WO2011125363A1 - 有機ｅｌ素子、有機ｅｌディスプレイおよび有機ｅｌ表示装置 - Google Patents

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WO2011125363A1
WO2011125363A1 PCT/JP2011/051650 JP2011051650W WO2011125363A1 WO 2011125363 A1 WO2011125363 A1 WO 2011125363A1 JP 2011051650 W JP2011051650 W JP 2011051650W WO 2011125363 A1 WO2011125363 A1 WO 2011125363A1
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WO
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organic
layer
light
phosphor layer
distribution characteristic
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PCT/JP2011/051650
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English (en)
French (fr)
Inventor
悦昌 藤田
秀謙 尾方
岡本　健
勇毅 小林
山田　誠
近藤　克己
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シャープ株式会社
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Publication date
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Definitions

  • the present invention relates to an organic EL element, an organic EL display, and an organic EL display device.
  • a technique for displaying a moving image by simple matrix driving or a technique for displaying a moving image by active matrix driving of an organic EL element using a thin film transistor (TFT) is known.
  • Patent Document 1 discloses a full color by combining an organic EL element having a light emitting layer that emits blue light or blue green light and a fluorescent material part that absorbs light emitted from the light emitting layer and emits visible light. The method of displaying is described.
  • Patent Documents 2, 3, 4, and 5 describe organic EL elements having an optical microresonator (microcavity) structure.
  • a color conversion unit that absorbs light emitted from the organic EL element and emits visible light fluorescence is used for all of the red pixel (R), green pixel (G), and blue pixel (B).
  • R red pixel
  • G green pixel
  • B blue pixel
  • Patent Document 2 discloses that light in the blue region is emitted from the organic EL element, the light in the blue region emitted from the green pixel is converted into light in the green region, and the light in the blue region emitted from the red pixel is converted into light.
  • Patent Document 5 describes a configuration in which a light emitting layer and a color exchange layer are arranged between a pair of light reflecting layers.
  • the above-described conventional method of separately coating the organic light emitting layer requires a mask having a size equal to or larger than the size of the substrate. Therefore, with the recent increase in size of the substrate, fabrication and processing of a mask corresponding to the large substrate is required. Need to do.
  • the size of the substrate is increasing, such as G6, G8, and G10.
  • a very thin metal generally film thickness: 50 to 100 nm
  • this method requires high mask processing accuracy and alignment accuracy.
  • the mask processing accuracy and alignment accuracy are low, color mixing due to mixing of the light emitting layers may occur.
  • the width of the insulating layer provided between the pixels is increased, the area of the non-light emitting portion is reduced when the area of the pixel is determined in advance. That is, it leads to a decrease in the aperture ratio of the pixel, leading to a decrease in luminance, an increase in power consumption, and a decrease in life.
  • the deposition source is disposed below the substrate, and the organic layer is deposited by depositing the organic material from the bottom to the top.
  • the substrate becomes larger (the mask becomes larger)
  • the mask bends at the center.
  • a similar problem occurs due to thermal expansion of the mask during vapor deposition.
  • the mask bends, it also causes the color mixture described above.
  • the mask is severely bent, a portion in which the organic layer is not formed or the upper and lower electrodes leak is connected.
  • the mask becomes unusable due to deterioration after being used a specific number of times. Therefore, the problem of increasing the size of the mask leads to an increase in cost in manufacturing the display. In particular, in an organic EL display, preventing cost increase is a very important issue.
  • the peak wavelength in the emission spectrum of light from the light emitting layer cannot be made sufficiently short, and the half width is also increased. Is as wide as about 80 nm, and light having sufficient color purity cannot be obtained.
  • an organic phosphorescent material having luminous efficiency superior to that of the organic phosphor material is used for the light emitting layer, the color purity is further lowered. For this reason, in an organic EL element, it is important to improve the light emission intensity and color purity.
  • FIG. 10 shows an emission spectrum from an organic EL element having a microcavity structure and an emission spectrum from an organic EL element having a non-microcavity structure.
  • the organic EL element has a microcavity structure, the emission intensity and color purity from the organic EL element are improved compared to the non-microcavity structure, so that the luminous efficiency is increased. Can do.
  • Patent Documents 2, 3, 4, and 5 using the microcavity structure have the following problems.
  • the blue region light emitted from the organic EL element is fluorescently converted by a phosphor layer or the like to emit light.
  • the light in the blue region emitted from the organic EL element is directly used.
  • the light from the organic EL element having a microcavity structure has directivity. Since the light from the red pixel and the green pixel is converted into isotropic light by the phosphor layer, luminance and color purity do not change depending on the viewing angle. On the other hand, since light from a blue pixel that directly uses light from an organic EL element becomes directional light, luminance and color purity change depending on the viewing angle. That is, there arises a problem that the luminance and color purity of light from the red and green pixels and the luminance and color purity of light from the blue pixel are shifted depending on the viewing angle.
  • Patent Document 5 is a method for obtaining a microcavity effect in a layer including a light emitting layer and a color conversion layer.
  • light from pixels of all colors is directional. Since it becomes a certain light, the problem that a viewing angle characteristic worsens newly arises.
  • the present invention has been made in view of the above-described problems of the prior art, and an object thereof is an organic EL display and an organic EL display device including an organic EL element having a structure that exhibits a microcavity effect.
  • An object of the present invention is to provide an organic EL device having good viewing angle characteristics and having a small deviation in luminance and color purity of pixels of each color depending on the viewing angle at low cost.
  • an organic EL device includes a reflective electrode, a semitransparent electrode, an organic EL layer that is sandwiched between the reflective electrode and the semitransparent electrode, and emits blue light.
  • a red phosphor layer for converting light from the organic EL layer into light in the red region a green phosphor layer for converting light from the organic EL layer into light in the green region, and light from the organic EL layer.
  • a blue pixel composed of a light distribution characteristic adjusting layer for adjusting a light distribution characteristic, wherein the reflective electrode and the semi-transparent electrode have a structure exhibiting a microcavity effect.
  • the structure that exhibits the microcavity effect emits light having directivity and high luminance in the front direction (hereinafter also referred to as “front luminance”), and thus high luminous efficiency is obtained.
  • front luminance light having directivity and high luminance in the front direction
  • the red phosphor layer and the green phosphor layer can absorb light having directivity from the organic EL layer and emit more isotropic light.
  • the blue pixel adjusts the light distribution characteristics so that it becomes isotropic light in order to adjust the light distribution characteristics (for example, luminance, color purity, etc.) of the light from the organic EL layer by the light distribution characteristic adjustment layer. It is also possible to do.
  • the organic EL element according to the present invention when used for a display and a display device, a high-quality organic EL display and an organic EL display device can be provided. Moreover, this invention can be utilized suitably also for a large sized display and a display apparatus.
  • the organic EL display according to the present invention includes any one of the organic EL elements described above.
  • the organic EL display device includes any one of the above-described organic EL displays.
  • the organic EL element according to the present invention includes a reflective electrode, a semitransparent electrode, an organic EL layer that is sandwiched between the reflective electrode and the semitransparent electrode, and emits blue light, and the organic EL layer.
  • the red phosphor layer that converts light from the red region into light, the green phosphor layer that converts light from the organic EL layer into light in the green region, and the light distribution characteristics of the light from the organic EL layer A blue pixel composed of a light distribution characteristic adjusting layer to be adjusted, and since the reflective electrode and the translucent electrode are structured to exhibit a microcavity effect, have a good viewing angle characteristic,
  • an organic EL element in which a deviation in luminance and color purity of each color pixel depending on the viewing angle can be provided at low cost.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a schematic configuration of a main part of an organic EL display according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 1 shows a portion of an organic EL element included in the organic EL display 20.
  • the organic EL display 20 includes, as organic EL elements, a substrate 1, an organic EL unit 22, an inorganic sealing film 11, a resin sealing film 12, a red phosphor layer 13, and a green phosphor layer 14.
  • An optical property adjusting layer 15, a sealing substrate 16, and a partition wall layer 17 are provided.
  • the reflective electrode 2, the edge cover 3, the partition wall layer 17, the organic EL layer 21, and the translucent electrode 10 in the organic EL portion 22 are laminated in this order.
  • an active element such as a TFT for driving the pixel, the organic EL display 20 or the like may be formed on the substrate 1.
  • the partition wall layer 17 is an insulating layer formed outside the organic EL portion 22.
  • the partition layer 17 can hold a coating liquid to be applied.
  • the organic EL part 22 is composed of the reflective electrode 2, the semitransparent electrode 10, the organic EL layer 21, and the edge cover 3.
  • the reflective electrode 2 and the translucent electrode 10 are a pair of electrodes that function as a pair, and sandwich the organic EL layer 21.
  • the reflective electrode 2 is an anode and is an electrode that injects holes into the organic EL layer 21.
  • the translucent electrode 10 is a cathode and an electrode that injects electrons into the organic EL layer 21.
  • the organic EL layer 21 is a layer that emits blue light and is sandwiched between the reflective electrode 2 and the translucent electrode 10, and includes a light emitting layer 6 containing an organic light emitting material and a layer for injecting or transporting charges ( Hereinafter, a hole injection layer 4, a hole transport layer 5, a hole prevention layer 7, an electron transport layer 8, and an electron injection layer 9 functioning as a “charge injection transport layer”) are provided.
  • the light emitted from the organic EL layer 21 passes through the translucent electrode 10 and is extracted outside.
  • the edge cover 3 is an insulating cover formed between the reflective electrode 2 and the translucent electrode 10.
  • the edge cover 3 can prevent leakage between the reflective electrode 2 and the translucent electrode 10 at the edge portion that becomes the end of the reflective electrode 2.
  • the organic EL unit 22 uses the principle of a microcavity that utilizes multiple interference between the reflective electrode 2 and the translucent electrode 10, and has a structure that exhibits a so-called microcavity effect (optical microresonator structure). have. For example, it is more desirable to form the microcavity effect by setting the thickness between the reflective electrode 2 and the semitransparent electrode 10 so as to match the wavelength of light to be enhanced.
  • the organic EL layer 21 is sandwiched between the pair of reflective electrodes 2 and the translucent electrode 10.
  • the reflective electrode 2 is made of a mirror-surface totally reflective material
  • the semi-transparent electrode 10 is made of a semi-transmissive material of a dielectric mirror
  • the thickness of the organic EL layer 21 is formed so as to match the wavelength of light to be enhanced.
  • the light component having a shifted wavelength is amplified to a desired wavelength by repeating multiple reflections between the reflective electrode 2 and the translucent electrode 10 and resonating. Output.
  • the organic EL element having an optical microresonator structure can enhance light emission at a desired wavelength (see FIG. 10).
  • the organic EL unit 22 in the present embodiment can enhance the intensity of light in the blue region.
  • the distance between the reflective electrode 2 and the translucent electrode 10 can be adjusted by adjusting the film thickness of the organic EL layer 21.
  • the inorganic sealing film 11 is a sealing film made of an inorganic compound
  • the resin sealing film 12 is a sealing film made of a resin.
  • the red phosphor layer 13 is a phosphor layer composed of a red phosphor that absorbs blue region light from the organic EL unit 22 and converts it into red region light, and functions as a red pixel.
  • the green phosphor layer 14 is a phosphor layer composed of a green phosphor that absorbs blue region light from the organic EL unit 22 and converts it into green region light, and functions as a green pixel. Thereby, in the red pixel and the green pixel, the red phosphor layer 13 and the green phosphor layer 14 absorb light having directivity from the organic EL unit 22 having the optical microresonator structure, and isotropic. Light can be emitted.
  • the light distribution characteristic adjustment layer 15 is a layer that adjusts the light distribution characteristic of the light from the organic EL unit 22, and functions as a blue pixel.
  • the “light distribution characteristics” refer to characteristics relating to light brightness, color purity, and the like depending on viewing angles.
  • the sealing substrate 16 is a substrate for sealing the above-described constituent members.
  • Substrate 1 As the substrate 1, for example, an inorganic material substrate made of glass, quartz or the like, a plastic substrate made of polyethylene terephthalate, polycarbazole, polyimide or the like, an insulating substrate such as a ceramic substrate made of alumina or the like, aluminum (Al), iron (Fe ) And the like. Further, the surface of these substrates is coated with an insulator made of silicon oxide (SiO 2 ), an organic insulating material or the like, or the surface of a metal substrate made of Al or the like is insulated by a method such as anodic oxidation. It may be a coated substrate or the like.
  • a plastic substrate or a metal substrate because a curved portion, a bent portion, and the like can be formed without stress.
  • a substrate in which a plastic substrate is coated with an inorganic material or a substrate in which a metal substrate is coated with an inorganic insulating material is more preferable.
  • leakage may occur due to the protrusion of the metal substrate, but such a problem can be prevented by the above-described configuration.
  • the film thickness of the organic EL layer is often very thin, about 100 to 200 nm, and it is known that leakage (short-circuiting) occurs in the current in the pixel portion due to the protrusions of the substrate.
  • a TFT may be formed on the substrate 1 as an active element.
  • the substrate 1 it is preferable to use as the substrate 1 a substrate that does not melt at a temperature of 500 ° C. or less and does not cause distortion.
  • a metal substrate it is preferable to use a metal substrate that is an iron-nickel alloy having a linear expansion coefficient of 1 ⁇ 10 ⁇ 5 / ° C. or less.
  • substrate 1 is comparable as glass, TFT can be formed on the board
  • a plastic substrate since the plastic substrate has a relatively low heat-resistant temperature, first, a TFT is formed on another glass substrate, and then this TFT is transferred onto the substrate 1, whereby the TFT Can be transferred and formed.
  • FIG. 2 is a diagram showing a partial configuration of a circuit used by the organic EL display device according to the embodiment of the present invention.
  • the circuit 30 includes a gate line 31, a signal line 32, a power supply line 33, a switching TFT 34, a driving TFT (active element) 35, a storage capacitor 36, an organic EL unit 22, and a ground line 38.
  • the circuit 30 includes a plurality of gate lines 31 and a plurality of signal lines 32, and two TFTs, a switching TFT 34 and a driving TFT 35, are arranged for each pixel.
  • the switching TFT 34 is disposed at the intersection between the gate line 31 and the signal line 32.
  • the driving TFT 35 is electrically connected to the reflective electrode 2 in the organic EL unit 22. Note that the organic EL display 20 can be driven by a voltage-driven digital gradation method or the like.
  • the circuit 30 may be electrically connected to an external drive circuit (scanning line electrode circuit (source driver), data signal electrode circuit (gate driver), power supply circuit) in order to drive each organic EL unit 22. Good.
  • an external drive circuit scanning line electrode circuit (source driver), data signal electrode circuit (gate driver), power supply circuit
  • the wavelength corresponding to the maximum value of the emission intensity of the light emitted from the organic EL unit 22 is preferably 400 nm or more and 480 nm or less.
  • the maximum value of the light emission intensity of the light emitted from the organic EL portion 22 is reduced. If the wavelength corresponding to is 400 nm or more, the luminous efficiency and lifetime can be improved. In addition, the amount of absorption of the phosphor decreases with respect to light of 480 nm or more.
  • the green phosphor generally has an abrupt decrease in absorption with respect to light having a long wavelength of 480 nm or longer. Therefore, if the wavelength is 480 nm or less, the phosphor, in particular, the green phosphor can be efficiently excited by the light from the organic EL unit 22 to emit light.
  • the manufacturing cost and the material cost are significantly higher than those of the conventional separate coloring method in which the organic EL element is patterned into red, green, and blue pixels. It is possible to reduce it.
  • this embodiment since the organic EL unit 22 having an optical microresonator structure is used, good light emission efficiency can be obtained and the lifetime can be extended, so that the cost and power consumption can be reduced. be able to. Furthermore, this embodiment can be suitably used as a large display and a display device.
  • Organic EL layer 21 in this embodiment has a multilayer structure of the light emitting layer 6 and the charge injecting and transporting layer.
  • the organic EL layer 21 is not limited to the configuration of the present embodiment, and may have the following configurations (1) to (9), for example.
  • Each of the light emitting layer 6, the hole injection layer 4, the hole transport layer 5, the hole prevention layer 7, the electron prevention layer, the electron transport layer 8 and the electron injection layer 9 may have a single layer structure or a multilayer. It may be a structure.
  • the film thickness of each layer in the organic EL layer 21 may be about 1 nm to 1000 nm, but is preferably 10 nm to 200 nm. If the film thickness is 10 nm or more, good physical properties (charge injection characteristics, transport characteristics, confinement characteristics, etc.) can be obtained for each layer of the organic EL layer 21. In addition, pixel defects due to foreign matters such as dust can be prevented. Moreover, if the film thickness is 200 nm or less, it is possible to prevent the drive voltage from increasing due to the resistance component of the organic EL layer 21 and to reduce power consumption.
  • the light emitting layer 6 preferably contains a light emitting material (organic light emitting material) made of an organic compound.
  • the light emitting layer 6 may be composed of, for example, only an organic light emitting material, or may be composed of a combination of a light emitting dopant and a host material.
  • a hole transport material, an electron transport material, an additive (a donor, an acceptor, etc.) etc. may be contained arbitrarily.
  • distributed in a polymeric material (binding resin) or an inorganic material may be sufficient. Especially, it is preferable to use what disperse
  • the organic light emitting material a known light emitting material used for an organic EL layer or the like can be suitably used.
  • a low molecular light emitting material, a polymer light emitting material, or the like can be used.
  • a fluorescent material, a phosphorescent material, or the like can be used as the light-emitting material.
  • Examples of the low-molecular light emitting material include fluorescent organic materials such as aromatic dimethylidene compounds, oxadiazole compounds, triazole derivatives, styrylbenzene compounds, and fluorenone derivatives.
  • Examples of the aromatic dimethylidene compound include 4,4'-bis (2,2'-diphenylvinyl) -biphenyl (DPVBi).
  • Examples of the oxadiazole compound include 5-methyl-2- [2- [4- (5-methyl-2-benzoxazolyl) phenyl] vinyl] benzoxazole.
  • Examples of the triazole derivative include 3- (4-biphenylyl) -4-phenyl-5-t-butylphenyl-1,2,4-triazole (TAZ).
  • Examples of the styrylbenzene compound include 1,4-bis (2-methylstyryl) benzene.
  • polymer light emitting material examples include polyphenylene vinylene derivatives and polyspiro derivatives.
  • polyphenylene vinylene derivative examples include poly (2-decyloxy-1,4-phenylene) (DO-PPP).
  • polyspiro derivative examples include poly (9,9-dioctylfluorene) (PDAF).
  • a known dopant material used for an organic EL layer or the like can be suitably used.
  • dopant materials include fluorescent materials, phosphorescent organic metal complexes, and the like.
  • fluorescent material include styryl derivatives.
  • phosphorescent organometallic complexes include bis [(4,6-difluorophenyl) -pyridinato-N, C2 ′] picolinate iridium (III) (FIrpic), bis (4 ′, 6′-difluorophenylpolydinato) tetrakis ( 1-pyrazoyl) borate, iridium (III) (FIr6) and the like.
  • a host material when using a dopant a known host material used for an organic EL layer or the like can be suitably used.
  • host materials include the above-described low-molecular light-emitting materials, the above-described polymer light-emitting materials, carbazole derivatives, aniline derivatives, and fluorene derivatives.
  • carbazole derivative include 4,4′-bis (carbazole) biphenyl, 9,9-di (4-dicarbazole-benzyl) fluorene (CPF), 3,6-bis (triphenylsilyl) carbazole (mCP), ( PCF).
  • aniline derivatives include 4- (diphenylphosphoyl) -N, N-diphenylaniline (HM-A1).
  • Fluorene derivatives include 1,3-bis (9-phenyl-9H-fluoren-9-yl) benzene (mDPFB), 1,4-bis (9-phenyl-9H-fluoren-9-yl) benzene (pDPFB) Etc.
  • the charge injection transport layer is divided into a charge injection layer (hole injection layer 4 and electron injection layer 9) and a charge transport layer (hole transport layer 5 and electron transport layer 8).
  • a charge injection layer hole injection layer 4 and electron injection layer 9
  • a charge transport layer hole transport layer 5 and electron transport layer 8
  • the charge injecting and transporting layer may be composed of only the materials exemplified below, but may optionally contain additives (donor, acceptor, etc.), etc., and these materials are polymeric materials (
  • the resin may be dispersed in a binding resin) or an inorganic material.
  • the material used for the charge injecting and transporting layer known materials used for the charge injecting and transporting layer such as an organic EL layer and an organic photoconductor can be used.
  • the material includes a material for injecting or transporting holes (hereinafter also referred to as “hole injection / transport material”) and a material for injecting or transporting electrons (hereinafter also referred to as “electron injection / transport material”). Divided. Although these specific compounds are illustrated below, this invention is not limited to these materials.
  • Examples of the hole injecting and transporting material include an oxide, an inorganic p-type semiconductor material, a porphyrin compound, an aromatic tertiary amine compound, a low molecular material, and a polymer material.
  • Examples of the oxide include vanadium oxide (V 2 O 5 ) and molybdenum oxide (MoO 2 ).
  • Aromatic tertiary amine compounds include N, N′-bis (3-methylphenyl) -N, N′-bis (phenyl) -benzidine (TPD), N, N′-di (naphthalen-1-yl) ) -N, N′-diphenyl-benzidine (NPD) and the like.
  • low molecular weight material examples include hydrazone compounds, quinacridone compounds, styrylamine compounds, and the like.
  • Polymer materials include polyaniline (PANI), polyaniline-camphor sulfonic acid (PANI-CSA), 3,4-polyethylenedioxythiophene / polystyrene sulfonate (PEDOT / PSS), poly (triphenylamine) derivative (Poly) -TPD), polyvinylcarbazole (PVCz), poly (p-phenylene vinylene) (PPV), poly (p-naphthalene vinylene) (PNV) and the like.
  • the hole injection layer 4 it is preferable to use a material having a lower energy level of the highest occupied molecular orbital (HOMO) than the hole injection / transport material used for the hole transport layer 5.
  • the hole transport layer 5 it is preferable to use a material having a higher hole mobility than the hole injection transport material used for the hole injection layer 4.
  • the above-described hole injecting and transporting material doped with an acceptor.
  • an acceptor the well-known acceptor material used for organic EL can be used. Although these specific compounds are illustrated below, this invention is not limited to these materials.
  • the acceptor material examples include an inorganic material, a compound having a cyano group, a compound having a nitro group, and an organic material.
  • Inorganic materials include gold (Au), platinum (Pt), tungsten (W), iridium (Ir), phosphoryl chloride (POCl 3 ), arsenic hexafluoride (AsF 6 ), chlorine (Cl), bromine (Br) , Iodine (I), vanadium oxide (V 2 O 5 ), molybdenum oxide (MoO 2 ), and the like.
  • Examples of the compound having a cyano group include TCNQ (7,7,8,8, -tetracyanoquinodimethane), TCNQF 4 (tetrafluorotetracyanoquinodimethane), TCNE (tetracyanoethylene), HCNB (hexacyanobutadiene). And DDQ (dicyclodicyanobenzoquinone).
  • Examples of the compound having a nitro group include TNF (trinitrofluorenone) and DNF (dinitrofluorenone).
  • Examples of the organic material include fluoranyl, chloranil, bromanyl and the like. Among these, compounds having a cyano group such as TCNQ, TCNQF 4 , TCNE, HCNB, DDQ and the like are preferable because the carrier concentration can be increased more effectively.
  • Examples of the electron injecting and transporting material include inorganic materials that are n-type semiconductors, oxadiazole derivatives, triazole derivatives, thiopyrazine dioxide derivatives, benzoquinone derivatives, naphthoquinone derivatives, anthraquinone derivatives, diphenoquinone derivatives, fluorenone derivatives, benzodifuran derivatives, etc. Low molecular materials; polymer materials such as poly (oxadiazole) (Poly-OXZ) and polystyrene derivatives (PSS) can be mentioned.
  • examples of the electron injection material include fluorides such as lithium fluoride (LiF) and barium fluoride (BaF 2 ), and oxides such as lithium oxide (Li 2 O).
  • the electron injection layer 9 it is preferable to use a material having a higher energy level of the lowest unoccupied molecular orbital (LUMO) than the electron injection transport material used for the electron transport layer 8.
  • the electron transport layer 8 is preferably a material having a higher electron mobility than the electron injection transport material used for the electron injection layer 9.
  • the electron injection / transport material In order to further improve the electron injection / transport property, it is preferable to dope the electron injection / transport material with a donor.
  • a donor the well-known donor material used for organic EL can be used. Although these specific compounds are illustrated below, this invention is not limited to these materials.
  • donor materials include inorganic materials, compounds having an aromatic tertiary amine as a skeleton, condensed polycyclic compounds, and organic materials.
  • inorganic materials include alkali metals, alkaline earth metals, rare earth elements, Al, silver (Ag), copper (Cu), indium (In), and the like.
  • Compounds having an aromatic tertiary amine skeleton include anilines, phenylenediamines, benzidines (N, N, N ′, N′-tetraphenylbenzidine, N, N′-bis- (3-methylphenyl) -N, N'-bis- (phenyl) -benzidine, N, N'-di (naphthalen-1-yl) -N, N'-diphenyl-benzidine, etc.), triphenylamines (triphenylamine, 4, 4′4 ′′ -tris (N, N-diphenyl-amino) -triphenylamine, 4,4′4 ′′ -tris (N-3-methylphenyl-N-phenyl-amino) -triphenylamine, 4 , 4′4 ′′ -tris (N- (1-naphthyl) -N-phenyl-amino) -triphenylamine, etc.), triphen
  • Examples of the condensed polycyclic compound include phenanthrene, pyrene, perylene, anthracene, tetracene, and pentacene.
  • the condensed polycyclic compound may have a substituent.
  • Examples of the organic material include TTF (tetrathiafulvalene), dibenzofuran, phenothiazine, carbazole and the like.
  • the donor material is preferably a compound having an aromatic tertiary amine as a skeleton, a condensed polycyclic compound, or an alkali metal among the materials described above. Thereby, the carrier concentration can be increased more effectively.
  • the organic EL layer 21 is formed by using a coating solution (organic EL layer forming coating solution) in which the above materials are dissolved or dispersed in a solvent, using a spin coating method, a dipping method, a doctor blade method, a discharge coating method, or a spray coating method. It can be formed by a known wet process such as a coating method such as an ink jet method, a relief printing method, an intaglio printing method, a screen printing method, or a micro gravure coating method.
  • a coating method such as an ink jet method, a relief printing method, an intaglio printing method, a screen printing method, or a micro gravure coating method.
  • the organic EL layer 21 is formed from the above-described materials by a known dry process such as resistance heating vapor deposition, electron beam (EB) vapor deposition, molecular beam epitaxy (MBE), sputtering, or organic vapor deposition (OVPD). It can be formed by a laser transfer method or the like.
  • the organic EL layer forming coating liquid may contain additives for adjusting the physical properties of the coating liquid, such as a leveling agent and a viscosity modifier. .
  • a known electrode material can be used as the reflective electrode 2.
  • the material used for the reflective electrode 2 include metals such as gold (Au), platinum (Pt), and nickel (Ni) having a work function of 4.5 eV or more. Thereby, the injection
  • a material of the reflective electrode 2 it is preferable to use a material with high reflectivity that reflects light. Examples of such a material include reflective metals such as aluminum, silver, gold, aluminum-lithium alloy, aluminum-neodymium alloy, and aluminum-silicon alloy.
  • the reflective electrode 2 include a combination of a transparent electrode and an electrode containing the above-described reflective metal (reflective electrode).
  • an oxide (ITO) composed of indium (In) and tin (Sn), an oxide (SnO 2 ) of tin (Sn), an oxide composed of indium (In) and zinc (Zn). (IZO) etc. are mentioned.
  • the translucent electrode 10 is preferably a translucent electrode. Thereby, the light from the organic EL layer 21 can be extracted efficiently.
  • a semi-transparent electrode 10 may be composed of, for example, only a metal or a combination of a metal and a transparent electrode material.
  • the metal that can be used for the translucent electrode include silver, magnesium, aluminum, a silver-magnesium alloy, and gold. Among these, silver is preferably used from the viewpoints of reflectance and transmittance.
  • the film thickness of the reflective electrode 2 is preferably 50 nm or more.
  • the wiring resistance increases, so that the drive voltage may increase. With the above-described configuration, such a risk can be prevented.
  • the film thickness of the translucent electrode 10 is preferably 5 nm to 30 nm, and more preferably 10 nm to 30 nm. If the film thickness is 5 nm or more, light can be sufficiently reflected, so that the effect of interference can be sufficiently obtained. Further, if the film thickness is 10 nm or more, the effect of interference can be further enhanced. In addition, when the film thickness exceeds 30 nm, the light transmittance is drastically decreased, and thus the luminance and light emission efficiency may be decreased. However, if the film thickness is 30 nm or less, such a fear is excluded. can do.
  • the reflective electrode 2 and the translucent electrode 10 can be formed using the above-described materials by a known method such as an EB vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, or a resistance heating vapor deposition method.
  • the reflective electrode 2 and the translucent electrode 10 can be patterned by a photolithographic fee method, a laser peeling method, or the like, if necessary. Further, a patterned electrode can be directly formed by combining with a shadow mask.
  • the reflective electrode 2 and the translucent electrode 10 may be patterned so as to have a stripe shape. In this case, the direction of the stripes of the reflective electrode 2 and the stripes of the semitransparent electrode 10 is preferably orthogonal. With such a configuration, a good image with good viewing angle characteristics can be obtained.
  • the organic EL unit 22 can emit light condensed in the front direction, that is, emit light having directivity. Therefore, it is possible to reduce the amount of light diffusing to the surroundings, and to increase the light emission efficiency in the front. As a result, the light emission energy generated in the light emitting layer 6 of the organic EL unit 22 can be efficiently propagated to the red pixel, the green pixel, and the blue pixel, and the front luminance can be increased.
