WO2013053435A1 - Sicherheitselement - Google Patents

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WO2013053435A1
WO2013053435A1 PCT/EP2012/004032 EP2012004032W WO2013053435A1 WO 2013053435 A1 WO2013053435 A1 WO 2013053435A1 EP 2012004032 W EP2012004032 W EP 2012004032W WO 2013053435 A1 WO2013053435 A1 WO 2013053435A1
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WO
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grid
security element
line
webs
bars
Prior art date
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PCT/EP2012/004032
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Inventor
Hans Lochbihler
Original Assignee
Giesecke & Devrient Gmbh
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    • B42D25/36Identification or security features, e.g. for preventing forgery comprising special materials
    • B42D25/378Special inks
    • B42D25/391Special inks absorbing or reflecting polarised light

Definitions

  • the invention relates to a security element for the production of value documents, such as banknotes, checks or the like, which has a line grid structure.
  • Security elements of value documents with periodic line gratings are known, for example from DE 102009012299 AI, DE 102009012300 AI or DE 102009056933 AI.
  • Such color filter properties are known for both reflective and transmitting subwavelength structures. These structures have a strong polarizing influence on the reflection or the transmission of an incident light beam. The color is relatively strongly dependent on the angle in reflection or transmission of such subwavelength gratings. However, the color saturation for these gratings weakens significantly when the incident light is unpolarized.
  • a line grating with subwavelength structures which has angle-dependent, color-filtering properties.
  • the line grid has a rectangular profile made of a dielectric material.
  • the horizontal surfaces are covered with a high refractive dielectric.
  • this structure is also a dielectric material, wherein preferably the refractive indices of the grating substrate and the cover material are identical.
  • an optically active structure is formed, which consists of two gratings of the high refractive index material, which are spaced apart by the height of the original rectangular profile.
  • the lattice webs forming the line lattice are made of ZnS, for example.
  • a security element for the production of documents of value comprising: a dielectric substrate, embedded in the substrate first line grid structure of a plurality of longitudinally extending and arranged in a plane first grid bars made of metal or A semiconductor and a second line grid structure embedded in the substrate of longitudinally extending second metal or semiconductor grid bars located above the first grid line structure with respect to the plane, wherein the first grid bars each have a width and are juxtaposed such that therebetween the first grid bars along the longitudinal direction extending first grid column are formed with the distance corresponding width, the second line grid structure is inverted to the first line grid structure, wherein in plan view of the plane, the second G Itterstege over the first grid columns and second grid column, which exist between the second grid bars over are the first grid bars, and the width of the first grid bars and the second grid column and the width of the
  • phase shift corresponds to half a period.
  • a double-line grid is used, which consists of two superimposed complementary to one another, i. consists of mutually displaced line grid structures.
  • a phase shift of 90 ° is the ideal value, which of course can be seen in the context of manufacturing accuracy. By manufacturing tolerances here deviations from the complementarity, so 90 ° phase shift arise, since usually a rectangular profile is not perfect, but can be approximated only by a trapezoidal profile whose upper parallel edge is shorter than the lower parallel edge.
  • the line grid structures are made of metal or semiconductor material.
  • the layer thickness of the lattice webs is less than the modulation depth, that is, the spacing of the lattice planes of the line lattice structures.
  • the security element according to the invention can simply by a
  • Layer structure are prepared by first a base layer is provided, on which the first line grid structure is formed. Thereon a dielectric intermediate layer is applied that covers the first line grid structure and is preferably thicker than the grid webs of the first line grid structure. The displaced second line grating structure can then be formed thereon, and a dielectric cover layer forms the end of the substrate embedding the line grating structure.
  • a sub-waveguide having a rectangular profile in cross-section can first be formed in the dielectric substrate as well. If this metallic is vaporized vertically, a metal layer is formed on the plateaus and in the trenches which form the first and second lattice webs.
  • the desired non-contiguous metal film of the first and second lattice webs is therefore provided in different planes if the layer thickness of the lattice webs is less than the modulation depth of the rectangular profile of the previously structured dielectric substrate.
  • a particularly good color effect is obtained when the distance between the first and the second lattice webs, ie the modulation depth of the structure, is between 50 nm and 500 nm, preferably between 100 nm and 300 nm.
  • the distance is to be dimensioned by respectively equivalent surfaces of the first and second line grid structure, ie, for example, from the bottom of the first grid bars to the bottom of the second grid bars or from the top of the first grid bars to the top of the second grid bars.
  • the distance is of course to measure perpendicular to the plane, so called the height difference between the rectified surfaces of the grid bars.
  • the first lattice webs of the first line lattice structure and / or the second lattice webs of the second line lattice structure can be constructed with a multilayer coating, eg as a trilayer of two superimposed metal or semiconductor coatings with an intervening dielectric layer.
  • the security element can be configured approximately color-neutral in the reflection even at approximately vertical angle of incidence. This has the advantage that the transmitted hue is not changed by the reflection.
  • a filling factor of 0.5 ie the same width for the grid webs as for the grid gaps, is preferred for the grid structures of the security element. Such a fill factor is not mandatory. With a deviation from this, one can make the hue of the reflection for reflection from the front different for a reflection hue, which occurs in the reflection at the back of the security element.
  • the security element with the double-line grid shows angle-dependent color filtering for reflection and transmission. This angle dependence is particularly striking when the grid lines are perpendicular to the light incidence plane.
  • Color filtering can be used to make motifs multicolored so that they change color when tilted or twisted. It is therefore preferred that, in plan view of the plane, at least two regions are provided whose longitudinal directions of the line grid structures are oblique to one another, in particular at right angles. When viewed vertically, such a motif can be designed so that it has a uniform color in transmission and no further structure. If you rotate this motif around the vertical axis, the color of one area, for example of the background, changes differently than the color of the other area, for example a motif.
  • the lattice structure has polarizing properties in transmission. This makes it possible to machine-check the security element, which is otherwise not possible with optical security elements with existing standard sensors. Neither holograms nor moiré magnifier designs etc. can be easily checked by machine.
  • the review requires only a brightfield camera and a polarizing filter.
  • the security element shows different polarization properties depending on the orientation of the grating structures. It is therefore preferable to provide a security element which has at least two regions whose line grid structures extend along differently extending longitudinal directions. When viewed with polarized light, these areas show large differences in contrast, which facilitates machine reading.
  • a machine readout for example with a bright field camera and a polarizing filter, provides a contrast between these two areas, which serves to authenticate the security element.
  • a further development which has a plurality of regions in the security element, wherein the regions differ from one another with regard to the longitudinal direction along which the line grid structures extend.
  • This allows you to create motifs with multiple colors in transmission.
  • the longitudinal direction is gradually varied from one area to the next in certain angular steps, for example in 5 °, 10 ° or 15 ° increments, between a plurality of such areas which lie next to one another. If one twists such a structure of adjacent areas in front of a pulverized light source, the colors interchange almost continuously as the angle of rotation of the structure increases.
  • the line grids in the individual areas may also have different geometry parameters in terms of width and spacing. In this case, however, the subject does not disappear when viewed vertically.
  • FIG. 1 is a sectional view of a security element with a
  • Double-line grid, 2a-c the spectral dependence of the transmission, reflection and absorption of the security element of FIG. 1 in a first embodiment
  • FIG. 3 color values in the LCh color space for reflection and transmission for the security element of FIG. 2 with variation of a modulation depth
  • FIG. 4 color values in the LCh color space for reflection and transmission for the security element of FIG. 2 with variation of a layer thickness
  • FIG. 5 color values in the LCh color space for reflection and transmission for a security element of FIG. 1 in a second embodiment with variation of a layer thickness
  • FIG. 6 shows a sectional representation similar to FIG. 1 for a double-line grid whose grid webs are provided with a trilayer coating
  • FIG. 7 shows color values in the LCh color space for reflection and transmission for the security element of FIG. 6 with variation of a layer thickness
  • 8a-b are two plan views of a motif that is formed with the security element of FIG. 1,
  • FIG. 11 color values in the LCh color space for reflection and transmission for the security element of FIG. 2, FIG. wherein the plot corresponds to that of FIG. 10, but with variation of a layer thickness,
  • FIGs. 12 and 13 representations similar to Fig. 11, but for different
  • FIG. 14 color values in the LCh color space for reflection and transmission for a security element according to the prior art
  • FIG. 15 color values in the LCh color space for reflection and transmission of a security element with different polarization of the illuminating radiation
  • FIG. 15 color values in the LCh color space for reflection and transmission of a security element with different polarization of the illuminating radiation
  • FIG. 16 shows a representation similar to FIG. 15 for a further embodiment of the security element, FIG.
  • 17a-b show the transmission and reflection for a security element at different polarization directions of the illumination as a function of the illumination wavelength in the near infrared range
  • FIG. 18 shows the transmission of the grating of FIG. 17 at different polarizations in the visible spectral range
  • FIG. 19a-b show transmission and reflection of a further embodiment of a security element for two polarization directions as a function of the wavelength in the visible spectral range for two embodiments of the security element
  • FIGS. 19a-b show transmission and reflection of a further embodiment of a security element for two polarization directions as a function of the wavelength in the visible spectral range for two embodiments of the security element
  • Fig. 20 is a schematic representation of a security element in which the longitudinal extent of the line grid structure in adjacent areas gradually changes to cause a movement effect when tilting the security element.
