EP3331709B1 - Sicherheitselement mit subwellenlängengitter - Google Patents

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EP3331709B1
EP3331709B1 EP16750612.0A EP16750612A EP3331709B1 EP 3331709 B1 EP3331709 B1 EP 3331709B1 EP 16750612 A EP16750612 A EP 16750612A EP 3331709 B1 EP3331709 B1 EP 3331709B1
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EP
European Patent Office
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security element
grating
color
grid
plane
Prior art date
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EP16750612.0A
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EP3331709A1 (de
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Hans Lochbihler
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Giesecke and Devrient Currency Technology GmbH
Original Assignee
Giesecke and Devrient Currency Technology GmbH
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    • B42D25/20Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof characterised by a particular use or purpose
    • B42D25/29Securities; Bank notes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B42D25/351Translucent or partly translucent parts, e.g. windows
    • GPHYSICS
    • G07CHECKING-DEVICES
    • G07DHANDLING OF COINS OR VALUABLE PAPERS, e.g. TESTING, SORTING BY DENOMINATIONS, COUNTING, DISPENSING, CHANGING OR DEPOSITING
    • G07D7/00Testing specially adapted to determine the identity or genuineness of valuable papers or for segregating those which are unacceptable, e.g. banknotes that are alien to a currency
    • G07D7/003Testing specially adapted to determine the identity or genuineness of valuable papers or for segregating those which are unacceptable, e.g. banknotes that are alien to a currency using security elements
    • GPHYSICS
    • G07CHECKING-DEVICES
    • G07DHANDLING OF COINS OR VALUABLE PAPERS, e.g. TESTING, SORTING BY DENOMINATIONS, COUNTING, DISPENSING, CHANGING OR DEPOSITING
    • G07D7/00Testing specially adapted to determine the identity or genuineness of valuable papers or for segregating those which are unacceptable, e.g. banknotes that are alien to a currency
    • G07D7/06Testing specially adapted to determine the identity or genuineness of valuable papers or for segregating those which are unacceptable, e.g. banknotes that are alien to a currency using wave or particle radiation
    • G07D7/12Visible light, infrared or ultraviolet radiation

Definitions

  • the invention relates to a security element for producing value documents, such as banknotes, checks or the like, comprising: a dielectric substrate, a first periodic line grid structure embedded in the substrate, of a plurality of first grid webs extending along a longitudinal direction and arranged in a first plane, with first therebetween Grid gaps and a second line grid structure of the same period embedded in the substrate from extending along the longitudinal second grating webs with intermediate second grating gaps, wherein the second line grating structure with respect to the first plane above the first line grid structure in a parallel second plane and wherein the second line grid structure for first line grid structure inverted is formed so that in plan view of the first plane, the second grid bars on the first grid gaps and the second grid gaps on the first grid land lie.
  • Security elements with periodic line grids are known, for example from the DE 102009012299 A1 .
  • DE 102009012300 A1 or the DE 102009056933 A1 You can have color filter properties in the subwavelength range if the grating profile is designed to produce resonance effects in the visible spectral range.
  • Such color filter properties are known for both reflective and transmissive subwavelength structures. These structures have a strong polarizing influence on the reflection or the transmission of an incident light beam. The color is relatively strongly dependent on the angle in reflection or transmission of such subwavelength gratings. However, the color saturation weakens for these grids clearly off when the incident light is unpolarized.
  • One-dimensional periodic gratings may have color filter properties in the sub-wavelength range if the grating profile is designed to exhibit resonance effects in the visible wavelength range. These color filter properties depend on the angle of the incident light.
  • a sub-wavelength structure which has angle-dependent color-filtering properties.
  • This lattice has a rectangular shape in cross-section and is vapor-deposited with a high refractive index (HRI), the following applies for the refractive indices: n HRI > n 2 and n 1 ⁇ n 2 ⁇ n 3 .
  • HRI refractive index
  • the angle ⁇ denotes the azimuth angle.
  • the security element marketed under the name DID (“Diffractive Identification Device”) is based on this structure and uses the color filter properties in reflection. A light-absorbing surface is required to perceive a color effect.
  • the WO 2012/019226 A1 also describes embossed subwavelength gratings with a rectangular profile, on the plateaus of which metal particles or metallic nanoparticles are imprinted. This grid shows color or polarization effects in transmission.
  • subwavelength gratings are known as angle-dependent color filters which have a metallic or semi-metallic bi-layer arrangement, for example from US Pat DE 102011115589 A1 or off Z. Ye et al., "Compact Color Filter and Polarizer of Bilayer Metallic Nanowire Grating Based on Surface Plasmon Resonances, "Plasmonics, 8, 555-559 (2012 ), wherein the metallization is realized by vapor deposition and embedded in a dielectric.
  • This known sub-wavelength structure with an approximately 70 nm thick ZnS coating is suitable as a color filter in reflection. Therefore, the structure must additionally be applied to a light-absorbing substrate in order to achieve a sufficient color contrast, which is then visible in reflection.
  • Sub-wave gratings with metallic coatings show a relatively high color saturation in transmission. Due to the light absorption in the metal, they therefore appear relatively dark.
  • Sinusoidal grids coated with a thin metal film can cause plasmonic resonance effects. These resonances lead to increased transmission in TM polarization, cf. Y. Jourlin et al. Spatially and polarization resolved mediated transmission through continuous metal films; Opt. Express 17, 12155-12166 (2009 ). This effect can be further optimized by an additional thin dielectric layer, such as T. Tenev et al., "High Plasmonic Resonant Reflection and Transmission on Continuous Metal Films on Undulated Photosensitive Polymer," Plasmonics (2013 ) disclosed. This in WO 2012/136777 A1 described security element based on this optical effect.
  • transmissive security elements are described which are based on subwavelength gratings and a show angle-dependent color.
  • the optical properties of high-index coated sine gratings are discussed in more detail.
  • the invention is therefore based on the object to provide a security element that shows a good color effect when viewed, which changes when tilted.
  • the high refractive index material is preferably dielectric or a semiconductor, e.g. Si, Ge, C.
  • a double-line grid which consists of two-layer superimposed, complementary to each other, ie, mutually shifted line grid structures.
  • a phase shift of 90 ° is the ideal value, which of course can be seen in the context of manufacturing accuracy. Due to manufacturing tolerances deviations from the complementarity, ie 90 ° phase shift, can arise here.
  • a rectangular profile may not be perfectly formed, but may be approximated by a trapezoidal profile whose upper parallel edge is shorter as the bottom one. In the case of a rectangular grid structure, the phase shift corresponds to half a period.
  • the line grid structures are constructed of a combination of a layer of high refractive, dielectric or semi-metallic material with a metallic layer.
  • the thickness of the grid bars is less than the modulation depth, that is, the spacing of the planes of the line grid structures, so that no closed film is formed. Therefore, the distance between the first and second plane is greater than the sum of (0.5 * first layer thickness) and (0.5 * second layer thickness).
  • the security element can be easily manufactured by a layer construction by first providing a base layer on which the double layer of the first line lattice structure is formed. Then, a dielectric intermediate layer is applied, which covers the first line grid structure and is thicker than the grid bars of the first line grid structure. The displaced second line grid structure can then be formed thereon, and a dielectric cover layer forms the termination of the substrate embedding the line grid structure.
