WO2011148630A1 - Mems共振器 - Google Patents

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WO2011148630A1
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邦彦 中村
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パナソニック株式会社
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    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/24Constructional features of resonators of material which is not piezoelectric, electrostrictive, or magnetostrictive
    • H03H9/2405Constructional features of resonators of material which is not piezoelectric, electrostrictive, or magnetostrictive of microelectro-mechanical resonators
    • H03H9/2447Beam resonators
    • H03H9/2463Clamped-clamped beam resonators
    • HELECTRICITY
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    • H03BGENERATION OF OSCILLATIONS, DIRECTLY OR BY FREQUENCY-CHANGING, BY CIRCUITS EMPLOYING ACTIVE ELEMENTS WHICH OPERATE IN A NON-SWITCHING MANNER; GENERATION OF NOISE BY SUCH CIRCUITS
    • H03B5/00Generation of oscillations using amplifier with regenerative feedback from output to input
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    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/02Details
    • H03H9/02244Details of microelectro-mechanical resonators
    • H03H2009/02488Vibration modes
    • H03H2009/02496Horizontal, i.e. parallel to the substrate plane

Definitions

  • the technical field relates to a micro electro mechanical element (MEMS (Micro-Electro Mechanical System) element), and particularly to a MEMS resonator using a micro mechanical element as a vibrator.
  • MEMS Micro-Electro Mechanical System
  • a filter circuit, a temperature, a vibrator, or the like that uses an improvement in the electric transmission characteristics between input and output electrodes only at a specific frequency, that is, in the vicinity of the resonance frequency (mechanical resonance frequency) of the vibrator.
  • a temperature sensor, a pressure sensor, a mass sensor, and the like that utilize the fact that the resonance frequency of the vibrator is shifted by the stress applied to the vibrator, a minute amount of deposits, etc.
  • the size of the vibrator is generally as fine as a micrometer or less.
  • FIG. 12A is a perspective view of a main part of the MEMS resonator 200 created using an SOI (Silicon On Insulator) substrate.
  • SOI Silicon On Insulator
  • the uppermost silicon layer of the SOI substrate is etched to form a beam-type vibrator 201, an input electrode 203, and an output electrode 205.
  • a part of a BOX (Buried Oxide, buried oxide film) layer 211 is etched to make the vibrator 201 oscillate, and the remaining portions of the BOX layer 211 support both ends 207 of the vibrator 201, the input electrode 203, and the output electrode.
  • 205 is anchored to the silicon substrate 209.
  • the fourth method for outputting a large output current from the MEMS resonator is to increase the input voltage (vi in FIG. 12B) to the MEMS resonator.
  • the amplitude of the vibrator 201 is proportional to the input voltage (vi), and the output current (io) increases as the vibration speed increases.
  • Patent Document 1 a certain effect can be expected in that the magnitude of the output current output from the MEMS resonator is increased with respect to the magnitude of the input voltage input to the MEMS resonator.
  • the problem of improving the stability of the operation of the MEMS resonator with respect to the magnitude of the input voltage input to the MEMS resonator remains unsolved.
  • the resonance characteristics are less likely to exhibit nonlinearity, that is, when the input voltage vi to the MEMS resonator is increased, the MEMS resonator reaches nonlinear resonance.
  • a MEMS resonator having a large input voltage margin is provided.
  • the vibrators of the N MEMS resonating units may be mechanically coupled by a coupling unit.
  • the coupling portion may have a higher electrical impedance than the resistance value of the vibrator.
  • the additional capacitance element may be formed on the same substrate as the MEMS resonance unit.
  • the impedance element may further include an impedance element that defines a DC potential of a connection portion between the input side capacitance of the at least one MEMS resonance unit and the additional capacitance element, and the impedance of the impedance element is the additional capacitance element. It may be larger than the impedance.
  • the impedance element may be formed on the same substrate as the MEMS resonance unit.
  • an input-side capacitance is formed by the vibrator and the input electrode facing the vibrator via the gap, and the output facing the vibrator and the vibrator via the gap is formed.
  • An output side capacitance is formed by the electrodes, an input electrode of one MEMS resonating unit of the N MEMS resonating units is connected to an input port, and a vibrator of one MEMS resonating unit of the N MEMS resonating units.
  • the N MEMS resonance units may be connected in series with the input port, and the output electrodes of the N MEMS resonance units may be connected to the output port.
  • a capacitance is formed by the vibrator and an electrode facing the vibrator through a gap, and the vibrator and electrode of one MEMS resonating unit of the N MEMS resonating units. Is connected to the input port, the other one of the MEMS resonators and the electrode is connected to one of the other resonators and electrodes of the other MEMS resonator, and the N MEMS resonators are input ports. May be connected in series.
  • the N MEMS resonating units may be connected in parallel to the output port.
  • Another aspect is an oscillator including the MEMS resonator according to the above aspect.
  • the MEMS resonator has a plurality of MEMS resonators connected in series to the input port on the input side. By doing so, the margin of the input voltage until each resonance part reaches non-linear operation is expanded. In the present MEMS resonator, even if the input voltage vi increases, the resonance characteristics are less likely to exhibit nonlinearity. That is, when the input voltage vi to the MEMS resonator is increased, the input voltage until the MEMS resonator reaches nonlinear resonance. There is a special effect that the margin is large.
  • the circuit diagram of the modification of the MEMS resonator of 1st Embodiment The perspective view of the MEMS resonator by 2nd Embodiment Sectional view along line B-B 'in FIG. Top view of the vibrator of FIG.
  • a perspective view of a conventional example of a MEMS resonator Cross-sectional view of a conventional MEMS resonator
  • capacitive vibration will be described by taking as an example the case where a MEMS resonator is used as an oscillator.
  • FIG. 1A and 1B are diagrams showing a configuration of a MEMS resonator that has one MEMS resonance unit 99 and operates as an oscillator.
  • a feedback loop is formed by inserting an amplification circuit 51 having a sufficient gain G and an appropriate phase adjustment circuit ⁇ 53 between the input and output terminals of the MEMS resonator to compensate for attenuation of the MEMS resonator.
  • an oscillator at the mechanical resonance frequency of the MEMS resonating unit 99 is formed.
  • FIG. 1B is a block diagram of an oscillator using a MEMS resonator having one MEMS resonator 99.
  • io is an output current of the MEMS resonator
  • N MEMS resonating units 99 are connected in parallel on the input side, that is, in parallel to the input port 19, and in parallel on the output side, that is, the output port.
  • the output current io of the entire MEMS resonator 81 is N times that of the example of FIGS. 1A and 1B. Accordingly, the power at the input stage of the amplifier 51 is N squared as compared with the examples of FIGS. 1A and 1B, and the C / N ratio is improved by 20 ⁇ logN as compared with the examples of FIGS. 1A and 1B.
  • FIGS. 3A and 3B are plots (resonance curves) with respect to the frequency of the input voltage vi of the transfer conductance gm of the MEMS resonating unit 99 shown in FIGS. 1A and 1B.
  • FIG. 3A is a resonance curve in the amplitude range of the input voltage vi in which the MEMS resonance unit 99 and the like exhibit stable resonance characteristics.
  • the resonance curve transfer conductance gm of the MEMS resonating unit 99 or the like
  • the profile is symmetrical about the resonance frequency (peak in the figure), and hysteresis depending on the sweep direction is not seen.
  • an input voltage vi having an excessively large amplitude is applied, the resonance curve becomes nonlinear as shown in FIG. 3B, and has hysteresis due to the difference in the sweep direction.