  • FIG. 1 shows a sectional view of a security element S which has a double-line grid embedded in a substrate 1.
  • a first line grid structure 2 is incorporated, which is arranged in a plane L.
  • the first line grid structure consists of first grid bars 9 with the width a, which extend along a longitudinal direction perpendicular to the plane of the drawing. Between the first grid bars 3 there are first grid gaps 4, which have a width b.
  • the thickness of the first grid bars 3 is indicated by t.
  • the second line grid structure 6 is phase-shifted with respect to the first line grid structure 2 in such a way that the second grid bars 7 come to lie as exactly as possible (within the manufacturing accuracy) over the first grid columns 4.
  • second grid gaps 8, which exist between the second grid bars 7, lie over the first grid bars 3.
  • the thickness t is smaller than the height h, so that no continuous film of the grid bars 3 and 7 is formed.
  • the width a of the first grid webs 3 is equal to the width b of the second grid webs 7.
  • the fill factor is thus 50% in each line grid structure.
  • this is not mandatory.
  • any variation can be made.
  • the thickness t of the first grid bars 2 is equal to the thickness t of the second grid bars 7. This is a simpler production benefit, but is not mandatory. However, it is essential that the modulation depth h, i. the height difference between the first line grid structure 2 and the second line grid structure 6 is greater than the sum of the thicknesses of the first grid bars 3 and the second grid bars 7, since otherwise there would be no separation between the two line grid structures 2 and 6.
  • the security element S of FIG. 1 reflects incident radiation E as reflected radiation R. Furthermore, a radiation component is transmitted as transmitted radiation T.
  • the reflection and transmission properties depend on the angle of incidence ⁇ , as will be explained below.
  • the production of the security element S can take place, for example, by first applying the first line grid structure 2 and then an intermediate layer 5 to a base layer 9.
  • the second line grid structure with the second grid webs 7 can then be introduced into the grid column 4 depicted at the top.
  • a cover layer 10 covers the security element.
  • the refractive indices of the layers 9, 5 and 10 are substantially the same and may be, for example, about 1.5, in particular 1.56.
  • the dimensions b, a and t are in the sub-wavelength range, ie smaller than 300 nm.
  • the modulation depth is preferably between 50 nm and 500 nm.
  • a production method is also possible in which first a rectangular grid is produced on an upper side of the substrate 1.
  • the substrate 1 is thus structured such that trenches of the width a alternate with webs of the width b.
  • the patterned substrate is then vapor-deposited with the desired coating to form the first and second line grids and the first and second line grating structures. After evaporation, the structure is finally covered with a cover layer. This gives a layer structure in which the top and bottom have substantially the same refractive index.
  • the structured substrate can be obtained in various ways.
  • One option is the reproduction with a master.
  • the master form may e.g. now in UV varnish on foil, e.g. PET film to be replicated.
  • One then has the substrate 1 as a dielectric material which, for example, has a refractive index of 1.56.
  • hot stamping methods are also suitable.
  • the master or even the substrate itself, can be fabricated using an e-beam, focused ion beam or interference lithography, writing the structure into a photoresist and then developing it.
  • the structure of a photolithographically produced master can be etched in a subsequent step into a quartz substrate in order to form as vertical as possible edges of the profile.
  • the quartz wafer then serves as a preform and can be copied eg in Ormocer or by galvanic molding be multiplied.
  • a direct impression of the photolithographically produced original in Ormocer or in nickel in a galvanic process is possible.
  • a motif with different lattice structures can be assembled in a nanoimprint process starting from a homogeneous lattice master.
  • FIG. 2a shows on the y-axis the transmission as a function of the wavelength recorded on the x-axis for different angles of incidence, namely 0 °, 15 °, 30 ° and 45 °.
  • Fig. 2b shows the reflection analogously and Fig. 2c shows the absorption of the security element.
  • the angle of incidence ⁇ is defined in FIG.
  • FIG. 14 shows a representation similar to FIG. 3 for a known security element.
  • the structure of the security element on which it is based essentially corresponds to that of FIG. 1, but the first and the second line grid structure are not made of metal but of ZnS with a layer thickness of 70 nm.
  • no spectrally selective absorptions occur.
  • the color properties in transmission are significantly worse.
  • the chroma is only about a quarter and the brightness is also modulated with respect to the angle of incidence. Therefore, the color contrast in transmission is drastically deteriorated with a variation of the incident angle.
  • Such a grating can at best be used in reflective operation, ie on a black background layer.
  • FIGS. 3 and 4 show how the modulation depth (FIG. 3) or the layer thickness (FIG. 4) has an effect on the color properties of the security element of FIGS. 1 and 2.
  • the representation takes place in the LCh color space.
  • the top line shows the brightness L *, the middle line the chroma C *, and the bottom line the hue h °.
  • the material for the line lattice structure is aluminum, the substrate and the regions 4 and 5 of Fig. 1 have a refractive index of 1.56. This value corresponds approximately to the refractive index of PET films and UV varnishes.
  • the brightness and the chroma in transmission increase with increasing modulation depth h.
  • a well-perceived color contrast is given in transmission when the transmitted brightness and chroma are higher than the reflected brightness and chroma. This is included Modulation depths between 150 nm and 280 nm of the case. It shows a much improved color property in transmission over the security element with ZnS grid bars.
  • the material is again aluminum, and the geometric parameters d, b, h correspond to those of FIG. 2. It can be seen that a layer thickness in the range of 20 nm and 30 nm brings about favorable color properties in transmission.
  • the brightness of the transmission is in the same order of magnitude of the brightness in reflection. In contrast, the chroma in transmission is significantly higher.
  • the angle-dependent color effect in transmission is not limited only to a line grid structure, which is a single metal layer or Semiconductor layer in the grid webs has.
  • the effects described are also obtained for double-line gratings whose lattice webs consist of several layers.
  • the total thickness of the layers is always smaller than the modulation depth h.
  • At least one of the layers is made of a metal or a semiconductor.
  • Trilayers are particularly preferred for the layer structure.
  • a larger number of layers hardly improves the angle-dependent color effect, but increases the manufacturing cost.
  • 6 shows by way of example a security element in which the first and second lattice webs 3 and 7 are each realized by a trilayer coating. They have a metallic layer 11, a dielectric intermediate layer 12 and a further metallic layer 13.
  • the thickness of the two metal layers is identical.
  • FIG. 7 shows the color values in the LCh color space for the security element S with the layer structure according to FIG. 6, wherein the metal layers 11 and 13 are each 10 nm thick aluminum layers and the dielectric layer 12 is a silicon dioxide layer.
  • Fig. 7 shows the color effect as a function of the thickness of the silicon dioxide layer.
  • the substrate 1 and the regions 4 and 5, as in all other embodiments, also have a refractive index of 1.56.
  • the security element shows a slightly lower brightness in transmission, but a higher chroma than in reflection. Silicon dioxide layer thicknesses above 60 nm cause a strong hue in transmission when tilted. In reflection, the security element appears green. At 70 nm layer thickness of silicon dioxide, the security element is approximately neutral in reflection at approximately vertical angles of incidence. This has the Advantage that the transmitted hue is not changed by the reflection.
  • the simple embodiment of a multi-colored motif with double-line grating is an arrangement in which different regions are formed whose longitudinal direction of the line grid structures is rotated relative to one another, preferably by 90 °.
  • the spectral transmission or reflection characteristics hardly changes.
  • FIGS. 8a and 8b show a security element in which regions of a background 14 of a motif 15 with a vertically extending longitudinal direction and the motif 15 with a horizontally extending longitudinal direction are formed. In the illustration of FIG. 8b, these line directions are indicated schematically.
  • the motif 15 shows a butterfly and two numerical values.
  • Fig. 8a shows the motif 15 schematically in white on a black background.
  • the motif 15 as the background 14 are exemplified with the parameters of the embodiment of FIG. 1 configured.
  • FIGS. 9a and 9b show different illumination states when the security element S of FIG. 8 is viewed against a backlight 16 in transmitted light. When viewed vertically (upper part of FIG. 9a), the security element appears uniformly yellow in transmission.
  • the security element has a good brightness contrast for the two polarization directions in transmission at a modulation depth above 150 nm. Furthermore, the change in the sparklingness is for Modulation depths between 200 nm and 260 nm are particularly large. The color change has a maximum at a modulation depth of 270 nm.
  • FIG. 11 shows the influence of the layer thickness t for the grating of FIG. 10 at a modulation depth of 250 nm.
  • the security element has good polarization filter properties in transmission at layer thicknesses above 20 nm.
  • the chroma and the color contrast are particularly high at layer thicknesses between 20 nm and 30 nm.
  • a color change from blue to yellow is observed as the polarization of the illumination changes from TM polarization to TE polarization.
  • d 360 nm
  • b 180 nm
  • h 300 nm
  • Fig. 13 shows the color behavior when crystalline silicon is used instead of amorphous silicon. Otherwise, the parameters correspond to those of FIG. 12.
  • This security element already shows clear brightness differences for layer thicknesses above 40 nm.
  • the layer thickness of 100 nm is particularly well suited as a polarizing filter.
  • the orange / blue color contrast is strongest for a silicon layer thickness of 120 nm.
  • the line grid structure of the security element has polarization-filtering (so-called polarizing) properties in transmission.
