WO2013153945A1 - 発光装置およびその製造方法 - Google Patents

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孝信 松尾
一平 山口
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シャープ株式会社
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Definitions

  • the present invention relates to a light emitting device and a method for manufacturing the same.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Laid-Open No. 2008-187212
  • the base and the light reflecting member formed on the base form a recess.
  • a semiconductor light emitting element is disposed in the recess, and a translucent resin is formed around the semiconductor light emitting element.
  • the upper surface of the translucent resin is covered with a fluorescent material-containing resin.
  • the light distribution angle is narrow.
  • FIG. 8 is a schematic cross-sectional view of a wide light distribution angle type light emitting device.
  • a light-transmitting resin 803 having a funnel-shaped outer shape is formed on the base 801 without forming the light emitting member.
  • the translucent resin 803 includes a phosphor 805 and covers the semiconductor light emitting element 802. As a result, the light emitted from the semiconductor light emitting element 802 is reflected and diffused by the concave surface on the upper surface of the translucent resin 803.
  • Such a translucent resin 803 cannot be formed by simply dropping a liquid resin as a material of the translucent resin 803 on the base 801 and performing a curing process on the liquid resin. become.
  • the change of the shape of the translucent resin 803 requires a change of the dedicated mold.
  • an object of the present invention is to provide a light-emitting device that can eliminate the need for a dedicated mold and increase the degree of freedom of processing that determines light distribution characteristics, and a method for manufacturing the same.
  • the light-emitting device of FIG. 8 is presented for convenience in order to clarify the problem of the present invention, and is not a known technique.
  • the light-emitting device of the present invention includes: A substrate; A semiconductor light emitting device mounted on the substrate; A translucent resin that covers the semiconductor light emitting element and has a dome-like outer shape including a phosphor; And a cavity formed by laser irradiation on the surface or inside of the translucent resin.
  • the light emitted from the semiconductor light emitting element can be reflected and diffused on the surface defining the cavity, so that the light distribution angle can be widened. it can.
  • the cavity is formed by laser irradiation, it is not necessary to use a dedicated mold. If the focal length of the laser is changed, it can be formed at any position on the surface of the translucent resin and inside. Therefore, the dedicated mold can be dispensed with, and the degree of freedom in processing for determining light distribution characteristics can be increased.
  • the translucent resin contains a phosphor
  • the wavelength of the emitted light of the semiconductor light emitting element can be converted to another wavelength by the phosphor. Therefore, the chromaticity of the light emitting device can be controlled.
  • FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of a light-emitting device for explaining the effects of the present invention.
  • FIG. 5 is a chromaticity diagram of the light emitting device.
  • the light emitting device has a base 401, a semiconductor light emitting element 402 mounted on the base 401, a semiconductor light emitting element 402, and a phosphor 405 that has a hemispherical surface.
  • FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of another light emitting device for explaining the function and effect of the present invention.
  • FIG. 7 is a chromaticity diagram of the other light emitting device.
  • the same components as those shown in FIG. 4 are denoted by the same reference numerals as those of the components shown in FIG.
  • the configuration of the other light emitting devices other than the light-transmitting resin 603 is the same as that of the light emitting device of FIG.
  • the translucent resin 603 has a shape obtained by crushing the translucent resin 403.
  • chromaticity can be changed by changing the shape of the translucent resin.
  • the light emitting device of the present invention can form cavities at any position inside and inside the translucent resin, the degree of freedom in controlling the chromaticity can be increased.
  • the cavity is formed in the translucent resin.
  • the surface that defines the cavity (the surface that reflects and diffuses the emitted light of the semiconductor light emitting element) is damaged and contaminated in the manufacturing process, for example. Can increase the yield.
  • the cross-sectional shape of the cavity is elliptical.
  • the cross-sectional shape of the cavity is an ellipse, the light distribution angle can be surely widened.
  • the cavity is formed on the semiconductor light emitting device.
  • the light distribution angle can be surely widened.
  • the manufacturing method of the light emitting device of the present invention is as follows: Mounting a semiconductor light emitting element on a substrate; Forming a translucent resin containing a phosphor on the substrate so as to have a dome-shaped outer shape, and covering the semiconductor light emitting element with the translucent resin; And a step of irradiating the translucent resin covering the semiconductor light emitting element with a laser to form a cavity in the surface or inside of the translucent resin.
  • the light emitted from the semiconductor light emitting element can be reflected and diffused on the surface defining the cavity by forming the cavity on the surface or inside of the translucent resin.
  • the light angle can be widened.
  • the cavity is formed by laser irradiation, it is not necessary to use a dedicated mold. If the focal length of the laser is changed, it can be formed at any position on the surface of the translucent resin and inside. Therefore, the dedicated mold can be dispensed with, and the degree of freedom in processing for determining light distribution characteristics can be increased.