  • An arrow 55 here indicates a route followed by a change in gm when the input voltage vi is swept from the low frequency side to the high frequency side, and a dotted line part in the middle is a theoretical route.
  • An arrow 57 indicates a route followed by a change in gm when the input voltage vi is swept from the high frequency side to the low frequency side.
  • Such a non-linear phenomenon is caused by a constant electrostatic force, that is, when the electrostatic force due to the DC potential difference Vp is always applied to the vibrator, the distance between the vibrator and the electrode becomes too close. This is due to the excessive action and the action of the electrode trying to pull the vibrator.
  • This phenomenon is discussed, for example, as non-patent document 1 as capacitive bifcation.
  • FIG. 4 shows a configuration of an oscillation circuit using a MEMS resonator 85 having N MEMS resonating units 99 according to the present embodiment.
  • the output of the amplifier 51 that is, the input voltage to the MEMS resonator 85 is N ⁇ vi.
  • the inputs of the N MEMS resonating units 99 are connected in series to the input port 19. Therefore, the input voltage N ⁇ vi applied to the input port 19 is divided by N in accordance with the number (N) of the MEMS resonating units 99, and the input voltage to the input of each resonator 99 becomes vi. For this reason, the margin with respect to the magnitude
  • the output of each MEMS resonating unit 99 is connected to the output port 21 in parallel. Therefore, the output current io from each MEMS resonating unit 99 is multiplied by N and the current N ⁇ io is input to the amplifier 51.
  • the output currents io from the N resonance units 99 are bundled and output as N ⁇ io at the output port 21, so that FIGS. 1A and 1B
  • the power at the input stage of the amplifier 51 is multiplied by N 2
  • the C / N of the oscillator is improved by 20 ⁇ log N.
  • FIG. 5 is a circuit diagram of the MEMS resonator 85 according to the present embodiment.
  • the number N of MEMS resonating parts is set to three.
  • the cross sections of the MEMS resonating units 11a, 11b, and 11c may be substantially the same as FIG. 12B. Since the MEMS resonating units 11a, 11b, and 11c may have substantially the same configuration, the configuration of the resonating unit will be described here taking the MEMS resonating unit 11a as an example.
  • the MEMS resonating unit 11a includes an input electrode 3, a vibrator 1, and an output electrode 5.
  • the gap between the input electrode 3 and the vibrator 1 and between the vibrator 1 and the output electrode 5 is a gap having a predetermined interval. It is separated.
  • the gap between the input electrode 3 and the vibrator 1 forms an input side capacitance 7 (capacitance Ci).
  • the gap between the vibrator 1 and the output electrode 5 forms an output side capacitance 9 (capacitance Co).
  • the capacitance Ce such as the additional capacitance 13a is larger than the capacitance Ci of the input side capacitance 7. Furthermore, it is desirable that the capacitance Ce such as the additional capacitance 13a is sufficiently larger than the capacitance Ci of the input side capacitance 7.
  • the input voltage is divided by the number of MEMS resonators, and the divided input voltage becomes an input voltage for each MEMS resonator.
  • the impedance of the additional capacitor 13a or the like (capacitor Ce) is negligibly small as compared with the impedance of the input side capacitance 7 (capacitor Ci).
  • the MEMS resonator 100 according to the present embodiment shown in FIG. 4 operates stably as long as the voltage applied to the input port 19 does not exceed 3 vi (N ⁇ vi). That is, the MEMS resonator 100 according to the present embodiment includes N (N: integer greater than or equal to 2) MEMS resonating units 11a and the like, and an input voltage applied to the input port 19 is an allowable voltage applied to the MEMS resonating unit 11a and the like. It is possible to operate stably when it does not exceed N times.
  • a bias voltage Vp is applied to an electrical contact located between the vibrator 1 such as each MEMS resonance portion 11a and the additional capacitor 13a (capacitor Ce) via an inductance element 15a (inductance L).
  • the inductance elements 15a, b, c (inductance L) constitute an impedance element, and the impedance of the inductance elements 15a, b, c (inductance L) is preferably larger than the impedance of the additional capacitor 13a, etc. (capacitance Ce). .
  • the current injected from the input electrode 3 according to the input voltage vi flows to the input electrode 3 of the adjacent resonator via the additional capacitors 13a, b, c (capacitance Ce).
  • an additional voltage 13a and the like (capacitance Ce) and high impedance elements 15a, 15b, and 15c (inductance L in the figure) are connected to the individual MEMS resonators 11a, thereby applying an applied voltage to the input port 19.
  • the input current associated with 3 ⁇ vi flows as indicated by the broken-line arrows in FIG. That is, the same current value flows through the vibrator 1 such as the individual MEMS resonating unit 11a.
  • FIG. 7 is a partial view of the MEMS resonator 81 shown in FIG.
  • MEMS resonating units
  • the value of the current 97 input to each resonating unit (MEMS) becomes the value up to each resonating unit (MEMS).
  • the resonance part (MEMS) located farther from the current input part (input port 19) is attenuated by the input current 97, and accordingly, is caused by the current of each resonance part (MEMS).
  • the temperature change is not uniform, and the application effect of the frequency correction technique such as PLL becomes low.
  • FIG. 8 is a circuit diagram of a MEMS resonator modification 100v according to the present embodiment.
  • the vibrator 1 that faces the input electrode 3 that functions as an electrode that receives an input voltage functions as an output electrode that outputs an output current from each MEMS resonator.
  • the gap between the input electrode 3 and the vibrator 1 forms an input side capacitance 7 (capacitance Ci), and the capacitance 7 also functions as an output side capacitance 9 in the resonator 100.
  • the input end of the amplifier 63 is connected to each vibrator 1 instead of the inductance elements 15a, b, c (inductance L) in the configuration 100 shown in FIG.
  • the output ends of the amplifiers 63 are connected in parallel to the output port 21, and a current obtained by adding the currents from the amplifiers 63 is output from the output port 21.
  • the input impedance of the amplifier 63 is desired to be higher than the impedance of the additional capacitor Ce. By doing so, each amplifier 63 can perform a function equivalent to the inductance element L of FIG. 5 (leakage current blocking action).
  • the bias DC voltage for the vibrator 1 is also determined according to the bias potential.
  • the power supply voltage for driving the amplifier 63 is Vdd
  • the input terminal bias DC voltage of the amplifier is generally set to about Vdd / 2. Therefore, in this case, a DC voltage of about Vdd / 2 is applied to the vibrator 1.
  • the vibrator 1 functions as an input electrode. It is good also considering the electrode which opposes as an output electrode which outputs an output current.
  • the input electrode 3 in FIG. 8 may be a vibrator that can vibrate, and the vibrator 1 in FIG. 8 may be an output electrode that does not vibrate.
  • the vibrator functions as an input electrode in at least one MEMS resonator.
  • the electrode facing the vibrator is configured to function as an output electrode, and in the other MEMS resonators, the vibrator is functioning as an output electrode, and the electrode facing the vibrator is functioned as an input electrode. May be configured.
  • FIG. 9 is a perspective view of the MEMS resonator 100a according to the second embodiment.
  • the MEMS resonator 100 a includes three MEMS resonating units, and the resonators 1 of the resonating units are mechanically coupled by a coupling beam 61.
  • the coupling beam 61 forms a coupling portion for mechanically coupling the vibrators 1 to each other.
  • “tight coupling” and “loose coupling” are known.