  • a sub-waveguide may be first formed in the dielectric substrate, e.g. B. embossed, which has a rectangular profile in cross section. Coated, z. B. steamed, this is vertical with the materials of the double layer, the double layer is formed on the plateaus and in the trenches, which forms the second and first lattice webs. You have the desired first and second grid bars in different levels.
  • a particularly good color effect is obtained if the vertical distance between the first and the second lattice webs, ie the modulation depth of the structure, is between 100 nm and 500 nm.
  • Distance measurement refers to the two planes, e.g. can be defined by like areas of the first and second line grid structures, i. for example, on the underside of the grid bars or the top of the grid bars.
  • the vertical distance is of course to measure perpendicular to the plane, that is, the height difference between rectified surfaces of the grid bars.
  • the double layer of the lattice webs all materials are suitable which are opposite to the surrounding substrate, i. Material, have a higher refractive index, in particular by at least 0.3 higher.
  • the layer order in the bilayer is irrelevant; it may also be different for the first and the second line grid structure.
  • the security element shows an angle-dependent color filtering when viewed in transmission. This angle dependence is particularly striking when the grid lines are perpendicular to the light incidence plane.
  • the color filter can be used to make motifs multicolored so that they change their color with the twisted position or show different effects when tilting the plane. It is therefore preferred that, in plan view of the plane, at least two regions are provided whose longitudinal directions of the line grid structures are oblique to one another, in particular at right angles. When viewed vertically, a motif can be designed so that when viewed vertically, it has a uniform color and no other structure. If you tilt this security element now, the color of one area, for example the background, changes differently than the color of the other area, for example a motif.
  • Fig. 1 shows a sectional view of a security element S, which has a substrate embedded in a double-line grid, consisting of two line grating structures 2, 6.
  • the substrate comprises a dielectric carrier 1, on the in a dielectric layer, for. B. an embossing lacquer layer, a first line grid structure 2 is incorporated, which is arranged in a plane L1.
  • the first line grid structure 2 consists of first grid bars 3 with the width b, which extend along a longitudinal direction perpendicular to the plane of the drawing. Between the first grid bars 3 there are first grid gaps 4, which have a width a.
  • Each grid web 3 consists of a double layer of high refractive index material 3a of a thickness t4 and metallic material 3b of a thickness t2.
  • the thickness of the first grid bars 3 (measured perpendicular to the plane L1) is thus t2 + t4.
  • a second line lattice structure 6 with second lattice webs 7 in a plane L2, likewise from the double layer of high refractive index material 7a having a thickness t3 and metallic material 7b having a thickness t1.
  • the second grid webs 7 have the width a.
  • the second line grating structure 6 is phase-shifted in the plane L2 relative to the first line grating structure 2 in such a way that the second grate webs 7 come to rest as precisely as possible (within the manufacturing accuracy) over the first grating gaps 4.
  • second grid gaps 8, which exist between the second grid bars 7, lie over the first grid bars 3.
  • the thickness t2 + t4 of the first lattice webs 3 is smaller than the height h, so that no coherent film of the lattice webs 3 and 7 is formed.
  • the height h represents a modulation depth of the grating structures.
  • the modulation depth h i. the height difference between the first line grid structure 2 and the second line grid structure 6 (corresponding to the spacing of the planes L1 and L2) is greater than the sum of the thicknesses of the first grid bars 3 and the second grid bars 7, so that a vertical distance of the dimension h - (t2 + t4) between the two line grid structures 2 and 6 is given.
  • the lattice structure can be considered as an arrangement of two wire meshes having the same profile and spaced apart from each other at the distance h - (t2 + t4).
  • the lattice webs 3, 7 are formed in all embodiments of a double layer of a high-refractive, dielectric or semi-metallic material 3a, 7a and a metallic material 3b, 7b.
  • the high-index material has the refractive index n HRI and is surrounded by dielectrics, namely a dielectric intermediate layer 5 and a dielectric cover layer 10. In practice, the refractive indices of these surrounding materials usually hardly differ and are approximately n 1 .
  • the refractive index n HRI of the high refractive index material is above that of the surrounding material, eg by at least 0.3 absolute.
  • the security element S of Fig. 1 Reflects incident radiation E as reflected radiation R. Further, a radiation component is transmitted as transmitted radiation T.
  • the reflection and transmission properties depend on the angle of incidence ⁇ , as will be explained below.
  • the production of the security element S can take place, for example, by first applying the first line grid structure 2 and subsequently the intermediate layer 5 to the carrier 1.
  • the second line grid structure with the second grid webs 7 can then be introduced into the grid gaps 4 depicted at the top.
  • a cover layer 10 covers the security element.
  • the measures b, a and t1 to t4 are in the sub-wavelength range, i. less than 300 nm.
  • the modulation depth h is preferably between 100 nm and 500 nm.
  • a manufacturing method is also possible in which first a rectangular grid is produced on an upper side of the carrier 1.
  • the carrier 1 is thus structured such that trenches of the width a alternate with webs of the width b.
  • the patterned substrate is then vapor-deposited with the desired coating to form the first and second line grids and the first and second line grating structures. After evaporation, the structure is finally covered with a cover layer. This gives a layer structure in which the top and bottom have substantially the same refractive index.
  • the structured substrate can be obtained in various ways.
  • One option is the reproduction with a master.
  • the master mold can now be replicated in UV varnish on film, eg PET film.
  • the substrate 1 has, for example, a refractive index of 1.56.
  • hot stamping methods are also suitable.
  • the master or even the substrate itself, can be fabricated using an e-beam, focused ion beam or interference lithography, writing the structure into a photoresist and then developing it.
  • the structure of a photolithographically produced master can be etched in a subsequent step into a quartz substrate in order to form as vertical as possible edges of the profile.
  • the quartz wafer then serves as a preform and may be, e.g. in Ormocer, copied or duplicated by galvanic molding.
  • a direct impression of the photolithographically produced original in Ormocer or in nickel in a galvanic process is possible.
  • a motif with different lattice structures can be assembled in a nanoimprint process starting from a homogeneous lattice master.
  • the optical properties of the security element are discussed as examples for aluminum and the high-index materials zinc sulfide (ZnS) and titanium dioxide (TiO 2 ) in the visible wavelength range.
  • n 1.52
  • Fig. 2a and 2b show the spectral reflection ( Fig. 2a ) as well as the transmission ( Fig.
  • Fig. 2a shows on the y-axis the reflection as a function of the plotted on the x-axis wavelength for different angles of incidence, namely 0 °, 15 ° and 30 °.
  • Fig. 2b shows analog transmission.
  • the angle of incidence ⁇ is in Fig. 1 Are defined.
  • the spectral reflection shows two pronounced dips at 404 nm and 672 nm for vertical incidence of light, with the long-wave dip being found as a peak in the transmission spectrum. For increasing angles of incidence, this peak shifts into the long-wave range, and further peaks appear in the transmission spectrum, which have an angle-dependent dispersion.
  • FIGS. 3a and 3b concern the influence of the modulation depth h on the transmission spectrum.
  • the modulation depth is varied between 180 nm and 240 nm.
  • three peaks are visible, with the two short-wave peaks being significantly influenced by the variation of the modulation depth in their expression.
  • the intensity in the blue peak increases sharply and shifts into the green, while the intensity of the Peaks at the wavelength 560 nm decreases sharply.
  • FIGS. 4a and 4b refer to the influence of the high refractive index material on the diffraction behavior of the grating.
  • the figure shows the transmission spectra of a grating with the parameters of Fig. 3 but a 140 nm thick coating with TiO 2 instead of ZnS.
