WO2013174111A1 - 显示面板及其制造方法和显示器件 - Google Patents

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WO2013174111A1
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display panel
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李明超
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京东方科技集团股份有限公司
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    • G02F1/133565—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors characterised by the placement of the optical elements inside the LC elements, i.e. between the cell substrates

Definitions

  • Display panel manufacturing method thereof and display device
  • Embodiments of the present invention relate to a display panel, a method of fabricating the same, and a display device. Background technique
  • the conventional alignment layer rubbing method has the same orientation of the same substrate, so the display device has the advantage of only displaying one display mode, and also shows the disadvantage of the mode.
  • the transflective mode display is a display mode that combines transmission and reflection, improves the performance of the application product, and expands the application field of the application product, so the heat of research and development is also increasing. Looking at the development status of the display field, the transflective mode has been attracting attention in display products for outdoor applications.
  • Photosensitive polymers are used as active polymer materials, and their applications are expanding.
  • light is used to stabilize and degrade the photosensitive polymer.
  • the spin coating process can be carried out on a glass substrate after adding a binder or a binder. After the organic solvent is volatilized, an orientation process is performed, and then ultraviolet light irradiation is performed to stabilize the photosensitive polymer to achieve an orientation effect.
  • the conventional transflective orientation process in the conventional process uses a resin material to first perform a stepped layer structure, and then a rubbing orientation rubbing process is performed on a stepped substrate, such a process result in a step junction. Poor process, which in turn affects the overall quality of the picture. Summary of the invention
  • An embodiment of the present invention provides a method of manufacturing a display panel, including: forming a pixel unit layer on a substrate; forming a first photosensitive polymer layer on the pixel unit layer; and performing the first photosensitive polymer layer on the first photosensitive polymer layer
  • the first direction of the polymer layer is dried and cured by light to form a first alignment layer; a reflective layer is formed on the first alignment layer at a position corresponding to the reflection region; Forming a second photosensitive polymer layer on the first alignment layer and the reflective layer; performing a rubbing orientation in a second direction on the second photopolymer layer; drying the second photopolymer layer and masking Forming a light-curing layer on the second photosensitive polymer layer directly above the reflective layer Processing to form a second alignment layer to obtain an array substrate; and injecting the array substrate and the color filter substrate into the case and injecting liquid crystal therebetween.
  • a display panel including: a color filter substrate and an array substrate of a pair of boxes; and a liquid crystal disposed between the color filter substrate and the array substrate, wherein the array substrate includes a substrate And a pixel unit layer and an alignment layer sequentially formed on the substrate, and wherein the alignment layer comprises: a first alignment layer overlying the pixel unit layer; and a position corresponding to the reflective region formed on the first alignment layer a reflective layer; and a second alignment layer formed directly above the reflective layer.
  • Still another embodiment of the present invention provides a display device including the display panel as described above.
  • FIG. 1 is a schematic diagram of a structure in a manufacturing process of a display panel according to an embodiment of the present invention
  • FIG. 2 is a schematic diagram of a second structure in a manufacturing process of a display panel according to an embodiment of the present invention
  • FIG. 4 is a schematic diagram of a structure 4 in a manufacturing process of a display panel according to an embodiment of the present invention
  • FIG. 5 is a schematic diagram of a structure 5 in a manufacturing process of a display panel according to an embodiment of the present invention
  • FIG. 7 is a schematic structural diagram of a display panel according to an embodiment of the present invention.
  • the pixel unit layer herein may include vertical and horizontal crossing gate lines and data lines. And a pixel unit surrounded by data lines and gate lines.
  • the pixel unit includes a switching element, and the switching element is generally a Thin Film Transistor (TFT) switch.
  • the TFT switch includes: a source, a drain, a gate, and an active layer.
  • the pixel unit layer further includes a pixel electrode connected to the drain of the TFT switch; the pixel unit is in a (planar switching) IPS mode and a fringe field switch (FFS) mode display panel
  • the layer also includes a common electrode layer.
  • the structure of the pixel unit is not particularly limited for the array substrate according to the embodiment of the present invention, and any suitable type of pixel structure may be used.