  • the emission spectrum of light from the organic EL unit 22 can be adjusted.
  • the emission spectrum can be adjusted by adjusting the light to a desired emission peak wavelength and half width. Therefore, the red phosphor and the green phosphor can be adjusted to a spectrum that can be excited more effectively, and the color purity of light from the blue pixel can be improved. Therefore, effects such as an improvement in the color purity of light from the organic EL unit 22, an improvement in luminous efficiency, and an improvement in front luminance can be obtained.
  • the organic EL unit 22 is not limited to the above-described configuration, and may have, for example, an optical microresonator structure using a dielectric multilayer film.
  • An insulating material can be used for the edge cover 3.
  • a known material can be used as the insulating material.
  • an insulating material for example, an inorganic material, a resin material, or the like can be used.
  • the inorganic material include silicon monoxide (SiO), silicon nitride oxide (SiON), silicon nitride (SiN), silicon oxycarbide (SiOC), silicon carbide (SiC), nitrogen-added hafnium silicate (HfSiON), zirconium monoxide ( ZrO), hafnium monoxide (HfO), lanthanum oxide (LaO), and the like.
  • the resin material include acrylic and polyimide.
  • the film thickness of the edge cover 3 is preferably 100 nm to 2000 nm. If the film thickness is 100 nm or more, it has sufficient insulation, so that leakage between the reflective electrode 2 and the translucent electrode 10 can be effectively prevented, power consumption can be suppressed, and non- Light emission can be prevented. If the film thickness is 2000 nm or less, the film forming process can be suppressed in a short time, so that productivity can be improved and disconnection of the translucent electrode 10 by the edge cover 3 can be prevented.
  • the edge cover 3 can be formed using the above-described insulating material by a known method such as an EB vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, or a resistance heating vapor deposition method. Further, for example, patterning can be performed by a known dry method or wet photolithography method.
  • the red phosphor layer 13 and the green phosphor layer 14 may be composed of only a red phosphor or a green phosphor, and may further contain an additive or the like. Further, the red phosphor or the green phosphor may be dispersed in a polymer material (binding resin) or an inorganic material.
  • the red phosphor and the green phosphor are in the form of particles, and the average particle diameter (d 50 ) is preferably 0.5 ⁇ m to 50 ⁇ m, and more preferably 1 ⁇ m to 50 ⁇ m. If the average particle diameter of the red phosphor and the green phosphor is 0.5 ⁇ m or more, a decrease in light emission efficiency can be suppressed, and if it is 1 ⁇ m or more, the light emission efficiency can be further increased. If the average particle diameter is 50 ⁇ m or less, it becomes easy to form a flat film as the phosphor layer, and a space is formed between the red phosphor layer 13 and the green phosphor layer 14 and the organic EL portion 22. Can be prevented.
  • the red phosphor and the green phosphor when an inorganic material is used as the red phosphor and the green phosphor, between the organic EL portion 22 (refractive index: about 1.7) and the phosphor layer containing the inorganic material (refractive index: about 2.3). If a space (refractive index: 1.0) is created, the light from the organic EL unit 22 does not efficiently reach the red phosphor layer 13 and the green phosphor layer 14, so that the luminous efficiency of these phosphor layers is increased. The problem of deteriorating arises. However, the above-described configuration can prevent such a problem.
  • the film thickness of the phosphor layer is preferably about 100 nm to 100 ⁇ m, more preferably 1 ⁇ m to 100 ⁇ m. If the film thickness is less than 100 nm, it is difficult to sufficiently absorb the blue light emitted from the organic EL unit 22, and the light emission efficiency is reduced, or the required color is mixed with blue transmitted light, and the color purity is deteriorated. Problems arise. Moreover, if the film thickness is 1 ⁇ m or more, the absorption of blue light emission from the organic EL portion 22 is increased, the blue transmitted light can be reduced, and good color purity can be obtained.
  • the film thickness is 100 ⁇ m or less, the consumption of the material used for the phosphor layer can be suppressed within a range where the blue light emission from the organic EL portion 22 can be sufficiently absorbed. Therefore, with the above-described configuration, light emission efficiency can be increased and material cost can be suppressed.
  • the phosphor materials described below can be used as the red phosphor and the green phosphor.
  • the red phosphor and the green phosphor are preferably made of an inorganic material. Thereby, the red phosphor layer 13 and the green phosphor layer 14 can have high stability against degradation due to excitation light, degradation due to light emission, and the like.
  • phosphor material As the phosphor material used as the red phosphor and the green phosphor, a known phosphor material can be used, and examples thereof include an organic phosphor material and an inorganic phosphor material.
  • the organic phosphor material used as the green phosphor may be a fluorescent dye that converts blue excitation light into green light emission, and examples thereof include coumarin dyes and naphthalimide dyes.
  • coumarin dyes include 2,3,5,6-1H, 4H-tetrahydro-8-trifluoromethylquinolidine (9,9a, 1-gh) coumarin (coumarin 153), 3- (2'-benzothiazolyl) -7-diethylaminocoumarin (coumarin 6), 3- (2'-benzimidazolyl) -7-N, N-diethylaminocoumarin (coumarin 7) and the like.
  • naphthalimide dyes include basic yellow 51, solvent yellow 11, and solvent yellow 116.
  • the organic phosphor material used as the red phosphor may be a fluorescent dye that converts blue excitation light into red light emission, and examples thereof include a cyanine dye, a pyridine dye, and a rhodamine dye.
  • cyanine dyes include 4-dicyanomethylene-2-methyl-6- (p-dimethylaminostyryl) -4H-pyran.
  • pyridine dye examples include 1-ethyl-2- [4- (p-dimethylaminophenyl) -1,3-butadienyl] -pyridinium-perchlorate.
  • rhodamine dyes examples include rhodamine B, rhodamine 6G, rhodamine 3B, rhodamine 101, rhodamine 110, basic violet 11, and sulforhodamine 101.
  • the inorganic phosphor material used as the green phosphor may be any phosphor that converts blue excitation light into green light emission.
  • the inorganic phosphor material used as the red phosphor may be any phosphor that converts blue excitation light into red light emission.
  • Y 2 O 2 S Eu 3+
  • YAlO 3 Eu 3+
  • Ca 2 Y 2 (SiO 4 ) 6 Eu 3+
  • YVO 4 Eu 3+
  • CaS Eu 3+
  • Gd 2 O 3 Eu 3+
  • Gd 2 O 2 S Eu 3+ Y (P, V) O 4 : Eu 3+ , Mg 4 GeO 5.5 F: Mn 4+ , Mg 4 GeO 6 : Mn 4+
  • K 5 Eu 2.5 (WO 4 ) 6.25 Na 5 Eu 2 .5 (WO 4 ) 6.25
  • K 5 Eu 2.5 (MoO 4 ) 6.25 Na 5 Eu 2.5 (MoO 4 ) 6.25
  • Na 5 Eu 2.5 (MoO 4 ) 6.25 and the like.
  • the inorganic phosphor may be subjected to surface modification treatment as necessary.
  • the surface modification treatment include chemical treatment with a silane coupling agent or the like, physical treatment with addition of fine particles of submicron order, and a combination thereof.
  • the red phosphor layer 13 and the green phosphor layer 14 may have a configuration in which the above-described phosphor material is dispersed in a polymer material.
  • the polymer material examples include a polymer resin.
  • a photosensitive resin is preferably used as the resin.
  • the phosphor layer can be patterned by a photolithography method, and the red phosphor layer 13 and the green phosphor layer 14 can be easily manufactured.
  • the polymer material may be one type of resin or a mixture of a plurality of types of resins.
  • a photosensitive resin having a reactive vinyl group (photocurable resist material) or the like can be used as the photosensitive resin.
  • examples thereof include acrylic resin, methacrylic resin, polyvinyl cinnamate resin, and hard rubber resin.
  • the phosphor layer is formed, for example, by using a coating liquid (phosphor layer forming coating liquid) in which the above-described phosphor material and polymer material are dissolved and dispersed in a solvent, using a spin coating method, a dipping method, or a doctor blade method. It can be formed by a known wet process such as a coating method such as a discharge coating method or a spray coating method, an ink jet method, a relief printing method, an intaglio printing method, a screen printing method, or a printing method such as a micro gravure coating method.
  • a coating method such as a discharge coating method or a spray coating method, an ink jet method, a relief printing method, an intaglio printing method, a screen printing method, or a printing method such as a micro gravure coating method.
  • the phosphor layer is made of the above-described phosphor material, such as a resistance heating vapor deposition method, an electron beam (EB) vapor deposition method, a molecular beam epitaxy (MBE) method, a sputtering method, and an organic vapor deposition (OVPD) method. It can be formed by a known dry process or a laser transfer method.
  • a resistance heating vapor deposition method such as an electron beam (EB) vapor deposition method, a molecular beam epitaxy (MBE) method, a sputtering method, and an organic vapor deposition (OVPD) method.
  • EB electron beam
  • MBE molecular beam epitaxy
  • OVPD organic vapor deposition
  • the red pixel and the green pixel can absorb light having directivity from the organic EL unit 22 and can extract red and green light emitted in the same direction to the outside. Therefore, it is possible to reduce or eliminate changes in luminance and color purity depending on the viewing angle.
  • the light distribution characteristic adjusting layer 15 only needs to be configured to adjust the light distribution characteristic of the light from the organic EL layer 21.
  • the light distribution characteristic adjustment layer 15 determines the luminance of the light from the organic EL layer 21 by the luminance of the light emitted from the red phosphor layer 13 and the luminance of the light emitted from the green phosphor layer 14. It is comprised so that it may adjust so that it may approach.
  • the light distribution characteristic adjusting layer 15 changes the color purity of the light from the organic EL layer 21 to the color purity of the light emitted from the red phosphor layer 13 and the color purity of the light emitted from the green phosphor layer 14. It is comprised so that it may adjust so that it may approach.
  • the light distribution characteristic adjusting layer 15 has the luminance of the light from the organic EL layer 21 and By adjusting the color purity, the light is adjusted to isotropic light.
  • the blue pixel can emit isotropic light.
  • the difference in luminance and color purity between the red, green, and blue pixels is small depending on the viewing angle.
  • the luminance and color purity when the screen of the organic EL display 20 is viewed from the front and obliquely. Can be reduced.
  • the light from the pixels of each color is isotropic, good viewing angle characteristics can be obtained. Therefore, a high quality organic EL display 20 can be provided.
  • the light distribution characteristic adjusting layer 15 has the following formulas (1) and (2): 0.8L 60R / L 0R ⁇ L 60B / L 0B ⁇ 1.2L 60R / L 0R (1) 0.8L 60G / L 0G ⁇ L 60B / L 0B ⁇ 1.2L 60G / L 0G (2) It is preferable to adjust the light distribution characteristics (for example, light luminance) of the light from the organic EL layer 21 so as to satisfy the above.
  • L 0R represents the luminance in the front direction of the light emitted from the red phosphor layer 13, and L 60R is a direction inclined by 60 degrees with respect to the front direction.
  • L 0G indicates the luminance in the front direction of the light emitted from the green phosphor layer 14, and L 60G indicates the luminance in a direction inclined by 60 degrees with respect to the front direction.
  • L 0B indicates the luminance in the front direction of the light emitted from the light distribution characteristic adjusting layer 15, and L 60B indicates the luminance in a direction inclined by 60 degrees with respect to the front direction.
  • the light distribution characteristic adjustment layer 15 adjusts the luminance so as to satisfy the above formula (1), so that the front luminance of the light from the light distribution characteristic adjustment layer 15 and the light from the red phosphor layer 13 is inclined 60 degrees.
  • the ratio with the brightness in degrees is adjusted so as to satisfy the relational expression shown in the above formula (1). Therefore, when the front luminance of the blue pixel and the red pixel is adjusted so that a desired emission color is obtained in the front direction, the blue pixel and the red pixel when viewed from the front direction and when viewed from the oblique direction The deviation of the luminance ratio can be reduced. Therefore, it is possible to reduce the deviation of the emission color between when viewed from the front direction and when viewed from the oblique direction to a level where it cannot be visually recognized.
  • the front luminance of the light from the light distribution characteristic adjusting layer 15 and the light from the green phosphor layer 14 The ratio to the luminance at an angle of 60 degrees is adjusted so as to satisfy the relational expression shown in the above expression (2). Therefore, when the front luminance of the blue pixel and the green pixel is adjusted so that a desired emission color is obtained in the front direction, the blue pixel and the green pixel when viewed from the front direction and when viewed from the oblique direction The deviation of the luminance ratio can be reduced. Therefore, it is possible to reduce the deviation of the emission color between when viewed from the front direction and when viewed from the oblique direction to a level where it cannot be visually recognized.
  • the light distribution characteristic adjustment layer 15 can bring the light distribution characteristic of light having directivity from the organic EL layer 21 closer to the light distribution characteristic of light emitted from the red phosphor layer 13 and the green phosphor layer 14. it can. Therefore, it is possible to suppress the deviation between the luminance of light from the red pixel and the green pixel and the luminance of light from the blue pixel when the screen of the organic EL display 20 is viewed obliquely to such an extent that it cannot be visually recognized.
  • the light distribution characteristic adjusting layer 15 includes the following formulas (3) to (6):
  • (x 0R , y 0R ) represents the color purity in the front direction of the light emitted from the red phosphor layer 13, and (x 60R , y 60R ) is The color purity in a direction inclined by 60 degrees with respect to the front direction. Further, (x 0G , y 0G ) indicates the color purity of the light emitted from the green phosphor layer 14 in the front direction, and (x 60G , y 60G ) is inclined by 60 degrees with respect to the front direction. Refers to the color purity in the direction.
  • (x 0B , y 0B ) indicates the color purity in the front direction of the light emitted from the light distribution characteristic adjusting layer 15, and (x 60B , y 60B ) is inclined by 60 degrees with respect to the front direction. Refers to the color purity in the selected direction.
  • the light from the light distribution characteristic adjusting layer 15 used without converting the light from the organic EL layer 21 changes not only the luminance but also the color purity depending on the viewing angle. That is, even when light from the light distribution characteristic adjustment layer 15 is adjusted so that the deviation between the front luminance and the luminance in the oblique direction is reduced, the color purity in the front direction and the color purity in the oblique direction may be different.
  • a blue pixel and a green pixel are set so as to obtain a desired emission color in the front direction.
  • the front luminance is adjusted, the deviation between the color purity when viewed from the front direction and the color purity when viewed from the oblique direction can be reduced. Therefore, the deviation between the emission color when viewed from the front direction and the emission color when viewed from the oblique direction, which may occur even when the deviation between the front luminance and the luminance in the oblique direction is reduced, cannot be visually recognized. It becomes possible to reduce to.
  • the light distribution characteristic adjusting layer 15 for example, a layer having a characteristic of scattering light, a layer having a characteristic of diffusing light, or the like can be used.
  • the “characteristic that scatters light” refers to a combination of a characteristic that diffracts light, a characteristic that refracts light, and a characteristic that reflects light.
  • Examples of the light distribution characteristic adjusting layer 15 having the characteristic of scattering light include a form containing light scattering particles for scattering light.
  • the light scattering particle is a particle having a property of scattering incident light by diffracting, refracting or reflecting it.
  • the light scattering particles have an average particle diameter d 50 (B) of the following formulas (7) and (8): 0.8d 50 (B) ⁇ d 50 (R) ⁇ 1.2d 50 (B) ⁇ (7) 0.8d 50 (B) ⁇ d 50 (G) ⁇ 1.2d 50 (B) ⁇ (8) It is preferable to satisfy.
  • d 50 (R) refers to the average particle diameter of the red phosphor
  • d 50 (G) refers to the average particle diameter of the green phosphor.
  • the light emitted from the light distribution characteristic adjusting layer 15 that is used without converting the light from the organic EL layer 21 is isotropically emitted from the phosphor layer (changes in luminance and color purity depending on the viewing angle). Unlike small, brightness and color purity change with viewing angle. Therefore, the luminance and color purity of the light of the red pixel and the green pixel and the light of the blue pixel differ depending on the viewing angle.
  • the light distribution characteristic adjusting layer 15 scatters light from the organic EL layer 21 when the average particle diameters of the red phosphor, the green phosphor and the light scattering particles satisfy the above formulas (7) and (8).
  • the light distribution characteristics can be adjusted to be close to the light distribution characteristics of light from the red and green pixels.
  • the light distribution characteristic adjustment layer 15 can make the light distribution characteristic of light having directivity from the organic EL layer 21 closer to the light distribution characteristic of light emitted from the red phosphor layer 13 and the green phosphor layer 14. It becomes. Therefore, with the above-described configuration, the deviation between the luminance and color purity of the light emitted from the blue pixel and the luminance and color purity of the light emitted from the red pixel and the green pixel becomes very small. Therefore, the deviation between the luminance and color purity of red and green light and the luminance and color purity of blue light when the screen of the organic EL display 20 is viewed obliquely can be suppressed to an extent where it cannot be visually recognized.
  • the light scattering particles are preferably particles (fine particles) having an average particle diameter (d 50 ) of 0.5 ⁇ m or more and 50 ⁇ m or less, and more preferably 1 ⁇ m or more and 50 ⁇ m or less.
  • d 50 average particle diameter
  • the average particle diameter of the light scattering particles is 1 ⁇ m or less, the particle diameter of the light scattering particles is small, and therefore the effect of adjusting the light distribution characteristics of the light in the blue region incident on the light distribution characteristics adjustment layer 15 to the desired characteristics. Is not enough. Therefore, the light intensity in the front direction of the emitted light becomes stronger than the light intensity in the oblique direction. If the average particle diameter is 0.5 ⁇ m or less, the tendency becomes more remarkable.
  • the function of adjusting the light distribution characteristic by the light distribution characteristic adjustment layer 15 can be sufficiently extracted, and the light distribution characteristic is obtained. Can be adjusted satisfactorily. Therefore, deviation from the light distribution characteristics of the light from the red phosphor layer 13 and the green phosphor layer 14 can be suppressed.
  • the average particle diameter of the light scattering particles is 50 ⁇ m or more, the unevenness of the surface of the light distribution characteristic adjusting layer 15 becomes large, and the effect of scattering due to the unevenness of the surface is larger than the scattering inside the light distribution characteristic adjusting layer 15. Therefore, the effect of adjusting the light distribution characteristic to a desired characteristic cannot be obtained.
  • the average particle diameter of the light scattering particles is 50 ⁇ m or less, the unevenness of the surface of the light distribution characteristic adjusting layer 15 can be reduced, so that the light distribution characteristic of the light emitted from the light distribution characteristic adjusting layer 15 and the red phosphor The deviation from the light distribution characteristics of the light from the layer 13 and the green phosphor layer 14 can be reduced. Therefore, with the configuration described above, the luminance and color purity of the light emitted from the blue pixel can be made closer to the luminance and color purity of the light emitted from the red pixel and the green pixel. Angular characteristics can be obtained.
  • the light distribution characteristic adjusting layer 15 may be composed of light scattering particles alone or may be composed of light scattering particles and a resin material. In the case of using a light scattering particle and a resin material, it is preferable that the light scattering particle is dispersed in the resin material or the like. Moreover, it is preferable that the refractive index of light-scattering particle
  • the refractive index of the light scattering particles may be larger or smaller than the refractive index of the resin material or the like. The difference in refractive index is preferably as large as possible, and the refractive index ratio is preferably 1.1 to 1.5, and more preferably 1.2 to 1.3. Thereby, light having directivity can be efficiently converted into isotropic light.
  • the property of light scattering by the light distribution characteristic adjusting layer 15 greatly depends on the particle diameter (d) of the light scattering particles and the wavelength ( ⁇ ) of the incident light.
  • Mie scattering is preferable because the amount of light scattered forward can be increased more than the amount of light scattered backward. That is, it is preferable that the particle diameter of the light scattering particle and the wavelength of incident light are substantially equal.
  • the light distribution characteristic adjustment layer 15 can be produced with a simple configuration because the light distribution characteristic of only blue light has to be adjusted. For example, when adjusting the light distribution characteristics for light of two or more colors, the light distribution characteristics need to be adjusted for each wavelength of light of each color, and the light distribution characteristic adjustment layer is patterned for each color. It is necessary to make it. In this case, there arises a problem that the configuration and the process are complicated. However, the present invention can prevent such problems from occurring.
  • Light scattering particles Next, the light scattering particles will be described in detail.
  • the light scattering particles may be made of an organic material or may be made of an inorganic material, but is preferably made of an inorganic material. Thereby, it becomes possible to diffuse or scatter light having directivity from the organic EL unit 22 more isotropically and effectively. Moreover, it becomes possible to provide the light distribution characteristic adjustment layer 15 stable to light and heat by using an inorganic material.
  • the light scattering particles have high transparency.
  • the refractive index ratio with a resin material is contained in the numerical range mentioned above.
  • the main component is an oxide of at least one metal selected from the group consisting of silicon, titanium, zirconium, aluminum, indium, zinc, tin, and antimony. Examples thereof include particles (fine particles).
  • particles (inorganic fine particles) made of an inorganic material for example, silica beads (refractive index: 1.44), alumina beads (refractive index: 1.63), titanium oxide.
  • examples thereof include beads (refractive index: anatase type: 2.50, rutile type: 2.70), zirconia oxide beads (refractive index: 2.05), and zinc oxide beads (refractive index: 2.00).
  • particles (organic fine particles) made of an organic material are used as the light scattering particles, for example, polymethyl methacrylate beads (refractive index: 1.49), acrylic beads (refractive index: 1.50), acrylic- Styrene copolymer beads (refractive index: 1.54), melamine beads (refractive index: 1.57), high refractive index melamine beads (refractive index: 1.65), polycarbonate beads (refractive index: 1.57), Styrene beads (refractive index: 1.60), crosslinked polystyrene beads (refractive index: 1.61), polyvinyl chloride beads (refractive index: 1.60), benzoguanamine-melamine formaldehyde beads (refractive index: 1.68), Examples thereof include silicone beads (refractive index: 1.50).
  • the resin material that can be used for the light distribution characteristic adjusting layer 15 is preferably a translucent resin.
  • the resin material include melamine resin (refractive index: 1.57), nylon (refractive index: 1.53), polystyrene (refractive index: 1.60), melamine beads (refractive index: 1.57).
  • Polycarbonate (refractive index: 1.57), polyvinyl chloride (refractive index: 1.60), polyvinylidene chloride (refractive index: 1.61), polyvinyl acetate (refractive index: 1.46), polyethylene (refractive Ratio: 1.53), polymethyl methacrylate (refractive index: 1.49), poly MBS (refractive index: 1.54), medium density polyethylene (refractive index: 1.53), high density polyethylene (refractive index: 1.54), tetrafluoroethylene (refractive index: 1.35), polytrifluoroethylene chloride (refractive index: 1.42), polytetrafluoroethylene (refractive index: 1.35), and the like.
  • the light distribution characteristic adjustment layer 15 is not limited to the above-described configuration, and may be any layer that adjusts the luminance and color purity of light from the organic EL layer 21 as described above.
  • optical members such as a micro lens and a prism, can be used, for example.
  • the light distribution characteristic adjustment layer 15 may be provided, for example, on the surface of the sealing substrate 16 from which light is emitted.
  • the organic EL display 20 is such that a human being cannot visually recognize a shift in light distribution characteristics (change in luminance and chromaticity depending on viewing angle) of light from red pixels, green pixels, and blue pixels. Can be reduced. Thereby, it is possible to eliminate various problems caused by the difference in the light distribution characteristics of red, green and blue light.
  • Various problems include, for example, when red and green light is isotropic and blue light is directional light in the front direction, it is adjusted to look white when viewed from the front direction. Even when the image is viewed from an oblique direction, the luminance of blue is relatively lower than that of red and green, so that the image appears to be shifted in the yellow direction.
  • the present embodiment is configured by pixels that emit red, green, and blue, so that it is possible to obtain a full-color image by adjusting the luminance of light of each color.
  • pixels that emit cyan, yellow, and the like it is preferable to add pixels that emit cyan, yellow, and the like as necessary.
  • the color purity of light from pixels emitting cyan and yellow is preferably located outside the triangle connected by points indicating the color purity of pixels emitting red, green and blue on the chromaticity diagram. .
  • Inorganic sealing film 11 and resin sealing film 12 As the inorganic sealing film 11 and the resin sealing film 12, known materials and sealing methods can be used.
  • the material used for the inorganic sealing film 11 is preferably a light transmissive material.
  • the inorganic sealing film 11 include those in which an inert gas such as nitrogen gas or argon gas is sealed with glass, metal, or the like. Moreover, it is preferable to mix hygroscopic agents, such as barium oxide, in the enclosed inert gas. Thereby, deterioration of organic EL by a water
  • the resin used for the resin sealing film 12 a known material can be used as long as it is a light-transmitting resin.
  • a method of forming the resin sealing film 12 a method of applying a resin on the inorganic sealing film 11 formed on the semitransparent electrode 10 using a spin coat method, ODF, or a laminate method, or semitransparent A method of bonding the electrode 10 and a resin film can be used.
  • the organic EL display 20 may be configured not to include the inorganic sealing film 11.
  • the resin sealing film 12 can be directly formed on the translucent electrode 10 by the method described above.
  • the inorganic sealing film 11 and the resin sealing film 12 can prevent the entry of oxygen or moisture into the organic EL part 22 from the outside, and the life of the organic EL part 22 is improved. In addition, damage to the organic EL portion 22 and the like when the sealing substrate 16 is bonded to the substrate 1 can be reduced.
  • the sealing substrate 16 As the sealing substrate 16, a known material and a sealing method can be used.
  • the sealing substrate 16 is preferably transparent or translucent.
  • a substrate made of glass, plastic, or the like can be used. Thereby, the light from the red pixel, the green pixel, and the blue pixel can pass through the sealing substrate 16.
  • the sealing substrate 16 is the substrate 1 on which the organic EL portion 22 and the like are formed after the red phosphor layer 13, the green phosphor layer 14, and the light distribution characteristic adjusting layer 15 are formed on the surface facing the substrate 1. And may be pasted together. In that case, it is preferable to flatten by forming a flattening film or the like to be described later on the red phosphor layer 13, the green phosphor layer 14, and the light distribution characteristic adjusting layer 15 on the sealing substrate 16. . Thereby, it is possible to prevent a space from being formed between the organic EL unit 22 and the red phosphor layer 13, the green phosphor layer 14, and the light distribution characteristic adjusting layer 15, and the adhesion between the substrate 1 and the sealing substrate 16. Can be improved.
  • the organic EL display 20 may further include a low reflection film and a color filter. Each configuration will be described below.
  • the low reflection film can be provided between the color filters, between the phosphor layers, between the phosphor layer, and the light distribution characteristic adjusting layer 15. Since each light emission of RGB is emphasized by the low reflection film, visibility can be improved.
  • a known material can be used, and examples thereof include an inorganic material and an organic material.
  • the inorganic material include silicon oxide (SiO 2 ), silicon nitride (SiN or Si 2 N 4 ), tantalum oxide (TaO or Ta 2 O 5 ), and the like.
  • the organic material include an acrylic resin and a resist material.
  • Examples of the method for forming the low-reflection film include a chemical vapor deposition (CVD) method, a dry process such as a vacuum deposition method, and a wet process such as a spin coating method. Moreover, it can also pattern by the photolithographic method etc. as needed.
  • CVD chemical vapor deposition
  • dry process such as a vacuum deposition method
  • wet process such as a spin coating method.
  • it can also pattern by the photolithographic method etc. as needed.
  • the color filter is preferably provided on the light emission surface of the red phosphor layer 13, the green phosphor layer 14, and the light distribution characteristic adjustment layer 15.
  • the color filter can be provided, for example, between the sealing substrate 16 and the red phosphor layer 13, the green phosphor layer 14, and the light distribution characteristic adjustment layer 15.
  • a known color filter can be used as the color filter.
  • the color filter by providing the color filter, the color purity of the red pixel, the green pixel, and the blue pixel can be increased, and the color reproduction range of the organic EL display 20 and the organic EL display device including the same can be expanded. it can.
  • a green color filter is preferably formed on the green phosphor layer 14.
  • the red color filter and the green color filter absorb the blue component and ultraviolet component of the external light, so that it is possible to reduce or prevent light emission by the external light of each phosphor layer, and to reduce or prevent the decrease in contrast. Can do.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing a configuration of a main part of an organic EL display according to another embodiment of the present invention.
  • FIG. 3 shows a portion of the organic EL element included in the organic EL display 40.
  • constituent elements having the same functions as those of the constituent elements according to the first embodiment are given the same numbers, and explanation thereof is omitted. In the present embodiment, differences from the first embodiment will be mainly described.
  • the organic EL display 40 is an active matrix drive type, and includes a substrate 1, a gate electrode 41, a drain electrode 42, a source electrode 43, a gate insulating film 44, a wiring 45, a through hole 46, and a planarizing film. 47, the organic EL part 22, the inorganic sealing film 11, the resin sealing film 12, the red phosphor layer 13, the green phosphor layer 14, the light distribution characteristic adjusting layer 15, the black matrix 48, A sealing substrate 16 is used.
  • the organic EL display 40 includes a TFT as an active element, and drives the organic EL unit 22 in an active matrix. Therefore, excellent display quality can be obtained. In addition, since the light emission time can be made longer than in the case of passive driving, it is possible to reduce the driving voltage for obtaining a desired luminance and to reduce power consumption.
  • a gate electrode 41 constituting a plurality of gate lines and a source electrode constituting a plurality of signal lines are formed, and a TFT is arranged at an intersection of the gate electrode 41 and the source electrode 43. Is done.