  • the blue component in the spectrum is significantly higher here, since TiO 2 has a much lower absorption in the blue.
  • the transmission in the red is higher overall.
  • a ZnS layer thickness of about 160 nm leads to a particularly strong change in the chroma in transmission when tilting, ie changing the angle ⁇ .
  • the change in hue increases for increasing thicknesses.
  • Fig. 5 The values of Fig. 5 were converted into x, y color coordinates and are in Fig. 6a, b shown in the CIE 1931 color space.
  • the white point is marked "WP".
  • the triangle limits the color range, which can usually be displayed with screens.
  • the diagram shows the color coordinates as trajectories.
  • the hue changes due to the variation of the layer thickness of ZnS. When tilting from 0 ° to 30 °, there is a change in color between yellow and red. In transmission, however, a relatively large area of the color space is covered by the variation of the ZnS thickness.
  • Fig. 7a, b shows the CIE 1931 color charts in reflection ( Fig. 7a ) and in transmission ( Fig. 7b ), in which the color coordination is plotted as a function of the angle of incidence ⁇ from 0 ° to 30 °.
  • the illumination of the security element with the layer order of Fig.
  • Fig. 8a and 8b show the x, y color coordinates of a security element similar to that of Fig. 7a and 7b , but with different grid parameters.
  • the grating period d 320 nm.
  • the ratio b / d is also 0.5.
  • the green hue in reflection barely changes when tilted. It mainly varies the color saturation. In transmission, on the other hand, the color changes from red to blue with high color saturation. This shows in comparison with the security element of Fig. 7 in that the tilting color in transmission can be selected by changing the lattice parameters, in particular the thickness of the high-index layer and the grating period.
  • a security feature can be graphically designed so that a subject 15 is not visible when viewed vertically and it only appears when tilted. This can be done by two grating areas 14, 15 are arranged with the same grating profile rotated by 90 ° to each other. This arrangement is in Fig. 9a and b shown.
  • the grid lines of the area 14 forming the background run vertically, while the grid lines in the area 15 forming the motif are horizontal. If now the security element is tilted around the horizontal axis, the motive appears.
  • FIGS. 10a and b show a motif of a butterfly and the number "12", wherein the square area by the number "12" contains no additional high refractive coating (area 16 in Fig. 10b ).
  • the motifs butterfly and the number "25" are not visible, but the areas 16 and 17 appear in different colors. When tilting, the motif also appears.
  • the security element can serve as a see-through window of banknotes. It can also be partially overprinted in color. One or both materials of the bilayer may also be partially removed, eg by laser irradiation with ultrashort pulses. Furthermore, a combination with high refractive transparent holograms is possible. Such holograms can also act as reflection features. A part of the security element S can be located on an absorbent background, so that this part serves only as a reflective feature and forms a contrast to the other part of the security element S, which lies in the region of the see-through window.
  • the security element can serve in particular as a see-through window of banknotes or other documents. It may also be partially overprinted color or the grid areas may be partially demetallized or configured without line grid, so that such an area is completely metallized. Combinations with diffractive grating structures, such as holograms, are also conceivable.

Description

  • Die Erfindung betrifft ein Sicherheitselement zur Herstellung von Wertdokumenten, wie Banknoten, Schecks oder dergleichen, das aufweist: ein dielektrisches Substrat, eine in das Substrat eingebettete, erste periodische Liniengitterstruktur aus mehreren längs einer Längsrichtung verlaufenden und in einer ersten Ebene angeordneten ersten Gitterstegen mit dazwischenliegenden ersten Gitterlücken und eine in das Substrat eingebettete, zweite Liniengitterstruktur gleicher Periode aus längs der Längsrichtung verlaufenden zweiten Gitterstegen mit dazwischenliegenden zweiten Gitterlücken, wobei sich die zweite Liniengitterstruktur bezogen auf die erste Ebene über der ersten Liniengitterstruktur in einer parallelen zweiten Ebene befindet und wobei die zweite Liniengitterstruktur zur ersten Liniengitterstruktur invertiert so ausgebildet ist, dass in Draufsicht auf die erste Ebene die zweiten Gitterstege über den ersten Gitterlücken und die zweite Gitterlücken über den ersten Gitterstegen liegen.
  • Sicherheitselemente mit periodischen Liniengittern sind bekannt, beispielsweise aus der DE 102009012299 A1 , DE 102009012300 A1 oder der DE 102009056933 A1 . Sie können im Subwellenlängenbereich Farbfiltereigenschaften aufweisen, wenn das Gitterprofil so ausgelegt ist, dass Resonanzeffekte im sichtbaren Spektralbereich auftreten. Solche Farbfiltereigenschaften sind sowohl für reflektierende als auch für transmittierende Subwellenlängenstrukturen bekannt. Diese Strukturen haben einen stark polarisierenden Einfluss auf die Reflexion bzw. die Transmission eines einfallenden Lichtstrahls. Die Farbe ist in Reflexion bzw. Transmission solcher Subwellenlängengitter relativ stark winkelabhängig. Jedoch schwächt sich die Farbsättigung für diese Gitter deutlich ab, wenn das einfallende Licht unpolarisiert ist.
  • Eindimensional periodische Gitter können Farbfiltereigenschaften im Subwellenlängenbereich aufweisen, wenn das Gitterprofil so ausgelegt ist, dass Resonanzeffekte im sichtbaren Wellenlängenbereich auftreten. Diese Farbfiltereigenschaften hängen vom Winkel des einfallenden Lichtes ab.
  • In der DE 3248899 C2 ist eine Subwellenlängenstruktur beschrieben, welche winkelabhängige farbfilternde Eigenschaften besitzt. Dieses Gitter hat im Querschnitt eine Rechteckform und ist mit einer hochbrechenden (HRI) Schicht bedampft, wobei für die Brechungsindizes gilt: nHRI > n2 und n1≈n2≈ n3. Eine Farbänderung tritt bei einer Variation des Winkels Θ ein. Wenn das Gitter senkrecht zur Einfallsebene gekippt wird (Θ>0°; Φ=90°), bleibt die Farbe annährend konstant. Der Winkel Φ bezeichnet den Azimutwinkel. Das unter dem Namen DID ("Diffractive Identification Device") vermarktete Sicherheitselement basiert auf dieser Struktur und nutzt die Farbfiltereigenschaften in Reflexion. Es ist ein lichtabsorbierender Untergrund erforderlich, um einen Farbeffekt wahrzunehmen.
  • Die WO 2012/019226 A1 beschreibt geprägte Subwellenlängengitter ebenfalls mit einem Rechteckprofil, auf dessen Plateaus Metallpartikel bzw. metallische Nanopartikel aufgedruckt sind. Dieses Gitter zeigt Farb- bzw. Polarisationseffekte in Transmission.
  • Ferner sind Subwellenlängengitter als winkelabhängige Farbfilter bekannt, welche eine metallische bzw. halbmetallische Bi-Layer-Anordnung haben, z.B. aus der DE 102011115589 A1 oder aus Z. Ye et al., "Compact Color Filter and Polarizer of Bilayer Metallic Nanowire Grating Based on Surface Plasmon Resonances", Plasmonics, 8, 555-559 (2012), wobei die Metallisierung durch Aufdampfen realisiert und in ein Dielektrikum eingebettet ist. Der in DE 102011115589 A1 , die ein Sicherheitselement mit den oben genannten Merkmalen offenbart, beschriebene Ansatz basiert auf einer Anordnung von zwei Drahtgittern mit derselben Periode, die zueinander um eine halbe Periode verschoben sind und aus metallischen bzw. halbmetallischen (z.B. 70 nm dicken ZnS) Drähten bestehen.
