射が生じない。また、透光性基板１２０における第１界面３５の凹凸構造は周期的である。更に、透光層１１０及び透光性基板１２０の厚みはそれぞれ例えば１０μｍ程度であるのに対して、第１電極４０及び有機機能層５０の厚みはそれぞれ例えば１００ｎｍ程度であることから、透光層１１０及び透光性基板１２０の厚みに比して第１電極４０及び有機機能層５０の厚みは無視しうる。これらのことから、第２電極６０及び発光点が、透光性基板１２０における発光層側の突条の各頂部に接する平面ｃ上の位置に存在するものとみなしても実質的に問題はない。よって、第２電極６０及び発光点が平面ｃ上に位置しているものとして、以下、図６（ａ）～（ｃ）及び図７（ａ）～（ｃ）の説明を行う。
　図６（ａ）に示すように、光線Ａは、第１光反射膜２５を有する面ａ１（第２傾斜面３５ｂ）の法線ｎ１に対して角度θ１で、透光層１１０（領域Ｒ２）側から面ａ１に達する。この光線Ａは、面ａ１にて反射した後、面ａ１に隣接する面ｂ１（第１傾斜面３５ａ）の法線ｎ２に対して角度θ２にて、面ｂ１に達する。角度θ２が臨界角未満の場合、光線Ａは、面ｂ１にて屈折して角度θ３で透光性基板１２０に入射し、隣接する面ａ２（第２傾斜面３５ｂ）にて面ｂ１側の方向成分をもって反射し、透光性基板１２０の上面１２１（光取り出し面ｄ）へ向かう。
　図６（ｂ）に示すように、光線Ｂの角度θ１は、光線Ａの角度θ１よりも大きい。光線Ｂは、光線Ａと同様に、面ａ１にて反射した後に面ｂ１にて屈折して透光層１１０（領域Ｒ２）から透光性基板１２０（領域Ｒ１）に入射する。ただし、面ａ２にて面ｂ１とは反対側の第１傾斜面３５ａである面ｂ２側の方向成分をもって反射し、透光性基板１２０の上面１２１（光取り出し面ｄ）へ向かう。
　図６（ｃ）に示すように、光線Ｃは殆ど面ａ１に対して平行な光である。光線Ｃは、面ｂ１にて屈折して透光層１１０（領域Ｒ２）から透光性基板１２０（領域Ｒ１）へ入射し、透光性基板１２０の上面１２１（光取り出し面ｄ）へ向かう。
　図７（ａ）に示すように、面ａ１で反射して元に戻る光線Ｄは、第２電極６０の上面である平面ｃにて反射し、面ｂ１へ向かう。光線Ｄは、面ｂ１に対して垂直に入射するので、そのまま透光層１１０（領域Ｒ２）から透光性基板１２０（領域Ｒ１）へ入射して、透光性基板１２０の上面１２１（光取り出し面ｄ）へ向かう。
　図７（ｂ）に示すように、光線Ｅは光線Ａの角度θ１とは極性が異なる光線であり、法線ｎ１の左側から面ａ１に向かう。光線Ｅは、面ａ１で反射し、第２電極６０の上面である平面ｃにて反射した後、再度、面ａ１で反射する。その後、光線Ｅは面ｂ１から透光性基板１２０（領域Ｒ１）へ入射した後、面ａ２にて反射し、透光性基板１２０の上面１２１（光取り出し面ｄ）へ向かう。
　図７（ｃ）に示すように、光線Ｆは面ｂ１に対して全反射角以上の角度で入射する光である。面ｂ１で全反射した光線Ｆは、面ａ１で反射した後、第２電極６０の上面である平面ｃにて反射した後、再度、面ｂ１に達する。光線Ｆは、更に面ｂ１から透光性基板１２０（領域Ｒ１）へ入射した後、透光性基板１２０の上面１２１（光取り出し面ｄ）へ向かう。
　こうして、様々な向きで第１界面３５に到達する光線を、第１界面３５の第１傾斜面３５ａ、第２傾斜面３５ｂ及び第１光反射膜２５の働きにより、透光性基板１２０の上面１２１（光取り出し面ｄ）側に向かわせることができる。
　また、第２領域Ｒ１２の第２界面３６には、第１傾斜面３５ａ及び第２傾斜面３５ｂとは異なる向きに傾斜した第３傾斜面３６ａ及び第４傾斜面３６ｂが形成され、各第４傾斜面３６ｂには第２光反射膜２６が形成されている。このため、第１界面３５の第１傾斜面３５ａ、第２傾斜面３５ｂ及び第１光反射膜２５の働きによっては十分に上向きに変更できないような光についても、第２界面３６の第３傾斜面３６ａ、第４傾斜面３６ｂ及び第２光反射膜２６の働きによって十分に上向きに変更し、発光装置から外部に取り出せるようにすることができる。
　すなわち、第２傾斜面３５ｂの第１光反射膜２５や屈折率の異なる界面を有する第１傾斜面３５ａと、反射電極である第２電極６０と、の間で反射を繰り返す動作パターンとなるような角度の光線についても、第２界面３６の第３傾斜面３６ａ、第４傾斜面３６ｂ及び第２光反射膜２６の働きによって、反射の繰り返しの動作パターンから抜け出せるようにし、空気層へ取り出すことができる。同様に、第４傾斜面３６ｂの第２光反射膜２６や屈折率の異なる界面を有する第３傾斜面３６ａと、反射電極である第２電極６０と、の間で反射を繰り返す動作パターンとなるような角度の光線についても、第１界面３５の第１傾斜面３５ａ、第２傾斜面３５ｂ及び第１光反射膜２５の働きによって、反射の繰り返しの動作パターンから抜け出せるようにし、空気層へ取り出すことができる。
　よって、発光装置の光取り出し効率を向上することができる。
　次に、比較例として、第１界面３５は有しているが第２界面３６は有しておらず、且つ、第１界面３５に光反射膜（第１光反射膜２５）が形成されていない発光装置について説明する。図８（ａ）、図８（ｂ）、図８（ｃ）、図９（ａ）、図９（ｂ）及び図９（ｃ）は、比較例に係る発光装置において、有機機能層で生成された光が外部に放出されるまでの経路を例示した断面図である。図８（ａ）～図８（ｃ）及び図９（ａ）～図９（ｃ）に示される光線Ａ～光線Ｆの角度は、それぞれ図６（ａ）～図６（ｃ）及び図７（ａ）～図７（ｃ）に示される光線Ａ～光線Ｆの角度と同じである。