  • the pixel unit layer may further include a passivation layer overlying it to protect the electrical devices in the pixel unit layer.
  • the first photosensitive polymer layer 50 comprises a photosensitive polymer material and a volatile solvent.
  • the photosensitive polymer material comprises a material selected from the group consisting of polyvinyl cinnamate, ethyl ethoxy cinnamate, polyparaphenylene diacrylate, polyvinyl cinnamic acid acetate, divinyl benzene, hydrazine.
  • the volatile organic solvent includes at least one selected from the group consisting of acetone, ethanol, and cycloalkane.
  • the first photosensitive polymer layer 50 is dried by placing the array substrate in an environment of 80 ° C to 100 ° C for 4 to 6 minutes to volatilize the first high-sensitivity optical layer 50.
  • the first photosensitive polymer layer 50 is photocured by ultraviolet irradiation to form the first alignment layer 5.
  • a reflective layer 4 is formed on the first alignment layer 5 at a position corresponding to the reflective region, and the reflective layer 4 is made of a metal, for example.
  • the reflective layer 4 may be metal aluminum, and the area of the reflective layer 4 occupies one-half of each pixel unit of the display panel.
  • the second photosensitive polymer layer 60 comprises a photosensitive polymer material and a volatile solvent; wherein, optionally, the photosensitive polymer material comprises a polyvinyl alcohol cinnamate, a polyethylene oxygen meat.
  • the photosensitive polymer material comprises a polyvinyl alcohol cinnamate, a polyethylene oxygen meat.
  • the volatile organic solvent comprises at least one selected from the group consisting of acetone, ethanol, and cycloalkane.
  • the second direction in which the rubbing orientation is selected may be the same as the first direction selected for the first alignment layer 5, or may be different depending on the orientation.
  • the first photosensitive polymer layer 50 is optionally dried by placing the array substrate in an environment of 80 ° C to 100 ° C for 4 to 6 minutes to volatilize the first photosensitive polymer layer 50. a volatile solvent, and then UV-curing the second photosensitive polymer layer 60 directly above the metal reflective layer 4 with the ultraviolet ray mask 70 to form a second alignment layer 6, as shown in FIG. 6;
  • the orientation layer of the transmission region on the substrate and the alignment layer of the reflection region are separately subjected to rubbing orientation, thereby avoiding the problem of poor friction at the step boundary between the first alignment layer and the second alignment layer caused by the one-time rubbing orientation technique of the conventional process. happened.
  • a step of removing the polymer material layer in a region other than the reflective layer may be further included. Since the polymer material layer of this region is not irradiated with light, it is not cured and can be easily removed by any suitable method. For example, the portion that is not illuminated by light can be removed using any suitable solvent.
  • the alignment layer is formed by using the photosensitive polymer material, and the rubbing alignment process is performed step by step, thereby avoiding the occurrence of a bad rubbing process of the transflective liquid crystal display and improving the overall quality of the screen.
  • the display panel provided by the embodiment of the present invention includes:
  • the invention comprises a color filter substrate and an array substrate formed by a box, wherein a liquid crystal is contained between the color filter substrate and the array substrate.
  • the array substrate includes a substrate 1, a pixel unit layer 2, an alignment layer 3, wherein the alignment layer 3 comprises: a first alignment layer 5 covering the pixel unit layer 2;
  • the second alignment layer 6 is formed directly above the reflective layer 4.
  • the pixel unit layer 2 may include: a pixel unit and a cover pixel unit surrounded by the gate line and the data line
  • the passivation layer, the pixel unit may include a switching element.
  • the pixel unit may further include other portions such as a pixel electrode and/or a common electrode.
  • the alignment layer of the array substrate is made of the photosensitive material, and the rubbing alignment process is performed step by step, which can avoid the bad friction process of the transflective liquid crystal display and improve the overall quality of the screen.
  • the total thickness of the second alignment layer 6 and the reflective layer 4 is one-half of the thickness of the liquid crystal cell of the display panel; the optical path of the transmission region and the reflection region is kept uniform. Further, the area of the reflective layer 4 occupies one-half of the pixel unit of the display panel to improve the outdoor visibility of the display panel.
