WO2011111626A1 - 表面処理装置 - Google Patents

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WO2011111626A1
WO2011111626A1 PCT/JP2011/055091 JP2011055091W WO2011111626A1 WO 2011111626 A1 WO2011111626 A1 WO 2011111626A1 JP 2011055091 W JP2011055091 W JP 2011055091W WO 2011111626 A1 WO2011111626 A1 WO 2011111626A1
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WO
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chamber
carry
guide roll
sub
processed
Prior art date
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PCT/JP2011/055091
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English (en)
French (fr)
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光秀 野上
良憲 中野
崇 佐藤
真一 川崎
卓也 屋良
Original Assignee
積水化学工業株式会社
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Publication date
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    • H—ELECTRICITY
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    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431—Constructional details of the reactor
    • H01J37/32733—Means for moving the material to be treated
    • H01J37/32752—Means for moving the material to be treated for moving the material across the discharge
    • H01J37/32761—Continuous moving
    • H01J37/3277—Continuous moving of continuous material
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/46—Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
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    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
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    • H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
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    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/47—Generating plasma using corona discharges
    • H05H1/473—Cylindrical electrodes, e.g. rotary drums
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    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H2240/00—Testing
    • H05H2240/10—Testing at atmospheric pressure

Definitions

  • the present invention relates to an apparatus for surface-treating an object to be processed under atmospheric pressure, and more particularly to a surface treatment apparatus suitable for performing surface treatment such as atmospheric pressure plasma treatment while continuously conveying the object to be processed.
  • a treatment region is surrounded by a treatment tank in order to prevent leakage of treatment gas components (see Patent Document 1 and the like).
  • An exhaust source such as an exhaust blower or an exhaust pump is connected to the processing tank, and a gas containing the processing gas in the processing tank is sucked and discharged.
  • the end wall of the treatment tank is provided with an opening for carrying in / out the object to be treated.
  • Patent Document 1 the walls on the carry-in side and the carry-out side are each made into a double structure and a small chamber is provided. A normally open opening is formed in each wall.
  • the outflow gas from the processing tank is temporarily stored in the small chamber in the double wall.
  • the gas may then diffuse and leak outside.
  • the gas in contact with the object to be processed is easily drawn by the object to be processed and leaks to the outside.
  • an exhaust source such as an exhaust blower or an exhaust pump.
  • the present invention has been made in view of the above circumstances, and in an apparatus for performing a surface treatment in a processing tank while continuously conveying an object to be processed, for example, a processing gas component without increasing the size of an exhaust source of the processing tank Is intended to be able to sufficiently suppress leakage from the treatment tank to the outside.
  • the present invention is a surface treatment apparatus for surface-treating an object to be treated in a treatment region near atmospheric pressure, (A) conveying means for conveying the object to be processed in a conveying direction so as to pass through the processing region; (B) a main chamber including the processing region; and a sub chamber provided on at least the carry-out side of the main chamber in the transfer direction in the transfer direction and partitioned by the main chamber and a partition wall.
  • a processing tank in which a normally open opening capable of carrying in and out the object to be processed is formed in the outer wall on the carry-in side and the outer wall on the carry-out side and the partition wall;
  • exhaust means connected to the main chamber, for sucking the gas in the main chamber and lowering the internal pressure of the main chamber to a pressure outside the processing tank;
  • a sub chamber supply means connected to the sub chamber and supplying air or an inert gas into the sub chamber to make the internal pressure of the sub chamber higher than the pressure outside the processing tank; It is provided with.
  • Air or inert gas supplied from the sub chamber air supply means to the sub chamber flows into the main chamber from the opening of the partition wall due to the pressure difference. This flow can surely prevent the gas containing the processing gas component in the main chamber from leaking to the outside.
  • the gas in contact with the object to be processed is moved by the object to be processed and moves toward the sub-chamber on the carry-out side and thus out of the tank.
  • gas from the sub chamber on the carry-out side flows into the main chamber.