  • the translucent resin contains a phosphor
  • the wavelength of the emitted light of the semiconductor light emitting element can be converted to another wavelength by the phosphor. Therefore, the chromaticity of the light emitting device can be controlled.
  • a cavity can be formed at any position inside and inside the translucent resin, the degree of freedom in controlling the chromaticity can be increased.
  • a base a semiconductor light-emitting element mounted on the base, a translucent resin that covers the semiconductor light-emitting element and includes a phosphor and has a dome-shaped outer shape,
  • a translucent resin that covers the semiconductor light-emitting element and includes a phosphor and has a dome-shaped outer shape
  • the cavity is formed by laser irradiation, it is not necessary to use a dedicated mold. If the focal length of the laser is changed, it can be formed at any position on the surface of the translucent resin and inside. Therefore, the dedicated mold can be dispensed with, and the degree of freedom in processing for determining light distribution characteristics can be increased.
  • the translucent resin contains a phosphor
  • the wavelength of the emitted light of the semiconductor light emitting element can be converted to another wavelength by the phosphor. Therefore, the chromaticity of the light emitting device can be controlled.
  • the cavity can be formed at any position inside and inside the translucent resin, the degree of freedom in controlling the chromaticity can be increased.
  • a method for manufacturing a light-emitting device includes a step of mounting a semiconductor light-emitting element on a substrate, and forming a translucent resin containing a phosphor on the substrate so as to have a dome-shaped outer shape.
  • the cavity is formed by laser irradiation, it is not necessary to use a dedicated mold. If the focal length of the laser is changed, it can be formed at any position on the surface of the translucent resin and inside. Therefore, the dedicated mold can be dispensed with, and the degree of freedom in processing for determining light distribution characteristics can be increased.
  • the translucent resin contains a phosphor
  • the wavelength of the emitted light of the semiconductor light emitting element can be converted to another wavelength by the phosphor. Therefore, the chromaticity of the light emitting device can be controlled.
  • a cavity can be formed at any position inside and inside the translucent resin, the degree of freedom in controlling the chromaticity can be increased.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a light emitting device according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of the LED chip of the light emitting device.
  • FIG. 3A is a process diagram of the method for manufacturing the light-emitting device.
  • FIG. 3B is a process diagram of the manufacturing method of the light-emitting device following FIG. 3A.
  • FIG. 3C is a process diagram of the manufacturing method of the light-emitting device following FIG. 3B.
  • FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of a light-emitting device for explaining the effects of the present invention.
  • FIG. 5 is a chromaticity diagram of the light emitting device of FIG. FIG.
  • FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of another light emitting device for explaining the function and effect of the present invention.
  • FIG. 7 is a chromaticity diagram of the light emitting device of FIG.
  • FIG. 8 is a schematic cross-sectional view of a light-emitting device for explaining the problem of the present invention.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a light emitting device according to an embodiment of the present invention.
  • the light emitting device includes a printed wiring board 1, an LED (light emitting diode) chip 2 mounted on the printed wiring board 1, a translucent resin 3 covering and sealing the LED chip 2, and the translucent light. And a cavity 4 formed by laser irradiation inside the functional resin 3.
  • the printed wiring board 1 is an example of a base
  • the LED chip 2 is an example of a semiconductor light emitting element.
  • the printed wiring board 1 includes a substrate body 11 made of an insulating material, a first electrode pattern 12 provided on the left side portion of the substrate body 11, and a second electrode pattern 13 provided on the right side portion of the substrate body 11. have.
  • the first electrode pattern 12 is provided over the left side portion of the upper surface of the substrate body 11, the left side surface of the substrate body 11, and the left side portion of the lower surface of the substrate body 11, and metal bumps (not shown).
  • the second electrode pattern 13 is provided across the right side portion of the upper surface of the substrate body 11, the right side surface of the substrate body 11, and the right portion of the lower surface of the substrate body 11. It is connected to an N-type pad electrode 25 (see FIG. 2) below the LED chip 2 via a not-shown).
  • the translucent resin 3 is mainly made of a transparent resin such as silicon.
  • the translucent resin 3 is formed so as to cover the LED chip 2 and a part of each of the first electrode pattern 12 and the second electrode pattern 13 and have a dome-like outer shape.
  • the translucent resin 3 includes a phosphor 5 that converts the wavelength of the emitted light of the LED chip 2 into another wavelength.
  • a red phosphor for example, La 2 O 2 S: Eu, 0.5MgF 2 .3.5MgO.GeO 2 : Mn, CaS: Eu, Tm
  • a green phosphor for example, SrAl 2 O 4
  • the cavity 4 is formed on the LED chip 2. In other words, the cavity 4 overlaps the LED chip 2 in the vertical direction.