  • a planarizing film 47 is formed on the TFT. That is, the TFT is provided on the side opposite to the organic EL layer 21 with respect to the reflective electrode 2.
  • the organic EL display 40 is driven by a voltage-driven digital gradation method, and two TFTs for switching and driving are arranged for each pixel.
  • the driving TFT and the reflective electrode 2 of the organic EL portion 22 are electrically connected through a contact hole formed in the planarizing film 47.
  • a capacitor for setting the gate potential of the driving TFT to a constant potential is arranged so as to be connected to the gate electrode 41 of the driving TFT.
  • the present invention is not limited to the voltage-driven digital gradation method, and may be driven by a current-driven analog gradation method.
  • the configuration of the TFT may include two or more TFTs with a compensation circuit built in the pixel. If the organic EL unit 22 is driven by the TFT having such a configuration, variations in TFT characteristics (mobility, threshold voltage) can be prevented.
  • a black matrix 48 is formed between the red phosphor layer 13, the green phosphor layer 14, and the light distribution characteristic adjusting layer 15.
  • the TFT is preferably formed on the substrate 1 in advance before forming the organic EL portion 22.
  • Examples of the TFT include those that function for switching and driving.
  • a known TFT can be used.
  • a metal-insulator-metal (MIM) diode can be used instead of the TFT.
  • TFT that can be used for the organic EL display 40
  • known materials, structures, and formation methods can be used.
  • the material of the active layer of TFT for example, amorphous silicon (amorphous silicon), polycrystalline silicon (polysilicon), microcrystalline silicon, inorganic semiconductor materials such as cadmium selenide, zinc oxide, indium oxide-gallium oxide- Examples thereof include oxide semiconductor materials such as zinc oxide, organic semiconductor materials such as polythiophene derivatives, thiophene oligomers, poly (p-ferylene vinylene) derivatives, naphthacene, and pentacene.
  • the TFT structure include a staggered type, an inverted staggered type, a top gate type, and a coplanar type.
  • a method for forming an active layer constituting a TFT (1) a method of ion doping impurities into amorphous silicon formed by a plasma induced chemical vapor deposition (PECVD) method or the like, and (2) a silane (SiH 4 ) gas is used.
  • PECVD plasma induced chemical vapor deposition
  • SiH 4 silane
  • LPCVD low pressure chemical vapor deposition
  • the gate insulating film 44 of the TFT used in this embodiment can be formed using a known material.
  • PECVD method SiO 2 was formed by the LPCVD method or the like, SiO 2 or the like obtained by the polysilicon film by thermal oxidation and the like.
  • the source electrode 43, the gate electrode 41, and the drain electrode 42 of the TFT used in the present embodiment can be formed using known materials, for example, tantalum (Ta), aluminum (Al), copper (Cu ) And the like.
  • the TFT of the organic EL display 40 can be formed with the above-described configuration, but is not limited to these materials, structures, and formation methods.
  • the planarizing film 47 is formed on the TFT formed on the substrate 1.
  • the present invention is not limited to such a configuration.
  • an interlayer insulating film may be formed on the TFT, and the planarizing film 47 may be provided on the interlayer insulating film.
  • the organic EL display 40 since the TFT is formed on the substrate 1, irregularities are formed on the surface thereof.
  • the organic EL portion 22 is directly formed on the surface, due to the unevenness, for example, the defect of the reflective electrode 2, the defect of the organic EL layer 21, the disconnection of the semitransparent electrode 10, the reflection electrode 2 and the semitransparent electrode 10 There is a risk that defects in the organic EL part 22 such as short circuiting and lowering of breakdown voltage may occur.
  • the planarization film 47 can be formed using a known material, and examples thereof include inorganic materials such as silicon oxide, silicon nitride, and tantalum oxide, and organic materials such as polyimide, acrylic resin, and resist material.
  • examples of the method for forming the planarizing film 47 include a dry process such as a CVD method and a vacuum deposition method, and a wet process such as a spin coating method. Further, the planarization film 47 may have a single layer structure or a multilayer structure.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing a configuration of a main part of an organic EL display according to another embodiment of the present invention.
  • FIG. 4 shows a portion of the organic EL element included in the organic EL display 60.
  • constituent elements having the same functions as those of the constituent elements according to the first embodiment are given the same numbers, and explanation thereof is omitted. In the present embodiment, differences from the first embodiment will be mainly described.
  • the organic EL display 60 includes a substrate 1, an organic EL unit 22, an inorganic sealing film 11, a resin sealing film 12, a polarizing film (polarizing plate) 61, a substrate 62, a transparent electrode 63, and an alignment film. 64, a liquid crystal layer 65, a planarizing film 66, a red phosphor layer 13, a green phosphor layer 14, a light distribution characteristic adjusting layer 15, and a sealing substrate 16.
  • the resin sealing film 12 between the resin sealing film 12, the red phosphor layer 13, the green phosphor layer 14, and the light distribution characteristic adjusting layer 15, the polarizing film 61, the substrate 62, the transparent electrode 63.
  • an alignment film 64, a liquid crystal layer 65, and a planarizing film 66 are provided.
  • the substrate 62, the polarizing film 61, the transparent electrode 63, the alignment film 64, and the liquid crystal layer 65 function as so-called switching elements.
  • the substrate 62 is a substrate for forming the transparent electrode 63.
  • the polarizing film 61 is a layer for controlling the transmittance of the liquid crystal layer 65.
  • the transparent electrode 63 is an electrode for driving the liquid crystal layer 65.
  • the alignment film 64 is a film for aligning the liquid crystal of the liquid crystal layer 65.
  • the liquid crystal layer 65 is driven when a voltage is applied to switch the red pixel, the green pixel, and the blue pixel. Thereby, an excellent display quality can be obtained.
  • a known material can be used for the substrate 62, the transparent electrode 63, the alignment film 64, and the liquid crystal layer 65.
  • the planarizing film 66 is formed between the polarizing film 61 and the red phosphor layer 13, the green phosphor layer 14, and the light distribution characteristic adjusting layer 15.
  • the same film as the planarizing film 47 in the second embodiment can be used.
  • the planarization film 66 can prevent a space from being formed between the polarizing film 61 and the red phosphor layer 13, the green phosphor layer 14, and the light distribution characteristic adjustment layer 15.
  • the light distribution characteristic adjusting layer emits the luminance of light from the organic EL layer from the luminance of light emitted from the red phosphor layer and the green phosphor layer. And adjusting the color purity of the light from the organic EL layer to the color purity of the light emitted from the red phosphor layer and the light emitted from the green phosphor layer. It is preferable to adjust the color purity so as to approach the color purity.
  • a blue pixel will bring the brightness
  • the difference in luminance and color purity between the pixels of each color depending on the viewing angle is small, so that it is possible to reduce the change in the balance of the luminance and color purity of each color when viewed from the front and obliquely.
  • the light from the pixels of each color is isotropic, good viewing angle characteristics can be obtained.
  • the luminance in the front direction is L0R
  • the luminance in the direction inclined by 60 degrees with respect to the front direction is L. 60R
  • the luminance in the front direction of the light emitted from the green phosphor layer is L 0G
  • the luminance in the direction inclined by 60 degrees with respect to the front direction is L 60G
  • the light distribution characteristic adjustment layer is as follows: Formulas (1) and (2) 0.8L 60R / L 0R ⁇ L 60B / L 0B ⁇ 1.2L 60R / L 0R (1) 0.8L 60G / L 0G ⁇ L 60B / L 0B ⁇ 1.2L 60G / L 0G (2) It is preferable to adjust the
  • the deviation between the luminance of the light emitted from the blue pixel and the luminance of the light emitted from the red phosphor layer and the green phosphor layer is very small.
  • the deviation between the luminance of red and green light and the luminance of blue light can be suppressed to the extent that it cannot be visually recognized.
  • the color purity in the front direction out of the light emitted from the red phosphor layer is set to (x 0R , y 0R ) and tilted by 60 degrees with respect to the front direction.
  • the color purity in the measured direction is (x 60R , y 60R )
  • the color purity in the front direction of the light emitted from the green phosphor layer is (x 0G , y 0G ), and 60 % with respect to the front direction.
  • the color purity in the inclined direction is (x 60G , y 60G )
  • the color purity in the front direction of the light emitted from the light distribution characteristic adjusting layer is (x 0B , y 0B )
  • the front direction When the color purity in a direction inclined by 60 degrees is (x 60B , y 60B ), the light distribution characteristic adjusting layer has the following formulas (3) to (6):
  • the deviation between the color purity of the light emitted from the blue pixel and the color purity of the light emitted from the red phosphor layer and the green phosphor layer is very small.
  • the difference between the color purity of the red and green light and the color purity of the blue light can be suppressed to the extent that it cannot be visually recognized.
  • the wavelength corresponding to the maximum value of the light emission intensity of the light emitted from the organic EL layer is 400 nm or more and 480 nm or less.
  • the wavelength corresponding to the maximum value of the light emission intensity of the light emitted from the organic EL layer is 400 nm or more, the light emission efficiency and the life can be improved. Moreover, since the said wavelength is 480 nm or less, a fluorescent substance layer, especially a green fluorescent substance layer can be efficiently excited by the light from an organic electroluminescent layer, and can be light-emitted.
  • the light distribution characteristic adjusting layer includes light scattering particles for scattering light, and an average particle diameter of the red phosphor included in the red phosphor layer is d 50.
  • R when the average particle diameter of the green phosphor included in the green phosphor layer is d 50 (G) and the average particle diameter of the light scattering particles is d 50 (B) , the following formula (7) and (8) 0.8d 50 (B) ⁇ d 50 (R) ⁇ 1.2d 50 (B) ⁇ (7) 0.8d 50 (B) ⁇ d 50 (G) ⁇ 1.2d 50 (B) ⁇ (8) It is preferable to satisfy.
  • emitted from a red fluorescent substance layer and a green fluorescent substance layer becomes very small. .
  • the deviation between the luminance and color purity of red and green light and the luminance and color purity of blue light when viewed from an oblique direction can be suppressed to an extent where it cannot be visually recognized.
  • the light scattering particles are preferably made of an inorganic material.
  • the light scattering particles preferably have an average particle diameter of 1 ⁇ m or more and 50 ⁇ m or less.
  • the average particle diameter of the light scattering particles is 1 ⁇ m or less, the particle diameter of the light scattering particles is small, so that the effect of adjusting the light distribution characteristics cannot be sufficiently obtained. Optical characteristics can be adjusted satisfactorily. Further, if the average particle diameter of the light scattering particles is 50 ⁇ m or more, the unevenness of the surface of the light distribution characteristic adjustment layer becomes large, and the scattering on the surface becomes more dominant than the scattering inside the light distribution characteristic adjustment layer, The effect of adjusting the light distribution characteristic to a desired characteristic cannot be obtained. However, with the above configuration, the unevenness on the surface of the light distribution characteristic adjusting layer can be reduced, and thus the light distribution characteristic can be adjusted favorably.
  • the luminance and color purity of the light emitted from the blue pixel can be made closer to the luminance and color purity of the light emitted from the red phosphor layer and the green phosphor layer. It is possible to obtain good viewing angle characteristics.
  • the organic EL device it is preferable that at least one of the red phosphor included in the red phosphor layer and the green phosphor included in the green phosphor layer is made of an inorganic material.
  • red fluorescent substance layer or green fluorescent substance layer containing what was comprised with the inorganic material among red fluorescent substance and green fluorescent substance be a layer (film
  • the average particle diameter of at least one of the red phosphor included in the red phosphor layer and the green phosphor included in the green phosphor layer is 0.5 ⁇ m or more and 50 ⁇ m or less. It is preferable.
  • the average particle diameter of the phosphor is 0.5 ⁇ m or more, high luminous efficiency can be obtained.
  • the average particle diameter is 50 ⁇ m or less, it becomes easy to form a flat film as the red phosphor layer or the green phosphor layer, and a space is formed between the surrounding layers, resulting in a decrease in luminous efficiency. Can be prevented.
  • the translucent electrode contains silver. If it is said structure, the reflectance and transmittance
  • the film thickness of the translucent electrode is 10 nm or more and 30 nm or less.
  • the film thickness is 10 nm or more, the light can be sufficiently reflected by the translucent electrode, so that a high interference effect can be obtained. Further, since the film thickness is 30 nm or less, light can be transmitted efficiently, and sufficient luminance and light emission efficiency can be obtained.
  • the organic EL layer contains a phosphorescent material that emits phosphorescence in a blue region.
  • a color filter is provided on the light emission surface of the red phosphor layer, the green phosphor layer, and the light distribution characteristic adjusting layer.
  • the color purity of the light emitted from the red phosphor layer, the green phosphor layer, and the light distribution characteristic adjusting layer can be increased. Therefore, when used in an organic EL display, the color reproduction range can be expanded.
  • a polarizing plate is provided on the side opposite to the organic EL layer with respect to the semitransparent electrode.
  • the red phosphor layer and the green fluorescent layer are disposed between the organic EL layer and the red phosphor layer, the green phosphor layer, and the light distribution characteristic adjusting layer. It is preferable to provide a liquid crystal layer for switching the body layer and the light distribution characteristic adjusting layer.
  • the liquid crystal layer functions as a so-called switching element, it is possible to provide an organic EL display with excellent display quality when used in an organic EL display.
  • the organic EL display according to the present invention preferably includes an active element that drives the organic EL element in an active matrix.
  • the above configuration can provide an organic EL display with excellent display quality.
  • the light emission time can be made longer than in the case of passive driving, it is possible to reduce the driving voltage for obtaining a desired luminance and to reduce power consumption.
  • the active element is provided on the side opposite to the organic EL layer with respect to the reflective electrode.
  • the aperture ratio can be increased without considering the wiring in the active element. Therefore, it is possible to provide an organic EL display with low power consumption.
  • Example 1 An organic EL display device including an organic EL display having the same configuration as the organic EL display 20 in the first embodiment described above was produced. Hereinafter, the same member number is attached to a member having the same function as a constituent member of the organic EL display 20.
  • the substrate 1 organic EL element substrate on which the organic EL part 22 was formed was produced.
  • a glass substrate having a thickness of 0.7 mm was used as the substrate 1.
  • a silver film is formed on the substrate 1 to a thickness of 100 nm by sputtering, and an indium-tin oxide (ITO) film is formed on the substrate 1 to a thickness of 20 nm by sputtering.
  • ITO indium-tin oxide
  • the reflective electrode 2 was patterned into 90 stripes with a width of 2 mm by a known photolithography method.
  • the partition layer 17 has a structure in which the short side of the reflective electrode 2 is covered with SiO 2 by 10 ⁇ m from the end. After washing with water, pure water ultrasonic cleaning was performed for 10 minutes, acetone ultrasonic cleaning for 10 minutes, and isopropyl alcohol vapor cleaning for 5 minutes, followed by drying at 100 ° C. for 1 hour.
  • the substrate 1 was fixed to a substrate holder in an inline type resistance heating vapor deposition apparatus, and after reducing the pressure to 1 ⁇ 10 ⁇ 4 Pa or less, each organic layer in the organic EL layer 21 was formed.
  • a hole injection layer 4 having a film thickness of 120 nm was formed by resistance heating vapor deposition using 1,1-bis-di-4-tolylamino-phenyl-cyclohexane (TAPC) as a hole injection material.
  • TAPC 1,1-bis-di-4-tolylamino-phenyl-cyclohexane
  • N, N′-di-1-naphthyl-N, N′-diphenyl-1,1′-biphenyl-1,1′-biphenyl-4,4′-diamine is used as a hole transport material.
  • a hole transport layer 5 having a thickness of 40 nm was formed by resistance heating vapor deposition.
  • This blue organic light-emitting layer comprises 1,4-bis-triphenylsilyl-benzene (UGH-2) (host material) and bis [(4,6-difluorophenyl) -pyridinato-N, C2 ′] picolinate iridium (III ) (FIrpic) (blue phosphorescent light-emitting dopant) and the vapor deposition rates were 1.5 ⁇ / sec and 0.2 ⁇ / sec, respectively.
  • UH-2 1,4-bis-triphenylsilyl-benzene
  • FIrpic picolinate iridium
  • a hole blocking layer 7 (thickness: 10 nm) was formed on the light emitting layer 6 using 2,9-dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline (BCP).
  • BCP 2,9-dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline
  • an electron transport layer 8 (thickness: 30 nm) was formed on the hole blocking layer 7 using tris (8-hydroxyquinoline) aluminum (Alq 3 ).
  • an electron injection layer 9 (thickness: 0.5 nm) was formed on the electron transport layer 8 using lithium fluoride (LiF).
  • a translucent electrode 10 was formed.
  • the substrate 1 was fixed to a metal deposition chamber.
  • a shadow mask for forming a translucent electrode (a mask in which an opening is formed so that the translucent electrode 10 can be formed in a stripe shape having a width of 2 mm in a direction perpendicular to the long side direction of the reflective electrode 2)
  • the substrate 1 are aligned, and magnesium and silver are co-deposited on the surface of the electron injection layer 9 by a vacuum deposition method at a deposition rate of 0.1 ⁇ / sec and 0.9 ⁇ / sec, respectively. In a desired pattern.
  • the peak wavelength of the light emitted from the organic EL part 22 due to the microcavity effect among the light emitted from the organic EL layer 21 is 460 nm, the half width.
  • the half width. was set to an optical distance (total organic film thickness: 230 nm) such that the thickness was 50 nm.
  • the produced organic EL part 22 has a microcavity effect (interference effect) between the reflective electrode 2 and the translucent electrode 10 and can emit light with high front luminance. Therefore, the light emission energy from the organic EL part 22 can be efficiently propagated by the red phosphor layer 13, the green phosphor layer 14, and the light distribution characteristic adjustment layer 15.
  • an inorganic sealing film 11 made of 3 ⁇ m of SiO 2 was formed by plasma CVD.
  • the inorganic sealing film 11 was patterned using a shadow mask from the top, bottom, left, and right ends of the display portion to a region (sealing area) having a width of 2 mm.
  • the display unit refers to a part where an image is displayed.
  • a sealing substrate 16 (phosphor substrate) on which the red phosphor layer 13, the green phosphor layer 14, and the light distribution characteristic adjusting layer 15 were formed was produced.
  • red phosphor layer 13 15 g of ethanol and 0.22 g of ⁇ -glycidoxypropyltriethoxysilane were added to 0.16 g of aerosil having an average particle diameter of 5 nm, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour in an open system. Next, this mixture and 20 g of red phosphor K 5 Eu 2.5 (WO 4 ) 6.25 having an average particle size (d 50 (R) ) of 1.0 ⁇ m were transferred to a mortar, and thoroughly mixed. Heating was performed in an oven at 70 ° C. for 2 hours and further in an oven at 120 ° C. for 2 hours to obtain surface-modified K 5 Eu 2.5 (WO 4 ) 6.25 .
  • the green phosphor layer 14 15 g of ethanol and 0.22 g of ⁇ -glycidoxypropyltriethoxysilane were added to 0.16 g of aerosil having an average particle size of 5 nm, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour in an open system.
  • the mixture and 20 g of green phosphor Ba 2 SiO 4 : Eu 2+ with an average particle size (d 50 (G) ) of 1.0 ⁇ m were transferred to a mortar, thoroughly mixed, and then further heated in an oven at 70 ° C. for 2 hours. Heating was performed in an oven at 120 ° C. for 2 hours to obtain surface-modified Ba 2 SiO 4 : Eu 2+ .
  • the formation of the light distribution characteristic adjusting layer 15 will be described.
  • Dissolved in 20 g of silica particles (refractive index: 1.65) having an average particle diameter (d 50 (B) ) of 1.5 ⁇ m used as light scattering particles in a mixed solution (300 g) of water / dimethyl sulfoxide 1/1.
  • 30 g of polyvinyl alcohol was added and stirred with a disperser to prepare a coating liquid (light distribution characteristic adjusting layer forming coating liquid).
  • This coating solution was applied to a desired position in a width of 3 mm on the sealing substrate 16 by a screen printing method. Thereafter, it was dried by heating in a vacuum oven (200 ° C., 10 mmHg conditions) for 4 hours to form a light distribution characteristic adjusting layer 15.
  • the phosphor substrate was fabricated through the above steps.
  • thermosetting resin was applied to the phosphor substrate, and both the substrates were brought into close contact with each other through the thermosetting resin.
  • the alignment was performed using an alignment marker formed outside the display unit.
  • the thermosetting resin was cured by heating at 90 ° C. for 2 hours.
  • the bonding step was performed in a dry air environment (water content: ⁇ 80 ° C.) for the purpose of preventing deterioration of the organic EL due to water.
  • an organic EL display device was completed by connecting terminals formed in the periphery to an external power source.
  • a desired power source was applied by an external power source, and the light distribution characteristics of light from the red pixel, the green pixel, and the blue pixel, and the change in color purity with respect to the viewing angle were measured. Based on the measured values, relative luminance (L 60R / L 0R , L 60G / L 0G) in a direction inclined by 60 degrees with respect to the front direction when the luminance in the front direction of light is set to 1 for each pixel. L 60B / L 0B ) was calculated.
  • values obtained by subtracting the color purity in the front direction from the color purity in the direction inclined by 60 degrees with respect to the front direction ((x 60R -x 0R ), (y 60R -y 0R ), (x 60G -X 0G ), (y 60G -y 0G ), (x 60B -x 0B ), (y 60B -y 0B )) were calculated and used as the amount of change in color purity.
  • FIG. 5 is a diagram showing the light distribution characteristics of light obtained by the organic EL display device in one embodiment of the present invention.
  • FIG. 6 is a graph showing the change in color purity with respect to the viewing angle in the organic EL display device according to one embodiment of the present invention.
  • the organic EL display device has good viewing angle characteristics and a very small deviation in luminance and color purity of each color pixel depending on the viewing angle.
  • a red phosphor layer 13 is formed using a red phosphor having an average particle diameter (d 50 (R) ) of 20 ⁇ m
  • a green phosphor layer 14 is formed using a green phosphor having an average particle diameter (d 50 (G) ) of 25 ⁇ m.
  • the light distribution characteristic adjusting layer 15 was formed using silica particles having an average particle diameter (d 50 (B) ) of 20 ⁇ m as light scattering particles. Except for these points, an organic EL display device was fabricated using the same configuration and method as in Example 1.
  • Example 3 A red phosphor layer 13 is formed using a red phosphor having an average particle diameter (d 50 (R) ) of 50 ⁇ m, and a green phosphor layer 14 is formed using a green phosphor having an average particle diameter (d 50 (G) ) of 42 ⁇ m.
  • the light distribution characteristic adjusting layer 15 was formed using silica particles having an average particle diameter (d 50 (B) ) of 50 ⁇ m as light scattering particles. Except for these points, an organic EL display device was fabricated using the same configuration and method as in Example 1.
  • Example 4 A hole injection layer 4 having a thickness of 140 nm was formed by resistance heating vapor deposition using 1,1-bis-di-4-tolylamino-phenyl-cyclohexane (TAPC) as a hole injection material. Further, between the reflective electrode 2 and the translucent electrode 10 of the organic EL unit 22, the peak wavelength of light emitted from the organic EL unit 22 due to the microcavity effect among the light emitted from the organic EL layer 21 is 480 nm, The optical distance (total organic film thickness: 230 nm) was set such that the half width was 50 nm. Except for these points, an organic EL display device was fabricated using the same configuration and method as in Example 1.
  • TAPC 1,1-bis-di-4-tolylamino-phenyl-cyclohexane
  • Example 5 A hole injection layer 4 having a thickness of 100 nm was formed by resistance heating vapor deposition using 1,1-bis-di-4-tolylamino-phenyl-cyclohexane (TAPC) as a hole injection material. Further, a blue organic light emitting layer (thickness: 30 nm) was formed as the light emitting layer 6.
  • TAPC 1,1-bis-di-4-tolylamino-phenyl-cyclohexane
  • This blue organic light-emitting layer comprises 2- (diphenylphosphorin) spirofluorene (SPPO1) (host material) and [tris (N, N′-diphenylbenzimidazoline-2-ylidene) iridium] (Ir (dpbic) 3 ) ( Blue phosphorescent light emitting dopants) were used for co-evaporation at a deposition rate of 1.5 ⁇ / sec and 0.2 ⁇ / sec.
  • the peak wavelength of the light emitted from the organic EL part 22 due to the microcavity effect among the light emitted from the organic EL layer 21 is 400 nm
  • the optical distance (total organic film thickness: 200 nm) was set such that the half width was 50 nm.
  • FIG. 7 is a cross-sectional view schematically showing a schematic configuration of an organic EL display in one comparative example of the present invention.
  • the organic EL display 100 includes a substrate 101, a reflective electrode 102, an edge cover 103, a hole injection layer 104, a hole transport layer 105, a light emitting layer 106, a hole prevention layer 107, and an electron transport layer 108.
  • the organic EL display 100 has the same configuration as the organic EL display in Example 1 except that the light distribution characteristic adjustment layer 15 is not provided. That is, the substrate 101, the reflective electrode 102, the edge cover 103, the hole injection layer 104, the hole transport layer 105, the light emitting layer 106, the hole prevention layer 107, the electron transport layer 108, the electron injection layer 109, the translucent electrode 110,
  • the inorganic sealing film 111, the resin sealing film 112, the red phosphor layer 113, the green phosphor layer 114, the sealing substrate 116, and the partition wall layer 117 are the substrate 1, the reflective electrode 2, the edge cover 3, and the hole injection layer, respectively.
  • FIGS. 8 and 9 are diagram showing light distribution characteristics of light obtained by the organic EL display device in one comparative example of the present invention.
  • FIG. 9 is a graph showing the change in color purity with respect to the viewing angle in the organic EL display device in one comparative example of the present invention.
  • the light from the red pixel and the green pixel was isotropic, but the light from the blue pixel was directional light. Therefore, it was suggested that the color when viewed from the oblique direction is shifted to yellow as compared with the color when viewed from the front direction.
  • the light from the blue pixel has a lower relative luminance and a larger amount of color purity change than the light from the other pixels.
  • the red phosphor layer 13 is formed using a red phosphor having an average particle diameter (d 50 (R) ) of 1.0 ⁇ m, and green using a green phosphor having an average particle diameter (d 50 (G) ) of 1.0 ⁇ m.
  • the phosphor layer 14 was formed, and the light distribution characteristic adjusting layer 15 was formed using silica particles having an average particle diameter (d 50 (B) ) of 0.5 ⁇ m as light scattering particles. Except for these points, an organic EL display device was fabricated using the same configuration and method as in Example 1.
  • the light distribution characteristics of light from the red pixel, the green pixel, and the blue pixel, and the change in color purity with respect to the viewing angle were measured. The amount of change was calculated. The results are shown in Table 1. As shown in Table 1, the light from the blue pixel had a lower relative luminance and a greater amount of color purity change than the light from the other pixels.
  • the red phosphor layer 13 is formed using a red phosphor having an average particle diameter (d 50 (R) ) of 1.0 ⁇ m, and green using a green phosphor having an average particle diameter (d 50 (G) ) of 1.0 ⁇ m.
  • the phosphor layer 14 was formed, and the light distribution characteristic adjusting layer 15 was formed using silica particles having an average particle diameter (d 50 (B) ) of 100 ⁇ m. Except for these points, an organic EL display device was fabricated using the same configuration and method as in Example 1.
  • the light distribution characteristics of light from the red pixel, the green pixel, and the blue pixel, and the change in color purity with respect to the viewing angle were measured. The amount of change was calculated. The results are shown in Table 1. As shown in Table 1, the light from the blue pixel had a lower relative luminance and a greater amount of color purity change than the light from the other pixels.
  • Example 6 An organic EL display device including an organic EL display having the same configuration as the organic EL display 40 in the second embodiment described above was produced. Hereinafter, the same member number is attached to a member having the same function as the constituent member of the organic EL display 40.
  • a substrate 1 (active element substrate) on which an active element was formed was produced.
  • a 100 ⁇ 100 mm square glass substrate was used as the substrate 1.
  • An amorphous silicon semiconductor film was formed on the substrate 1 using PECVD.
  • a polycrystalline silicon semiconductor film was formed by performing a crystallization treatment.
  • the polycrystalline silicon semiconductor film was patterned into a plurality of islands using a photolithography method.
  • a gate insulating film 44 and a gate electrode 41 were formed in this order on the patterned polycrystalline silicon semiconductor layer, and patterning was performed using a photolithography method.
  • the patterned polycrystalline silicon semiconductor film was doped with an impurity element such as phosphorus to form a source electrode 43 and a drain electrode 42, and a TFT element was produced.
  • planarizing film 47 was formed.
  • the planarizing film 47 was formed by laminating an acrylic resin layer on a silicon nitride film formed by PECVD using a spin coater. First, after forming a silicon nitride film, the silicon nitride film and the gate insulating film 44 are collectively etched to form a contact hole that leads to the source electrode 43 and / or the drain electrode 42, and then the wiring 45 is formed. Formed. Thereafter, an acrylic resin layer that realizes the function as the planarizing film 47 is formed, and a contact hole that communicates with the drain electrode 42 is formed at the same position as the contact hole of the drain electrode 42 drilled in the gate insulating film 44 and the silicon nitride film.
  • the active matrix substrate was completed by forming.
  • a capacitor for making the gate potential of the TFT constant is formed by interposing an insulating film such as an interlayer insulating film between the drain electrode 42 of the switching TFT and the source electrode 43 of the driving TFT.
  • a contact hole is provided through the planarization film 47 to electrically connect the driving TFT and the reflective electrode 2 corresponding to each pixel of the organic EL portion 22. Yes.
  • the reflective electrode 2 (anode) was formed by sputtering. .
