WO2012105786A2 - 기판 지지용 보트 및 이를 사용한 지지유닛 - Google Patents

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WO2012105786A2
WO2012105786A2 PCT/KR2012/000715 KR2012000715W WO2012105786A2 WO 2012105786 A2 WO2012105786 A2 WO 2012105786A2 KR 2012000715 W KR2012000715 W KR 2012000715W WO 2012105786 A2 WO2012105786 A2 WO 2012105786A2
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vertical support
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강호영
박경완
조병호
박주영
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주식회사 테라세미콘
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    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/67303—Vertical boat type carrier whereby the substrates are horizontally supported, e.g. comprising rod-shaped elements
    • H01L21/67309—Vertical boat type carrier whereby the substrates are horizontally supported, e.g. comprising rod-shaped elements characterized by the substrate support
    • H—ELECTRICITY
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Definitions

  • Substrate processing apparatuses are used in the manufacture of flat panel displays, and are roughly classified into vapor deposition apparatuses and annealing apparatuses.
  • the vapor deposition apparatus is a device for forming a transparent conductive layer, an insulating layer, a metal layer, or a silicon layer, which constitute the core of a flat panel display.
  • There are physical vapor deposition apparatuses such as apparatuses and sputtering.
  • a chamber is provided to provide a heat treatment space, and support means for supporting each of a plurality of substrates loaded into the chamber is essentially used.
  • the conventional supporting means supports the edge part of the board
  • the present invention has been made to solve the problems of the prior art as described above, the object of the present invention is to support the substrate that can prevent the substrate from being deformed by its own weight during the processing of the substrate by uniformly supporting the entire surface of the substrate To provide a boat and a support unit using the same.
  • a boat for supporting a substrate according to the present invention for achieving the above object is a boat for supporting a substrate that is inserted into the chamber of the substrate processing apparatus for processing, a pair of first main bar facing each other; A pair of second main bars respectively coupled to an upper surface of the first main bar, parallel to the first main bar, facing each other, and the edge portion side of the substrate is in contact with each other; A plurality of first connecting bars interconnecting the pair of first main bars; A plurality of spaces provided at the first main bar and the second main bar and partitioned into a plurality of spaces formed by the second main bar so that a plurality of substrates are partitioned and supported in a space formed by the second main bar. And a plurality of compartment-supporting pins in contact with the edge side of the substrate to prevent the plurality of substrates from flowing.
  • the support unit for supporting the substrate according to the present invention for achieving the above object is a support unit for supporting the substrate to be processed into the chamber of the substrate processing apparatus, the pedestal in contact with the bottom surface of the chamber,
  • the chamber has a support extending vertically from one end, a plurality of support ribs formed horizontally extending from one side of the support and formed in a vertically stacked form with a mutual gap, and the pair of opposing pairs forming a set Supporters respectively installed on the front side and the rear side of the supporter;
  • a cross support bar having one end side and the other end side supported on the support ribs of the supporter in pairs and opposing each other;
  • One end side and the other end side are respectively supported by the cross support bar located on the front side of the chamber and the cross support bar on which the rear side of the chamber is located, and includes a boat that is partitioned and supported by a plurality of the substrates. .
  • the substrate support boat and the support unit using the same according to the present invention uniformly support the entire surface of the substrate, so that the substrate is prevented from sagging due to its own weight when the substrate is processed. Therefore, even if the substrate is processed, there is no change in the characteristics of the substrate, thereby improving the reliability of the substrate processing step.
  • FIG. 1 is a perspective view of a substrate processing apparatus having a support unit for supporting a substrate according to an embodiment of the present invention.
  • Figure 2 is an enlarged view of the support unit shown in FIG.
  • FIG. 4 is an enlarged view of a portion “B” of FIG. 3.
  • FIG. 5 is an enlarged view of the boat shown in FIG.
  • FIG. 7 is an enlarged view of a portion “C” of FIG. 5.
  • FIG. 9 is a perspective view of a boat according to another embodiment of the present invention.
  • FIG 10 and 11 are views showing various shapes of the first vertical support pin according to other embodiments of the present invention.
  • FIG. 1 is a perspective view of a substrate processing apparatus provided with a substrate support support unit according to an embodiment of the present invention.
  • the substrate processing apparatus 100 includes a main body 110 formed in an approximately rectangular parallelepiped shape to form an appearance, and a chamber 110a in which the substrate 50 is processed is formed inside the main body 110.
  • the main body 110 may be formed in various shapes according to the shape of the substrate 50 as well as the rectangular parallelepiped shape, and the chamber 110a is provided as a closed space.
  • the treatment of the substrate 50 is a process of heating and cooling the substrate 50, all processes for depositing a predetermined film on the substrate 50, annealing the predetermined film deposited on the substrate 50, It should be understood as a concept including all heat treatment processes for crystallization or phase change.
  • the material of the substrate 50 is not particularly limited and may be formed of a material such as glass, plastic, polymer, silicon wafer, stainless steel, or the like.
  • a support unit 120 for supporting the substrate 50, a heater (not shown) for heating the substrate 50, and a cooling tube (not shown) for cooling the substrate 50 are provided inside the main body 110. Is installed.
  • the supporter 130 is a support 131 which is in contact with the bottom surface of the main body 110 forming the chamber 110a, a support 133 which extends vertically from one end of the support 131, and one support 133. It has a plurality of support ribs 135 extending horizontally from the side and formed in a vertically stacked shape with a space between each other.
  • the left end side and the right end side of the cross support bar 140 are fixed to and supported by the support ribs 135 of the supporter 130 forming the set.
  • the cross support bars 140 respectively positioned on the front side and the rear side of the chamber 110a and supported on the support ribs 135 of the supporters 130 constituting the sets are arranged up and down, respectively, to be parallel to each other.
  • each of the cross support bars 140 and the rear of the chamber 110a, which are positioned on the front side of the chamber 110a and supported by the support ribs 135 of the supporters 130, which form a set Naturally, each of the cross support bars 140 supported by the support ribs 135 of the supporter 130 is positioned at the same height.
  • the support ribs 135 are formed in a shape corresponding to the cross support bars 140 so that the cross support bars 140 can be stably supported by the supporter 130, and end portions of the cross support bars 140 are inserted.