  • 15 shows the color values in the LCh color space of an aluminum-evaporated grating as a function of the modulation depth h in reflection and in transmission for TM and TE polarization at a normal angle of incidence.
  • polarization-filtering so-called polarizing
  • the color values are shown in reflection, in the right column in transmission.
  • the structure of the grid corresponds to that of FIG. 1.
  • Fig. 16 shows a view similar to Fig. 3 for a grid in which the grating webs 3, 7 consist of a 40 nm copper layer. Otherwise, the parameters correspond to those of the security element of FIG. 15. Here too, a clear color difference results at a modulation depth of 260 nm, which corresponds approximately to that described with reference to FIG. If the layer thickness of the copper of the lattice webs 3, 7 is varied, the recognizable colors can be adjusted slightly differently.
  • the solid and long dashed lines represent the TM polarization of the incident radiation, the short-dashed line and the dot-dash line the TE polarization. Clearly visible is the different transmission and reflection behavior for the different polarizations.
  • the polarization filter properties of the security element allow authenticity checking by considering the transmission in linearly polarized illumination.
  • illumination is provided, for example, by LCD screens.
  • Even the blue sky is partly linear pola (as opposed to the cloudy sky) and may be suitable as a radiation source for the investigation of the security element.
  • the polarization filter properties of the security element also allow a machine authenticity check by examining the contrast, for example in a specific spectral range. Contrast is to be understood as meaning the different transmission and / or reflection in mutually orthogonal polarization directions.
  • the checking device thus illuminates the security element successively in two different polarization directions and detects the contrast between the two images obtained thereby. This procedure allows a simple machine check of the security element, which is much more expensive or not possible with other security elements.
  • the arrangement of the longitudinal direction of the security element is not limited to a mutually perpendicular position in different areas, as has been explained with reference to FIGS. 8a, b. It is also a configuration possible in which the longitudinal direction between areas changes in steps.
  • FIG. 20 shows, by way of example, a rectangular area 16 which has ten subregions 16.1 to 16.10 which differ with respect to the longitudinal direction of their line grid structure in such a way that the longitudinal direction changes from the vertical orientation (subarea 16.1) into 10 ° in 10 ° increments horizontal alignment (subsection 16.10).
  • this structure is rotated in front of a polarized light source, the colors which are recognizable in TE or TM polarization interchange approximately continuously with increasing rotation angle over the partial regions 16.1 to 16.10 due to the polarization-filtering properties of the line grid structure.
  • the observer therefore perceives a kind of movement effect. This can of course find application in the design of subjects. Such an effect occurs even with unpolarized illumination when the security element is tilted about a horizontal axis with respect to FIG. Then, a color change in the areas with increasingly inclined grid lines occurs delayed with respect to the areas with horizontally extending grid lines.
  • the security element can serve in particular as a see-through window of banknotes or other documents. It may also be partially overprinted color or the grid areas may be partially demetallized or configured without line grid, so that such an area is completely metallized. Combinations with diffractive grating structures, such as holograms, are also conceivable.
  • the authenticity check of the security element can also be carried out without auxiliary means.
  • additional authentication can be performed without additional devices.

Abstract

Die Erfindung betrifft ein Sicherheitselement zur Herstellung von Wertdokumenten, wie Banknoten, Schecks oder dergleichen, das aufweist: ein dielektrisches Substrat (1), eine in das Substrat (1) eingebettete erste Liniengitterstruktur (2) aus mehreren längs einer Längsrichtung verlaufenden und in einer Ebene (L) angeordneten ersten Gitterstegen (3) aus Metall oder Halbleiter und eine in das Substrat (1) eingebettete zweite Liniengitterstruktur (6) aus längs der Längsrichtung verlaufenden zweiten Gitterstegen (7) aus Metall oder Halbleiter, die sich bezogen auf die Ebene (L) über der ersten Liniengitterstruktur (2) befindet, wobei die ersten Gitterstege (3) jeweils eine Breite (b) haben und in einem Abstand (a) nebeneinanderliegen, so dass zwischen den ersten Gitterstegen (3) längs der Längsrichtung verlaufende erste Gitterspalte (4) mit dem Abstand (a) entsprechender Breite gebildet sind, die zweite Liniengitterstruktur (6) zur ersten Liniengitterstruktur (2) invertiert und gegenüber der ersten Liniengitterstruktur (2) um eine halbe Periode verschoben ist, so dass in Draufsicht auf die Ebene die zweiten Gitterstege (7) über den ersten Gitterspalten (4) und zweite Gitterspalte (8), die zwischen den zweiten Gitterstegen (7) bestehen, über den ersten Gitterstegen (3) liegen, und die Breite der ersten Gitterstege (3) und der zweiten Gitterspalte (8), die Breite der zweiten Gitterstege (7) und der ersten Gitterspalte (4) und eine Dicke (t) der ersten Gitterstege (3) und der zweiten Gitterstege (7) jeweils unter 300 nm ist.

Description

S i c h e r h e i t s e l e m e n t
Die Erfindung betrifft ein Sicherheitselement zur Herstellung von Wertdo- kumenten, wie Banknoten, Schecks oder dergleichen, das eine Liniengitter- struktur aufweist.
Sicherheitselemente von Wertdokumenten mit periodischen Liniengittern sind bekannt, beispielsweise aus der DE 102009012299 AI, DE 102009012300 AI oder der DE 102009056933 AI. Sie können im Subwellenlängenbereich Farbfiltereigenschaften aufweisen, wenn das Gitterprofil so ausgelegt ist, dass Resonanzeffekte im sichtbaren Wellenlängenbereich auftreten. Solche Farbfiltereigenschaften sind sowohl für reflektierende als auch für transmit- tierende Subwellenlängenstrukturen bekannt. Diese Strukturen haben einen stark polarisierenden Einfluss auf die Reflexion bzw. die Transmission eines einfallenden Lichtstrahls. Die Farbe ist in Reflexion bzw. Transmission solcher Subwellenlängengitter relativ stark winkelabhängig. Jedoch schwächt sich die Farbsättigung für diese Gitter deutlich ab, wenn das einfallende Licht unpolarisiert ist.
Es ist ein Liniengitter mit Subwellenlängenstrukturen bekannt, welches winkelabhängige, farbfilternde Eigenschaften besitzt. Das Liniengitter besitzt ein Rechteckprofil aus einem dielektrischen Material. Die waagrechten Flächen sind mit einem hochbrechenden Dielektrikum überzogen. Oberhalb dieser Struktur befindet sich ebenfalls ein dielektrisches Material, wobei bevorzugterweise die Brechungsindizes des Gittersubstrats und des Deckmaterials identisch sind. Dadurch ist eine optisch wirksame Struktur ausgebildet, die aus zwei Gittern aus dem hochbrechenden Material besteht, welche durch die Höhe des ursprünglichen Rechteckprofils beabstandet sind. Die das Li- niengitter bildenden Gitterstege sind beispielsweise aus ZnS. Man kann damit zwar einen Farbkontrast in Reflexion erzeugen, in Transmission ist eine Veränderung des Farbtons für unterschiedliche Winkel jedoch kaum wahrnehmbar. Diese Struktur bietet sich deshalb lediglich als Sicherheitsmerkmal in Reflexion an und muss dazu auf einem absorbierenden Untergrund aufgebaut werden.
Die bekannten zweidimensional periodischen Subwellenlängengitter mit nicht zusammenhängender Oberfläche zeigen zwar ausgeprägte Farbfiltereigenschaften. Sie sind jedoch auf eine große Winkeltoleranz optimiert. Ihr Farbton ändert sich daher beim Verkippen kaum.
Der Erfindung liegt deshalb die Aufgabe zugrunde, ein Sicherheitselement anzugeben, das einen auch bei Durchsicht guten Farbeffekt zeigt, welcher sich bevorzugt beim Verkippen ändert. Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch ein Sicherheitselement zur Herstellung von Wertdokumenten, wie Banknoten, Schecks oder dergleichen, das aufweist: ein dielektrisches Substrat, eine in das Substrat eingebettete erste Liniengitterstruktur aus mehreren längs einer Längsrichtung verlaufenden und in einer Ebene angeordneten ersten Gitterstegen aus Metall oder Halbleiter und eine in das Substrat eingebettete zweite Liniengitterstruktur aus längs der Längsrichtung verlaufenden zweiten Gitterstegen aus Metall oder Halbleiter, die sich bezogen auf die Ebene über der ersten Liniengitterstruktur befindet, wobei die ersten Gitterstege jeweils eine Breite haben und in einem Abstand nebeneinanderliegen, so dass zwischen den ersten Gitterstegen längs der Längsrichtung verlaufende erste Gitterspalte mit dem Abstand entsprechender Breite gebildet sind, die zweite Liniengitterstruktur zur ersten Liniengitterstruktur invertiert ist, wobei in Draufsicht auf die Ebene die zweiten Gitterstege über den ersten Gitterspalten und zweite Gitterspalte, die zwischen den zweiten Gitterstegen bestehen, über den ersten Gitterstegen liegen, und die Breite der ersten Gitterstege und der zweiten Gitterspalte sowie die Breite der zweiten Gitterstege und der ersten Gitterspalte unter 300 nm ist. Diese Gitter befinden sich derart in einem Abstand zueinander, so dass kein geschlossener Halb- bzw. Halbmetallfilm vor- Hegt. Dabei kann optional die Dicke der Gitterstege unter 300 nm sein.