  • the reflective electrode 2 was formed by laminating Al (aluminum) with a thickness of 150 nm and IZO (indium oxide-zinc oxide) with a thickness of 20 nm.
  • the reflective electrode 2 was patterned into a shape corresponding to each pixel using a known photolithography method.
  • the area of the reflective electrode 2 was set to 300 ⁇ m ⁇ 100 ⁇ m.
  • an 80 ⁇ 80 mm display portion was formed on a 100 ⁇ 100 mm square substrate 1, and sealing areas with a width of 2 mm were provided on the top, bottom, left and right of the display portion.
  • a terminal extraction portion having a width of 2 mm was provided outside the sealing area.
  • a 2 mm wide terminal lead-out portion was provided on the side to be bent.
  • SiO 2 is deposited to 200 nm on the reflective electrode 2 by a sputtering method, and patterned to cover the edge portion of the reflective electrode 2 by a known photolithography method.
  • a structure in which four sides from the end of the reflective electrode 2 by 10 ⁇ m are covered with SiO 2 is used as the edge cover 3.
  • the active element substrate was manufactured by the above process. This active element substrate was cleaned before the next step. As the cleaning of the active element substrate, ultrasonic cleaning using acetone and IPA was performed for 10 minutes, and then UV-ozone cleaning was performed for 30 minutes.
  • Organic EL element substrate (Organic EL element substrate) Using the active element substrate, the organic EL layer 21, the translucent electrode 10, and the inorganic sealing film 11 were formed using the same materials and methods as in Example 1 to produce an organic EL element substrate.
  • a sealing substrate 16 (phosphor substrate) on which the red phosphor layer 13, the green phosphor layer 14, and the light distribution characteristic adjusting layer 15 were formed was produced.
  • the red phosphor layer 13 uses a red phosphor K 5 Eu 2.5 (WO 4 ) 6.25 having a mean particle diameter (d 50 (R) ) of 1.0 ⁇ m as a red phosphor, and a red phosphor. It formed by apply
  • the green phosphor layer 14 uses, as a green phosphor, a green phosphor Ba 2 SiO 4 : Eu 2+ having an average particle diameter (d 50 (R) ) of 1.0 ⁇ m, and a green phosphor forming coating solution at a width of 110 ⁇ m. It was formed by coating.
  • the light distribution characteristic adjusting layer 15 was formed by applying the same light distribution characteristic adjusting layer forming coating liquid as in Example 1 in a width of 110 ⁇ m.
  • the phosphor substrate was fabricated through the above steps.
  • the terminal formed on the short side of the substrate is connected to the power supply circuit via the source driver, and the terminal formed on the long side is connected to the external power supply via the gate driver, thereby An active drive type organic EL display device having a display portion of ⁇ 80 mm was completed.
  • Example 7 An organic EL display device including an organic EL display having the same configuration as the organic EL display 60 in the third embodiment described above was produced. Hereinafter, the same member number is attached to a member having the same function as a constituent member of the organic EL display 60.
  • Example 1 An organic EL element substrate was produced using the same materials and methods as in Example 1, and a liquid crystal substrate and a phosphor substrate were produced by the following steps.
  • a glass substrate was used as the substrate 62, and a switching element made of TFT was formed on the glass substrate by a known method.
  • an ITO transparent electrode having a film thickness of 100 nm was formed so as to be electrically connected to the TFT through a contact hole.
  • the ITO transparent electrode was patterned using a known photolithography method so that the transparent electrodes 63 having the same pitch as the pixels in the organic EL portion 22 of the organic EL element substrate were formed.
  • the alignment film 64 was formed using a printing method.
  • a red phosphor layer 13, a green phosphor layer 14, and a light distribution characteristic adjustment layer 15 were formed on the sealing substrate 16 by the same method as in Example 1.
  • a planarizing film 66 was formed on the red phosphor layer 13, the green phosphor layer 14, and the light distribution characteristic adjusting layer 15 by using an acrylic resin by a spin coating method.
  • a polarizing film 61, a transparent electrode 63, and an alignment film 64 were formed on the planarizing film 66 by a known method.
  • liquid crystal / phosphor substrate (Liquid crystal / phosphor substrate)
  • the liquid crystal substrate and the phosphor substrate were bonded via a 10 ⁇ m spacer, and a liquid crystal layer 65 was formed by injecting a TN mode liquid crystal material therebetween.
  • the polarizing film 61 was formed by the well-known method in the surface on the opposite side to the surface in which the transparent electrode 63 is formed in the board
  • an organic EL display device was completed by connecting terminals formed in the periphery to an external power source.
  • a desired power source is applied to the organic EL unit 22 by an external power source, and a desired voltage for driving the liquid crystal is applied to the transparent electrode 63 of the liquid crystal unit. A good image could be obtained.
  • the present invention can provide an organic EL element having a good viewing angle characteristic and a small deviation in luminance and color purity of each color pixel depending on the viewing angle at a low cost. Therefore, an organic EL display, an organic EL display device, etc. Can be suitably used.

Abstract

　反射電極（２）と、半透明電極（１０）と、これらに挟持され、青色の光を発光する有機ＥＬ層（２１）と、有機ＥＬ層（２１）からの光を赤色に変換する赤色蛍光体層（１３）と、有機ＥＬ層（２１）からの光を緑色に変換する緑色蛍光体層（１４）と、有機ＥＬ層（２１）からの光の配光特性を調整する配光特性調整層（１５）により構成されている青色画素とを備えており、反射電極（２）および半透明電極（１０）が、マイクロキャビティ効果を発現する構造である。

Description

有機ＥＬ素子、有機ＥＬディスプレイおよび有機ＥＬ表示装置
　本発明は、有機ＥＬ素子、有機ＥＬディスプレイおよび有機ＥＬ表示装置に関するものである。
　近年、高度情報化に伴い、フラットパネルディスプレイのニーズが高まっている。フラットパネルディスプレイとしては、非自発光型の液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、自発光型のプラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、無機エレクトロルミネセンス（無機ＥＬ）ディスプレイ、有機エレクトロルミネセンス（以下「有機ＥＬ」又は「有機ＬＥＤ」ともいう。）ディスプレイ等が知られているが、これらのフラットパネルディスプレイの中でも、有機ＥＬディスプレイの進歩は特に著しい。
　有機ＥＬディスプレイにおいては、単純マトリクス駆動により動画表示を行なう技術、または、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を用いて、有機ＥＬ素子のアクティブマトリクス駆動により動画表示を行なう技術などが知られている。
　また、従来、赤色、緑色、青色を発光する画素を1つの単位として並置することによって、白色をはじめとする様々な色を作り出すことによりフルカラー化を行なう方法が知られている。赤色、緑色、青色の画素を形成するために、従来の有機ＥＬの場合、シャドーマスクを用いたマスク蒸着法により有機発光層を塗り分ける方法が一般的に用いられている。
　また、特許文献１には、青色発光あるいは青緑色発光する発光層を有する有機ＥＬ素子と、前記発光層からの発光を吸収し可視光の蛍光を発光する蛍光材料部とを組み合わせることにより、フルカラー表示する方法が記載されている。
　また、特許文献２、３、４、５には、光学的微小共振器（マイクロキャビティ）構造を有する有機ＥＬ素子が記載されている。特許文献３、４には、赤色画素（Ｒ）、緑色画素（Ｇ）、青色画素（Ｂ）全てに、有機ＥＬ素子からの発光を吸収して可視光の蛍光を発光する色変換部を用いる方法が記載されている。また、特許文献２には、有機ＥＬ素子から青色領域の光を放出し、緑色画素では放出された青色領域の光を緑色領域の光に変換し、赤色画素では放出された青色領域の光を赤色領域の光に変換する方法が記載されている。特許文献５には、発光層および色交換層を一対の光反射層の中間に配置する構成が記載されている。
日本国公開特許公報「特開平３－１５２８９７号公報（１９９１年６月２８日公開）」 日本国公開特許公報「特開平９－９２４６６号公報（１９９７年４月４日公開）」 日本国公開特許公報「特開２００２－３５９０７６号公報（２００２年１２月１３日公開）」 日本国公開特許公報「特開２００４－１４３３５号公報（２００４年１月１５日公開）」 日本国公開特許公報「特開２００９－２０５９２８号公報（２００９年９月１０日公開）」
　上述した従来の有機発光層を塗り分ける方法では、基板のサイズと同等以上のサイズのマスクを必要とするため、近年の基板の大型化に伴って、大型基板に対応したマスクの作製および加工を行なう必要がある。特に、テレビ（ＴＶ）に代表される大型ディスプレイの分野では、Ｇ６、Ｇ８、さらにＧ１０というように基板が大型化している。しかし、マスクの作製および加工には、非常に薄い金属（一般的な膜厚：５０～１００ｎｍ）が必要とされるため、マスクの大型化は非常に困難である。
　また、この方法では、マスクの加工精度およびアライメント精度を高くする必要がある。マスクの加工精度およびアライメント精度が低い場合には、発光層が混じることによる混色が生じ得る。また、混色を防止するため、画素間に設ける絶縁層の幅を広く取ると、画素の面積が予め決まっている場合には、非発光部の面積が小さくなる。すなわち、画素の開口率の低下に繋がり、輝度の低下、消費電力の上昇、寿命の低下に繋がる。
　また、従来の方法では、蒸着ソースを基板より下側に配置し、有機材料を下から上方向に蒸着することで有機層を成膜するため、基板の大型化（マスクの大型化）に伴い、中央部においてマスクが撓むという問題が生じる。また、蒸着中のマスクの熱膨張によっても同様の問題が生じる。ここで、マスクが撓んでしまうと、上述した混色の原因ともなる。また、マスクの撓みがひどい場合には、有機層が形成されない部分が生じたり、上下の電極がリークしたりするという欠陥に繋がる。
　また、従来の方法では、マスクは、特定の回数使用した後に、劣化により使用不可能となるため、マスクの大型化の問題は、ディスプレイの製造におけるコストアップに繋がる。特に有機ＥＬディスプレイにおいては、コストアップを防ぐことが非常に重要な課題となっている。
　また、特許文献１に記載された技術では、発光層からの発光が等方的であるため、この発光が蛍光材料部に届くまでの光のロスが大きく、発光効率が低下する。発光効率が低いと、消費電力が上昇するため、ディスプレイ、表示装置などの分野では、発光効率を上げることが重要である。
　また、有機ＥＬは、その発光層に有機蛍光体材料を用いた場合には、発光層からの光の発光スペクトルにおけるピークの波長を十分に短波長側とすることができず、また、半値幅が８０ｎｍ程度と広くなるため、十分な色純度を有する光を得ることができない。また、発光層に、有機蛍光体材料よりも発光効率が優れている有機燐光材料を用いた場合には、さらに色純度が低下する。このため、有機ＥＬ素子においては、その発光強度および色純度を向上させることが重要である。
　そこで、発光層からの光の発光強度および色純度を向上させるために、有機ＥＬ素子をマイクロキャビティ構造とすることが有効である。ここで、図１０に、マイクロキャビティ構造を有する有機ＥＬ素子からの発光スペクトルと、非マイクロキャビティ構造を有する有機ＥＬ素子からの発光スペクトルとを示す。図１０に示すように、有機ＥＬ素子がマイクロキャビティ構造である場合には、非マイクロキャビティ構造である場合よりも、有機ＥＬ素子からの発光強度および色純度が向上するため、発光効率を上げることができる。
　しかし、マイクロキャビティ構造を利用する特許文献２、３、４、５に記載された技術では、以下のような問題がある。
　特許文献３、４では、ＲＧＢの全てに色変換部を用いているため、青色画素に用いる色変換部における蛍光体を励起するためには、有機ＥＬ素子の発光層は、青色領域の光より短波長の光を発光するものでなければならない。したがって、この場合には、発光層からの光の発光効率が低下したり、寿命が低下したりするなどの問題が生じる。
　また、特許文献２に記載された技術では、緑色画素および赤色画素については、有機ＥＬ素子から放出された青色領域の光を蛍光体層などにより蛍光変換して発光するのに対し、青色画素では、有機ＥＬ素子から放出された青色領域の光を直接用いることとなる。ここで、マイクロキャビティ構造を有する有機ＥＬ素子からの光は、指向性を有する。赤色画素および緑色画素からの光は、蛍光体層によって等方的な光に変換されるため、視野角により輝度および色純度が変化しない。一方、有機ＥＬ素子からの光を直接利用する青色画素からの光は、指向性を有する光となるため、視野角により輝度および色純度が変化する。すなわち、視野角によって、赤色画素および緑色画素からの光の輝度および色純度と、青色画素からの光の輝度および色純度とがずれてしまうという問題が生じる。
　このように、各色の画素の配光特性が異なっている場合には、視野角によって発光の視認性および発光強度のバランスが崩れてしまう。例えば視野角によって青色の輝度が赤色および緑色の輝度に対して顕著に低かったり、正面から見る場合と斜めから見る場合とで色純度が異なったりするなどの問題が起こる。そのため、正面から見た場合に白色に見える画像が、斜めから見た場合に黄色に見えてしまうなどの問題が生じる。このような問題は、ディスプレイおよび表示装置においては致命的な問題となる。
　また、特許文献５に記載された方法は、発光層と色変換層とを含めた層においてマイクロキャビティ効果を得る方法であるが、この方法では、全ての色の画素からの光が指向性のある光となるため、視野角特性が悪くなるという問題が新たに生じる。
　本発明は、上述した従来技術が有する問題に鑑みてなされたものであり、その目的は、マィクロキャビテイ効果を発現する構造を有する有機ＥＬ素子を備えた有機ＥＬディスプレイおよび有機ＥＬ表示装置において、良好な視野角特性を有し、かつ視野角による各色の画素の輝度および色純度のずれが小さい有機ＥＬ素子を低コストにて提供することにある。
　上記の課題を解決するために、本発明に係る有機ＥＬ素子は、反射電極と、半透明電極と、前記反射電極および前記半透明電極に挟持され、青色の光を発光する有機ＥＬ層と、前記有機ＥＬ層からの光を赤色領域の光に変換する赤色蛍光体層と、前記有機ＥＬ層からの光を緑色領域の光に変換する緑色蛍光体層と、前記有機ＥＬ層からの光の配光特性を調整する配光特性調整層により構成されている青色画素とを備えており、前記反射電極および前記半透明電極が、マイクロキャビティ効果を発現する構造であることを特徴とする。
　上記の構成であれば、マイクロキャビティ効果を発現する構造によって、指向性を有し、正面方向における輝度（以下、「正面輝度」ともいう。）が高い光を発光するため、高い発光効率が得られるとともに、寿命を長くすることができるので、低コスト化および低消費電力化に資することができる。
　また、赤色蛍光体層および緑色蛍光体層は、有機ＥＬ層からの指向性を有する光を吸収し、より等方的な光を出射することができる。また、青色画素は、配光特性調整層によって、有機ＥＬ層からの光の配光特性（例えば輝度、色純度等）を調整するため、等方的な光となるように配光特性を調整することも可能となる。
　そのため、視野角によって各色の画素の配光特性のずれを小さくすることが可能になり、正面から見たときと斜めから見たときとの各色の配光特性のバランスの変化を低減させることが可能になる。また、各色の画素からの光が等方的であれば、良好な視野角特性を得ることができる。したがって、本発明に係る有機ＥＬ素子をディスプレイおよび表示装置に用いた場合には、高品質な有機ＥＬディスプレイおよび有機ＥＬ表示装置を提供することができる。また、本発明は、大型ディスプレイおよび表示装置にも好適に利用することができる。
　また、上記の課題を解決するために、本発明に係る有機ＥＬディスプレイは、上述したいずれかの有機ＥＬ素子を備えることを特徴とする。
　上記の構成であれば、良好な視野角特性を有し、かつ視野角による各色の画素の輝度および色純度が揃っている有機ＥＬディスプレイを提供することができる。
　また、上記の課題を解決するために、本発明に係る有機ＥＬ表示装置は、上述したいずれかの有機ＥＬディスプレイを備えていることを特徴とする。
　上記の構成であれば、良好な視野角特性を有し、かつ視野角による各色の画素の輝度および色純度のずれが小さい有機ＥＬ表示装置を低コストにて提供することができる。
　本発明に係る有機ＥＬ素子は、以上のように、反射電極と、半透明電極と、前記反射電極および前記半透明電極に挟持され、青色の光を発光する有機ＥＬ層と、前記有機ＥＬ層からの光を赤色領域の光に変換する赤色蛍光体層と、前記有機ＥＬ層からの光を緑色領域の光に変換する緑色蛍光体層と、前記有機ＥＬ層からの光の配光特性を調整する配光特性調整層により構成されている青色画素とを備えており、前記反射電極および前記半透明電極が、マイクロキャビティ効果を発現する構造であるので、良好な視野角特性を有し、かつ視野角による各色の画素の輝度および色純度のずれが小さい有機ＥＬ素子を低コストにて提供できる。
　本発明の他の目的、特徴、及び優れた点は、以下に示す記載によって十分分かるであろう。また、本発明の利点は、添付図面を参照した次の説明で明白になるであろう。
本発明の一実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの要部の概略構成を模式的に示す断面図である。 本発明の一実施形態に係る有機ＥＬ表示装置が用いる回路の一部の構成を示す図である。 本発明の他の実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの要部の構成を模式的に示す断面図である。 本発明の他の実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの要部の構成を模式的に示す断面図である。 本発明の一実施例における有機ＥＬ表示装置によって得られる光の配光特性を示す図である。 本発明の一実施例における有機ＥＬ表示装置における視野角に対する色純度の変化を示すグラフである。 本発明の一比較例における有機ＥＬディスプレイの概略構成を模式的に示す断面図である。 本発明の一比較例における有機ＥＬ表示装置によって得られる光の配光特性を示す図である。 本発明の一比較例における有機ＥＬ表示装置における視野角に対する色純度の変化を示すグラフである。 マイクロキャビティ構造を有する有機ＥＬ素子からの発光スペクトルと、非マイクロキャビティ構造を有する有機ＥＬ素子からの発光スペクトルとを示す図である。
　以下に本発明の実施形態および実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらの実施形態および実施例に限定されるものではない。
　〔第１実施形態〕
　まず、本発明の一実施形態に係る有機ＥＬ表示装置が備える有機ＥＬディスプレイ２０の要部の概略構成について、図１を参照して説明する。図１は、本発明の一実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの要部の概略構成を模式的に示す断面図である。なお、図１は、有機ＥＬディスプレイ２０が備える有機ＥＬ素子の部分を示している。
　有機ＥＬディスプレイ２０は、有機ＥＬ素子として、基板１と、有機ＥＬ部２２と、無機封止膜１１と、樹脂封止膜１２と、赤色蛍光体層１３と、緑色蛍光体層１４と、配光特性調整層１５と、封止基板１６と、隔壁層１７とを備えている。
　基板１上には、有機ＥＬ部２２における反射電極２、エッジカバー３、隔壁層１７、有機ＥＬ層２１、および半透明電極１０がこの順で積層されている。なお、基板１には、例えば画素、有機ＥＬディスプレイ２０などを駆動するためのＴＦＴ等のアクティブ素子が形成されてもよい。
　隔壁層１７は、有機ＥＬ部２２の外側に形成される絶縁性の層である。隔壁層１７によって、有機ＥＬ層２１をウエットプロセスにより作製する際、塗布される塗液等を保持することができる。
　有機ＥＬ部２２は、反射電極２と、半透明電極１０と、有機ＥＬ層２１と、エッジカバー３とにより構成されている。
　反射電極２および半透明電極１０は、対となって機能する一対の電極であり、有機ＥＬ層２１を挟持している。また、反射電極２は陽極であり、有機ＥＬ層２１に正孔の注入を行なう電極である。半透明電極１０は、陰極であり、有機ＥＬ層２１に電子の注入を行なう電極である。
　有機ＥＬ層２１は、反射電極２と半透明電極１０とに挟持された、青色の光を発光する層であり、有機発光材料を含む発光層６と、電荷を注入または輸送するための層（以下、「電荷注入輸送層」ともいう。）として機能する、正孔注入層４、正孔輸送層５、正孔防止層７、電子輸送層８、および電子注入層９とを備えている。有機ＥＬ層２１において発光した光は、半透明電極１０を透過して外部に取り出される。
　エッジカバー３は、反射電極２と半透明電極１０との間に形成される絶縁性のカバーである。エッジカバー３によって、反射電極２の端となるエッジ部において、反射電極２と半透明電極１０との間でリークすることを防止できる。
　反射電極２と半透明電極１０との間は、有機ＥＬ層２１から発光する光のうち青色領域の光の強度を増強するような微小共振器を構成する光学距離に設定されている。すなわち、有機ＥＬ部２２は、反射電極２と半透明電極１０との間の多重干渉を利用するマイクロキャビティの原理を用いており、いわゆるマイクロキャビティ効果を発現する構造（光学的微小共振器構造）を有している。マイクロキャビティ効果を発現する構造としては、例えば、反射電極２と半透明電極１０との間の厚さを増強したい光の波長に合致するように、設定することにより形成することがより望ましい。有機ＥＬ画素において、一対の反射電極２と半透明電極１０とで、有機ＥＬ層２１は挟持されている。そのうち反射電極２を鏡面の全反射素材とし、半透明電極１０を誘電体ミラーの半透過素材とし、さらに有機ＥＬ層２１の厚みを、増強したい光の波長に合致する厚みに形成する。これにより、有機ＥＬ層２１で発光した光のうち、波長のずれた光成分は反射電極２と半透明電極１０との間で多重反射を繰り返し、共振することで、所望の波長に増強されて出力する。
　ここで、光学的微小共振器構造を有する有機ＥＬ素子は、所望の波長の発光を増強することができる（図１０参照）。本実施形態における有機ＥＬ部２２は、青色領域の光の強度を増強することができる。なお、反射電極２と半透明電極１０との間の距離は、有機ＥＬ層２１の膜厚を調整することによって調整することができる。
　無機封止膜１１は、無機化合物により構成されている封止膜であり、樹脂封止膜１２は、樹脂により構成されている封止膜である。
　赤色蛍光体層１３は、有機ＥＬ部２２からの青色領域の光を吸収し、赤色領域の光に変換する赤色蛍光体により構成されている蛍光体層であり、赤色画素として機能する。緑色蛍光体層１４は、有機ＥＬ部２２からの青色領域の光を吸収し、緑色領域の光に変換する緑色蛍光体により構成されている蛍光体層であり、緑色画素として機能する。これにより、赤色画素および緑色画素においては、赤色蛍光体層１３および緑色蛍光体層１４によって、光学的微小共振器構造を有する有機ＥＬ部２２からの指向性を有する光を吸収し、より等方的な光を出射することができる。