  • the length of the cavity 4 in the left-right direction (the direction parallel to the upper surface of the printed wiring board 1) is substantially the same as the length of the LED chip 2 in the left-right direction.
  • the cross-sectional shape of the cavity 4 is elliptical.
  • FIG. 2 is a schematic sectional view of the LED chip 2.
  • the LED chip 2 is an example of a type of LED chip 2 that extracts light through a substrate. More specifically, the LED chip 2 has an N-type gallium nitride compound semiconductor layer 22, a P-type gallium nitride compound semiconductor layer 23, an insulating sapphire substrate 21 (below the sapphire substrate 21 in FIG. 2), A P-type layer electrode 24 made of a metal thin film or a transparent conductive film is sequentially laminated to form an N-type pad electrode 25 on the exposed surface of the N-type gallium nitride compound semiconductor layer 22, and the P-type layer electrode 24. A P-type pad electrode 26 is formed on the surface.
  • the P-type pad electrode 26 of the LED chip 2 is connected to the first electrode pattern 12 via a metal bump (for example, Au bump), and the N-type pad electrode 25 of the LED chip 2 is connected to the metal bump (
  • the LED chip 2 is mounted on the printed wiring board 1 as shown in FIG. 3A by being connected to the second electrode pattern 13 via Au bumps).
  • a liquid resin which is a material of the translucent resin 3, mixed with the phosphor 5 is dropped on the LED chip 2, and then a curing process is performed.
  • a translucent resin 31 having the outer shape is formed, and the LED chip 2 is covered with the translucent resin 31.
  • the curing treatment is a heat treatment if the liquid resin is a thermosetting resin, and an ultraviolet irradiation treatment if the liquid resin is an ultraviolet curable resin. That is, the said hardening process becomes a process according to the property of the said liquid resin.
  • laser irradiation is performed on the translucent resin 31 covering the LED chip 2 to form a cavity 4 positioned on the LED chip 2 inside the translucent resin 3 as shown in FIG. 3C.
  • the surface defining the cavity 4 is melted by the heat of laser irradiation and becomes a smooth surface.
  • the light emitted from the LED chip 2 can be reflected and diffused on the surface defining the cavity 4 as shown by the arrows in FIG. Become. Therefore, the light distribution angle of the light emitting device can be widened.
  • the cavity 4 is formed by laser irradiation, it is not necessary to use a dedicated mold, and it can be formed at any position inside the translucent resin 3 by changing the focal length of the laser. Therefore, the dedicated mold can be dispensed with and the degree of freedom in processing for determining the light distribution characteristics is great.
  • the translucent resin 3 includes the phosphor 5
  • the wavelength of the emitted light from the LED chip 2 can be converted to another wavelength by the phosphor 5. Therefore, the chromaticity of the light emitting device can be controlled.
  • the cavity 4 can be formed at an arbitrary position inside the translucent resin 3, the degree of freedom in controlling the chromaticity is great.
  • the surface that defines the cavity 4 (the surface that reflects and diffuses the emitted light of the LED chip 2) is damaged and contaminated in the manufacturing process. It can prevent and increase the yield.
  • the cross-sectional shape of the cavity 4 is elliptical, the light distribution angle can be surely widened.
  • the cavity 4 is formed on the LED chip 2, the light distribution angle can be surely widened.
  • one cavity 4 is formed inside the translucent resin 3, but two or more cavities 4 may be formed inside the translucent resin 3.
  • the cavity 4 having an elliptical cross-sectional shape is formed inside the translucent resin 3, but a cavity having another shape (for example, a circle or a square) may be formed.
  • the number of the cavities may be singular or plural.
  • the translucent resin 3 having the cavity 4 formed therein by laser irradiation is used, but a translucent resin having one or more cavities formed by laser irradiation on the surface may be used. That is, one or more recesses may be formed on the surface of the translucent resin by laser irradiation.
  • the P-type pad electrode 26 and the N-type pad electrode 25 of the LED chip 2 are directed to the printed wiring board 1 side.
  • the P-type pad electrode 26 and the N-type pad electrode of the LED chip 2 are used.
  • 25 may be directed to the side opposite to the printed wiring board 1 side.
  • the P-type pad electrode 26 of the LED chip 2 is connected to the first electrode pattern 12 via a metal wire
  • the N-type pad electrode 25 of the LED chip 2 is connected via a metal wire.
  • the second electrode pattern 13 may be connected.
  • the LED chip 2 has the sapphire substrate 21, but may have a substrate made of other materials such as ZnO, GaN, SiC, ZnSe.
  • Other semiconductors such as SiC and ZnSe may be used.
  • the light emitted from the LED chip 2 may fall within the wavelength range of 390 nm to 420 nm.
  • any resin that is transparent to the light emitted from the LED chip 2 and transparent to the light converted in wavelength by the phosphor 5 can be used as the translucent resin 3.