  • “tight coupling” refers to the case where the vicinity of the “antinode” of the vibration mode of the vibrator 1 is coupled by a thin coupling beam
  • “loose coupling” refers to the “node” of the vibration mode of the vibrator 1. This refers to the case where the vicinity is connected with a thin connecting beam, or the vicinity of the “node” is shared.
  • the mechanical coupling shown in FIG. 9 is the above-described loose coupling, but it is also possible to employ tight coupling in this embodiment.
  • each vibrator 1 when the vibrators 1 are mechanically coupled to each other by the coupling beam 61, each vibrator 1 does not operate independently and can be regarded as one continuous body. Then, the mechanical resonance mode of the vibrator group regarded as the one continuous body can be appropriately selected and used.
  • the connection and drive electrodes (input electrodes 3) shown in FIG. 9 the mode in which the three vibrators 1 vibrate in the same phase in the substrate plane direction is strongly excited. Accordingly, an output current io having the same phase is output from each resonator, and is bundled and output from the output port 21 as 3 ⁇ io.
  • the plurality of vibrators 1 can be regarded as one vibrator. Therefore, even when the Q value of each resonance part is high, the shift of the mechanical resonance frequency of each resonance part can be ignored.
  • resistance elements R1, R2, and R3 are used in place of the inductance element 15a (inductance L) in FIG.
  • Ce1, Ce2, and Ce3 in the figure are additional capacitance elements, and have the role of the additional capacitance element 13a (capacitance Ce) in FIG.
  • the resistance elements R1 to R3 and the additional capacitance elements Ce1 to Ce3 may be installed outside the substrate on which the vibrator 1 is formed, as shown in FIG. 9, on the same substrate on which the vibrator 1 is formed
  • the resonator 100a itself can be reduced in size.
  • circuit components are not required to be added in the process of manufacturing the MEMS resonator.
  • FIG. 10 is a diagram showing a cross-sectional structure in the vicinity of B-B ′ of FIG.
  • the MEMS resonator 100a is formed using an SOI substrate in which silicon is formed on the silicon substrate 209 via the first buried oxide film 211 is shown.
  • the uppermost silicon layer is processed, and a second buried oxide film is buried in the gap.
  • the buried oxide film (not shown) deposited on the silicon surface is removed by etching or polishing.
  • a high-resistance polycrystalline silicon film and a low-resistance polycrystalline silicon film are deposited to form a resistance element R1.
  • an insulating film such as silicon nitride and a low-resistance polycrystalline silicon film are deposited, the additional capacitor element Ce1 is formed.
  • FIG. 11 is a top view of only the resonator 1 having the resonator structure of FIG.
  • the three vibrators 1 and the coupling beam 61 that mechanically couples them may be the same material in the same layer.
  • the vibrator 1 is preferably made of a material having good conductivity, that is, metal or silicon having a low resistivity.
  • the coupling beam 61 is also conductive, the vibrators 1 are short-circuited and the configuration shown in FIG. 5 cannot be realized. Accordingly, it is desirable that the coupling beam 61 is entirely or partially insulated or has a high resistance.
  • the coupling portion between the vibrators 1 is a high impedance conductor or insulator, an electrical short circuit between a plurality of vibrators is avoided, and a series connection to an input port of an input electrode of a plurality of MEMS resonance parts, an output electrode Can be connected in parallel to the output ports.
  • the coupling beam portion also has a high resistance.
