WO2013115492A1 - 반사방지 효과와 내지문성을 구비한 투명기판 - Google Patents

반사방지 효과와 내지문성을 구비한 투명기판 Download PDF

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WO2013115492A1
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WO
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layer
transparent substrate
reflection
fingerprint
base material
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PCT/KR2013/000015
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이상로
김성한
김윤환
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(주)에스이피
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    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
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    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
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    • C03C17/42—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating of an organic material and at least one non-metal coating
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/70—Properties of coatings
    • C03C2217/73—Anti-reflective coatings with specific characteristics

Definitions

  • the present invention relates to a transparent substrate having an antireflection function and anti-fingerprint, and more particularly, to a transparent substrate including an antireflection layer formed by etching the base material of the transparent substrate and a thin film layer deposited (coated) on the antireflection layer. It relates to a substrate.
  • the transparent substrate is a substrate made of a transparent material that transmits light, and is used for a general display panel, a touch screen panel, and the like, and typical examples thereof include glass and transparent film.
  • the multilayer film forming technique through the dry method is a technique of forming a multilayer film structure of a high refractive film and a low refractive film using vacuum equipment such as sputter, and usually forms a multilayer film of 6 layers, and through the multilayer film, Means the technology to implement the function of anti-reflection.
  • a technique using the wet method is a technique of forming the anti-reflection layer by using dip coating and roll coating.
  • the multilayer film forming technique through the dry method has a problem in that the manufacturing process is complicated and the productivity is low, and the technique using the wet method requires a large amount of chemicals and is coated. There was a disadvantage in that the adhesion of the relatively poor.
  • the present invention has been invented to meet the technical needs described above, and solved the above problems, as well as adding a configuration that can be easily developed by those skilled in the art.
  • a transparent substrate having an antireflection function and fingerprint resistance according to an embodiment of the present invention is to minimize the process of forming the antireflection layer on the transparent substrate, and to significantly improve the efficiency of the process.
  • the transparent substrate having an anti-reflection function and fingerprint resistance according to an embodiment of the present invention, to increase the durability of the anti-reflection layer, and to solve the problem that can maintain the anti-reflection performance until the base material of the transparent substrate is damaged It is a task.
  • the transparent substrate having an antireflection function and anti-fingerprint according to an embodiment of the present invention, the anti-reflection layer and the anti-fingerprint layer, even if the nanostructure is not formed on the anti-reflection layer and the anti-fingerprint layer itself coated on the base material
  • the challenge is to make it possible to include nanostructures.
  • a transparent substrate having an anti-reflection function and fingerprint resistance according to an embodiment of the present invention, a transparent base material layer (Basic Material) made of a transparent material; And an anti-reflection layer formed on a surface of the transparent base material layer, wherein the anti-reflection layer is formed by etching the transparent base material layer.
  • Base Material made of a transparent material
  • the anti-reflection layer is characterized in that it comprises a nanostructure of 50 to 500nm size.
  • the transparent substrate having an antireflection function and fingerprint resistance according to an embodiment of the present invention, characterized in that it further comprises a second antireflection layer formed in a thin film form on the antireflection layer.
  • the transparent substrate having an antireflection function and anti-fingerprint according to an embodiment of the present invention, is formed by an oxide film coating, characterized in that the thickness is 50 to 500 ⁇ .
  • the transparent substrate having an antireflection function and anti-fingerprint according to an embodiment of the present invention, characterized in that it further comprises an anti-fingerprint layer formed in a thin film form on the second anti-reflection layer.
  • the anti-fingerprint layer is formed by a fluorine compound coating, characterized in that the thickness is 50 to 500 ⁇ .
  • the base material itself of the transparent substrate may be etched in one step to form an antireflection layer (nano structure). Therefore, the process of forming the antireflection layer can be minimized and the efficiency of the process can be significantly improved.