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Abstract

　発光装置は、基体(１)と、この基体(１)上に搭載された半導体発光素子(２)と、半導体発光素子(２)を覆うと共に、蛍光体(５)を含んでドーム状の外形を有する透光性樹脂(３)と、この透光性樹脂(３)の内部にレーザ照射により形成された空洞(４)とを備えている。

Description

発光装置およびその製造方法
　本発明は、発光装置およびその製造方法に関する。
　従来、発光装置としては、特開２００８－１８７２１２号公報(特許文献１)に開示されたものがある。この発光装置では、基体と、この基体上に形成された光反射部材とが凹部を構成している。また、上記凹部内に半導体発光素子を配置すると共に、半導体発光素子周囲に透光性樹脂を形成している。また、上記透光性樹脂の上面を蛍光材料含有樹脂で覆っている。
　このような発光装置は、半導体発光素子の出射光を光反射部材で上方に反射するようにしているため、配光角は狭くなっている。
特開２００８－１８７２１２号公報
　図８は広配光角タイプの発光装置の模式断面図である。
　上記発光装置では、基体８０１上に、上記光発射部材を形成せずに、ファネル状の外形を有する透光性樹脂８０３を形成している。この透光性樹脂８０３は、蛍光体８０５を含み、半導体発光素子８０２を覆っている。これにより、上記半導体発光素子８０２の出射光は透光性樹脂８０３の上面の凹面で反射・拡散される。
　このような透光性樹脂８０３は、基体８０１上に透光性樹脂８０３の材料となる液状樹脂を滴下させて、液状樹脂の硬化処理を行うだけでは形成できないため、専用金型で形成することになる。
　しかしながら、上記透光性樹脂８０３を専用金型で形成する場合、透光性樹脂８０３の形状の変更は、専用金型の変更を必要とする。
　すなわち、上記専用金型とは形状が異なる他の専用金型を使わなければ、配光特性を変えることができないという問題がある。
　そこで、本発明の課題は、専用金型を不要にでき、配光特性を決める加工の自由度を大きくすることができる発光装置およびその製造方法を提供することにある。
　なお、図８の発光装置は、本発明の課題を明確にするために便宜上提示するもので、公知技術ではない。
　上記課題を解決するため、本発明の発光装置は、
　基体と、
　上記基体上に搭載された半導体発光素子と、
　上記半導体発光素子を覆うと共に、蛍光体を含んでドーム状の外形を有する透光性樹脂と、
　上記透光性樹脂の表面または内部にレーザ照射により形成された空洞と
を備えることを特徴としている。
　上記構成によれば、上記透光性樹脂の表面または内部に空洞を形成することにより、空洞を画定する表面で半導体発光素子の出射光を反射・拡散できるので、配光角を広くすることができる。
　また、上記空洞はレーザ照射で形成するので、専用金型を用いなくてもよく、レーザの焦点距離を変更すれば、透光性樹脂の表面および内部の任意の位置に形成することができる。したがって、上記専用金型を不要にでき、配光特性を決める加工の自由度を大きくすることができる。
　また、上記透光性樹脂が蛍光体を含んでいるので、半導体発光素子の出射光の波長を他の波長に蛍光体で変換できる。したがって、上記発光装置の色度を制御できる。
　図４は本発明の作用効果を説明するための発光装置の模式断面図である。また、図５は上記発光装置の色度図である。
　図４に示すように、上記発光装置は、基体４０１と、この基体４０１上に搭載された半導体発光素子４０２と、半導体発光素子４０２を覆うと共に、蛍光体４０５を含んで表面が半球面である透光性樹脂４０３とを備えている。
　図６は本発明の作用効果を説明するための他の発光装置の模式断面図である。また、図７は上記他の発光装置の色度図である。なお、図６では、図４に示した構成部と同一構成部は、図４に示した構成部の参照番号と同一の参照番号を付している。
　図６に示すように、上記他の発光装置の透光性樹脂６０３以外の構成は、図４の発光装置の構成と同じである。この透光性樹脂６０３は透光性樹脂４０３を押し潰したような形状となっている。
　図５，図７の比較から明らかなように、透光性樹脂の形状を変更することより、色度を変えることができる。
　したがって、本発明の発光装置は、透光性樹脂の表面および内部の任意の位置に空洞を形成することができるので、色度の制御の自由度を大きくすることができる。
　一実施形態の発光装置では、
　上記空洞は上記透光性樹脂の内部に形成されている。
　上記実施形態によれば、上記透光性樹脂の内部に空洞を形成することにより、空洞を画定する表面(半導体発光素子の出射光を反射・拡散する表面)が例えば製造工程で損傷および汚染されるのを防いで、歩留まりを上げることができる。
　一実施形態の発光装置では、
　上記空洞の断面形状は楕円形状である。