  • the gas inflow direction from the carry-out side subchamber is substantially opposite to the moving direction of the object to be processed and thus the gas flow direction on the object to be processed.
  • This reverse inflow gas can push back the gas on the workpiece. This can reliably prevent the gas containing the processing gas component from leaking to the outside together with the object to be processed.
  • the internal pressure of the main chamber only needs to be slightly lower than the atmospheric pressure, and it is not necessary to increase the exhaust capacity of the exhaust source of the main chamber exhaust means, and the exhaust source can be downsized. Further, a part of the air or inert gas supplied from the sub chamber air supply means to the sub chamber flows out from the opening of the outer wall. This flow can prevent the external atmospheric gas from entering the treatment tank.
  • the conveying means includes a plurality of guide rolls that wrap around the object to be processed.
  • a feeding roll is provided outside the carrying-in tank
  • a winding roll is provided outside the carrying-out tank
  • the plurality of guide rolls are arranged between the feeding roll and the winding roll.
  • Some or all of the plurality of guide rolls are arranged inside the processing tank.
  • the continuous sheet-like object to be processed is fed from a feed roll, guided to the row of guide rolls, passed through a main chamber and a sub chamber including a processing region of a processing tank, and taken up on a take-up roll.
  • the first guide roll among the guide rolls is accommodated in the sub chamber.
  • fluttering can be prevented by positioning the continuous sheet-shaped workpiece in the sub chamber. Therefore, the opening degree of each opening of the outer wall and the partition wall can be set small without considering the fluttering of the continuous sheet-like workpiece. As a result, gas leakage from the main room or intrusion of the external atmosphere can be reliably prevented.
  • the diameter of the first guide roll is larger than the distance between the outer wall defining the sub chamber and the partition wall, and the outer periphery of the first guide roll enters the opening of the outer wall and the opening of the partition wall. It is preferable. Thereby, most of the opening can be closed by the first guide roll.
  • the entrance contact and the delivery contact of the continuous sheet-shaped workpiece on the peripheral surface of the first guide roll can be positioned just inside the opening or in the vicinity of the opening. If it does so, the substantially whole part arrange
  • the opening degree of the opening (that is, the size of the gap formed between the edge of the opening and the peripheral surface of the first guide roll) can be sufficiently reduced, and gas leakage from the main chamber or the outside Invasion of the atmosphere can be reliably prevented. Only one first guide roll needs to be provided in the sub chamber, and the number of parts can be reduced.
  • the object to be processed is wound around one circumferential portion of the circumferential surface of the first guide roll, and the sub chamber supply means opens to a chamber portion facing the one side portion of the sub chamber.
  • an air supply port is included.
  • the chamber portion can be reliably at a high pressure. Therefore, it is possible to reliably reduce the gas containing the processing gas component in the main chamber from being drawn into the sub chamber by the object to be processed and the external atmospheric gas from entering the sub chamber. As a result, it is possible to more reliably prevent the gas containing the processing gas component from flowing out and the external atmospheric gas from flowing into the main chamber.
  • a second guide roll adjacent to the first guide roll is disposed outside the processing tank in the transport direction or in the main chamber, and the first guide roll and the second guide roll. It is preferable that the position where the object to be processed passes through the opening is set. Thereby, the opening degree of the said opening can be made small enough and the gas leak from a main chamber or the penetration
  • the second guide roll is interposed between the feeding roll and the guide roll in the carry-in side sub-chamber or between the guide roll in the carry-out side sub-chamber and the take-up roll. Even if the winding diameter of the object to be processed on the feeding roll or the winding roll changes with the progress of the feeding and winding, the position does not change.
  • the opening degree of the opening of the outer wall can be set sufficiently small.
  • gas leakage from the main room or intrusion of the external atmosphere can be reliably prevented.