  • Embodiments of the present invention provide a display device including the above display panel.
  • the display device may also be an electronic paper including various display modes such as TN (Twisted Nematic), IPS (In-Plane Switching), FFS (Fringe Field Switching), and FFS (Fringe Field Switching). Display devices for mobile phones, televisions, digital photo frames, etc.
  • the alignment layer of the array substrate is formed by using the photosensitive polymer material, and the rubbing alignment process is performed step by step, thereby avoiding the occurrence of poor rubbing process of the transflective liquid crystal display and improving the overall quality of the screen.
  • a method of manufacturing a display panel comprising:
  • the array substrate and the color filter substrate are paired with the liquid crystal and injected between them.
  • the photosensitive polymer material comprises a selected from the group consisting of polyvinyl cinnamate, polyethylene oxy cinnamate, polyparaphenylene diacrylate, and polyvinyl alcohol. At least one of cinnamide acetate, divinylbenzene, hydrazine, hydrazine-hydrazinyl bisacrylamide, ethylene glycol diacrylate, and benzoin ester.
  • a pixel unit surrounded by a gate line and a data line, the pixel unit including a switching element; and a passivation layer covering the pixel unit.
  • a display panel comprising:
  • the array substrate comprises a substrate and a pixel unit layer and an alignment layer sequentially formed on the substrate, and
  • orientation layer comprises:
  • a second alignment layer is formed directly above the reflective layer. (12) The display panel according to (11), wherein a total thickness of the second alignment layer and the reflective layer is one-half the thickness of the liquid crystal cell of the display panel.