　上記実施形態によれば、上記空洞の断面形状は楕円形状であるので、配光角を確実により広くすることができる。
　一実施形態の発光装置では、
　上記空洞は上記半導体発光素子上に形成されている。
　上記実施形態によれば、上記半導体発光素子上に空洞を形成するので、配光角を確実に広くすることができる。
　本発明の発光装置の製造方法は、
　基体上に半導体発光素子を搭載する工程と、
　上記基体上に、ドーム状の外形を有するように、蛍光体を含む透光性樹脂を形成して、上記半導体発光素子を上記透光性樹脂で覆う工程と、
　上記半導体発光素子を覆う上記透光性樹脂にレーザ照射を行って、上記透光性樹脂の表面または内部に空洞を形成する工程と
を備えたことを特徴としている。
　上記構成によれば、上記透光性樹脂の表面または内部に空洞を形成することにより、空洞を画定する表面で半導体発光素子の出射光が反射・拡散されるようにすることができるので、配光角を広くすることができる。
　また、上記空洞はレーザ照射で形成するので、専用金型を用いなくてもよく、レーザの焦点距離を変更すれば、透光性樹脂の表面および内部の任意の位置に形成することができる。したがって、上記専用金型を不要にでき、配光特性を決める加工の自由度を大きくすることができる。
　また、上記透光性樹脂が蛍光体を含んでいるので、半導体発光素子の出射光の波長を他の波長に蛍光体で変換できる。したがって、上記発光装置の色度を制御できる。
　また、上記透光性樹脂の表面および内部の任意の位置に空洞を形成することができるので、色度の制御の自由度を大きくすることができる。
　本発明の発光装置によれば、基体と、この基体上に搭載された半導体発光素子と、この半導体発光素子を覆うと共に、蛍光体を含んでドーム状の外形を有する透光性樹脂と、この透光性樹脂の表面または内部にレーザ照射により形成された空洞とを備えることによって、空洞を画定する表面で半導体発光素子の出射光を反射・拡散できるので、配光角を広くすることができる。
　また、上記空洞はレーザ照射で形成するので、専用金型を用いなくてもよく、レーザの焦点距離を変更すれば、透光性樹脂の表面および内部の任意の位置に形成することができる。したがって、上記専用金型を不要にでき、配光特性を決める加工の自由度を大きくすることができる。
　また、上記透光性樹脂が蛍光体を含んでいるので、半導体発光素子の出射光の波長を他の波長に蛍光体で変換できる。したがって、上記発光装置の色度を制御できる。
　また、上記空洞は透光性樹脂の表面および内部の任意の位置に形成することができるので、色度の制御の自由度を大きくすることができる。
　本発明の発光装置の製造方法は、基体上に半導体発光素子を搭載する工程と、その基体上に、ドーム状の外形を有するように、蛍光体を含む透光性樹脂を形成して、半導体発光素子を透光性樹脂で覆う工程と、その半導体発光素子を覆う上記透光性樹脂にレーザ照射を行って、上記透光性樹脂の表面または内部に空洞を形成する工程とを備えることによって、空洞を画定する表面で半導体発光素子の出射光が反射・拡散されるようにすることができるので、配光角を広くすることができる。
　また、上記空洞はレーザ照射で形成するので、専用金型を用いなくてもよく、レーザの焦点距離を変更すれば、透光性樹脂の表面および内部の任意の位置に形成することができる。したがって、上記専用金型を不要にでき、配光特性を決める加工の自由度を大きくすることができる。
　また、上記透光性樹脂が蛍光体を含んでいるので、半導体発光素子の出射光の波長を他の波長に蛍光体で変換できる。したがって、上記発光装置の色度を制御できる。
　また、上記透光性樹脂の表面および内部の任意の位置に空洞を形成することができるので、色度の制御の自由度を大きくすることができる。
図１は本発明の一実施形態の発光装置の模式断面図である。 図２は上記発光装置のＬＥＤチップの概略断面図である。 図３Ａは上記発光装置の製造方法の工程図である。 図３Ｂは図３Ａに続く上記発光装置の製造方法の工程図である。 図３Ｃは図３Ｂに続く上記発光装置の製造方法の工程図である。 図４は本発明の作用効果を説明するための発光装置の模式断面図である。 図５は図４の発光装置の色度図である。 図６は本発明の作用効果を説明するための他の発光装置の模式断面図である。 図７は図６の発光装置の色度図である。 図８は本発明の課題を説明するための発光装置の模式断面図である。
　以下、本発明の発光装置を図示の実施形態により詳細に説明する。
　図１は本発明の一実施形態の発光装置の模式断面図である。
　上記発光装置は、プリント配線基板１と、このプリント配線基板１上に搭載されたＬＥＤ(発光ダイオード)チップ２と、このＬＥＤチップ２を覆って封止する透光性樹脂３と、この透光性樹脂３の内部にレーザ照射により形成された空洞４とを備えている。なお、プリント配線基板１は基体の一例であり、ＬＥＤチップ２は半導体発光素子の一例である。