　比較例の場合、光線Ａ～Ｆのうち、光線Ａ（図８（ａ））、光線Ｂ（図８（ｂ））、光線Ｅ（図９（ｂ））及び光線Ｆ（図９（ｃ））について、それぞれ透光性基板１２０の上面１２１（光取り出し面ｄ）に向かう角度が本実施形態の場合よりも緩くなっている。したがって、比較例では、本実施形態と比べて、光が光取り出し面ｄにおいて全反射する可能性（光が光取り出し面ｄから外部に放出されない可能性）が高くなっている。つまり、本実施形態によれば、比較例と比べて光取り出し効率を高めることができる。
　次に、有機機能層５０の層構造の例について説明する。
　図１０は有機機能層５０の層構造の第１例を示す図である。この有機機能層５０は、正孔注入層５１、正孔輸送層５２、発光層５３、電子輸送層５４、及び電子注入層５５をこの順に積層した構造を有している。すなわち有機機能層５０は、有機エレクトロルミネッセンス発光層である。なお、正孔注入層５１及び正孔輸送層５２の代わりに、これら２つの層の機能を有する一つの層を設けてもよい。同様に、電子輸送層５４及び電子注入層５５の代わりに、これら２つの層の機能を有する一つの層を設けてもよい。
　図１０の例において、発光層５３は、例えば赤色の光を発光する層、青色の光を発光する層、黄色の光を発光する層、又は緑色の光を発光する層である。この場合、例えば、平面視において、赤色の光を発光する発光層５３を有する領域、緑色の光を発光する発光層５３を有する領域、及び青色の光を発光する発光層５３を有する領域が繰り返し設けられていても良い。この場合、各領域を同時に発光させると、発光装置は白色等の単一の発光色で発光する。
　なお、発光層５３は、複数の色を発光するための材料を混ぜることにより、白色等の単一の発光色で発光するように構成されていても良い。
　図１１は有機機能層５０の層構造の第２例を示す図である。この有機機能層５０の発光層５３は、発光層５３ａ、５３ｂ、５３ｃをこの順に積層した構成を有している。発光層５３ａ、５３ｂ、５３ｃは、互いに異なる色の光（例えば赤、緑、及び青）を発光する。そして発光層５３ａ、５３ｂ、５３ｃが同時に発光することにより、発光装置は白色等の単一の発光色で発光する。
　以上のような実施形態によれば、透光層１１０は、複数の第１傾斜面３５ａと、複数の第２傾斜面３５ｂと、複数の第３傾斜面３６ａと、複数の第４傾斜面３６ｂと、を有している。よって、透光層１１０において、第１乃至第４傾斜面３５ａ、３５ｂ、３６ａ、３６ｂが形成された面に対して臨界角以上の角度で入射する光を減じることができ、当該面での全反射を抑制することができる。これにより、第１乃至第４傾斜面３５ａ、３５ｂ、３６ａ、３６ｂの各々において、角度が大きい光を隣接する層へ入射できるようになるので、光取り出し効率が向上する。
　そして、複数の第１傾斜面３５ａと複数の第２傾斜面３５ｂとのうちの少なくとも何れか１つの傾斜面に沿って第１光反射膜２５が形成されている。これにより、光反射膜（第１光反射膜２５）が形成されていない傾斜面は、光を透過させ、光反射膜が形成されている傾斜面は、光を反射させる。これら傾斜面の組み合わせを有することにより、第１界面３５において、光の向きを、光取り出し面ｄから取り出せる方向に変換できる確率を高めることができる。よって、発光装置の光取り出し効率を向上することができる。同様に、複数の第３傾斜面３６ａと複数の第４傾斜面３６ｂとのうちの少なくとも何れか１つの傾斜面に沿って第２光反射膜２６が形成されている。これにより、光反射膜（第２光反射膜２６）が形成されていない傾斜面は、光を透過させ、光反射膜が形成されている傾斜面は、光を反射させる。これら傾斜面の組み合わせを有することにより、第２界面３６において、光の向きを、光取り出し面ｄから取り出せる方向に変換できる確率を高めることができる。とくに各界面３５、３６と第２電極６０との間で反射している光に関して有効である。よって、発光装置の光取り出し効率を向上することができる。
　また、第１傾斜面３５ａ、第２傾斜面３５ｂ及び第１光反射膜２５の働きによっては十分に上向きに変更できないような光についても、第３傾斜面３６ａ、第４傾斜面３６ｂ及び第２光反射膜２６の働きによって十分に上向きに変更し、発光装置から外部に取り出せるようにすることができる。同様に、第３傾斜面３６ａ、第４傾斜面３６ｂ及び第２光反射膜２６の働きによっては十分に上向きに変更できないような光についても、第１傾斜面３５ａ、第２傾斜面３５ｂ及び第１光反射膜２５の働きによって十分に上向きに変更し、発光装置から外部に取り出せるようにすることができる。
　なお、有機機能層と同層に光反射板を配置する必要がないため、このような光反射板を配置することに起因する発光装置の発光効率の低下を抑制できる。
　また、第１乃至第４傾斜面３５ａ、３５ｂ、３６ａ、３６ｂは同一平面に沿って配置されているので、発光装置の厚み方向の寸法の増大を抑制することができる。
　また、発光装置は、有機機能層５０と透光層１１０との間に配置された第１電極４０を備え、透光層１１０の屈折率は、第１電極４０の屈折率以上であり、且つ、２．３以下である。これにより、第１電極４０から透光層１１０側への光の取り出しが容易になるとともに、透光層１１０から透光性基板１２０への光の取り出し効率の低下を抑制することができる。