  • the first guide roll is provided in a sub-chamber on the carry-out side
  • the second guide roll is disposed between the outer wall on the carry-out side and the take-up roll, whereby the object to be processed on the take-up roll. Even if the winding diameter of the roll increases with the progress of winding, the angle at which the workpiece is fed from the first guide roll to the second guide roll can be prevented from changing, and the workpiece can be removed from the carry-out side. It is possible to avoid a change in the position passing through the opening of the outer wall.
  • the size of the gap formed between the edge of the opening of the outer wall on the carry-out side and the workpiece can be kept constant. Therefore, the opening degree of the outer wall on the carry-out side can be set sufficiently small. As a result, it is possible to reliably prevent the gas from the main chamber from flowing out from the opening of the outer wall on the carry-out side or the external atmospheric gas from flowing into the processing tank from the opening on the outer wall on the carry-out side. .
  • the internal pressure of the main chamber is preferably 10 Pa to 50 Pa lower than the pressure outside the processing tank. Therefore, the exhaust capacity of the main chamber exhaust source can be reduced.
  • the internal pressure of the sub chamber is preferably 5 Pa to 20 Pa higher than the pressure outside the processing tank. Thereby, the leakage of the processing gas component can be reliably prevented.
  • the vicinity of atmospheric pressure refers to a range of 1.013 ⁇ 10 4 to 50.663 ⁇ 10 4 Pa, and considering the ease of pressure adjustment and the simplification of the apparatus configuration, 1.333 ⁇ 10 4 to 10.664 ⁇ 10 4 Pa is preferable, and 9.331 ⁇ 10 4 to 10.9797 ⁇ 10 4 Pa is more preferable.
  • the leakage of the processing gas component from the processing tank to the outside can be sufficiently suppressed. There is no need to increase the size of the exhaust source.
  • FIG. 1 is an explanatory front view showing a schematic configuration of a surface treatment apparatus according to a first embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a cross-sectional plan view taken along the line II-II in FIG. 1, showing a carry-in side part and a carry-out side part of the treatment tank of the surface treatment apparatus with a film to be treated omitted. It is front sectional drawing which expands and shows the part by the side of carrying out of the said processing tank.
  • FIG. 4 is a side view of a part on the carry-out side of the processing tank, taken along line IV-IV in FIG. 3.
  • FIG. 1 shows an embodiment of the present invention.
  • the to-be-processed object 9 of this embodiment is comprised with the continuous sheet-like film.
  • a to-be-processed film is an optical resin film for optical apparatuses, such as a polarizing plate, for example.
  • an optical resin film serving as a protective film for a polarizing plate is applied as the film 9 to be processed.
  • Examples of the main component of the film 9 to be treated include triacetate cellulose (TAC), polypropylene (PP), polyethylene (PE), cycloolefin polymer (COP), cycloolefin copolymer (COC), polyethylene terephthalate (PET), Examples thereof include polymethyl methacrylate (PMMA) and polyimide (PI), but are not limited thereto.
  • TAC triacetate cellulose
  • PP polypropylene
  • PE polyethylene
  • COP cycloolefin polymer
  • COC cycloolefin copolymer
  • PET polyethylene terephthalate
  • Examples thereof include polymethyl methacrylate (PMMA) and polyimide (PI), but are not limited thereto.
  • the thickness of the film is, for example, about 100 ⁇ m.
  • the surface treatment apparatus 1 of the present embodiment performs a surface treatment for improving the adhesion in the bonding process with the polarizing film on the film 9 to be processed.
  • a mixed gas of a polymerizable monomer and a carrier gas or the like is used as a processing gas.
  • acrylic acid CH 2 ⁇ CHCOOH
  • Acrylic acid has an acetic acid-like odor and has explosive properties, and therefore requires appropriate management.
  • the polymerizable monomer is not limited to acrylic acid, but methacrylic acid, itaconic acid, maleic acid, 2-methacryloylpropionic acid, ethylene glycol methacrylate, allyl alcohol, hydroxyethyl methacrylate, vinyl acetate, glycidyl methacrylate.