　上記プリント配線基板１は、絶縁材料からなる基板本体１１と、この基板本体１１の左側部分に設けられた第１電極パターン１２と、基板本体１１の右側部分に設けられた第２電極パターン１３とを有している。この第１電極パターン１２は、基板本体１１の上面の左側部分と、基板本体１１の左側の側面と、基板本体１１の下面の左側部分とに渡って設けられており、金属バンプ(図示せず)を介してＬＥＤチップ２の下部のＰ型用パッド電極２６(図２参照)に接続されている。一方、上記第２電極パターン１３は、基板本体１１の上面の右側部分と、基板本体１１の右側の側面と、基板本体１１の下面の右側部分とに渡って設けられており、金属バンプ(図示せず)を介してＬＥＤチップ２の下部のＮ型用パッド電極２５(図２参照)に接続されている。
　上記透光性樹脂３は、主として例えばシリコンなどの透明な樹脂からなる。透光性樹脂３は、ＬＥＤチップ２と、第１電極パターン１２および第２電極パターン１３のそれぞれの一部とを覆うように、かつ、ドーム状の外形を有するように形成されている。また、上記透光性樹脂３は、ＬＥＤチップ２の出射光の波長を他の波長に変換する蛍光体５を含んでいる。この蛍光体５としては、赤色蛍光体(例えばＬａ２Ｏ２Ｓ：Ｅｕ、０.５ＭｇＦ2・３．５ＭｇＯ・ＧｅＯ2：Ｍｎ、ＣａＳ：Ｅｕ，Ｔｍ)、緑色蛍光体(例えばＳｒＡｌ2Ｏ4：Ｅｕ)、青色蛍光体(例えば(Ｓｒ，Ｃａ，Ｂａ，Ｃｅ)10(ＰＯ4)6Ｃｌ2：Ｅｕ、ＢａＭｇ2Ａｌ16Ｏ27：Ｅｕ)、青緑色蛍光体(例えばＳｒ4Ａl14Ｏ25：Ｅｕ、Ｓｒ4Ａl14Ｏ25：Ｅｕ，Ｄｙ)などの中から少なくとも一つを使用できる。
　上記空洞４はＬＥＤチップ２上に形成されている。別の言い方をすれば、上下方向において、空洞４がＬＥＤチップ２に対して重なっている。また、上記空洞４の左右方向(プリント配線基板１の上面に対して平行な方向)の長さは、ＬＥＤチップ２の左右方向の長さと略同じなっている。また、上記空洞４の断面形状は楕円形状となっている。
　図２は上記ＬＥＤチップ２の概略断面図である。
　上記ＬＥＤチップ２は、基板を透過させて光を取り出すタイプのＬＥＤチップ２の一例である。より詳しくは、上記ＬＥＤチップ２は、絶縁性のサファイア基板２１上(図２においてはサファイア基板２１の下方)に、Ｎ型窒化ガリウム系化合物半導体層２２、Ｐ型窒化ガリウム系化合物半導体層２３、金属薄膜または透明導電膜からなるＰ型層用電極２４を順次積層して、Ｎ型窒化ガリウム系化合物半導体層２２の露出面にＮ型用パッド電極２５を形成すると共に、Ｐ型層用電極２４の表面にＰ型用パッド電極２６を形成している。このＮ型用パッド電極２５とＰ型用パッド電極２６との間に電位差を与えると(電流が流れる，発光する)、発光領域２０から光が出射され、この光はサファイア基板２１を透過して上方(Ｎ型窒化ガリウム系化合物半導体層２２側とは反対側の方向)に放射される。
　以下、図３Ａ～図３Ｃを用いて、上記発光装置の製造方法について説明する。
　まず、上記ＬＥＤチップ２のＰ型用パッド電極２６を、金属バンプ(例えばＡｕバンプ)を介して第１電極パターン１２に接続すると共に、ＬＥＤチップ２のＮ型用パッド電極２５を、金属バンプ(例えばＡｕバンプ)を介して第２電極パターン１３に接続して、図３Ａに示すように、プリント配線基板１上にＬＥＤチップ２を搭載する。
　次に、上記透光性樹脂３の材料である液状樹脂に蛍光体５を混ぜ込んだものをＬＥＤチップ２上に滴下させた後、硬化処理を行って、図３Ｂに示すように、ドーム状の外形を有する透光性樹脂３１を形成し、この透光性樹脂３１でＬＥＤチップ２を覆う。ここで、上記硬化処理は、液状樹脂が熱硬化性樹脂であれば、加熱処理であり、液状樹脂が紫外線硬化樹脂であれば、紫外線照射処理である。つまり、上記硬化処理は上記液状樹脂の性質に応じた処理となる。
　次に、上記ＬＥＤチップ２を覆う透光性樹脂３１にレーザ照射を行って、図３Ｃに示すように、透光性樹脂３の内部に、ＬＥＤチップ２上に位置する空洞４を形成する。この空洞４を画定する表面は、レーザ照射の熱により溶けて滑らかな面となっている。
　このように、上記透光性樹脂３の内部に空洞４を形成することにより、図１の矢印で示すように、空洞４を画定する表面でＬＥＤチップ２の出射光を反射・拡散できるようになる。したがって、上記発光装置の配光角を広くすることができる。
　また、上記空洞４はレーザ照射で形成するので、専用金型を用いなくてもよく、レーザの焦点距離を変更すれば、透光性樹脂３の内部の任意の位置に形成することができる。したがって、上記専用金型を不要にでき、配光特性を決める加工の自由度は大きい。
　また、上記透光性樹脂３が蛍光体５を含んでいるので、ＬＥＤチップ２の出射光の波長を他の波長に蛍光体５で変換できる。したがって、上記発光装置の色度を制御できる。
　また、上記透光性樹脂３の内部の任意の位置に空洞４を形成することができるので、色度の制御の自由度は大きい。