　また、発光装置は、透光層１１０の有機機能層５０側とは反対側の面に接する透光性基板１２０を更に備え、透光層１１０において透光性基板１２０に接する面が第１乃至第４傾斜面３５ａ、３５ｂ、３６ａ、３６ｂを含む。これにより、透光性基板１２０上に透光層１１０等を順次に積層することで容易に発光装置を製造することができる。
　また、互いに隣り合う第１傾斜面３５ａと第２傾斜面３５ｂとのうち何れか一方に沿って第１光反射膜２５が形成されているとともに、互いに隣り合う第３傾斜面３６ａと第４傾斜面３６ｂとのうち何れか一方に沿って第２光反射膜２６が形成されている。これにより、第１界面３５における第１光反射膜２５の配置の周期性と、第２界面３６における第２光反射膜２６の配置の周期性とを持たせることができるので、発光装置の何れの領域においても、まんべんなく光取り出し効率を向上することができる。
　また、第１光反射膜２５は、複数の第２傾斜面３５ｂの各々に沿って配置され、第２光反射膜２６は、複数の第４傾斜面３６ｂの各々に沿って配置されているので、第１界面３５における第１光反射膜２５の配置の周期性と、第２界面３６における第２光反射膜２６の配置の周期性とをより均一にできる。よって、発光装置の何れの領域においても、より均一に取り出し効率を向上することができる。
　また、第１傾斜面３５ａおよび第２傾斜面３５ｂが配置された複数の第１領域Ｒ１１と、第３傾斜面３６ａおよび第４傾斜面３６ｂが配置された複数の第２領域Ｒ１２と、が平面視において交互に隣接して配置されている。これにより、第１領域Ｒ１１においては発光装置から取り出されないような反射の繰り返しパターンとなるような角度の光について、第１領域Ｒ１１から遠く離れた位置ではなく、第１領域Ｒ１１に隣接する第２領域Ｒ１２にて上向きに変更することができる。よって、この光が減衰する前に、この光の向きを、光取り出し面ｄから外部に取り出すことが可能な向きに変更できる可能性が高まる。同様に、第２領域Ｒ１２においては発光装置から取り出されないような反射の繰り返しパターンとなるような角度の光についても、第２領域Ｒ１２から遠く離れた位置ではなく、第２領域Ｒ１２に隣接する第１領域Ｒ１１にて上向きに変更することができる。よって、この光が減衰する前に、この光の向きを、光取り出し面ｄから外部に取り出すことが可能な向きに変更できる可能性が高まる。
　（実施例１）
　実施例１では、実施形態に係る発光装置のより具体的な構成の例を説明する。図１２（ａ）は実施例１に係る発光装置の構造を示す平面図であり、図１２（ｂ）は図１２（ａ）におけるＣ－Ｃ線に沿った断面図である。なお、図１２（ｂ）及び図１２（ａ）においては、図３とは上下が反転している。
　第１電極４０は、陽極を構成する。複数の第１電極４０が、それぞれ帯状にＹ方向に延在している。隣り合う第１電極４０同士は、Ｙ方向に対して直交するＸ方向において一定間隔ずつ離間している。第１電極４０の各々は、例えばＩＴＯやＩＺＯ等の金属酸化物導電体等からなる。なお、第１電極４０は、透光性を有する程度の厚さを有する金属薄膜であっても良い。第１電極４０の屈折率は、例えば、透光層１１０と同程度（例えば屈折率１．８程度）である。第１電極４０の各々の表面には、第１電極４０に電源電圧を供給するためのバスライン（バス電極）７２が形成されている。透光層１１０及び第１電極４０上には絶縁膜が形成されている。この絶縁膜には、それぞれＹ方向に延在するストライプ状の開口部が複数形成されている。これにより、絶縁膜からなる複数の隔壁部７１が形成されている。また、この絶縁膜に形成された開口部の各々は、第１電極４０に達しており、開口部の底部において各第１電極４０の表面が露出している。絶縁膜の各開口部内において、第１電極４０上には、有機機能層５０が形成されている。有機機能層５０は、正孔注入層５１、正孔輸送層５２、発光層５３（発光層５３Ｒ、５３Ｇ、５３Ｂ）、電子輸送層５４がこの順序で積層されることにより構成されている。正孔注入層５１及び正孔輸送層５２の材料としては、芳香族アミン誘導体、フタロシアニン誘導体、ポルフィリン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ベンジルフェニル誘導体、フルオレン基で３級アミンを連結した化合物、ヒドラゾン誘導体、シラザン誘導体、シラナミン誘導体、ホスファミン誘導体、キナクリドン誘導体、ポリアニリン誘導体、ポリピロール誘導体、ポリフェニレンビニレン誘導体、ポリチエニレンビニレン誘導体、ポリキノリン誘導体、ポリキノキサリン誘導体、カーボン等が挙げられる。発光層５３Ｒ、５３Ｇ、５３Ｂは、それぞれ、赤色発光、緑色発光、青色発光を行う蛍光性有機金属化合物等からなる。発光層５３Ｒ、５３Ｇ、５３Ｂは、隔壁部７１によって互いに隔てられた状態で並んで配置されている。すなわち、有機機能層５０は、隔壁部７１によって隔てられた複数の発光領域を形成している。発光層５３Ｒ、５３Ｇ、５３Ｂおよび隔壁部７１の表面を覆うように電子輸送層５４が形成されている。電子輸送層５４の表面を覆うように第２電極６０が形成されている。第２電極６０は、陰極を構成する。第２電極６０は、帯状に形成されている。第２電極６０は、仕事関数が低く且つ高反射率を有するＡｌやＡｇなどの金属または合金等からなる。尚、有機機能層５０の屈折率は、第１電極４０および透光層１１０と同程度（例えば屈折率１．８程度）である。