  • a display device comprising the display panel according to any one of (9) to (14).

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Abstract

提供一种显示面板及其制造方法和显示器件。该显示面板包括：对盒的彩膜基板和阵列基板；以及液晶，设置于所述彩膜基板和所述阵列基板之间，所述阵列基板包括基板（1）和依次形成于基板（1）上的像素单元层（2）和取向层（3），且其中所述取向层（3）包括：覆盖所述像素单元层（2）上的第一取向层（5）；形成在所述第一取向层（5）上对应反射区位置的反射层（4）；以及形成于所述反射层（4）正上方的第二取向层（6）。

Description

显示面板及其制造方法和显示器件 技术领域
本发明的实施例涉及一种显示面板及其制造方法和显示器件。 背景技术
在液晶显示器制造工程中， 传统的取向层摩擦方法都是同一基板取向相 同， 因此显示器件具有只能显示一种显示模式的优势， 同时也显示出了该模 式的劣势。 将各种模式的优劣情况综合起来成为显示领域的目标。 半透半反 模式显示就是一种将透射与反射结合起来的显示模式， 提高了应用产品的性 能， 扩大了应用产品的应用领域， 所以研发的热度也在与日倶增。 纵观显示 领域的发展现状， 在户外应用的显示产品， 半透半反模式已备受关注。
光敏高分子作为活泼的高分子材料， 其应用的范围也在日益扩大。 在光 敏高分子的使用过程中， 主要是利用光照来进行光敏高分子的稳定和降解。 旋涂工艺可在塑料基板或者添加粘合剂后在玻璃基板上进行， 挥发掉有机溶 剂后， 进行取向工艺， 而后进行紫外光照射使得光敏高分子稳定以达到取向 效果。
发明人发现传统工艺中半透半反传统的取向工艺是使用树脂材料先做好 阶梯状的层状结构， 然后摩擦取向 rubbing工艺在阶梯状的基板上进行， 这 样的工艺结果使得阶梯交界处发生工艺不良， 进而影响画面的整体品质。 发明内容
本发明的一个实施例提供一种显示面板的制造方法， 包括： 在基板上形 成像素单元层； 在所述像素单元层上形成第一光敏高分子层； 对所述第一光 敏高分子层进行第一方向的摩 4察取向； 对所述第一光敏高分子层进行干燥和 光照固化以形成第一取向层； 在所述第一取向层上对应反射区的位置形成反 射层； 在所述第一取向层和所述反射层上形成第二光敏高分子层； 对所述第 二光敏高分子层进行第二方向的摩擦取向； 对所述第二光敏高分子层进行干 燥处理并通过掩模板对所述反射层正上方的第二光敏高分子层进行光照固化 处理形成第二取向层， 得到阵列基板； 以及将所述阵列基板与彩膜基板对盒 并它们之间注入液晶。
本发明的另一个实施例提供一种显示面板， 包括： 对盒的彩膜基板和阵 列基板； 以及液晶， 设置于所述彩膜基板和所述阵列基板之间， 其中所述阵 列基板包括基板和依次形成于基板上的像素单元层和取向层， 且其中所述取 向层包括： 覆盖在所述像素单元层上的第一取向层；形成在所述第一取向层 上对应反射区位置的反射层； 以及形成于所述反射层正上方的第二取向层。
本发明的再一个实施例提供一种显示器件， 包括如上所述的显示面板。 附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案， 下面将对实施例的附图作 简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本发明的一些实施例， 而非对本发明的限制。
图 1为本发明实施例提供的显示面板制造过程中的结构一示意图； 图 2为本发明实施例提供的显示面板制造过程中的结构二示意图； 图 3为本发明实施例提供的显示面板制造过程中的结构三示意图； 图 4为本发明实施例提供的显示面板制造过程中的结构四示意图； 图 5为本发明实施例提供的显示面板制造过程中的结构五示意图； 图 6为本发明实施例提供的显示面板制造过程中的结构六示意图； 以及 图 7为本发明实施例提供的一种显示面板结构示意图。 具体实施方式