  • An inert gas is used as the carrier gas.
  • nitrogen (N 2) can be mentioned as an inert gas, not limited to this, Ar, may be a rare gas such as He.
  • the surface treatment apparatus 1 includes a treatment unit 10, a transport unit 20, and a treatment tank 30.
  • the processing unit 10 is configured by an atmospheric pressure plasma processing unit that surface-treats the workpiece 9 with plasma near atmospheric pressure.
  • the atmospheric pressure plasma processing unit 10 has at least two electrodes 11. These electrodes 11 have a cylindrical shape (roll shape).
  • the two roll electrodes 11 are arranged in parallel with their axes oriented in the horizontal direction perpendicular to the paper surface of FIG.
  • the narrowest portion between the roll electrodes 11 and 11 and the space in the vicinity thereof are a processing region 19.
  • one of the two roll electrodes 11 is connected to a power source.
  • the other roll electrode 11 is electrically grounded.
  • a plasma discharge is generated between the roll electrodes 11 and 11 under a pressure near atmospheric pressure.
  • the nozzles 12 are respectively disposed above and below the processing region 19.
  • the outlet of each nozzle 12 faces the processing area 19.
  • a processing gas from a processing gas source (not shown) is supplied to the nozzle 12 and blown out from the nozzle 12 to the processing region 19.
  • the processing gas is turned into plasma (including excitation, activation, radicalization, ionization, etc.) in the processing region 19 and the surface treatment of the film 9 to be processed is performed.
  • acrylic acid (polymerizable monomer) in the processing gas causes a polymerization reaction on the film 9 to be processed, and an adhesion promoting layer is formed on the surface of the film 9 to be processed.
  • the processing gas may be blown out simultaneously from the upper and lower nozzles 12, 12, or the processing gas may be blown out from only one of the upper and lower nozzles 12, and the other nozzle 12 may be used as a blocking member for the processing region 19.
  • a gas containing a polymerizable monomer such as acrylic acid is sprayed onto the film to be processed 9, and then nitrogen or the like is applied to the processing region 19.
  • the inert gas may be supplied to form a plasma to cause a polymerization reaction of the polymerizable monomer.
  • the conveyance means 20 conveys the to-be-processed film 9 in a conveyance direction (generally right direction in FIG. 1).
  • the transport unit 20 includes a feeding roll 21, a winding roll 22, and a guide roll 23. These rolls 21, 22, and 23 each have a cylindrical shape whose axis is directed in a direction perpendicular to the paper surface of FIG. 1.
  • the feeding roll 21 is disposed on the upstream side in the transport direction from the processing tank 30, that is, on the carry-in side (left in FIG. 1).
  • the processed film 9 is fed out from the feeding roll 21.
  • the winding roll 22 is disposed downstream of the processing tank 30 in the transport direction, that is, on the carry-out side (right side in FIG. 1).
  • the processed film 9 to be processed is wound on the winding roll 22.
  • a plurality of guide rolls 23 (231 to 236) are arranged between the feed roll 21 and the take-up roll 22. Intermediate portions of the film to be processed 9 are wound around these guide rolls 23.
  • Roll electrodes 11 are arranged in the middle of the row of guide rolls 23.
  • a film to be processed 9 is wound around the upper part of the roll electrodes 11, about half a circle.
  • An intermediate film 9 between the two roll electrodes 11 passes through the processing region 19.
  • Each roll electrode 11 is rotatable around an axis.
  • the rolls 21 and 22 and the roll electrodes 11 and 11 are rotationally driven in synchronization with each other to convey the film 9 to be processed.
  • the roll electrode 11 constitutes one element of the transport unit 20.
  • the guide rolls 23 (231 to 236) are driven to rotate as the processed film 9 is conveyed.
  • the guide roll 23 sets a transport path for the film 9 to be processed, and tension is applied to the film 9 to be processed.