　配光特性調整層１５は、有機ＥＬ部２２からの光の配光特性を調整する層であり、青色画素として機能する。ここで、「配光特性」とは、視野角による光の輝度、色純度等に関する特性をさす。
　封止基板１６は、上述した構成部材を封止する基板である。
　以下に、各構成部材についてさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
　＜基板１＞
　基板１としては、例えば、ガラス、石英等からなる無機材料基板、ポリエチレンテレフタレート、ポリカルバゾール、ポリイミド等からなるプラスティック基板、アルミナ等からなるセラミックス基板等の絶縁性基板、アルミニウム（Ａｌ）、鉄（Ｆｅ）等からなる金属基板等が挙げられる。また、これらの基板上の表面に酸化シリコン（ＳｉＯ２）、有機絶縁材料等からなる絶縁物をコーティングした基板、Ａｌ等からなる金属基板の表面に対して陽極酸化等の方法で絶縁化処理を施した基板等であってもよい。
　上述した基板のなかでも、湾曲部、折り曲げ部などをストレスなく形成することが可能である点から、プラスティック基板または金属基板を用いることが好ましい。また、プラスティック基板に無機材料をコートした基板、または金属基板に無機絶縁材料をコートした基板がより好ましい。プラスティック基板を用いた場合には、水分が透過して有機ＥＬ層２１が劣化する問題を生じることがあるが、上述した構成により、このような問題を防ぐことができる。なお、有機ＥＬ層２１は、少量の水分に対しても劣化が起こり得ることが知られている。また、金属基板を用いた場合には、金属基板の突起によるリーク（ショート）を起こすことがあるが、上述した構成により、このような問題を防ぐことができる。なお、有機ＥＬ層の膜厚は、１００～２００ｎｍ程度と非常に薄いことが多く、基板の突起によって、画素部における電流にリーク（ショート）が顕著に起こることが知られている。
　また、基板１上には、アクティブ素子としてＴＦＴが形成されてもよい。この場合には、基板１には、５００℃以下の温度において融解せず、かつ歪みが生じない基板を用いることが好ましい。また、基板１に金属基板を用いる場合には、線膨張係数が１×１０－５／℃以下の鉄－ニッケル系合金である金属基板を用いることが好ましい。これにより、基板１の線膨張係数がガラスと同程度であるため、従来の生産装置を用いて安価に、基板１上にＴＦＴを形成することができる。また、基板１にプラスティック基板を用いる場合には、プラスティック基板は耐熱温度が比較的低いため、まず別のガラス基板上にＴＦＴを形成した後、基板１上にこのＴＦＴを転写することによって、ＴＦＴを転写形成することができる。
　また、有機ＥＬディスプレイ２０の各画素内には、ＴＦＴ等のスイッチング回路が配置されていることが好ましい。ここで、スイッチング回路を含む回路３０の構成について、図２を用いて説明する。図２は、本発明の一実施形態に係る有機ＥＬ表示装置が用いる回路の一部の構成を示す図である。
　回路３０は、ゲート線３１、信号線３２、電源線３３、スイッチングＴＦＴ３４、駆動用ＴＦＴ（アクティブ素子）３５、保持容量３６、有機ＥＬ部２２、および接地線３８により構成されている。
　回路３０は、複数のゲート線３１と複数の信号線３２とを備えており、画素毎にスイッチングＴＦＴ３４と駆動用ＴＦＴ３５との２つのＴＦＴが配置される。スイッチングＴＦＴ３４は、ゲート線３１と信号線３２との交差部に配置される。駆動用ＴＦＴ３５は、有機ＥＬ部２２における反射電極２に電気的に接続される。なお、有機ＥＬディスプレイ２０は、電圧駆動デジタル階調方式などにより駆動されることができる。
　回路３０は、それぞれの有機ＥＬ部２２を駆動するために、外部駆動回路（走査線電極回路（ソースドライバ）、データ信号電極回路（ゲートドライバ）、電源回路）に電気的に接続されていてもよい。
　＜有機ＥＬ部２２＞
　有機ＥＬ部２２が発光する光の発光強度の極大値に対応する波長は、４００ｎｍ以上４８０ｎｍ以下であることが好ましい。ここで、有機ＥＬに用いる有機材料の発光効率および寿命は、短波長の光を発光させるものであればあるほど低下する傾向があるが、有機ＥＬ部２２が発光する光の発光強度の極大値に対応する波長が４００ｎｍ以上であれば、当該発光効率および寿命を向上させることができる。また、蛍光体は、４８０ｎｍ以上の光に対しては吸収量が低下する。特に緑色蛍光体は、一般的に４８０ｎｍ以上の長波長の光に対して、吸収量が急激に低下する。したがって、当該波長が４８０ｎｍ以下であれば、有機ＥＬ部２２からの光によって蛍光体、特に緑色蛍光体を効率よく励起させ、発光させることができる。
　ここで、有機ＥＬ部２２は、青色領域の光を発光するため、有機ＥＬ素子を赤色、緑色、青色の各画素にパターン化する従来の塗り分け方式に比べて、製造コスト、材料コストを格段に低減させることが可能となる。
　本実施形態では、光学的微小共振器構造を有する有機ＥＬ部２２を用いているため、良好な発光効率が得られるとともに、寿命を長くすることができるので、低コスト化および低消費電力化することができる。さらに、本実施形態は、大型ディスプレイおよび表示装置としても好適に利用することができる。
　（有機ＥＬ層２１）
　本実施形態における有機ＥＬ層２１は、発光層６と電荷注入輸送層との多層構造であるが、これに限らず、例えば発光層６のみの単層構造であってもよい。有機ＥＬ層２１としては、本実施形態の構成に限らず、例えば以下の（１）～（９）の各構成とすることができる。
（１）発光層６
（２）正孔輸送層５／発光層６
（３）発光層６／電子輸送層８
（４）正孔輸送層／発光層６／電子輸送層８
（５）正孔注入層４／正孔輸送層５／発光層６／電子輸送層８
（６）正孔注入層４／正孔輸送層５／発光層６／電子輸送層８／電子注入層９
（７）正孔注入層４／正孔輸送層５／発光層６／正孔防止層７／電子輸送層８
（８）正孔注入層４／正孔輸送層５／発光層６／正孔防止層７／電子輸送層８／電子注入層９
（９）正孔注入層４／正孔輸送層５／電子防止層／発光層６／正孔防止層７／電子輸送層８／電子注入層９。
　発光層６、正孔注入層４、正孔輸送層５、正孔防止層７、電子防止層、電子輸送層８および電子注入層９の各層は、単層構造であってもよいし、多層構造であってもよい。
　有機ＥＬ層２１における各層の膜厚は、１ｎｍ～１０００ｎｍ程度であってもよいが、１０ｎｍ～２００ｎｍであることが好ましい。膜厚が１０ｎｍ以上であれば、有機ＥＬ層２１の各層として良好な物性（電荷の注入特性、輸送特性、閉じ込め特性など）を得ることができる。また、ゴミ等の異物による画素欠陥を防ぐことができる。また、膜厚が２００ｎｍ以下であれば、有機ＥＬ層２１の抵抗成分により駆動電圧が上昇することを防ぐことができ、消費電力を抑えることが可能になる。
　（発光層６）
　発光層６は、有機化合物からなる発光材料（有機発光材料）を含んでいることが好ましい。発光層６は、例えば有機発光材料のみにより構成されていてもよいし、発光性のドーパントとホスト材料との組み合わせにより構成されていてもよい。また、正孔輸送材料、電子輸送材料、添加剤（ドナー、アクセプター等）等が任意に含まれていてもよい。また、これらの材料が高分子材料（結着用樹脂）又は無機材料中に分散されている構成であってもよい。なかでも、発光効率および寿命の観点から、ホスト材料中に発光性のドーパントが分散されたものを用いることが好ましい。
　有機発光材料としては、有機ＥＬ層などに用いられる公知の発光材料を好適に用いることができる。発光材料として、低分子発光材料、高分子発光材料等を用いることができる。また、発光材料として、蛍光材料、燐光材料等を用いることができる。なかでも、低消費電力化の観点から、発光効率の高い燐光材料を用いることが好ましい。
　ここで、具体的な化合物を以下に例示するが、本発明はこれらの材料に限定されるものではない。
　低分子発光材料としては、例えば、芳香族ジメチリデン化合物、オキサジアゾール化合物、トリアゾール誘導体、スチリルベンゼン化合物、フルオレノン誘導体等の蛍光性有機材料等が挙げられる。芳香族ジメチリデン化合物としては、４，４’－ビス（２，２’－ジフェニルビニル）－ビフェニル（ＤＰＶＢｉ）等が挙げられる。オキサジアゾール化合物としては、５－メチル－２－［２－［４－（５－メチル－２－ベンゾオキサゾリル）フェニル］ビニル］ベンゾオキサゾール等が挙げられる。トリアゾール誘導体としては、３－（４－ビフェニルイル）－４－フェニル－５－ｔ－ブチルフェニル－１，２，４－トリアゾール（ＴＡＺ）等が挙げられる。スチリルベンゼン化合物としては、１，４－ビス（２－メチルスチリル）ベンゼン等が挙げられる。
　高分子発光材料としては、例えば、ポリフェニレンビニレン誘導体、ポリスピロ誘導体等が挙げられる。ポリフェニレンビニレン誘導体としては、ポリ（２－デシルオキシ－１，４－フェニレン）（ＤＯ－ＰＰＰ）等が挙げられる。ポリスピロ誘導体としては、ポリ（９，９－ジオクチルフルオレン）（ＰＤＡＦ）等が挙げられる。
　発光性のドーパントとしては、有機ＥＬ層などに用いられる公知のドーパント材料を好適に用いることができる。このようなドーパント材料としては、例えば、蛍光発光材料、燐光発光有機金属錯体等が挙げられる。蛍光発光材料としては、スチリル誘導体等が挙げられる。燐光発光有機金属錯体としては、ビス［（４，６－ジフルオロフェニル）－ピリジナト－Ｎ，Ｃ２‘］ピコリネート　イリジウム（ＩＩＩ）（ＦＩｒｐｉｃ）、ビス（４’,６‘－ジフルオロフェニルポリジナト）テトラキス（１－ピラゾイル）ボレート　イリジウム（ＩＩＩ）（ＦＩｒ６）等が挙げられる。
　また、ドーパントを用いる際のホスト材料としては、有機ＥＬ層などに用いられる公知のホスト材料を好適に用いることができる。このようなホスト材料としては、上述した低分子発光材料、上述した高分子発光材料、カルバゾール誘導体、アニリン誘導体、フルオレン誘導体等が挙げられる。カルバゾール誘導体としては、４，４‘－ビス（カルバゾール）ビフェニル、９，９－ジ（４－ジカルバゾール－ベンジル）フルオレン（ＣＰＦ）、３，６－ビス（トリフェニルシリル）カルバゾール（ｍＣＰ）、（ＰＣＦ）等が挙げられる。アニリン誘導体としては、４－（ジフェニルフォスフォイル）－Ｎ，Ｎ-ジフェニルアニリン（ＨＭ－Ａ１）等が挙げられる。フルオレン誘導体としては、１，３－ビス（９－フェニル－９Ｈ－フルオレン－９－イル）ベンゼン（ｍＤＰＦＢ）、１，４－ビス（９－フェニル－９Ｈ－フルオレン－９－イル）ベンゼン（ｐＤＰＦＢ）等が挙げられる。
　（電荷注入輸送層）
　電荷注入輸送層は、電荷注入層（正孔注入層４、電子注入層９）と電荷輸送層（正孔輸送層５、電子輸送層８）とに分けられる。電荷注入輸送層が設けられることにより、電荷（正孔、電子）の電極からの注入と発光層６への輸送（注入）とをより効率よく行なうことができる。
　電荷注入輸送層としては、以下に例示する材料のみから構成されていてもよいが、任意に添加剤（ドナー、アクセプター等）等を含んでいてもよく、また、これらの材料が高分子材料（結着用樹脂）、無機材料等の中に分散された構成であってもよい。
　電荷注入輸送層に用いる材料としては、有機ＥＬ層、有機光導電体などの電荷注入輸送層に用いられる公知の材料を用いることができる。当該材料は、正孔を注入または輸送する材料（以下、「正孔注入輸送材料」ともいう。）と、電子を注入または輸送する材料（以下、「電子注入輸送材料」ともいう。）とに分けられる。これらの具体的な化合物を以下に例示するが、本発明はこれらの材料に限定されるものではない。
　正孔注入輸送材料としては、例えば、酸化物、無機ｐ型半導体材料、ポルフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物、低分子材料、高分子材料等が挙げられる。酸化物としては、酸化バナジウム（Ｖ２Ｏ５）、酸化モリブデン（ＭｏＯ２）等が挙げられる。芳香族第三級アミン化合物としては、Ｎ，Ｎ’－ビス（３－メチルフェニル）－Ｎ，Ｎ’－ビス（フェニル）－ベンジジン（ＴＰＤ）、Ｎ，Ｎ’－ジ（ナフタレン－１－イル）－Ｎ，Ｎ’－ジフェニル－ベンジジン（ＮＰＤ）等が挙げられる。低分子材料としては、ヒドラゾン化合物、キナクリドン化合物、スチリルアミン化合物等が挙げられる。高分子材料としては、ポリアニリン（ＰＡＮＩ）、ポリアニリン－樟脳スルホン酸（ＰＡＮＩ－ＣＳＡ）、３，４－ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンサルフォネイト（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）、ポリ（トリフェニルアミン）誘導体（Ｐｏｌｙ－ＴＰＤ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＣｚ）、ポリ（ｐ－フェニレンビニレン）（ＰＰＶ）、ポリ（ｐ－ナフタレンビニレン）（ＰＮＶ）等が挙げられる。
　また、正孔注入層４としては、正孔輸送層５に使用する正孔注入輸送材料よりも最高被占分子軌道（ＨＯＭＯ）のエネルギー準位が低い材料を用いることが好ましい。また、正孔輸送層５としては、正孔注入層４に使用する正孔注入輸送材料よりも正孔の移動度が高い材料を用いることが好ましい。これにより、陽極からの正孔の注入および輸送をより効率よく行なうことができる。
　また、上述した正孔注入輸送材料にアクセプターをドープしたものを用いることが好ましい。これにより、正孔の注入・輸送性をより向上させることができる。アクセプターとしては、有機ＥＬに用いられる公知のアクセプター材料を用いることができる。これらの具体的な化合物を以下に例示するが、本発明はこれらの材料に限定されるものではない。
　アクセプター材料としては、例えば、無機材料、シアノ基を有する化合物、ニトロ基を有する化合物、有機材料等が挙げられる。無機材料としては、金（Ａｕ）、白金（Ｐｔ）、タングステン（Ｗ）、イリジウム（Ｉｒ）、塩化ホスホリル（ＰＯＣｌ３）、六フッ化ヒ素（ＡｓＦ６）、塩素（Ｃｌ）、臭素（Ｂｒ）、ヨウ素（Ｉ）、酸化バナジウム（Ｖ２Ｏ５）、酸化モリブデン（ＭｏＯ２）等が挙げられる。シアノ基を有する化合物としては、ＴＣＮＱ（７，７，８，８，－テトラシアノキノジメタン）、ＴＣＮＱＦ４（テトラフルオロテトラシアノキノジメタン）、ＴＣＮＥ（テトラシアノエチレン）、ＨＣＮＢ（ヘキサシアノブタジエン）、ＤＤＱ（ジシクロジシアノベンゾキノン）等が挙げられる。ニトロ基を有する化合物としては、ＴＮＦ（トリニトロフルオレノン）、ＤＮＦ（ジニトロフルオレノン）等が挙げられる。有機材料としては、フルオラニル、クロラニル、ブロマニル等が挙げられる。このうち、ＴＣＮＱ、ＴＣＮＱＦ４、ＴＣＮＥ、ＨＣＮＢ、ＤＤＱ等のシアノ基を有する化合物であれば、キャリア濃度をより効果的に増加させることが可能であるため好ましい。
　電子注入輸送材料としては、例えば、ｎ型半導体である無機材料、オキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、チオピラジンジオキシド誘導体、ベンゾキノン誘導体、ナフトキノン誘導体、アントラキノン誘導体、ジフェノキノン誘導体、フルオレノン誘導体、ベンゾジフラン誘導体等の低分子材料；ポリ（オキサジアゾール）（Ｐｏｌｙ－ＯＸＺ）、ポリスチレン誘導体（ＰＳＳ）等の高分子材料が挙げられる。特に、電子注入材料としては、特にフッ化リチウム（ＬｉＦ）、フッ化バリウム（ＢａＦ２）等のフッ化物、酸化リチウム（Ｌｉ２Ｏ）等の酸化物等が挙げられる。
　電子注入層９としては、電子輸送層８に使用する電子注入輸送材料より最低空分子軌道（ＬＵＭＯ）のエネルギー準位が高い材料を用いることが好ましい。また、電子輸送層８としては、電子注入層９に使用する電子注入輸送材料より電子の移動度が高い材料を用いることが好ましい。これにより、電子の陰極からの注入・輸送をより効率よく行なうことができる。
　また、より電子の注入・輸送性を向上させるため、電子注入輸送材料にドナーをドープすることが好ましい。ドナーとしては、有機ＥＬに用いられる公知のドナー材料を用いることができる。これらの具体的な化合物を以下に例示するが、本発明はこれらの材料に限定されるものではない。
　ドナー材料としては、例えば、無機材料、芳香族３級アミンを骨格にもつ化合物、縮合多環化合物、有機材料等が挙げられる。無機材料としては、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Ａｌ、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、インジウム（Ｉｎ）等が挙げられる。芳香族３級アミンを骨格にもつ化合物としては、アニリン類、フェニレンジアミン類、ベンジジン類（Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラフェニルベンジジン、Ｎ，Ｎ’－ビス－（３－メチルフェニル）－Ｎ，Ｎ’－ビス－（フェニル）－ベンジジン、Ｎ，Ｎ’－ジ（ナフタレン－１－イル）－Ｎ，Ｎ’－ジフェニル－ベンジジン等）、トリフェニルアミン類（トリフェニルアミン、４，４’４''－トリス（Ｎ，Ｎ－ジフェニル－アミノ）－トリフェニルアミン、４，４’４''－トリス（Ｎ－３－メチルフェニル－Ｎ－フェニル－アミノ）－トリフェニルアミン、４，４’４''－トリス（Ｎ－（１－ナフチル）－Ｎ－フェニル－アミノ）－トリフェニルアミン等）、トリフェニルジアミン類（Ｎ，Ｎ’－ジ－（４－メチル－フェニル）－Ｎ，Ｎ’－ジフェニル－１，４－フェニレンジアミン）等が挙げられる。縮合多環化合物としては、フェナントレン、ピレン、ペリレン、アントラセン、テトラセン、ペンタセン等が挙げられる。縮合多環化合物は置換基を有していてもよい。有機材料としては、ＴＴＦ（テトラチアフルバレン）類、ジベンゾフラン、フェノチアジン、カルバゾール等が挙げられる。
　ドナー材料としては、上述した材料のうち、芳香族３級アミンを骨格にもつ化合物、縮合多環化合物、またはアルカリ金属が好ましい。これにより、キャリア濃度をより効果的に増加させることが可能である。
　（有機ＥＬ層２１の形成方法）
　有機ＥＬ層２１は、上記の材料を溶剤に溶解または分散させた塗液（有機ＥＬ層形成用塗液）を用いて、スピンコーティング法、ディッピング法、ドクターブレード法、吐出コート法、スプレーコート法等の塗布法、インクジェット法、凸版印刷法、凹版印刷法、スクリーン印刷法、マイクログラビアコート法等の印刷法等による公知のウエットプロセスによって形成することができる。また有機ＥＬ層２１は、上記の材料を抵抗加熱蒸着法、電子線（ＥＢ）蒸着法、分子線エピタキシー（ＭＢＥ）法、スパッタリング法、有機気相蒸着（ＯＶＰＤ）法等の公知のドライプロセス、レーザー転写法等によって形成することができる。なお、ウエットプロセスにより有機ＥＬ層２１を形成する場合には、有機ＥＬ層形成用塗液は、レベリング剤、粘度調整剤等の塗液の物性を調整するための添加剤を含んでいてもよい。
　（反射電極２および半透明電極１０）
　反射電極２としては、公知の電極材料を用いることができる。反射電極２に用いる材料としては、仕事関数が４．５ｅＶ以上の金（Ａｕ）、白金（Ｐｔ）、ニッケル（Ｎｉ）等の金属が挙げられる。これにより、有機ＥＬ層２１への正孔の注入をより効率よく行なうことができる。また、反射電極２の材料としては、光を反射する反射率の高い材料を用いることが好ましい。このような材料としては、例えば、アルミニウム、銀、金、アルミニウム－リチウム合金、アルミニウム－ネオジウム合金、アルミニウム－シリコン合金等の反射性金属等が挙げられる。また反射電極２として、透明電極と、上述した反射性金属を含む電極（反射電極）とを組み合わせたもの等が挙げられる。
　透明電極の材料としては、インジウム（Ｉｎ）と錫（Ｓｎ）とからなる酸化物（ＩＴＯ）、錫（Ｓｎ）の酸化物（ＳｎＯ２）、インジウム（Ｉｎ）と亜鉛（Ｚｎ）とからなる酸化物（ＩＺＯ）等が挙げられる。
　半透明電極１０は、半透明の電極であることが好ましい。これにより、有機ＥＬ層２１からの光を効率よく取り出すことができる。このような半透明電極１０としては、例えば金属のみにより構成されもよいし、金属と透明電極材料との組み合わせにより構成されてもよい。半透明電極に用いることができる金属としては、例えば銀、マグネシウム、アルミニウム、銀－マグネシウム合金、金等が挙げられる。なかでも、反射率および透過率の観点から、銀を用いることが好ましい。
　反射電極２の膜厚は、５０ｎｍ以上であることが好ましい。膜厚が５０ｎｍ未満の場合には、配線抵抗が高くなることから、駆動電圧の上昇が生じるおそれがあるが、上述した構成であれば、このようなおそれを防ぐことができる。
　半透明電極１０の膜厚は、５ｎｍ～３０ｎｍであることが好ましく、１０ｎｍ～３０ｎｍであることがより好ましい。膜厚が５ｎｍ以上であれば、光の反射を十分行なえるため、干渉の効果を十分得ることができる。また、膜厚が１０ｎｍ以上であれば、干渉の効果をより高めることが可能になる。また、膜厚が３０ｎｍを超える場合には、光の透過率が急激に低下することから輝度および発光効率が低下するおそれがあるが、膜厚が３０ｎｍ以下であれば、このようなおそれを排除することができる。
　反射電極２および半透明電極１０は、上述した材料を用いてＥＢ蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、抵抗加熱蒸着法等の公知の方法により形成することができる。
　また、反射電極２および半透明電極１０は、必要に応じて、フォトリソグラフフィー法、レーザー剥離法などによりパターン化することもできる。また、シャドーマスクと組み合わせることにより、パターン化した電極を直接形成することもできる。例えば、反射電極２および半透明電極１０は、それぞれストライプ状になるようにパターン化してもよい。この場合、反射電極２のストライプと半透明電極１０のストライプとの方向は直交していることが好ましい。このような構成であれば、視野角特性のよい良好な画像を得ることができる。
　以上の構成により、有機ＥＬ部２２は、正面方向に集光された光を発光することができ、すなわち指向性を有する光を発光することができる。したがって、周囲に拡散する光の量を低減することが可能となり、正面における発光効率を高めることができる。これによって、有機ＥＬ部２２の発光層６中において生じる発光エネルギーを、赤色画素、緑色画素、および青色画素により効率よく伝搬することができるとともに、正面輝度を高めることが可能となる。
　また、反射電極２と半透明電極１０との干渉効果を利用することにより、有機ＥＬ部２２からの光の発光スペクトルを調整することが可能となる。例えば、当該光を所望の発光ピーク波長および半値幅に調整することにより、発光スペクトルの調整が可能となる。したがって、赤色蛍光体および緑色蛍光体をより効果的に励起することが可能なスペクトルに調整することができ、また青色画素からの光の色純度を向上させることが可能となる。したがって、有機ＥＬ部２２からの光の色純度の向上、発光効率の向上、正面輝度の向上などの効果を得ることができる。
　なお、有機ＥＬ部２２は、上述した構成に限らず、例えば誘電体多層膜による光微小共振器構造を有するものであってもよい。
　（エッジカバー３）
　エッジカバー３には、絶縁材料を用いることができる。絶縁材料としては、公知の材料を使用することができる。このような絶縁材料としては、例えば、無機材料、樹脂材料等を用いることができる。無機材料としては、一酸化ケイ素（ＳｉＯ）、窒化酸化ケイ素（ＳｉＯＮ）、窒化ケイ素（ＳｉＮ）、オキシ炭化ケイ素（ＳｉＯＣ）、炭化ケイ素（ＳｉＣ）、窒素添加ハフニウムシリケート（ＨｆＳｉＯＮ）、一酸化ジルコニウム（ＺｒＯ）、一酸化ハフニウム（ＨｆＯ）、酸化ランタン（ＬａＯ）等が挙げられる。また、樹脂材料としては、アクリル、ポリイミド等が挙げられる。
　また、エッジカバー３の膜厚としては、１００ｎｍ～２０００ｎｍが好ましい。膜厚が１００ｎｍ以上であれば、十分に絶縁性を有するため、反射電極２と半透明電極１０との間でのリークを効果的に防ぐことができ、消費電力を抑えることができるとともに、非発光を防ぐことができる。また、膜厚が２０００ｎｍ以下であれば、成膜プロセスを短時間に抑えることができるため、生産性を向上させることができるとともに、エッジカバー３による半透明電極１０の断線を防ぐことができる。
　エッジカバー３は、上述した絶縁材料を用いて、例えばＥＢ蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、抵抗加熱蒸着法等の公知の方法により形成することができる。また、例えば公知のドライ法またはウエット法のフォトリソグラフィー法によりパターン化することができる。
　＜蛍光体層＞
　次に、赤色蛍光体層１３および緑色蛍光体層１４などの蛍光体層について説明する。
　赤色蛍光体層１３および緑色蛍光体層１４は、赤色蛍光体または緑色蛍光体のみにより構成されていてもよいし、任意に添加剤等をさらに含んでいてもよい。また、赤色蛍光体または緑色蛍光体が、高分子材料（結着用樹脂）または無機材料中に分散されている構成であってもよい。
　赤色蛍光体および緑色蛍光体は、粒子状であって、その平均粒子径（ｄ５０）が、０．５μｍ～５０μｍであることが好ましく、１μｍ～５０μｍであることがより好ましい。赤色蛍光体および緑色蛍光体の平均粒子径が０．５μｍ以上であれば、発光効率の低下を抑えることができ、１μｍ以上であれば、発光効率をさらに上昇させることができる。また、平均粒子径が５０μｍ以下であれば、蛍光体層として平坦な膜を形成することが容易になり、赤色蛍光体層１３および緑色蛍光体層１４と、有機ＥＬ部２２との間に空間ができてしまうことを防止できる。特に赤色蛍光体および緑色蛍光体として無機材料を用いる場合には、有機ＥＬ部２２（屈折率：約１．７）と無機材料を含む蛍光体層（屈折率：約２．３）の間に空間（屈折率：１．０）ができてしまうと、有機ＥＬ部２２からの光が効率よく赤色蛍光体層１３および緑色蛍光体層１４に届かないため、これらの蛍光体層の発光効率が低下するという問題が生じる。しかし、上述した構成であれば、このような問題を防止することができる。
　蛍光体層の膜厚は、１００ｎｍ～１００μｍ程度であることが好ましく、１μｍ～１００μｍであることがより好ましい。膜厚が１００ｎｍ未満であると、有機ＥＬ部２２からの青色発光を十分吸収することが困難となり、発光効率の低下、あるいは必要とされる色に青色の透過光が混じることによる色純度の悪化といった問題が生じる。また、膜厚が１μｍ以上であれば、有機ＥＬ部２２からの青色発光の吸収が高まり、青色の透過光を低減させることができ、良好な色純度を得ることができる。また、膜厚が１００μｍ以下であれば、有機ＥＬ部２２からの青色発光を十分吸収できる範囲において、蛍光体層に用いる材料の消費を抑えることができる。したがって、上述した構成であれば、発光効率を高めることができるとともに、材料コストを抑えることができる。
　赤色蛍光体および緑色蛍光体として、以下に説明する蛍光体材料を用いることができる。なお、赤色蛍光体および緑色蛍光体は、無機材料により構成されていることが好ましい。これにより、赤色蛍光体層１３および緑色蛍光体層１４は、励起光による劣化、発光による劣化等に対して高い安定性を有することができる。
　（蛍光体材料）
　赤色蛍光体および緑色蛍光体として用いる蛍光体材料としては、公知の蛍光体材料を用いることができ、例えば有機系蛍光体材料、無機系蛍光体材料などが挙げられる。
　緑色蛍光体として用いる有機系蛍光体材料としては、青色の励起光を緑色発光に変換する蛍光色素等であればよく、例えば、クマリン系色素、ナフタルイミド系色素等が挙げられる。クマリン系色素としては、２，３，５，６－１Ｈ、４Ｈ－テトラヒドロ－８－トリフロメチルキノリジン（９，９ａ、１－ｇｈ）クマリン（クマリン１５３）、３－（２′－ベンゾチアゾリル）―７－ジエチルアミノクマリン（クマリン６）、３－（２′－ベンゾイミダゾリル）―７－Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノクマリン（クマリン７）等が挙げられる。ナフタルイミド系色素としては、ベーシックイエロー５１、ソルベントイエロー１１、ソルベントイエロー１１６等が挙げられる。
　赤色蛍光体として用いる有機系蛍光体材料としては、青色の励起光を赤色発光に変換する蛍光色素等であればよく、例えば、シアニン系色素、ピリジン系色素、ローダミン系色素等が挙げられる。シアニン系色素としては、４－ジシアノメチレン－２－メチル－６－（ｐ－ジメチルアミノスチルリル）－４Ｈ－ピラン等が挙げられる。ピリジン系色素としては、１－エチル－２－［４－（ｐ－ジメチルアミノフェニル）－１，３－ブタジエニル］－ピリジニウム－パークロレート等が挙げられる。ローダミン系色素としては、ローダミンＢ、ローダミン６Ｇ、ローダミン３Ｂ、ローダミン１０１、ローダミン１１０、ベーシックバイオレット１１、スルホローダミン１０１等が挙げられる。
　緑色蛍光体として用いる無機系蛍光体材料としては、青色の励起光を緑色の発光に変換する蛍光体であればよく、例えば（ＢａＭｇ）Ａｌ１６Ｏ２７：Ｅｕ２＋、Ｍｎ２＋、Ｓｒ４Ａｌ１４Ｏ２５：Ｅｕ２＋、（ＳｒＢａ）Ａｌ１２Ｓｉ２Ｏ８：Ｅｕ２＋、（ＢａＭｇ）２ＳｉＯ４：Ｅｕ２＋、Ｙ２ＳｉＯ５：Ｃｅ３＋、Ｔｂ３＋、Ｓｒ２Ｐ２Ｏ７－Ｓｒ２Ｂ２Ｏ５：Ｅｕ２＋、（ＢａＣａＭｇ）５（ＰＯ４）３Ｃｌ：Ｅｕ２＋、Ｓｒ２Ｓｉ３Ｏ８－２ＳｒＣｌ２：Ｅｕ２＋、Ｚｒ２ＳｉＯ４、ＭｇＡｌ１１Ｏ１９：Ｃｅ３＋、Ｔｂ３＋、Ｂａ２ＳｉＯ４：Ｅｕ２＋、Ｓｒ２ＳｉＯ４：Ｅｕ２＋、（ＢａＳｒ）ＳｉＯ４：Ｅｕ２＋等が挙げられる。
　赤色蛍光体として用いる無機系蛍光体材料としては、青色の励起光を赤色の発光に変換する蛍光体であればよく、例えばＹ２Ｏ２Ｓ：Ｅｕ３＋、ＹＡｌＯ３：Ｅｕ３＋、Ｃａ２Ｙ２（ＳｉＯ４）６：Ｅｕ３＋、ＬｉＹ９（ＳｉＯ４）６Ｏ２：Ｅｕ３＋、ＹＶＯ４：Ｅｕ３＋、ＣａＳ：Ｅｕ３＋、Ｇｄ２Ｏ３：Ｅｕ３＋、Ｇｄ２Ｏ２Ｓ：Ｅｕ３＋、Ｙ（Ｐ，Ｖ）Ｏ４：Ｅｕ３＋、Ｍｇ４ＧｅＯ５．５Ｆ：Ｍｎ４＋、Ｍｇ４ＧｅＯ６：Ｍｎ４＋、Ｋ５Ｅｕ２．５（ＷＯ４）６．２５、Ｎａ５Ｅｕ２．５（ＷＯ４）６．２５、Ｋ５Ｅｕ２．５（ＭｏＯ４）６．２５、Ｎａ５Ｅｕ２．５（ＭｏＯ４）６．２５等が挙げられる。
　また、上記無機系蛍光体は、必要に応じて表面改質処理を施してもよい。表面改質処理の方法としては、シランカップリング剤等による化学的処理、サブミクロンオーダーの微粒子等の添加による物理的処理、これらの併用等が挙げられる。
　（高分子材料）
　赤色蛍光体層１３および緑色蛍光体層１４は、上述した蛍光体材料が高分子材料中に分散されている構成であってもよい。