　また、上記透光性樹脂３の内部に空洞４を形成することにより、空洞４を画定する表面(ＬＥＤチップ２の出射光を反射・拡散する表面)が製造工程で損傷および汚染されるのを防いで、歩留まりを上げることができる。
　また、上記空洞４の断面形状は楕円形状であるので、配光角を確実により広くすることができる。
　また、上記ＬＥＤチップ２上に空洞４を形成するので、配光角を確実に広くすることができる。
　上記実施形態では、透光性樹脂３の内部に空洞４を１つ形成していが、透光性樹脂３の内部に空洞４を２つ以上形成してもよい。
　上記実施形態では、透光性樹脂３の内部に、断面形状が楕円形状の空洞４を形成していが、断面形状が他の形状(例えば円形や四角など)の空洞を形成してもよい。 この場合、上記空洞の数は単数でも複数でもよい。
　上記実施形態では、内部にレーザ照射により空洞４が形成された透光性樹脂３を用いていたが、表面にレーザ照射で空洞を単数または複数形成された透光性樹脂を用いてもよい。つまり、上記透光性樹脂の表面にレーザ照射で凹部を単数または複数形成してもよい。
　上記実施形態では、ＬＥＤチップ２のＰ型用パッド電極２６およびＮ型用パッド電極２５をプリント配線基板１側に向けていたが、ＬＥＤチップ２のＰ型用パッド電極２６およびＮ型用パッド電極２５をプリント配線基板１側とは反対側に向けてもよい。このようにする場合、上記ＬＥＤチップ２のＰ型用パッド電極２６を、金属ワイヤーを介して第１電極パターン１２に接続すると共に、ＬＥＤチップ２のＮ型用パッド電極２５を、金属ワイヤーを介して第２電極パターン１３に接続するようにしてもよい。
　上記実施家形態では、ＬＥＤチップ２は、サファイア基板２１を有していたが、ＺｎＯ，ＧａＮ，ＳｉＣ，ＺｎＳｅ等の他の材料からなる基板を有するようにしてもよい。
　上記実施形態では、ＬＥＤチップ２における半導体層の材料としては、窒化物系化合物半導体(IｎｘＧａｙＡｌｚＮ(ｘ＋ｙ＋ｚ＝１，０≦ｘ≦１，０≦ｙ≦１，０≦ｚ≦１))が好適に利用できるが、それ以外にＳｉＣやＺｎＳｅ等の半導体を用いてもよい。
　上記実施形態において、ＬＥＤチップ２が出射する光は、波長が３９０ｎｍ～４２０ｎｍの範囲内に入るようにしてもよい。
　上記実施形態では、ＬＥＤチップ２が出射する光に透明であり、かつ、蛍光体５で波長変換された光に透明である樹脂であれば、透光性樹脂３として用いることができる。
　１…プリント配線基板
　２…ＬＥＤチップ
　３，３１…透光性樹脂
　４…空洞
　５…蛍光体
　２０…発光領域
　２１…サファイア基板
　２２…Ｎ型窒化ガリウム系化合物半導体層
　２３…Ｐ型窒化ガリウム系化合物半導体層
　２４…Ｐ型層用電極
　２５…Ｎ型用パッド電極
　２６…Ｐ型用パッド電極

Claims (5)

  1. 　基体(１)と、
    　上記基体(１)上に搭載された半導体発光素子(２)と、
    　上記半導体発光素子(２)を覆うと共に、蛍光体(５)を含んでドーム状の外形を有する透光性樹脂(３)と、
    　上記透光性樹脂(３)の表面または内部にレーザ照射により形成された空洞(４)と
    を備えることを特徴とする発光装置。
  2. 　請求項１に記載の発光装置において、
    　上記空洞(４)は上記透光性樹脂(３)の内部に形成されていることを特徴とする発光装置。
  3. 　請求項１に記載された発光装置において、
    　上記空洞(４)の断面形状は楕円形状であることを特徴とする発光装置。
  4. 　請求項１から３までのいずれか一項に記載の発光装置において、
    　上記空洞(４)は上記半導体発光素子(２)上に形成されていることを特徴とする発光装置。
  5. 　基体(１)上に半導体発光素子(２)を搭載する工程と、
    　上記基体上に、ドーム状の外形を有するように、蛍光体を含む透光性樹脂(３１)を形成して、上記半導体発光素子(２)を上記透光性樹脂(３１)で覆う工程と、
    　上記半導体発光素子(２)を覆う上記透光性樹脂(３１)にレーザ照射を行って、上記透光性樹脂(３１)の表面または内部に空洞(４)を形成する工程と
    を備えたことを特徴とする発光装置の製造方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016171227A (ja) * 2015-03-13 2016-09-23 日亜化学工業株式会社 発光装置およびその製造方法
JP2020115584A (ja) * 2020-04-15 2020-07-30 日亜化学工業株式会社 発光装置およびその製造方法
US11489097B2 (en) 2019-11-29 2022-11-01 Nichia Corporation Light emitting device including light transmissive cover member including an annular lens part, and LED package