Bei einer periodischen Liniengitterstruktur entspricht die Phasenverschiebung einer halben Periode. Erfindungsgemäß wird ein Doppel-Liniengitter verwendet, das aus zwei übereinanderliegenden komplementär zueinander aufgebauten, d.h. gegeneinander verschobenen Liniengitterstrukturen besteht. Eine Phasenverschiebung von 90° ist der Idealwert, welcher natürlich im Rahmen der Fertigungsgenauigkeit zu sehen ist. Durch Fertigungstoleranzen können hier Abweichungen von der Komplementarität, also 90° Phasenverschiebung, entstehen, da in der Regel ein Rechteckprofil nicht perfekt ausgebildet, sondern nur durch ein Trapezprofil angenähert werden kann, dessen obere Parallelkante kürzer ist als die untere Parallelkante. Die Liniengitterstrukturen sind aus Metall oder Halbleitermaterial. Die Schichtdicke der Gitterstege ist geringer als die Modulationstiefe, also als der Abstand der Gitterebenen der Liniengitterstrukturen.
Es zeigte sich, dass ein derart aufgebautes Gitter überraschenderweise sowohl in Reflexion als auch in Transmission reproduzierbare und gut wahr- nehmbare Farbeffekte liefert.
Das erfindungsgemäße Sicherheitselement kann einfach durch einen
Schichtaufbau hergestellt werden, indem zuerst eine Grundschicht bereitgestellt wird, auf der die erste Liniengitterstruktur ausgebildet wird. Darauf bringt man eine dielektrische Zwischenschicht auf, die die erste Liniengitter- struktur überdeckt und bevorzugt dicker als die Gitterstege der ersten Li- niengitterstruktur ist. Darauf kann dann die verschobene zweite Liniengit- terstruktur ausgebildet werden und eine dielektrische Deckschicht bildet den Abschluss des die Liniengitters truktur einbettenden Substrates. Alternativ kann auch in dem dielektrischen Substrat zuerst ein Subwellengitter ausgebildet werden, das ein Rechteckprofil im Querschnitt hat. Bedampft man dieses metallisch senkrecht, entsteht eine Metallschicht auf den Plateaus und in den Gräben, welche die ersten und zweiten Gitterstege bilden. Man hat da- mit den gewünschten nicht zusammenhängenden Metallfilm der ersten und zweiten Gitterstege in unterschiedlichen Ebenen, wenn die Schichtdicke der Gitterstege geringer ist als die Modulationstiefe des Rechteckprofils des zuvor strukturierten dielektrischen Substrates. Einen besonders guten Farbeffekt erhält man, wenn der Abstand zwischen den ersten und den zweiten Gitterstegen, also die Modulationstiefe der Struktur, zwischen 50 nm und 500 nm, bevorzugt zwischen 100 nm und 300 nm liegt. Der Abstand ist dabei von jeweils gleichweisenden Flächen der ersten und zweiten Liniengitterstruktur zu bemessen, d.h. beispielsweise von der Unterseite der ersten Gitterstege zur Unterseite der zweiten Gitterstege bzw. von der Oberseite der ersten Gitterstege zur Oberseite der zweiten Gitterstege. Der Abstand ist dabei selbstverständlich senkrecht zur Ebene zu messen, bezeichnet also den Höhenunterschied zwischen den gleichgerichteten Flächen der Gitterstege.
Als Material für die Gitterstege kommen Metalle infrage, beispielsweise Aluminium, Silber, Kupfer, Gold, Chrom, Platin und Legierungen von diesen Materialien. Der gewünschte Farbeffekt zeigt sich auch bei der Verwendung von Halbleitern, wie Silizium oder Germanium. Möchte man die Buntheit in Reflexion steigern, können die ersten Gitterstege der ersten Liniengitterstruktur und/ oder die zweiten Gitterstege der zweiten Liniengitterstruktur mit einer Multilayerbeschichtung, z.B. als Trilayer aus zwei übereinanderliegenden Metall- oder Halbleiterbeschichtungen mit einer dazwischen liegenden dielektrischen Schicht, aufgebaut werden. Das Sicherheitselement kann auch bei ungefähr senkrechtem Einfallswinkel annähernd farbneutral in der Reflexion ausgestaltet werden. Dies hat den Vorteil, dass der transmittierte Farbton durch die Reflexion nicht verändert wird. Bevorzugt für die Gitterstrukturen des Sicherheitselementes ist ein Füllfaktor von 0,5, d.h. gleiche Breite für die Gitterstege wie für die Gitterspalte. Ein solcher Füllfaktor ist aber nicht zwingend. Mit einer Abweichung davon kann man den Farbton der Reflexion für eine Reflexion von der Vorderseite unterschiedlich gestalten für einen Reflexionsfarbton, der sich bei der Reflexion an der Rückseite des Sicherheitselementes einstellt.
Das Sicherheitselement mit dem Doppel-Liniengitter zeigt eine winkelabhängige Farbfilterung bei Reflexion und Transmission. Diese Winkelabhängigkeit ist besonders markant, wenn die Gitterlinien senkrecht zur Lichteinfallsebene stehen. Die Farbfilterung kann dazu verwendet werden, um Moti- ve mehrfarbig so zu gestalten, dass sie beim Verkippen bzw. Verdrehen ihre Farbe ändern. Es ist deshalb bevorzugt, dass in Draufsicht auf die Ebene mindestens zwei Bereiche vorgesehen sind, deren Längsrichtungen der Li- niengitterstrukturen schräg zueinander liegen, insbesondere rechtwinklig sind. Bei senkrechter Betrachtung kann ein solches Motiv so gestaltet wer- den, dass es in Transmission eine einheitliche Farbe und keine weitere Struktur hat. Dreht man dieses Motiv nun um die vertikale Achse, ändert sich die Farbe des einen Bereichs, beispielsweise des Hintergrundes, anders als die Farbe des anderen Bereichs, beispielsweise eines Motivs. Ein Drehen senkrecht zur Beobachtungsrichtung verändert die Farben des Motivs sowie des Hintergrundes bis hin zu einem vollständigen Farbwechsel. Denn der Gitterbereich, dessen Gitterlinien parallel zur Einfallsebene verlaufen, ändert beim Verkippen kaum seine Farbe. Die Gitterstruktur besitzt in Transmission polarisierende Eigenschaften. Damit ist eine maschinelle Überprüfung des Sicherheitselementes ermöglicht, die ansonsten bei optischen Sicherheitselementen mit bestehender Standard- sensorik nicht möglich ist. Weder Hologramme noch Moire-Magnifier-Kon- struktionen etc. lassen sich maschinell einfach überprüfen. Die Überprüfung erfordert lediglich eine Hellfeldkamera und einen Polarisationsfilter. Das Sicherheitselement zeigt je nach Orientierung der Gitterstrukturen andere Polarisationseigenschaften. Es ist deshalb bevorzugt, ein Sicherheitselement vorzusehen, das mindestens zwei Bereiche aufweist, deren Liniengitterstruk- turen sich entlang unterschiedlich verlaufender Längsrichtungen erstrecken. Diese Bereiche zeigen bei der Betrachtung mit polarisiertem Licht starke Kontrastunterschiede, was die maschinelle Auslesung erleichtert. Eine maschinelle Auslesung, beispielsweise mit einer Hellfeldkamera und einem Polarisationsfilter, liefert einen Kontrast zwischen diesen beiden Bereichen, welcher zur Echtheitsüberprüfung des Sicherheitselementes dient.
Natürlich sind auch Anordnungen mit mehreren unterschiedlich angeordneten Bereichen denkbar. So ist beispielsweise eine Weiterbildung vorgesehen, die mehrere Bereiche im Sicherheitselement aufweist, wobei die Bereiche sich voneinander hinsichtlich der Längsrichtung, entlang der die Liniengitter- strukturen verlaufen, unterscheiden. Dadurch können Motive mit mehreren Farben in Transmission hergestellt werden. Besonders bevorzugt ist es dabei, dass zwischen mehreren solchen Bereichen, die nebeneinanderliegen, die Längsrichtung graduell von einem Bereich zum nächsten in bestimmten Winkelschritten variiert wird, beispielsweise in 5°-, 10°- oder 15°-Schritten. Verdreht man eine solche Struktur nebeneinanderliegender Bereiche vor einer pulverisierten Lichtquelle, vertauschen sich die Farben annähernd kontinuierlich mit zunehmendem Drehwinkel der Struktur. Für einen Beobachter ergibt dies z.B. eine Art Bewegungseffekt bei einem entsprechenden Motiv. Ein Effekt wird auch beim Verkippen eines Musters vor einer unpolarisierten Lichtquelle wahrgenommen, wenn das Gitter um die horizontale Achse gekippt wird. Dann tritt eine Farbänderung in den Bereichen mit zunehmenden schräg verlaufenden Gitterlinien verzögert gegenüber den Bereichen mit den horizontal verlaufenden Gitterlinien auf.
Natürlich können die Liniengitter in den einzelnen Bereichen auch unterschiedliche Geometrieparameter hinsichtlich Breite und Abstand haben. In diesem Fall verschwindet jedoch das Motiv bei senkrechter Betrachtung nicht.
