WO2013168849A1 - 와이어 그리드 편광자 및 그 제조방법, 와이어 그리드 편광자를 구비하는 액정 디스플레이 패널 및 액정 디스플레이 장치 - Google Patents

와이어 그리드 편광자 및 그 제조방법, 와이어 그리드 편광자를 구비하는 액정 디스플레이 패널 및 액정 디스플레이 장치 Download PDF

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강신일
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연세대학교 산학협력단
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Definitions

  • the present invention relates to a wire grid polarizer capable of improving light efficiency by applying an optimized nano wire grid pattern to an LCD panel, a method of manufacturing the same, and a liquid crystal display panel and a liquid crystal display device including the wire grid polarizer.
  • a liquid crystal display device is an electronic device that transmits various electrical information generated by various devices to visual information by using a change in liquid crystal transmittance according to an applied voltage.
  • Liquid crystal display devices have attracted attention as an alternative means of overcoming the shortcomings of the CRT (Cathode Ray Tube), which has been widely used since they have advantages such as miniaturization, light weight, and low power consumption. Is installed in almost all information processing equipment.
  • CRT Cathode Ray Tube
  • FIG. 1 illustrates a structure of a conventional liquid crystal display device.
  • the liquid crystal display device 10 includes a TFT substrate 11 having a gate line, a data line, a thin film transistor (TFT), a pixel electrode, and the like. And a color filter substrate 12 disposed opposite to each other and having a color filter and a common electrode formed therein, and a liquid crystal layer 13 filled between the TFT substrate 11 and the color filter substrate 12. And the like.
  • the TFT substrate 11 is a transparent glass substrate on which a matrix thin film transistor is formed.
  • a data line is connected to a source terminal and a gate line is connected to a gate terminal.
  • a pixel electrode 11a made of transparent indium tin oxide (ITO) is formed as a conductive material.
  • the color filter substrate 12 is disposed thereon opposite the TFT substrate 11.
  • the color filter substrate 12 is a substrate in which R, G, and B pixels, which are color pixels in which a predetermined color is expressed while light passes, are formed by a thin film process, and a common electrode 12a made of ITO is formed on the entire surface thereof.
  • the lower portion of the TFT substrate 11 and the upper portion of the color filter substrate 12 are provided with polarizing plates 16 and 17 for polarizing the unpolarized light provided by the light source by linearly polarized light.
  • the polarizing plates 16 and 17 keep the transmission direction of light constant according to the alignment direction of the liquid crystal layer 13.
  • the polarizing plates 16 and 17 transmit light in a specific polarization direction separately from the polarizing plates 16 and 17, and different polarizations.
  • Reflective polarizing plate (DBEF or WGP) 20 is provided to reflect the light in the direction to increase the recycling rate of the light.
  • the liquid crystal display device 10 since the liquid crystal provided in the liquid crystal layer 13 is a light receiving element, the liquid crystal display device 10 requires a portion for separately providing light.
  • a separate backlight unit 18 is formed on the back of the TFT substrate 11.
  • the backlight unit 18 is provided with a lamp for providing light and a light guide plate and other films for evenly distributing the light over the entire area of the substrate.
  • the liquid crystal display device 10 having such a configuration does not transmit all of the light provided from the backlight unit 18, and thus brightness is very important.
  • Various films have been developed and used to improve the brightness of the liquid crystal display device 10, and a representative example thereof is a reflective polarizing film (polarizing plate).
  • Such reflective polarizing film has recently played an important role in the display industry, which is one of the domestic core industries.
  • various types of reflective polarizing films include dual brightness enhancement film (DBEF) and diffusive reflective polarization film (DRPF).
  • DBEF is a film in which an isotropic film and an anisotropic film are repeatedly formed to have a stack structure of several hundred layers (about 600 layers or more).
  • the DRPF is formed to form a material having a different refractive index from the film in the film, and the light passing through the film increases as the light is reflected and refracted by the material.
  • DBEF since DBEF has the highest luminance improvement ratio, the DBEF has an advantage of improving light efficiency characteristics when applied to a liquid crystal display device.
  • a DBEF is not a complete polarizer, and it is difficult to use it in a low-cost liquid crystal display device because the manufacturing process is complicated and the manufacturing cost is very high because it is required to form hundreds of layers of thin film laminated structure. .
  • a wire grid polarizer is a polarizing element that transmits light in a specific polarization direction and reflects and recycles light in a different polarization direction.
  • WGP wire grid polarizer
  • Such wire grid polarizers have a high polarization separation performance compared to other polarizers, and thus are usefully used as reflective polarizers.
  • the conventional wire grid polarizer 20 is a device for generating polarized light using a conductive wire grid (wire grid), the wire made of a conductive material on the transparent substrate 21 periodically parallel to the nano-size It has a structure in which the arranged wire grid pattern 22 is formed. Since the diffraction does not occur when the period of the wire grid is less than the wavelength of the incident light, the wire grid polarizer 20 has a vibration direction orthogonal to the conductive wire grid, that is, TM (polarized light) polarization is transmitted. In addition, components having a vibration direction parallel to the wire grid, that is, TE (Transverse Electric) polarization are reflected.
  • TM polarized light
  • the conventional wire grid polarizer 20 as described above has a wire grid pattern of the same shape for the entire area of the substrate 21, and a single wire grid pattern of the same shape is uniform for the entire wavelength range of visible light. Because the structure is applied to the light of a specific wavelength can be obtained a relatively excellent light efficiency, but the light efficiency of the remaining wavelength has a problem that is not good. That is, as shown in FIG.
  • the light polarized through the wire grid polarizers 20a and 20b disposed below and above the liquid crystal layer 13 in the liquid crystal display device 10 may have a specific wavelength component (eg, Only the light of the "G” arrow in the figure has a high transmittance, but the light of the remaining wavelength components (for example, the "R” and “B” arrows in the figure) has a poor transmittance, resulting in low light efficiency.
  • the conventional wire grid polarizer 20 does not have an optimal design for each color of the red, green, and blue colors of the color filter substrate 12, so that the efficiency is advantageous only in a specific wavelength range and the overall light efficiency is deteriorated. Due to the technical limitations of large-area nanowire pattern fabrication, it is urgently needed to develop a new concept of reflective polarizer to improve light efficiency.
  • an object of the present invention is to apply the nano-wire grid pattern optimized for each color of the color filter substrate to the LCD to increase the polarization performance and light reuse efficiency and increase the light efficiency. It is providing the liquid crystal display panel and liquid crystal display device provided with the wire grid polarizer which can be improved, its manufacturing method, and this wire grid polarizer.
  • the wire grid polarizer of the present invention has a plurality of regions, and the shapes of the wire grid patterns of the plurality of regions are different for each region.
  • At least one of a period P, a height H, a width W, and a duty cycle of the wire grid patterns of the plurality of regions may be differently formed for each region.
  • the wire grid polarizer of the present invention has a plurality of pixel regions, each pixel region has a plurality of sub-pixel regions, the shape of the wire grid pattern of the plurality of sub-pixel regions is formed differently for each sub-pixel region Can be.
  • the wire grid pattern may be formed to have an arrangement structure parallel to a boundary surface that defines a plurality of subpixels.
  • the wire grid pattern may be formed to have an array structure perpendicular to the boundary surface defining a plurality of subpixels.
  • the wire grid pattern may be formed by patterning a conductive material in the form of a wire grid on a glass substrate made of a transparent material.
  • the wire grid pattern is a stamp in which wire grid patterns having different shapes are formed in subpixels, pixels, or groups of pixels in a state in which an imprinting resin including an conductive material is formed on a substrate. It can be formed by repeatedly imprinting on the imprinting resin using).
  • a lithography process by laser interference is performed by sequentially applying a plurality of open and closed masks for each subpixel region. It can be formed through.
  • the wire grid pattern may be formed by sequentially stacking a conductive material layer and a photoresist layer on a substrate.
  • the wire grid pattern may have a different shape for each subpixel region in the photoresist layer using an electron beam (E-beam). It may be formed by forming a wire grid pattern by etching the conductive material using a photoresist formed with the wire grid pattern as a mask, and then remove the remaining photoresist.
  • E-beam electron beam
  • a liquid crystal display panel having a TFT substrate, a color filter substrate disposed to face the TFT substrate, and a liquid crystal layer interposed between the TFT substrate and the color filter substrate.
  • the method may include a plurality of regions corresponding to the sub-pixels of the color filter substrate, wherein the shapes of the wire grid patterns of the plurality of regions include different wire grid polarizers for each region.
  • the wire grid polarizer may be disposed on the lower side of the liquid crystal layer.
  • a polarizer may be additionally provided between the liquid crystal layer and the wire grid polarizer.
  • the wire grid polarizer may be disposed on an upper side of the liquid crystal layer.
  • the sub-pixel color of the color filter substrate may be composed of R (Red), G (Green), B (Blue).
  • the color of the subpixel of the color filter substrate may be composed of R (Red), G (Green), or B (Blue), G (Green).
  • the wire grid pattern may be formed to have an arrangement structure parallel to the boundary surface defining the subpixels.
  • the wire grid pattern may be formed to have an arrangement structure perpendicular to the boundary surface of the subpixel.
  • the wire width of the wire grid pattern for each color of the subpixel may be formed to have a size of R> G> B.
  • the wire height of the wire grid pattern for each color of the subpixel may be formed to have a height of R> G> B.
  • a display unit including a liquid crystal display panel;
  • a backlight unit for generating light and providing the light to the display unit, wherein the backlight unit has a plurality of regions corresponding to the subpixels of the color filter substrate, and has a shape of a wire grid pattern of the plurality of regions. It characterized in that it comprises a different wire grid polarizer for each region.
  • the wire grid polarizer may be disposed on the lower side of the liquid crystal layer.
  • a polarizer may be additionally provided between the liquid crystal layer and the wire grid polarizer.
  • the wire grid polarizer may be disposed on an upper side of the liquid crystal layer.
  • the sub-pixel color of the color filter substrate may be composed of R (Red), G (Green), B (Blue).
  • the color of the subpixel of the color filter substrate may be composed of R (Red), G (Green), or B (Blue), G (Green).
  • the wire grid pattern may be formed to have an arrangement structure parallel to the boundary surface defining the subpixels.
  • the wire grid pattern may be formed to have an arrangement structure perpendicular to the boundary surface of the subpixel.
  • the wire width of the wire grid pattern for each color of the subpixel may be formed to have a size of R> G> B.
  • the wire height of the wire grid pattern for each color of the subpixel may be formed to have a height of R> G> B.
  • the present invention for solving the above technical problem, a method for manufacturing a wire grid polarizer, it characterized in that the unit process for forming a wire grid pattern in units of at least one pixel region is repeated a plurality of times.
  • the wire grid pattern may be manufactured using a stamp having a pattern corresponding to the wire grid pattern of the at least one pixel region.