  • the transparent substrate having an anti-reflection function and fingerprint resistance according to an embodiment of the present invention, without forming a multilayer film or coating the base material on the base material of the transparent substrate, by etching the base material itself to form an anti-reflection layer (nano structure) Since it forms, the durability of an antireflection layer can also be remarkably improved. Specifically, since the antireflection layer is formed on the base material itself, the antireflection performance can be maintained until the base material is broken.
  • the transparent substrate having an anti-reflection function and fingerprint resistance according to an embodiment of the present invention, by forming a thin film layer on the anti-reflection layer formed of the nano-structure, to enhance the durability of the nano-structure as well as to prevent light reflection It can supplement and give the effect of a fingerprint.
  • the anti-reflection layer and fingerprints do not need to form a separate nanostructure on the anti-reflection layer and the fingerprint layer itself coated on the base material Allows the layer to include nanostructures. Specifically, by forming a nanostructure on the base material itself, by forming an anti-reflection layer and fingerprint in the form of a thin film thereon, the shape of the nanostructure formed on the base material can be reflected in the anti-reflection layer and fingerprint.
  • FIG. 1 is a view showing the configuration of a transparent substrate having an antireflection function and anti-fingerprint according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a view showing the configuration of a transparent substrate having antireflection function and fingerprint resistance according to another embodiment of the present invention.
  • FIG 3 is a view illustrating a process of forming a transparent substrate having an anti-reflection function and fingerprint resistance according to an embodiment of the present invention.
  • FIGS. 1 to 3 a transparent substrate having antireflection function and fingerprint resistance according to an embodiment of the present invention will be described in detail.
  • the transparent substrate according to the present invention may be applied to various products, it is preferable that the transparent substrate be applied to a solar cell cover glass or a touch panel (resistive film type, capacitive type, ultrasonic type, infrared type, etc.).
  • the transparent substrate having the anti-reflection function and the fingerprint resistance may include a transparent base material layer 100 made of a transparent material, and the transparent base material layer.
  • the anti-reflection layer 110 formed on the surface may include a second anti-reflection layer 200 formed in a thin film form on the anti-reflection layer, and an anti-fingerprint layer 300 formed in a thin film form on the second anti-reflection layer.
  • the transparent base material layer 100 refers to a layer made of a base material for forming the transparent substrate, wherein the base material is preferably glass, cellulose-based resin, or polyethylene terephthalate.
  • the base material is preferably glass, cellulose-based resin, or polyethylene terephthalate.
  • PET polyethylene terephthalate
  • PEN polyethylene naphthalate
  • polyethylene resin polyvinyl chloride resin
  • PC polycarbonate
  • PES polyethersulfone
  • PEEK polyphenylene sulfide
  • PPS polyimide
  • PMMA polymethyl methacrylate
  • the transparent base material layer 100 may be formed in various thicknesses, but may preferably be formed in a thickness of 0.3 to 10mm, which is a thickness suitable for being applied to the touch panel.
  • the anti-reflection layer 110 is formed on the surface of the transparent base material layer 100, and means a configuration capable of providing an anti-reflection function without forming a coating layer on the transparent substrate.
  • the anti-reflection layer 110 is formed by etching the transparent base material layer 100 itself, specifically, by etching the transparent base material layer 100 itself to form a nanostructure on the surface of the transparent base material layer 100, Such nanostructures achieve the effect of anti-reflection. Therefore, since the antireflection layer 110 is formed integrally with the base material layer, it is possible to maintain the antireflection performance until the base material layer is damaged, and thus the durability of the antireflection layer is remarkable as compared to conventional technologies. Will be improved.
  • the nanostructures may be formed in various shapes as shown in FIG. 1 or 2, or may be formed in various shapes other than such shapes, but may be formed of nanostructures having a size of 50 to 500 nm.