  • Supported settling groove 135a is formed.
  • a locking groove 135b is formed in a portion of the support rib 135 in which the settling groove 135a is formed, and is perpendicular to the longitudinal direction of the settling groove 135a, and a locking groove is formed at the outer peripheral surface of the end side of the cross support bar 140.
  • Engaging ring 141 is inserted into the (135b) is formed, respectively.
  • FIG. 2 shows that the cross support bar 140 is also supported on the pedestal 131.
  • the settling groove 135a and the locking groove formed on the top surface of the support rib 135 are also formed on the top surface of the pedestal 131.
  • 135b) may be formed identically.
  • the boat 150 on which the substrate 50 is mounted is supported by the cross support bar 140 positioned at the front side of the chamber 110a and the cross support bar 140 positioned at the rear side.
  • the boat 150 will be described with reference to FIGS. 2 and 5 to 7.
  • 5 is an enlarged view of the boat shown in FIG. 2
  • FIG. 6 is an enlarged view of portion “A” of FIG. 2
  • FIG. 7 is an enlarged view of portion “C” of FIG. 5.
  • the boat 150 includes a first main bar 161, a second main bar 171, a first connection bar 181, and a second connection bar 191.
  • the first main bar 161 is provided in a pair of opposed to each other with a gap, the front end side is supported by any one cross support bar 140 located on the front side of the chamber 110a (see FIG. 1), respectively. It is installed, the rear end side is supported on each other cross support bar 140 located on the rear side of the chamber (110a).
  • an arc fixed to the front support part of the first main bar 161 by the cross support bar 140 located at the front side of the chamber 110a is fixed.
  • the mold support piece 163 is provided.
  • the arc support piece 163 is formed in a semicircle shape, which is a shape corresponding to the outer shape of the cross support bar 140.
  • the first connection bar 181 which will be described later, coupled to the rear end side of the first main bar 161, is provided with a bar-shaped straight support piece 183 mounted on the cross support bar 140.
  • the straight support piece 183 is disposed perpendicular to the cross support bar 140 and mounted on the cross support bar 140.
  • the boat 150 Since the arc support piece 163 is inserted and supported by the cross support bar 140 and the straight support piece 183 is supported by being mounted on the cross support bar 140, the boat 150 is firmly supported by the cross support bar 140. Mounted on and supported. In addition, since the arc-shaped support piece 163 is formed in a semi-circular shape and inserted and supported by the cross support bar 140, and the straight support piece 183 is formed into a bar shape and mounted on the cross support bar 140, the boat ( The boat 150 is separated from the cross support bar 140 only by lifting 150 upward. Thus, the boat 150 can be easily separated from the cross support bar 140.
  • the cross support bar 140 is provided with a plurality of stoppers 143 (see FIG. 6) for preventing the boat 150 from flowing along the cross support bar 140 on the cross support bar 140.
  • the stopper 143 is installed on the cross support bar 140 located at the front side of the chamber 110a to contact the arc support piece 163. Naturally, the number of stoppers 143 corresponds to the number of arc-shaped support pieces 163.
  • the second main bars 171 are provided in pairs that face each other and are coupled to the top surfaces of the first main bars 161, respectively, and are parallel to the first main bars 161. Of the four side surfaces of the substrate 50, the edge portions of the one side surface and the other side that face each other are contacted and supported by the second main bar 171.
  • the first main bar 161 and the second main bar 171 are coupled to each other via a plurality of connecting protrusions 173 and have a vertical space therebetween.
  • a plurality of horizontal support pins 175 are formed on the second main bar 171 so as to be substantially orthogonal to the second main bar 171 to support the edge portion side of the substrate 50.
  • the substrate support boat and the support unit using the same according to the present embodiment are supported by a plurality of substrates 50 partitioned on one boat 150.
  • the second main bar 171 in the first main bar 161 and the second main bar 171 so that the plurality of substrates 50 are partitioned and supported in the space formed by the second main bar 171.
  • a plurality of partition-supporting pins 165 and 177 are respectively provided for partitioning a plurality of spaces formed by the plurality of substrates and contacting the edge portions of the plurality of substrates 50 to support the plurality of substrates 50, respectively. Since the partition-supporting pins 165, 177 contact the edges of the substrate 50 to support the substrate 50, the substrate 50 is prevented from flowing on the second main bar 171.
  • the reason for arranging the first connecting bar 181 lower than the first main bar 161 is that the substrate 50 and the first connecting bar when the substrate 50 is mounted on the second main bar 171 and processed. This is to allow a sufficient gap to be formed between the 181 and to smoothly flow the processing gas of the substrate introduced during the processing of the substrate 50.
  • a plurality of first vertical support pins 185 on which the substrate 50 is mounted is supported by the first connection bar 181. Since a plurality of first vertical support pins 185 are provided in the first connection bar 181 at predetermined intervals, the entire surface of the substrate 50 is uniformly supported. Thus, the substrate 50 is prevented from sagging due to its own weight when the substrate 50 is processed.
  • the second connection bar 191 interconnects the first connection bar 181 adjacent to each other.
  • the second connection bar 191 is provided with a plurality of second vertical support pins 193 supporting the substrate 50.
  • the second vertical support pin 193 may also be formed in the same configuration as the first vertical support pin 185.
  • engaging hooks 167 into which arms (not shown) of the robot are inserted, are provided.
  • the arm of the robot is inserted into the hook hook 167 to lift the hook hook 167, the boat 150 is lifted.
  • two boats 150 are supported on the cross support bar 140 (see FIG. 2), and two boats 50 are supported on each boat 150.
  • one or more boats 150 may be supported by the cross support bar 140, and one or more substrates 50 may be supported by each boat 150.
  • the substrate support boat and the support unit using the same according to the present embodiment are formed by the plurality of horizontal support pins 175, the plurality of first vertical support pins 185, and the second vertical support pins 193. Since the entire surface is uniformly supported, during processing of the substrate 50, the substrate 50 is prevented from sagging due to its own weight.
  • FIG. 9 is a perspective view of a boat according to another embodiment of the present invention, which will be described.