　高分子材料としては、例えば高分子の樹脂等が挙げられる。樹脂としては、例えば感光性の樹脂を用いることが好ましい。これによって、フォトリソグラフィー法により蛍光体層のパターン化が可能となり、赤色蛍光体層１３および緑色蛍光体層１４を容易に作製することができる。また、高分子材料は、１種類の樹脂であってもよいし、複数種類の樹脂の混合物であってもよい。
　感光性の樹脂としては、反応性ビニル基を有する感光性樹脂（光硬化型レジスト材料）などを用いることができる。例えば、アクリル酸系樹脂、メタクリル酸系樹脂、ポリ桂皮酸ビニル系樹脂、硬ゴム系樹脂等が挙げられる。
　（蛍光体層の形成方法）
　次に、蛍光体層の形成方法について説明する。
　蛍光体層は、例えば、上述した蛍光体材料と高分子材料とを溶剤に溶解して分散させた塗液（蛍光体層形成塗液）を用いて、スピンコーティング法、ディッピング法、ドクターブレード法、吐出コート法、スプレーコート法等の塗布法、インクジェット法、凸版印刷法、凹版印刷法、スクリーン印刷法、マイクログラビアコート法等の印刷法等による公知のウエットプロセスにより形成することができる。また、蛍光体層は、上述した蛍光体材料を用いて、抵抗加熱蒸着法、電子線（ＥＢ）蒸着法、分子線エピタキシー（ＭＢＥ）法、スパッタリング法、有機気相蒸着（ＯＶＰＤ）法等の公知のドライプロセス、又は、レーザー転写法等により形成することができる。
　上述した構成により、赤色画素および緑色画素においては、有機ＥＬ部２２からの指向性を有する発光を吸収し、等方向に発光する赤色および緑色の発光を外部に取り出すことができる。したがって、視野角による輝度および色純度の変化を低減させ、またはなくすことが可能となる。
　＜配光特性調整層１５＞
　配光特性調整層１５は、有機ＥＬ層２１からの光の配光特性を調整するよう構成されていればよい。
　本実施形態においては、配光特性調整層１５は、有機ＥＬ層２１からの光の輝度を、赤色蛍光体層１３から出射される光の輝度および緑色蛍光体層１４から出射される光の輝度に近づけるように調整するよう構成されている。また、配光特性調整層１５は、有機ＥＬ層２１からの光の色純度を、赤色蛍光体層１３から出射される光の色純度および緑色蛍光体層１４から出射される光の色純度に近づけるように調整するよう構成されている。
　ここで、上述したように、赤色蛍光体層１３および緑色蛍光体層１４から出射される光は等方的であるため、配光特性調整層１５は、有機ＥＬ層２１からの光の輝度および色純度を調整することによって、当該光を等方的な光に調整することとなる。以上の構成により、青色画素は等方的な光を出射することができる。
　そのため、視野角によって赤色、緑色、青色の各色の画素の輝度および色純度のずれが小さいので、例えば有機ＥＬディスプレイ２０の画面を正面から見たときと斜めから見たときとの輝度および色純度の変化を低減させることができる。また、各色の画素からの光が等方的であるため、良好な視野角特性を得ることができる。したがって、高品質な有機ＥＬディスプレイ２０を提供することができる。
　また、配光特性調整層１５は、以下の式（１）および（２）
０．８Ｌ６０Ｒ／Ｌ０Ｒ＜Ｌ６０Ｂ／Ｌ０Ｂ＜１．２Ｌ６０Ｒ／Ｌ０Ｒ・・・（１）
０．８Ｌ６０Ｇ／Ｌ０Ｇ＜Ｌ６０Ｂ／Ｌ０Ｂ＜１．２Ｌ６０Ｇ／Ｌ０Ｇ・・・（２）
を満たすように、有機ＥＬ層２１からの光の配光特性（例えば、光の輝度）を調整するものであることが好ましい。
　上記式（１）および（２）において、Ｌ０Ｒは、赤色蛍光体層１３から出射される光のうち正面方向における輝度をさし、Ｌ６０Ｒは、当該正面方向に対して６０度傾いた方向における輝度をさす。また、Ｌ０Ｇは、緑色蛍光体層１４から出射される光のうち、正面方向における輝度をさし、Ｌ６０Ｇは、当該正面方向に対して６０度傾いた方向における輝度をさす。また、Ｌ０Ｂは、配光特性調整層１５から出射される光のうち、正面方向における輝度をさし、Ｌ６０Ｂは、当該正面方向に対して６０度傾いた方向における輝度をさす。
　配光特性調整層１５が、上記式（１）を満たすように輝度を調整することによって、配光特性調整層１５からの光と赤色蛍光体層１３からの光との、正面輝度と斜め６０度における輝度との比が、上記式（１）に示す関係式を満たすように調整される。そのため、正面方向において所望の発光色となるように、青色画素と赤色画素との正面輝度を調整した場合に、正面方向から見たときと斜め方向から見たときとの青色画素と赤色画素との輝度の比のずれを低減させることができる。したがって、正面方向から見たときと斜め方向から見たときとの発光色のずれを視認できない程度にまで低減させることが可能になる。
　また、配光特性調整層１５が、上記式（２）を満たすように輝度を調整することによって、配光特性調整層１５からの光と緑色蛍光体層１４からの光との、正面輝度と斜め６０度における輝度との比が、上記式（２）に示す関係式を満たすように調整される。そのため、正面方向において所望の発光色となるように、青色画素と緑色画素との正面輝度を調整した場合に、正面方向から見たときと斜め方向から見たときとの青色画素と緑色画素との輝度の比のずれを低減させることができる。したがって、正面方向から見たときと斜め方向から見たときとの発光色のずれを視認できない程度にまで低減させることが可能になる。
　これにより、配光特性調整層１５は、有機ＥＬ層２１からの指向性を有する光の配光特性を、赤色蛍光体層１３および緑色蛍光体層１４からの発光の配光特性により近づけることができる。したがって、有機ＥＬディスプレイ２０の画面を斜めから見た際の赤色画素および緑色画素からの光の輝度と青色画素からの光の輝度とのずれを、視認できない程度に抑えることができる。
　また、配光特性調整層１５は、以下の式（３）～（６）
｜ｘ６０Ｒ－ｘ０Ｒ｜≧｜ｘ６０Ｂ－ｘ０Ｂ｜・・・（３）
｜ｙ６０Ｒ－ｙ０Ｒ｜≧｜ｙ６０Ｂ－ｙ０Ｂ｜・・・（４）
｜ｘ６０Ｇ－ｘ０Ｇ｜≧｜ｘ６０Ｂ－ｘ０Ｂ｜・・・（５）
｜ｙ６０Ｇ－ｙ０Ｇ｜≧｜ｙ６０Ｂ－ｙ０Ｂ｜・・・（６）
を満たすように、有機ＥＬ層２１からの光の配光特性（例えば、光の色純度）を調整するものであることが好ましい。
　上記式（３）～（６）において、（ｘ０Ｒ、ｙ０Ｒ）は、赤色蛍光体層１３から出射される光のうち、正面方向における色純度をさし、（ｘ６０Ｒ、ｙ６０Ｒ）は、当該正面方向に対して６０度傾いた方向における色純度をさす。また、（ｘ０Ｇ、ｙ０Ｇ）は、緑色蛍光体層１４から出射される光の正面方向における色純度をさし、（ｘ６０Ｇ、ｙ６０Ｇ）は、当該正面方向に対して６０度傾いた方向における色純度をさす。また、（ｘ０Ｂ、ｙ０Ｂ）は、配光特性調整層１５から出射される光の正面方向における色純度をさし、（ｘ６０Ｂ、ｙ６０Ｂ）は、当該正面方向に対して６０度傾いた方向における色純度をさす。
　ここで、有機ＥＬ層２１からの光を変換せずに用いる配光特性調整層１５からの光は、視野角によって、輝度だけでなく色純度も変化する。つまり、配光特性調整層１５からの光は、正面輝度と斜め方向における輝度とのずれが少なくなるよう調整した場合でも、正面方向における色純度と斜め方向における色純度とがずれることがある。
　しかし、配光特性調整層１５が、上記式（３）および（４）を満たすように色純度を調整することによって、配光特性調整層１５からの光と赤色蛍光体層１３からの光との、正面方向の色純度と斜め６０度方向の色純度との関係は、上記式（３）および（４）を満たすものとなる。そのため、正面方向において所望の発光色となるように、青色画素と赤色画素との正面輝度を調整した場合に、正面方向から見たときの色純度と斜め方向から見たときの色純度とのずれを低減させることができる。したがって、正面輝度と斜め方向における輝度とのずれが少なくなるよう調整した場合でも生じ得る、正面方向から見たときの発光色と斜め方向から見たときの発光色とのずれを、視認できない程度にまで低減させることが可能になる。
　また同様に、配光特性調整層１５が、上記式（５）および（６）を満たすように色純度を調整することによって、正面方向において所望の発光色となるように、青色画素と緑色画素との正面輝度を調整した場合に、正面方向から見たときの色純度と斜め方向から見たときの色純度とのずれを低減させることができる。したがって、正面輝度と斜め方向における輝度とのずれが少なくなるよう調整した場合でも生じ得る、正面方向から見たときの発光色と斜め方向から見たときの発光色とのずれを、視認できない程度にまで低減させることが可能になる。
　したがって、上述した構成であれば、有機ＥＬディスプレイ２０の画面を斜めから見た際の赤色画素および緑色画素からの光の色純度と青色画素からの光の色純度とのずれを、視認できない程度に抑えることができる。
　配光特性調整層１５としては、例えば光を散乱させる特性を備えたもの、光を拡散させる特性を備えたものなどを用いることができる。ここで、「光を散乱させる特性」とは、光を回折させる特性、屈折させる特性および反射させる特性が複合したものをさす。
　光を散乱させる特性を備えた配光特性調整層１５としては、例えば光を散乱させるための光散乱粒子を含んでいる形態が挙げられる。光散乱粒子とは、入射する光を回折、屈折または反射させることによって散乱させる性質を有する粒子である。
　光散乱粒子は、その平均粒子径ｄ５０（Ｂ）が、下記式（７）および（８）
０．８ｄ５０（Ｂ）＜ｄ５０（Ｒ）＜１．２ｄ５０（Ｂ）・・・（７）
０．８ｄ５０（Ｂ）＜ｄ５０（Ｇ）＜１．２ｄ５０（Ｂ）・・・（８）
を満たすことが好ましい。なお、上記式（７）および（８）において、ｄ５０（Ｒ）は赤色蛍光体の平均粒子径をさし、ｄ５０（Ｇ）は緑色蛍光体の平均粒子径をさす。
　上述したように、有機ＥＬ層２１からの光を変換せずに用いる配光特性調整層１５から出射される光は、蛍光体層からの等方発光（視野角による輝度および色純度の変化が小さい）とは異なり、視野角によって輝度および色純度が変化する。したがって、赤色画素および緑色画素の光と、青色画素の光とでは、視野角によって輝度および色純度が異なってしまう。しかし、赤色蛍光体、緑色蛍光体および光散乱粒子の平均粒子径が、上記式（７）および（８）を満たすことによって、配光特性調整層１５は、有機ＥＬ層２１からの光を散乱、拡散等させ、その配光特性を、赤色画素および緑色画素からの光の配光特性に近づけるように調整することができる。
　つまり、配光特性調整層１５によって、有機ＥＬ層２１からの指向性を有する光の配光特性を、赤色蛍光体層１３および緑色蛍光体層１４からの発光の配光特性により近づけることが可能となる。したがって、上述した構成により、青色画素から出射される光の輝度および色純度と、赤色画素および緑色画素から出射される光の輝度および色純度とのそれぞれのずれが非常に小さくなる。そのため、有機ＥＬディスプレイ２０の画面を斜めから見た際の赤色および緑色の光の輝度および色純度と、青色の光の輝度および色純度とのずれを、視認できない程度に抑えることができる。
　光散乱粒子は、平均粒子径（ｄ５０）が０．５μｍ以上５０μｍ以下の粒子（微粒子）であることが好ましく、１μｍ以上５０μｍ以下であることがより好ましい。光散乱粒子の平均粒子径が１μｍ以下であると、光散乱粒子の粒子径が小さいため、配光特性調整層１５に入射する青色領域の光の配光特性を所望の特性に調整するという効果が十分に得られない。よって、出射される光の正面方向の光強度が斜め方向の光強度に対して強くなる。平均粒子径が０．５μｍ以下であれば、その傾向がより顕著になる。一方、光散乱粒子の平均粒子径が０．５μｍ以上、より好ましくは１μｍ以上であれば、配光特性調整層１５による配光特性を調整する機能を十分に引き出すことが可能となり、配光特性を良好に調整することができる。したがって、赤色蛍光体層１３および緑色蛍光体層１４からの光の配光特性とのずれを抑えることができる。
　また、光散乱粒子の平均粒子径が５０μｍ以上であると、配光特性調整層１５の表面の凹凸が大きくなり、配光特性調整層１５の内部での散乱より、表面の凹凸による散乱の効果の方が支配的になるため、配光特性を所望の特性に調整するという効果が得られない。しかし、光散乱粒子の平均粒子径が５０μｍ以下であれば、配光特性調整層１５の表面の凹凸を小さくできるので、配光特性調整層１５から出射される光の配光特性と赤色蛍光体層１３および緑色蛍光体層１４からの光の配光特性とのずれを小さくすることができる。したがって、上述した構成であれば、青色画素から出射される光の輝度および色純度を、赤色画素および緑色画素から出射される光の輝度および色純度に、より近づけることができるため、良好な視野角特性を得ることが可能となる。
　配光特性調整層１５は、光散乱粒子単独により構成されてもよいし、光散乱粒子と樹脂材料等とにより構成されてもよい。光散乱粒子と樹脂材料等とにより構成されたものを用いる場合には、光散乱粒子が樹脂材料等の中に分散されていることが好ましい。また、光散乱粒子の屈折率と樹脂材料等の屈折率とは異なることが好ましい。光散乱粒子の屈折率は、樹脂材料等の屈折率よりも大きくてもよいし、小さくてもよい。また、これらの屈折率の差は大きいほど好ましく、これらの屈折率比は、１．１～１．５であることが好ましく、１．２～１．３であることがより好ましい。これにより、指向性を有する光を効率的に等方的な光に変換させることができる。
　配光特性調整層１５による光の散乱の性質は、光散乱粒子の粒子径（ｄ）と、入射する光の波長（λ）とに大きく依存する。配光特性調整層１５における光の散乱のパターンとしては、主に以下の３種類が挙げられる。
幾何学的散乱：ｄ≫λ
ミー散乱：ｄ≒λ
レイリー散乱：ｄ＜λ
　上記３種類の散乱のパターンのうち、ミー散乱であれば、後方散乱する光の量よりも前方散乱する光の量を多くすることが可能なため、好ましい。すなわち、光散乱粒子の粒子径と入射する光の波長とが略等しいことが好ましい。
　また、本発明では、青色光のみの配光特性を調整すればよい為、簡単な構成によって配光特性調整層１５を作製する事が可能である。例えば、２色以上の光に対して配光特性を調整する場合には、配光特性の調整は、各色の光の波長毎に調整する必要があり、配光特性調整層を色毎にパターン化する必要がある。この場合には、構成およびプロセスが複雑になるという問題が生じる。しかし、本発明ではこのような問題が生じることを防止できる。
　（光散乱粒子）
　次に、光散乱粒子について詳細に説明する。
　光散乱粒子は、有機材料により構成されていてもよいし、無機材料により構成されていてもよいが、無機材料により構成されていることが好ましい。これにより、有機ＥＬ部２２からの指向性を有する光を、より等方的に効果的に拡散または散乱させることが可能となる。また、無機材料を使用することにより、光および熱に安定な配光特性調整層１５を提供することが可能となる。
　また、光散乱粒子としては、透明度が高いものであることが好ましい。また、樹脂材料と混合して用いる場合には、樹脂材料との屈折率比が上述した数値範囲に含まれるものであることが好ましい。
　光散乱粒子として、無機材料を用いる場合には、例えば、ケイ素、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、およびアンチモンからなる群より選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物を主成分とした粒子（微粒子）等が挙げられる。
　また、光散乱粒子として、無機材料により構成された粒子（無機微粒子）を用いる場合には、例えば、シリカビーズ（屈折率：１．４４）、アルミナビーズ（屈折率：１．６３）、酸化チタンビーズ（屈折率　アナタース型：２．５０、ルチル型：２．７０）、酸化ジルコニアビーズ（屈折率：２．０５）、酸化亜鉛ビーズ（屈折率：２．００）等が挙げられる。
　光散乱粒子として、有機材料により構成された粒子（有機微粒子）を用いる場合には、例えば、ポリメチルメタクリレートビーズ（屈折率：１．４９）、アクリルビーズ（屈折率：１．５０）、アクリル－スチレン共重合体ビーズ（屈折率：１．５４）、メラミンビーズ（屈折率：１．５７）、高屈折率メラミンビーズ（屈折率：１．６５）、ポリカーボネートビーズ（屈折率：１．５７）、スチレンビーズ（屈折率：１．６０）、架橋ポリスチレンビーズ（屈折率：１．６１）、ポリ塩化ビニルビーズ（屈折率：１．６０）、ベンゾグアナミン－メラミンホルムアルデヒドビーズ（屈折率：１．６８）、シリコーンビーズ（屈折率：１．５０）等が挙げられる。
　（樹脂材料）
　配光特性調整層１５に用いることができる樹脂材料としては、透光性の樹脂であることが好ましい。また、樹脂材料としては、例えば、メラミン樹脂（屈折率：１．５７）、ナイロン（屈折率：１．５３）、ポリスチレン（屈折率：１．６０）、メラミンビーズ（屈折率：１．５７）、ポリカーボネート（屈折率：１．５７）、ポリ塩化ビニル（屈折率：１．６０）、ポリ塩化ビニリデン（屈折率：１．６１）、ポリ酢酸ビニル（屈折率：１．４６）、ポリエチレン（屈折率：１．５３）、ポリメタクリル酸メチル（屈折率：１．４９）、ポリＭＢＳ（屈折率：１．５４）、中密度ポリエチレン（屈折率：１．５３）、高密度ポリエチレン（屈折率：１．５４）、テトラフルオロエチレン（屈折率：１．３５）、ポリ三フッ化塩化エチレン（屈折率：１．４２）、ポリテトラフルオロエチレン（屈折率：１．３５）等が挙げられる。
　なお、配光特性調整層１５としては、上述した構成に限らず、有機ＥＬ層２１からの光の輝度および色純度を上述したように調整するものであればよい。例えば透過する光を拡散させる、凹凸形状等を備えた光拡散面により構成されていてもよい。このような配光特性調整層１５としては、例えばマイクロレンズ、プリズム等の光学部材を用いることができる。また、配光特性調整層１５は、例えば封止基板１６における光が出射する面上に設けられてもよい。
　以上の構成により、本実施形態における有機ＥＬディスプレイ２０は、赤色画素、緑色画素および青色画素からの光の配光特性（視野角による輝度、色度の変化）のずれを、人間が視認できない程度まで低減させることができる。これにより、赤色、緑色および青色の光の配光特性の違いにより生じる、種々の問題を解消することが可能である。種々の問題とは、例えば、赤色および緑色の光が等方的であり、青色の光が正面方向に指向性を有する光である場合には、正面方向から見た際に白色に見えるよう調整されている画像であっても、斜め方向から見ると、赤色および緑色に比べて青色の輝度が相対的に低下しているため黄色方向にずれた色に見えてしまうなどの問題である。
　なお、本実施形態は、以上のように、赤色、緑色および青色を発光する画素により構成されているため、各色の光の輝度を調整することによって、フルカラー映像を得ることが可能である。なお、必要に応じて、シアン、イエロー等を発光する画素を加えることが好ましい。ここで、シアンおよびイエローを発光する画素からの光の色純度は、色度図上において赤色、緑色、青色に発光する画素の色純度を示す点によって結ばれる三角形の外側に位置することが好ましい。これにより、赤色、緑色および青色の３原色を発光する画素を使用する有機ＥＬディスプレイに比べて、色再現範囲をさらに広げることができる。
　＜無機封止膜１１、樹脂封止膜１２＞
　無機封止膜１１および樹脂封止膜１２としては、公知の材料および封止方法を用いることができる。
　無機封止膜１１に用いる材料としては、光透過性の材料であることが好ましい。無機封止膜１１としては、例えば、窒素ガス、アルゴンガス等の不活性ガスをガラス、金属等で封止したもの等が挙げられる。また、封入した不活性ガス中に酸化バリウム等の吸湿剤等を混入させることが好ましい。これにより、水分による有機ＥＬの劣化を効果的に低減させることができる。また、無機封止膜１１として、ＳｉＯ、ＳｉＯＮ、ＳｉＮ等からなる膜を用いてもよい。この場合には、例えばプラズマＣＶＤ法、イオンプレーティング法、イオンビーム法、スパッタ法等により、半透明電極１０上に無機封止膜１１を形成することができる。
　樹脂封止膜１２に用いる樹脂としては、光透過性の樹脂であれば、公知の材料を用いることができる。樹脂封止膜１２を形成する方法としては、半透明電極１０上に形成された無機封止膜１１上に、スピンコート法、ＯＤＦ、ラミレート法を用いて樹脂を塗布する方法、又は、半透明電極１０と樹脂の膜とを貼り合わせる方法などを用いることができる。
　なお、有機ＥＬディスプレイ２０は、無機封止膜１１を備えない構成であってもよい。この場合には、上述した方法により、半透明電極１０上に直接樹脂封止膜１２を形成させることができる。
　無機封止膜１１および樹脂封止膜１２により、外部からの有機ＥＬ部２２内への酸素または水分の混入を防止することができ、有機ＥＬ部２２の寿命が向上する。また、封止基板１６を基板１と貼り合わせる際の有機ＥＬ部２２等へのダメージを低減させることができる。
　＜封止基板１６＞
　封止基板１６としては、公知の材料および封止方法を用いることができる。封止基板１６は、透明または半透明であることが好ましく、例えばガラス、プラスティック等により構成された基板を用いることができる。これにより、赤色画素、緑色画素および青色画素からの光は、封止基板１６を透過することができる。
　封止基板１６は、基板１に対向する面上に赤色蛍光体層１３、緑色蛍光体層１４および配光特性調整層１５が形成された後に、有機ＥＬ部２２等が形成されている基板１と貼り合わせられてもよい。その際には、封止基板１６上の赤色蛍光体層１３、緑色蛍光体層１４および配光特性調整層１５の上に、後述する平坦化膜等を形成させることによって平坦化することが好ましい。これにより、有機ＥＬ部２２と赤色蛍光体層１３、緑色蛍光体層１４および配光特性調整層１５との間に空間ができることを防止でき、かつ基板１と封止基板１６との間の密着性を向上させることができる。
　なお、本実施形態に係る有機ＥＬディスプレイ２０は、さらに低反射膜およびカラーフィルターを備えていてもよい。以下にそれぞれの構成について説明する。
　＜低反射膜＞
　低反射膜は、例えば有機ＥＬディスプレイ２０においてカラーフィルター間、蛍光体層間、蛍光体層と配光特性調整層１５との間などに設けることができる。低反射膜によって、ＲＧＢのそれぞれの発光が強調されるので、視認性を向上させることができる。
　本実施形態に係る有機ＥＬディスプレイ２０に用いることが可能な低反射膜の材料としては、公知の材料を用いることができ、例えば、無機材料、有機材料等が挙げられる。無機材料としては、酸化シリコン（ＳｉＯ２）、窒化シリコン（ＳｉＮ、又は、Ｓｉ２Ｎ４）、酸化タンタル（ＴａＯ、又は、Ｔａ２Ｏ５）等が挙げられる。また、有機材料としては、アクリル樹脂、レジスト材料等が挙げられる。
　低反射膜の形成方法としては、化学気相成長（ＣＶＤ）法、真空蒸着法等のドライプロセス、スピンコート法等のウエットプロセスが挙げられる。また、必要に応じてフォトリソグラフィー法等によりパターニングすることもできる。
　＜カラーフィルター＞
　カラーフィルターは、赤色蛍光体層１３、緑色蛍光体層１４および配光特性調整層１５における光の出射面上に設けられていることが好ましい。カラーフィルターは、例えば封止基板１６と赤色蛍光体層１３、緑色蛍光体層１４および配光特性調整層１５との間に設けることができる。カラーフィルターとしては、公知のカラーフィルターを用いることが可能である。ここで、カラーフィルターを設けることによって、赤色画素、緑色画素および青色画素の色純度を高めることが可能となり、有機ＥＬディスプレイ２０およびこれを備えた有機ＥＬ表示装置の色再現範囲を拡大することができる。また、赤色蛍光体層１３上には、赤色カラーフィルターを形成することが好ましい。緑色蛍光体層１４上には、緑色カラーフィルターを形成することが好ましい。赤色カラーフィルターおよび緑色カラーフィルターは、外光の青色成分および紫外成分を吸収するため、各蛍光体層の外光による発光を低減または防止することが可能となり、コントラストの低下を低減または防止することができる。
　〔第２実施形態〕
　次に、本発明の他の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置が備える有機ＥＬディスプレイ４０の構成について、図３を参照して説明する。図３は、本発明の他の実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの要部の構成を模式的に示す断面図である。なお、図３は、有機ＥＬディスプレイ４０が備える有機ＥＬ素子の部分を示している。
　なお、説明の便宜上、第１実施形態にかかる構成要素と同様の機能を有する構成要素には同一の番号を付し、その説明を省略する。本実施形態では、主に、第１実施形態との相違点について説明するものとする。
　有機ＥＬディスプレイ４０は、アクティブマトリックス駆動型であり、基板１と、ゲート電極４１と、ドレイン電極４２と、ソース電極４３と、ゲート絶縁膜４４と、配線４５と、スルーホール４６と、平坦化膜４７と、有機ＥＬ部２２と、無機封止膜１１と、樹脂封止膜１２と、赤色蛍光体層１３と、緑色蛍光体層１４と、配光特性調整層１５と、ブラックマトリックス４８と、封止基板１６とにより構成されている。
　有機ＥＬディスプレイ４０は、アクティブ素子としてＴＦＴを備えており、有機ＥＬ部２２をアクティブマトリックス駆動するものである。したがって、優れた表示品位を得ることができる。また、パッシブ駆動する場合に比べ、発光時間を長くすることができることから、所望の輝度を得るための駆動電圧を低減することが可能となり、消費電力を低く抑えることが可能となる。
　有機ＥＬディスプレイ４０の基板１上には、複数のゲート線を構成するゲート電極４１、複数の信号線を構成するソース電極が形成され、ゲート電極４１とソース電極４３との交差部にＴＦＴが配置される。ＴＦＴ上には、平坦化膜４７が形成されている。すなわち、ＴＦＴは、反射電極２に対して有機ＥＬ層２１とは反対側に設けられている。
　本実施形態に係る有機ＥＬディスプレイ４０は、電圧駆動デジタル階調方式により駆動され、画素毎にスイッチング用および駆動用の２つのＴＦＴが配置される。駆動用のＴＦＴと有機ＥＬ部２２の反射電極２とは、平坦化膜４７に形成されるコンタクトホールを介して電気的に接続されている。また、一画素中には、駆動用のＴＦＴのゲート電位を定電位にするためのコンデンサーが、駆動用のＴＦＴのゲート電極４１に接続されるように配置されている。なお、本発明は、電圧駆動デジタル階調方式に限らず、電流駆動アナログ階調方式によって駆動されてもよい。
　なお、ＴＦＴの構成は、画素内に補償回路を内蔵した２個以上のＴＦＴを備えたものであってもよい。このような構成のＴＦＴによって有機ＥＬ部２２を駆動すれば、ＴＦＴの特性（移動度、閾値電圧）のバラツキを防止することができる。
　また、本実施形態においては、赤色蛍光体層１３、緑色蛍光体層１４および配光特性調整層１５の間には、ブラックマトリックス４８が形成されている。
　以下に、ＴＦＴおよび平坦化膜４７の構成について詳細に説明する。
　＜ＴＦＴ＞
　ＴＦＴは、有機ＥＬ部２２を形成する前に、予め基板１上に形成されることが好ましい。ＴＦＴとしては、スイッチング用及び駆動用として機能するものが挙げられる。ＴＦＴには、公知のＴＦＴを用いることができる。なお、本発明では、ＴＦＴの代わりに金属－絶縁体－金属（ＭＩＭ）ダイオードを用いることもできる。
　有機ＥＬディスプレイ４０に用いることが可能なＴＦＴとしては、公知の材料、構造および形成方法を用いることができる。ＴＦＴの活性層の材料としては、例えば、非晶質シリコン（アモルファスシリコン）、多結晶シリコン（ポリシリコン）、微結晶シリコン、セレン化カドミウム等の無機半導体材料、酸化亜鉛、酸化インジウム－酸化ガリウム－酸化亜鉛等の酸化物半導体材料、ポリチオフェン誘導体、チオフエンオリゴマー、ポリ（ｐ－フェリレンビニレン）誘導体、ナフタセン、ペンタセン等の有機半導体材料が挙げられる。また、ＴＦＴの構造としては、例えば、スタガ型、逆スタガ型、トップゲート型、コプレーナ型が挙げられる。
　ＴＦＴを構成する活性層の形成方法としては、（１）プラズマ誘起化学気相成長（ＰＥＣＶＤ）法等により成膜したアモルファスシリコンに不純物をイオンドーピングする方法、（２）シラン（ＳｉＨ４）ガスを用いた減圧化学気相成長（ＬＰＣＶＤ）法等によりアモルファスシリコンを形成し、固相成長法等によりアモルファスシリコンを結晶化してポリシリコンを得た後、イオン打ち込み法によりイオンドーピングする方法、（３）Ｓｉ２Ｈ６ガスを用いたＬＰＣＶＤ法、ＳｉＨ４ガスを用いたＰＥＣＶＤ法等によりアモルファスシリコンを形成し、エキシマレーザー等のレーザーによりアニールし、アモルファスシリコンを結晶化してポリシリコンを得た後、イオンドーピングを行なう方法（低温プロセス）、（４）ＬＰＣＶＤ法、ＰＥＣＶＤ法等によりポリシリコン層を形成し、１０００℃以上で熱酸化することによりゲート絶縁膜を形成し、その上に、ｎ＋ポリシリコンのゲート電極を形成し、その後、イオンドーピングを行なう方法（高温プロセス）、（５）有機半導体材料をインクジェット法等により形成する方法、（６）有機半導体材料の単結晶膜を得る方法等が挙げられる。
　本実施形態において用いられるＴＦＴのゲート絶縁膜４４は、公知の材料を用いて形成することができる。例えば、ＰＥＣＶＤ法、ＬＰＣＶＤ法等により形成されたＳｉＯ２、ポリシリコン膜を熱酸化して得られるＳｉＯ２等が挙げられる。
　また、本実施形態において用いられるＴＦＴのソース電極４３、ゲート電極４１およびドレイン電極４２は、公知の材料を用いて形成することができ、例えば、タンタル（Ｔａ）、アルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）等が挙げられる。有機ＥＬディスプレイ４０のＴＦＴは、上述した構成により形成することができるが、これらの材料、構造及び形成方法に限定されるものではない。
　＜平坦化膜４７＞
　平坦化膜４７は、基板１上に形成されたＴＦＴの上に形成される。なお、本発明はこのような構成に限らず、例えばＴＦＴ上に層間絶縁膜を形成し、その層間絶縁膜の上に平坦化膜４７を設けてもよい。
　ここで、有機ＥＬディスプレイ４０では、基板１上にＴＦＴを形成するため、その表面に凹凸が形成される。この表面に有機ＥＬ部２２を直接形成させた場合には、当該凹凸によって、例えば反射電極２の欠損、有機ＥＬ層２１の欠損、半透明電極１０の断線、反射電極２と半透明電極１０との短絡、耐圧の低下等の有機ＥＬ部２２の欠陥が発生するおそれがある。
　しかし、本実施形態であれば、平坦化膜４７によって、これらの欠陥を防止することができる。
　平坦化膜４７は、公知の材料を用いて形成することができ、例えば、酸化シリコン、窒化シリコン、酸化タンタル等の無機材料、ポリイミド、アクリル樹脂、レジスト材料等の有機材料等が挙げられる。平坦化膜４７の形成方法としては、ＣＶＤ法、真空蒸着法等のドライプロセス、スピンコート法等のウエットプロセスが挙げられる。また、平坦化膜４７は、単層構造でも多層構造でもよい。
　〔第３実施形態〕
　次に、本発明の他の実施形態に係る有機ＥＬディスプレイ６０の構成について、図４を参照して説明する。図４は、本発明の他の実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの要部の構成を模式的に示す断面図である。なお、図４は、有機ＥＬディスプレイ６０が備える有機ＥＬ素子の部分を示している。