Es versteht sich, dass die vorstehend genannten und die nachstehend noch zu erläuternden Merkmale nicht nur in den angegebenen Kombinationen, sondern auch in anderen Kombinationen oder in Alleinstellung einsetzbar sind, ohne den Rahmen der vorliegenden Erfindung zu verlassen.
Nachfolgend wird die Erfindung beispielshalber anhand der beigefügten Zeichnungen, die auch erfindungswesentliche Merkmale offenbaren, noch näher erläutert. Es zeigen: Fig. 1 eine Schnittdarstellung eines Sicherheitselementes mit einem
Doppel-Liniengitter, Fig. 2a-c die spektrale Abhängigkeit der Transmission, Reflexion und Absorption des Sicherheitselementes der Fig. 1 in einer ersten Ausführungsform, Fig. 3 Farbwerte im LCh-Farbraum für Reflexion und Transmission für das Sicherheitselement der Fig. 2 bei Variation einer Modulationstiefe,
Fig. 4 Farbwerte im LCh-Farbraum für Reflexion und Transmission für das Sicherheitselement der Fig. 2 bei Variation einer Schichtdicke,
Fig. 5 Farbwerte im LCh-Farbraum für Reflexion und Transmission für ein Sicherheitselement der Fig. 1 in einer zweiten Ausführungsform bei Variation einer Schichtdicke,
Fig. 6 eine Schnittdarstellung ähnlich der Fig. 1 für ein Doppel- Liniengitter, dessen Gitterstege mit Trilayerbeschichtung versehen sind, Fig. 7 Farbwerte im LCh-Farbraum für Reflexion und Transmission für das Sicherheitselement der Fig. 6 bei Variation einer Schichtdicke,
Fig. 8a-b zwei Draufsichten auf ein Motiv, das mit dem Sicherheitselement der Fig. 1 gebildet ist,
Fig. 9a-b Erläuterungen des Wechsels des optischen Eindruckes bei der Betrachtung des Motives der Fig. 8, Fig. 10 Farbwerte im LCh-Farbraum für Reflexion und Transmission für das Sicherheitselement der Fig. 2, wobei die Polarisationsabhängigkeit eingetragen und die Modulationstiefe variiert ist, Fig. 11 Farbwerte im LCh-Farbraum für Reflexion sowie Transmission für das Sicherheitselement der Fig. 2, wobei die Auftragung der der Fig. 10 entspricht, allerdings unter Variation einer Schichtdicke,
Fig. 12 und 13 Darstellungen ähnlich der Fig. 11, jedoch für unterschiedliche
Materialien der Gitterstege des Doppel-Liniengitters,
Fig. 14 Farbwerte im LCh-Farbraum für Reflexion und Transmission für ein Sicherheitselement gemäß dem Stand der Technik, Fig. 15 Farbwerte im LCh-Farbraum für Reflexion und Transmission eines Sicherheitselementes bei unterschiedlicher Polarisation der beleuchtenden Strahlung,
Fig. 16 eine Darstellung ähnlich der Fig. 15 für eine weitere Ausführungs- form des Sicherheitselementes,
Fig. 17a-b die Transmission und Reflexion für ein Sicherheitselement bei unterschiedlichen Polarisationsrichtungen der Beleuchtung als Funktion der Beleuchtungswellenlänge im nahen Infrarotbereich,
Fig. 18 die Transmission des Gitters der Fig. 17 bei unterschiedlichen Polarisationen im sichtbaren Spektralbereich, Fig. 19a-b Transmission und Reflexion einer weiteren Ausführungsform eines Sicherheitselementes für zwei Polarisationsrichtungen als Funktion der Wellenlänge im sichtbaren Spektralbereich für zwei Ausführungsformen des Sicherheitselementes, und
Fig. 20 eine Schemadarstellung eines Sicherheitselementes, bei dem sich die Längserstreckung der Liniengitterstruktur in nebeneinanderliegenden Bereichen graduell ändert, um einen Bewegungseffekt beim Kippen des Sicherheitselementes zu bewirken.
Fig. 1 zeigt in Schnittdarstellung ein Sicherheitselement S, das ein in ein Substrat 1 eingebettetes Doppel-Liniengitter aufweist. In das Substrat 1 ist eine erste Liniengitterstruktur 2 eingearbeitet, die in einer Ebene L angeordnet ist. Die erste Liniengitterstruktur besteht aus ersten Gitterstegen 9 mit der Breite a, die sich längs einer senkrecht zur Zeichenebene liegenden Längsrichtung erstrecken. Zwischen den ersten Gitterstegen 3 befinden sich erste Gitterspalte 4, die eine Breite b haben. Die Dicke der ersten Gitterstege 3 (gemessen senkrecht zur Ebene L) ist mit t angegeben. In einer Höhe h über den ersten Gitterstegen 3 befindet sich eine zweite Liniengitterstruktur 6 mit zweiten Gitterstegen 7. Diese haben die Breite b. Die zweite Liniengitterstruktur 6 ist so gegenüber der ersten Liniengitterstruktur 2 phasenverschoben, dass die zweiten Gitterstege 7 möglichst exakt (im Rahmen der Fertigungsgenauigkeit) über den ersten Gitterspalten 4 zu liegen kommen. Gleichzeitig liegen zweite Gitterspalte 8, die zwischen den zweiten Gitterstegen 7 bestehen, über den ersten Gitterstegen 3.
Die Dicke t ist kleiner als die Höhe h, so dass kein zusammenhängender Film aus den Gitterstegen 3 und 7 gebildet ist. In der schematischen Schnittdarstellung der Fig. 1 ist die Breite a der ersten Gitterstege 3 gleich der Breite b der zweiten Gitterstege 7. Bezogen auf eine Periode d beträgt somit in jeder Liniengitterstruktur der Füllfaktor 50%. Dies ist jedoch nicht zwingend. Gemäß der Formel b + a = d kann eine beliebige Variation erfolgen.
Auch ist in der schematischen Schnittdarstellung der Fig. 1 die Dicke t der ersten Gitterstege 2 gleich der Dicke t der zweiten Gitterstege 7. Dies kommt einer einfacheren Herstellung zugute, ist jedoch nicht zwingend erforderlich. Wesentlich ist jedoch, dass die Modulationstiefe h, d.h. der Höhenunterschied zwischen der ersten Liniengitterstruktur 2 und der zweiten Liniengitterstruktur 6 größer ist als die Summe der Dicken der ersten Gitterstege 3 und der zweiten Gitterstege 7, da ansonsten keine Trennung zwischen den beiden Liniengitter strukturen 2 und 6 gegeben wäre.
Das Sicherheitselement S der Fig. 1 reflektiert einfallende Strahlung E als reflektierte Strahlung R. Weiter wird ein Strahlungsanteil als transmittierte Strahlung T durchgelassen. Die Reflexions- und Transmissionseigenschaften hängen vom Einfallswinkel Θ ab, wie nachfolgend noch erläutert wird.
Die Herstellung des Sicherheitselementes S kann beispielsweise dadurch erfolgen, dass auf eine Grundschicht 9 zuerst die erste Liniengitterstruktur 2 und darauf eine Zwischenschicht 5 aufgebracht wird. In die dabei nach oben abgebildete Gitterspalte 4 kann dann die zweite Liniengitterstruktur mit den zweiten Gitterstegen 7 eingebracht werden. Eine Deckschicht 10 deckt das Sicherheitselement ab. Die Brechzahlen der Schichten 9, 5 und 10 sind im Wesentlichen gleich und können beispielsweise etwa 1,5, insbesondere 1,56 betragen. Die Maße b, a und t sind im Subwellenlängenbereich, d.h. kleiner als 300 nm. Die Modulationstiefe beträgt bevorzugt zwischen 50 nm und 500 nm.
Es ist aber auch ein Herstellungsverfahren möglich, bei dem zuerst auf einer Oberseite des Substrates 1 ein Rechteckgitter hergestellt wird. Das Substrat 1 wird also so strukturiert, dass Gräben der Breite a sich mit Stegen der Breite b abwechseln. Das strukturierte Substrat wird anschließend mit der gewünschten Beschichtung bedampft, so dass die ersten und zweiten Liniengitter und die ersten und zweiten Liniengitterstrukturen entstehen. Nach der Bedampfung wird schließlich die Struktur mit einer Deckschicht abgedeckt. Man erhält damit einen Schichtaufbau, bei dem die Ober- und Unterseite im Wesentlichen denselben Brechungsindex besitzt.
Das strukturierte Substrat kann auf verschiedene Arten erhalten werden. Eine Option ist die Reproduktion mit einem Master. Die Masterform kann z.B. nun in UV-Lack auf Folie, z.B. PET-Folie, repliziert werden. Man hat dann das Substrat 1 als dielektrisches Material, welches beispielsweise eine Brechzahl von 1,56 aufweist. Alternativ kommen auch Heißprägeverfahren infrage.
Der Master oder auch das Substrat selbst kann mithilfe einer e-Beam- Anlage, einem fokussierten Ionenstrahl oder durch Interferenzlithographie hergestellt werden, wobei die Struktur in einen Photolack geschrieben und anschließend entwickelt wird.