  • Diese bekannte Subwellenlängenstruktur mit einer ca. 70 nm dicken ZnS-Beschichtung eignet sich als Farbfilter in Reflexion. Daher muss die Struktur zusätzlich auf einen lichtabsorbierenden Untergrund aufgebracht werden, um einen hinreichenden Farbkontrast zu erzielen, der dann in Reflexion sichtbar ist. Subwellengitter mit metallischen Beschichtungen zeigen eine relativ hohe Farbsättigung in Transmission. Aufgrund der Lichtabsorption im Metall erscheinen sie deshalb relativ dunkel.
  • Mit einem dünnen Metallfilm überzogene Sinusgitter können plasmonische Resonanzeffekte hervorrufen. Diese Resonanzen führen zu einer erhöhten Transmission in TM-Polarisation, vgl. Y. Jourlin et al. "Spatially and polarization resolved plasmon mediated transmission through continuous metal films"; Opt. Express 17, 12155-12166 (2009). Dieser Effekt kann durch eine zusätzliche dünne dielektrische Schicht noch optimiert werden, wie T. Tenev et al., "High Plasmonic Resonant Reflection and Transmission at Continous Metal Films on Undulated Photosensitive Polymer", Plasmonics (2013) offenbart. Das in WO 2012/136777 A1 beschriebene Sicherheitselement basiert auf diesem optischen Effekt.
  • In der WO 2014/033324 A2 werden ebenfalls transmissive Sicherheitselemente beschrieben, welche auf Subwellenlängengittern basieren und eine winkelabhängige Farbe zeigen. Dabei werden die optischen Eigenschaften von hochbrechend beschichteten Sinusgittern näher diskutiert.
  • Die bekannten zweidimensional periodischen Subwellenlängengitter mit nicht zusammenhängender Oberfläche zeigen zwar Farbfiltereigenschaften, haben jedoch eine große Winkeltoleranz. Ihr Farbton ändert sich daher beim Verkippen kaum.
  • Der Erfindung liegt deshalb die Aufgabe zugrunde, ein Sicherheitselement anzugeben, das bei Durchsicht einen guten Farbeffekt zeigt, welcher sich beim Verkippen ändert.
  • Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch ein Sicherheitselement zur Herstellung von Wertdokumenten, wie Banknoten, Schecks oder dergleichen, das aufweist:
    • ein dielektrisches Substrat,
    • eine in das Substrat eingebettete, erste periodische Liniengitterstruktur aus mehreren längs einer Längsrichtung verlaufenden und in einer ersten Ebene angeordneten ersten Gitterstegen mit dazwischenliegenden ersten Gitterlücken und
    • eine in das Substrat eingebettete, zweite Liniengitterstruktur gleicher Periode aus längs der Längsrichtung verlaufenden zweiten Gitterstegen mit dazwischenliegenden zweiten Gitterlücken,
    • wobei sich die zweite Liniengitterstruktur bezogen auf die erste Ebene über der ersten Liniengitterstruktur in einer parallelen zweiten Ebene befindet und
    • wobei die zweite Liniengitterstruktur zur ersten Liniengitterstruktur invertiert so ausgebildet ist, dass in Draufsicht auf die erste Ebene die zweiten Gitterstege über den ersten Gitterlücken und die zweite Gitterlücken über den ersten Gitterstegen liegen, wobei
    • das Sicherheitselement in Transmissionsbetrachtung einen Farbeffekt erzeugt und
    • die Gitterstege der ersten Liniengitterstruktur und die Gitterstege der zweiten Liniengitterstruktur jeweils aus einer Doppelschicht, aufgebaut aus einer Schicht aus hochbrechendem Material und einer Schicht aus metallischem Material, gebildet sind.
  • Das hochbrechende Material ist bevorzugt dielektrisch oder ein Halbleiter, z.B. Si, Ge, C.
  • Erfindungsgemäß wird ein Doppel-Liniengitter verwendet, das aus in zwei Ebenen übereinanderliegenden, komplementär zueinander angeordneten, d.h. gegeneinander verschobenen Liniengitterstrukturen besteht. Eine Phasenverschiebung von 90° ist der Idealwert, welcher natürlich im Rahmen der Fertigungsgenauigkeit zu sehen ist. Durch Fertigungstoleranzen können hier Abweichungen von der Komplementarität, also 90° Phasenverschiebung, entstehen. Weiter kann ein Rechteckprofil nicht perfekt ausgebildet, sondern durch ein Trapezprofil angenähert sein, dessen obere Parallelkante kürzer ist als die untere. Bei einer im Querschnitt rechteckigen Liniengitterstruktur entspricht die Phasenverschiebung einer halben Periode.
  • Die Liniengitterstrukturen sind aus einer Kombination einer Schicht aus hochbrechendem, dielektrischem oder halbmetallischem Material mit einer metallischen Schicht aufgebaut. Die Dicke der Gitterstege ist geringer als die Modulationstiefe, also als der Abstand der Ebenen der Liniengitterstrukturen, so dass sich kein geschlossener Film bildet. Deshalb ist der Abstand von erster und zweiter Ebene größer als die Summe aus (0,5 * erster Schichtdicke) und (0,5 * zweiter Schichtdicke).
  • Es zeigte sich, dass ein derart aufgebautes Gitter überraschenderweise in Transmissionsbetrachtung reproduzierbare und gut wahrnehmbare Farbeffekte beim Verkippen liefert.
  • Das Sicherheitselement kann einfach durch einen Schichtaufbau hergestellt werden, indem zuerst eine Grundschicht bereitgestellt wird, auf der die Doppelschicht der ersten Liniengitterstruktur ausgebildet wird. Darauf bringt man eine dielektrische Zwischenschicht auf, die die erste Liniengitterstruktur überdeckt und dicker als die Gitterstege der ersten Liniengitterstruktur ist. Darauf kann dann die verschobene zweite Liniengitterstruktur ausgebildet werden, und eine dielektrische Deckschicht bildet den Abschluss des die Liniengitterstruktur einbettenden Substrates. Alternativ kann auch in dem dielektrischen Substrat zuerst ein Subwellengitter ausgebildet, z. B. geprägt, werden, das ein Rechteckprofil im Querschnitt hat. Beschichtet, z. B. bedampft, man dieses mit den Materialien der Doppelschicht senkrecht, entsteht die Doppelschicht auf den Plateaus und in den Gräben, welche die zweiten und ersten Gitterstege bildet. Man hat damit die gewünschten ersten und zweiten Gitterstege in unterschiedlichen Ebenen.
  • Einen besonders guten Farbeffekt erhält man, wenn der vertikale Abstand zwischen den ersten und den zweiten Gitterstegen, also die Modulationstiefe der Struktur, zwischen 100 nm und 500 nm liegt. Bei der Abstandsmessung bezieht man sich auf die beiden Ebenen, die z.B. durch gleichweisende Flächen der ersten und zweiten Liniengitterstruktur definiert werden können, d.h. beispielsweise auf die Unterseite der Gitterstege oder die Oberseite der Gitterstege. Der vertikale Abstand ist dabei selbstverständlich senkrecht zur Ebene zu messen, bezeichnet also den Höhenunterschied zwischen gleichgerichteten Flächen der Gitterstege.