　なお、説明の便宜上、第１実施形態にかかる構成要素と同様の機能を有する構成要素には同一の番号を付し、その説明を省略する。本実施形態では、主に、第１実施形態との相違点について説明するものとする。
　有機ＥＬディスプレイ６０は、基板１と、有機ＥＬ部２２と、無機封止膜１１と、樹脂封止膜１２と、偏光フィルム（偏光板）６１と、基板６２と、透明電極６３と、配向膜６４と、液晶層６５と、平坦化膜６６と、赤色蛍光体層１３と、緑色蛍光体層１４と、配光特性調整層１５と、封止基板１６とにより構成されている。
　すなわち、本実施形態では、樹脂封止膜１２と赤色蛍光体層１３、緑色蛍光体層１４および配光特性調整層１５との間に、偏光フィルム６１と、基板６２と、透明電極６３と、配向膜６４と、液晶層６５と、平坦化膜６６とを備えている点が、第１実施形態と異なっている。
　基板６２、偏光フィルム６１、透明電極６３、配向膜６４、および液晶層６５は、いわゆるスイッチング素子として機能するものである。基板６２は、透明電極６３を形成させるための基板である。偏光フィルム６１は、液晶層６５の透過率を制御するための層である。透明電極６３は、液晶層６５を駆動させるための電極である。配向膜６４は、液晶層６５の液晶を配向させるための膜である。液晶層６５は、電圧をかけられることにより駆動されて、赤色画素、緑色画素および青色画素に対してスイッチングを行なうものである。これにより、優れた表示品位を得ることができる。基板６２、透明電極６３、配向膜６４、および液晶層６５には、公知の材料を用いることができる。
　平坦化膜６６は、偏光フィルム６１と赤色蛍光体層１３、緑色蛍光体層１４および配光特性調整層１５との間に形成される。平坦化膜６６としては、第２実施形態における平坦化膜４７と同様のものを用いることができる。平坦化膜６６により、偏光フィルム６１と赤色蛍光体層１３、緑色蛍光体層１４および配光特性調整層１５との間に空間ができることを防止できる。
　〔付記事項〕
　本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。
　例えば、本発明に係る有機ＥＬ素子では、前記配光特性調整層は、前記有機ＥＬ層からの光の輝度を、前記赤色蛍光体層から出射される光の輝度および前記緑色蛍光体層から出射される光の輝度に近づけるように調整するとともに、前記有機ＥＬ層からの光の色純度を、前記赤色蛍光体層から出射される光の色純度および前記緑色蛍光体層から出射される光の色純度に近づけるように調整するものであることが好ましい。
　上記の構成であれば、青色画素は、配光特性調整層によって、有機ＥＬ層からの光の輝度を、赤色蛍光体層および緑色蛍光体層からの光の輝度に近づけ、かつ、有機ＥＬ層からの光の色純度を、赤色蛍光体層および緑色蛍光体層からの光の色純度に近づけるように調整するため、等方的な光を出射することができる。
　そのため、視野角によって各色の画素の輝度および色純度のずれが小さいので、正面から見たときと斜めから見たときとの各色の輝度および色純度のバランスの変化を低減させることができる。また、各色の画素からの光が等方的であるため、良好な視野角特性を得ることができる。
　また、本発明に係る有機ＥＬ素子では、前記赤色蛍光体層から出射される光のうち、正面方向における輝度をＬ０Ｒとするとともに、当該正面方向に対して６０度傾いた方向における輝度をＬ６０Ｒとし、前記緑色蛍光体層から出射される光のうち、正面方向における輝度をＬ０Ｇとするとともに、当該正面方向に対して６０度傾いた方向における輝度をＬ６０Ｇとし、前記配光特性調整層から出射される光のうち、正面方向における輝度をＬ０Ｂとするとともに、当該正面方向に対して６０度傾いた方向における輝度をＬ６０Ｂとしたとき、前記配光特性調整層は、以下の式（１）および（２）
０．８Ｌ６０Ｒ／Ｌ０Ｒ＜Ｌ６０Ｂ／Ｌ０Ｂ＜１．２Ｌ６０Ｒ／Ｌ０Ｒ・・・（１）
０．８Ｌ６０Ｇ／Ｌ０Ｇ＜Ｌ６０Ｂ／Ｌ０Ｂ＜１．２Ｌ６０Ｇ／Ｌ０Ｇ・・・（２）
を満たすように、前記有機ＥＬ層からの光の配光特性を調整するものであることが好ましい。
　上記の構成であれば、青色画素から出射される光の輝度と、赤色蛍光体層および緑色蛍光体層から出射される光の輝度とのずれが非常に小さくなるため、斜めから見た際の赤色および緑色の光の輝度と青色の光の輝度とのずれを、視認できない程度に抑えることができる。
　また、本発明に係る有機ＥＬ素子では、前記赤色蛍光体層から出射される光のうち、正面方向における色純度を（ｘ０Ｒ、ｙ０Ｒ）とするとともに、当該正面方向に対して６０度傾いた方向における色純度を（ｘ６０Ｒ、ｙ６０Ｒ）とし、前記緑色蛍光体層から出射される光の正面方向における色純度を（ｘ０Ｇ、ｙ０Ｇ）とするとともに、当該正面方向に対して６０度傾いた方向における色純度を（ｘ６０Ｇ、ｙ６０Ｇ）とし、前記配光特性調整層から出射される光の正面方向における色純度を（ｘ０Ｂ、ｙ０Ｂ）とするとともに、当該正面方向に対して６０度傾いた方向における色純度を（ｘ６０Ｂ、ｙ６０Ｂ）としたとき、前記配光特性調整層は、以下の式（３）～（６）
｜ｘ６０Ｒ－ｘ０Ｒ｜≧｜ｘ６０Ｂ－ｘ０Ｂ｜・・・（３）
｜ｙ６０Ｒ－ｙ０Ｒ｜≧｜ｙ６０Ｂ－ｙ０Ｂ｜・・・（４）
｜ｘ６０Ｇ－ｘ０Ｇ｜≧｜ｘ６０Ｂ－ｘ０Ｂ｜・・・（５）
｜ｙ６０Ｇ－ｙ０Ｇ｜≧｜ｙ６０Ｂ－ｙ０Ｂ｜・・・（６）
を満たすように、前記有機ＥＬ層からの光の配光特性を調整するものであることが好ましい。
　上記の構成であれば、青色画素から出射される光の色純度と、赤色蛍光体層および緑色蛍光体層から出射される光の色純度とのずれが非常に小さくなるため、斜めから見た際の赤色および緑色の光の色純度と青色の光の色純度とのずれを、視認できない程度に抑えることができる。
　また、本発明に係る有機ＥＬ素子では、前記有機ＥＬ層が発光する光の発光強度の極大値に対応する波長が４００ｎｍ以上４８０ｎｍ以下であることが好ましい。
　上記の構成であれば、有機ＥＬ層が発光する光の発光強度の極大値に対応する波長が４００ｎｍ以上であるため、発光効率および寿命を向上させることができる。また、当該波長が４８０ｎｍ以下であるため、有機ＥＬ層からの光によって蛍光体層、特に緑色蛍光体層を効率よく励起させ、発光させることができる。
　また、本発明に係る有機ＥＬ素子では、前記配光特性調整層は、光を散乱させるための光散乱粒子を含んでおり、前記赤色蛍光体層が含む赤色蛍光体の平均粒子径をｄ５０（Ｒ）とし、前記緑色蛍光体層が含む緑色蛍光体の平均粒子径をｄ５０（Ｇ）とし、前記光散乱粒子の平均粒子径をｄ５０（Ｂ）とすると、下記式（７）および（８）
０．８ｄ５０（Ｂ）＜ｄ５０（Ｒ）＜１．２ｄ５０（Ｂ）・・・（７）
０．８ｄ５０（Ｂ）＜ｄ５０（Ｇ）＜１．２ｄ５０（Ｂ）・・・（８）
を満たすことが好ましい。
　上記の構成であれば、青色画素から出射される光の輝度および色純度と、赤色蛍光体層および緑色蛍光体層から出射される光の輝度および色純度とのそれぞれのずれが非常に小さくなる。そのため、斜めから見た際の赤色および緑色の光の輝度および色純度と、青色の光の輝度および色純度とのずれを、視認できない程度に抑えることができる。
　また、本発明に係る有機ＥＬ素子では、前記光散乱粒子は、無機材料により構成されていることが好ましい。
　上記の構成であれば、有機ＥＬ層からの指向性を有する光を、より等方的に効果的に拡散または散乱させることが可能となる。また、無機材料を使用することにより、光および熱に安定な配光特性調整層とすることが可能となる。
　また、本発明に係る有機ＥＬ素子では、前記光散乱粒子は、平均粒子径が１μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましい。
　ここで、光散乱粒子の平均粒子径が１μｍ以下であると、光散乱粒子の粒子径が小さいため、配光特性を調整するという効果が十分に得られないが、上記構成であれば、配光特性を良好に調整することができる。また、光散乱粒子の平均粒子径が５０μｍ以上であると、配光特性調整層の表面の凹凸が大きくなり、配光特性調整層の内部での散乱より、表面での散乱が支配的となり、配光特性を所望の特性に調整するという効果が得られない。しかし、上記構成であれば、配光特性調整層の表面の凹凸を小さくできるので、配光特性を良好に調整することができる。
　したがって、上記の構成であれば、青色画素から出射される光の輝度および色純度を、赤色蛍光体層および緑色蛍光体層から出射される光の輝度および色純度に、より近づけることができるため、良好な視野角特性を得ることが可能となる。
　また、本発明に係る有機ＥＬ素子では、前記赤色蛍光体層が含む赤色蛍光体と前記緑色蛍光体層が含む緑色蛍光体との少なくとも一方は、無機材料により構成されていることが好ましい。
　上記の構成であれば、赤色蛍光体および緑色蛍光体のうち無機材料により構成されているものを含む赤色蛍光体層または緑色蛍光体層を、光および熱に安定な層（膜）とすることが可能となる。
　また、本発明に係る有機ＥＬ素子では、前記赤色蛍光体層が含む赤色蛍光体と前記緑色蛍光体層が含む緑色蛍光体との少なくとも一方の平均粒子径が、０．５μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましい。
　上記の構成であれば、蛍光体の平均粒子径が０．５μｍ以上であるため高い発光効率を得ることができる。また、平均粒子径が５０μｍ以下であるため、赤色蛍光体層または緑色蛍光体層として平坦な膜を形成することが容易になり、周囲の層との間に空間が生じて発光効率が低下することを防ぐことができる。
　また、本発明に係る有機ＥＬ素子では、前記半透明電極は、銀を含むことが好ましい。上記の構成であれば、半透明電極の反射率および透過率を好適なものとすることができる。
　また、本発明に係る有機ＥＬ素子では、前記半透明電極の膜厚が、１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下であることが好ましい。
　上記の構成であれば、膜厚が１０ｎｍ以上であるため、半透明電極による光の反射を十分に行なえるため、高い干渉の効果を得ることができる。また、膜厚が３０ｎｍ以下であるため、光を効率よく透過でき、十分な輝度および発光効率を得ることができる。
　また、本発明に係る有機ＥＬ素子では、前記有機ＥＬ層が、青色領域の燐光を発光する燐光材料を含んでいることが好ましい。
　上記の構成であれば、発光効率が高いため、消費電力を抑えることが可能になる。
　また、本発明に係る有機ＥＬ素子では、前記赤色蛍光体層、前記緑色蛍光体層および配光特性調整層における光の出射面上にカラーフィルターを備えていることが好ましい。
　上記の構成であれば、赤色蛍光体層、緑色蛍光体層、および配光特性調整層から出射される光の色純度を高めることができる。したがって、有機ＥＬディスプレイに用いた場合に、色再現範囲を広げることが可能となる。
　また、本発明に係る有機ＥＬ素子では、前記半透明電極に対して前記有機ＥＬ層とは反対側に偏光板が設けられていることが好ましい。
　上記の構成であれば、外光による半透明電極からの反射光、外光により励起された赤色蛍光体層および緑色蛍光体層からの発光の影響を劇的に低減させることができる。したがって、有機ＥＬディスプレイに用いた場合に、コントラストを向上させることが可能となる。
　また、本発明に係る有機ＥＬ素子では、前記有機ＥＬ層と、前記赤色蛍光体層、前記緑色蛍光体層、および前記配光特性調整層との間に、前記赤色蛍光体層、前記緑色蛍光体層および前記配光特性調整層に対してスイッチングを行なうための液晶層を備えていることが好ましい。
　上記の構成であれば、液晶層がいわゆるスイッチング素子として機能するため、有機ＥＬディスプレイに用いた場合に、表示品位の優れた有機ＥＬディスプレイを提供することが可能となる。
　また、本発明に係る有機ＥＬディスプレイでは、前記有機ＥＬ素子をアクティブマトリックス駆動するアクティブ素子を備えていることが好ましい。
　上記の構成であれば、表示品位の優れた有機ＥＬディスプレイを提供することができる。また、パッシブ駆動する場合に比べ、発光時間を長くすることができることから、所望の輝度を得るための駆動電圧を低減することが可能となり、消費電力を低く抑えることが可能となる。
　また、本発明に係る有機ＥＬディスプレイでは、前記アクティブ素子は、前記反射電極に対して前記有機ＥＬ層とは反対側に設けられていることが好ましい。
　上記の構成であれば、アクティブ素子における配線等を考慮することなく、開口率を高くすることができる。したがって、消費電力が低く抑えられた有機ＥＬディスプレイを提供することが可能となる。
　以下に実施例を示し、本発明の実施の形態についてさらに詳しく説明する。もちろん、本発明は以下の実施例に限定されるものではなく、細部については様々な態様が可能であることはいうまでもない。
　以下の各実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定されるものではない。
　〔実施例１〕
　上述した第１実施形態における有機ＥＬディスプレイ２０と同じ構成の有機ＥＬディスプレイを備えた有機ＥＬ表示装置を作製した。以下、有機ＥＬディスプレイ２０の構成部材と同じ機能を有する部材には同じ部材番号を付すこととする。
　まず、有機ＥＬ部２２が形成された基板１（有機ＥＬ素子基板）を作製した。
　（有機ＥＬ素子基板）
　基板１として、０．７ｍｍの厚さのガラス基板を用いた。基板１上に、銀をスパッタ法により膜厚１００ｎｍとなるように成膜し、その上にインジウム－スズ酸化物（ＩＴＯ）を、スパッタ法により膜厚２０ｎｍとなるよう成膜し、反射電極２（陽極）を形成させた。その後、公知のフォトリソグラフィー法により、反射電極２について、２ｍｍ幅の９０本のストライプ状となるようにパターニングした。
　次に、反射電極２上にＳｉＯ２をスパッタ法により２００ｎｍ積層し、公知のフォトリソグラフィー法により、反射電極２のエッジ部を覆うように、パターン化し、隔壁層１７を形成させた。ここでは、隔壁層１７は、反射電極２の短辺について、端から１０μｍ分ＳｉＯ２によって覆う構造とした。これを水洗後、純水超音波洗浄を１０分、アセトン超音波洗浄を１０分、イソプロピルアルコール蒸気洗浄を５分行ない、１００℃にて１時間乾燥させた。
　次に、この基板１をインライン型抵抗加熱蒸着装置内の基板ホルダーに固定し、１×１０－４Ｐａ以下の真空まで減圧した後、有機ＥＬ層２１における各有機層の成膜を行なった。
　まず、正孔注入材料として、１，１－ビス-ジ－４－トリルアミノ－フェニル－シクロヘキサン（ＴＡＰＣ）を用いて、抵抗加熱蒸着法により膜厚１２０ｎｍの正孔注入層４を形成した。
　次に正孔輸送材料として、Ｎ，Ｎ’－ｄｉ－ｌ－ナフチル－Ｎ，Ｎ’－ジフェニル－１，１’－ビフェニル－１，１’－ビフェニル－４，４’－ジアミン（ＮＰＤ）を用い抵抗加熱蒸着法により膜厚４０ｎｍの正孔輸送層５を形成した。
　次いで、正孔輸送層５上に、発光層６として青色有機発光層（厚さ：３０ｎｍ）を形成した。この青色有機発光層は、１，４－ビス－トリフェニルシリル－ベンゼン（ＵＧＨ－２）（ホスト材料）とビス［（４，６－ジフルオロフェニル）－ピリジナト－Ｎ，Ｃ２’］ピコリネート　イリジウム（ＩＩＩ）（ＦＩｒｐｉｃ）（青色燐光発光ドーパント）とを用いて、それぞれの蒸着速度を１．５Å／ｓｅｃ、０．２Å／ｓｅｃとし、共蒸着することで作製した。
　次いで、発光層６の上に、２，９－ジメチル－４，７－ジフェニル－１，１０－フェナントロリン（ＢＣＰ）を用いて正孔防止層７（厚さ：１０ｎｍ）を形成した。次いで、正孔防止層７の上に、トリス（８－ヒドロキシキノリン）アルミニウム（Ａｌｑ３）を用いて電子輸送層８（厚さ：３０ｎｍ）を形成した。次いで、電子輸送層８の上に、フッ化リチウム（ＬｉＦ）を用いて電子注入層９（厚さ：０．５ｎｍ）を形成した。
　この後、半透明電極１０を形成した。まず、基板１を金属蒸着用チャンバーに固定した。次に、半透明電極形成用のシャドーマスク（反射電極２の長辺方向と直行する向きに、２ｍｍ幅のストライプ状に半透明電極１０を形成できるように、開口部が形成されているマスク）と基板１とをアライメントし、電子注入層９の表面に真空蒸着法によりマグネシウムと銀とをそれぞれ０．１Å／ｓｅｃ、０．９Å／ｓｅｃの蒸着速度により共蒸着させ、マグネシウム銀を厚さ１ｎｍにて所望のパターンにより形成した。その上に、干渉効果を高める目的、および半透明電極１０における配線抵抗による電圧降下を防止する目的から、銀を１Å／ｓｅｃの蒸着速度によって厚さ１９ｎｍにて所望のパターンに形成した。これにより、半透明電極１０が形成された。
　有機ＥＬ部２２の反射電極２と半透明電極１０との間は、有機ＥＬ層２１から発光する光のうち、マイクロキャビティ効果により有機ＥＬ部２２から発光する光のピークの波長が４６０ｎｍ、半値幅が５０ｎｍとなるような光学距離（有機総膜厚：２３０ｎｍ）に設定した。
　作製された有機ＥＬ部２２は、反射電極２と半透明電極１０との間においてマイクロキャビティ効果（干渉効果）が得られ、正面輝度の高い光を出射できるものである。したがって、有機ＥＬ部２２からの発光エネルギーを、赤色蛍光体層１３、緑色蛍光体層１４および配光特性調整層１５により効率よく伝搬させることが可能となる。
　次にプラズマＣＶＤ法により、３μｍのＳｉＯ２からなる無機封止膜１１を形成した。無機封止膜１１は、シャドーマスクを用いて、表示部の上下左右の端から幅２ｍｍの領域（封止エリア）までパターニング形成した。なお、表示部とは、画像が表示される部分をさす。
　以上の工程により、有機ＥＬ素子基板が作製された。
　次に、赤色蛍光体層１３、緑色蛍光体層１４および配光特性調整層１５が形成された封止基板１６（蛍光体基板）を作製した。
　（蛍光体基板）
　封止基板１６として０．７ｍｍのガラス基板を用い、封止基板１６上に、３ｍｍ幅の赤色蛍光体層１３、緑色蛍光体層１４、および配光特性調整層１５を形成した。
　まず、赤色蛍光体層１３の形成について説明する。平均粒子径５ｎｍのエアロジル０．１６ｇにエタノール１５ｇおよびγ－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン０．２２ｇを加えて、開放系において室温下１時間攪拌した。次に、この混合物と、平均粒子径（ｄ５０（Ｒ））が１．０μｍの赤色蛍光体Ｋ５Ｅｕ２．５（ＷＯ４）６．２５　２０ｇとを乳鉢に移し、よくすり混ぜた後、７０℃のオーブンで２時間、さらに１２０℃のオーブンで２時間加熱し、表面改質したＫ５Ｅｕ２．５（ＷＯ４）６．２５を得た。次に表面改質を施したＫ５Ｅｕ２．５（ＷＯ４）６．２５　１０ｇに、水／ジメチルスルホキシド＝１／１の混合溶液（３００ｇ）に溶解したポリビニルアルコール３０ｇを加え、分散機により攪拌した塗液（赤色蛍光体形成用塗液）を作製した。この塗液を、スクリーン印刷法により、封止基板１６上に３ｍｍ幅において所望の位置に塗布した。その後真空オーブン（２００℃、１０ｍｍＨｇの条件）において４時間加熱乾燥し、赤色蛍光体層１３を形成した。
　次に、緑色蛍光体層１４の形成について説明する。平均粒子径５ｎｍのエアロジル０．１６ｇにエタノール１５ｇおよびγ－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン０．２２ｇを加えて開放系において室温下１時間攪拌した。この混合物と、平均粒子径（ｄ５０（Ｇ））が１．０μｍの緑色蛍光体Ｂａ２ＳｉＯ４：Ｅｕ２＋　２０ｇとを乳鉢に移し、よくすり混ぜた後、７０℃のオーブンで２時間、さらに１２０℃のオーブンで２時間加熱し、表面改質したＢａ２ＳｉＯ４：Ｅｕ２＋を得た。次に表面改質を施したＢａ２ＳｉＯ４：Ｅｕ２＋　１０ｇに、水／ジメチルスルホキシド＝１／１の混合溶液（３００ｇ）に溶解したポリビニルアルコール３０ｇを加え、分散機により攪拌した塗液（緑色蛍光体形成用塗液）を作製した。この塗液を、スクリーン印刷法により、封止基板１６上に３ｍｍ幅において所望の位置に塗布した。その後真空オーブン（２００℃、１０ｍｍＨｇの条件）において４時間加熱乾燥し、緑色蛍光体層１４を形成した。
　次に、配光特性調整層１５の形成について説明する。光散乱粒子として用いた平均粒子径（ｄ５０（Ｂ））１．５μｍのシリカ粒子（屈折率：１．６５）２０ｇに、水／ジメチルスルホキシド＝１／１の混合溶液（３００ｇ）に溶解したポリビニルアルコール３０ｇを加え、分散機により攪拌して塗液（配光特性調整層形成用塗液）を作製した。この塗液を、スクリーン印刷法により、封止基板１６上に３ｍｍ幅において所望の位置に塗布した。その後真空オーブン（２００℃、１０ｍｍＨｇの条件）において４時間加熱乾燥し、配光特性調整層１５を形成した。
　以上の工程により、蛍光体基板が作製された。
　（貼り合わせ工程）
　次に以上のように作製した有機ＥＬ素子基板と蛍光体基板とを貼り合わせる、貼り合わせ工程を行なった。貼り合わせる前に、蛍光体基板には熱硬化樹脂を塗布し、この熱硬化樹脂を介して両基板を密着させた。なお、表示部の外に形成されている位置合わせマーカーにより位置合わせを行なった。その後、９０℃にて２時間加熱することで熱硬化樹脂を硬化させた。なお、貼り合わせ工程は、有機ＥＬの水分による劣化を防止する目的から、ドライエアー環境（水分量：－８０℃）において行なった。
　最後に、周辺に形成されている端子を外部電源に接続することにより、有機ＥＬ表示装置を完成させた。
　作製した有機ＥＬ表示装置を用いて、外部電源により所望の電源を印加し、赤色画素、緑色画素および青色画素からの光の配光特性、および視野角に対する色純度の変化を測定した。測定値をもとに、各画素について、光の正面方向における輝度を１としたときの、正面方向に対して６０度傾いた方向における相対輝度（Ｌ６０Ｒ／Ｌ０Ｒ、Ｌ６０Ｇ／Ｌ０Ｇ、Ｌ６０Ｂ／Ｌ０Ｂ）を算出した。また、各画素について、正面方向に対して６０度傾いた方向における色純度から、正面方向における色純度を減じた値（（ｘ６０Ｒ－ｘ０Ｒ）、（ｙ６０Ｒ－ｙ０Ｒ）、（ｘ６０Ｇ－ｘ０Ｇ）、（ｙ６０Ｇ－ｙ０Ｇ）、（ｘ６０Ｂ－ｘ０Ｂ）、（ｙ６０Ｂ－ｙ０Ｂ））を算出し、色純度変化量とした。
　これらの結果を図５、図６および表１に示す。図５は、本発明の一実施例における有機ＥＬ表示装置によって得られる光の配光特性を示す図である。また、図６は、本発明の一実施例における有機ＥＬ表示装置における視野角に対する色純度の変化を示すグラフである。
　これらの結果に示されるように、本実施例においては、赤色画素、緑色画素および青色画素からの光が全て等方的であることが分かった。また、各色の画素によって相対輝度にほとんど差がなく、また、各画素において視野角によって色純度がほとんど変化しないことが示された。したがって、視野角特性が良好であり、視野角による各色の画素の輝度および色純度のずれが非常に小さい有機ＥＬ表示装置であることが示された。
　〔実施例２〕
　平均粒子径（ｄ５０（Ｒ））２０μｍの赤色蛍光体を用いて赤色蛍光体層１３を形成し、平均粒子径（ｄ５０（Ｇ））２５μｍの緑色蛍光体を用いて緑色蛍光体層１４を形成し、光散乱粒子として平均粒子径（ｄ５０（Ｂ））２０μｍのシリカ粒子を用いて配光特性調整層１５を形成した。これらの点以外は、実施例１と同様の構成および方法を用いて、有機ＥＬ表示装置を作製した。
　作製した有機ＥＬ表示装置を用いて、赤色画素、緑色画素および青色画素からの光の配光特性、および視野角に対する色純度の変化を測定し、実施例１と同様に、相対輝度および色純度変化量を算出した。その結果を表１に示す。
　表１に示すように、各色の画素によって相対輝度にほとんど差がなく、また、各画素において視野角によって色純度がほとんど変化しないことが示された。したがって、視野角特性が良好であり、視野角による各色の画素の輝度および色純度のずれが非常に小さい有機ＥＬ表示装置であることが示された。
　〔実施例３〕
　平均粒子径（ｄ５０（Ｒ））５０μｍの赤色蛍光体を用いて赤色蛍光体層１３を形成し、平均粒子径（ｄ５０（Ｇ））４２μｍの緑色蛍光体を用いて緑色蛍光体層１４を形成し、光散乱粒子として平均粒子径（ｄ５０（Ｂ））５０μｍのシリカ粒子を用いて配光特性調整層１５を形成した。これらの点以外は、実施例１と同様の構成および方法を用いて、有機ＥＬ表示装置を作製した。
　作製した有機ＥＬ表示装置を用いて、赤色画素、緑色画素および青色画素からの光の配光特性、および視野角に対する色純度の変化を測定し、実施例１と同様に、相対輝度および色純度変化量を算出した。その結果を表１に示す。
　表１に示すように、各色の画素によって相対輝度にほとんど差がなく、また、各画素において視野角によって色純度がほとんど変化しないことが示された。したがって、視野角特性が良好であり、視野角による各色の画素の輝度および色純度のずれが非常に小さい有機ＥＬ表示装置であることが示された。
　〔実施例４〕
　正孔注入材料として、１，１－ビス-ジ－４－トリルアミノ－フェニル－シクロヘキサン（ＴＡＰＣ）を用いて、抵抗加熱蒸着法により膜厚１４０ｎｍの正孔注入層４を形成した。また、有機ＥＬ部２２の反射電極２と半透明電極１０との間は、有機ＥＬ層２１から発光する光のうち、マイクロキャビティ効果により有機ＥＬ部２２から発光する光のピークの波長が４８０ｎｍ、半値幅が５０ｎｍとなるような光学距離（有機総膜厚：２３０ｎｍ）に設定した。これらの点以外は、実施例１と同様の構成および方法を用いて、有機ＥＬ表示装置を作製した。
　作製した有機ＥＬ表示装置を用いて、赤色画素、緑色画素および青色画素からの光の配光特性、および視野角に対する色純度の変化を測定し、実施例１と同様に、相対輝度および色純度変化量を算出した。その結果を表１に示す。
　表１に示すように、各色の画素によって相対輝度にほとんど差がなく、また、各画素において視野角によって色純度がほとんど変化しないことが示された。したがって、視野角特性が良好であり、視野角による各色の画素の輝度および色純度のずれが非常に小さい有機ＥＬ表示装置であることが示された。
　〔実施例５〕
　正孔注入材料として、１，１－ビス-ジ－４－トリルアミノ－フェニル－シクロヘキサン（ＴＡＰＣ）を用いて、抵抗加熱蒸着法により膜厚１００ｎｍの正孔注入層４を形成した。また、発光層６として青色有機発光層（厚さ：３０ｎｍ）を形成した。この青色有機発光層は、２－（ジフェニルホスフォリン）スピロフルオレン（ＳＰＰＯ１）（ホスト材料）と［トリス（Ｎ，Ｎ‘－ジフェニルベンズイミダゾリン－２－イリデン）イリジウム］（Ｉｒ（ｄｐｂｉｃ）３）（青色燐光発光ドーパント）とを用いて、それぞれの蒸着速度を１．５Å／ｓｅｃ、０．２Å／ｓｅｃとし、共蒸着することで作製した。また、有機ＥＬ部２２の反射電極２と半透明電極１０との間は、有機ＥＬ層２１から発光する光のうち、マイクロキャビティ効果により有機ＥＬ部２２から発光する光のピークの波長が４００ｎｍ、半値幅が５０ｎｍとなるような光学距離（有機総膜厚：２００ｎｍ）に設定した。
　これらの点以外は、実施例１と同様の構成および方法を用いて、有機ＥＬ表示装置を作製した。
　作製した有機ＥＬ表示装置を用いて、赤色画素、緑色画素および青色画素からの光の配光特性、および視野角に対する色純度の変化を測定し、実施例１と同様に、相対輝度および色純度変化量を算出した。その結果を表１に示す。
　表１に示すように、各色の画素によって相対輝度にほとんど差がなく、また、各画素において視野角によって色純度がほとんど変化しないことが示された。したがって、視野角特性が良好であり、視野角による各色の画素の輝度および色純度のずれが非常に小さい有機ＥＬ表示装置であることが示された。
　〔比較例１〕
　本比較例においては、有機ＥＬディスプレイ１００を備えた有機ＥＬ表示装置を作製した。有機ＥＬディスプレイ１００の構成について、図７を参照して説明する。図７は、本発明の一比較例における有機ＥＬディスプレイの概略構成を模式的に示す断面図である。
　有機ＥＬディスプレイ１００は、基板１０１と、反射電極１０２と、エッジカバー１０３と、正孔注入層１０４と、正孔輸送層１０５と、発光層１０６と、正孔防止層１０７と、電子輸送層１０８と、電子注入層１０９と、半透明電極１１０と、無機封止膜１１１と、樹脂封止膜１１２と、赤色蛍光体層１１３と、緑色蛍光体層１１４と、封止基板１１６と、隔壁層１１７とにより構成されている。
　なお、有機ＥＬディスプレイ１００は、配光特性調整層１５を備えていない点以外は、実施例１における有機ＥＬディスプレイと同様の構成である。すなわち、基板１０１、反射電極１０２、エッジカバー１０３、正孔注入層１０４、正孔輸送層１０５、発光層１０６、正孔防止層１０７、電子輸送層１０８、電子注入層１０９、半透明電極１１０、無機封止膜１１１、樹脂封止膜１１２、赤色蛍光体層１１３、緑色蛍光体層１１４、封止基板１１６、隔壁層１１７は、それぞれ基板１、反射電極２、エッジカバー３、正孔注入層４、正孔輸送層５、発光層６、正孔防止層７、電子輸送層８、電子注入層９、半透明電極１０、無機封止膜１１、樹脂封止膜１２、赤色蛍光体層１３、緑色蛍光体層１４、封止基板１６、隔壁層１７と同様の構成である。また、作製方法についても実施例１と同様の方法を用いた。
　作製した有機ＥＬ表示装置を用いて、赤色画素、緑色画素および青色画素からの光の配光特性、および視野角に対する色純度の変化を測定し、実施例１と同様に、相対輝度および色純度変化量を算出した。これらの結果を図８、図９および表１に示す。図８は、本発明の一比較例における有機ＥＬ表示装置によって得られる光の配光特性を示す図である。また、図９は、本発明の一比較例における有機ＥＬ表示装置における視野角に対する色純度の変化を示すグラフである。
　これらの結果に示されるように、本比較例においては、赤色画素および緑色画素からの光は等方的であったが、青色画素からの光は指向性を有する光であった。したがって、正面方向から見たときの色に比べて、斜め方向から見たときの色は、黄色に色ずれしてしまうことが示唆された。また、青色画素からの光は、他の画素からの光に比べて相対輝度が小さく、また、色純度変化量が大きかった。
　〔比較例２〕
　平均粒子径（ｄ５０（Ｒ））１．０μｍの赤色蛍光体を用いて赤色蛍光体層１３を形成し、平均粒子径（ｄ５０（Ｇ））１．０μｍの緑色蛍光体を用いて緑色蛍光体層１４を形成し、光散乱粒子として平均粒子径（ｄ５０（Ｂ））０．５μｍのシリカ粒子を用いて配光特性調整層１５を形成した。これらの点以外は実施例１と同様の構成および方法を用いて、有機ＥＬ表示装置を作製した。
　作製した有機ＥＬ表示装置を用いて、赤色画素、緑色画素および青色画素からの光の配光特性、および視野角に対する色純度の変化を測定し、実施例１と同様に、相対輝度および色純度変化量を算出した。その結果を表１に示す。表１に示すように、青色画素からの光は、他の画素からの光に比べて相対輝度が小さく、また、色純度変化量が大きかった。
　〔比較例３〕
　平均粒子径（ｄ５０（Ｒ））１．０μｍの赤色蛍光体を用いて赤色蛍光体層１３を形成し、平均粒子径（ｄ５０（Ｇ））１．０μｍの緑色蛍光体を用いて緑色蛍光体層１４を形成し、平均粒子径（ｄ５０（Ｂ））１００μｍのシリカ粒子を用いて配光特性調整層１５を形成した。これらの点以外は実施例１と同様の構成および方法を用いて、有機ＥＬ表示装置を作製した。