Die Struktur eines photolithographisch hergestellten Masters kann in einem Folgeschritt in ein Quarzsubstrat geätzt, werden, um möglichst senkrechte Flanken des Profils auszubilden. Der Quarzwafer dient dann als Vorform und kann z.B. in Ormocer umkopiert oder durch galvanische Abformung vervielf ältigt werden. Ebenso ist eine direkte Abformung des photolithographisch hergestellten Originals in Ormocer bzw. in Nickel in einem galvanischen Verfahren möglich. Auch kann ein Motiv mit verschiedenen Gitterstrukturen in einem Nanoimprint- Verfahren ausgehend von einem homoge- nen Gittermaster zusammengesetzt werden.
Solche Herstellverfahren für Subwellenlängen-Gitterstrukturen sind dem Fachmann bekannt. Die Fig. 2a bis 2c zeigen exemplarisch die spektralen Eigenschaften eine Sicherheitselementes S, dessen Doppel-Liniengitter folgende Profilparameter hat d = 360 nm, b = 180 nm, h = 200 nm, das Material der Gitterstege ist Aluminium, t = 30 nm, das Dielektrikum hat eine Brechzahl von 1,56. Fig. 2a zeigt auf der y- Achse die Transmission als Funktion der auf der x- Achse auf- getragenen Wellenlänge für verschiedene Einfallswinkel, nämlich 0°, 15°, 30° und 45°. Fig. 2b zeigt analog die Reflexion und die Fig. 2c die Absorption des Sicherheitselementes. Der Einfallswinkel Θ ist in Fig. 1 definiert.
Wie man sieht, tritt eine spektralselektive Absorption auf, das Sicherheits- element entwickelt also eine Farbeigenschaft in Transmission. Ein deutlicher Einfluss auf die Farbeigenschaften in Transmission, d.h. für die transmittierte Strahlung T, wird durch den Richtungswechsel des Peaks bei etwa 550 nm für den Einfallswinkel 0° in eine Absenkung für nicht-senkrechten Betrachtungswinkel (θ > 0°) hervorgerufen. In Reflexion zeigt sich das umgekehrte Phänomen.
Dies bewirkt letztendlich einen Farbumschlag in Transmission von Gelb nach Blau beim Verkippen von senkrechter Betrachtung um einen Winkel von 30°. Zur Verdeutlichung des vorteilhaften Farbeffektes des Sicherheitselementes S sei als Vergleich auf die Fig. 14 hingewiesen, die für ein bekanntes Sicherheitselement eine Darstellung ähnlich der Fig. 3 zeigt. Die Struktur des dort zugrunde liegenden Sicherheitselementes entspricht im Wesentlichen der der Fig. 1, jedoch sind die erste und die zweite Liniengitterstruktur nicht aus Metall, sondern aus ZnS mit einer Schichtdicke von 70 nm. Wie man sieht, treten keine spektralselektiven Absorptionen auf. Die Farbeigenschaften in Transmission sind deutlich schlechter. Die Buntheit beträgt etwa nur ein Viertel und die Helligkeit ist zudem hinsichtlich des Einfallswinkels moduliert. Da- her ist der Farbkontrast in Transmission bei einer Variation des Einfallswinkels drastisch verschlechtert. Ein solches Gitter kann allenfalls im reflektiven Betrieb, d.h. auf einer schwarzen Untergrundschicht eingesetzt werden.
Die nachfolgenden Fig. 3 und 4 zeigen, wie sich die Modulationstiefe (Fig. 3) bzw. die Schichtdicke (Fig. 4) auf die Farbeigenschaften des Sicherheitselementes der Fig. 1 bzw. 2 auswirken. Dabei ist jeweils in der linken Spalte der Figuren die Reflexion, in der rechten Spalte die Transmission dargestellt. Die Darstellung erfolgt im LCh-Farbraum. Die oberste Zeile zeigt die Helligkeit L*, die mittlere Zeile die Buntheit C*, und die untere Zeile den Farbton h°. Die geometrischen Parameter des Doppel-Liniengitters sind d = 360 nm, b = 180 nm. Das Material für die Liniengitterstruktur ist Aluminium, das Substrat und die Bereiche 4 und 5 von Fig. 1 haben eine Brechzahl von 1,56. Dieser Wert entspricht etwa dem Brechungsindex von PET-Folien und UV- Lacken.
Es ist zu erkennen, dass die Helligkeit und die Buntheit in Transmission mit zunehmender Modulationstiefe h ansteigt. Ein gut wahrnehmbarer Farbkontrast ist in Transmission gegeben, wenn die transmittierte Helligkeit und Buntheit höher als die reflektierte Helligkeit und Buntheit sind. Dies ist bei Modulationstiefen zwischen 150 nm und 280 nm der Fall. Es zeigt sich eine wesentlich verbesserte Farbeigenschaft in Transmission gegenüber dem Sicherheitselement mit ZnS-Gitterstegen. Die Helligkeit ist zudem hinsichtlich des Einfallswinkels moduliert. Daher ist der Farbkontrast in Transmission bei einer Variation des Einfallswinkels drastisch erhöht. Bei einer Liniengit- terstruktur mit einer Modulationstiefe von h = 200 nm bewirkt bereits ein Verkippen um 15° eine deutliche Veränderung des Farbtons und der Helligkeit in Transmission. Fig. 4 zeigt den Einfluss der Schichtdicke. Das Material ist wiederum Aluminium, und die geometrischen Parameter d, b, h entsprechen denen der Fig. 2. Es zeigt sich, dass eine Schichtdicke im Bereich von 20 nm und 30 nm günstige Farbeigenschaften in Transmission bewirkt. Die Helligkeit der Transmission liegt in derselben Größenordnung der Helligkeit in Reflexion. Die Bunt- heit in Transmission ist dagegen deutlich höher.
Ähnliche Farbeigenschaften zeigen sich für eine Gitterstruktur, welche der der Fig. 4 entspricht, jedoch als Material für die Gitterstege Silizium verwendet. Dieses Gitter hat, wie Fig. 5 zeigt, eine größere Helligkeit in Transmissi- on als in Reflexion. Mit zunehmender Schichtdicke t steigt die Buntheit in Transmission an und für einen Einblickwinkel von 30° und eine Schichtdicke größer 70 nm ist die Transmissions-Buntheit auch größer als die Buntheit in Reflexion. Ein Gitter mit einer 100 nm dicken Siliziumschicht erscheint in Reflexion rot, seine Buntheit nimmt bei zunehmenden Einfallswinkeln ab. In Transmission geht hingegen der Farbton von einem schwachen Grün in einen kräftigen gelben Farbton über.
Der winkelabhängige Farbeffekt in Transmission ist jedoch nicht nur auf eine Liniengitterstruktur beschränkt, welche eine einzige Metallschicht oder Halbleiterschicht in den Gitterstegen aufweist. Die beschriebenen Effekte werden auch für Doppel-Liniengitter erhalten, deren Gitterstege aus mehreren Schichten bestehen. Dabei ist jedoch stets die Gesamtdicke der Schichten kleiner als die Modulationstiefe h. Mindestens eine der Schichten besteht aus einem Metall oder einem Halbleiter. Trilayer eignen sich besonders bevorzugt für die Schichtstruktur. Eine größere Anzahl an Schichten verbessert den winkelabhängigen Farbeffekt kaum, erhöht jedoch die Herstellungskosten. Fig. 6 zeigt exemplarisch ein Sicherheitselement, bei dem die ersten und zweiten Gitterstege 3 und 7 jeweils durch eine Trilayerbeschichtung realisiert sind. Sie weisen eine metallische Schicht 11, eine dielektrische Zwischenschicht 12 und eine weitere metallische Schicht 13 auf. Bevorzugt, jedoch nicht zwingend, ist die Dicke der beiden Metallschichten identisch.
Fig. 7 zeigt die Farbwerte im LCh-Farbraum für das Sicherheitselement S mit dem Schichtaufbau gemäß Fig. 6, wobei die Metallschichten 11 und 13 jeweils 10 nm dicke Aluminiumschichten sind und die dielektrische Schicht 12 eine Siliziumdioxidschicht ist. Fig. 7 zeigt die Farbwirkung als Funktion der Dicke der Siliziumdioxidschicht. Die weiteren Parameter sind d = 360 nm, b = 180 nm und h = 200 nm. Das Substrat 1 und die Bereiche 4 und 5 haben, wie in allen anderen Ausführungsformen, auch eine Brechzahl von 1,56.
Das Sicherheitselement zeigt eine etwas geringere Helligkeit in Transmissi- on, jedoch eine höhere Buntheit als in Reflexion. Siliziumdioxidschichtdicken über 60 nm bewirken beim Verkippen einen kräftigen Farbton in Transmission. In Reflexion erscheint das Sicherheitselement dagegen grün. Bei 70 nm Schichtdicke von Siliziumdioxid ist das Sicherheitselement bei ungefähr senkrechten Einfallswinkel annähernd farbneutral in Reflexion. Dies hat den Vorteil, dass der transmittierte Farbton nicht durch die Reflexion verändert wird.
Die obigen Ausführungen beziehen sich stets auf Gitterprofile mit einem Tastverhältnis b:a = 1:1 (Füllfaktor 0,5). Dieser Wert ist bevorzugt, aber nicht zwingend. Mit einer Abweichung von diesem Wert kann man erreichen, dass der Farbton der Reflexion der Struktur für die Vorder- und die Rückseite unterschiedlich ist. Die winkelabhängige Farbfilterung der beschriebenen Sicherheitselemente kann nun dazu benutzt werden, um Motive mehrfarbig zu gestalten, die beim Verkippen bzw. Verdrehen ihre Farbe ändern.