  • Als hochbrechendes Material für die Doppelschicht der Gitterstege kommen alle Materialien infrage, die gegenüber dem umgebenden Substrat, d.h. Material, eine höhere Brechzahl haben, insbesondere um mindestens 0,3 höher. Die Schichtreihenfolge in der Doppelschicht ist unerheblich; sie kann für die erste und die zweite Liniengitterstruktur auch verschieden sein.
  • Das Sicherheitselement zeigt eine winkelabhängige Farbfilterung bei Betrachtung in Transmission. Diese Winkelabhängigkeit ist besonders markant, wenn die Gitterlinien senkrecht zur Lichteinfallsebene stehen. Die Farbfilterung kann dazu verwendet werden, um Motive mehrfarbig so zu gestalten, dass sie mit der Verdrehstellung ihre Farbe ändern bzw. unterschiedliche Effekte beim Verkippen der Ebene zeigen. Es ist deshalb bevorzugt, dass in Draufsicht auf die Ebene mindestens zwei Bereiche vorgesehen sind, deren Längsrichtungen der Liniengitterstrukturen schräg zueinander liegen, insbesondere rechtwinklig sind. Bei senkrechter Betrachtung kann ein Motiv so gestaltet werden, dass es bei senkrechter Betrachtung eine einheitliche Farbe und keine weitere Struktur hat. Kippt man dieses Sicherheitselement nun, ändert sich die Farbe des einen Bereichs, beispielsweise des Hintergrundes, anders als die Farbe des anderen Bereichs, beispielsweise eines Motivs.
  • Natürlich sind auch Ausführungsformen mit mehreren unterschiedlich angeordneten Bereichen denkbar. So ist beispielsweise eine Weiterbildung vorgesehen, die mehrere Bereiche im Sicherheitselement aufweist, wobei die Bereiche sich voneinander hinsichtlich der Orientierung der Gitterlinien und/ oder Gitterperiode der Liniengitterstrukturen unterscheiden. Dadurch können Motive mit unterschiedlichen Farbeffekten in Transmissionsbetrachtung hergestellt werden.
  • Es versteht sich, dass die vorstehend genannten und die nachstehend noch zu erläuternden Merkmale nicht nur in den angegebenen Kombinationen, sondern auch in anderen Kombinationen oder in Alleinstellung einsetzbar sind, ohne den Rahmen der vorliegenden Erfindung zu verlassen.
  • Nachfolgend wird die Erfindung beispielshalber anhand der beigefügten Zeichnungen, die auch erfindungswesentliche Merkmale offenbaren, noch näher erläutert. Es zeigen:
  • Fig. 1
    eine Schnittdarstellung eines Sicherheitselementes mit einem Doppel-Liniengitter, wobei jedes Liniengitter Gitterstege aus einer Doppelschicht aufweist,
    Fig. 2a-b
    die spektrale Abhängigkeit der Reflexion und Transmission des Sicherheitselementes der Fig. 1 bei Variation des Betrachtungswinkels,
    Fig. 3a-b
    die spektrale Abhängigkeit der Reflexion und Transmission des Sicherheitselementes der Fig. 1 bei Variation der Modulationstiefe h,
    Fig. 4a-b
    die spektrale Abhängigkeit der Reflexion und Transmission des Sicherheitselements der Fig. 1 bei Variation der Modulationstiefe und für eine andere Materialkombination als in Fig. 3a-b,
    Fig. 5
    Farbwerte im LCh-Farbraum für Reflexion und Transmission für das Sicherheitselement der Fig. 1 bei Variation einer Schichtdichte in der Doppelschicht und für verschiedene Betrachtungswinkel,
    Fig. 6a-b
    ein CIE-1931-Farbdiagramm für Reflexion und Transmission des Sicherheitselementes der Fig. 1 bei Variation einer Schichtdicke,
    Fig. 7a-b
    ein CIE-1931-Farbdiagramm für Reflexion und Transmission des Sicherheitselementes der Fig. 1 bei Variation des Betrachtungswinkels und für andere Schichtdicken als in Fig. 6a-b,
    Fig. 8a-b
    ein CIE-1931-Farbdiagramm für Reflexion und Transmission des Sicherheitselementes der Fig. 1 bei Variation des Betrachtungswinkels und für andere Schichtdicken als in Fig. 7a-b,
    Fig. 9a-b
    zwei Draufsichten auf ein Sicherheitselement, das als Motiv mit Gittern der Fig. 1, aber mit unterschiedlichen Orientierungen der Gitter gebildet ist, und
    Fig. 10a-b
    Darstellungen ähnlich der Fig. 9a-b für eine weitere Ausführungsform des Sicherheitselementes.
  • Fig. 1 zeigt in Schnittdarstellung ein Sicherheitselement S, das ein in ein Substrat eingebettetes Doppel-Liniengitter, bestehend aus zwei Liniengitterstrukturen 2, 6 aufweist. Das Substrat umfasst einen dielektrischen Träger 1, auf dem in eine dielektrischen Schicht, z. B. eine Prägelackschicht, eine erste Liniengitterstruktur 2 eingearbeitet ist, die in einer Ebene L1 angeordnet ist. Die erste Liniengitterstruktur 2 besteht aus ersten Gitterstegen 3 mit der Breite b, die sich längs einer senkrecht zur Zeichenebene liegenden Längsrichtung erstrecken. Zwischen den ersten Gitterstegen 3 befinden sich erste Gitterlücken 4, die eine Breite a haben.
  • Jeder Gittersteg 3 besteht aus einer Doppelschicht aus hochbrechendem Material 3a einer Dicke t4 und metallischem Material 3b einer Dicke t2. Die Dicke der ersten Gitterstege 3 (gemessen senkrecht zur Ebene L1) beträgt somit t2 + t4. In einer Höhe h über den ersten Gitterstegen 3 befindet sich in einer Ebene L2 eine zweite Liniengitterstruktur 6 mit zweiten Gitterstegen 7, ebenfalls aus der Doppelschicht aus hochbrechendem Material 7a einer Dicke t3 und metallischem Material 7b einer Dicke t1. Die zweiten Gitterstege 7 haben die Breite a. Die zweite Liniengitterstruktur 6 ist in der Ebene L2 so gegenüber der ersten Liniengitterstruktur 2 phasenverschoben, dass die zweiten Gitterstege 7 möglichst exakt (im Rahmen der Fertigungsgenauigkeit) über den ersten Gitterlücken 4 zu liegen kommen. Gleichzeitig liegen zweite Gitterlücken 8, die zwischen den zweiten Gitterstegen 7 bestehen, über den ersten Gitterstegen 3.
  • Die Dicke t2 + t4 der ersten Gitterstege 3 ist kleiner als die Höhe h, so dass kein zusammenhängender Film aus den Gitterstegen 3 und 7 gebildet ist. Die Höhe h stellt eine Modulationstiefe der Gitterstrukturen dar.
  • In der schematischen Schnittdarstellung der Fig. 1 ist die Breite b der ersten Gitterstege 3 gleich der Breite a der zweiten Gitterstege 7. Bezogen auf eine Periode d beträgt somit in jeder Liniengitterstruktur der Füllfaktor 50%. Dies ist jedoch nicht zwingend. Gemäß der Formel b + a = d kann eine beliebige Variation erfolgen.