　このように、赤、緑、青の光をそれぞれ発する発光層５３Ｒ、５３Ｇ、５３Ｂは、ストライプ状に繰り返し配置されており、光取り出し面ｄとなる透光性基板１２０の表面からは、赤、緑、青の光が任意の割合で混色されて単一の発光色（例えば白色）として認識される光が放出される。
　実施例１によっても、上記実施形態と同様の効果が得られる。
　（実施例２）
　図１３（ａ）および（ｂ）は本実施例に係る発光装置の断面図である。図１３（ａ）は図３（ａ）に対応し、図１３（ｂ）は図３（ｂ）に対応している。上記においては、透光層１１０と第１電極４０とを別々に設ける構成としたが、図１３（ａ）および（ｂ）に示すように、透光層１１０は透光性電極の機能を兼ね備えていてもよい。すなわち、この場合、透光層１１０は、ＩＴＯなどの金属酸化物導電体などの透光性導電体により構成される。本実施例によれば、透光層１１０は透光性電極の機能を兼ねるので、発光装置の部品点数の低減が可能である。
　（実施例３）
　図１４（ａ）は本実施例に係る発光装置の一部分を示す断面図である。この発光装置は、第１領域Ｒ１１において、透光層１１０の上面の凹凸形状を構成する切妻屋根状の突条３１の頂部および隣接する突条３１間の谷部が、有機機能層５０に対して実質的に平行な面３１ａおよび面３１ｂを有する。面３１ａおよび面３１ｂ上には第１光反射膜２５が形成されておらず、面３１ａおよび面３１ｂは、光透過面となっている。すなわち、本実施例に係る発光装置の第１界面３５は、有機機能層５０に対して平行に形成された光透過面である面３１ａ、３１ｂを有する。
　有機機能層５０と実質的に平行な面３１ａおよび面３１ｂを光透過面とすることにより、第１領域Ｒ１１において、有機機能層５０に対して略直交する光線を外部に取り出しやすくすることができる。このような方向の光に関しては、第１光反射膜２５による反射を経ることなく外部に取り出すことで光取り出し効率を向上させることが可能となる。
　（実施例４）
　図１４（ｂ）は本実施例に係る発光装置の一部分を示す断面図である。図１４（ｂ）に示すように、第１領域Ｒ１１において、有機機能層５０に対して実質的に平行な面３１ａおよび３１ｂが光透過面となるように面３１ａおよび面３１ｂを第１光反射膜２５で覆うこととしてもよい。すなわち、第１光反射膜２５において面３１ａおよび面３１ｂを覆う部分の膜厚は、第１光反射膜２５において光反射面を形成している部分の膜厚よりも小さくなっている。第１光反射膜２５を斜め蒸着によって形成することにより、このような膜厚分布を形成することが可能である。本実施例によっても実施例３と同様の効果が得られる。
　（実施例５）
　図１５（ａ）は本実施例に係る発光装置の第１領域Ｒ１１の一部分を示す断面図、図１５（ｂ）は本実施例に係る発光装置の第１領域Ｒ１１における透光層１１０の一部分を示す平面図、図１５（ｃ）は本実施例に係る発光装置の第１領域Ｒ１１における透光層１１０の一部分を示す斜視図である。本実施例では、透光層１１０の上面の突条３１の各々の形状が変更されている。これらの図に示されるように、突条３１の各々は断面形状が台形状となっており、その上底が有機機能層５０に対して実質的に平行な面３１ｄとなっている。換言すれば、突条３１を構成する第１傾斜面３５ａと第２傾斜面３５ｂとがそれらの並び方向において相互に離間している。面３１ｄには第１光反射膜２５が形成されておらす、面３１ｄは光透過面を形成している。このように有機機能層５０と実質的に平行な面３１ｄを光透過面とすることにより、実施例３の場合と同様に、面３１ｄに対して垂直に入射する光線は、第１光反射膜２５による反射を経ることなく外部に放出されるので光取り出し効率を向上させることが可能となる。
　（実施例６）
　図１６は本実施例に係る発光装置の第１領域Ｒ１１の一部分を示す断面図である。本実施例では、隣り合う突条３１同士が、それらの並び方向において相互に離間している。そして、隣り合う突条３１同士の間に、有機機能層５０に対して実質的に平行な面３１ｄが形成されている。面３１ｄには第１光反射膜２５が形成されておらず、面３１ｄは光透過面を形成している。本実施例によっても、実施例５と同様の効果が得られる。
　なお、実施例３～６では、第１界面３５と第２界面３６とのうち、第１界面３５についてのみ説明したが、第２界面３６についても、実施例３～６と同様に、有機機能層５０と実質的に平行な光透過面を形成することができる。
　（実施例７）
　図１７は本実施例に係る発光装置の一部分を示す断面図である。この発光装置は、第１界面３５に形成される光反射構造２２が、上記の実施形態と相違する。すなわち、上記の実施形態においては、光反射構造が第１光反射膜２５により構成されていたのに対し、本実施例における光反射構造２２は、第１光反射膜２５と、透光性基板１２０の屈折率よりも低い屈折率を有する材料（例えばＳｉＯ２など）からなる低屈折率膜２１と、を積層することにより構成されている。透光性基板１２０側から臨界角よりも大きい入射角で光反射構造２２に入射する光線Ｉは、透光性基板１２０と低屈折率膜２１との界面で全反射されて透光性基板１２０の上面１２１（光取り出し面ｄ）に向かう。ここで、全反射の反射率は１００％であり、金属などの反射膜での反射率は９０％程度なので、低屈折率膜２１にて全反射させることにより、第１光反射膜２５のみにより反射させる場合よりも、反射率の向上、ひいては光取り出し効率の向上が期待できる。一方、透光性基板１２０側から臨界角よりも小さい入射角で光反射構造２２に入射する光線Ｊは、低屈折率膜２１を透過して第１光反射膜２５の表面で反射されて透光性基板１２０の上面１２１（光取り出し面ｄ）に向かう。このように、第１光反射膜２５上に低屈折率膜２１を配置することにより、一部の光線（光線Ｉ等）を低屈折率膜２１にて全反射させて透光性基板１２０の上面１２１（光取り出し面ｄ）側に向かわせることができるので、反射率の向上、ひいては光取り出し効率の向上が期待できる。