  • the thickness of the antireflection layer 110 in which the nanostructure is formed is preferably formed in a thickness in the range of ⁇ / 4 of the visible light wavelength ( ⁇ , 380 to 780 nm) in order to increase the transmittance of the visible light region. Can be.
  • the etching process for forming the anti-reflection layer 110 may be configured in various ways through dry etching (wet etching) or wet etching (Wet etching), for example, ion-beam etching, gas cluster ion-beam etching , Plasma etching. It may be variously configured in a process such as nano-ablation by laser light irradiation.
  • the second anti-reflection layer 200 is formed on the anti-reflection layer 110 to enhance the durability of the anti-reflection layer 110 and complement the anti-reflection function.
  • the second anti-reflection layer 200 may be formed by being deposited (coated) on the anti-reflection layer 110, preferably in the form of a thin film. Specifically, the second anti-reflection layer 200 may be formed to a thickness of 50 to 500 ⁇ , the shape of the nano-structure through the structure of the thin film can be reflected in the overall shape of the second anti-reflection layer 200 as it is. have. Therefore, the antireflection layer 110 may be supplemented with the antireflection function and the durability of the antireflection layer 110 (nanostructure) may be improved.
  • the second anti-reflection layer 200 may be formed of various materials.
  • the second anti-reflection layer 200 may be formed of an oxide film such as titanium oxide (TiO 2 ), silicon oxide (SiO 2 ), or an inorganic mixture. It may be formed, in addition to these materials may be formed by a variety of materials.
  • the anti-fingerprint layer 300 is formed on the second anti-reflection layer 200 to impart a function of anti-finger effect to the transparent substrate.
  • the anti-fingerprint layer 300 may be formed by being deposited (coated) on the second anti-reflective layer 200, preferably, in the form of a thin film.
  • the fingerprint layer 300 may be formed to a thickness of 50 to 500 ⁇ , through the structure of the thin film can reflect the shape of the nanostructure in the overall shape of the fingerprint layer 300 as it is. Therefore, in the case of forming the shape of the nanostructures in a shape that can improve the function of the fingerprint, the shape of the nanostructure can be directly reflected on the fingerprint layer 300, accordingly the fingerprint layer ( It is possible to further improve the performance of the fingerprint layer 300 without forming a separate nanostructure on 300).
  • the anti-fingerprint layer 300 may be formed of various materials, specifically, a fluorine-containing compound including at least one of a silicon-containing compound having a siloxane group, a perfluoroalkyl group, or a perfluoroalkyl ether group. It may be formed of a material, in addition to these materials may be formed by a variety of materials.
  • a transparent base material (Basci Material) layer forming a basic material of the transparent substrate is preferably formed to a thickness of 0.3 to 10mm (A), the transparent base material
  • the layer 100 itself is etched so that the antireflection layer 110 is formed on the surface of the transparent base material layer 100 (B).
  • the anti-reflection layer 110 includes a nanostructure having a size of 50 to 500 nm formed by the etching, thereby increasing the transmittance of light and performing the function of anti-reflection through the nanostructure.
  • a second anti-reflective layer 200 having a thickness of 50 to 500 ⁇ m is formed on the anti-reflective layer 110 (C).
  • the prevention layer 200 is preferably formed by vapor deposition (coating) of an oxide film.
  • a thin-film anti-fingerprint layer 300 having a thickness of 50 to 500 ⁇ m is formed on the second anti-reflective layer 200 (D).
  • the anti-fingerprint layer 300 is preferably formed through the deposition (coating) of the fluorine compound.
  • the transparent substrate having anti-reflective function and anti-fingerprint according to an embodiment of the present invention, by etching the base material itself of the transparent substrate in a single process to the anti-reflection layer (110, nanostructure) Can be formed. Therefore, the process of forming the antireflection layer 110 can be minimized and the efficiency of the process can be significantly improved.