  • a wire grid pattern may be manufactured through a lithography process using laser interference using a mask having a pattern corresponding to the wire grid pattern of the at least one pixel region.
  • the sub-pixels are formed by forming different wire grid patterns according to sub-pixel color regions of the color filter substrate.
  • Application of a grating pattern optimized for each color of the light emitting device may improve light efficiency of the liquid crystal display device.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view showing the structure of a conventional general liquid crystal display device.
  • FIG. 2 is a perspective view showing a wire grid polarizer structure provided in a conventional liquid crystal display device.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view of FIG.
  • FIG. 4 is an exemplary view showing that the light transmittance is biased only to a specific wavelength band in a liquid crystal display device using a conventional wire grid polarizer.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view showing a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 6 is a plan view showing a pattern structure of a wire grid polarizer provided in the liquid crystal display device of the present invention.
  • FIG. 7 is a cross-sectional view of the wire grid polarizer according to the present invention (only one pixel is shown).
  • FIG. 8 is a plan view showing the pattern structure of the wire grid polarizer disposed on the upper and lower portions of the liquid crystal layer in the liquid crystal display device according to the present invention.
  • FIG. 9 is a perspective view showing the three-dimensional structure of FIG.
  • FIG. 10 is an exemplary view for explaining the principle that the light efficiency is improved in the liquid crystal display device to which the wire grid polarizer of the present invention is applied.
  • FIG. 11 is a graph illustrating the color-specific TM polarization transmittance performance by the wire grid polarizer of the present invention compared with the conventional wire grid polarizer.
  • FIG. 12 is an exemplary view showing a wire grid polarizer of the present invention disposed on an upper portion of a TFT substrate and a lower portion of a color filter substrate, respectively.
  • Figure 13 is a plan view showing the structure of a stamp used in the manufacture of the wire grid polarizer of the present invention.
  • FIG. 14 is a cross-sectional view showing a cross-sectional structure of the stamp shown in FIG.
  • 15 is a process chart showing a method of manufacturing a wire grid polarizer by an imprinting process.
  • FIG. 16 is an exemplary view showing an example in which a wire grid pattern is applicable to one patterning without breaking pixel by pixel when manufacturing a wire grid polarizer by an imprinting process.
  • FIG. 17 is a cross-sectional view illustrating a method of manufacturing a wire grid polarizer using a lithography process caused by laser interference.
  • 18 is a plan view showing the structure of a mask used in a lithography process due to laser interference.
  • 19 is a process diagram sequentially illustrating a process of manufacturing a wire grid polarizer through a lithography process using an electron beam.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention.
  • FIG. 5 illustrates only one pixel unit for convenience.
  • the liquid crystal display device 300 may include a display unit 100 that displays an image by adjusting the light transmittance of the liquid crystal according to the input image data.
  • the backlight unit 200 is configured to generate light and provide the light to the display unit 100.
  • the display unit 100 is disposed to face a TFT substrate 110 having a gate line, a data line, a thin film transistor (TFT), a pixel electrode, and the like, and an upper portion of the TFT substrate 110. And a color filter substrate 120 including a color filter and a common electrode, and a liquid crystal layer 130 interposed between the TFT substrate 110 and the color filter substrate 120.
  • a liquid crystal display panel is included.
  • the TFT substrate 110 is a transparent glass substrate on which a matrix thin film transistor is formed.
  • a data line is connected to a source terminal and a gate line is connected to a gate terminal.
  • the drain electrode is formed with a pixel electrode 160 made of transparent indium tin oxide (ITO) as a conductive material.
  • ITO transparent indium tin oxide
  • the color filter substrate 120 is a substrate in which R (Red), G (Green), and B (Blue) pixels, which are color pixels in which a predetermined color is expressed as light passes, are formed by a thin film process, and are made of ITO on the front surface.
  • the common electrode 170 is applied.
  • alignment layers 170 and 160 are disposed on the lower portion of the color filter substrate 120 and the upper portion of the TFT substrate 110 to align the liquid crystal provided in the liquid crystal layer 130.
  • a wire grid polarizer (WGP) wirea polarizer (WGP) 180a (reflective polarizing element) which transmits a specific polarization component of incident light and reflects the remaining polarization components in the upper and lower side directions based on the liquid crystal layer 130 ( 180b).
  • WGP wire grid polarizer
  • WGP wirea polarizer
  • FIG. 6 is a plan view showing a pattern structure of the wire grid polarizer 180 provided in the liquid crystal display device 300 of the present invention
  • FIG. 7 is a cross-sectional structure of the wire grid polarizer 180 according to the present invention.
  • 8 is a plan view showing a pattern structure of wire grid polarizers 180a and 180b disposed on the upper and lower portions of the liquid crystal layer 130 in the liquid crystal display device 300 according to the present invention. It is a perspective view showing the three-dimensional structure of.
  • the wire grid polarizer 180 has a conductive material (eg, a metal) arranged on a transparent substrate 182 in a nanoscale wire grid pattern.
  • the wire grid polarizer 180 includes a plurality of (three in the drawings) regions corresponding to three subpixel (R, G, B region) regions constituting a unit pixel of the color filter substrate 120.
  • the shape of the wire grid pattern 184 having S1, S2, and S3 and formed in the plurality of regions S1, S2, and S3 is differently formed for each region.
  • the wire grid polarizer 180 has a plurality of pixel regions arranged in a matrix form as shown in FIG. 6, and each pixel region in turn has a plurality of sub pixel regions S1, S2, and S3. .
  • the plurality of pixel areas correspond to the pixels of the color filter substrate 120
  • the plurality of sub pixel areas S1, S2, and S3 correspond to the sub pixels of the color filter substrate 120.
  • the color filter substrate 120 includes three color pixels, that is, three sub pixels corresponding to R, G, and B constitute one unit pixel, and a black matrix between the R, G, and B sub pixel areas.
  • the plurality of pixel regions formed in the wire grid polarizer 180 has an R sub pixel region S1, a G sub pixel region S2, and a B sub pixel region S3.
  • the wire grid patterns 184 formed in the R, G, and B sub pixel areas S1, S2, and S3 are formed in different shapes.
  • FIG. 7 shows a wire grid with different widths W, heights H, and periods P in the R, G, and B subpixel regions S1, S2, and S3 in one unit pixel A.
  • FIG. The pattern 184 is shown.
  • the width W of the wire grid pattern 184 formed for each color of the subpixel is formed to have a size of R> G> B
  • the height H of the wire grid pattern 184 is R> G. > B can be formed to have a height.
  • the wire grid pattern 184 formed in each of the sub-pixel areas S1, S2, and S3 for each of the R, G, and B colors may have a period P of forming the wire grid pattern 184, and a wire grid pattern.
  • a duty cycle (DC) for forming the wire grid pattern 184 is
  • the shape of the wire grid pattern 184 may include a period (P), a width (W), a height (H), and a duty cycle (DC) of the wire grid pattern 184. / P), etc., at least one of the period, width, height, and duty cycle of the wire grid pattern 184 differs for each region.
  • the shape of the wire grid pattern 184 is most preferable by appropriately designing the period (P), width (W), height (H) and DC values for each wavelength band of each color according to the color (R, G, B) of the subpixel. It can be formed in a pattern form.
  • the wire grid polarizers 180a and 180b may be provided in upper and lower side directions with respect to the liquid crystal layer 130.
  • the wire grid pattern 184 formed on the substrate 182 may have a boundary surface R between the subpixels S1, S2, and S3. It may be formed to have a vertical arrangement structure (a in FIG. 9), or may have an arrangement structure parallel to the boundary surface R of the subpixels S1, S2, and S3 (b in FIG. 9).
  • the wire grid patterns 184 of the wire grid polarizer 180b provided below the liquid crystal layer 130 and the wire grid polarizer 180a provided above the liquid crystal layer 130 have their polarization axes perpendicular to each other. It is preferable. This is the same reason that the polarization axes of the conventional polarizing plates employed on the lower and upper portions of the liquid crystal layer 130 are perpendicular to each other.
  • the wire grid polarizer 180 may be used in at least one of the upper and lower portions of the liquid crystal layer 130 in the liquid crystal display device 300.
  • the wire grid polarizer 180 may be provided only on the lower side of the liquid crystal layer 130, may be provided only on the upper side of the liquid crystal layer 130, and as shown in FIG. 5, the upper portion of the liquid crystal layer 130 is provided. It may be provided both on the lower side.
  • the wire grid polarizer 180 may be used in place of or in combination with a conventional polarizer.
  • a conventional polarizer may be attached to a lower surface of the liquid crystal display panel, and the wire grid polarizer 180 of the present invention may be provided under the polarizer. 5 described above shows an embodiment in which the wire grid polarizer 180 is used in place of a conventional polarizer.
  • the wire grid polarizer of the present invention having the above-described configuration has an R sub pixel region S1 of the wire grid polarizer 180b positioned below the liquid crystal layer 130 to maximize the polarization of the R wavelength band.
  • the transmitted light passes through the liquid crystal layer 130 and reaches the color filter of the R subpixel.
  • the color filter of the R subpixel transmits light in the R wavelength band and absorbs light in the other wavelength band.
  • the G subpixel region S2 of the wire grid polarizer 180b positioned below the liquid crystal layer 130 transmits the polarized light of the G wavelength band to the maximum, and the transmitted light passes through the liquid crystal layer 130 to G.
  • the color filter of the subpixel is reached.
  • the color filter of the G subpixel transmits light of the G wavelength band and absorbs light of another wavelength band. The same applies to the B wavelength band.
  • the wire grid pattern 184 may be formed for each color (R, G, B) of the subpixels of the color filter substrate 120. Can be formed in different optimized pattern shapes, so that excellent transmittance can be obtained for each of the R, G, and B wavelength bands, thereby improving the light efficiency characteristics of the liquid crystal display device 300.
  • FIG. 11 is a graph illustrating the color-specific TM polarization transmittance performance by the wire grid polarizer 180 of the present invention compared with the conventional wire grid polarizer.
  • the result of TM polarization transmittance of the conventional single-shaped wire grid polarizer and the wire grid polarizer 180 of this invention was obtained through simulation.
  • the wire grid polarizer 180 of the present invention having the independent color-by-color (R, G, B) independent pattern of the subpixels is superior to each wavelength band (R, G, B) as compared to the conventional single-shaped wire grid polarizer. It was found that the transmittance could be obtained.
  • the conventional wire grid polarizer has a single shape of period 200 nm, height 165 nm and duty cycle 0.4.
  • the wire grid polarizer 180 of the present invention red (R) has a period 270nm, height 220nm and duty cycle 0.3, green (G) has a period 200nm, height 165nm and duty cycle 0.4, blue (B) Has a period of 140 nm, a height of 150 nm and a duty cycle of 0.4.
  • FIG. 12 illustrates an example in which the wire grid polarizers 180a and 180b of the present invention are applied to other positions in the liquid crystal display device 300.