为使本发明实施例的目的、 技术方案和优点更加清楚， 下面将结合本发 明实施例的附图，对本发明实施例的技术方案进行清楚、 完整地描述。显然， 所描述的实施例是本发明的一部分实施例， 而不是全部的实施例。 基于所描 述的本发明的实施例， 本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获 得的所有其他实施例， 都属于本发明保护的范围。
本发明实施例提供的阵列基板的制造方法， 包括以下步骤：
S101、 在基板 1上形成像素单元层 2。
当然，根据现有技术，这里像素单元层可包括纵横交叉的栅线和数据线， 以及被数据线和栅线围成的像素单元。 像素单元包括开关元件， 开关元件一 般为薄膜场效应晶体管 （Thin Film Transistor, TFT )开关。 TFT开关包括： 源极、 漏极、 栅极和有源层。 在（扭曲向列） TN 的显示面板中， 该像素单 元层还包括与 TFT开关漏极相连的像素电极； 在（平面转换） IPS模式和边 缘场开关 （FFS )模式的显示面板中该像素单元层还包括公共电极层。 对于 根据本发明实施例的阵列基板对像素单元的结构没有特别限定， 可以使用任 何合适类型的像素结构。
此外， 该像素单元层还可包括一层覆盖在其上方的钝化层用来保护像素 单元层中的电学器件。
S102、 在像素单元层 2上形成第一光敏高分子层 50。
5103、 对第一光敏高分子层 50进行第一方向的摩擦取向。
结合图 1所示，该第一光敏高分子层 50包括光敏高分子材料和易挥发溶 剂。
其中可选的， 光敏高分子材料包括选自聚乙烯醇肉桂酸酯、 聚乙烯氧肉 桂酸乙酯、聚对亚苯基二丙烯酸酯、聚乙烯醇肉桂叉乙酸酯、二乙烯苯、 Ν,Ν- 亚曱基双丙烯酰胺、 双丙烯酸乙二醇酯和安息香酶酯中的至少一种； 易挥发 有机溶剂包括选自丙酮、 乙醇和环烷烃中的至少一种。
5104、 对第一光敏高分子层 50进行干燥和光照固化形成第一取向层 5。 结合图 2所示， 可选的，将阵列基板置于 80°C~100°C的环境中 4~6分钟 对第一光敏高分子层 50进行干燥， 以便挥发掉第一高敏光分子层 50中的易 挥发溶剂，然后釆用紫外线照射对第一光敏高分子层 50进行光固化进而形成 第一取向层 5。
5105、 在第一取向层 5上对应反射区的位置形成一层反射层 4, 所述反 射层 4的材质例如为金属。
如图 3所示， 可选的， 该反射层 4可以为金属铝， 此外反射层 4的面积 在显示面板的每个像素单元上占二分之一。
5106、 在第一取向层 5和反射层 4上形成第二光敏高分子层 60。
5107、 对第二光敏高分子层 60进行第二方向的摩擦取向。
结合图 4所示，该第二光敏高分子层 60包括光敏高分子材料和易挥发溶 剂； 其中可选的， 光敏高分子材料包括选在聚乙烯醇肉桂酸酯、 聚乙烯氧肉 桂酸乙酯、聚对亚苯基二丙烯酸酯、聚乙烯醇肉桂叉乙酸酯、二乙烯苯、 Ν,Ν- 亚曱基双丙烯酰胺、 双丙烯酸乙二醇酯和安息香酶酯中的至少一种； 易挥发 有机溶剂包括选自中的丙酮、 乙醇、 环烷烃至少一种。
此外， 可选的这里摩擦取向所釆用的第二方向可以与制作第一取向层 5 所选取的第一方向相同， 亦或根据需求釆取不同的取向方向。
S108、 对第二光敏高分子层 60进行干燥处理并通过掩模板对反射层 4 正上方的第二光敏高分子层 60进行光照固化处理形成第二取向层 6,得到阵 列基板；
结合图 5所示，可选的将阵列基板置于 80°C~100°C的环境中 4~6分钟对 第一光敏高分子层 50进行干燥， 以便挥发掉第一光敏高分子层 50中的易挥 发溶剂，然后釆用紫外线同过掩模板 70对位于金属反射层 4正上方的第二光 敏高分子层 60照射光固化， 形成第二取向层 6, 如图 6所示； 这里由于阵列 基板上的透射区的取向层和反射区的取向层分开进行摩擦取向， 因此避免了 釆用传统工艺的一次摩擦取向技术造成的第一取向层和第二取向层的阶梯交 界处的摩擦不良现象的发生。
另外， 在通过掩模板 70对反射层正上方的光敏高分子层进行光固化后， 还可包括将反射层之外的区域中的高分子材料层去除的步骤。 由于该区域的 高分子材料层未经受光照射， 因此没有被固化而可以容易地通过任何合适的 方法去除。 例如， 可以使用任何合适的溶剂将未经受光照射的部分去除。
S109、 将上述阵列基板与制作成型的彩膜基板对盒并注入液晶。