  • the transparent substrate having an anti-reflection function and fingerprint resistance without forming a multilayer film or coating the base material on the base material of the transparent substrate, by etching the base material itself antireflection layer 110, nanostructures ),
  • the durability of the anti-reflection layer 110 can also be significantly improved. Specifically, since the antireflection layer 110 is formed on the base material itself, the antireflection performance can be maintained until the base material is damaged.
  • the transparent substrate having an anti-reflection function and fingerprint resistance according to an embodiment of the present invention, by forming a thin film layer on the anti-reflection layer 110 formed of a nano-structure, to enhance the durability of the nano-structure as well as light reflection
  • the prevention function can be supplemented and the effect of fingerprinting can be given.
  • the transparent substrate having an anti-reflection function and fingerprint resistance may include nanostructures.
  • the nanostructure is formed on the base material itself, and the antireflection layer 110 and the anti-fingerprint layer 300 in the form of a thin film thereon, the shape of the nanostructure formed on the base material to the antireflection layer 110 and It may be reflected in the fingerprint layer 300.

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Abstract

본 발명은 반사방지 기능과 내지문성을 구비한 투명기판에 관한 것으로서, 투명한 물질로 이루어지는 투명 모재(Basic Material)층; 및 상기 투명 모재층의 표면에 형성되는 반사방지층을 포함하고, 상기 반사방지층은 상기 투명 모재층이 식각되어서 형성되는 것을 특징으로 한다.

Description

반사방지 효과와 내지문성을 구비한 투명기판
본 발명은 반사방지 기능과 내지문성을 구비한 투명기판에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 투명기판의 모재 자체가 식각되어서 형성되는 반사방지층 및 상기 반사방지층에 증착(코팅)되는 박막층들을 포함하는 투명기판에 관한 것이다.
투명기판이란 빛을 투과시키는 투명한 물질로 이루어진 기판으로서, 일반 디스플레이 패널, 터치스크린 패널 등에 사용이 되며, 그 대표적인 예로서 유리(glass), 투명 필름 등이 있다.
이러한 투명기판에는 반사방지층을 형성하는 것이 필요한데, 종래에는 이러한 반사방지층을 형성하기 위하여 1) 건식법을 통한 다층막 형성 기술, 또는 2) 습식법을 활용한 딥코팅 및 롤코팅 기술이 사용되었다.
먼저, 상기 건식법을 통한 다층막 형성기술은 스퍼터(Sputter) 등의 진공 장비를 사용하여 고 굴절막과 저 굴절막의 다층막 구조를 형성하는 기술로서, 보통 6 layer의 다층막을 형성하며, 이러한 다층막을 통해 상기 반사방지의 기능을 구현하는 기술을 의미한다.
다음으로, 상기 습식법을 활용한 기술은, 딥코팅(Dip coating) 및 롤코팅(Roll coating)을 사용하여 상기 반사방지층을 형성하는 기술이다.
하지만, 이러한 종래의 기술들은 문제점이 있었는데, 구체적으로 상기 건식법을 통한 다층막 형성기술은 제조공정이 복잡하고 생산성이 낮다는 문제점이 있었고, 상기 습식법을 활용하는 기술은 대량의 화학약품을 필요로 하고 코팅의 밀착력이 상대적으로 떨어지는 단점이 있었다.
따라서, 상기 종래기술의 문제점들을 발생시키지 않으면서 반사방지 성능을 구비할 수 있는 새로운 투명기판 기술이 요구되고 있다.
본 발명은 이상에서 살펴본 기술적인 요구를 충족시키기 위해서 발명되었으며, 상기와 같은 문제점을 해결함은 물론, 본 기술분야에서 통상의 지식을 가진자가 용이하게 개발할 수 없는 구성을 부가하여 발명되었다.