  • the resonator 1, the resistance elements R1 to R3, and the additional capacitors (additional capacitance elements) Ce1 to Ce3 9 can be realized by diffusing high-concentration conductive impurities into the connected vibrator 1 support 1s to increase the conductivity.
  • the MEMS resonator includes an input port to which an input voltage is applied, an output port that outputs an output current, and a plurality (N (N is 2 or more)) connected to the input port and the output port. Integer))) MEMS resonating part.
  • Each MEMS resonating unit includes an input electrode connected to the input port, a vibrator facing the input electrode through a gap, and an output electrode facing the vibrator through the gap.
  • the plurality of input electrodes are connected in series to the input port.
  • N MEMS resonating units are connected in series to the input port.
  • the voltage applied to each MEMS resonance unit is approximately equal to the voltage obtained by dividing the input voltage applied to the input port by N, so that the minimum input voltage at which the MEMS resonance unit performs nonlinear resonance is increased. Therefore, the input voltage margin until the MEMS resonator reaches nonlinear resonance can be expanded.
  • an oscillator having excellent noise characteristics (action due to a large current output) and easy waveform shaping (action due to high voltage tolerance) can be obtained. Can be configured.

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Abstract

 入力電圧が印加される入力ポートと、出力電流を出力する出力ポートと、振動子を備え、入力ポートおよび出力ポートに接続された、N個(Nは2以上の整数)のMEMS共振部とを有し、N個のMEMS共振部は、入力ポートに対して直列に接続される、MEMS共振器。

Description

MEMS共振器
 技術分野は、微小電気機械素子(MEMS(Micro-Electro Mechanical Systems)素子)に関し、特に、振動子として微小機械要素を用いたMEMS共振器に関する。
 MEMS共振器の用途としては、ある特定の周波数、すなわち振動子の共振周波数(機械共振周波数)近傍のみで入出力電極間の電気通過特性が向上することを利用したフィルタ回路や、温度、振動子にかかる応力、振動子への微量な付着物等によって振動子の共振周波数がシフトすることを利用した、温度センサ、圧力センサ、質量センサなどがある。
 MEMS共振器を電気回路のフィルタとして用いる場合、HF帯、VHF帯、UHF帯で機械共振を得るには、一般的に振動子のサイズはマイクロメートルまたはそれ以下と微細なものとなる。
 また、MEMS共振器を質量センサ等に応用する場合においても、質量の最小検出能は機械的共振周波数の-2.5乗に比例することから、微量な質量検出には機械的共振周波数の高い振動子が好ましい。すなわち、振動子のサイズはやはりマイクロメートルまたはそれ以下と微細なものが好ましい。
 従来のMEMS共振器について図12Aおよび12Bを参照して説明する。
 図12Aは、SOI(Silicon On Insulator)基板を用いて作成したMEMS共振器200主要部の斜視図である。SOI基板の最上層のシリコンをエッチング加工して梁型の振動子201と、入力電極203と、出力電極205とを形成する。BOX(Buried Oxide、埋め込み酸化膜)層211の一部がエッチングされて振動子201が振動可能な状態となり、BOX層211の残存部により振動子201の両端支持部207と入力電極203および出力電極205はシリコン基板209に繋留される。
 図12Bは、図12AのA-A’線における断面図である。MEMS共振器200の主要部は、2つの電極(入力電極203および出力電極205)がそれぞれ空隙giおよびgoを介し、振動子201の2つの側面に対向して配置された構成を有する。一方の電極を入力電極203、他方の電極を出力電極205とし、入力電極203と振動子201間に直流電位差(Vp)を、また出力電極205と振動子201間にも直流電位差(Vp)を与える。本図はその一具体例であり、振動子201に直流電圧Vpを印加することで該直流電位差を実現している。入力電極203にAC電圧(Vi)を印加すると、入力電極203と振動子201間の電位差の変動により静電力に由来する励振力が振動子201に作用する。AC電圧(Vi)の周波数と振動子201の機械的共振周波数が一致すると、振動子201は大きく振動し、その振動に伴う変位電流(io)が出力電極205から出力される。
 MEMS共振器の振動子を上記用途に適したサイズにした場合、振動子201と出力電極205とで構成する静電容量(図12Bにおける静電容量Co)は概して小さく、そのため、大きな出力電流を得ることは困難である。静電容量Coが小さいと出力電極205に吐き出す電荷を蓄積する能力が低いので大きな出力電流ioが得られず、出力電極205の次段に接続すべき信号処理回路に増幅機能を追加するなどの手段を講じる必要が生じる。
 MEMS共振器から大きな出力電流を出力させるための第1の方法は、振動子201の振動方向変位に対する容量変化の割合(dCo/dx(x:振動子振動方向))を大きくすることである。ここで該容量変化は、出力電極と振動子間の距離(図12Bにおけるギャップgo)の2乗に反比例する。よって、これは出力電極205と振動子201との間の距離(ギャップgo)を小さくすることで達成できる。
 また、MEMS共振器から大きな出力電流を出力させるための第2の方法は、振動子201に対し大きな励振力を与えて大きな振動振幅、すなわち大きな振動速度を与えることである。ここで振動子201に作用する励振力は、振動子201と入力電極203との間の距離(図12Bにおけるギャップgi)の2乗に反比例する。よって、これは振動子201と入力電極203との間の距離(ギャップgi)を小さくすることで達成できる。
 しかしながら、概して1μm以下となる狭ギャップを精度良く安定的に製造することは困難である。
 次に、MEMS共振器から大きな出力電流を出力させるための第3の方法は、振動子201に印加する直流電圧(図12Bにおけるバイアス電圧Vp)を大きな値とすることである。
 しかしながら、バイアス電圧Vpを大きくすると、狭ギャップ化との相乗効果で放電が発生したり、DC電位(Vp)による静的な静電力のみで振動子がたわんで電極(203あるいは205)に付着したりする現象が発生する。
 従って、狭ギャップ化およびバイアス電圧Vpの高電圧化には実用上の限界がある。