  • FIGS. 10 and 11 are views illustrating various shapes of the first vertical support pin according to other embodiments of the present invention.

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Abstract

기판 지지용 보트 및 이를 사용한 지지유닛이 개시된다. 본 발명에 따른 기판 지지용 보트 및 지지유닛은 기판의 전체면이 균일하게 지지되므로, 기판의 처리시 기판이 자중에 의하여 처지는 것이 방지된다. 그러므로, 기판을 처리하여도, 기판의 특성 변화가 없으므로, 기판의 처리공정의 신뢰성이 향상되는 효과가 있다.

Description

기판 지지용 보트 및 이를 사용한 지지유닛
본 발명은 기판의 전체면을 균일하게 지지하여 기판의 처리 도중에 기판이 자중에 의하여 변형되는 것을 방지할 수 있는 기판 지지용 보트 및 이를 사용한 지지유닛에 관한 것이다.
기판 처리장치는, 평판 디스플레이의 제조시 사용되며, 증착(Vapor Deposition)장치와 어닐링(Annealing)장치로 대별된다.
증착장치는 평판 디스플레이의 핵심 구성을 이루는 투명 전도층, 절연층, 금속층 또는 실리콘층을 형성하는 장치로써, LPCVD(Low Pressure Chemical Vapor Deposition) 또는 PECVD(Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition) 등과 같은 화학기상 증착장치와 스퍼터링(Sputtering) 등과 같은 물리기상 증착장치가 있다.
그리고, 어닐링장치는 기판에 막을 증착한 후, 증착된 막의 특성을 향상시키는 장치로써, 증착된 막을 결정화 또는 상 변화시키는 열처리장치이다.
일반적으로, 열처리장치는 하나의 기판을 열처리하는 매엽식(Single Substrate Type)과 복수의 기판을 열처리하는 배치식(Batch Type)이 있다. 매엽식 열처리장치는 구성이 간단한 이점이 있으나 생산성이 떨어지는 단점이 있어, 대량 생산에는 배치식 열처리장치가 많이 사용된다.
배치식 열처리장치에는 열처리 공간을 제공하는 챔버가 형성되고, 챔버에는 챔버로 로딩된 복수의 기판을 각각 지지하는 지지수단이 필수적으로 사용된다.
그런데, 종래의 지지수단은 기판의 테두리부측을 받쳐서 지지하므로, 기판이 열처리 될 때, 기판의 자중에 의하여 기판이 휘어서 변형될 우려가 있다. 그러면, 평판 디스플레이의 특성이 저하되므로, 기판 처리공정의 신뢰성이 저하되는 문제점이 있었다.
본 발명은 상기와 같은 종래기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 기판의 전체면을 균일하게 지지하여 기판의 처리 도중 기판이 자중에 의하여 변형되는 것을 방지할 수 있는 기판 지지용 보트 및 이를 사용한 지지유닛을 제공함에 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 기판 지지용 보트는, 기판 처리장치의 챔버에 투입되어 처리되는 기판을 지지하는 보트로서, 상호 대향하는 한쌍의 제 1 메인바; 상기 제 1 메인바의 상면에 각각 결합되어 상기 제 1 메인바와 각각 평행을 이루고, 상호 대향하며, 상기 기판의 테두리부측이 접촉 지지되는 한쌍의 제 2 메인바; 한쌍의 상기 제 1 메인바를 상호 연결하는 복수의 제 1 연결바; 상기 제 1 메인바 및 상기 제 2 메인바에 설치되고, 상기 제 2 메인바에 의하여 형성되는 공간에 복수의 기판이 구획되어 지지되도록 상기 제 2 메인바에 의하여 형성되는 공간을 복수개로 구획함과 동시에 복수의 상기 기판의 모서리부측과 접촉하여 복수의 상기 기판이 유동하는 것을 방지하는 복수의 구획-지지핀을 포함한다.
또한, 상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 기판 지지용 지지유닛은, 기판 처리장치의 챔버에 투입되어 처리되는 기판을 지지하는 지지유닛으로서, 상기 챔버의 바닥면과 접촉되는 받침대, 상기 받침대의 일단부에서 수직으로 연장 형성된 지지대, 상기 지지대의 일측면에서 수평으로 연장 형성되며 상호 간격을 가지면서 상하로 적층된 형태로 형성된 복수의 지지리브를 각각 가지고, 상호 대향하는 한쌍이 세트를 이루면서 상기 챔버의 전면측 및 후면측에 각각 설치된 서포터; 쌍을 이루면서 상호 대향하는 상기 서포터의 상기 지지리브에 일단부측 및 타단부측이 각각 지지된 크로스 지지바; 상기 챔버의 전면측에 위치된 상기 크로스 지지바 및 상기 챔버의 후면측이 위치된 상기 크로스 지지바에 일단부측 및 타단부측이 각각 지지되며, 복수의 상기 기판의 구획되어 탑재 지지되는 보트를 포함한다.
본 발명에 따른 기판 지지용 보트 및 이를 사용한 지지유닛은 기판의 전체면을 균일하게 지지하므로, 기판의 처리시, 기판이 자중에 의하여 처지는 것이 방지된다. 그러므로, 기판을 처리하여도, 기판의 특성에 변화가 없으므로, 기판의 처리공정의 신뢰성이 향상되는 효과가 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 지지용 지지유닛이 설치된 기판 처리장치의 사시도.
도 2는 도 1에 도시된 지지유닛의 확대도.
도 3은 도 2에 도시된 서포터의 확대도.
도 4는 도 3의 "B"부 확대도.
도 5는 도 2에 도시된 보트의 확대도.
도 6은 도 2의 "A"부 확대도.
도 7은 도 5의 "C"부 확대도.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 보트의 사용 상태를 보인 도.
도 9는 본 발명의 다른 실시예에 따른 보트의 사시도.
도 10 및 도 11은 본 발명의 다른 실시예들에 따른 제 1 수직지지핀의 다양한 형상을 보인 도.