본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 기능과 내지문성을 구비한 투명기판은, 투명기판에 반사방지층을 형성시키는 공정을 최소화하고, 공정의 효율성을 현저하게 향상시키는 것을 해결과제로 한다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 기능과 내지문성을 구비한 투명기판은, 반사방지층의 내구성을 증가시키고, 투명기판의 모재가 파손되기 전까지는 반사방지 성능을 유지할 수 있게 하는 것을 해결과제로 한다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 기능과 내지문성을 구비한 투명기판은, 모재에 코팅되는 반사방지층 및 내지문층 자체에 나노구조물을 형성하지 않아도, 상기 반사방지층 및 내지문층이 나노구조를 포함할 수 있게 하는 것을 해결과제로 한다.
상기와 같은 과제를 해결하기 위한, 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 기능과 내지문성을 구비한 투명기판은, 투명한 물질로 이루어지는 투명 모재(Basic Material)층; 및 상기 투명 모재층의 표면에 형성되는 반사방지층을 포함하고, 상기 반사방지층은 상기 투명 모재층이 식각되어서 형성되는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 기능과 내지문성을 구비한 투명기판은, 상기 반사방지층이 50 내지 500nm 크기의 나노구조물을 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 기능과 내지문성을 구비한 투명기판은, 상기 반사방지층 위에 박막 형태로 형성되는 제2반사방지층을 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 기능과 내지문성을 구비한 투명기판은, 상기 제2반사방지층이 산화막 코팅에 의해 형성되며, 두께가 50 내지 500Å인 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 기능과 내지문성을 구비한 투명기판은, 상기 제2반사방지층 위에 박막 형태로 형성되는 내지문층을 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 기능과 내지문성을 구비한 투명기판은, 상기 내지문층이 불소 화합물 코팅에 의해 형성되며, 두께가 50 내지 500Å인 것을 특징으로 한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 기능과 내지문성을 구비한 투명기판은, 한 번의 공정으로 투명기판의 모재(Base material) 자체를 식각하여 반사방지층(나노 구조물)을 형성할 수 있다. 따라서, 반사방지층을 형성시키는 공정을 최소화시키고 공정의 효율성을 현저하게 향상시킬 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 기능과 내지문성을 구비한 투명기판은, 투명기판의 모재 위에 다층막을 형성하거나 모재를 코팅하지 않고, 모재 자체를 식각하여 반사방지층(나노 구조물)을 형성하므로, 반사방지층의 내구성도 현저하게 향상시킬 수 있다. 구체적으로, 모재 자체에 반사방지층이 형성되므로, 모재가 파손되기 전까지는 반사방지 성능을 유지할 수 있기 때문이다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 기능과 내지문성을 구비한 투명기판은, 나노 구조물로 형성되는 반사방지층 위에 박막층들을 형성하여, 나노구조물의 내구성을 강화시킴은 물론 빛 반사 방지 기능을 보완하고, 내지문의 효과까지 부여할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 기능과 내지문성을 구비한 투명기판은, 모재에 코팅되는 반사방지층 및 내지문층 자체에 별도의 나노구조물을 형성하지 않아도, 상기 반사방지층 및 내지문층이 나노구조물을 포함할 수 있게 한다. 구체적으로, 모재 자체에 나노 구조물을 형성하고, 그 위에 박막층의 형태로 반사방지층과 내지문층을 형성하여, 상기 모재에 형성된 나노구조물의 형상을 상기 반사방지층 및 내지문층에 반영시킬 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 기능과 내지문성을 구비한 투명기판의 구성을 나타내는 도면이다.
도 2는 본 발명의 다른 실시예에 다른 반사방지 기능과 내지문성을 구비한 투명기판의 구성을 나타내는 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 기능과 내지문성을 구비한 투명기판이 형성되는 과정을 나타내는 도면이다.
이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 기능과 내지문성을 구비한 투명기판을 상세하게 설명한다. 설명하는 실시 예들은 본 발명의 기술 사상을 당업자가 용이하게 이해할 수 있도록 제공되는 것으로 이에 의해 본 발명이 한정되지 않는다. 또한, 첨부된 도면에 표현된 사항들은 본 발명의 실시 예들을 쉽게 설명하기 위해 도식화된 도면으로 실제로 구현되는 형태와 상이할 수 있다.