  • the wire grid polarizers 180a and 180b of the present invention are described above. 5 may be applied to the lower portion of the TFT substrate 110 and the upper portion of the color filter substrate 120 as in the embodiment of FIG. 5, and as shown in FIG. 12, the wire grid polarizers 180a and 180b may be used. May be disposed above the TFT substrate 110 and below the color filter substrate 120, respectively.
  • the wire grid pattern 184 is formed on the TFT substrate 110 or the color filter substrate 120 and the glass substrate 182 as an example. However, a separate film (or sheet) has been described. On the structure of the shape may be configured by forming a wire grid pattern having a different independent structure as described above, respectively disposed in the upper and lower appropriate positions with respect to the liquid crystal layer 130.
  • the sub-pixel color of the color filter substrate 120 is composed of three colors of R (Red), G (Green), and B (Blue) as an example.
  • the color of the subpixel of the color filter substrate 120 is composed of R (Red), G (Green), or B (Blue), G (Green), so that two colors RG and BG constitute one pixel.
  • a liquid crystal display device having a pentile method in which pixels formed with RG and BG are alternately arranged.
  • FIGS. 13 to 16 illustrate a manufacturing method of the wire grid polarizer 180 according to the first embodiment of the present invention, and shows a manufacturing method of the wire grid polarizer 180 by an imprinting method. Giving.
  • FIG. 13 is a plan view illustrating a stamp for manufacturing the wire grid polarizer 180
  • FIG. 14 is a cross-sectional view illustrating a cross-sectional structure of the stamp illustrated in FIG. 13.
  • the stamp 210 illustrated in FIGS. 13 and 14 is a stamp 210 capable of forming a wire grid pattern 184 having a 3 ⁇ 3 pixel area.
  • the stamp 210 is formed in the three subpixel regions constituting each pixel.
  • Another type of wire grid pattern is formed.
  • the interval between the subpixels is a portion where the black matrix is positioned in the liquid crystal display device, and is a region through which light is not transmitted.
  • FIG. 15 is a process diagram sequentially illustrating a process of manufacturing the wire grid polarizer 180 by an imprinting process using the stamp 210 on which the wire grid pattern 184 is formed.
  • the wire grid pattern 184 is formed on the substrate 182 through a sequential imprint process as shown in FIG. 15 by using a stamp 210 having different types of wire grid patterns for each subpixel region. Can be formed. That is, after applying an imprinting resin containing a conductive material on the substrate 182 to form a wire grid, a stamp 210 having the wire grid pattern 184 shown in FIGS. 13 and 14 is applied. The stamp 210 fmf is pressed through a press in a state where the imprinting resin is positioned on the substrate 182 to which the imprinting resin is applied to form a wire grid pattern on the imprinting resin.
  • Figure 16 shows another form of the wire grid pattern applied to the stamp 210 is applied during the imprinting process, as shown in Figure 16, when forming the wire grid pattern on the printing surface of the stamp 210 If the pixels of a column are formed in a connected structure without pixel-by-pixel connection, it is possible to apply one patterning to the entire line of pixels. In this case, since the precision for forming the wire grid pattern on the stamp 210 can be lowered, there is an advantage in that the production of the stamp becomes easy.
  • 17 and 18 illustrate a method of manufacturing the wire grid polarizer 180 according to the second embodiment of the present invention, which manufactures the wire grid polarizer 180 through a lithography process by laser interference. The process is shown.
  • a metal layer (not shown), which is a conductive material, is formed on the transparent substrate 182 to form a wire grid pattern, and the photoresist layer 220 is formed on the metal layer.
  • a plurality of masks (M1) (M1), M2 (M3), which are open and closed by color (R, G, B) of subpixels such as 2 are sequentially applied.
  • the diffraction interference fringes D formed by the interference of the laser lights L1 and L2 irradiated from the two light sources are irradiated to the open subpixel areas of the mask to form different wire grid patterns.
  • the metal layer is etched using the photoresist on which the wire grid pattern is formed as a mask, and the photoresist remaining on the metal layer is removed to complete the manufacture of the wire grid polarizer 180.
  • the wire grid polarizer is divided by repeating a laser interference lithography unit process of dividing the entire area of the wire grid polarizer to form a wire grid pattern in units of at least one pixel region. Can be prepared.
  • patterning is performed by using a total of three laser interferences, once for each mask M1, M2, and M3.
  • the wire grid pattern 184 can be efficiently formed on the large-area substrate 182 easily.
  • FIG. 19 illustrates a method of manufacturing the wire grid polarizer 180 according to the third embodiment of the present invention.
  • the wire grid polarizer 180 is formed through a lithography process using an electron beam. It shows how to make it.
  • a conductive material is formed on the transparent substrate 182 to form a nanowire grid pattern.
  • different pattern shapes are generated for each color (R, G, B) region of the subpixel by irradiating an electron beam (E-beam) on the photoresist layer 250.
  • E-beam electron beam
  • the photoresist layer 250 having the wire grid pattern formed thereon as a mask After etching the metal layer 240 through a dry etching process or a wet etching process using the photoresist layer 250 having the wire grid pattern formed thereon as a mask, the photo remaining on the wire grid pattern metal layer 240. The resist 250 is removed to complete the wire grid polarizer 180.
  • the wire grid polarizer of the present invention when manufacturing the wire grid polarizer of the present invention, it is possible to form a wire grid pattern over the entire area of the wire grid polarizer in one step, and also, according to the trend toward the large area of the display device, a large area wire
  • the wire grid polarizer may be manufactured more efficiently by dividing the entire area of the wire grid polarizer and repeatedly performing the unit process of forming a wire grid pattern in units of at least one pixel area. .
  • the unit process can be performed at the boundary between the pixel regions of the wire grid polarizer corresponding to the black matrix of the liquid crystal display panel, the alignment accuracy of the wire grid pattern is excellent.
  • the wire grid polarizer 180 is used for the liquid crystal display device 300 has been described as an example, but the present invention is not limited thereto, and the wire grid polarizer 180 of the present invention is not limited thereto.
  • the wire grid polarizer manufacturing method of the present invention may be manufactured through various manufacturing methods, without being limited to the manufacturing inventions such as imprinting, laser interference lithography, electron beam lithography, and the like described above.
  • display unit 110 TFT substrate
  • wire grid polarizer 182 substrate
  • wire grid pattern 200 backlight unit
  • stamp 300 liquid crystal display device

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Abstract

본 발명은 LCD 패널에 최적화된 나노 와이어 그리드 패턴의 적용하여 광효율 향상시킬 수 있는 와이어 그리드 편광자 및 그 제조방법, 그리고 이 와이어 그리드 편광자를 구비한 액정 디스플레이 패널 및 액정 디스플레이 장치에 관한 것이다. 이를 위한 본 발명은 본 발명의 와이어 그리드 편광자는, 복수의 영역을 가지되, 상기 복수의 영역의 와이어 그리드(wire grid) 패턴의 형상이 영역별로 서로 다른 것을 특징으로 한다.

Description

와이어 그리드 편광자 및 그 제조방법, 와이어 그리드 편광자를 구비하는 액정 디스플레이 패널 및 액정 디스플레이 장치
본 발명은 LCD 패널에 최적화된 나노 와이어 그리드 패턴을 적용하여 광효율을 향상시킬 수 있는 와이어 그리드 편광자 및 그 제조방법 및 와이어 그리드 편광자를 구비한 액정 디스플레이 패널 및 액정 디스플레이 장치에 관한 것이다.
일반적으로 액정 디스플레이 장치(Liquid Crystal Display Device; LCD)는, 인가 전압에 따른 액정 투과도의 변화를 이용하여 각종 장치에서 발생되는 여러 가지 전기적인 정보를 시각정보로 변화시켜 전달하는 전자 소자이다.
액정 디스플레이 장치는 소형화, 경량화, 저전력 소비화 등의 장점을 가지기 때문에 종래에 널리 사용되던 CRT(Cathode Ray Tube)의 단점을 극복할 수 있는 대체 수단으로 주목을 받아왔고, 현재는 디스플레이 장치를 필요로 하는 거의 모든 정보 처리 기기에 장착되고 있는 실정이다.
도 1은 종래의 액정 디스플레이 장치의 구조를 도시한 것으로서, 액정 디스플레이 장치(10)는 게이트선, 데이터선, 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor; TFT) 및 화소 전극 등이 형성되어 있는 TFT 기판(11)과, 이에 대향하여 배치되며 컬러필터(Color filter) 및 공통 전극 등이 형성되어 있는 컬러필터기판(12) 및 이들 TFT 기판(11)과 컬러필터기판(12) 사이에 채워져 있는 액정층(13) 등으로 구성된다.
TFT 기판(11)은 매트릭스상의 박막 트랜지스터가 형성되어 있는 투명한 유리 기판으로서, 소스 단자에는 데이터 라인이 연결되고, 게이트 단자에는 게이트 라인이 연결되어 있다. 그리고 드레인 단자에는 도전성 재질로서 투명한 ITO(indium tin oxide)로 이루어진 화소 전극(11a)이 형성된다. 이러한 TFT 기판(11)에 대향하여 그 위에 컬러필터기판(12)이 배치된다. 컬러필터기판(12)은 광이 통과하면서 소정의 색이 발현되는 색 화소인 R,G,B 화소가 박막 공정에 의해 형성된 기판으로, 전면에 ITO로 이루어진 공통 전극(12a)이 형성 되어 있다. 그리고, TFT 기판(11)의 하부와 컬러필터기판(12)의 상부에는 광원에서 제공되는 무편광의 광을 직선 편광으로 편광시키는 편광판(16)(17)이 구비된다. 이러한 편광판(16)(17)은 액정층(13)의 배향방향에 따라 광의 투과방향을 일정하게 유지시켜 주는데, 이 편광판(16)(17)과는 별도로 특정 편광 방향의 광을 투과시키고 다른 편광 방향의 광은 반사시켜 광의 재활용률을 높일 수 있는 반사형 편광판(DBEF 또는 WGP)(20)이 구비된다.
한편, 액정층(13)에 구비된 액정은 수광 소자이므로, 액정 디스플레이 장치(10)에는 별도로 빛을 제공해주는 부분이 필요하다. 빛을 제공하기 위하여 별도의 백라이트 유닛(18)이 TFT 기판(11)의 배면에 형성되어 있다. 백라이트 유닛(18)에는 빛을 제공하는 램프와 빛을 기판의 전영역에 고루 분포시키기 위한 도광판 및 기타 필름이 형성되어 있다.
이와 같은 구성을 갖는 액정 디스플레이 장치(10)는 백라이트 유닛(18)에서 제공되는 빛을 전부 투과시키는 것이 아니라서 휘도(brightness)가 매우 중요하다. 액정 디스플레이 장치(10)의 휘도를 향상시키기 위하여 여러 가지의 필름을 개발하여 사용하고 있으며, 그 대표적인 예로 반사형 편광필름(편광판)이 있다.