 さらには、MEMS共振器から大きな出力電流を出力させるための第4の方法は、MEMS共振器への入力電圧(図12Bにおけるvi)を大きくとることである。振動子201の振幅は入力電圧(vi)に比例し、振動速度も増大することで出力電流(io)も増加する。しかし、MEMS共振器への入力電圧(vi)を大きく設定するには限界がある。なぜなら、所定値以上の振幅を有する入力電圧(vi)を印加すると、入力電圧の周波数の掃引方向に関し出力電流の大きさがヒステリシスを示すようになる。すなわち発振回路における共振点が定まらず発振信号の周波数安定度が著しく劣化する。このような非線形現象は、恒常的な静電力、すなわち直流電位差Vpによる静電力が常に振動子201に与えられており、振動子201と電極(203あるいは205)との距離(ギャップgiあるいはgo)が近づきすぎることでこの恒常的な静電力が過度に作用し、電極(203あるいは205)が振動子を引き込もうとする効果が生じることに起因する。この現象は、例えば非特許文献1において、Capacitive Bifurcation (キャパシティブ・バイファケーション)として論じられている。
 安定的にMEMS共振器を動作させるには、キャパシティブ・バイファケーションが顕在化しない動作範囲で該共振器を動作させることが重要である。
 また、特許文献1においては、MEMS共振器からの出力電流を増加させるため、MEMS共振器内に同じ特性を有する共振器を複数個用意し、該複数個を一様に励振させ、個々の共振器からの出力電流を1つに束ねるという手段が講じられる。
 特許文献1では、MEMS共振機内に同一の共振器を複数個配列し、同一の励振入力電圧を該複数個の共振器の入力電極に配分し、出力電流は該複数個の共振器から束ねられて出力される構成を開示する。すなわち該複数個の共振器は入力側においては、入力電圧viの入力端子に対して複数の入力電極203が並列に接続され、出力側においても、出力電流の出力端子に対して複数の出力電極205が並列に接続される。このような複数個共振器配列は、本質的に加工誤差により個々の共振器寸法が異なることで共振周波数も異なるものの、共振の先鋭度を示すQ値が低く、個々の周波数のずれが共振波形のピークのなまり具合に比べて小さい場合には一定の効果が期待できる。
 このように、特許文献1によれば、MEMS共振器に入力される入力電圧の大きさに対しMEMS共振器から出力される出力電流の大きさを大きくする点において一定の効果が期待できる。しかしながら、MEMS共振器へ入力される入力電圧の大きさに対するMEMS共振器の動作の安定性の向上という課題は未解決のままである。
特開2006-109229号公報
M.アガルワル、K.パーク、R.キャンドラー、M.ホプクロフト、C.シャ、R.メラムート、B.キム、B.ムルマン、T.W.ケニー(M.Agarwal, K.Park, R.Candler, M.Hopcroft, C.Jha, R.Melamud, B.Kim, B.Murmann and T.W.Kenny)、「ノン・リニアリティ・キャンセレーション・イン・MEMSレゾネーターズ・フォー・インプルーブド・パワーハンドリング」("Non-Linearity Cancellation in MEMS Resonators for Improved Power-Handling")、エレクトロン・デバイセズ・ミーティング2005 IEDMテクニカル・ダイジェスト(Electron Devices Meeting, 2005. IEDM Technical Digest.)、IEEEインターナショナル(IEEE International)、pp.286-289
 前記実情に鑑み、MEMS共振器への入力電圧viが増大しても共振特性に非線形性があらわれにくい、すなわち、MEMS共振器に対する入力電圧viが増大された場合にMEMS共振器が非線形共振に至るまでの入力電圧マージンが大きい、MEMS共振器を提供する。
 一態様は、入力電圧が印加される入力ポートと、出力電流を出力する出力ポートと、振動子を備え、入力ポートおよび出力ポートに接続された、N個(Nは2以上の整数)のMEMS共振部とを有し、N個のMEMS共振部は、入力ポートに対して直列に接続される、MEMS共振器である。
 一態様においては、N個のMEMS共振部は、略同一の機械的共振周波数を有してよい。
 一態様においては、N個のMEMS共振部の振動子同士は結合部によって機械的に結合されてよい。
 一態様においては、結合部は、振動子の抵抗値よりも電気的に高インピーダンスであってよい。
 一態様においては、MEMS共振部において、振動子と、振動子とギャップを介して対向する電極とによって入力側静電容量が形成され、N個のMEMS共振部の少なくとも1つのMEMS共振部の入力側静電容量は、他の1つのMEMS共振部の入力側静電容量と付加容量素子を介して接続され、少なくとも1つのMEMS共振部の入力側静電容量と他の1つのMEMS共振部の入力側静電容量とは、付加容量素子を介して、入力ポートに対して直列に接続され、付加容量素子の容量は、MEMS共振部の入力側静電容量よりも大きくともよい。
 一態様においては、付加容量素子は、MEMS共振部と同一基板上に形成されてよい。
 一態様においては、さらに、少なくとも1つのMEMS共振部の入力側静電容量と付加容量素子との結線部の直流電位を規定するインピーダンス素子を有してよく、該インピーダンス素子のインピーダンスは付加容量素子のインピーダンスよりも大きくともよい。
 一態様においては、インピーダンス素子は、MEMS共振部と同一基板上に形成されてよい。
 一態様においては、MEMS共振部において、振動子と、振動子とギャップを介して対向する入力電極とによって入力側静電容量が形成され、振動子と、振動子とギャップを介して対向する出力電極とによって出力側静電容量が形成され、N個のMEMS共振部の1つのMEMS共振部の入力電極が入力ポートに接続され、N個のMEMS共振部の1つのMEMS共振部の振動子が他の1つのMEMS共振部の入力電極と接続されて、N個のMEMS共振部は入力ポートに対して直列に接続され、N個のMEMS共振部の出力電極が出力ポートに接続されてよい。
 一態様においては、MEMS共振部において、振動子と、振動子とギャップを介して対向する電極とによって静電容量が形成され、N個のMEMS共振部の1つのMEMS共振部の振動子および電極の一方が、入力ポートに接続され、1つのMEMS共振部振動子および電極の他方が他の1つのMEMS共振部の振動子および電極の一方と接続されて、N個のMEMS共振部は入力ポートに対して直列に接続されてよい。
 一態様においては、N個のMEMS共振部は、出力ポートに対して並列に接続されてよい。
 別の一態様は、上記一態様のMEMS共振器を備えた発振器である。
 MEMS共振器は、複数のMEMS共振部を入力側において入力ポートに対して直列に接続している。そうすることにより、各共振部が非線形動作に至るまでの入力電圧のマージンを拡大している。本MEMS共振器は、入力電圧viが増大しても共振特性に非線形性があらわれにくい、すなわち、MEMS共振器に対する入力電圧viが増大された場合にMEMS共振器が非線形共振に至るまでの入力電圧マージンが大きい、という格別な効果を奏する。
単一のMEMS共振部を有するMEMS共振器を用いた発振器の構成図 単一のMEMS共振部を有するMEMS共振器を用いた発振器のブロック図 複数のMEMS共振部を有するMEMS共振器を用いた発振器の構成図 MEMS共振部の伝達コンダクタンスの入力電圧周波数に対するプロット(線形領域) MEMS共振部の伝達コンダクタンスの入力電圧周波数に対するプロット(非線形領域) 第1の実施の形態によるMEMS共振器を用いた発振器の構成図 第1の実施の形態によるMEMS共振器の回路図 入力電圧によってMEMS共振器を流れる入力電流の流れを示す図 図2のMEMS共振器における電流の流れを示す図 第1の実施の形態のMEMS共振器の変形例の回路図 第2の実施の形態によるMEMS共振器の斜視図 図9の線B-B’における断面図 図9の振動子の上面図 MEMS共振器の従来例の斜視図 MEMS共振器の従来例の断面図
 (第1の実施の形態)
 以下、実施の形態について、詳細に説明する。
 (キャパシティブ・バイファケーションについて)
 先ず、キャパシティブ・バイファケーションについて、MEMS共振器を発振器として使用する場合を例に説明する。
 図1Aおよび1Bは、1つのMEMS共振部99を有し、発振器として動作するMEMS共振器の構成を示した図である。図1Aに示されるように、MEMS共振器の入出力端子間に、MEMS共振器の減衰を補うに十分なゲインGを有する増幅回路51と適切な位相調整回路φ53を挿入することで帰還ループを構成し、MEMS共振部99の機械的共振周波数における発振器を構成している。
 ここで発振器の1つの性能指数である発振信号のキャリア雑音比(C/N)は、増幅回路51に入力される電力が増加するほど良化する。図1Bは、1つのMEMS共振部99を有するMEMS共振器を用いた発振器のブロック図である。MEMS共振部99は、入力ポート19に印加される入力電圧viで励振され、振動に伴い発生する電流ioを出力ポート21から出力する。すなわち、MEMS共振器は、電圧入力、電流出力型のデバイスであって、その入出力関係は伝達コンダクタンスgm=io/viで示される。ここで、ioは、MEMS共振器の出力電流、viはMEMS共振器への入力電圧である。増幅回路51(アンプ)の入力インピーダンスをZとすれば、アンプ入力段の電圧はZ・ioであり、電力はZ・ioである。仮に、MEMS共振器への入力電圧viを2倍にすれば、ioもまた2倍になり、従ってアンプ入力段の電力は4倍となり、C/Nは10・log4=6dBだけ良化する。