　なお、図１７には、低屈折率膜２１が透光性基板１２０と接し、第１光反射膜２５が透光層１１０と接している例を示しているが、第１光反射膜２５と低屈折率膜２１との配置を入れ替えても良い。
　また、図示は省略するが、第２界面３６に形成される光反射構造についても、上記の光反射構造２２と同様の構造としても良い。
　図１８（ａ）～図１８（ｅ）は本実施例に係る発光装置の製造方法を示す断面図である。なお、図１８（ａ）～図１８（ｅ）では、第１領域Ｒ１１の構成のみを示している。
　先ず、下面に凹凸形状が形成された透光性基板１２０を用意する（図１８（ａ））。
　次に、スパッタリング法などにより、透光性基板１２０の下面に透光性基板１２０よりも屈折率が小さいＳｉＯ２などからなる低屈折率膜２１を成膜する。その後、リフトオフ法やエッチング法などにより低屈折率膜２１を部分的に除去して低屈折率膜２１のパターニングを行う（図１８（ｂ））。
　次に、斜め蒸着法などにより、透光性基板１２０の下面にＡｇまたはＡｌなどの高反射率を有する金属などからなる第１光反射膜２５及び第２光反射膜２６をそれぞれ成膜する。第１光反射膜２５は、低屈折率膜２１上に積層され、例えば第２傾斜面３５ｂに沿った光反射構造２２が形成される（図１８（ｃ））。同様に、第２光反射膜２６は低屈折率膜２１上に積層され、例えば第４傾斜面３６ｂに沿った光反射構造が形成される。
　次に、透光性基板１２０の下面に、透光性基板１２０の屈折率よりも高く且つ第１電極４０および有機機能層５０の屈折率と同程度の屈折率を有するＵＶ硬化性樹脂を塗布する。その後、ＵＶ硬化性樹脂に紫外線を照射してこれを硬化させる。これにより、透光性基板１２０の下面に透光性基板１２０の凹凸形状および光反射構造（光反射構造２２を含む）に接する透光層１１０が形成される（図１８（ｄ））。
　次に、スパッタリング法などにより透光層１１０の下面にＩＴＯなどの金属酸化物導電体からなる透明導電膜を成膜し、エッチングによりこれをパターニングして第１電極４０を形成する。次に、第１電極４０を覆うように感光性レジスト（図示せず）を塗布する。その後、露光、現像処理を経て感光性レジストに第１電極４０に達する複数の開口部を形成する。これにより、有機機能層を発光色毎に隔てる隔壁部が形成される。次に、インクジェット法により、複数の開口部の各々の内側に有機材料を塗布する。これにより、第１電極４０上に正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層が積層されて構成される有機機能層５０を形成する。次に、第２電極６０のパタ－ンに対応する開口部を有するマスクを用いて蒸着法等により有機機能層５０上に電極材料であるＡｌやＡｇなどを所望のパターンに堆積させて第２電極６０を形成する（図１８（ｅ））。必要に応じて第２電極６０上に封止層を形成することとしてもよい。以上の各工程を経ることにより、本実施例に係る発光装置が得られる。
　（実施例８）
　図１９は本実施例に係る発光装置の一部分を示す断面図である。本実施例では、低屈折率膜２１と第１光反射膜２５とにより形成される光反射構造を実施例７から変更した例を説明する。図１９に示すように、光反射構造２２ａは、透光性基板１２０よりも屈折率が小さい一対の低屈折率膜２１が第１光反射膜２５を扶持するサンドイッチ構造をなしている。これにより、透光性基板１２０側および透光層１１０側から光反射構造２２ａに入射する光を全反射させることが可能となり、実施例７よりも反射ロスを更に低減することが可能となる。なお、図示は省略するが、第２光反射膜２６についても、同様に、一対の低屈折率膜２１により挟持させても良い。
　（実施例９）
　図２０は本実施例に係る発光装置の一部分を示す断面図である。実施例９では、第１光反射膜２５と低屈折率層とからなる光反射構造を実施例７から変更した例を説明する。図２０に示すように、光反射構造２４の低屈折率層は、透光性基板１２０と透光層１１０との間に設けられた空隙部２３からなる。すなわち、光反射構造２４は、空隙部２３と第１光反射膜２５とによって構成されている。空隙部２３は、透光性基板１２０よりも屈折率が小さい空気またはその他のガスで充たされていてもよいし、真空であってもよい。空隙部２３の屈折率は、透光性基板１２０の屈折率よりも小さいので、空隙部２３は上記の低屈折率膜２１と同様の機能を持つ。尚、図２０には、空隙部２３が透光性基板１２０と接し、第１光反射膜２５が透光層１１０と接している場合が例示されているが、空隙部２３と第１光反射膜２５との配置を入れ替えても良い。なお、図示は省略するが、同様に、第２光反射膜２６と透光性基板１２０との間に空隙部２３を形成するか、又は、第２光反射膜２６と透光層１１０との間に空隙部２３を形成しても良い。