이러한 반사형 편광필름은 최근 들어 국내 핵심 산업 중의 하나인 디스플레이산업에 있어서 중요한 역할을 차지하고 있다. 반사형 편광필름에는 다양한 종류가 있으나, 대표적인 예로 DBEF(dual brightness enhancement film)이나 DRPF(diffusive reflective polarization film)가 있다. DBEF는 등방성 필름과 이방성 필름이 반복적으로 형성되어 수백 층(약 600층 이상)의 적층구조를 가지는 필름이다. 빛이 수백 층의 적층구조를 투과 및 반사하면서 전체적으로 필름에서 투과되는 빛이 증가하도록 하여 액정 디스플레이 장치의 휘도를 증가시킨다. 반면, DRPF는 필름 내에 필름과 굴절율이 다른 물질을 형성하고, 그 물질에 의하여 빛이 반사 굴절되면서 필름을 투과하는 빛이 증가하도록 형성되어 있다.
이와 같은 반사형 편광필름 중에서 DBEF는 휘도 향상 비율이 가장 높기 때문에 액정 디스플레이 장치에 적용할 경우 광 효율 특성을 높일 수 있는 장점을 갖는다. 그러나, 이와 같은 DBEF는 완전한 편광소자라 할 수 없으며, 제작 공정에 있어서도 수백 층의 박막 적층구조를 형성하여야 하므로 제조 공정이 복잡하고 제조 단가가 매우 높아서 저가의 액정 디스플레이 장치에서는 사용하기 어렵다는 단점이 있다.
이에 따라, 한국 특허공개 제10-2007-0101814호에도 나타나 있듯이, 최근에는 DBEF를 대체하기 위하여 특정 편광 방향의 광은 투과시키고 다른 편광 방향의 광은 반사시켜 재활용할 수 있는 편광 소자인 와이어 그리드 편광자(WGP; wire grid polarizer)의 사용이 제안되고 있다. 이러한 와이어 그리드 편광자는 다른 편광자에 비하여 높은 편광 분리 성능을 가지기 때문에 반사형 편광자로 유용하게 사용되고 있다.
도 2 및 도 3은 종래의 와이어 그리드 편광자(WGP)를 보여주는 사시도 및 측면도이다. 도시된 바와 같이, 종래의 와이어 그리드 편광자(20)는 전도성 와이어 그리드(wire grid)를 이용하여 편광을 만들어내는 소자로서, 투명 기판(21) 위에 전도성 물질로 구성된 와이어가 나노 사이즈로 주기적으로 평행하게 배열된 와이어 그리드 패턴(22)이 형성된 구조를 갖는다. 이러한 와이어 그리드 편광자(20)는 와이어 그리드의 주기가 입사광의 파장보다 작으면 회절이 일어나지 않기 때문에, 입사광 중 전도성의 와이어 그리드와 직교하는 진동 방향을 가지는 성분, 즉, TM(Transverse Magnetic) 편광은 투과하고 와이어 그리드와 평행한 진동 방향을 가지는 성분, 즉 TE(Transverse Electric) 편광은 반사시키게 된다.
그러나, 상기와 같은 종래의 와이어 그리드 편광자(20)는 기판(21)의 전 면적에 대하여 동일한 형상의 와이어 그리드 패턴을 구비하며, 동일한 형상의 단일 와이어 그리드 패턴이 가시광선의 전 파장 영역대에 대해 일률적으로 적용한 구조로 되어 있었기 때문에 특정 파장의 광에서는 비교적 우수한 광효율을 얻을 수 있으나, 나머지 파장의 광에 대해서는 광효율이 좋지 못한 문제점을 갖는다. 즉, 도 4에서 보는 것과 같이, 액정 디스플레이 장치(10)에서 액정층(13)의 하부 및 상부에 배치된 와이어 그리드 편광자(20a)(20b)를 통해 편광된 광은 특정 파장 성분(예를 들어, 그림에서 "G" 화살표)의 광만 투과율이 높을 뿐 나머지 파장 성분(예를 들어, 그림에서 "R", "B" 화살표)의 광은 투과율이 좋지 못해 광효율이 떨어진다. 이와 같이, 종래의 와이어 그리드 편광자(20)는 컬러필터기판(12)의 Red, Green, Blue 색상별로 최적설계가 되어 있지 않아 특정 파장대에서만 효율이 유리하게 나오고 전체적인 광 효율이 떨어지는 문제점이 있었고, 또한 대면적 나노 와이어 패턴제작에 대한 기술적 한계가 있었기 때문에 광효율 향상을 위한 신개념의 반사형 편광소자 개발이 절실히 요구되는 실정이다.
이에, 본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 LCD에 컬러필터기판의 색상별로 최적화된 나노 와이어 그리드 패턴을 적용하여 편광성능 및 광의 재사용 효율을 증가시키고 광 효율을 향상시킬 수 있는 와이어 그리드 편광자 및 그 제조방법, 그리고 이 와이어 그리드 편광자를 구비한 액정 디스플레이 패널 및 액정 디스플레이 장치를 제공하는 데에 있다.
상기한 기술적 과제를 해결하기 위한 본 발명의 와이어 그리드 편광자는, 복수의 영역을 가지되, 상기 복수의 영역의 와이어 그리드(wire grid) 패턴의 형상이 영역별로 서로 다른 것을 특징으로 한다.
이때, 상기 복수의 영역의 와이어 그리드 패턴의 주기(P), 높이(H), 폭(W) 및 듀티 사이클(DC; duty cycle) 중 적어도 하나가 영역별로 서로 다르게 형성될 수 있다.
또한, 본 발명의 와이어 그리드 편광자는, 복수의 픽셀 구역을 가지고, 각 픽셀 구역은 복수의 서브 픽셀 영역을 가지되, 상기 복수의 서브 픽셀 영역의 와이어 그리드 패턴의 형상이 서브 픽셀 영역별로 서로 다르게 형성될 수 있다.
그리고, 상기 와이어 그리드 패턴은 복수의 서브 픽셀을 구획하는 경계면과 평행한 배열구조를 갖도록 형성될 수 있다.
또는, 상기 와이어 그리드 패턴은 복수의 서브 픽셀을 구획하는 경계면과 수직한 배열구조를 갖도록 형성될 수 있다.
상기 와이어 그리드 패턴은 투명재질의 글래스(glass) 기판 위에 전도성 물질을 와이어 그리드 형태로 패터닝하여 형성할 수 있다.
이때, 상기 와이어 그리드 패턴은, 기판에 전도성 물질이 포함된 임프린팅 레진(imprinting resin)을 형성한 상태에서, 서브 픽셀, 픽셀 또는 픽셀의 그룹 단위로 서로 다른 형태의 와이어 그리드 패턴이 형성된 스탬프(stemp)를 이용하여 임프린팅 레진 위에 반복적으로 임프린팅하여 형성할 수 있다.
또는, 상기 와이어 그리드 패턴은, 기판 위에 포토레지스트층을 형성한 상태에서, 서브 픽셀 영역별로 오픈(Open) 및 클로즈(Close)된 복수의 마스크(mask)를 순차적으로 적용하여 레이저 간섭에 의한 리소그래피 과정을 통해 형성할 수 있다.
또는, 상기 와이어 그리드 패턴은, 기판 위에 전도성 물질층과 포토레지스트층을 순차적으로 적층 형성한 상태에서, 전자빔(E-beam)을 이용하여 포토레지스트층에 서브 픽셀 영역별로 서로 다른 형태의 와이어 그리드 패턴을 형성하고, 상기 와이어 그리드 패턴이 형성된 포토레지스트를 마스크로 사용하여 전도성 물질을 식각(etching)하여 와이어 그리드 패턴을 형성한 후, 잔존하는 포토레지스트를 제거함으로써 형성될 수 있다.
한편, 상기한 기술적 과제를 해결하기 위한 본 발명은, TFT기판과, 상기 TFT기판에 대향하여 배치되는 컬러필터기판과, 상기 TFT기판과 컬러필터기판 사이에 개재되는 액정층을 구비한 액정 디스플레이 패널에 있어서, 상기 컬러필터기판의 서브 픽셀에 대응하는 복수의 영역을 가지되, 상기 복수의 영역의 와이어 그리드(wire grid) 패턴의 형상이 영역별로 서로 다른 와이어 그리드 편광자를 포함하는 것을 특징으로 한다.
여기서, 상기 와이어 그리드 편광자는 액정층의 하부측에 배치될 수 있다.
이때, 상기 액정층과 상기 와이어 그리드 편광자 사이에는 편광판이 추가적으로 구비될 수 있다.
또는, 상기 와이어 그리드 편광자는 액정층의 상부측에 배치될 수 있다.
한편, 상기 컬러필터기판의 서브 픽셀 색상은 R(Red), G(Green), B(Blue)로 구성될 수 있다.
또는, 상기 컬러필터기판의 서브 픽셀의 색상은 R(Red), G(Green) 또는 B(Blue), G(Green)로 구성될 수 있다.
이때, 상기 와이어 그리드 패턴은 서브 픽셀을 구획하는 경계면과 평행한 배열구조를 갖도록 형성할 수 있다.
또는, 상기 와이어 그리드 패턴은 서브 픽셀의 경계면과 수직한 배열구조를 갖도록 형성할 수도 있다.
그리고, 상기 서브 픽셀의 색상별 와이어 그리드 패턴의 와이어 폭은 R > G > B의 크기를 갖도록 형성할 수 있다.
또한, 상기 서브 픽셀의 색상별 와이어 그리드 패턴의 와이어 높이는 R > G > B의 높이를 갖도록 형성할 수도 있다.
한편, 상기한 기술적 과제를 해결하기 위한 본 발명의 액정 디스플레이 장치는, TFT기판과, 상기 TFT기판에 대향하여 배치되는 컬러필터기판과, 상기 TFT기판과 컬러필터기판 사이에 개재되는 액정층을 구비한 액정 디스플레이 패널을 포함하는 디스플레이 유닛; 광을 발생시켜 상기 디스플레이 유닛에 제공하는 백라이트 유닛;을 포함하여 이루어지며, 상기 컬러필터기판의 서브 픽셀에 대응하는 복수의 영역을 가지되, 상기 복수의 영역의 와이어 그리드(wire grid) 패턴의 형상이 영역별로 서로 다른 와이어 그리드 편광자를 포함하는 것을 특징으로 한다.
여기서, 상기 와이어 그리드 편광자는 액정층의 하부측에 배치될 수 있다.
이때, 상기 액정층과 상기 와이어 그리드 편광자 사이에는 편광판이 추가적으로 구비될 수 있다.
또는, 상기 와이어 그리드 편광자는 액정층의 상부측에 배치될 수 있다.
한편, 상기 컬러필터기판의 서브 픽셀 색상은 R(Red), G(Green), B(Blue)로 구성될 수 있다.