 さらには、前述したが、図2のようにN個のMEMS共振部99を、入力側で並列に、すなわち、入力ポート19に対して並列に接続し、出力側でも並列に、すなわち、出力ポート21に対して並列に接続すれば、MEMS共振器全体81では、図1Aおよび1Bの例と比べて出力電流ioはN倍となる。従ってアンプ51の入力段での電力は、図1Aおよび1Bの例と較べてNの2乗倍となり、C/N比は図1Aおよび1Bの例に較べて20・logNだけ良化する。
 ここで、図3Aおよび3Bは、図1Aおよび1Bに示したMEMS共振部99等の伝達コンダクタンスgmの入力電圧viの周波数に対するプロット(共振曲線)である。図3Aは、MEMS共振部99等が安定した共振特性を示す入力電圧viの振幅範囲における共振曲線である。図3Aに示すように、適当な大きさの振幅を有する入力電圧viに関する共振曲線(MEMS共振部99等の伝達コンダクタンスgm)は、入力電圧viをその周波数で掃引した場合に振動子の機械的共振周波数(図中のピーク)を中心とした対称的なプロファイルとなり、掃引方向に依存したヒステリシスは見られない。
 しかしながら、過度に大きな振幅を有する入力電圧viを印加すると、図3Bのように共振曲線は非線形となり、掃引方向の違いによりヒステリシスを持つ。ここでの矢印55は、入力電圧viを低周波側から高周波側へ掃引した場合のgmの変化の辿るルートを示し、途中の点線部分は理論上のルートである。矢印57は、入力電圧viを高周波側から低周波側へ掃引した場合のgmの変化の辿るルートを示している。このようなヒステリシスが顕在化された状況が生じた場合、入力電圧viの所定の周波数範囲において発振回路における共振点が定まらず発振信号の周波数安定度は著しく劣化する。
 このような非線形現象は、恒常的な静電力、すなわち直流電位差Vpによる静電力が常に振動子に与えられている状況下で振動子と電極との距離が近づきすぎることで恒常的な静電力が過度に作用し、電極が振動子を引き込もうとする作用に起因する。この現象は例えば非特許文献1でキャパシティブ・バイファケーション(Capacitive Bifurcation)として論じられている。
 このような現象が存在することにより、図1Aおよび1BのMEMS共振部99、および、図2のMEMS共振器全体81の入力ポート19に印加する入力電圧viの大きさは、MEMS共振器99等の動作安定性確保の点から限界が存在する。
 発明者は種々の実験を重ねた結果、MEMS共振器からの出力電流ioを大きく保つためにN個のMEMS共振部を用いてMEMS共振器を構成する場合、入力電圧viをN分圧することで、非線形共振に至るまでの入力電圧マージンを拡大できることに着目した。入力ポート19に印加される入力電圧viをN分圧してN個のMEMS共振器に配分するために本願の実施の形態においては複数のMEMS共振部の各入力電極を入力ポート19に対して直列に接続する。直列接続することで入力インピーダンスは高くなる。これは高周波回路での50Ωインピーダンス整合から大きく外れるので、概して広い周波数帯域の信号を伝送する場合に帯域内での伝送特性に周波数依存性を持つことから好ましくないとされているが、回路サイズが信号の波長に比べて十分小さく、かつ広帯域の信号伝送品質を問われないような用途、例えば発振回路やセンサ用途では50Ω整合が必須条件とはならなくなる。特にMEMS共振器は電圧駆動・電流出力型のデバイスなので入力インピーダンスを高くして入力電圧レベルを確保することは出力電流を確保する必須条件である。
 図4は、本実施の形態であるN個のMEMS共振部99を有するMEMS共振器85を用いた発振回路の構成である。増幅器51の出力、すなわちMEMS共振器85への入力電圧はN・viである。N個のMEMS共振部99の入力は、入力ポート19に対して直列に接続される。そのため、入力ポート19に印加された入力電圧N・viは、MEMS共振部99の個数(N)に応じてN分圧され、個々の共振器99の入力への入力電圧はviとなる。このため、MEMS共振器85全体としての入力電圧viの大きさに対するマージンが拡大される。また、個々のMEMS共振部99の出力は、出力ポート21に対して並列に接続されている。このため、個々のMEMS共振部99からの出力電流ioはN倍され電流N・ioが増幅器51へ入力される。
 N個のMEMS共振部99の機械的共振周波数は、略同一であることが望ましい。そうすることで、該機械的共振周波数と一致する周波数を有する入力電圧が印加されると出力電流を効率よく増大させることができる。ここでの、略同一とは、N個のMEMS共振部に含まれる任意の1つのMEMS共振部の機械的共振周波数半値幅が、当該任意の1つのMEMS共振部以外の少なくとも1つのMEMS共振部の共振周波数半値幅と重複する状態を指す。なお、共振周波数半値幅とは、共振周波数における伝達コンダクタンスから該伝達コンダクタンスよりも3dBダウンした伝達コンダクタンスまでを示す周波数の帯域を指すものとする。
 図4に示した本実施の形態にかかるMEMS共振器85においては、出力ポート21においてN個の共振部99からの出力電流ioが束ねられてN・ioとして出力されるため、図1Aおよび1Bの構成のMEMS共振器との比較において、増幅器51入力段での電力はN倍され、発振器のC/Nは20・logNだけ良化する。
 また、図2の構成のMEMS共振器81において入力ポート19に入力電圧N・viを入力すると個々のMEMS共振部99が非線形共振を起こすような、入力電圧N・viであっても、図4に示した本実施の形態にかかるMEMS共振器85では、入力ポート19に当該入力電圧N・viを入力しても、個々のMEMS共振部99に対する入力はvi(MEMS共振部99の個数がN個の場合)となるので線形領域での動作が可能である。このようにして、図4に示した本実施の形態にかかるMEMS共振器85を有する発振器では、各MEMS共振部99の線形領域における共振現象を利用した低ノイズ発振器となる。また、入力電圧は、viのN倍された高い電圧レベルN・viを有するので、シュミットトリガを用いた2値化処理等の波形成形処理を施しやすくなる。
 図5は本実施の形態にかかるMEMS共振器85の回路図である。本図において、MEMS共振部の個数Nは3としている。MEMS共振部11a、11b、および11cの断面は、図12Bと実質同一であってよい。MEMS共振部11a、11b、および、11cは、実質同一の構成を有してよいため、ここではMEMS共振部11aを例に共振部の構成を説明する。
 MEMS共振部11aは、入力電極3、振動子1、出力電極5を備え、入力電極3と振動子1との間、および、振動子1と出力電極5との間は、所定間隔のギャップで隔てられている。入力電極3と振動子1との間のギャップは、入力側静電容量7(容量Ci)を形成する。また、振動子1と出力電極5との間のギャップは、出力側静電容量9(容量Co)を形成する。
 MEMS共振部11aの振動子1とMEMS共振部11bの入力電極3は付加容量13a(容量Ce)を介して接続される。MEMS共振部11b(の振動子)とMEMS共振部11c(の入力電極)との間も同様に付加容量13b(容量Ce)を介して接続される。入力ポート19から最も遠い位置にあるMEMS共振部11cの振動子は付加容量13c(容量Ce)を介して接地される。
 付加容量13a等の容量Ceは入力側静電容量7の容量Ciよりも大きいことが望まれる。なおさらには、付加容量13a等の容量Ceは入力側静電容量7の容量Ciよりも十分に大きいことが望まれる。この構成によりMEMS共振器の個数分に入力電圧が分圧され、分圧された入力電圧が個々のMEMS共振部に対する入力電圧となる。付加容量13a等(容量Ce)のインピーダンスは入力側静電容量7(容量Ci)のインピーダンスに比べて無視できるほど小さく、よって、入力ポート19に印加される入力電圧3vi(N・vi)は3分圧され、各共振部11a、11b、11cへは、それぞれ電圧viがかかる。よって、本実施の形態(N=3の場合)においては、入力ポート19にかかる入力電圧が3vi(N・vi)である場合に各共振部11a、11b、11cに電圧vi(入力電圧のN(=3)分の1)がかかる。電圧viが、各共振部11a、11b、11cが線形領域で共振する(非線形領域で共振しない)最大電圧(印加許容電圧)以下であれば、全ての共振部11a、11b、11cは線形領域で安定的に動作する。よって、図4に示した本実施の形態にかかるMEMS共振器100は、入力ポート19に印加される電圧が3vi(N・vi)を超えない限り安定的に動作する。つまり本実施の形態にかかるMEMS共振器100は、N個(N:2以上の整数。)のMEMS共振部11a等を備え、入力ポート19にかかる入力電圧がMEMS共振部11a等の印加許容電圧のN倍を超えない場合において安定的に動作することが可能である。