  • Auch sind in der schematischen Schnittdarstellung der Fig. 1 die Dicken t2 = t4 und t1 = t3 sowie (t2+t4) = (t1+t3). Dies kommt einer einfacheren Herstellung zugute, ist jedoch nicht zwingend erforderlich.
  • Die Modulationstiefe h, d.h. der Höhenunterschied zwischen der ersten Liniengitterstruktur 2 und der zweiten Liniengitterstruktur 6 (entsprechend dem Abstand der Ebenen L1 und L2), ist größer ist als die Summe der Dicken der ersten Gitterstege 3 und der zweiten Gitterstege 7, so dass ein vertikaler Abstand mit dem Maß h - (t2+t4) zwischen den beiden Liniengitterstrukturen 2 und 6 gegeben ist. Die Gitterstruktur kann als eine Anordnung von zwei Drahtgittern betrachtet werden, die dasselbe Profil haben und sich im Abstand h - (t2+t4) voneinander befinden.
  • Die Gitterstege 3, 7 sind in allen Ausführungsformen von einer Doppelschicht aus einem hochbrechenden, dielektrischen oder halbmetallischen Material 3a, 7a und einem metallischen Material 3b, 7b gebildet. Das hochbrechende Material hat die Brechungszahl nHRI und ist von Dielektrika, nämlich einer dielektrischen Zwischenschicht 5 und einer dielektrischen Deckschicht 10, umgeben. In der Praxis unterscheiden sich die Brechzahlen dieser umgebenden Materialien meist kaum und sind annähernd n1. Die Brechzahl nHRI des hochbrechenden Materials liegt über der/ den des umgebenden Materials, z.B. um mindestens 0,3 absolut.
  • Das Sicherheitselement S der Fig. 1 reflektiert einfallende Strahlung E als reflektierte Strahlung R. Weiter wird ein Strahlungsanteil als transmittierte Strahlung T durchgelassen. Die Reflexions- und Transmissionseigenschaften hängen vom Einfallswinkel Θ ab, wie nachfolgend noch erläutert werden wird.
  • Die Herstellung des Sicherheitselementes S kann beispielsweise dadurch erfolgen, dass auf den Träger 1 zuerst die erste Liniengitterstruktur 2 und darauf die Zwischenschicht 5 aufgebracht wird. In die dabei nach oben abgebildeten Gitterlücken 4 kann dann die zweite Liniengitterstruktur mit den zweiten Gitterstegen 7 eingebracht werden. Eine Deckschicht 10 deckt das Sicherheitselement ab. Die Brechzahlen der Schichten 5 und 10 sowie des Trägers 1 sind in einigen Ausführungsformen im Wesentlichen gleich und können beispielsweise etwa n1 = 1,5, insbesondere 1,56 betragen.
  • Die Maße b, a und t1 bis t4 sind im Subwellenlängenbereich, d.h. kleiner als 300 nm. Die Modulationstiefe h beträgt bevorzugt zwischen 100 nm und 500 nm.
  • Es ist auch ein Herstellungsverfahren möglich, bei dem zuerst auf einer Oberseite des Trägers 1 ein Rechteckgitter hergestellt wird. Der Träger 1 wird also so strukturiert, dass Gräben der Breite a sich mit Stegen der Breite b abwechseln. Das strukturierte Substrat wird anschließend mit der gewünschten Beschichtung bedampft, so dass die ersten und zweiten Liniengitter und die ersten und zweiten Liniengitterstrukturen entstehen. Nach der Bedampfung wird schließlich die Struktur mit einer Deckschicht abgedeckt. Man erhält damit einen Schichtaufbau, bei dem die Ober- und Unterseite im Wesentlichen denselben Brechungsindex besitzen.
  • Das strukturierte Substrat kann auf verschiedene Arten erhalten werden. Eine Option ist die Reproduktion mit einem Master. Der Masterform kann z.B. nun in UV-Lack auf Folie, z.B. PET-Folie, repliziert werden. Man hat dann das Substrat 1 als dielektrisches Material, welches beispielsweise eine Brechzahl von 1,56 aufweist. Alternativ kommen auch Heißprägeverfahren infrage.
  • Der Master oder auch das Substrat selbst kann mithilfe einer e-Beam-Anlage, einem fokussierten Ionenstrahl oder durch Interferenzlithographie hergestellt werden, wobei die Struktur in einen Photolack geschrieben und anschließend entwickelt wird.
  • Die Struktur eines photolithographisch hergestellten Masters kann in einem Folgeschritt in ein Quarzsubstrat geätzt, werden, um möglichst senkrechte Flanken des Profils auszubilden. Der Quarzwafer dient dann als Vorform und kann, z.B. in Ormocer, umkopiert oder durch galvanische Abformung vervielfältigt werden. Ebenso ist eine direkte Abformung des photolithographisch hergestellten Originals in Ormocer bzw. in Nickel in einem galvanischen Verfahren möglich. Auch kann ein Motiv mit verschiedenen Gitterstrukturen in einem Nanoimprint-Verfahren ausgehend von einem homogenen Gittermaster zusammengesetzt werden.
  • Solche Herstellverfahren für Subwellenlängen-Gitterstrukturen und für Motive, bestehend aus unterschiedlichen Subwellenlängenstrukturen, sind dem Fachmann bekannt, z. B. aus der diesbezüglich vollumfänglich hier eingebundenen DE 102011115589 A1 .
  • Im Folgenden werden die optischen Eigenschaften des Sicherheitselementes exemplarisch für Aluminium und die hochbrechenden Materialien Zinksulfid (ZnS) und Titandioxid (TiO2) im sichtbaren Wellenlängenbereich diskutiert. Das umgebende Material ist Polymer mit Brechungsindex n=1,52. Ferner wird angenommen, dass die Profilgeometrie der Gitterstege rechteckig ist. In der Praxis vorkommende kleine Abweichungen von dieser idealen Rechteckform, wie z. B. eine Trapezform, haben keinen großen Einfluss auf die optische Erscheinung und führen zu ähnlichen Ergebnissen wie für Rechteckgitter. Fig. 2a und 2b zeigen die spektrale Reflexion (Fig. 2a) sowie die Transmission (Fig. 2b) für ein Gitter mit den Parametern d = 360 nm, h = 220 nm, b = 180 nm, und den Beschichtungen tAl = 30 nm und tZnS = 160 nm. Das einfallende Licht ist unpolarisiert.
  • Fig. 2a zeigt auf der y-Achse die Reflexion als Funktion der auf der x-Achse aufgetragenen Wellenlänge für verschiedene Einfallswinkel, nämlich 0°, 15° und 30°. Fig. 2b zeigt analog die Transmission. Der Einfallswinkel Θ ist in Fig. 1 definiert.
  • Die spektrale Reflexion zeigt für senkrechten Lichteinfall zwei ausgeprägte Dips bei 404 nm bzw. bei 672 nm, wobei sich der langwellige Dip als Peak im Transmissionsspektrum wiederfindet. Für zunehmende Einfallswinkel verschiebt sich dieser Peak in den langwelligen Bereich, und es treten weitere Peaks im Transmissionsspektrum auf, welche eine winkelabhängige Dispersion haben.