　図２１（ａ）～図２１（ｄ）は本実施例に係る発光装置の製造方法を示す断面図である。なお、図２１（ａ）～図２１（ｅ）では、第１領域Ｒ１１の構成のみを示している。
　先ず、下面に凹凸形状が形成された透光性基板１２０を用意する（図２１（ａ））。
　次に、斜め蒸着法などにより、透光性基板１２０の下面にＡｇまたはＡｌなどの高反射率を有する金属などからなる第１光反射膜２５及び第２光反射膜２６をそれぞれ成膜する（図２１（ｂ））。
　次に、透光層１１０を用意する。透光層１１０は、透光性基板１２０よりも屈折率が大きく且つ第１電極４０および有機機能層５０と同程度の屈折率を有するエポキシ樹脂などからなる。この透光層１１０の上面には、透光性基板１２０の下面の凹凸形状と噛み合う凹凸形状が形成されている。更に、この透光層１１０の上面には、微小突起３２が形成されている（図２１（ｃ））。
　次に、微小突起３２をスペーサとして、透光性基板１２０の下面の凹凸形状と透光層１１０の上面の凹凸形状とを当接させる。微小突起３２は第１光反射膜２５および第２光反射膜２６にそれぞれ当接し、第１光反射膜２５と透光層１１０の上面との間に空隙部２３が形成されるとともに、第２光反射膜２６と透光層１１０の上面との間に空隙部２３が形成される。これにより、透光性基板１２０と透光層１１０との間には、第１光反射膜２５と空隙部２３とからなる光反射構造２４、および、第２光反射膜２６と空隙部２３とからなる光反射構造が形成される（図２１（ｄ））。
　なお、第１光反射膜２５および第２光反射膜２６は、透光層１１０の上面に形成されていてもよいし、透光層１１０の上面と透光性基板１２０の下面との双方に形成されていてもよい。また、スペーサとして機能する微小突起３２は、透光性基板１２０の下面に設けられていても良いし、透光層１１０の上面と透光性基板１２０の下面との双方に設けられていてもよい。また、透光層１１０及び透光性基板１２０とは別体の構造物を透光層１１０の上面と透光性基板１２０の下面との間に配置して、これをスペーサとして機能させても良い。
　（実施例１０）
　図２２（ａ）～図２２（ｄ）は、実施例１０に係る発光装置の製造方法を示す断面図である。実施例１０では、第１光反射膜２５と空隙部２３とからなる光反射構造２４を変更した例とその製造方法を説明する。
　はじめに、製造方法を説明する。先ず、下面に凹凸形状が形成された透光性基板１２０を用意する（図２２（ａ））。
　一方、上記の実施例９と同様に、透光層１１０を用意する。ただし、本実施例の場合、透光層１１０には微小突起３２は形成されていない。
　次に、斜め蒸着法などにより、透光層１１０の上面にＡｇまたはＡｌなどの高反射率を有する金属などからなる第１光反射膜２５および第２光反射膜２６を選択的に成膜する（図２２（ｂ））。
　次に、透光層１１０と第１光反射膜２５および第２光反射膜２６との熱膨張係数の差を利用して第１光反射膜２５および第２光反射膜２６にバックリング構造（皺状のうねり）を形成する。すなわち第１光反射膜２５および第２光反射膜２６を断面視で上下に波打った形状にする。例えば、第１光反射膜２５および第２光反射膜２６を１００℃程度に加熱した後、室温まで温度を下げることにより第１光反射膜２５および第２光反射膜２６にバックリング構造を形成することができる（図２２（ｃ））。
　次に、バックリング構造が形成された第１光反射膜２５および第２光反射膜２６を間に挟んで透光層１１０の上面の凹凸形状と透光性基板１２０の下面の凹凸形状とを当接させ噛み合わせる。これにより、透光層１１０と透光性基板１２０との間には、第１光反射膜２５と、第１光反射膜２５のバックリング構造に伴って生じた空隙部２３と、からなる光反射構造２４が形成されるとともに、第２光反射膜２６と、第２光反射膜２６のバックリング構造に伴って生じた空隙部２３と、からなる光反射構造が形成される（図２２（ｄ））。
　したがって、実施例１０に係る発光装置は、第１光反射膜２５と、第１光反射膜２５のバックリング構造に伴って生じた空隙部２３と、からなる光反射構造２４を有しているとともに、第２光反射膜２６と、第２光反射膜２６のバックリング構造に伴って生じた空隙部２３と、からなる光反射構造を有している。本実施例によっても実施例９と同様の効果が得られる。
　（実施例１１）
　図２３は本実施例に係る発光装置の断面図である。本実施例に係る発光装置は、上記の実施形態の構成に加えて、透光性の保護膜１３０を有している。保護膜１３０は、透光性基板１２０の上面を覆っている。保護膜１３０は、例えば酸化シリコン膜などの無機材料により構成されていてもよいし、第１電極４０と同様の材料により構成されていてもよい。保護膜１３０は、例えば、ＣＶＤ法又はスパッタリング法などの気相成長法を用いて形成される。本実施例の場合、保護膜１３０の上面が光取り出し面ｄを構成している。
　本実施例によっても、実施形態と同様の効果を得ることができる。また、透光性基板１２０が保護膜１３０により保護されているので、発光装置の耐久性を向上させることができる。
　（実施例１２）