 また、各MEMS共振部11a等の振動子1と付加容量13a(容量Ce)との間に位置する電気的接点に対しインダクタンス素子15a(インダクタンスL)を介してバイアス電圧Vpが印加される。該インダクタンス素子15a、b、c(インダクタンスL)はインピーダンス素子を構成し、インダクタンス素子15a、b、c(インダクタンスL)のインピーダンスは付加容量13a等(容量Ce)のインピーダンスよりも大きいことが望まれる。そうすることで、入力電圧viに応じて入力電極3から注入される電流は付加容量13a、b、c(容量Ce)を介して隣接する共振器の入力電極3に流れる。つまり、インダクタンス素子15a、b、c(インダクタンスL)のインピーダンスを付加容量13a、b、c(容量Ce)のインピーダンスよりも高くすることで、バイアス電圧源Vpへの漏洩電流を抑制することができる。これにより、MEMS共振器100の電力損失を抑制する効果が得られる。なお、インダクタンス素子15a、b、c(インダクタンスL)の代わりに、付加容量13a、b、c(容量Ce)のインピーダンスよりも十分大きな抵抗素子を用いても電流の漏洩を抑制しつつ振動子1にバイアスDC電圧を印加することができる。
 図5に示すように付加容量13a等(容量Ce)と高インピーダンス素子15a、b、c(図中のインダクタンスL)を個々のMEMS共振部11aに接続することにより、入力ポート19への印加電圧3・viに伴う入力電流は図6の破線矢印のように流れる。つまり、個々のMEMS共振部11a等の振動子1には同じ電流値が流れる。これにより、電流に起因する振動子1の温度変化を同一にすることができるので、各共振部11a等の温度変化による機械的共振周波数のシフト量を同一に保つことができる。
 これに対し、図2に示した構成のMEMS共振器81では次のような不利点がある。図7は、図2に示したMEMS共振器81の部分図である。図7のように複数の共振部(MEMS)の入力段を入力ポート19に対して並列に接続すると、各共振部(MEMS)に入力される電流97の値は各共振部(MEMS)までの配線抵抗の影響を受け、電流入力部位(入力ポート19)よりも遠い位置にある共振部(MEMS)ほど入力される電流97の減衰があり、それに伴い各共振部(MEMS)の電流に起因する温度変化も一様ではなくなり、PLLなどの周波数補正技術の適用効果が低くなる。
 以上の理由から、本実施の形態にかかるMEMS共振器100は、複数の共振部における電流起因の温度変化による機械的共振周波数のシフト量を同一に保つことができる点で有利である。
 (変形例)
 次に、本実施の形態の変形例について説明する。図8は、本実施の形態によるMEMS共振器変形例100vの回路図である。MEMS共振器100vでは、各MEMS共振部11va、11vb、11vcにおいて、入力電圧を受ける電極として機能する入力電極3と対向する振動子1を各MEMS共振部からの出力電流を出力させる出力電極として機能させるように構成される。入力電極3と振動子1との間のギャップは、入力側静電容量7(容量Ci)を形成し、当該静電容量7は、共振器100における出力側静電容量9としても機能する。
 本変形例100vでは、図5に示す構成100におけるインダクタンス素子15a、b、c(インダクタンスL)の代わりに、各振動子1には増幅器63の入力端が接続される。そして、各増幅器63出力端は、出力ポート21に対して並列に接続され、各増幅器63からの電流が合算された電流が出力ポート21から出力される。ここでの増幅器63の入力インピーダンスは、付加容量Ceのインピーダンスよりも高いことが望まれる。そうすることで、各増幅器63は図5のインダクタンス素子Lと同等の機能(漏洩電流の遮断作用)を果たすことができる。また、増幅器63の入力端は増幅器63の内部で決定されるバイアスDC電位に吊り上げられているため、当該バイアス電位に応じて振動子1に対するバイアスDC電圧も決定される。ここで、増幅器63を駆動する電源電圧をVddとすると、概して増幅器の入力端バイアスDC電圧は約Vdd/2に設定されている。よって、この場合、振動子1に対して約Vdd/2の直流電圧が印加される。
 なお、図8に示すMEMS共振器100vの各MEMS共振部11va、b、cにおいて、振動子1と入力電極入力電極3の配置を交代させ、振動子1を入力電極として機能させつつ該振動子と対向する電極を出力電流を出力する出力電極としてもよい。つまり、図8における入力電極3を振動可能として振動子とし、同時に図8における振動子1を振動しない出力電極とした構成であってもよい。さらには、複数の(N個の(Nは2以上の整数。))MEMS共振部を有する単一のMEMS共振器100vにおいて、少なくとも1つのMEMS共振部においては振動子を入力電極として機能させつつ該振動子に対向する電極を出力電極として機能させるように構成され、かつ、その他のMEMS共振部においては振動子を出力電極として機能させつつ該振動子に対向する電極を入力電極として機能させるように構成されてもよい。
 (第2の実施の形態)
 図9は、第2の実施の形態によるMEMS共振器100aの斜視図である。MEMS共振器100aは3個のMEMS共振部を備え、各共振部の振動子1同士を結合梁61によって機械的に結合している。振動子1は、その梁の一方の固定端近辺同士を結合梁61によって結合されている。すなわち、結合梁61は、振動子1同士を機械的に結合するための結合部を構成する。
 結合梁61による振動子1同士の機械的結合としては「密結合」と「疎結合」が知られる。一般に、「密結合」とは、振動子1の振動モードの「腹」近辺同士を細い結合梁で結合する場合を指し、「疎結合」とは、また振動子1の振動モードの「節」近辺同士を細い結合梁で結合させたり、「節」近辺を共有化したりする場合を指す。図9に示す機械的結合は、上記した疎結合であるが、本実施の形態において密結合を採用することも可能である。疎結合の場合、振動子1の「節」近辺を共有化することだけで実現できる。ただし、振動子1の振動モードが多重にスプリットするために所望のモードを選択的に使用する工夫を加える必要がある場合もある。密結合の場合、振動子1の最も振動する腹の部位に結合梁61等のジョイント部材を橋渡しするので、振動を阻害しないような超極細のジョイント部材とするか、ジョイント部材の質量も加味した共振器設計をすればよい。
 図9のように振動子1同士を結合梁61で機械的に結合することにより、各振動子1は独立に動作せず、1つの連続体とみなせる。そして、当該1つの連続体とみなされる振動子群の機械的共振モードを適宜選択・使用することができるようになる。図9に示される連結および駆動電極(入力電極3)の配置では、3本の振動子1が基板平面方向に同位相で振動するモードが強く励起される。それに伴い、同位相の出力電流ioが各共振器から出力され、束ねられて3・ioとして出力ポート21から出力される。
 このように、複数のMEMS共振部の振動子1同士を結合梁61によって機械的に結合することで、複数の振動子1を1つの振動子としてみなせるようになる。よって、各共振部のQ値が高い場合であっても個々の共振部の機械的共振周波数のずれを無視することができるようになる。
 図9のように結合梁61を用いて振動子1同士を機械的に結合しない場合には、各振動子1の機械的共振周波数はその振動子寸法の加工誤差等によるずれ等に起因して、特に大気の粘性の少ない真空中などで各共振部のQ値が非常に高い(すなわち共振ピークの先鋭度が高い)場合、ある単一周波数の入力信号(入力ポート19に印加される入力電圧によって示される信号)を加えても、複数の振動子1のうち実際に激しく振動する振動子と機械的共振周波数からはずれて振動しない振動子が存在し、出力電極5から振動に伴って発生する電流を束ねて出力ポート21から出力することで得られる大電流出力効果が損なわれるおそれがある。
 なお、図9では、図6等におけるインダクタンス素子15a等(インダクタンスL)の代用として抵抗素子R1、R2、R3を用いている。また、同図におけるCe1、Ce2、Ce3は付加容量素子であり、図6等における付加容量素子13a(容量Ce)の役割を持つ。抵抗素子R1~R3、および付加容量素子Ce1~Ce3を振動子1が形成される基板の外に設置する形態も可能であるが、図9のように、振動子1が形成される同一基板上に形成することで、共振器100aそのものの小型化が可能となる。さらに、MEMS共振器を製造する過程において回路部品のあとづけが不要となる。