  • the processing tank 30 includes a main chamber 31, a loading-side sub chamber 32, and a loading-side sub chamber 33.
  • the main chamber 31 occupies most of the internal volume of the processing tank 30.
  • the processing unit 10 and thus the processing area 19 are arranged inside the main chamber 31.
  • the wall on the carry-in side of the treatment tank 30 has a double structure of the carry-in outer wall 34 and the carry-in partition wall 35.
  • the outer wall 34 partitions the outside of the processing tank 30 on the carry-in side and the inside of the processing tank 30.
  • the main chamber 31 and the carry-in side sub chamber 32 are partitioned by the partition wall 35.
  • a carry-in side sub chamber 32 is formed between the outer wall 34 and the partition wall 35.
  • the carry-in side subchamber 32 is a cylindrical space extending in the same direction as the axis of the roll 23 (a direction orthogonal to the paper surface of FIG. 1).
  • the internal volume of the carry-in side sub chamber 32 is sufficiently smaller than the internal volume of the main chamber 31.
  • the internal volume of the carry-in side sub chamber 32 is, for example, 1/500 to 1/2000 of the internal volume of the main chamber 31.
  • the wall on the carry-out side of the treatment tank 30 has a double structure of the carry-out outer wall 36 and the carry-out partition wall 37.
  • An outer wall 36 partitions the outside of the processing tank 30 on the carry-out side and the inside of the processing tank 30.
  • the partition wall 37 partitions the main chamber 31 and the carry-out side sub chamber 33.
  • a carry-out side sub-chamber 33 is formed between the outer wall 36 and the partition wall 37.
  • the carry-out side sub-chamber 33 is a cylindrical space extending in the same direction as the axis of the roll 23 (a direction perpendicular to the paper surface of FIG. 1).
  • the internal volume of the carry-out side subchamber 33 is substantially the same as the internal volume of the carry-in side subchamber 32 and is sufficiently smaller than the internal volume of the main chamber 31.
  • the internal volume of the carry-out side sub chamber 33 is, for example, 1/500 to 1/2000 of the internal volume of the main chamber 31.
  • the internal volume of the carry-in side sub chamber 32 and the internal volume of the carry-out side sub chamber 33 may be different from each other.
  • a carry-in outer opening 34 a is formed in the carry-out outer wall 34.
  • the external space on the carry-in side and the carry-in side subchamber 32 communicate with each other through the opening 34a.
  • a carry-in side opening 35 a is formed in the carry-in partition wall 35.
  • the carry-in side sub chamber 32 and the main chamber 31 communicate with each other through the opening 35a.
  • the film to be processed 9 is carried from the outside into the carry-in side sub chamber 32 through the outer opening 34a, and is further carried into the main chamber 31 through the inner opening 35a.
  • the carry-in openings 34a and 35a are normally open and are not provided with doors.
  • a carry-in side sub-chamber guide roll 232 (first guide roll) is accommodated in the carry-in side sub-chamber 32.
  • the diameter of the sub-chamber guide roll 232 is slightly larger than the dimension of the sub-chamber 32 in the horizontal lateral direction (left-right direction in FIG. 1), that is, the distance between the walls 34 and 35.
  • the left and right circumferential side portions of the sub-indoor guide roll 232 slightly enter the respective carry-in openings 34a and 35a.
  • the sub-chamber guide roll 232 blocks most of the carry-in openings 34a and 35a.
  • the clearance (clearance) between the upper and lower edges of each of the carry-in openings 34a and 35a and the peripheral surface of the sub-inner guide roll 232 is sufficiently narrow.
  • the vertical separation distance between the upper edge of each of the carry-in openings 34a and 35a and the peripheral surface of the auxiliary indoor guide roll 232 is preferably about 0.5 mm to 4 mm, more preferably about 1 mm.
  • the vertical separation distance between the lower edge of each carry-in opening 34a, 35a and the peripheral surface of the sub-inner guide roll 232 is slightly larger than the separation distance on the upper edge side, preferably about 1 mm to 6 mm, more preferably 3 mm. Degree.