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017157719A1 (en) * 2016-03-16 2017-09-21 Lumileds Holding B.V. Method of manufacturing an led module

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09270537A (ja) * 1996-04-01 1997-10-14 Nichia Chem Ind Ltd 光電変換装置
JP2006278675A (ja) * 2005-03-29 2006-10-12 Toshiba Corp 半導体発光装置
JP2006303303A (ja) * 2005-04-22 2006-11-02 Stanley Electric Co Ltd 光学特性制御ｌｅｄデバイス及びその製造方法
JP2009158541A (ja) * 2007-12-25 2009-07-16 Citizen Electronics Co Ltd 発光ダイオードの製造方法
JP2009259868A (ja) * 2008-04-11 2009-11-05 Sharp Corp 発光装置の色度調整方法および製造方法
JP2009283887A (ja) * 2008-04-24 2009-12-03 Citizen Holdings Co Ltd Ｌｅｄ光源及びｌｅｄ光源の色度調整方法
JP2010263133A (ja) * 2009-05-11 2010-11-18 Furukawa Electric Co Ltd:The 発光ダイオード装置および発光ダイオード装置の製造方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09270537A (ja) * 1996-04-01 1997-10-14 Nichia Chem Ind Ltd 光電変換装置
JP2006278675A (ja) * 2005-03-29 2006-10-12 Toshiba Corp 半導体発光装置
JP2006303303A (ja) * 2005-04-22 2006-11-02 Stanley Electric Co Ltd 光学特性制御ｌｅｄデバイス及びその製造方法
JP2009158541A (ja) * 2007-12-25 2009-07-16 Citizen Electronics Co Ltd 発光ダイオードの製造方法
JP2009259868A (ja) * 2008-04-11 2009-11-05 Sharp Corp 発光装置の色度調整方法および製造方法
JP2009283887A (ja) * 2008-04-24 2009-12-03 Citizen Holdings Co Ltd Ｌｅｄ光源及びｌｅｄ光源の色度調整方法
JP2010263133A (ja) * 2009-05-11 2010-11-18 Furukawa Electric Co Ltd:The 発光ダイオード装置および発光ダイオード装置の製造方法

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016171227A (ja) * 2015-03-13 2016-09-23 日亜化学工業株式会社 発光装置およびその製造方法
US10391727B2 (en) 2015-03-13 2019-08-27 Nichia Corporation Light emitting device
US10569487B2 (en) 2015-03-13 2020-02-25 Nichia Corporation Method of manufacturing light emitting device
US10967588B2 (en) 2015-03-13 2021-04-06 Nichia Corporation Method of manufacturing light emitting device
US11489097B2 (en) 2019-11-29 2022-11-01 Nichia Corporation Light emitting device including light transmissive cover member including an annular lens part, and LED package
JP2020115584A (ja) * 2020-04-15 2020-07-30 日亜化学工業株式会社 発光装置およびその製造方法
JP7007606B2 (ja) 2020-04-15 2022-01-24 日亜化学工業株式会社 発光装置およびその製造方法

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