또는, 상기 컬러필터기판의 서브 픽셀의 색상은 R(Red), G(Green) 또는 B(Blue), G(Green)로 구성될 수 있다.
이때, 상기 와이어 그리드 패턴은 서브 픽셀을 구획하는 경계면과 평행한 배열구조를 갖도록 형성할 수 있다.
또는, 상기 와이어 그리드 패턴은 서브 픽셀의 경계면과 수직한 배열구조를 갖도록 형성할 수도 있다.
그리고, 상기 서브 픽셀의 색상별 와이어 그리드 패턴의 와이어 폭은 R > G > B의 크기를 갖도록 형성할 수 있다.
또한, 상기 서브 픽셀의 색상별 와이어 그리드 패턴의 와이어 높이는 R > G > B의 높이를 갖도록 형성할 수도 있다.
한편, 상기한 기술적 과제를 해결하기 위한 본 발명은, 와이어 그리드 편광자를 제조하기 위한 방법으로서, 적어도 하나의 픽셀 구역을 단위로 와이어 그리드 패턴을 형성하는 단위 공정을 복수 회 반복하는 것을 특징으로 한다.
이때, 상기 적어도 하나의 픽셀 구역의 와이어 그리드 패턴에 대응되는 패턴을 갖는 스탬프를 이용하여 와이어 그리드 패턴을 제조할 수 있다.
또한, 상기 적어도 하나의 픽셀 구역의 와이어 그리드 패턴에 대응되는 패턴을 갖는 마스크를 이용하여 레이저 간섭을 이용한 리소그래피(Lithography) 과정을 통해 와이어 그리드 패턴을 제조할 수도 있다.
상기한 구성을 갖는 본 발명은, 액정 디스플레이 장치에 구비되는 와이어 그리드 편광자(wire grid polarizer)에 있어, 컬러필터기판의 서브 픽셀 색상별 영역에 따라 서로 다른 형태의 와이어 그리드 패턴을 형성함으로써, 서브 픽셀의 색상별로 최적화된 그레이팅 패턴(grating pattern) 적용이 가능해져서 액정 디스플레이 장치의 광 효율을 향상시킬 수 있다.
도 1은 종래의 일반적인 액정 디스플레이 장치의 구조를 도시한 단면도.
도 2는 종래의 액정 디스플레이 장치에 구비되는 와이어 그리드 편광자 구조를 도시한 사시도.
도 3은 도 2의 단면도.
도 4는 종래의 와이어 그리드 편광자를 적용한 액정 디스플레이 장치에서 광투과율이 특정 파장대에만 편중된 모습을 보여주는 예시도.
도 5는 본 발명의 일실시 예에 따른 액정 디스플레이 장치를 도시한 단면도.
도 6은 본 발명의 액정 디스플레이 장치에 구비되는 와이어 그리드 편광자의 패턴 구조를 보여주는 평면도.
도 7은 본 발명에 따른 와이어 그리드 편광자의 단면도.(하나의 픽셀만 도시함)
도 8은 본 발명에 따른 액정 디스플레이 장치에서 액정층의 상,하부에 배치되는 와이어 그리드 편광자의 패턴 구조를 보여주는 평면도.
도 9는 도 8의 입체구조를 도시한 사시도.
도 10은 본 발명의 와이어 그리드 편광자가 적용된 액정 디스플레이 장치에서 광 효율이 향상되는 원리를 설명하는 예시도.
도 11은 본 발명의 와이어 그리드 편광자에 의한 색상별 TM 편광 투과율 성능을 기존의 와이어 그리드 편광자와 비교 도시한 그래프
도 12는 본 발명의 와이어 그리드 편광자가 TFT 기판의 상부와 컬러필터기판의 하부에 각각 배치된 모습을 보여주는 예시도.
도 13은 본 발명의 와이어 그리드 편광자의 제조시 사용되는 스탬프의 구조를 보여주는 평면도.
도 14는 도 13에 도시한 스탬프의 단면구조를 보여주는 단면도.
도 15는 임프린팅 공정에 의한 와이어 그리드 편광자의 제조방법을 보여주는 공정도.
도 16은 임프린팅 공정에 의한 와이어 그리드 편광자 제조시, 와이어 그리드 패턴이 픽셀 단위로 끊어지지 않고 한 번의 패터닝으로 적용가능한 예를 보여주는 예시도.
도 17은 레이저 간섭에 의한 리소그래피 공정을 이용한 와이어 그리드 편광자 제조방법을 보여주는 단면도.
도 18은 레이저 간섭에 의한 리소그래피 공정시 사용되는 마스크의 구조를 보여주는 평면도.
도 19는 전자빔을 이용한 리소그래피 공정을 통해 와이어 그리드 편광자가 제조되는 과정을 순차적으로 보여주는 공정도.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 일실시 예를 상세하게 설명하기로 한다.
도 5는 본 발명의 일실시 예에 따른 액정 디스플레이 장치를 도시한 단면도이다.(도 5는 편의상 하나의 픽셀 단위만을 도시함)
도 5에 도시한 바와 같이, 본 발명의 일실시 예에 따른 액정 디스플레이 장치(300)는 입력되는 영상 데이터에 따라 액정의 광 투과율을 조절하여 영상을 표시하는 디스플레이 유닛(Display unit)(100)과, 광을 발생시켜 상기 디스플레이 유닛(100)에 제공하는 백라이트 유닛(Back light unit)(200)으로 구성된다.
*상기 디스플레이 유닛(100)은 게이트선, 데이터선, 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor; TFT) 및 화소 전극 등이 형성되어 있는 TFT 기판(110)과, 상기 TFT 기판(110)의 상부에 대향하여 배치되며 컬러필터(Color filter) 및 공통 전극 등이 형성되어 있는 컬러필터기판(120)과, 상기 TFT 기판(110)과 컬러필터기판(120) 사이에 개재되는 액정층(130) 등으로 구성된 액정 디스플레이 패널(Liquid crystal display panel)을 포함한다.
상기 TFT 기판(110)은 매트릭스상의 박막 트랜지스터가 형성되어 있는 투명한 유리 기판으로서, 소스 단자에는 데이터 라인이 연결되고, 게이트 단자에는 게이트 라인이 연결된다. 그리고 드레인 단자에는 도전성 재질로서 투명한 ITO(indium tin oxide)로 이루어진 화소 전극(160)이 형성된다.
상기 컬러필터기판(120)은 광이 통과하면서 소정의 색이 발현되는 색 화소인 R(Red), G(Green), B(Blue) 화소가 박막 공정에 의해 형성된 기판으로, 전면에 ITO로 이루어진 공통 전극(170)이 도포된다. 이때, 상기 컬러필터기판(120)의 하부와 TFT 기판(110)의 상부에는 액정층(130)에 구비된 액정을 배향시키기 위한 배향막(170)(160)이 구비된다.
한편, 상기 액정층(130)을 기준으로 상부 및 하부 측 방향에는 입사광 중 특정 편광성분은 투과시키고 나머지 편광성분은 반사시키는 반사형 편광소자인 와이어 그리드 편광자(WGP; wire grid polarizer)(180a)(180b)가 구비된다.(이하에서는, 설명의 편의상 액정층(130)의 하부 측에 위치된 와이어 그리드 편광자(180b)를 도면부호 180으로 기재하여 설명하기로 한다)
도 6은 본 발명의 액정 디스플레이 장치(300)에 구비되는 와이어 그리드 편광자(180)의 패턴 구조를 보여주는 평면도이고, 도 7은 본 발명에 따른 와이어 그리드 편광자(180)의 단면구조를 도시한 것으로서, 하나의 단위 픽셀에 형성된 와이어 그리드 패턴 구조를 보여주는 단면도이다. 그리고, 도 8은 본 발명에 따른 액정 디스플레이 장치(300)에서 액정층(130)의 상,하부에 배치되는 와이어 그리드 편광자(180a)(180b)의 패턴 구조를 보여주는 평면도이고, 도 9는 도 8의 입체구조를 도시한 사시도이다.
도 6 내지 도 9를 참조하면, 본 발명에 따른 와이어 그리드 편광자(180)는 투명 기판(182) 위에 전도성 물질(예컨대, 금속)이 나노 사이즈의 선 격자(wire grid) 형태의 패턴을 이루며 배열된 편광소자로서, 상기 와이어 그리드 편광자(180)는 컬러필터기판(120)의 단위 픽셀을 구성하는 3개의 서브 픽셀(R,G,B 영역) 영역에 대응하는 복수(도면에서는 3개)의 영역(S1)(S2)(S3)을 가지고, 상기 복수의 영역(S1)(S2)(S3)에 형성되는 와이어 그리드 패턴(184)의 형상은 영역별로 서로 다르게 형성된다.
구체적으로, 와이어 그리드 편광자(180)는 도 6에 도시한 바와 같이 매트릭스 형태로 배열된 복수의 픽셀 구역을 가지고, 각 픽셀 구역은 다시 복수의 서브 픽셀 영역(S1)(S2)(S3)을 갖는다. 여기서, 복수의 픽셀 구역은 컬러필터기판(120)의 픽셀에 대응되고, 복수의 서브 픽셀 영역(S1)(S2)(S3)은 컬러필터기판(120)의 서브 픽셀에 대응되게 형성된다.
여기서, 컬러필터기판(120)은 3개의 색 화소, 즉, R, G, B에 해당되는 3개의 서브 픽셀이 하나의 단위 픽셀을 구성하고, 상기 R, G, B 서브 픽셀 영역 사이에는 블랙 매트릭스가 형성된 구조를 갖는다. 따라서, 와이어 그리드 편광자(180)에 형성되는 복수의 픽셀 구역은 R 서브 픽셀 영역(S1), G 서브 픽셀 영역(S2) 및 B 서브 픽셀 영역(S3)을 갖는다. 이때, 상기 R, G, B 서브 픽셀 영역(S1)(S2)(S3)에 형성되는 와이어 그리드 패턴(184)은 서로 다른 형태로 형성된다.
도 7은 하나의 단위 픽셀(A)에서 R, G, B 서브 픽셀 영역(S1)(S2)(S3)에 서로 다른 폭(W)과, 높이(H), 및 주기(P)로 와이어 그리드 패턴(184)이 형성된 모습을 보여주고 있다.
여기서, 서브 픽셀의 색상별로 형성되는 와이어 그리드 패턴(184)의 폭(W)은 R > G > B의 크기를 갖도록 형성하고, 또한, 와이어 그리드 패턴(184)의 높이(H)는 R > G > B의 높이를 갖도록 형성할 수 있다.
이때, R,G,B 색상별 각 서브 픽셀 영역(S1)(S2)(S3)에 형성되는 와이어 그리드 패턴(184)은 와이어 그리드 패턴(184)의 형성 주기(Period)를 P, 와이어 그리드 패턴(184)의 폭(Width)을 W라 할 때, 와이어 그리드 패턴(184) 형성을 위한 듀티사이클(Duty Cycle;DC)은
Figure PCTKR2012004983-appb-I000001
과 같이 표현된다.