本发明的实施例提供的显示面板制造方法， 釆用光敏高分子材料制作取 向层， 摩擦取向工艺分步进行， 能够避免半透半反的液晶显示器的摩擦工艺 不良发生， 提高画面整体品质。
如图 7所示， 本发明实施例提供的显示面板包括：
包括对盒成型的彩膜基板和阵列基板， 其中彩膜基板和阵列基板之间含 有液晶。 阵列基板包括基板 1、像素单元层 2、取向层 3 ,其中取向层 3包括： 覆盖像素单元层 2的第一取向层 5;
形成在第一取向层 5上对应反射区位置的反射层 4;
形成于反射层 4正上方的第二取向层 6。
像素单元层 2可包括： 由栅线和数据线围成的像素单元和覆盖像素单元 的钝化层， 像素单元可包括开关元件。 另外， 像素单元还可以包括像素电极 和 /或公共电极等其他部分。
本发明的实施例提供的显示面板,釆用光敏材料制作阵列基板的取向层， 摩擦取向工艺分步进行， 能够避免半透半反的液晶显示器的摩擦工艺不良发 生， 提高画面整体品质。
此外第二取向层 6和反射层 4的总厚度为显示面板的液晶盒厚的二分之 一； 以保持透射区和反射区的光程一致。 进一步可选的， 反射层 4的面积在 显示面板的每个像素单元上占二分之一，以实现提高显示面板的户外可视性。
本发明实施例提供一种显示器件， 包括上述的显示面板。 另外， 该显示 器件还可以为包括 TN( Twisted Nematic，扭曲向列）、 IPS ( In-Plane Switching , 平面转换） 、 FFS ( Fringe Field Switching, 边缘场开关技术）等各种显示模 式的电子纸、 手机、 电视、 数码相框等等显示设备。
本发明的实施例提供的显示器件， 釆用光敏高分子材料制作阵列基板的 取向层， 摩擦取向工艺分步进行， 能够避免半透半反的液晶显示器的摩擦工 艺不良发生， 提高画面整体品质。
( 1 )一种显示面板的制造方法， 包括：
在基板上形成像素单元层；
在所述像素单元层上形成第一光敏高分子层；
对所述第一光敏高分子层进行第一方向的摩擦取向；
对所述第一光敏高分子层进行干燥和光照固化以形成第一取向层； 在所述第一取向层上对应反射区的位置形成反射层；
在所述第一取向层和所述反射层上形成第二光敏高分子层；
对所述第二光敏高分子层进行第二方向的摩 4察取向；
对所述第二光敏高分子层进行干燥处理并通过掩模板对所述反射层正上 方的第二光敏高分子层进行光照固化处理形成第二取向层， 得到阵列基板； 以及
将所述阵列基板与彩膜基板对盒并它们之间注入液晶。
( 2 )根据（1 )所述的制造方法， 其中所述第一光敏高分子层和所述第 二高分子层包括： 光敏高分子材料和易挥发有机溶剂。 (3)根据（2)所述的制造方法， 其中所述光敏高分子材料包括选自聚 乙烯醇肉桂酸酯、 聚乙烯氧肉桂酸乙酯、 聚对亚苯基二丙烯酸酯、 聚乙烯醇 肉桂叉乙酸酯、 二乙烯苯、 Ν,Ν-亚曱基双丙烯酰胺、 双丙烯酸乙二醇酯和安 息香酶酯中的至少一种。
( 4 )根据（ 2 )或（ 3 )所述的制造方法， 其中所述易挥发有机溶剂包括 选自丙酮、 乙醇和环烷烃中的至少一种。
( 5 )根据（ 1 ) - ( 4 )中任一项所述的制造方法， 其中所述反射层为铝。 (6)根据（1 ) - (5) 中任一项所述的制造方法， 其中所述第一方向和 所述第二方向相同或不同。
(7)根据 (1 ) - (7) 中任一项所述的制造方法， 其中所述光照固化为 釆用紫外线光照固化。
(8)根据 (1 ) - (7) 中任一项所述的制造方法， 其中所述干燥处理为 放置于 80°C~100°C的环境中 4~6分钟。
(9)根据 (1 ) - (8) 中任一项所述的制造方法， 其中在对所述第二光 敏高分子层进行干燥处理并通过掩模板对所述反射层上方的第二光敏高分子 层进行光照固化处理后， 还包括将所述反射层之外的区域的第二光敏高分子 层去除， 以露出未被所述反射层覆盖的第一取向层。
( 10 )根据 (1) - (9)中任一项所述的制造方法， 其中所述像素单元层 包括：
由栅线和数据线围成的像素单元， 所述像素单元包括开关元件； 以及 覆盖所述像素单元的钝化层。
(11)一种显示面板， 包括：
对盒的彩膜基板和阵列基板； 以及
液晶， 设置于所述彩膜基板和所述阵列基板之间，