  • Die Figuren 3a und 3b betreffen den Einfluss der Modulationstiefe h auf das Transmissionsspektrum. Die Figur zeigt die Transmission als Funktion der Wellenlänge im Sichtbaren für ein Gitter mit den Beschichtungen tAl = 30 nm und tZnS = 140 nm für den senkrechten Lichtfall (Fig. 3a) und für den Einfallswinkel Θ = 30° (Fig. 3b). Die Modulationstiefe ist zwischen 180 nm und 240 nm variiert. Für den senkrechten Einfall sind drei Peaks erkennbar, wobei die zwei kurzwelligen Peaks durch die Variation der Modulationstiefe in ihrer Ausprägung deutlich beeinflusst werden. Die Intensität im blauen Peak steigt stark an und verschiebt sich ins Grüne, während die Intensität des Peaks bei der Wellenlänge 560 nm stark abnimmt. Für den Einfallswinkel Θ = 30° ist die Lage der Peaks im Sichtbaren nahezu unverändert, wenn die Modulationstiefe h variiert wird. Das Gitter hat die Parameter d = 360 nm, b = 180 nm und die Beschichtung tAl = 30 nm und tZnS = 140 nm, eingebettet in ein Dielektrikum mit n = 1,52 und Modulationstiefen h = 180 nm - 240 nm.
  • Die Figuren 4a und 4b beziehen sich auf den Einfluss des hochbrechenden Materials auf das Beugungsverhalten des Gitters. Die Figur zeigt die Transmissionsspektren eines Gitters mit den Parametern von Fig. 3, jedoch einer 140 nm dicken Beschichtung mit TiO2 anstelle von ZnS. Der Blauanteil im Spektrum ist hier deutlich höher, da TiO2 eine wesentlich geringere Absorption im Blauen hat. Außerdem ist die Transmission im Roten insgesamt höher. Die Resonanz ist in diesem Wellenlängenbereich für Θ = 30° schwächer ausgeprägt, was auch zu einer geringeren Lichtabsorption führt.
  • Zur Untersuchung der Farbeigenschaften dieser Sicherheitselemente im LCh-Farbraum wurden die Transmissions- bzw. Reflexionsspektren mit der Emissionskurve einer D65-Normlampe und der Empfindlichkeit des menschlichen Auges gefaltet und die Farbkoordinaten X, Y, Z errechnet. Die D65-Beleuchtung entspricht etwa Tageslicht. Die XYZ-Koordinaten wurden anschließend in die Farbwerte LCh umgerechnet. Diese Werte können direkt dem menschlichen Empfinden bei der Farbwahrnehmung eines Betrachters zugeordnet werden:
    • L*: Helligkeit,
    • C*: Buntheit (= Farbsättigung) und
    • h°: Farbton.
  • Fig. 5 zeigt die LCh-Farbdiagramme eines Sicherheitselements (links in Reflexion und rechts in Transmission) mit den Parametern d = 360 nm, h = 210 nm, b = 180 nm als Funktion der Dicke t3 = t4 der ZnS-Beschichtung 3a, 7a für die Einfallswinkel Θ = 0° und 30°. Hier zeigt sich, dass eine ZnS-Schichtdicke von ca. 160 nm zu einer besonders starken Änderung der Buntheit in Transmission beim Verkippen, d.h. Ändern des Winkels Θ, führt. Die Änderung des Farbtons wird dagegen für zunehmende Dicken größer.
  • Die Werte von Fig. 5 wurden in x, y Farbkoordinaten umgerechnet und sind in Fig. 6a, b im CIE-1931-Farbraum dargestellt. Der Weißpunkt ist mit "WP" gekennzeichnet. Das Dreieck begrenzt den Farbbereich, der üblicherweise mit Bildschirmen dargestellt werden kann. Im Diagramm sind die Farbkoordinaten als Trajektorien dargestellt. Der Endpunkt der Dicke tzns = 200 nm ist mit einem punktförmigen Symbol gekennzeichnet. In Reflexion ändert sich der Farbton durch die Variation der Schichtdicke von ZnS. Beim Kippen von 0° auf 30° kommt es zu einer Farbänderung zwischen Gelb und Rot. In Transmission hingegen wird ein relativ großer Bereich des Farbraums durch die Variation der ZnS-Dicke abgedeckt. Während ein Aluminiumgitter gemäß DE 102011115589 A1 ohne zusätzliche ZnS-Beschichtung einen Farbkippeffekt von Gelb nach Magenta zeigen würde, erscheinen bei einem Gitter mit einer 180 nm ZnS-Beschichtung diese Farben nahezu in umgekehrter Reihenfolge.
  • Die Farbeigenschaften der Reflexion sind in Fig. 7a und das Farbdiagramm der Transmission ist in Fig. 7b dargestellt für ein Sicherheitselement mit den Parametern d = 360 nm, h = 220 nm, b = 180 nm und den Schichtdicken tAl = 30 nm und tZnS = 160 nm, eingebettet in ein Dielektrikum mit n = 1,52. Fig. 7a, b zeigt die CIE-1931-Farbdiagramme in Reflexion (Fig. 7a) und in Transmission (Fig. 7b), in welche die Farbkoordination als Funktion des Einfallswinkels Θ von 0° bis 30° eingezeichnet ist. Hierbei wurde die Beleuchtung des Sicherheitselementes mit der Schichtreihenfolge von Fig. 1 sowie ein Sicherheitselement mit umgedrehter Schichtreihenfolge, äquivalent mit der Beleuchtung von der Rückseite untersucht. Die Trajektorie der Beleuchtung der Vorderseite ist mit "V", die zugehörige Trajektorie der rückseitigen Beleuchtung ist mir "R" gekennzeichnet. Es sei darauf hingewiesen, dass die Transmission für diese beiden Fälle aufgrund der Reziprozität des Lichtweges identisch ist. In Transmission tritt ein ausgeprägter Farbkippeffekt von Blau nach Grün auf. In der Reflexion ist die Farbänderung wesentlich schwächer. Jedoch ist die reflektierte Farbe der Vorderseite deutlich von der der Rückseite unterscheidbar. Dieser Effekt erhöht zusätzlich die Fälschungssicherheit beim Einsatz solcher Gitterstrukturen als Sicherheitsmerkmal.
  • Fig. 8a und 8b zeigen die x, y Farbkoordinaten eines Sicherheitselements ähnlich zu dem der Fig. 7a und 7b, jedoch mit anderen Gitterparametern. Die Daten sind ebenfalls in Farbdiagrammen für Reflexion und Transmission als Funktion des Einfallswinkels Θ = 0°- 30° dargestellt. Im Gegensatz zu den Fig. 7a und 7b beträgt hier die Gitterperiode d = 320 nm. Das Verhältnis b/d ist ebenfalls 0,5. Die Schichtdicken sind tAl = 30 nm und tZnS = 120 nm. Der grüne Farbton in Reflexion ändert sich beim Kippen kaum. Es variiert in erster Linie die Farbsättigung. In Transmission hingegen ändert sich der Farbton von Rot zu Blau bei hoher Farbsättigung. Hier zeigt sich im Vergleich mit dem Sicherheitselement der Fig. 7, dass durch die Veränderung der Gitterparameter, insbesondere der Dicke der hochbrechenden Schicht sowie der Gitterperiode, die Kippfarbe in Transmission gewählt werden kann.
  • Aufgrund der Tatsache, dass keine Farbänderung beim Kippen senkrecht zur Einfallsebene auftritt, kann ein Sicherheitsmerkmal so grafisch ausgestaltet werden, dass ein Motiv 15 bei senkrechter Betrachtung nicht zu sehen ist und es erst beim Kippen erscheint. Dies kann so erfolgen, indem zwei Gitterbereiche 14, 15 mit demselben Gitterprofil um 90° verdreht zueinander angeordnet sind. Diese Anordnung ist in Fig. 9a und b gezeigt.