여기서, 상기 와이어 그리드 패턴(184)의 형상은 와이어 그리드 패턴(184)의 주기(P: Period), 폭(W: Width), 높이(H: Height), 및 듀티 사이클(DC: Duty Cycle = W/P), 등에 의하여 변화되므로, 영역별로, 와이어 그리드 패턴(184)의 주기, 폭, 높이 및 듀티 사이클 중 적어도 하나가 서로 다르다. 이러한 와이어 그리드 패턴(184) 형상은 서브 픽셀의 색상(R,G,B)에 따라 각 색상의 파장대 별로 주기(P), 폭(W), 높이(H) 및 DC 값을 적절히 설계하여 가장 바람직한 패턴 형태로 형성할 수 있다.
한편, 액정 디스플레이 장치(300)에 있어, 와이어 그리드 편광자(180a)(180b)은 액정층(130)을 기준으로 상부 및 하부 측 방향에 구비될 수 있다.
이때, 도 8 및 도 9에 도시된 와이어 그리드 패턴 형태에서 볼 수 있듯이, 기판(182)에 형성되는 와이어 그리드 패턴(184)은 서브 픽셀(S1)(S2)(S3)의 경계면(R)과 수직한 배열구조를 갖도록 형성하거나(도 9의 a), 서브 픽셀(S1)(S2)(S3)의 경계면(R)과 평행한 배열구조를 갖도록 형성할 수도 있다.(도 9의 b)
즉, 액정층(130)의 하부에 구비되는 와이어 그리드 편광자(180b)와 액정층(130)의 상부에 구비되는 와이어 그리드 편광자(180a)의 와이어 그리드 패턴(184)은, 그 편광축이 서로 직교하는 것이 바람직하다. 이는 액정층(130)의 하부 및 상부에 채용되는 통상적인 편광판의 편광축이 서로 직교하는 것과 동일한 이치이다.
그리고, 상기 와이어 그리드 편광자(180)는 액정 디스플레이 장치(300)에 있어, 액정층(130)의 상부 및 하부 중 적어도 한 곳에 사용될 수 있다. 예컨대, 와이어 그리드 편광자(180)는 액정층(130)의 하부 측에만 구비될 수 있고, 액정층(130)의 상부 측에만 구비될 수도 있으며, 도 5에서와 같이, 액정층(130)의 상부 및 하부 측에 모두 구비될 수도 있다.
또한, 와이어 그리드 편광자(180)는 통상의 편광판을 대체하거나 또는 편광판과 함께 사용될 수 있다. 예컨대, 액정 디스플레이 패널의 하부면에 통상의 편광판이 부착되고, 그 편광판의 하부에 본 발명의 와이어 그리드 편광자(180)가 구비될 수 있다. 전술된 도 5는 와이어 그리드 편광자(180)가 통상의 편광판을 대체하여 사용된 실시 예를 도시하고 있다.
상기한 구성을 갖는 본 발명의 와이어 그리드 편광자는 도 10에서 보는 것과 같이, 액정층(130)의 하부에 위치되는 와이어 그리드 편광자(180b)의 R 서브 픽셀 영역(S1)은 R 파장대의 편광을 최대로 투과시키고, 투과된 광은 액정층(130)을 통과하여 R 서브 픽셀의 컬러필터에 도달한다. R 서브 픽셀의 컬러필터는 R 파장대의 광은 투과시키고, 다른 파장대의 광은 흡수한다.
마찬가지로, 액정층(130)의 하부에 위치되는 와이어 그리드 편광자(180b)의 G 서브픽셀 영역(S2)은 G 파장대의 편광을 최대로 투과시키고, 투과된 광은 액정층(130)을 통과하여 G 서브 픽셀의 컬러필터에 도달한다. G 서브 픽셀의 컬러필터는 G 파장대의 광은 투과시키고, 다른 파장대의 광은 흡수한다. B 파장대에 대해서도 위와 동일하다.
이와 같이, 본 발명은 와이어 그리드 편광자(180)에 와이어 그리드 패턴(184)을 형성함에 있어, 컬러필터기판(120)의 서브 픽셀 각 색상별(R,G,B)로 와이어 그리드 패턴(184)을 서로 다른 최적화된 패턴 형상으로 형성하여, R,G,B 각 파장대 별로 우수한 투과율을 얻을 수 있기 때문에 액정 디스플레이 장치(300)의 광효율 특성을 향상시킬 수 있다.
도 11은 본 발명의 와이어 그리드 편광자(180)에 의한 색상별 TM 편광 투과율 성능을 기존의 와이어 그리드 편광자와 비교 도시한 그래프이다.
도 11에 도시한 바와 같이, 시뮬레이션을 통하여 종래의 단일 형상의 와이어 그리드 편광자와, 본 발명의 와이어 그리드 편광자(180)의 TM 편광 투과율의 결과를 얻었다. 그 결과, 서브 픽셀의 색상별(R,G,B) 독립 패턴을 갖는 본 발명의 와이어 그리드 편광자(180)가 기존의 단일 형상의 와이어 그리드 편광자에 비하여 각 파장대(R,G,B) 별로 우수한 투과율을 얻을 수 있음을 알 수 있었다.
여기서, 종래의 와이어 그리드 편광자는 주기 200nm, 높이 165nm 및 듀티 사이클 0.4의 단일 형상을 가진다. 또한, 본 발명의 와이어 그리드 편광자(180)는 레드(R)는 주기 270nm, 높이 220nm 및 듀티 사이클 0.3을 가지고, 그린(G)은 주기 200nm, 높이 165nm 및 듀티 사이클 0.4을 가지며, 블루(B)는 주기 140nm, 높이 150nm 및 듀티 사이클 0.4를 가진다.
한편, 도 12는 액정 디스플레이 장치(300)에서 본 발명의 와이어 그리드 편광자(180a)(180b)가 다른 위치에 적용된 모습을 예시한 것으로서, 본 발명의 와이어 그리드 편광자(180a)(180b)는 전술된 도 5의 실시 예 형태와 같이 TFT 기판(110)의 하부 및 컬러필터기판(120)의 상부에 각각 적용하여 구성할 수도 있고, 도 12에 나타낸 형태와 같이, 와이어 그리드 편광자(180a)(180b)를 TFT 기판(110)의 상부 및 컬러필터기판(120)의 하부에 각각 배치하여 구성할 수도 있다.
또한, 상술한 설명에서는 와이어 그리드 패턴(184)이 TFT 기판(110) 또는 컬러필터기판(120)과 글래스 기판(182) 상에 직접 형성된 구조를 일 예로 들어 설명하였으나, 별도의 필름(또는 시트) 형태의 구조물상에 전술된 형태와 같은 서로 다른 독립구조를 갖는 와이어 그리드 패턴을 형성하여 액정층(130)을 기준으로 상,하부 적정 위치에 각각 배치하여 구성할 수도 있다.
아울러, 전술된 본 발명의 실시 예에서는 컬러필터기판(120)의 서브 픽셀 색상이 R(Red), G(Green), B(Blue)의 3개의 색상으로 구성된 액정 디스플레이 장치(300)를 일 예로 들어 설명하였으나, 컬러필터기판(120)의 서브 픽셀의 색상이 R(Red), G(Green) 또는 B(Blue), G(Green)로 구성되어 두 가지 색 RG, BG가 하나의 픽셀을 구성하고 RG, BG가 형성된 픽셀이 번갈아 배치된 펜타일(pentile) 방식을 갖는 액정 디스플레이 장치에도 동일하게 적용할 수 있다.
한편, 도 13 내지 도 16은 본 발명의 제1실시 예에 따른 와이어 그리드 편광자(180)의 제조방법을 도시한 것으로서, 임프린팅(imprinting) 방식에 의한 와이어 그리드 편광자(180)의 제조방법을 보여주고 있다.
여기서, 도 13은 와이어 그리드 편광자(180) 제조용 스탬프(stamp)를 보여주는 평면도이고, 도 14는 도 13에 도시된 스탬프의 단면구조를 보여주는 단면도이다.
먼저, 도 13 및 도 14에 도시된 스탬프(210)는 3×3 픽셀 구역의 와이어 그리드 패턴(184)을 형성할 수 있는 스탬프(210)로서, 각 픽셀을 구성하는 3개의 서브 픽셀 영역에 서로 다른 형태의 와이어 그리드 패턴이 형성되어 있다. 이때, 상기 서브 픽셀 간의 간격은 액정 디스플레이 장치에 있어 블랙 매트릭스가 위치되는 부분으로서, 빛의 투과되지 않는 영역이다.
도 15는 위와 같은 와이어 그리드 패턴(184)이 형성된 스템프(210)를 이용한 임프린팅 공정에 의하여 와이어 그리드 편광자(180)를 제조하는 공정을 순차적으로 보여주는 공정도이다.
도 15에서 보는 것과 같이, 서브 픽셀 영역별로 서로 다른 형태의 와이어 그리드 패턴이 형성된 스탬프(210)를 이용하여, 도 15와 같은 순차적인 임프린트 공정을 통해 기판(182) 위에 와이어 그리드 패턴(184)을 형성할 수 있다. 즉, 와이어 그리드 형성을 위하여 기판(182) 위에 전도성 물질이 포함된 임프린팅 레진(imprinting resin)을 도포한 후, 도 13 및 도 14에 도시된 와이어 그리드 패턴(184)을 갖는 스탬프(210)를 상기 임프린팅 레진이 도포된 기판(182) 위에 위치시킨 상태에서 프레스를 통해 상기 스탬프(210)fmf 가압하여 임프린팅 레진 위에 와이어 그리드 패턴을 형성한다. 이때, 스탬프(210)를 1step -> 2step ->3step ->4step 순으로 이동시키면서 임프린팅 레진 위에 와이어 그리드 패턴(184)을 순차적으로 형성하게 되는데, 이와 같은 임프린팅 단위 공정을 복수 회 반복 수행하여 와이어 그리드 편광자를 제조한다.
*도 16은 임프린팅 공정시 적용되는 스탬프(210)에 적용되는 와이어 그리드 패턴의 또 다른 형태를 보여주는 것으로서, 도 16에 도시한 바와 같이, 스탬프(210)의 프린팅 면에 와이어 그리드 패턴 형성시 한 열의 픽셀을 픽셀 단위로 끊어지지 않고 연결된 구조로 형성하게 되면, 픽셀 한 라인 전체에 한 번의 패터닝으로 적용가능하다. 이렇게 되면, 스탬프(210)에 와이어 그리드 패턴 형성에 대한 정밀도를 낮출 수 있기 때문에 스탬프의 제작이 용이해지는 장점이 있다.