　作製した有機ＥＬ表示装置を用いて、赤色画素、緑色画素および青色画素からの光の配光特性、および視野角に対する色純度の変化を測定し、実施例１と同様に、相対輝度および色純度変化量を算出した。その結果を表１に示す。表１に示すように、青色画素からの光は、他の画素からの光に比べて相対輝度が小さく、また、色純度変化量が大きかった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
〔実施例６〕
　上述した第２実施形態における有機ＥＬディスプレイ４０と同じ構成の有機ＥＬディスプレイを備えた有機ＥＬ表示装置を作製した。以下、有機ＥＬディスプレイ４０の構成部材と同じ機能を有する部材には同じ部材番号を付すこととする。
　まず、アクティブ素子が形成された基板１（アクティブ素子基板）を作製した。
　（アクティブ素子基板）
　基板１として、１００×１００ｍｍ角のガラス基板を用いた。基板１上に、ＰＥＣＶＤ法を用いて、アモルファスシリコン半導体膜を形成した。続いて、結晶化処理を施すことにより多結晶シリコン半導体膜を形成した。次に、フォトリソグラフィー法を用いて多結晶シリコン半導体膜を複数の島状にパターニングした。続いて、パターニングした多結晶シリコン半導体層の上にゲート絶縁膜４４およびゲート電極４１をこの順番で形成し、フォトリソグラフィー法を用いてパターニングを行なった。その後、パターニングした多結晶シリコン半導体膜にリン等の不純物元素をドーピングすることによりソース電極４３およびドレイン電極４２を形成し、ＴＦＴ素子を作製した。
　その後、平坦化膜４７を形成した。平坦化膜４７としては、ＰＥＣＶＤ法で形成した窒化シリコン膜上に、スピンコーターでアクリル系樹脂層を積層して形成した。まず、窒化シリコン膜を形成した後、窒化シリコン膜とゲート絶縁膜４４とを一括してエッチングすることによりソース電極４３および／またはドレイン電極４２に通ずるコンタクトホールを形成し、続いて、配線４５を形成した。その後、平坦化膜４７としての機能を実現するアクリル系樹脂層を形成し、ゲート絶縁膜４４および窒化シリコン膜に穿孔したドレイン電極４２のコンタクトホールと同じ位置に、ドレイン電極４２に通ずるコンタクトホールを形成することにより、アクティブマトリクス基板を完成させた。
　なお、ＴＦＴのゲート電位を定電位にするためのコンデンサーが、スイッチング用ＴＦＴのドレイン電極４２と駆動用ＴＦＴのソース電極４３との間に層間絶縁膜等の絶縁膜を介することで形成された。
　このアクティブマトリクス基板上には、平坦化膜４７を貫通して、駆動用ＴＦＴと、有機ＥＬ部２２の各画素に対応する反射電極２とを電気的に接続するためのコンタクトホールが設けられている。
　次に、平坦化膜４７を貫通して設けられたコンタクトホールを介して、各画素を駆動する為のＴＦＴに電気的に接続するために、スパッタ法により、反射電極２（陽極）を形成した。反射電極２は、Ａｌ（アルミニウム）を膜厚１５０ｎｍ、ＩＺＯ（酸化インジウム－酸化亜鉛）を膜厚２０ｎｍにて積層して形成した。次に公知のフォトリソグラフィー法を用いて、反射電極２を各画素に対応した形状にパターン化した。ここでは、反射電極２の面積としては、３００μｍ×１００μｍとした。
　なお、本実施例では、１００×１００ｍｍ角の基板１に、８０×８０ｍｍの表示部を形成し、表示部の上下左右に２ｍｍ幅の封止エリアが設けた。また、短辺側には、封止エリアの外にそれぞれ２ｍｍ幅の端子取出し部を設けた。長辺側は、折り曲げを行なう方側に、２ｍｍ幅の端子取出し部を設けた。
　次に反射電極２の上にＳｉＯ２をスパッタ法により２００ｎｍ積層し、公知のフォトリソグラフィー法により、反射電極２のエッジ部を覆うように、パターン化する。ここでは、反射電極２の端から１０μｍ分だけ４辺をＳｉＯ２で覆う構造とし、これをエッジカバー３とした。
　以上の工程により、アクティブ素子基板が作製された。次の工程前に、このアクティブ素子基板を洗浄した。アクティブ素子基板の洗浄としては、アセトンおよびＩＰＡを用いて超音波洗浄を１０分間行ない、次に、ＵＶ－オゾン洗浄を３０分間行なった。
　次に、このアクティブ素子基板を用いて、有機ＥＬ素子基板を作製した。
　（有機ＥＬ素子基板）
　アクティブ素子基板を用いて、実施例１と同じ材料および方法を用いて有機ＥＬ層２１、半透明電極１０および無機封止膜１１を形成させ、有機ＥＬ素子基板を作製した。
　次に、赤色蛍光体層１３、緑色蛍光体層１４および配光特性調整層１５が形成された封止基板１６（蛍光体基板）を作製した。
　（蛍光体基板）
　実施例１と同様の材料および方法を用いて蛍光体基板を作製した。
　なお、赤色蛍光体層１３は、赤色蛍光体として平均粒子径（ｄ５０（Ｒ））が１．０μｍの赤色蛍光体Ｋ５Ｅｕ２．５（ＷＯ４）６．２５を用い、赤色蛍光体形成用塗液を１１０μｍ幅において塗布することにより形成した。
　緑色蛍光体層１４は、緑色蛍光体として平均粒子径（ｄ５０（Ｒ））が１．０μｍの緑色蛍光体Ｂａ２ＳｉＯ４：Ｅｕ２＋を用い、緑色蛍光体形成用塗液を１１０μｍ幅において塗布することにより形成した。
　配光特性調整層１５は、実施例１と同じ配光特性調整層形成用塗液を１１０μｍ幅において塗布することにより形成した。
　以上の工程により、蛍光体基板が作製された。
　（貼り合わせ工程）
　次に、実施例１における貼り合わせ工程と同様の工程によって、有機ＥＬ素子基板と蛍光体基板とを貼り合わせた。
　最後に、基板の短辺側に形成されている端子をソースドライバを介して電源回路に接続し、長辺側に形成されている端子をゲートドライバを介して外部電源に接続することにより、８０×８０ｍｍの表示部を有するアクティブ駆動型の有機ＥＬ表示装置を完成させた。
　作製した有機ＥＬ表示装置を用いて、外部電源により所望の電源を印加した結果、視野角特性が良好な画像を得ることができた。
　〔実施例７〕
　上述した第３実施形態における有機ＥＬディスプレイ６０と同じ構成の有機ＥＬディスプレイを備えた有機ＥＬ表示装置を作製した。以下、有機ＥＬディスプレイ６０の構成部材と同じ機能を有する部材には同じ部材番号を付すこととする。
　実施例１と同様の材料および方法を用いて有機ＥＬ素子基板を作製するとともに、以下の工程により、液晶基板と蛍光体基板とを作製した。
　（液晶基板）
　基板６２としてガラス基板を用い、このガラス基板上に、公知の方法によりＴＦＴからなるスイッチング素子を形成させた。次に、このＴＦＴとコンタクトホールを介して電気的に接続するように、膜厚１００ｎｍのＩＴＯ透明電極を形成した。次に、有機ＥＬ素子基板の有機ＥＬ部２２における画素と同一のピッチの透明電極６３となるように、公知のフォトリソ法を用いてＩＴＯ透明電極をパターニングした。次に、印刷法を用いて配向膜６４を形成した。
　（蛍光体基板）
　実施例１と同様の方法により、封止基板１６上に赤色蛍光体層１３、緑色蛍光体層１４、および配光特性調整層１５を形成した。次に、赤色蛍光体層１３、緑色蛍光体層１４、および配光特性調整層１５の上に、スピンコート法により、アクリル系樹脂を用いて平坦化膜６６を形成した。
　次に、平坦化膜６６上に、公知の方法により、偏光フィルム６１、透明電極６３、および配向膜６４を形成した。
　次に、これらの液晶基板および蛍光体基板を用いて液晶・蛍光体基板を作製した。
　（液晶・蛍光体基板）
　液晶基板と蛍光体基板とを、１０μｍのスペーサーを介して接着し、これらの間に、ＴＮモードの液晶材料を注入して液晶層６５を形成させた。また、基板６２における透明電極６３が形成されている面とは反対側の面に、公知の方法により偏光フィルム６１を形成した。以上の工程により、液晶・蛍光体基板を完成させた。
　（貼り合わせ工程）
　次に、有機ＥＬ素子基板と液晶・蛍光体基板とを貼り合わせる、貼り合わせ工程を行なった。貼り合わせる前に、液晶・蛍光体基板には熱硬化樹脂を塗布し、この熱硬化樹脂を介して両基板を密着させた。なお、実施例１と同様に位置合わせ、硬化を行なった。
　最後に、周辺に形成されている端子を外部電源に接続することにより、有機ＥＬ表示装置を完成させた。
　作製した有機ＥＬ表示装置を用いて、外部電源により有機ＥＬ部２２に所望の電源を印加し、液晶部の透明電極６３に液晶を駆動させるための所望の電圧を印加した結果、視野角特性が良好な画像を得ることができた。
　発明の詳細な説明の項においてなされた具体的な実施形態または実施例は、あくまでも、本発明の技術内容を明らかにするものであって、そのような具体例にのみ限定して狭義に解釈されるべきものではなく、本発明の精神と次に記載する請求の範囲内で、いろいろと変更して実施することができるものである。
　本発明は、良好な視野角特性を有し、かつ視野角による各色の画素の輝度および色純度のずれが小さい有機ＥＬ素子を低コストにて提供できるので、有機ＥＬディスプレイ、有機ＥＬ表示装置などに好適に利用することができる。
　２　　反射電極
　１０　半透明電極
　１３　赤色蛍光体層
　１４　緑色蛍光体層
　１５　配光特性調整層
　２０　有機ＥＬディスプレイ
　２１　有機ＥＬ層
　３５　駆動用ＴＦＴ（アクティブ素子）
　４０　有機ＥＬディスプレイ
　６０　有機ＥＬディスプレイ
　６１　偏光フィルム（偏光板）
　６５　液晶層

Claims (20)

  1. 　反射電極と、半透明電極と、
    　前記反射電極および前記半透明電極に挟持され、青色の光を発光する有機ＥＬ層と、
    　前記有機ＥＬ層からの光を赤色領域の光に変換する赤色蛍光体層と、
    　前記有機ＥＬ層からの光を緑色領域の光に変換する緑色蛍光体層と、
    　前記有機ＥＬ層からの光の配光特性を調整する配光特性調整層により構成されている青色画素とを備えており、
    　　前記反射電極および前記半透明電極が、マイクロキャビティ効果を発現する構造であることを特徴とする有機ＥＬ素子。
  2. 　前記配光特性調整層は、前記有機ＥＬ層からの光の輝度を、前記赤色蛍光体層から出射される光の輝度および前記緑色蛍光体層から出射される光の輝度に近づけるように調整するとともに、前記有機ＥＬ層からの光の色純度を、前記赤色蛍光体層から出射される光の色純度および前記緑色蛍光体層から出射される光の色純度に近づけるように調整するものであることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ素子。
  3. 　前記赤色蛍光体層から出射される光のうち、正面方向における輝度をＬ０Ｒとするとともに、当該正面方向に対して６０度傾いた方向における輝度をＬ６０Ｒとし、前記緑色蛍光体層から出射される光のうち、正面方向における輝度をＬ０Ｇとするとともに、当該正面方向に対して６０度傾いた方向における輝度をＬ６０Ｇとし、前記配光特性調整層から出射される光のうち、正面方向における輝度をＬ０Ｂとするとともに、当該正面方向に対して６０度傾いた方向における輝度をＬ６０Ｂとしたとき、
    　前記配光特性調整層は、以下の式（１）および（２）
    ０．８Ｌ６０Ｒ／Ｌ０Ｒ＜Ｌ６０Ｂ／Ｌ０Ｂ＜１．２Ｌ６０Ｒ／Ｌ０Ｒ・・・（１）
    ０．８Ｌ６０Ｇ／Ｌ０Ｇ＜Ｌ６０Ｂ／Ｌ０Ｂ＜１．２Ｌ６０Ｇ／Ｌ０Ｇ・・・（２）
    を満たすように、前記有機ＥＬ層からの光の配光特性を調整するものであることを特徴とする請求項１または２に記載の有機ＥＬ素子。
  4. 　前記赤色蛍光体層から出射される光のうち、正面方向における色純度を（ｘ０Ｒ、ｙ０Ｒ）とするとともに、当該正面方向に対して６０度傾いた方向における色純度を（ｘ６０Ｒ、ｙ６０Ｒ）とし、前記緑色蛍光体層から出射される光の正面方向における色純度を（ｘ０Ｇ、ｙ０Ｇ）とするとともに、当該正面方向に対して６０度傾いた方向における色純度を（ｘ６０Ｇ、ｙ６０Ｇ）とし、前記配光特性調整層から出射される光の正面方向における色純度を（ｘ０Ｂ、ｙ０Ｂ）とするとともに、当該正面方向に対して６０度傾いた方向における色純度を（ｘ６０Ｂ、ｙ６０Ｂ）としたとき、
    　前記配光特性調整層は、以下の式（３）～（６）
    ｜ｘ６０Ｒ－ｘ０Ｒ｜≧｜ｘ６０Ｂ－ｘ０Ｂ｜・・・（３）
    ｜ｙ６０Ｒ－ｙ０Ｒ｜≧｜ｙ６０Ｂ－ｙ０Ｂ｜・・・（４）
    ｜ｘ６０Ｇ－ｘ０Ｇ｜≧｜ｘ６０Ｂ－ｘ０Ｂ｜・・・（５）
    ｜ｙ６０Ｇ－ｙ０Ｇ｜≧｜ｙ６０Ｂ－ｙ０Ｂ｜・・・（６）
    を満たすように、前記有機ＥＬ層からの光の配光特性を調整するものであることを特徴とする請求項１～３のいずれか１項に記載の有機ＥＬ素子。
  5. 　前記有機ＥＬ層が発光する光の発光強度の極大値に対応する波長が４００ｎｍ以上４８０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１～４のいずれか１項に記載の有機ＥＬ素子。
  6. 　前記配光特性調整層は、光を散乱させるための光散乱粒子を含んでおり、
    　前記赤色蛍光体層が含む赤色蛍光体の平均粒子径をｄ５０（Ｒ）とし、前記緑色蛍光体層が含む緑色蛍光体の平均粒子径をｄ５０（Ｇ）とし、前記光散乱粒子の平均粒子径をｄ５０（Ｂ）とすると、下記式（７）および（８）
    ０．８ｄ５０（Ｂ）＜ｄ５０（Ｒ）＜１．２ｄ５０（Ｂ）・・・（７）
    ０．８ｄ５０（Ｂ）＜ｄ５０（Ｇ）＜１．２ｄ５０（Ｂ）・・・（８）
    を満たすことを特徴とする請求項１～５のいずれか１項に記載の有機ＥＬ素子。
  7. 　前記光散乱粒子は、無機材料により構成されていることを特徴とする請求項６に記載の有機ＥＬ素子。
  8. 　前記光散乱粒子は、平均粒子径が１μｍ以上５０μｍ以下であることを特徴とする請求項６または７のいずれか１項に記載の有機ＥＬ素子。
  9. 　前記赤色蛍光体層が含む赤色蛍光体と前記緑色蛍光体層が含む緑色蛍光体との少なくとも一方は、無機材料により構成されていることを特徴とする請求項１～８のいずれか１項に記載の有機ＥＬ素子。
  10. 　前記赤色蛍光体層が含む赤色蛍光体と前記緑色蛍光体層が含む緑色蛍光体との少なくとも一方の平均粒子径が、０．５μｍ以上５０μｍ以下であることを特徴とする請求項１～９のいずれか１項に記載の有機ＥＬ素子。
  11. 　前記半透明電極は、銀を含むことを特徴とする請求項１～１０のいずれか１項に記載の有機ＥＬ素子。
  12. 　前記半透明電極の膜厚が、１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１～１１のいずれか１項に記載の有機ＥＬ素子。
  13. 　前記有機ＥＬ層が、青色領域の燐光を発光する燐光材料を含んでいることを特徴とする請求項１～１２のいずれか１項に記載の有機ＥＬ素子。
  14. 　前記赤色蛍光体層、前記緑色蛍光体層および配光特性調整層における光の出射面上にカラーフィルターを備えていることを特徴とする請求項１～１３のいずれか１項に記載の有機ＥＬ素子。
  15. 　前記半透明電極に対して前記有機ＥＬ層とは反対側に偏光板が設けられていることを特徴とする請求項１～１４のいずれか１項に記載の有機ＥＬ素子。
  16. 　前記有機ＥＬ層と、前記赤色蛍光体層、前記緑色蛍光体層、および前記配光特性調整層との間に、前記赤色蛍光体層、前記緑色蛍光体層および前記配光特性調整層に対してスイッチングを行なうための液晶層を備えていることを特徴とする請求項１～１５のいずれか１項に記載の有機ＥＬ素子。
  17. 　請求項１～１６のいずれか１項に記載の有機ＥＬ素子を備えることを特徴とする有機ＥＬディスプレイ。
  18. 　前記有機ＥＬ素子をアクティブマトリックス駆動するアクティブ素子を備えていることを特徴とする請求項１７に記載の有機ＥＬディスプレイ。
  19. 　前記アクティブ素子は、前記反射電極に対して前記有機ＥＬ層とは反対側に設けられていることを特徴とする請求項１８に記載の有機ＥＬディスプレイ。
  20. 　請求項１７～１９のいずれか１項に記載の有機ＥＬディスプレイを備えていることを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013073611A1 (ja) * 2011-11-18 2013-05-23 シャープ株式会社 有機エレクトロルミネッセンス表示装置およびそれを用いた電子機器、並びに、有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法
WO2013073521A1 (ja) * 2011-11-18 2013-05-23 シャープ株式会社 有機エレクトロルミネッセンス表示装置およびそれを用いた電子機器、並びに、有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法
WO2013183751A1 (ja) * 2012-06-07 2013-12-12 シャープ株式会社 蛍光体基板、発光デバイス、表示装置、及び照明装置
US9401493B2 (en) 2010-01-26 2016-07-26 Unified Innovative Technology, Llc Organic electroluminescent element, method for manufacturing same, and organic electroluminescent display device

Families Citing this family (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012529081A (ja) 2009-06-03 2012-11-15 マニュファクチャリング・リソーシズ・インターナショナル・インコーポレーテッド Ｌｅｄバックライトの動的減光
US9881528B2 (en) 2011-10-13 2018-01-30 Manufacturing Resources International, Inc. Transparent liquid crystal display on display case
KR101400389B1 (ko) * 2011-11-01 2014-05-28 엘지디스플레이 주식회사 유기발광소자
US8754435B1 (en) 2013-02-19 2014-06-17 Cooledge Lighting Inc. Engineered-phosphor LED package and related methods
US8933478B2 (en) 2013-02-19 2015-01-13 Cooledge Lighting Inc. Engineered-phosphor LED packages and related methods
WO2014158642A1 (en) 2013-03-14 2014-10-02 Manufacturing Resources International, Inc. Rigid lcd assembly
WO2015003130A1 (en) 2013-07-03 2015-01-08 Manufacturing Resources International, Inc. Airguide backlight assembly
KR102139577B1 (ko) * 2013-10-24 2020-07-31 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 표시 장치
US10191212B2 (en) 2013-12-02 2019-01-29 Manufacturing Resources International, Inc. Expandable light guide for backlight
US9719639B2 (en) * 2013-12-20 2017-08-01 Apple Inc. Display having backlight with narrowband collimated light sources
US9804316B2 (en) * 2013-12-20 2017-10-31 Apple Inc. Display having backlight with narrowband collimated light sources
US10527276B2 (en) 2014-04-17 2020-01-07 Manufacturing Resources International, Inc. Rod as a lens element for light emitting diodes
US9500896B2 (en) 2014-06-16 2016-11-22 Manufacturing Resources International, Inc. Cooling system for liquid crystal display
US9500801B2 (en) 2014-06-16 2016-11-22 Manufacturing Resources International, Inc. LED assembly for transparent liquid crystal display
US9535293B2 (en) 2014-06-16 2017-01-03 Manufacturing Resources International, Inc. Sealed transparent liquid crystal display assembly
US9633366B2 (en) 2014-06-16 2017-04-25 Manufacturing Resources International, Inc. System for tracking and analyzing display case usage
US9526352B2 (en) * 2014-06-16 2016-12-27 Manufacturing Resources International, Inc. Wireless video transmission system for liquid crystal display
JP2016057338A (ja) * 2014-09-05 2016-04-21 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置及び光源装置
US10649273B2 (en) 2014-10-08 2020-05-12 Manufacturing Resources International, Inc. LED assembly for transparent liquid crystal display and static graphic
US9832847B2 (en) 2014-10-09 2017-11-28 Manufacturing Resources International, Inc. System for decreasing energy usage of a transparent LCD display case
US10182665B2 (en) 2014-10-15 2019-01-22 Manufacturing Resources International, Inc. System and method for preventing damage to products
CN105118834B (zh) * 2015-07-17 2018-11-13 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置
US10261362B2 (en) 2015-09-01 2019-04-16 Manufacturing Resources International, Inc. Optical sheet tensioner
JP6600523B2 (ja) * 2015-10-05 2019-10-30 株式会社Ｊｏｌｅｄ 表示装置および電子機器
KR102469294B1 (ko) * 2016-02-01 2022-11-23 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 표시 장치
EP3422907A4 (en) 2016-03-02 2019-09-18 Manufacturing Resources International, Inc. SALES AUTOMAT WITH A TRANSPARENT DISPLAY
AU2017293369B2 (en) 2016-07-08 2019-11-28 Manufacturing Resources International, Inc. Mirror having an integrated electronic display
TWI713004B (zh) * 2016-09-16 2020-12-11 日商半導體能源研究所股份有限公司 顯示裝置、顯示模組及電子裝置
KR102360351B1 (ko) * 2017-11-15 2022-02-09 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0980434A (ja) * 1995-09-12 1997-03-28 Idemitsu Kosan Co Ltd カラー表示装置
JPH0992466A (ja) * 1995-09-20 1997-04-04 Idemitsu Kosan Co Ltd 有機エレクトロルミネッセンス素子
JP2004205974A (ja) * 2002-12-26 2004-07-22 Fuji Photo Film Co Ltd ２次元マトリクス素子、２次元マトリクス平面表示素子及びその駆動方法
JP2008516405A (ja) * 2004-10-12 2008-05-15 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ エレクトロルミネッセンス光源

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2795932B2 (ja) 1989-11-09 1998-09-10 出光興産株式会社 エレクトロルミネッセンス素子
US5126214A (en) 1989-03-15 1992-06-30 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Electroluminescent element
JP2002359076A (ja) 2001-03-27 2002-12-13 Konica Corp 有機エレクトロルミネッセンス素子、表示装置、発光方法、表示方法および透明基板
JP2004014335A (ja) 2002-06-07 2004-01-15 Konica Minolta Holdings Inc 有機エレクトロルミネッセンス素子、表示装置、発光方法および表示方法
US7030555B2 (en) * 2003-04-04 2006-04-18 Nitto Denko Corporation Organic electroluminescence device, planar light source and display device using the same
US7250715B2 (en) * 2004-02-23 2007-07-31 Philips Lumileds Lighting Company, Llc Wavelength converted semiconductor light emitting devices
US7791271B2 (en) * 2006-02-24 2010-09-07 Global Oled Technology Llc Top-emitting OLED device with light-scattering layer and color-conversion
JP2009205928A (ja) * 2008-02-27 2009-09-10 Fuji Electric Holdings Co Ltd 微小共振器色変換ｅｌ素子およびそれを用いた有機ｅｌディスプレイ

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0980434A (ja) * 1995-09-12 1997-03-28 Idemitsu Kosan Co Ltd カラー表示装置
JPH0992466A (ja) * 1995-09-20 1997-04-04 Idemitsu Kosan Co Ltd 有機エレクトロルミネッセンス素子
JP2004205974A (ja) * 2002-12-26 2004-07-22 Fuji Photo Film Co Ltd ２次元マトリクス素子、２次元マトリクス平面表示素子及びその駆動方法
JP2008516405A (ja) * 2004-10-12 2008-05-15 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ エレクトロルミネッセンス光源

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9401493B2 (en) 2010-01-26 2016-07-26 Unified Innovative Technology, Llc Organic electroluminescent element, method for manufacturing same, and organic electroluminescent display device
WO2013073611A1 (ja) * 2011-11-18 2013-05-23 シャープ株式会社 有機エレクトロルミネッセンス表示装置およびそれを用いた電子機器、並びに、有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法
WO2013073521A1 (ja) * 2011-11-18 2013-05-23 シャープ株式会社 有機エレクトロルミネッセンス表示装置およびそれを用いた電子機器、並びに、有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法
US9099409B2 (en) 2011-11-18 2015-08-04 Sharp Kabushiki Kaisha Organic electroluminescent display device, electronic apparatus including the same, and method for producing organic electroluminescent display device
WO2013183751A1 (ja) * 2012-06-07 2013-12-12 シャープ株式会社 蛍光体基板、発光デバイス、表示装置、及び照明装置

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