이하, 도 1 내지 도 3을 참조하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 기능과 내지문성을 구비한 투명기판을 상세하게 설명한다.
참고로 본 발명에 따른 투명기판은 다양한 제품에 적용될 수 있지만, 태양전지 커버유리 또는 터치패널(저항막 방식, 정전용량 방식, 초음파 방식, 적외선 방식 등)에 적용될 수 있는 투명기판인 것이 바람직하다.
도 1 또는 도 2를 참조하면, 본 발명의 실시예들에 따른 반사방지기능과 내지문성을 구비한 투명기판은, 투명한 물질로 이루어지는 투명 모재(Basic Material)층(100), 상기 투명 모재층의 표면에 형성되는 반사방지층(110), 상기 반사방지층 위에 박막형태로 형성되는 제2반사방지층(200), 상기 제2반사방지층 위에 박막 형태로 형성되는 내지문층(300)을 포함할 수 있다.
상기 투명 모재(Basic Material)층(100)은, 상기 투명기판을 형성하는 기본 물질로 이루어진 층을 의미하는데, 여기서 상기 기본물질은 바람직하게는 글래스(Glass), 셀롤로오스계 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트(polyethylene terephthalate; PET), 폴리에틸렌 나프탈레이트(polyethylene naphthalate; PEN), 폴리에틸렌 수지, 염화 폴리비닐 수지, 폴리카보네이트(Polycarbonate; PC), 폴리에테르 술폰(polyethersulfone; PES), 폴리에테르 에테르케톤(polyetherether ketone; PEEK), 황화 폴리페닐렌(polyphenylene sulfide; PPS), 폴리이미드(polyimide, PI) 또는 폴리메틸메타크릴레이트(polymethyl methacrylate, PMMA)이거나, 이들의 조합을 포함할 수 있다.
또한, 상기 투명 모재층(100)은 다양한 두께로 형성될 수 있지만, 바람직하게는 터치패널에 적용되기에 알맞은 두께인 0.3 내지 10mm의 두께로 형성될 수 있다.
상기 반사방지층(110)은, 상기 투명 모재층(100)의 표면에 형성되는 구성으로서, 상기 투명기판에 코팅층을 형성하지 않아도 반사방지의 기능을 부여할 수 있는 구성을 의미한다.
이러한 상기 반사방지층(110)은 상기 투명 모재층(100) 자체가 식각되어서 형성되는데, 구체적으로 상기 투명 모재층(100) 자체를 식각하여 상기 투명 모재층(100) 표면에 나노구조물을 형성하고, 이러한 상기 나노구조물에 의하여 반사방지의 효과를 달성하게 된다. 따라서, 상기 반사방지층(110)이 상기 모재층과 완벽한 일체를 이루면서 형성되므로, 상기 모재층이 파손되기 전까지는 반사방지 성능을 유지할 수 있으며, 이에 따라 종래의 기술들에 비하여 반사방지층의 내구성이 현저하게 향상되게 된다.
여기서 상기 나노구조물은 다양한 도 1 또는 도 2와 같은 형태로 형성되거나, 이러한 형태 이외의 다양한 형태로 형성될 수 있지만, 바람직하게는 50 내지 500nm크기의 나노구조물로 형성될 수 있다. 또한, 상기 나노구조물이 형성되는 상기 반사방지층(110)의 두께는 가시광선 영역의 투과율을 높이기 위해 바람직하게는 가시광선 영역 파장(λ, 380 내지 780nm)의 λ/4의 범위에 있는 두께로 형성될 수 있다.