한편, 도 17 및 도 18은 본 발명의 제2실시 예에 의한 와이어 그리드 편광자(180) 제조방법을 도시한 것으로서, 레이저 간섭에 의한 리소그래피(Lithography) 공정을 통해 와이어 그리드 편광자(180)를 제조하는 공정을 나타낸 것이다.
도 17에 도시한 바와 같이, 먼저, 투명 기판(182) 위에 와이어 그리드 패턴 형성을 위하여 도전성 물질인 금속층(미도시)을 형성하고, 금속층 위에 포토레지스트층(220)을 형성한 상태에서, 도 18과 같은 서브 픽셀의 색상별(R,G,B)로 오픈(Open) 및 클로즈(Close)된 복수(3개)의 마스크(mask)(M1)(M2)(M3)를 순차적으로 적용하여 2개의 광원에서 조사되는 레이저 광(L1)(L2)의 간섭에 의해 형성되는 회절 간섭 무늬(D)를 마스크의 오픈된 서브 픽셀 영역에 조사하여 서로 다른 형태의 와이어 그리드 패턴을 형성한다. 이후, 상기 와이어 그리드 패턴이 형성된 포토레지스트를 마스크로 이용하여 금속층을 식각(etching)한 후 금속층 위에 잔존하는 포토레지스트를 제거하여 와이어 그리드 편광자(180)의 제조를 완료한다.
여기서, 전술된 도 15의 공정과 유사하게, 와이어 그리드 편광자의 전면적을 분할하여, 적어도 하나의 픽셀 구역을 단위로 와이어 그리드 패턴을 형성하는 레이저 간섭 리소프래피 단위 공정을 복수 회 반복하여 와이어 그리드 편광자를 제조할 수 있다. 이때, 단위 공정에서는, 각 마스크(M1)(M2)(M3)별로 1번씩, 총 3번의 레이저 간섭을 이용하여 패터닝이 이루어지게 된다. 이와 같이 레이저 간섭에 의한 리소그래피를 이용하면 대면적의 기판(182)에 와이어 그리드 패턴(184)을 효율적으로 용이하게 형성할 수 있다.
한편, 도 19는 본 발명의 제3실시 예에 의한 와이어 그리드 편광자(180)의 제조 방법을 도시한 것으로서, 전자빔(E-beam)에 의한 리소그래피(Lithography) 공정을 통해 와이어 그리드 편광자(180)를 제조하는 방법을 보여주고 있다.
본 발명의 제3실시 예에 따른 전자빔 리소그래피 공정을 이용한 와이어 그리드 편광자(180) 제조방법은, 도 19에서 보는 것과 같이, 먼저, 투명 기판(182) 위에 나노 와이어 그리드 패턴 형성을 위하여 도전성 물질로 이루어진 금속층(240)과 포토레지스트층(250)을 형성한 상태에서, 포토레지스트층(250)에 전자빔(E-beam)을 조사하여 서브 픽셀의 색상(R,G,B) 영역별로 서로 다른 패턴 형상을 갖는 와이어 그리드 패턴을 형성한다. 그리고, 상기 와이어 그리드 패턴이 형성된 포토레지스트층(250)을 마스크로 사용하여 금속층(240)을 건식 식각 또는 습식 식각 공정을 통해서 식각(etching)한 후, 와이어 그리드 패턴 금속층(240) 위에 잔존하는 포토레지스트(250)를 제거하여 와이어 그리드 편광자(180)를 완성하게 된다.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명의 와이어 그리드 편광자 제조시, 한 번의 공정으로 와이어 그리드 편광자의 전면적에 걸친 와이어 그리드 패턴을 형성할 수 있고, 또한, 디스플레이 장치의 대면적화에 추세에 따라, 대면적 와이어 그리드 편광자가 요구되는 경우, 와이어 그리드 편광자의 전면적을 분할하여, 적어도 하나의 픽셀 구역을 단위로 와이어 그리드 패턴을 형성하는 단위 공정을 복수 회 반복하여 수행함으로써 와이어 그리드 편광자를 보다 효율적으로 제조할 수 있다. 이 경우, 액정 디스플레이 패널의 블랙 매트릭스에 대응되는 와이어 그리드 편광자의 픽셀 구역 사이를 경계로 단위 공정을 수행할 수 있으므로, 와이어 그리드 패턴의 배열 정밀도가 우수한 이점을 갖는다.
상술한 본 발명의 실시 예에서는 와이어 그리드 편광자(180)가 액정 디스플레이 장치(300)에 사용되는 예를 일실시 예로 들어 설명하였으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니고, 본 발명의 와이어 그리드 편광자(180)는 기타 다양한 장치에 채용되어 사용될 수 있다. 아울러, 본 발명의 와이어 그리드 편광자 제조방법은 전술된 임프린팅, 레이저 간섭 리소그래피, 전자빔 리소그래피 등과 같은 제조 발명에 국한되지 않고 다양한 제조방법을 통해 제조될 수 있다.
[부호의 설명]
100 : 디스플레이 유닛 110 : TFT 기판
120 : 컬러필터기판 130 : 액정층
180 : 와이어 그리드 편광자 182 : 기판
184 : 와이어 그리드 패턴 200 : 백라이트 유닛
210 : 스탬프 300 : 액정 디스플레이 장치
A : 단위 픽셀 S1,S2,S3 : 서브 픽셀

Claims (32)

  1. 복수의 영역을 가지되,
    상기 복수의 영역의 와이어 그리드(wire grid) 패턴의 형상은 영역별로 서로 다른 것을 특징으로 하는 와이어 그리드 편광자
  2. 제1항에 있어서, 상기 복수의 영역의 와이어 그리드 패턴의 주기(P), 높이(H), 폭(W) 및 듀티 사이클(DC; duty cycle) 중 적어도 하나가 영역별로 서로 다른 것을 특징으로 하는 와이어 그리드 편광자
  3. 제1항에 있어서, 복수의 픽셀 구역을 가지고,
    각 픽셀 구역은 복수의 서브 픽셀 영역을 가지되,
    상기 복수의 서브 픽셀 영역의 와이어 그리드 패턴의 형상은 서브 픽셀 영역별로 서로 다른 것을 특징으로 하는 와이어 그리드 편광자
  4. 제3항에 있어서, 상기 와이어 그리드 패턴은 복수의 서브 픽셀을 구획하는 경계면과 평행한 배열구조를 갖는 것을 특징으로 하는 와이어 그리드 편광자
  5. 제3항에 있어서, 상기 와이어 그리드 패턴은 복수의 서브 픽셀을 구획하는 경계면과 수직한 배열구조를 갖는 것을 특징으로 하는 와이어 그리드 편광자
  6. 제1항에 있어서, 상기 와이어 그리드 패턴은 투명재질의 글래스(glass) 기판 위에 전도성 물질을 와이어 그리드 형태로 패터닝하여 형성한 것을 특징으로 하는 와이어 그리드 편광자
  7. 제3항에 있어서, 상기 와이어 그리드 패턴은, 기판에 전도성 물질이 포함된 임프린팅 레진(imprinting resin)을 형성한 상태에서, 서브 픽셀, 픽셀 또는 픽셀의 그룹 단위로 서로 다른 형태의 와이어 그리드 패턴이 형성된 스탬프(stemp)를 이용하여 임프린팅 레진 위에 반복적으로 임프린팅하여 형성되는 것을 특징으로 하는 와이어 그리드 편광자
  8. 제3항에 있어서, 상기 와이어 그리드 패턴은, 기판 위에 포토레지스트층을 형성한 상태에서, 서브 픽셀 영역별로 오픈(Open) 및 클로즈(Close)된 복수의 마스크(mask)를 순차적으로 적용하여 레이저 간섭에 의한 리소그래피 과정을 통해 형성한 것을 특징으로 하는 와이어 그리드 편광자
  9. 제3항에 있어서, 상기 와이어 그리드 패턴은, 기판 위에 전도성 물질층과 포토레지스트층을 순차적으로 적층 형성한 상태에서, 전자빔(E-beam)을 이용하여 포토레지스트층에 서브 픽셀 영역별로 서로 다른 형태의 와이어 그리드 패턴을 형성하고, 상기 와이어 그리드 패턴이 형성된 포토레지스트를 마스크로 사용하여 전도성 물질을 식각(etching)하여 와이어 그리드 패턴을 형성한 후, 잔존하는 포토레지스트를 제거함으로써 형성된 것을 특징으로 하는 와이어 그리드 편광자
  10. TFT기판과, 상기 TFT기판에 대향하여 배치되는 컬러필터기판과, 상기 TFT기판과 컬러필터기판 사이에 개재되는 액정층을 구비한 액정 디스플레이 패널에 있어서,
    상기 컬러필터기판의 서브 픽셀에 대응하는 복수의 영역을 가지되,
    상기 복수의 영역의 와이어 그리드(wire grid) 패턴의 형상이 영역별로 서로 다른 와이어 그리드 편광자를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 패널
  11. 제10항에 있어서, 상기 와이어 그리드 편광자는 액정층의 하부측에 배치되는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 패널
  12. 제11항에 있어서, 상기 액정층과 상기 와이어 그리드 편광자 사이에는 편광판이 추가적으로 구비되는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 패널
  13. 제10항에 있어서, 상기 와이어 그리드 편광자는 액정층의 상부측에 배치되는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 패널.
  14. 제10항에 있어서, 상기 컬러필터기판의 서브 픽셀 색상은 R(Red), G(Green), B(Blue)로 구성되는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 패널
  15. 제10항에 있어서, 상기 컬러필터기판의 서브 픽셀의 색상은 R(Red), G(Green) 또는 B(Blue), G(Green)로 구성되는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 패널
  16. 제14항 또는 제15항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 와이어 그리드 패턴은 서브 픽셀을 구획하는 경계면과 평행한 배열구조를 갖는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 패널
  17. 제14항 또는 제15항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 와이어 그리드 패턴은 서브 픽셀의 경계면과 수직한 배열구조를 갖는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 패널
  18. 제14항 또는 제15항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 서브 픽셀의 색상별 와이어 그리드 패턴의 와이어 폭은 R > G > B의 크기를 갖도록 형성된 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 패널
  19. 제14항 또는 제15항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 서브 픽셀의 색상별 와이어 그리드 패턴의 와이어 높이는 R > G > B의 높이를 갖도록 형성된 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 패널
  20. TFT기판과, 상기 TFT기판에 대향하여 배치되는 컬러필터기판과, 상기 TFT기판과 컬러필터기판 사이에 개재되는 액정층을 구비한 액정 디스플레이 패널을 포함하는 디스플레이 유닛;
    광을 발생시켜 상기 디스플레이 유닛에 제공하는 백라이트 유닛;을 포함하여 이루어지며,
    상기 컬러필터기판의 서브 픽셀에 대응하는 복수의 영역을 가지되,
    상기 복수의 영역의 와이어 그리드(wire grid) 패턴의 형상이 영역별로 서로 다른 와이어 그리드 편광자를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 장치
  21. 제20항에 있어서, 상기 와이어 그리드 편광자는 액정층의 하부측에 배치되는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 장치
  22. 제21항에 있어서, 상기 액정층과 상기 와이어 그리드 편광자 사이에는 편광판이 추가적으로 구비되는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 장치
  23. 제20항에 있어서, 상기 와이어 그리드 편광자는 액정층의 상부측에 배치되는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 장치.