후술하는 본 발명에 대한 상세한 설명은, 본 발명이 실시될 수 있는 특정 실시예를 예시로서 도시하는 첨부 도면을 참조한다. 이들 실시예는 당업자가 본 발명을 실시할 수 있기에 충분하도록 상세히 설명된다. 본 발명의 다양한 실시예는 서로 다르지만 상호 배타적일 필요는 없음이 이해되어야 한다. 예를 들어, 여기에 기재되어 있는 특정 형상, 구조 및 특성은 일 실시예에 관련하여 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 다른 실시예로 구현될 수 있다. 또한, 각각의 개시된 실시예 내의 개별 구성요소의 위치 또는 배치는 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 변경될 수 있음이 이해되어야 한다. 따라서, 후술하는 상세한 설명은 한정적인 의미로서 취하려는 것이 아니며, 본 발명의 범위는, 적절하게 설명된다면, 그 청구항들이 주장하는 것과 균등한 모든 범위와 더불어 첨부된 청구항에 의해서만 한정된다. 도면에서 유사한 참조부호는 여러 측면에 걸쳐서 동일하거나 유사한 기능을 지칭하며, 길이 및 면적, 두께 등과 그 형태는 편의를 위하여 과장되어 표현될 수도 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들에 따른 기판 지지용 보트 및 이를 사용한 지지유닛을 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 지지용 지지유닛이 설치된 기판 처리장치의 사시도이다.
도시된 바와 같이, 기판 처리장치(100)는 대략 직육면체 형상으로 형성되어 외관을 이루는 본체(110)를 포함하고, 본체(110)의 내부에는 기판(50)이 처리되는 챔버(110a)가 형성된다. 본체(110)는 직육면체 형상뿐만 아니라 기판(50)의 형상에 따라 다양한 형상으로 형성될 수 있고, 챔버(110a)는 밀폐된 공간으로 마련된다.
이하, 기판(50)의 처리라 함은 기판(50)을 가열 및 냉각하는 공정, 기판(50) 상에 소정의 막을 증착하기 위한 모든 공정, 기판(50) 상에 증착된 소정의 막을 어닐링, 결정화 또는 상변화하기 위한 모든 열처리 공정 등을 포함하는 개념으로 이해되어야 한다. 그리고, 기판(50)의 재질은 특별히 제한되지 않으며 글래스, 플라스틱, 폴리머, 실리콘 웨이퍼 또는 스테인레스 스틸 등과 같은 재질로 형성될 수 있다.
본체(110)의 전면은 개방되어 도어(113)가 설치되는데, 도어(113)는 챔버(110a)를 개폐한다. 도어(113)를 열어 챔버(110a)를 개방한 상태에서, 로봇의 아암(미도시) 등으로 기판(50)을 지지하여 기판(50)을 챔버(110a)로 로딩한다. 그리고, 도어(113)를 닫아 챔버(110a)를 폐쇄한 상태에서, 기판(50)을 처리한다.
본체(110)의 내부에는 기판(50)을 지지하는 지지유닛(120), 기판(50)을 가열하기 위한 히터(미도시) 및 기판(50)을 냉각시키기 위한 냉각관(미도시) 등이 설치된다.
본 실시예에 따른 지지유닛(120)에 대하여 도 1 내지 도 4를 참조하여 설명한다. 도 2는 도 1에 도시된 지지유닛의 확대도이고, 도 3은 도 2에 도시된 서포터의 확대도이며, 도 4는 도 3의 "B"부 확대도이다.
도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 지지유닛(120)은 서포터(130), 크로스 지지바(140) 및 보트(150)를 포함한다.
서포터(130)는 챔버(110a)를 형성하는 본체(110)의 바닥면에 접촉되는 받침대(131), 받침대(131)의 일단부에서 수직으로 연장 형성된 지지대(133), 지지대(133)의 일측면에서 수평으로 연장 형성되며 상호 간격을 가지면서 상하로 적층된 형태로 형성된 복수의 지지리브(135)를 가진다.
서포터(130)는 상호 대향하는 한쌍으로 마련되어 세트를 이루며, 세트를 이루는 서포터(130)는 본체(110)의 전면측 양모서리부 및 후면측 양모서리부에 각각 설치된다. 그리고, 세트를 이루는 서포터(130)의 지지리브(135)는 상호 대향한다.
도 2에는 2 세트의 서포터(130)가 배치된 것을 보이며, 상호 인접하는 각각의 서포터(130)를 상호 연결한 가상의 선에 의하여 이루어지는 형상은 대략 직사각형을 이룬다. 즉, 각 서포터(130)는 직사각형의 꼭지점 부위에 위치하며, 각 서포터(130)에 의하여 이루어지는 형상은 기판(50)의 형상과 대략 대응된다.
세트를 이루면서 상호 대향하는 서포터(130) 사이의 거리 및 세트를 이루는 서포터(130) 사이의 거리는 기판(50)의 크기에 따라 적절하게 조절할 수 있다.
세트를 이루는 서포터(130)의 지지리브(135)에는 크로스 지지바(140)의 좌단부측 및 우단부측이 각각 고정되어 지지된다. 그리고, 챔버(110a)의 전면측 및 후면측에 위치되어 각각 세트를 이루는 서포터(130)의 지지리브(135)에 각각 지지된 크로스 지지바(140)는 각각 상하로 배치되어 상호 평행을 이룸은 당연하다. 또한, 챔버(110a)의 전면측에 위치되어 세트를 이루는 서포터(130)의 지지리브(135)에 각각 지지된 각각의 크로스 지지바(140)와 챔버(110a)의 후면측에 위치되어 세트를 이루는 서포터(130)의 지지리브(135)에 각각 지지된 각각의 크로스 지지바(140)는 동일 높이에 위치됨은 당연하다.
크로스 지지바(140)가 서포터(130)에 안정되게 지지될 수 있도록, 지지리브(135)에는 크로스 지지바(140)와 대응되는 형상으로 형성되며, 크로스 지지바(140)의 단부측이 삽입 지지되는 안치홈(135a)이 형성된다. 그리고, 안치홈(135a)이 형성된 지지리브(135)의 부위에는 안치홈(135a)의 길이방향과 수직으로 걸림홈(135b)이 형성되고, 크로스 지지바(140)의 단부측 외주면에는 걸림홈(135b)에 삽입되어 걸리는 걸림링(141)이 각각 형성된다.