 図10は、図9のB-B’、すなわち付加容量素子Ce1および抵抗素子R1近辺の断面構造を示す図である。ここでは、シリコン基板209上に第1埋め込み酸化膜211を介してシリコンが形成されているSOI基板を用いてMEMS共振器100aを形成する例を示す。
 先ず最上のシリコン層を加工し、隙間に第2埋め込み酸化膜を埋め込む。次に、シリコン表面に堆積された埋め込み酸化膜(不図示)をエッチング除去もしくは研磨除去する。その上に、例えば高抵抗の多結晶シリコン膜と低抵抗の多結晶シリコン膜を堆積すると抵抗素子R1が形成される。また窒化シリコン等の絶縁膜と低抵抗多結晶シリコン膜を堆積すると付加容量素子Ce1が形成される。
 図11は、図9の共振器構造の振動子1のみの上面図である。3本の振動子1と、それを機械的に結合する結合梁61は同一レイヤーの同一材料でよい。振動子1は導電性のよい材料、すなわち金属や抵抗率の低いシリコンが好ましいが、結合梁61も導電性を有すると、振動子1同士が短絡し、図5の構成を実現できなくなる。従って、結合梁61は全体もしくは部分を絶縁性もしくは高い抵抗を有するものとすることが望まれる。振動子1同士の結合部が高インピーダンスの導体もしくは絶縁体であるため、複数の振動子同士の電気的短絡を回避し、複数個のMEMS共振部の入力電極の入力ポートに対する直列接続、出力電極の出力ポートに対する並列接続を実現できる。例えば、SOI基板の最上のシリコン層を抵抗率の高いシリコンとすると、結合梁部分も高抵抗となるが、振動子1、および抵抗素子R1~R3と付加容量(付加容量素子)Ce1~Ce3につながる振動子1支持部1sには、高濃度導電性の不純物を拡散して導電率を高めることで図9の構成を実現できる。
 (まとめ)
 実施の形態によるMEMS共振器は、入力電圧が印加される入力ポートと、出力電流を出力する出力ポートと、該入力ポートおよび該出力ポートに接続された複数の(N個(Nは2以上の整数。))MEMS共振部を有する。各MEMS共振部は、入力ポートに接続される入力電極と、ギャップを介して入力電極と対向する振動子と、ギャップを介して振動子と対向する出力電極とを備える。そして、複数の入力電極は、入力ポートに対して直列に接続される。
 あるいは、実施の形態によるMEMS共振器においては、N個のMEMS共振部は、それぞれ、電極と、ギャップを介して電極と対向する振動子とを備える。そして、当該複数のMEMS共振部のうち少なくとも1つのMEMS共振部の電極、および、残りのMEMS共振部の振動子は、入力ポートに対して直列に接続される。
 すなわち、実施の形態によるMEMS共振器においては、N個のMEMS共振部は入力ポートに対して直列に接続される。このような構成により、各MEMS共振部にかかる電圧は、入力ポートに印加された入力電圧をN分圧した電圧にほぼ等しくなるので、MEMS共振部が非線形共振する最小の入力電圧を大きくすることができ、よって、MEMS共振器が非線形共振に至るまでの入力電圧マージンを拡大することができる。
 また、本実施の形態にかかるMEMS共振器を用いて発振器を構成すれば、ノイズ特性に優れ(大電流出力による作用)かつ波形成形も容易(高電圧耐性による作用)な発振器(図4)を構成することができる。
 なお、実施の形態によるMEMS共振器の振動子は、両端を固定された両持ち梁、片持ち梁でもよいし、ディスク型や、その他、リング型、スクエア型など多様であり、梁に限定されるものでもない。また、振動子1に静電力を印加することで、振動子を構成する梁のたわみ振動モードが励起される。だが、ねじり振動モードを利用することもできる。また、実施の形態によるMEMS共振器の製造方法はSOI基板を用いる方法に限定されない。
 実施の形態によるMEMS共振器は、共振器、フィルタ、発振器、ジャイロスコープ、圧力センサ、質量検出素子等に利用することができる。
 実施の形態によるMEMS共振器は、複数のMEMS共振部を入力側において入力ポートに対して直列に接続し、出力側において出力ポートに対して並列に接続している。そうすることにより、各共振部が非線形動作に至るまでの入力電圧のマージンを拡大している。そのためMEMS共振器の線形性を利用した発振器をはじめ、フィルタ、ジャイロスコープ、圧力センサ、光スキャナ、質量検出素子等各種デバイスへの幅広い産業用途に展開可能である。
  1 ・・・ 振動子
  3 ・・・ 入力電極
  5 ・・・ 出力電極
  7 ・・・ 入力側静電容量
  9 ・・・ 出力側静電容量
 11a・・・ MEMS共振部
 11b・・・ MEMS共振部
 11c・・・ MEMS共振部
 11va・・ MEMS共振部
 11vb・・ MEMS共振部
 11vc・・ MEMS共振部
 13a ・・・ 付加容量
 13b ・・・ 付加容量
 13c ・・・ 付加容量
 15a ・・・ インダクタンス素子
 15b ・・・ インダクタンス素子
 15c ・・・ インダクタンス素子
 19 ・・・ 入力ポート
 21 ・・・ 出力ポート
 61 ・・・ 高抵抗結合梁
 63 ・・・ 増幅器
 85 ・・・ MEMS共振器
 99 ・・・ MEMS共振部
100 ・・・ MEMS共振器
100a・・・ MEMS共振器
100v・・・ MEMS共振器
Ce1 ・・・ 付加容量素子
Ce2 ・・・ 付加容量素子
Ce3 ・・・ 付加容量素子
 R1 ・・・ 抵抗素子
 R2 ・・・ 抵抗素子
 R3 ・・・ 抵抗素子

Claims (12)

  1.  入力電圧が印加される入力ポートと、
     出力電流を出力する出力ポートと、
     振動子を備え、前記入力ポートおよび前記出力ポートに接続された、N個(Nは2以上の整数)のMEMS共振部とを有し、
     前記N個のMEMS共振部は、前記入力ポートに対して直列に接続される、MEMS共振器。
  2.  前記N個のMEMS共振部は、略同一の機械的共振周波数を有する、請求項1に記載のMEMS共振器。
  3.  前記N個のMEMS共振部の振動子同士は結合部によって機械的に結合されている、請求項1に記載のMEMS共振器。
  4.  前記結合部は、前記振動子の抵抗値よりも電気的に高インピーダンスである、請求項3に記載のMEMS共振器。
  5.  前記MEMS共振部において、前記振動子と、前記振動子とギャップを介して対向する電極とによって入力側静電容量が形成され、
     前記N個のMEMS共振部の少なくとも1つのMEMS共振部の入力側静電容量は、他の1つのMEMS共振部の入力側静電容量と付加容量素子を介して接続され、
     前記少なくとも1つのMEMS共振部の入力側静電容量と前記他の1つのMEMS共振部の入力側静電容量とは、前記付加容量素子を介して、前記入力ポートに対して直列に接続され、前記付加容量素子の容量は、前記MEMS共振部の入力側静電容量よりも大きい、請求項1に記載のMEMS共振器。
  6.  前記付加容量素子は、前記MEMS共振部と同一基板上に形成される、請求項5に記載のMEMS共振器。
  7.  さらに、前記少なくとも1つのMEMS共振部の入力側静電容量と前記付加容量素子との結線部の直流電位を規定するインピーダンス素子を有し、該インピーダンス素子のインピーダンスは前記付加容量素子のインピーダンスよりも大きい、請求項5に記載のMEMS共振器。
  8.  前記インピーダンス素子は、前記MEMS共振部と同一基板上に形成される、請求項7に記載のMEMS共振器。
  9.  前記MEMS共振部において、前記振動子と、前記振動子とギャップを介して対向する入力電極とによって入力側静電容量が形成され、前記振動子と、前記振動子とギャップを介して対向する出力電極とによって出力側静電容量が形成され、
     前記N個のMEMS共振部の1つのMEMS共振部の入力電極が前記入力ポートに接続され、前記N個のMEMS共振部の1つのMEMS共振部の振動子が他の1つのMEMS共振部の入力電極と接続されて、前記N個のMEMS共振部は前記入力ポートに対して直列に接続され、
     前記N個のMEMS共振部の出力電極が前記出力ポートに接続される、請求項1に記載のMEMS共振器。
  10.  前記MEMS共振部において、前記振動子と、前記振動子とギャップを介して対向する電極とによって静電容量が形成され、
     前記N個のMEMS共振部の1つのMEMS共振部の振動子および電極の一方が、前記入力ポートに接続され、前記1つのMEMS共振部振動子および電極の他方が他の1つのMEMS共振部の振動子および電極の一方と接続されて、前記N個のMEMS共振部は前記入力ポートに対して直列に接続される、請求項1に記載のMEMS共振器。
  11.  前記N個のMEMS共振部は、前記出力ポートに対して並列に接続される、請求項1に記載のMEMS共振器。
  12.  請求項1に記載のMEMS共振器を備えた発振器。
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