  24. 제20항에 있어서, 상기 컬러필터기판의 서브 픽셀 색상은 R(Red), G(Green), B(Blue)로 구성되는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 장치
  25. 제20항에 있어서, 상기 컬러필터기판의 서브 픽셀의 색상은 R(Red), G(Green) 또는 B(Blue), G(Green)로 구성되는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 장치
  26. 제24항 또는 제25항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 와이어 그리드 패턴은 서브 픽셀을 구획하는 경계면과 평행한 배열구조를 갖는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 장치
  27. 제24항 또는 제25항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 와이어 그리드 패턴은 서브 픽셀의 경계면과 수직한 배열구조를 갖는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 장치
  28. 제24항 또는 제25항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 서브 픽셀의 색상별 와이어 그리드 패턴의 와이어 폭은 R > G > B의 크기를 갖도록 형성된 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 장치
  29. 제24항 또는 제25항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 서브 픽셀의 색상별 와이어 그리드 패턴의 와이어 높이는 R > G > B의 높이를 갖도록 형성된 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 장치
  30. 와이어 그리드 편광자를 제조하기 위한 방법으로서,
    적어도 하나의 픽셀 구역을 단위로 와이어 그리드 패턴을 형성하는 단위 공정을 복수 회 반복하는 것을 특징으로 하는 와이어 그리드 편광자 제조방법
  31. 제30항에 있어서, 상기 적어도 하나의 픽셀 구역의 와이어 그리드 패턴에 대응되는 패턴을 갖는 스탬프를 이용하여 와이어 그리드 패턴을 제조하는 것을 특징으로 하는 와이어 그리드 편광자 제조방법.
  32. 제30항에 있어서, 상기 적어도 하나의 픽셀 구역의 와이어 그리드 패턴에 대응되는 패턴을 갖는 마스크를 이용하여 레이저 간섭을 이용한 리소그래피(Lithography) 과정을 통해 와이어 그리드 패턴을 제조하는 것을 특징으로 하는 와이어 그리드 편광자 제조방법.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105700236A (zh) * 2016-04-13 2016-06-22 深圳市华星光电技术有限公司 双面液晶显示装置及其背光模组
CN108803124A (zh) * 2018-06-27 2018-11-13 武汉华星光电技术有限公司 曲面液晶显示屏及其制造方法
US10401678B2 (en) 2014-08-14 2019-09-03 Applied Materials, Inc. Systems, apparatus, and methods for an electromagnetic interference shielding optical polarizer

Families Citing this family (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150067141A (ko) * 2012-08-13 2015-06-17 프레지던트 앤드 펠로우즈 오브 하바드 칼리지 실리콘 나노와이어를 이용한 다중 스펙트럼 이미징
KR102064210B1 (ko) * 2013-07-04 2020-01-10 삼성디스플레이 주식회사 편광 소자, 이를 포함하는 편광광 조사 장치 및 이의 제조 방법
TWI507742B (zh) * 2013-11-26 2015-11-11 E Ink Holdings Inc 彩色濾光基板以及顯示裝置
US20170017116A1 (en) * 2014-03-07 2017-01-19 Empire Technology Development Llc Substrates having polarizer and color filter functions, and methods for their preparations
US9864241B1 (en) * 2014-05-14 2018-01-09 Apple Inc. Display stack having an optically transparent conductor and polarizing layer
KR101592407B1 (ko) * 2014-05-21 2016-02-05 (주)엠시스 화질 개선 장치, 이를 가지는 디지털 촬영 장치 및 화질 개선 방법
KR101592409B1 (ko) * 2014-05-21 2016-02-05 (주)엠시스 화질 개선 장치, 이를 가지는 디지털 촬영 장치 및 화질 개선 방법
KR102241418B1 (ko) * 2014-09-12 2021-04-19 삼성디스플레이 주식회사 와이어 그리드 편광자 및 이의 제조방법
KR102259048B1 (ko) * 2014-11-20 2021-06-03 삼성디스플레이 주식회사 컬러 필터 일체형 편광자 및 이의 제조방법
CN104459863A (zh) 2014-12-04 2015-03-25 京东方科技集团股份有限公司 线栅偏光片及其制备方法、显示面板和显示装置
KR102338907B1 (ko) 2015-02-13 2021-12-14 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치 및 액정 표시 장치의 제조 방법
KR102363666B1 (ko) * 2015-04-30 2022-02-17 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
KR20170000444A (ko) 2015-06-23 2017-01-03 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치
KR20170031319A (ko) * 2015-09-10 2017-03-21 삼성디스플레이 주식회사 터치 스크린 일체형 표시장치 및 그의 제조방법
KR102514716B1 (ko) * 2015-10-05 2023-03-28 삼성디스플레이 주식회사 박막 트랜지스터 기판, 이를 포함하는 표시 장치, 및 박막 트랜지스터 기판의 제조 방법
KR101613433B1 (ko) 2015-11-25 2016-04-20 (주)엠시스 디지털 촬영장치의 화질 개선 장치 및 화질 개선 방법
KR20170061209A (ko) * 2015-11-25 2017-06-05 삼성디스플레이 주식회사 와이어 그리드 편광자 및 이를 포함하는 표시장치
KR102526752B1 (ko) 2015-12-18 2023-04-27 삼성전자주식회사 지향성 백라이트 유닛, 이를 포함한 입체 영상 표시 장치 및 지향성 백라이트 유닛의 제조 방법
KR102682122B1 (ko) * 2016-02-17 2024-07-08 삼성전자주식회사 전자식 편광필터, 이를 포함하는 전자장치 및 그 동작방법
CN105572984B (zh) * 2016-03-23 2017-06-23 京东方科技集团股份有限公司 一种液晶显示模组及液晶显示器
CN105929593A (zh) * 2016-07-11 2016-09-07 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板、透明显示基板和透明显示装置
KR20180023102A (ko) * 2016-08-23 2018-03-07 삼성디스플레이 주식회사 와이어 그리드 패턴 및 이의 제조방법
CN106125179B (zh) * 2016-08-29 2019-02-26 武汉华星光电技术有限公司 显示装置及其滤光片
CN106125185B (zh) * 2016-08-29 2019-02-26 武汉华星光电技术有限公司 显示屏及其偏光片
CN106405920A (zh) * 2016-09-09 2017-02-15 京东方科技集团股份有限公司 显示面板及其制造方法、显示装置
KR102646789B1 (ko) * 2016-09-22 2024-03-13 삼성전자주식회사 지향성 백라이트 유닛 및 이를 포함하는 입체 영상 표시 장치
US11009634B2 (en) * 2017-01-18 2021-05-18 Industry-University Cooperation Foundation Hanyang University Structural color filter and method of manufacturing the structural color filter
US10302990B2 (en) * 2017-07-26 2019-05-28 A.U. Vista, Inc. Display cell structure and display device using quantum dot
US10367020B2 (en) 2017-11-15 2019-07-30 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Polarizers for image sensor devices
DE102018124442A1 (de) * 2017-11-15 2019-05-16 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. Ltd. Polarisatoren für Bildsensorvorrichtungen
US20200012146A1 (en) * 2018-07-05 2020-01-09 Innolux Corporation Electronic device
CN109375411B (zh) * 2018-10-30 2023-10-31 武汉华星光电技术有限公司 液晶面板及其制作方法
CN110596940A (zh) * 2019-08-22 2019-12-20 武汉华星光电技术有限公司 一种显示面板和显示装置
JP7455569B2 (ja) * 2019-12-20 2024-03-26 浜松ホトニクス株式会社 テラヘルツ波用レンズ及びテラヘルツ波用レンズの製造方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20050105383A (ko) * 2004-04-30 2005-11-04 엘지전자 주식회사 와이어 그리드 편광자 및 그 제조 방법
KR20060042481A (ko) * 2004-11-09 2006-05-15 엘지전자 주식회사 반사형 편광판을 포함하는 액정 디스플레이
KR20070010472A (ko) * 2005-07-19 2007-01-24 삼성전자주식회사 하이브리드형 편광자와, 이의 제조 방법 및 이를 갖는표시장치
KR20110037178A (ko) * 2009-10-06 2011-04-13 삼성전자주식회사 표시 기판, 이의 제조 방법, 이 표시 기판을 갖는 표시 장치

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7375887B2 (en) * 2001-03-27 2008-05-20 Moxtek, Inc. Method and apparatus for correcting a visible light beam using a wire-grid polarizer
CN101617263A (zh) * 2005-05-18 2009-12-30 道格拉斯·S·霍布斯 用于偏振和波长滤波的微结构光学装置
US20070242352A1 (en) 2006-04-13 2007-10-18 Macmaster Steven William Wire-grid polarizers, methods of fabrication thereof and their use in transmissive displays
JP5133356B2 (ja) * 2008-01-23 2013-01-30 パナソニック株式会社 波長分離装置、これを用いた面状照明装置、及びこれを用いた液晶表示装置
JP4640446B2 (ja) * 2008-05-26 2011-03-02 ソニー株式会社 液晶装置、カラーフィルタ基板及びアレイ基板
US8587751B2 (en) * 2011-02-14 2013-11-19 Samsung Electronics Co., Ltd. Display panel and display apparatus having the same

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20050105383A (ko) * 2004-04-30 2005-11-04 엘지전자 주식회사 와이어 그리드 편광자 및 그 제조 방법
KR20060042481A (ko) * 2004-11-09 2006-05-15 엘지전자 주식회사 반사형 편광판을 포함하는 액정 디스플레이
KR20070010472A (ko) * 2005-07-19 2007-01-24 삼성전자주식회사 하이브리드형 편광자와, 이의 제조 방법 및 이를 갖는표시장치
KR20110037178A (ko) * 2009-10-06 2011-04-13 삼성전자주식회사 표시 기판, 이의 제조 방법, 이 표시 기판을 갖는 표시 장치

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10401678B2 (en) 2014-08-14 2019-09-03 Applied Materials, Inc. Systems, apparatus, and methods for an electromagnetic interference shielding optical polarizer
CN105700236A (zh) * 2016-04-13 2016-06-22 深圳市华星光电技术有限公司 双面液晶显示装置及其背光模组
WO2017177488A1 (zh) * 2016-04-13 2017-10-19 深圳市华星光电技术有限公司 双面液晶显示装置及其背光模组
CN108803124A (zh) * 2018-06-27 2018-11-13 武汉华星光电技术有限公司 曲面液晶显示屏及其制造方法

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