안치홈(135a)에 크로스 지지바(140)가 삽입 지지되므로, 크로스 지지바(140)가 지지리브(135) 상에서 전후방향으로 유동하는 것이 방지된다. 그리고, 안치홈(135a)에 수직하는 걸림홈(135b) 및 걸림링(141)에 의하여 크로스 지지바(140)가 지지리브(135) 상에서 좌우방향으로 유동하는 것이 방지된다.
도 2에는 크로스 지지바(140)가 받침대(131)에도 지지된 것이 도시되어 있으며, 이 경우에는 받침대(131)의 상면에도 지지리브(135)의 상면에 형성된 안치홈(135a) 및 걸림홈(135b)이 동일하게 형성될 수 있다.
챔버(110a)의 전면측에 위치된 크로스 지지바(140)와 후면측에 위치된 크로스 지지바(140)에는 기판(50)이 탑재 지지되는 보트(150)가 탑재 지지된다. 보트(150)에 대하여 도 2, 도 5 내지 도 7을 참조하여 설명한다. 도 5는 도 2에 도시된 보트의 확대도이고, 도 6은 도 2의 "A"부 확대도이며, 도 7은 도 5의 "C"부 확대도이다.
도시된 바와 같이, 보트(150)는 제 1 메인바(161), 제 2 메인바(171), 제 1 연결바(181) 및 제 2 연결바(191)를 포함한다.
제 1 메인바(161)는 상호 간격을 가지면서 대향하는 한쌍으로 마련되며, 전단부측은 챔버(110a)(도 1 참조)의 전면측에 위치된 어느 하나의 크로스 지지바(140)에 각각 지지 설치되고, 후단부측은 챔버(110a)의 후면측에 위치된 다른 하나의 크로스 지지바(140)에 각각 지지 설치된다.
보트(150)를 크로스 지지바(140)에 견고하게 지지하기 위하여, 제 1 메인바(161)의 전단부에는 챔버(110a)의 전면측에 위치된 크로스 지지바(140)에 걸려서 고정되는 아크형 지지편(163)이 설치된다. 아크형 지지편(163)의 형상은 크로스 지지바(140)의 외형과 대응되는 형상인 반원형으로 형성된다.
그리고, 제 1 메인바(161)의 후단부측에 결합된 후술할 제 1 연결바(181)에는 크로스 지지바(140)에 탑재 지지되는 바 형상의 직선형 지지편(183)이 설치된다. 직선형 지지편(183)은 크로스 지지바(140)와 수직으로 배치되어 크로스 지지바(140)에 탑재 지지된다.
아크형 지지편(163)이 크로스 지지바(140)에 삽입 지지되고, 직선형 지지편(183)이 크로스 지지바(140)에 탑재 지지되므로, 보트(150)는 견고하게 크로스 지지바(140)에 탑재 지지된다. 또한, 아크형 지지편(163)이 반원형으로 형성되어 크로스 지지바(140)에 삽입 지지되고, 직선형 지지편(183)이 바 형으로 형성되어 크로스 지지바(140)에 탑재 지지되므로, 보트(150)를 상측으로 들기만 하면, 보트(150)가 크로스 지지바(140)로부터 분리된다. 따라서, 보트(150)를 크로스 지지바(140)로부터 용이하게 분리할 수 있다.
크로스 지지바(140)에는 보트(150)가, 크로스 지지바(140) 상에서, 크로스 지지바(140)를 따라 유동하는 것을 방지하는 스토퍼(143)(도 6 참조)가 복수개 설치된다. 스토퍼(143)는 챔버(110a)의 전면측에 위치된 크로스 지지바(140)에 설치되어 아크형 지지편(163)과 접촉한다. 스토퍼(143)의 개수는 아크형 지지편(163)의 개수와 대응됨은 당연하다.
제 2 메인바(171)는 상호 대향하는 한 쌍으로 마련되어 제 1 메인바(161)의 상면에 각각 결합되며, 제 1 메인바(161)와 각각 평행을 이룬다. 제 2 메인바(171)에는 기판(50)의 4 측면 중, 상호 대향하는 일측면 및 타측면의 테두리부측이 접촉 지지된다.
제 1 메인바(161)와 제 2 메인바(171)는 복수의 연결돌기(173)를 매개로 상호 결합되어 상하로 간격을 가진다. 그리고, 제 2 메인바(171)에는 제 2 메인바(171)와 대략 직교하는 형태로 형성되어 기판(50)의 테두리부측을 지지하는 복수의 수평지지핀(175)이 설치된다.
본 실시예에 따른 기판 지지용 보트 및 이를 사용한 지지유닛은 하나의 보트(150)에 복수의 기판(50)이 구획되어 지지된다. 이를 위하여, 제 1 메인바(161) 및 제 2 메인바(171)에는 제 2 메인바(171)에 의하여 형성되는 공간에 복수의 기판(50)이 구획되어 지지되도록 제 2 메인바(171)에 의하여 형성되는 공간을 복수개로 구획함과 동시에 복수의 기판(50)의 모서리부측과 접촉하여 복수의 기판(50)을 각각 지지하는 복수의 구획-지지핀(165, 177)이 각각 설치된다. 구획-지지핀(165, 177)이 기판(50)의 모서리부측 접촉하여 기판(50)을 지지하므로, 기판(50)이 제 2 메인바(171) 상에서 유동하는 것이 방지된다.
제 1 연결바(181)는 제 1 메인바(161)와 대략 직각을 이루면서, 한쌍의 제 1 메인바(161)를 상호 일체로 연결한다. 제 1 연결바(181)는 제 1 메인바(161)보다 낮은 위치에 배치되게 결합되는 것이 바람직하다. 이를 위하여, 제 1 연결바(181)는 한쌍의 제 1 메인바(161) 사이에 위치되어 제 1 메인바(161) 보다 하측에 배치된 수평바(181a), 수평바(181a)의 양단부에서 각각 상측으로 벤딩 형성되어 제 1 메인바(161)에 각각 결합되는 결합바(181b)를 가질 수 있다. 이때, 결합바(181b)는, 보트(150)의 구조에 따라, 수평바(181a)로부터 복수번 벤딩 형성될 수 있음은 당연하다.