其中所述阵列基板包括基板和依次形成于基板上的像素单元层和取向 层， 且
其中所述取向层包括：
覆盖在所述像素单元层上的第一取向层；
形成在所述第一取向层上对应反射区位置的反射层； 以及
形成于所述反射层正上方的第二取向层。 ( 12)根据 ( 11 )所述的显示面板， 其中所述第二取向层和所述反射层 的总厚度为所述显示面板的液晶盒厚的二分之一。
( 13 )根据（ 11 )或（ 12 )所述的显示面板， 其中所述像素单元层包括: 由栅线和数据线围成的像素单元， 所述像素单元包括开关元件； 以及 覆盖所述像素单元的钝化层。
(14)根据 (13)所述的显示面板， 其中所述反射层的面积在所述显示 面板的每个像素单元上占二分之一。
(15)一种显示器件， 包括（9) - (14) 中任一项所述的显示面板。 以上所述仅是本发明的示范性实施方式， 而非用于限制本发明的保护范 围， 本发明的保护范围由所附的权利要求确定。

Claims

权利要求书
1、 一种显示面板的制造方法， 包括：
在基板上形成像素单元层；
在所述像素单元层上形成第一光敏高分子层；
对所述第一光敏高分子层进行第一方向的摩 4察取向；
对所述第一光敏高分子层进行干燥和光照固化以形成第一取向层； 在所述第一取向层上对应反射区的位置形成反射层；
在所述第一取向层和所述反射层上形成第二光敏高分子层；
对所述第二光敏高分子层进行第二方向的摩擦取向；
对所述第二光敏高分子层进行干燥处理并通过掩模板对所述反射层正上 方的第二光敏高分子层进行光照固化处理形成第二取向层， 得到阵列基板； 以及
将所述阵列基板与彩膜基板对盒并它们之间注入液晶。
2、根据权利要求 1所述的制造方法，其中所述第一光敏高分子层和所述 第二高分子层包括： 光敏高分子材料和易挥发有机溶剂。
3、根据权利要求 2所述的制造方法，其中所述光敏高分子材料包括选自 聚乙烯醇肉桂酸酯、 聚乙烯氧肉桂酸乙酯、 聚对亚苯基二丙烯酸酯、 聚乙烯 醇肉桂叉乙酸酯、 二乙烯苯、 Ν,Ν-亚曱基双丙烯酰胺、 双丙烯酸乙二醇酯和 安息香酶酯中的至少一种。
4、根据权利要求 2或 3所述的制造方法，其中所述易挥发有机溶剂包括 选自丙酮、 乙醇和环烷烃中的至少一种。
5、 根据权利要求 1-4中任一项所述的制造方法， 其中所述反射层为铝。
6、根据权利要求 1-5中任一项所述的制造方法， 其中所述第一方向和所 述第二方向相同或不同。
7、根据权利要求 1-7中任一项所述的制造方法， 其中所述光照固化为釆 用紫外线光照固化。
8、根据权利要求 1-7中任一项所述的制造方法， 其中所述干燥处理为放 置于 80°C~100°C的环境中 4~6分钟。
9、根据权利要求 1-8中任一项所述的制造方法， 其中在对所述第二光敏 高分子层进行干燥处理并通过掩模板对所述反射层上方的第二光敏高分子层 进行光照固化处理后， 还包括将所述反射层之外的区域的第二光敏高分子层 去除， 以露出未被所述反射层覆盖的第一取向层。
10、 根据权利要求 1-9中任一项所述的制造方法， 其中所述像素单元层 包括：
由栅线和数据线围成的像素单元， 所述像素单元包括开关元件； 以及 覆盖所述像素单元的钝化层。
11、 一种显示面板， 包括：
对盒的彩膜基板和阵列基板； 以及
液晶， 设置于所述彩膜基板和所述阵列基板之间，
其中所述阵列基板包括基板和依次形成于基板上的像素单元层和取向 层， 且
其中所述取向层包括：
覆盖在所述像素单元层上的第一取向层；
形成在所述第一取向层上对应反射区位置的反射层； 以及
形成于所述反射层正上方的第二取向层。
12、根据权利要求 11所述的显示面板，其中所述第二取向层和所述反射 层的总厚度为所述显示面板的液晶盒厚的二分之一。
13、根据权利要求 11或 12所述的显示面板，其中所述像素单元层包括： 由栅线和数据线围成的像素单元， 所述像素单元包括开关元件； 以及 覆盖所述像素单元的钝化层。
14、根据权利要求 13所述的显示面板，其中所述反射层的面积在所述显 示面板的每个像素单元上占二分之一。
15、 一种显示器件， 包括权利要求 9-14中任一项所述的显示面板。
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