　図２４は本実施例に係る発光装置の断面図である。本実施例に係る発光装置は、上記の実施形態に係る発光装置の透光性基板１２０の上方に、透光性の保護部材（例えば保護ガラス）１４０を配置したものである。保護部材１４０は、例えば支持部材８４を介してベース部材８０上に支持されている。ベース部材８０上には上記の実施形態で説明した構造の発光装置が固定されている。そして、ベース部材８０、保護部材１４０、及び支持部材８４で囲まれた空間は密閉されている。なお、保護部材１４０と透光性基板１２０との間には、気体（例えば空気や不活性ガス）が充填されている。本実施例の場合、保護部材１４０の上面が光取り出し面ｄを構成している。
　本実施例によっても、上記の実施形態と同様の効果を得ることができる。また、透光性基板１２０を保護部材１４０で保護しているため、発光装置の耐久性を向上させることができる。
　（実施例１３）
　図２５は本実施例に係る発光装置の断面図である。本実施例では、実施例１２に係る発光装置のより具体的な構成の例を説明する。図２５に示すように、ベース部材８０は、例えば、封止体（封止層）とすることができる。ベース部材８０において、隔壁部７１を被覆する部位には、第２電極６０を外部に電気的に接続するための導電体１９１が、ベース部材８０を貫通して設けられている。本実施例によっても、実施例１２と同様の効果を得ることができる。
　（実施例１４）
　図２６（ａ）は本実施例に係る発光装置の要部の斜視図、図２６（ｂ）は本実施例に係る発光装置を図２６（ａ）の矢印Ａ方向に見た断面図である。
　本実施例に係る発光装置は、第１傾斜面３５ａに沿って配置された第１光反射膜２５と、第２傾斜面３５ｂに沿って配置された第１光反射膜２５とを有する。例えば、図２６（ｂ）において、領域Ｅを境界として、その左側の領域では、各第１傾斜面３５ａに沿って第１光反射膜２５が形成され、右側の領域では、各第２傾斜面３５ｂに沿って第１光反射膜２５が形成されている。
　同様に、図示は省略するが、本実施例に係る発光装置は、第３傾斜面３６ａに沿って配置された第２光反射膜２６と、第４傾斜面３６ｂに沿って配置された第２光反射膜２６と、を有していても良い。
　本実施例によれば、上記の実施形態と同様の効果が得られる他に、以下の効果が得られる。すなわち第１界面３５および第２界面３６の各々において、光反射膜（第１光反射膜２５、第２光反射膜２６）の向きをそれぞれ２方向にできる。よって、より様々な角度の光を発光装置から外部に取り出せるようになることを期待できる。
　（実施例１５）
　図２７は本実施例に係る発光装置の要部の斜視図である。図２８（ａ）は本実施例に係る発光装置を図２７の矢印Ａ方向に見た断面図、図２８（ｂ）は本実施例に係る発光装置を図２７の矢印Ｂ方向に見た断面図である。
　上記の実施形態では、発光装置が透光性基板１２０を有する例を説明したが、本実施例では、発光装置は、透光性基板１２０を有していない。透光層１１０の上面（透光層１１０において有機機能層５０とは反対側の面）は、発光装置の外部の光放出空間２００に接している。換言すれば、本実施例の場合、透光層１１０は、透光層１１０と同等以上の屈折率を有する高屈折率層（第１電極４０）と、空気層（光放出空間２００）との間に配置されている。そして、透光層１１０の上面が光取り出し面ｄを構成している。なお、透光層１１０の上面に光取り出しフィルムを設けて、この光取り出しフィルムの上面を光取り出し面ｄとしても良い。
　透光層１１０は、高屈折率ガラスなどにより構成することができる。透光層１１０の上面に凹凸形状を形成するには、切削研磨、レーザー加工、化学的エッチング、熱インプリントなどの公知の表面加工技術を用いることができる。ただし、透光層１１０の平坦な本体部とは別に形成した三角柱形状の複数の突条を互いに並列にその本体部の下面に取り付けることによって、凹凸形状を形成しても良い。なお、透光層１１０は、高屈折率フィルムにより構成しても良く、この場合、容易に透光層１１０に凹凸形状を形成することができる。
　（実施例１６）
　図２９は本実施例に係る発光装置の平面図である。上記の実施形態では、透光層１１０の傾斜面が延在する方向が２種類である例を説明した。すなわち、傾斜面が延在する方向は、第１傾斜面３５ａおよび第２傾斜面３５ｂが延在する方向（第１方向に対して直交する方向）と、第３傾斜面３６ａおよび第４傾斜面３６ｂが延在する方向（第２方向に対して直交する方向）と、の２種類である例を説明した。
　これに対し、本実施例では、透光層１１０の傾斜面が延在する方向が４種類となっている。透光層１１０の上面には、第１乃至第４傾斜面３５ａ、３５ｂ、３６ａ、３６ｂの他に、第５乃至第８傾斜面３７ａ、３７ｂ、３８ａ、３８ｂが形成されている。
　第５傾斜面３７ａおよび第６傾斜面３７ｂは、第１傾斜面３５ａおよび第２傾斜面３５ｂが延在する方向に対して、平面視において時計まわりに４５度異なる方向に延在している。第５傾斜面３７ａは有機機能層５０に対して傾斜しており、第６傾斜面３７ｂは有機機能層５０に対して第５傾斜面３７ａの傾斜方向とは反対方向に傾斜している。第１領域Ｒ１１において複数の第１傾斜面３５ａおよび複数の第２傾斜面３５ｂが配置されているのと同様に、第３領域Ｒ１３において、複数の第５傾斜面３７ａおよび複数の第６傾斜面３７ｂが交互に配置され、切り妻屋根状の複数の突条が形成されている。