한편, 상기 반사방지층(110)을 형성하는 식각 공정은 건식 식각(Dry etching) 또는 습식 식각(Wet etching)을 통해 다양하게 구성될 수 있는데, 예를 들어 이온-빔 식각, 가스 클러스터 이온-빔 식각, 플라즈마 식각. 레이저광 조사에 의한 나노 삭마(nano-ablation) 등의 공정으로 다양하게 구성될 수 있다.
상기 제2반사방지층(200)은, 상기 반사방지층(110) 위에 형성되는 구성으로서 상기 반사방지층(110)의 내구성을 강화시키고 반사방지기능도 보완하는 구성을 의미한다.
이러한 상기 제2반사방지층(200)은 상기 반사방지층(110) 위에 증착(코팅)되어 형성될 수 되는데, 바람직하게는 박막의 형태로 형성될 수 있다. 구체적으로 상기 제2반사방지층(200)은 50 내지 500Å의 두께로 형성될 수 있는데, 이러한 박막의 구조를 통해 상기 나노구조물의 형상을 상기 제2반사방지층(200)의 전체 형상에 그대로 반영시킬 수 있다. 따라서, 상기 반사방지층(110)의 반사방지기능을 보완함과 동시에 상기 반사방지층(110, 나노구조물)의 내구성을 향상시킬 수 있다.
한편, 상기 제2반사방지층(200)은 다양한 재질로 형성될 수 있는데, 구체적으로 티타늄 옥사이드(TiO2), 실리콘 옥사이드(SiO2) 등의 산화막의 재질로 형성되거나 무기물 혼합물(mixture)의 재질로 형성될 수 있으며, 이러한 재질 이외에도 다양한 재질에 의해 형성될 수 있다.
상기 내지문층(300)은, 상기 제2반사방지층(200) 위에 형성되는 구성으로서 상기 투명기판에 내지문성(anti-finger effect)의 기능을 부여하는 구성을 의미한다.
이러한 상기 내지문층(300)은 상기 제2반사방지층(200) 위에 증착(코팅)되어 형성될 수 있는데, 바람직하게는 박막의 형태로 형성될 수 있다. 구체적으로 상기 내지문층(300)은 50 내지 500Å의 두께로 형성될 수 있는데, 이러한 박막의 구조를 통해 상기 나노구조물의 형상을 상기 내지문층(300)의 전체 형상에 그대로 반영시킬 수 있다. 따라서, 상기 나노구조물의 형상을 내지문의 기능을 향상시킬 수 있는 형상으로 형성하는 경우에, 상기 나노구조물의 형상을 상기 내지문층(300)에 바로 반영시킬 수 있으며, 이에 따라 상기 내지문층(300)에 별도의 나노구조물을 형성시키지 않아도 상기 내지문층(300)의 성능을 더욱 향상시킬 수 있다.
한편, 상기 내지문층(300)은 다양한 재질로 형성될 수 있는데, 구체적으로 실록산기를 갖는 규소 함유 화합물, 퍼플루오로알킬기 또는 퍼플루오로알킬에티르기 중 적어도 어느 한쪽을 포함하는 불소 함유 화합물의 재질로 형성될 수 있으며, 이러한 재질 이외에도 다양한 재질에 의해 형성될 수 있다.
도 3을 참조하여 상기 투명기판이 형성되는 과정을 살펴보면, 먼저 상기 투명기판의 기본 재질을 이루는 투명 모재(Basci Material)층이 바람직하게는 0.3 내지 10mm의 두께로 형성되며(A), 상기 투명 모재층(100) 자체가 식각(etching)되어서 상기 투명 모재층(100) 표면에 반사방지층(110)이 형성(B)되게 된다. 여기서 상기 반사방지층(110)은 상기 식각에 의해 형성된 50 내지 500nm 크기의 나노구조물을 포함하게 되는데, 이러한 상기 나노구조물을 통해 빛의 투과성을 증가시키고 반사방지의 기능을 수행하게 된다.