제 1 연결바(181)를 제 1 메인바(161)보다 낮게 배치시키는 이유는, 기판(50)을 제 2 메인바(171)에 탑재하여 처리할 때, 기판(50)과 제 1 연결바(181) 사이에 충분한 간격이 형성되게 하여, 기판(50)의 처리시 투입되는 기판의 처리가스가 원활하게 흐르게 하기 위함이다.
제 1 연결바(181)에는 기판(50)이 탑재 지지되는 제 1 수직지지핀(185)이 복수개 설치된다. 제 1 수직지지핀(185)이 제 1 연결바(181)에 일정 간격으로 복수개 마련되므로, 기판(50)의 전체면이 균일하게 지지된다. 따라서, 기판(50)의 처리시 기판(50)이 자중에 의하여 처지는 것이 방지된다.
기판(50)이 접촉 지지되는 제 1 수직지지핀(185)의 상단부는 라운딩지게 형성되어 기판(50)과 점 접촉하는 것이 바람직하다. 그러면, 기판(50)의 하면도 상면과 같이 전부 노출된 상태가 되므로, 기판(50)이 더욱 균일하게 처리된다.
제 1 연결바(181)는 상호 상이한 간격을 가질 수 있다. 제 1 연결바(181)가 상호 상이한 간격으로 배치될 경우, 상호 상이한 간격을 가지는 제 1 연결바(181)에 설치된 제 1 수직지지핀(185)은 복수번 벤딩되어 형성될 수 있다.
상세히 설명하면, 제 1 수직지지핀(185)(도 7 참조)의 중간 부위는 벤딩(185a)되고, 제 1 수직지지핀(185)의 상측 부위 및 하측 부위의 길이방향 중심을 각각 지나는 가상의 직선(L1, L2)은 상호 평행하게 형성된다. 즉, 제 1 연결바(181)에 결합된 제 1 수직지지핀(185)의 하측 부위 외측에 상측 부위가 위치되므로, 제 1 수직지지핀(185)의 하측 부위 외측으로 이격된 상측 부위가 기판(50)을 지지한다. 그러면, 제 1 연결바(181) 사이의 간격이 일정하지 않을 때, 제 1 연결바(181)에 설치된 제 1 수직지지핀(185)이 일정한 간격을 가지면서 기판(50)의 전체면을 균일하게 지지할 수 있다.
제 1 수직지지핀(185)의 하측 부위가 원형으로 형성되어 제 1 수직지지핀(185)이 회전될 수 있다면, 제 1 수직지지핀(185)을 회전시켜 기판(50)이 처지는 부위를 간편하게 지지할 수 있다.
제 2 연결바(191)는 상호 인접하는 제 1 연결바(181)를 상호 연결한다. 그리고, 제 2 연결바(191)에는 기판(50)을 지지하는 복수의 제 2 수직지지핀(193)이 설치된다. 제 2 수직지지핀(193)도 제 1 수직지지핀(185)과 동일한 구성으로 형성될 수 있다.
제 1 메인바(161)의 양단부측에는 로봇의 아암(미도시)이 삽입되어 걸리는 걸림후크(167)가 각각 설치된다. 상기 로봇의 아암이 걸림후크(167)에 삽입되어 걸림후크(167)를 승강시키면 보트(150)가 승강하는 것이다.
상기 로봇의 아암을 걸림후크(167)에 걸 때, 상기 로봇의 아암이 구획-지지핀(165, 177)과 간섭하지 않도록 걸림후크(167)의 높이 및 위치를 적절하게 조절할 수 있다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 보트의 사용 상태를 보인 도로서, 이를 설명한다.
도시된 바와 같이, 두 개의 보트(150)가 크로스 지지바(140)(도 2 참조)에 지지 설치되고, 각각의 보트(150)에 두 개의 기판(50)이 지지된 것을 보인다. 기판(50)의 크기에 따라 한 개 이상의 보트(150)가 크로스 지지바(140)에 지지될 수도 있고, 각 보트(150)에 한 개 이상의 기판(50)이 지지될 수도 있다.
본 실시예에 따른 기판 지지용 보트 및 이를 사용한 지지유닛은 복수의 수평지지핀(175), 복수의 제 1 수직지지핀(185) 및 제 2 수직지지핀(193)에 의하여 기판(50)의 전체면이 균일하게 지지되므로, 기판(50)의 처리시, 기판(50)이 자중에 의하여 처지는 것이 방지된다.
도 9는 본 발명의 다른 실시예에 따른 보트의 사시도로서, 이를 설명한다.
도시된 바와 같이, 본 발명의 다른 실시예에 따른 보트(250)는 제 1 수직지지핀(285)의 하부측 및 제 2 수직지지핀(293)의 하부측은 제 1 연결바(281) 및 제 2 연결바(291)에 각각 착탈가능하게 결합된다. 이를 위하여, 제 1 연결바(281) 및 제 2 연결바(291)에는 제 1 수직지지핀(285) 및 제 2 수직지지핀(293)이 삽탈되는 제 1 결합홈(281a) 및 제 2 결합홈(291a)이 각각 형성된다.
제 1 및 제 2 수직지지핀(285, 293)이 착탈되므로, 기판(50)의 처리시, 기판(50)의 자중에 의하여 기판(50)이 처지는 부위에 제 1 및 제 2 수직지지핀(285, 293)을 집중적으로 배치할 수 있다. 따라서, 기판(50)이 변형되는 것을 더욱 완전하게 방지할 수 있다.
제 1 및 제 2 수직지지핀(285, 293)의 하부측 형상과 제 1 및 제 2 결합홈(281a, 291a)의 형상은 각각 상호 대응됨은 당연하다.
도 10 및 도 11은 본 발명의 다른 실시예들에 따른 제 1 수직지지핀의 다양한 형상을 보인 도로서, 이를 설명한다.
도 10은 제 1 수직지지핀(385)의 하부측 단면(斷面) 형상이 타원형인 것을 보이고, 도 11은 제 1 수직지지핀(485)의 하부측 단면 형상이 각형인 것을 보인다. 이때, 제 1 수직지지핀(385, 485)이 삽탈되는 제 1 결합홈(381a, 481a)의 형상은 제 1 수직지지핀(385, 485)의 형상과 대응되어야 함은 당연하다.