　同様に、第７傾斜面３８ａおよび第８傾斜面３８ｂは、第１傾斜面３５ａおよび第２傾斜面３５ｂが延在する方向に対して、平面視において反時計回りに４５度異なる方向に延在している。第７傾斜面３８ａは有機機能層５０に対して傾斜しており、第８傾斜面３８ｂは有機機能層５０に対して第７傾斜面３８ａの傾斜方向とは反対方向に傾斜している。第１領域Ｒ１１において複数の第１傾斜面３５ａおよび複数の第２傾斜面３５ｂが配置されているのと同様に、第４領域Ｒ１４において、複数の第７傾斜面３８ａおよび複数の第８傾斜面３８ｂが交互に配置され、切り妻屋根状の複数の突条を形成している。
　本実施例によれば、透光層１１０の上面が上記の実施形態よりも多くの傾斜方向の傾斜面を有することとなるので、光取り出し効率が更に向上することを期待できる。
　（実施例１７）
　図３０は本実施例に係る発光装置の平面図である。上記の実施形態では、透光層１１０の傾斜面が延在する方向が２種類である例を説明した。
　これに対し、本実施例では、透光層１１０の傾斜面が延在する方向が３種類となっている。透光層１１０の上面には、第１乃至第６傾斜面３５ａ、３５ｂ、３６ａ、３６ｂ、３７ａ、３７ｂが形成されている。
　本実施例の場合、第３傾斜面３６ａおよび第４傾斜面３６ｂは、第１傾斜面３５ａおよび第２傾斜面３５ｂが延在する方向に対して、平面視において時計まわりに６０度異なる方向に延在している。
　また、第５傾斜面３７ａおよび第６傾斜面３７ｂは、第１傾斜面３５ａおよび第２傾斜面３５ｂが延在する方向に対して、平面視において反時計回りに６０度異なる方向に延在している。第５傾斜面３７ａは有機機能層５０に対して傾斜しており、第６傾斜面３７ｂは有機機能層５０に対して第５傾斜面３７ａの傾斜方向とは反対方向に傾斜している。第１領域Ｒ１１において複数の第１傾斜面３５ａおよび複数の第２傾斜面３５ｂが配置されているのと同様に、第３領域Ｒ１３において、複数の第５傾斜面３７ａおよび複数の第６傾斜面３７ｂが交互に配置され、切り妻屋根状の複数の突条を形成している。例えば、各第６傾斜面３７ｂに沿って、第１光反射膜２５と同様の第３光反射膜２７が形成されている。
　本実施例によれば、透光層１１０の上面が上記の実施形態よりも多くの種類の傾斜方向の傾斜面を有することとなるので、光取り出し効率が更に向上することを期待できる。
　以上、図面を参照して実施形態及び実施例について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することもできる。

Claims (6)

  1. 　発光層を含む有機機能層と、
    　前記有機機能層を基準として光取り出し側に配置された透光層と、
    　を備え、
    　前記透光層は、
    　前記有機機能層に対して傾斜している第１傾斜面と、
    　前記有機機能層に対して前記第１傾斜面の傾斜方向とは反対方向に傾斜している第２傾斜面と、
    　前記有機機能層に対して前記第１傾斜面及び前記第２傾斜面の何れの傾斜方向とも異なる方向に傾斜している第３傾斜面と、
    　前記有機機能層に対して前記第３傾斜面の傾斜方向とは反対方向に傾斜している第４傾斜面と、
    　を有し、
    　前記有機機能層と平行な第１方向において前記第１傾斜面と前記第２傾斜面とが交互に位置するように、複数の前記第１傾斜面と複数の前記第２傾斜面とが前記第１方向において並んで配置され、
    　前記有機機能層と平行で且つ前記第１方向に対して交差する第２方向において前記第３傾斜面と前記第４傾斜面とが交互に位置するように、複数の前記第３傾斜面と複数の前記第４傾斜面とが前記第２方向において並んで配置され、
    　前記複数の第１傾斜面と前記複数の第２傾斜面とのうちの少なくとも何れか１つの傾斜面に沿って第１光反射膜が形成され、
    　前記複数の第３傾斜面と前記複数の第４傾斜面とのうちの少なくとも何れか１つの傾斜面に沿って第２光反射膜が形成されている発光装置。
  2. 　前記第１傾斜面、前記第２傾斜面、前記第３傾斜面および前記第４傾斜面は同一平面に沿って配置されている請求項１に記載の発光装置。
  3. 　前記有機機能層と前記透光層との間に配置された透光性電極を備え、
    　前記透光層の屈折率は、前記透光性電極の屈折率以上であり、且つ、２．３以下である請求項１又は２に記載の発光装置。
  4. 　前記透光層の前記有機機能層側とは反対側の面に接する透光性基板を更に備え、
    　前記透光層において前記透光性基板に接する面が前記第１傾斜面、前記第２傾斜面、前記第３傾斜面および前記第４傾斜面を含む請求項１～３の何れか一項に記載の発光装置。
  5. 　互いに隣り合う前記第１傾斜面と前記第２傾斜面とのうち何れか一方に沿って前記第１光反射膜が形成されているとともに、互いに隣り合う前記第３傾斜面と前記第４傾斜面とのうち何れか一方に沿って前記第２光反射膜が形成されている請求項１～４の何れか一項に記載の発光装置。
  6. 　前記第１傾斜面および前記第２傾斜面が配置された複数の第１領域と、
    　前記第３傾斜面および前記第４傾斜面が配置された複数の第２領域と、
    　が平面視において交互に隣接して配置されている請求項１～５の何れか一項に記載の発光装置。
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