한편, 상기 반사방지층(110)이 형성된 이후에는, 상기 반사방지층(110) 위에 50 내지 500Å의 두께를 갖는 박막 형태의 제2반사방지층(200)이 형성되게 되는데(C), 이러한 상기 제2반사방지층(200)은 바람직하게는 산화막의 증착(코팅)에 의해 형성되게 된다.
다음으로, 상기 제2반사방지층(200)이 형성된 이후에는, 상기 제2반사방지층(200) 위에 50 내지 500Å의 두께를 갖는 박막 형태의 내지문층(300)이 형성되게 되며(D), 이러한 상기 내지문층(300)은 바람직하게는 불소 화합물의 증착(코팅)을 통해 형성되게 된다.
이상에서 살핀, 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 기능과 내지문성을 구비한 투명기판은, 한 번의 공정으로 투명기판의 모재(Base material) 자체를 식각하여 반사방지층(110, 나노 구조물)을 형성할 수 있다. 따라서, 반사방지층(110)을 형성시키는 공정을 최소화시키고 공정의 효율성을 현저하게 향상시킬 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 기능과 내지문성을 구비한 투명기판은, 투명기판의 모재 위에 다층막을 형성하거나 모재를 코팅하지 않고, 모재 자체를 식각하여 반사방지층(110, 나노 구조물)을 형성하므로, 반사방지층(110)의 내구성도 현저하게 향상시킬 수 있다. 구체적으로, 모재 자체에 반사방지층(110)이 형성되므로, 모재가 파손되기 전까지는 반사방지 성능을 유지할 수 있기 때문이다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 기능과 내지문성을 구비한 투명기판은, 나노 구조물로 형성되는 반사방지층(110) 위에 박막층들을 형성하여, 나노구조물의 내구성을 강화시킴은 물론 빛 반사 방지 기능을 보완하고, 내지문의 효과까지 부여할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 기능과 내지문성을 구비한 투명기판은, 모재에 코팅되는 반사방지층(110) 및 내지문층(300) 자체에 별도의 나노구조물을 형성하지 않아도, 상기 반사방지층(110) 및 내지문층(300)이 나노구조물을 포함할 수 있게 한다. 구체적으로, 모재 자체에 나노 구조물을 형성하고, 그 위에 박막층의 형태로 반사방지층(110)과 내지문층(300)을 형성하여, 상기 모재에 형성된 나노구조물의 형상을 상기 반사방지층(110) 및 내지문층(300)에 반영시킬 수 있다.
위에서 설명된 본 발명의 실시 예는 예시의 목적을 위해 개시된 것이고, 본 발명에 대한 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 사상과 범위 안에서 다양한 수정, 변경, 부가가 가능할 것이며, 이러한 수정, 변경 및 부가는 본 특허청구범위에 속하는 것으로 보아야 할 것이다.
[부호의 설명]
100 : 투명 모재층 110 : 반사방지층
200 : 제2반사방지층 300 : 내지문층

Claims (6)

  1. 투명한 물질로 이루어지는 투명 모재(Basic Material)층; 및
    상기 투명 모재층의 표면에 형성되는 반사방지층;
    을 포함하고,
    상기 반사방지층은 상기 투명 모재층이 식각되어서 형성되는 것을 특징으로 하는 투명기판.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 반사방지층은,
    50 내지 500nm 크기의 나노구조물을 포함하는 것을 특징으로 하는 투명기판.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 반사방지층 위에 박막 형태로 형성되는 제2반사방지층;
    을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명기판.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 제2반사방지층은,
    산화막 코팅에 의해 형성되며, 두께가 50 내지 500Å인 것을 특징으로 하는 투명기판.
  5. 제 3 항에 있어서,
    상기 제2반사방지층 위에 박막 형태로 형성되는 내지문층;
    을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명기판.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 내지문층은,
    불소 화합물 코팅에 의해 형성되며, 두께가 50 내지 500Å인 것을 특징으로 하는 투명기판.
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