그리고, 도 9에서 설명한 제 2 수직지지핀(293) 및 제 2 결합홈(291a)의 형상도 상호 대응되는 단면(斷面) 형상이 타원형 또는 단면 형상이 각형으로 각각 형성될 수 있다.
제 1 수직 지지핀(185, 285, 385, 485)의 형상이 상호 상이하고, 제 2 수직 지지핀(193, 293)의 형상이 상호 상이하면, 제 1 수직 지지핀(185, 285, 385, 485)들의 결합위치 및 제 2 수직 지지핀(193, 293)들의 결합위치를 표시하는 기능을 할 수 있다.
상기와 같이 기술된 본 발명의 실시예들에 대한 도면은 자세한 윤곽 라인을 생략한 것으로서, 본 발명의 기술사상에 속하는 부분을 쉽게 알 수 있도록 개략적으로 도시한 것이다. 또한, 상기 실시예들은 본 발명의 기술사상을 한정하는 기준이 될 수 없으며, 본 발명의 청구범위에 포함된 기술사항을 이해하기 위한 참조적인 사항에 불과하다.

Claims (30)

  1. 기판 처리장치의 챔버에 투입되어 처리되는 기판을 지지하는 보트로서,
    상호 대향하는 한쌍의 제 1 메인바;
    상기 제 1 메인바의 상면에 각각 결합되어 상기 제 1 메인바와 각각 평행을 이루고, 상호 대향하며, 상기 기판의 테두리부측이 접촉 지지되는 한쌍의 제 2 메인바;
    한쌍의 상기 제 1 메인바를 상호 연결하는 복수의 제 1 연결바;
    상기 제 1 메인바 및 상기 제 2 메인바에 설치되고, 상기 제 2 메인바에 의하여 형성되는 공간에 복수의 기판이 구획되어 지지되도록 상기 제 2 메인바에 의하여 형성되는 공간을 복수개로 구획함과 동시에 복수의 상기 기판의 모서리부측과 접촉하여 복수의 상기 기판이 유동하는 것을 방지하는 복수의 구획-지지핀을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 지지용 보트.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제 2 메인바에는 상기 기판의 테두리부측을 지지하는 복수의 수평지지핀이 설치된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 보트.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 제 1 연결바에는 상기 기판을 지지하는 복수의 제 1 수직지지핀이 설치된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 보트.
  4. 제3항에 있어서,
    상호 인접하는 상기 제 1 연결바는 제 2 연결바에 의하여 연결되고,
    상기 제 2 연결바에는 상기 기판을 지지하는 복수의 제 2 수직지지핀이 설치된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 보트.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 제 1 수직지지핀 및 상기 제 2 수직지지핀은 상기 제 1 연결바 및 상기 제 2 연결바에 각각 착탈가능하게 결합된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 보트.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 제 1 수직지지핀 및 상기 제 2 수직지지핀의 일측 부위는 단면(斷面) 형상이 원형, 타원형 또는 각형 중에서 선택된 어느 하나의 형상으로 형성되고,
    상기 제 1 연결바 및 상기 제 2 연결바에는 상기 제 1 수직지지핀의 일측 부위 및 상기 제 2 수직지지핀의 일측 부위가 각각 삽탈되는 제 1 결합홈 및 제 2 결합홈이 상기 제 1 수직지지핀 및 상기 제 2 수직지지핀의 형상과 각각 대응되게 형성된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 보트.
  7. 제3항에 있어서,
    상기 제 1 연결바는,
    상기 제 1 수직지지핀이 설치되며 한쌍의 상기 제 1 메인바 사이에 위치되는 수평바;
    상기 수평바의 양단부에서 각각 벤딩 형성되어 한쌍의 상기 제 1 메인바 중 어느 하나의 상기 제 1 메인바와 다른 하나의 상기 제 1 메인바에 각각 결합되는 결합바를 가지면서 상기 제 1 메인바의 하측에 위치되는 것을 특징으로 하는 기판 지지용 보트.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 결합바는 상기 수평바로부터 복수번 벤딩 형성된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 보트.
  9. 제3항에 있어서,
    상기 제 1 연결바들 중, 일부는 상호 상이한 간격을 가지고,
    상호 상이한 간격을 가지는 상기 제 1 연결바에 설치된 상기 제 1 수직지지핀은 중간 부위가 벤딩되어 상기 제 1 연결바에 회전가능하게 설치되며,
    상기 제 1 연결바에 설치된 상기 제 1 수직지지핀의 일측 부위 및 상기 기판이 지지되는 상기 제 1 수직지지핀의 타측 부위의 길이방향 중심을 각각 지나는 가상의 직선은 상호 평행한 것을 특징으로 하는 기판 지지용 보트.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 제 1 수직지지핀의 중간 부위는 복수번 벤딩된 것을 특징으로 하는 기판지지용 보트.
  11. 제1항에 있어서,
    상기 제 1 메인바와 상기 제 2 메인바는 연결돌기를 매개로 상호 결합된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 보트.
  12. 제1항에 있어서,
    상기 제 1 메인바의 일단부측에는 반원판 형상으로 설치되어 상대물에 삽입 지지되는 아크형 지지편이 설치되고,
    상기 제 1 메인바의 타단부측에 결합된 상기 제 1 연결바에는 상대물에 탑재 지지되는 직선형 지지편이 설치된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 보트.
  13. 제1항에 있어서,
    상기 제 1 메인바의 양단부측에는 로봇의 아암이 삽입되어 걸리는 걸림후크가 각각 설치된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 보트.