Die einfache Ausgestaltung eines mehrfarbigen Motivs mit Doppel-Linien- gitter ist eine Anordnung, bei der unterschiedliche Bereiche gebildet werden, deren Längsrichtung der Liniengitterstrukturen gegeneinander verdreht ist, vorzugsweise um 90°. Denn bei einer Verkippung eines Gitters, bei dem die Gitterlinien parallel zur Einfallsebene verlaufen, ändert sich die spektrale Transmissions- bzw. Reflexionscharakteristik kaum.
Die Fig. 8a und 8b zeigen ein Sicherheitselement, in dem Bereiche eines Hintergrundes 14 eines Motives 15 mit vertikal verlaufender Längsrichtung und das Motiv 15 mit horizontal verlaufender Längsrichtung ausgebildet sind. In der Darstellung der Fig. 8b sieht man diese Linienrichtungen schematisch angedeutet. Das Motiv 15 zeigt einen Schmetterling sowie zwei Zahlenwerte. Fig. 8a zeigt das Motiv 15 schematisch in Weiß auf schwarzem Hintergrund. Das Motiv 15 wie der Hintergrund 14 sind exemplarisch mit den Parametern der Ausführungsform gemäß Fig. 1 ausgestaltet. Die Fig. 9a und 9b zeigen unterschiedliche Beleuchtungszustände, wenn das Sicherheitselement S der Fig. 8 vor einer Hintergrundbeleuchtung 16 im Durchlicht betrachtet wird. Bei senkrechter Betrachtung (obere Teilfigur der Fig. 9a) erscheint das Sicherheitselement einheitlich gelb in Transmission. Wenn das Sicherheitselement nun um die vertikale Achse gedreht wird, ändert sich die Farbe des Hintergrundes 14 von Gelb zu Blau. Wenn stattdessen um die horizontale Achse gekippt wird, erscheint das Motiv 15 blau (untere Darstellung der Fig. 9a). Die Situation für unterschiedliche Azimutwinkel zeigt die Fig. 9b. Hier verändern sich die Farben des Motives 15 und des Hin- tergrundes 14 bis hin zu einer vollständigen Inversion.
Es sind natürlich auch Anordnungen mit Gittern unterschiedlicher Orientierung in mehreren Motivbereichen denkbar, wie im allgemeinen Teil der Beschreibung bereits erläutert. Dies wird später noch anhand der Fig. 20 erläu- tert werden.
Das Sicherheitselement S besitzt ferner polarisierungsfilternde Eigenschaften in Transmission. Fig. 10 zeigt das Farbverhalten eines Sicherheitselementes S mit einer Liniengitterstruktur, dessen Gitterstege aus Aluminium bestehen, als Funktion der Modulationstiefe h in Reflexion (linke Spalte) sowie in Transmission (rechte Spalte) für TE- und TM-Polarisation bei senkrechtem Einfallswinkel. Die Auftragung entspricht ansonsten der der Fig. 3. Die Parameter des Sicherheitselementes sind d = 360 nm, b = 180 nm, t = 30 nm. Die Brechzahl des Substrats 1 beträgt n = 1,56.
Es zeigt sich, dass das Sicherheitselement bei einer Modulationstiefe oberhalb 150 nm einen guten Helligkeitskontrast für die beiden Polarisationsrichtungen in Transmission aufweist. Ferner ist die Änderung in der Buntheit für Modulationstiefen zwischen 200 nm und 260 nm besonders groß. Die Farbänderung hat ein Maximum bei einer Modulationstiefe von 270 nm.
Fig. 11 zeigt den Einfluss der Schichtdicke t für das Gitter der Fig. 10 bei ei- ner Modulationstiefe von 250 nm. Das Sicherheitselement hat bei Schichtdicken oberhalb von 20 nm gute Polarisationsfiltereigenschaften in Transmission. Die Buntheit und der Farbkontrast sind bei Schichtdicken zwischen 20 nm und 30 nm besonders hoch. Hier beobachtet man einen Farbumschlag von Blau nach Gelb, wenn sich die Polarisation der Beleuchtung von TM- Polarisation in TE-Polarisation ändert.
Sicherheitselemente, deren Liniengitterstukturen Silizium in den Gitterstegen aufweisen, haben ebenfalls Polarisationsfilterwirkung in Transmission. Fig. 12 zeigt die LCh-Farbwerte eines Sicherheitselementes mit den Gitterpa- rametern d = 360 nm, b = 180 nm und h = 300 nm, dessen Gitterstege aus einer Bedampfung mit amorphen Silizium erzeugt wurden. Sie bestehen also aus amorphen Silizium. Es sind deutliche Helligkeitsunterschiede in Transmission für Siliziumschichtdicken oberhalb 100 nm zu beobachten. Für eine Siliziumschichtdicke von etwa 140 nm ist die Änderung in der Buntheit be- sonders groß. Die Transmission erscheint für TM-Polarisation orange, für TE- Polarisation violett.
Fig. 13 zeigt das Farbverhalten, wenn statt amorphem Silizium kristallines Silizium verwendet wird. Ansonsten entsprechen die Parameter denen der Fig. 12. Dieses Sicherheitselement zeigt bereits für Schichtdicken oberhalb von 40 nm deutliche Helligkeitsunterschiede. Die Schichtdicke von 100 nm eignet sich besonders gut als Polarisationsfilter. Der Farbkontrast Orange/ Blau ist für eine Siliziumschichtdicke von 120 nm am stärksten. Die Liniengitterstruktur des Sicherheitselementes hat polarisationsfilternde (sog. polarisierende) Eigenschaften in Transmission. Fig. 15 zeigt die Farbwerte im LCh-Farbraum eines mit Aluminium gedampften Gitters als Funktion der Modulationstiefe h in Reflexion sowie in Transmission für TM- und TE-Polarisation bei senkrechtem Einfallswinkel. In der linken Spalte der Fig. 15 sind die Farbwerte in Reflexion, in der rechten Spalte in Transmission dargestellt. Die Parameter des Sicherheitselementes sind d = 360 nm, b = 180 nm, t = 30 nm. Die Brechzahl des Substrats 1 beträgt n = 1,52 und die Gitterstege 3, 7 sind aus Aluminium. Der Aufbau des Gitters entspricht dem der Fig. 1. Die Wirkung des Sicherheitselements bei TM-Polarisation ist durch durchgezogene Linien dargestellt, bei TE-Polarisation durch eine gestrichelte Linie. Es zeigt sich, dass bei einer Modulationstiefe von h = 260 nm für die beiden Polarisationsrichtungen der maximale Unterschied, somit Kontrast, festzustellen ist. Bei TE-Polarisation ergibt sich dann ein dunkelblauer, hoch- gesättigter Farbton, der sich deutlich von der hellgelben, blassen Farbe unterscheidet, die bei TM-Polarisation zu sehen ist.
Fig. 16 zeigt eine Darstellung ähnlich der Fig. 3 für ein Gitter, bei dem die Gitterstege 3, 7 aus einer 40 nm Kupferschicht bestehen. Ansonsten entspre- chen die Parameter denen des Sicherheitselementes der Fig. 15. Auch hier ergibt sich bei einer Modulationstiefe von 260 nm ein deutlicher Farbunterschied, der in etwa dem anhand Fig. 15 beschriebenen entspricht. Variiert man die Schichtdicke des Kupfers der Gitterstege 3, 7 können die erkennbaren Farben leicht anders eingestellt werden.
Die Fig. 17a und b zeigen die Transmission und die Reflexion eines Gitters mit der Modulationstiefe h = 200 nm, das ansonsten den Parametern der Fig. 15 entspricht. Die Auftragung ist hier als Funktion der Beleuchtungswellenlänge im nahen Infraroten vorgenommen. Die durchgezogene Linie zeigt die TM-Polarisation, die gestrichelte Linie die TE-Polarisation der Beleuchtungsstrahlung. Deutlich zu sehen ist, dass für bestimmte Wellenlängen ein klarer Transmissions- und Reflexionsunterschied zwischen den beiden Polarisationsrichtungen besteht.
Fig. 18 zeigt die Transmission des Gitters der Fig. 17a, b als Funktion der Wellenlänge im sichtbaren Spektralbereich. Auch hier besteht ein deutlicher Unterschied für die beiden Polarisationsrichtungen. Fig. 19a zeigt die Transmission und Fig. 19b die Reflexion eines Gitters mit den Parametern des Sicherheitselementes der Fig. 15, wobei allerdings die Gitterstege 3, 7 hier durch eine 100 nm-dicke Siliziumschicht gebildet sind. Die durchgezogene sowie die kurzgestrichelte Linie betreffen eine Gitterstruktur mit einer Modulationshöhe von h = 200 nm, die strichpunktierte und langgestrichelte Linie ein Gitter mit der Modulationstiefe von h =
250 nm. Die durchgezogene und die langgestrichelte Linie stellen die TM- Polarisation der einfallenden Strahlung dar, die kurzgestrichelte sowie die strichpunktierte Linie die TE-Polarisation. Deutlich zu erkennen ist das unterschiedliche Transmissions- und Reflexionsverhalten für die unterschiedli- chen Polarisationen.