  • Die Gitterlinien des den Hintergrund bildenden Bereichs 14 verlaufen senkrecht, die Gitterlinien im das Motiv bildenden Bereich 15 dagegen horizontal. Wenn nun das Sicherheitselement um die horizontale Achse gekippt wird, erscheint das Motiv. Es sind auch weitere Orientierungen von Bereichen denkbar. Durch fein abgestuft orientierte Bereiche können z.B. auch Laufeffekte in Transmission erzeugt werden. Hierzu wird exemplarisch auf die DE 102011115589 A1 verwiesen. Weiter ist es auch möglich, Motive durch Bereiche mit unterschiedlichen Profilen, z. B. Perioden der Gitterstruktur, zu gestalten.
  • Weiter kann die metallische Schicht bzw. die hochbrechende Schicht nicht vollflächig, sondern nur in bestimmten Gitterbereichen ausgebildet sein. Figuren 10a und b zeigen ein Motiv eines Schmetterlings und der Zahl "12", wobei die quadratische Fläche um die Zahl "12" keine zusätzliche hochbrechende Beschichtung enthält (Bereich 16 in Fig. 10b). Bei senkrechter Betrachtung sind die Motive Schmetterling und die Zahl "25" nicht zu sehen, jedoch erscheinen die Bereiche 16 und 17 in unterschiedlichen Farben. Beim Kippen erscheint zusätzlich das Motiv.
  • Das Sicherheitselement kann als Durchsichtsfenster von Banknoten dienen. Es kann auch teilweise farblich überdruckt sein. Ein oder beide Materialien der Doppelschicht können auch teilweise, z.B. durch Laserbestrahlung mit ultrakurzen Pulsen, entfernt sein. Weiter ist eine Kombination mit hochbrechenden transparenten Hologrammen möglich. Solche Hologramme können auch als Reflexionsmerkmale wirken. Ein Teil des Sicherheitselements S kann sich auf einem absorbierenden Untergrund befinden, so dass dieser Teil nur als reflektierendes Merkmal dient und einen Kontrast zu dem anderen Teil des Sicherheitselements S bildet, der im Bereich des Durchsichtsfensters liegt. Das Sicherheitselement kann insbesondere als Durchsichtsfenster von Banknoten oder anderen Dokumenten dienen. Es kann auch teilweise farblich überdruckt sein bzw. die Gitterbereiche können bereichsweise demetallisiert sein oder ohne Liniengitter ausgestaltet werden, so dass ein solcher Bereich vollständig metallisiert ist. Es sind auch Kombinationen mit diffraktiven Gitterstrukturen, wie Hologrammen, denkbar.
  • Bezugszeichenliste
  • 1
    Träger bzw. Substrat
    2
    erste Liniengitterstruktur
    3
    erster Gittersteg
    3a
    hochbrechendes Material
    3b
    Metall
    4
    erste Gitterlücke
    5
    Zwischenschicht
    6
    zweite Liniengitterstruktur
    7
    zweiter Gittersteg
    7a
    hochbrechendes Material
    7b
    Metall
    8
    zweite Gitterlücke
    10
    Deckschicht
    14-17
    Bereich
    h
    Modulationstiefe bzw. Höhe
    t1, t2, t3, t4
    Beschichtungsdicke
    a, b
    Steg- bzw. Lückenbreite
    d
    Periode
    S
    Sicherheitselement
    L1, L2
    Ebene
    E
    einfallende Strahlung
    R
    reflektierte Strahlung
    T
    transmittierte Strahlung
    Θ
    Einfallswinkel

Claims (9)

  1. Sicherheitselement zur Herstellung von Wertdokumenten, wie Banknoten, Schecks oder dergleichen, das aufweist:
    - ein dielektrisches Substrat (1, 12, 10),
    - eine in das Substrat (1, 12, 10) eingebettete, erste periodische Liniengitterstruktur (2) aus mehreren längs einer Längsrichtung verlaufenden und in einer ersten Ebene (L1) angeordneten ersten Gitterstegen (3) mit dazwischenliegenden ersten Gitterlücken (4) und
    - eine in das Substrat (1, 12, 10) eingebettete, zweite Liniengitterstruktur (6) gleicher Periode (d) aus längs der Längsrichtung verlaufenden zweiten Gitterstegen (7) mit dazwischenliegenden zweiten Gitterlücken (8),
    - wobei sich die zweite Liniengitterstruktur (6) bezogen auf die erste Ebene (L1) über der ersten Liniengitterstruktur (2) in einer parallelen zweiten Ebene (L2) befindet,
    - wobei die zweite Liniengitterstruktur (6) zur ersten Liniengitterstruktur (2) invertiert so ausgebildet ist, dass in Draufsicht auf die erste Ebene (L1) die zweiten Gitterstege (7) über den ersten Gitterlücken (4) und die zweite Gitterlücken (8) über den ersten Gitterstegen (3) liegen, und
    - das Sicherheitselement (S) in Transmissionsbetrachtung (T) einen Farbeffekt erzeugt,
    dadurch gekennzeichnet, dass
    - die Gitterstege (3) der ersten Liniengitterstruktur (2) und die Gitterstege (7) der zweiten Liniengitterstruktur (6) jeweils aus einer Doppelschicht, aufgebaut aus einer Schicht aus hochbrechendem Material (3a, 7a) und einer Schicht aus metallischem Material (3b, 7b), gebildet sind.
  2. Sicherheitselement nach Anspruch 1, wobei das hochbrechende Material (3a, 7a) eine Brechzahl hat, die um mindestens 0,3 höher ist, als die des umgebenden Substrats (1, 12, 10).
  3. Sicherheitselement nach einem der obigen Ansprüche, wobei die Periode (d) von 200 bis 700 nm beträgt.
  4. Sicherheitselement nach einem der obigen Ansprüche, wobei das hochbrechende Material (3a, 7a) ausgewählt ist aus: Si, Ge, C, ZnS, ZnO, ZnSe, SiNx, SiOx, Cr2O3, Nb2O5, Ta2O5, TixOx und ZrO2, und wobei das metallische Material (3b, 7b) ausgewählt ist aus: Al, Ag, Au, Cu, Cr und Legierungen daraus.
  5. Sicherheitselement nach einem der obigen Ansprüche, wobei der Abstand (h) zwischen den Ebenen (L1, L2) von 100 nm bis 500 nm beträgt.
  6. Sicherheitselement nach einem der obigen Ansprüche, wobei das Sicherheitselement (S) in Draufsicht auf die Ebene (L1) mindestens zwei Bereiche (14, 15) aufweist, deren Perioden (d) sich unterscheiden.
  7. Sicherheitselement nach einem der obigen Ansprüche, wobei das Sicherheitselement in Draufsicht auf die Ebene (L1) mindestens zwei Bereiche (14, 15) aufweist, deren Richtungen der Gitterstege (3, 7) sich unterscheiden, bevorzugt um 90 Grad.
  8. Sicherheitselement nach einem der obigen Ansprüche, das als Durchsichtselement, insbesondere als Fensterelement für ein Wertdokument ausgebildet ist.
  9. Wertdokument mit einem Sicherheitselement (S) nach einem der obigen Ansprüche, wobei das Wertdokument ein Fenster oder einen zur Transmissionsbetrachtung vorgesehenen Bereich aufweist, das/ den das Sicherheitselement (S) überdeckt.
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