  14. 기판 처리장치의 챔버에 투입되어 처리되는 기판을 지지하는 지지유닛으로서,
    상기 챔버의 바닥면과 접촉되는 받침대, 상기 받침대의 일단부에서 수직으로 연장 형성된 지지대, 상기 지지대의 일측면에서 수평으로 연장 형성되며 상호 간격을 가지면서 상하로 적층된 형태로 형성된 복수의 지지리브를 각각 가지고, 상호 대향하는 한쌍이 세트를 이루면서 상기 챔버의 전면측 및 후면측에 각각 설치된 서포터;
    쌍을 이루면서 상호 대향하는 상기 서포터의 상기 지지리브에 일단부측 및 타단부측이 각각 지지된 크로스 지지바;
    상기 챔버의 전면측에 위치된 상기 크로스 지지바 및 상기 챔버의 후면측에 위치된 상기 크로스 지지바에 일단부측 및 타단부측이 각각 지지되며, 복수의 상기 기판의 구획되어 탑재 지지되는 보트를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 지지용 지지유닛.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 지지리브에는 상기 크로스 지지바가 삽입 안치되는 안치홈이 형성된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 지지유닛.
  16. 제15항에 있어서,
    상기 안치홈에는 상기 안치홈에 직교하는 걸림홈이 형성되고, 상기 크로스 지지바에는 상기 걸림홈에 삽입되어 걸리는 걸림링이 설치된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 지지유닛.
  17. 제14항에 있어서,
    상기 크로스 지지바에는 상기 보트가 상기 크로스 지지바를 따라 유동하는 것을 방지하는 복수의 스토퍼가 설치된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 지지유닛.
  18. 제14항에 있어서,
    상기 보트는,
    상호 대향하는 한쌍으로 마련되며, 일단부측은 상기 챔버의 전면측에 위치된 상기 크로스 지지바에 지지되고 타단부측은 상기 챔버의 후면측에 위치된 상기 크로스 지지바에 지지된 제 1 메인바;
    상기 제 1 메인바의 상면에 각각 결합되어 상기 제 1 메인바와 각각 평행을 이루고, 상호 대향하며, 상기 기판의 테두리부측이 접촉 지지되는 한쌍의 제 2 메인바;
    한쌍의 상기 제 1 메인바를 상호 연결하는 복수의 제 1 연결바;
    상기 제 1 메인바 및 상기 제 2 메인바에 설치되고, 상기 제 2 메인바에 의하여 형성되는 공간에 복수의 기판이 구획되어 지지되도록 상기 제 2 메인바에 의하여 형성되는 공간을 복수개로 구획함과 동시에 복수의 상기 기판의 모서리부측과 접촉하여 복수의 상기 기판이 유동하는 것을 방지하는 복수의 구획-지지핀을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 지지용 지지유닛.
  19. 제18항에 있어서,
    상기 제 2 메인바에는 상기 기판의 테두리부측을 지지하는 복수의 수평지지핀이 설치된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 지지유닛.
  20. 제18항에 있어서,
    상기 제 1 연결바에는 상기 기판을 지지하는 복수의 제 1 수직지지핀이 설치된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 지지유닛.
  21. 제20항에 있어서,
    상호 인접하는 상기 제 1 연결바는 제 2 연결바에 의하여 연결되고,
    상기 제 2 연결바에는 상기 기판을 지지하는 복수의 제 2 수직지지핀이 설치된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 지지유닛.
  22. 제21항에 있어서,
    상기 제 1 수직지지핀 및 상기 제 2 수직지지핀은 상기 제 1 연결바 및 상기 제 2 연결바에 각각 착탈가능하게 결합된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 지지유닛.
  23. 제22항에 있어서,
    상기 제 1 수직지지핀 및 상기 제 2 수직지지핀의 일측 부위는 단면(斷面) 형상이 원형, 타원형 또는 각형 중에서 선택된 어느 하나의 형상으로 형성되고,
    상기 제 1 연결바 및 상기 제 2 연결바에는 상기 제 1 수직지지핀의 일측 부위 및 상기 제 2 수직지지핀의 일측 부위가 각각 삽탈되는 제 1 결합홈 및 제 2 결합홈이 상기 제 1 수직지지핀 및 상기 제 2 수직지지핀의 형상과 각각 대응되게 형성된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 지지유닛.
  24. 제20항에 있어서,
    상기 제 1 연결바는,
    상기 제 1 수직지지핀이 설치되며 한쌍의 상기 제 1 메인바 사이에 위치되는 수평바;
    상기 수평바의 양단부에서 각각 벤딩 형성되어 한쌍의 상기 제 1 메인바 중 어느 하나의 상기 제 1 메인바와 다른 하나의 상기 제 1 메인바에 각각 결합되는 결합바를 가지면서 상기 제 1 메인바의 하측에 위치되는 것을 특징으로 하는 기판 지지용 지지유닛.
  25. 제24항에 있어서,
    상기 결합바는 상기 수평바로부터 복수번 벤딩 형성된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 지지유닛.
  26. 제20항에 있어서,
    상기 제 1 연결바들 중, 일부는 상호 상이한 간격을 가지고,
    상호 상이한 간격을 가지는 상기 제 1 연결바에 설치된 상기 제 1 수직지지핀은 중간 부위가 벤딩되어 상기 제 1 연결바에 회전가능하게 설치되며,
    상기 제 1 연결바에 설치된 상기 제 1 수직지지핀의 일측 부위 및 상기 기판이 지지되는 상기 제 1 수직지지핀의 타측 부위의 길이방향 중심을 각각 지나는 가상의 직선은 상호 평행한 것을 특징으로 하는 기판 지지용 지지유닛.
  27. 제26항에 있어서,
    상기 제 1 수직지지핀의 중간 부위는 복수번 벤딩된 것을 특징으로 하는 기판지지용 지지유닛.
  28. 제18항에 있어서,
    상기 제 1 메인바와 상기 제 2 메인바는 연결돌기를 매개로 상호 결합된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 지지유닛.
  29. 제18항에 있어서,
    상기 제 1 메인바의 일단부측에는 반원판 형상으로 형성되어 상기 챔버의 전면측에 위치된 상기 크로스 지지바에 삽입 지지되는 아크형 지지편이 설치되고,
    상기 메인바의 타단부측에 결합된 상기 제 1 연결바에는 상기 챔버의 후면측에 위치된 상기 크로스 지지바에 탑재 지지되는 직선형 지지편이 설치된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 지지유닛.
  30. 제18항에 있어서,
    상기 제 1 메인바의 양단부측에는 로봇의 아암이 삽입되어 걸리는 걸림후크가 각각 설치된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 지지유닛.
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