Es lässt sich somit einfach für das Sicherheitselement eine Modulationstiefe wählen, die deutlich erkennbare Unterschiede in den Polarisationsrichtungen von Beleuchtungsstrahlungen zur Folge hat.
Die Polarisationsfiltereigenschaften des Sicherheitselementes erlauben eine Echtheitsüberprüfung durch Betrachtung der Transmission bei linear polarisierter Beleuchtung. Eine solche Beleuchtung wird beispielsweise von LCD- Bildschirmen bereitgestellt. Sogar der blaue Himmel ist teilweise linear pola- risiert (im Gegensatz zum bewölkten Himmel) und kann sich als Strahlungsquelle für die Untersuchung des Sicherheitselementes eignen.
Die Polarisationsfiltereigenschaften des Sicherheitselementes erlauben auch eine maschinelle Echtheitsüberprüfung, indem der Kontrast, beispielsweise in einem bestimmten Spektralbereich, untersucht wird. Unter Kontrast ist dabei die unterschiedliche Transmission und/ oder Reflexion bei orthogonal zueinanderliegenden Polarisationsrichtungen zu verstehen. Die Überprüfungsvorrichtung beleuchtet somit das Sicherheitselement nacheinander bei zwei verschiedenen Polarisationsrichtungen und erfasst den Kontrast zwischen den dabei erhaltenen zwei Bildern. Dieses Vorgehen ermöglicht eine einfache maschinelle Überprüfung des Sicherheitselementes, die bei anderen Sicherheitselementen sehr viel aufwendiger oder gar nicht möglich ist. Die Anordnung der Längsrichtung des Sicherheitselementes ist nicht auf eine zueinander rechtwinklige Lage in verschiedenen Bereichen beschränkt, wie sie anhand der Fig. 8a, b erläutert wurde. Es ist auch eine Ausgestaltung möglich, bei der sich die Längsrichtung zwischen Bereichen in Abstufungen ändert. Fig. 20 zeigt exemplarisch eine rechteckige Fläche 16, die zehn Teilbe- reiche 16.1 bis 16.10 aufweist, die sich hinsichtlich der Längsrichtung ihrer Liniengitterstruktur so unterscheiden, dass die Längsrichtung in 10°-Schrit- ten von der senkrechten Ausrichtung (Teilbereich 16.1) in eine horizontale Ausrichtung (Teilbereich 16.10) übergeht. Wird diese Struktur vor einer polarisierten Lichtquelle verdreht, vertauschen sich die Farben, die bei TE- bzw. TM-Polarisation erkennbar sind, aufgrund der polarisationsfilternden Eigenschaften der Liniengitterstruktur annähernd kontinuierlich mit zunehmendem Drehwinkel über die Teilbereiche 16.1 bis 16.10 hinweg. Der Beobachter nimmt daher eine Art Bewegungseffekt wahr. Dies kann selbstverständlich bei der Ausgestaltung von Motiven Anwendung finden. Ein solcher Effekt tritt auch bei unpolarisierter Beleuchtung auf, wenn das Sicherheitselement um eine horizontale Achse bezogen auf Fig. 20 gekippt wird. Dann tritt eine Farbänderung in den Bereichen mit zunehmend schräg verlaufenden Gitterlinien verzögert gegenüber den Bereichen mit horizontal verlaufenden Git- terlinien auf.
Das Sicherheitselement kann insbesondere als Durchsichtsfenster von Banknoten oder anderen Dokumenten dienen. Es kann auch teilweise farblich überdruckt sein bzw. die Gitterbereiche können bereichsweise demetallisiert sein oder ohne Liniengitter ausgestaltet werden, so dass ein solcher Bereich vollständig metallisiert ist. Es sind auch Kombinationen mit diffraktiven Gitterstrukturen, wie Hologrammen, denkbar.
Die Echtheitsüberprüfung des Sicherheitselementes kann natürlich auch oh- ne Hilfsmittel vorgenommen werden. Mithilfe eines Polarisators kann eine zusätzliche Authentifizierung ohne weitere Geräte erfolgen.
Bezugszeichenliste
1 Substrat
2 erste Liniengitterstruktur
3 erster Gittersteg
4 erster Gitterspalt
5 Zwischenschicht
6 zweite Liniengitterstruktur
7 zweiter Gittersteg
8 zweiter Gitterspalt
9 Grundschicht
10 Deckschicht
11, 13 Metallschicht
12 dielektrische Zwischenschicht
14 Hintergrund
15 Motiv
16 Fläche
16.1-16.10 Bereich
17 Hintergrundbeleuchtung
h Modulationstiefe
t, tl, t2 Beschichtungsdicke
b Linienbreite
a Spaltenbreite
d Periode
S Sicherheitselement
L Ebene
E einfallende Strahlung
R reflektierte Strahlung
T transmittierte Strahlung
Θ Einfallswinkel

Claims

P a t e n t a n s p r ü c h e
1. Sicherheitselement zur Herstellung von Wertdokumenten, wie Banknoten, Schecks oder dergleichen, das aufweist: ein dielektrisches Substrat (1), eine in das Substrat (1) eingebettete erste Liniengitterstruktur (2) aus mehreren längs einer Längsrichtung verlaufenden und in einer Ebene (L) angeordneten ersten Gitterstegen (3) aus Metall oder Halbleiter und eine in das Substrat (1) eingebettete zweite Liniengitterstruktur (6) aus längs der Längsrichtung verlaufenden zweiten Gitterstegen (7) aus Metall oder Halbleiter, die sich bezogen auf die Ebene (L) über der ersten Liniengitterstruktur (2) befindet, wobei die ersten Gitterstege (3) jeweils eine Breite (b) haben und in einem Abstand (a) nebeneinanderliegen, so dass zwischen den ersten Gitterstegen (3) längs der Längsrichtung verlaufende erste Gitterspalte (4) mit dem Abstand (a) entsprechender Breite gebildet sind, die zweite Liniengitterstruktur (6) zur ersten Liniengitterstruktur (2) invertiert ist, wobei in Draufsicht auf die Ebene die zweiten Gitterstege (7) über den ersten Gitterspalten (4) und zweite Gitterspalte (8), die zwischen den zweiten Gitterstegen (7) bestehen, über den ersten Gitterstegen (3) liegen, und die Breite der ersten Gitterstege (3) und der zweiten Gitterspalte (8), die Breite der zweiten Gitterstege (7) und der ersten Gitterspalte (4) und eine Dicke (t) der ersten Gitterstege (3) und der zweiten Gitterstege (7) jeweils unter 300 nm ist.
2. Sicherheitselement nach Anspruch 1, wobei das dielektrische Substrat (1) eine Grundschicht (9), auf dem die erste Liniengitterstruktur (2) ausgebildet ist, eine darauf aufgebrachte dielektrische Zwischenschicht (5), die sowohl die ersten Gitterstege (3) als auch die ersten Gitterspalte (4) überdeckt und dicker als die ersten Gitterstege (3) ist, und eine über der zweiten Liniengitterstruktur (6) angeordnete dielektrische Deckschicht (10) umfasst, wobei bevorzugt die Zwischenschicht (5), die Deckschicht (10) und das Substrat (9) die gleiche Brechzahl haben.
3. Sicherheitselement nach einem der obigen Ansprüche, wobei zwischen den ersten Gitterstegen (3) und den zweiten Gitterstegen (7) senkrecht zur Ebene gemessen ein Abstand (h) besteht, der zwischen 50 nm und 500 nm, bevorzugt zwischen 100 nm und 300 nm liegt.
4. Sicherheitselement nach einem der obigen Ansprüche, wobei die ersten Gitterstege (3) und die zweiten Gitterstege (7) eine Beschichtung aus ei- ner oder mehreren der folgenden Materialien aufweisen: AI, Ag, Cu, Au, Cr, Pt, Si, Ge und Legierungen von diesen Materialien.
5. Sicherheitselement nach einem der obigen Ansprüche, wobei die ersten und/ oder die zweiten Gitterstege (3, 7) eine Trilay er beschichtung aus zwei übereinanderliegenden Metall- oder Halbleiterbeschichtungen (11, 13) mit einer dazwischen liegenden dielektrischen Schicht (12) aufweisen.
6. Sicherheitselement nach einem der obigen Ansprüche, bei dem die Breite (b) gleich dem Abstand (a) ist.
7. Sicherheitselement nach einem der obigen Ansprüche, das in Draufsicht auf die Ebene (L) mindestens zwei Bereiche (14, 15; 16.1 - 16.10) aufweist, deren Längsrichtungen schräg zueinander liegen, insbesondere rechtwinklig.
8. Sicherheitselement nach Anspruch 7, wobei die Längsrichtungen der zwei Bereiche (16.1, 16.10) einen Winkel zueinander einschließen, und das Sicherheitselement mindestens einen dritten Bereich (16.2 - 16.9) aufweist, dessen Längsrichtung(en) innerhalb dieses Winkels liegt(liegen).
9. Sicherheitselement nach Anspruch 8, wobei mehrere dritte Bereiche (16.2 - 16.9) vorhanden sind, die in einem Muster (16) angeordnet sind und deren Längsrichtungen sich unterscheiden.
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