  • the sub-chamber guide roll 232 partitions the carry-in side sub-chamber 32 into a chamber portion 32 a below the guide roll 232 and a chamber portion 32 b above the guide roll 232.
  • axial length along the axis L 2 of the secondary chamber the guide roll 232 is shorter than the length along the axis L 2 of the carry-in side sub-chamber 32, even along the axis L 2 of the loading aperture 34a, 35a A little shorter than the length.
  • the axis L 2 direction of the end face of the auxiliary chamber guide roll 232, carrying apertures 34a, the clearance between the axis L 2 direction edges of 35a is preferably about 1 mm ⁇ 3 mm.
  • a sufficiently large communication space 32 e is formed between the end surfaces on both sides in the axial direction of the sub chamber guide roll 232 and the inner end surface on the same side of the carry-in side sub chamber 32.
  • the lower chamber portion 32a and the upper chamber portion 32b of the sub chamber 32 communicate with each other via a communication space 32e.
  • the to-be-processed film 9 is partially wound around the lower side part (one side part of the circumferential direction) of the surrounding surface of the sub indoor guide roll 232.
  • the portion 9 a around which the film 9 to be processed is wound around the guide roll 232 extends over substantially the entire portion of the film 9 to be processed disposed in the carry-in side sub chamber 32.
  • the winding portion 9 a faces the lower chamber portion 32 a of the carry-in side sub chamber 32.
  • the position or posture of the film 9 to be processed in the carry-in side sub chamber 32 is determined by the sub chamber guide roll 232.
  • the angle at which the film 9 enters the sub-indoor guide roll 232 from the outside of the tank and the circumference of the sub-indoor guide roll 232 A position (contact point a) that contacts the surface and a position where the film 9 to be processed pass through the outer opening 34a are determined.
  • the entry contact a is located just at or near the outer opening 34a.
  • the position where the film 9 to be processed passes through the inner opening 35a is determined.
  • the delivery contact b is located just inside or in the vicinity of the inner opening 35a.
  • the outside tank guide roll 231 is disposed outside the carrying-in side of the processing tank 30 and close to the outer opening 34a.
  • the outside tank roll 231 is interposed between the feed roll 21 and the outer wall 34 on the carry-in side.
  • the main indoor guide roll 233 is disposed in the main chamber 31 in proximity to the inner opening 35a.
  • a carry-out side opening 37a is formed in the carry-out side partition wall 37 of the treatment tank 30.
  • the main chamber 31 and the unloading side sub chamber 33 communicate with each other through the opening 37a.
  • a carry-out side outer opening 36 a is formed in the carry-out side outer wall 36.
  • the unloading side subchamber 33 and the unloading side external space communicate with each other through the opening 36a.
  • the to-be-processed film 9 processed in the processing unit 10 is discharged from the main chamber 31 through the inner opening 37a to the discharge-side subchamber 33, and is further discharged outside through the outer opening 36a.
  • the carry-out openings 36a and 37a are normally open and are not provided with doors.
  • a carry-out side sub-chamber guide roll 235 (first guide roll) is accommodated in the carry-out side sub-chamber 33.
  • the diameter of the sub chamber guide roll 235 is slightly larger than the dimension of the sub chamber 33 in the horizontal short side direction (left and right direction in FIG. 1), that is, the distance between the walls 36 and 37.
  • the left and right circumferential side portions of the auxiliary indoor guide roll 235 slightly enter the carry-out openings 36a and 37a.
  • the sub-chamber guide roll 235 closes most of the carry-out openings 36a and 37a.
  • the clearance (clearance) between the upper and lower edges of each of the carry-out openings 36a and 37a and the peripheral surface of the sub-indoor guide roll 235 is sufficiently narrow.
  • the vertical separation distance between the upper edge of each carry-out opening 36a, 37a and the peripheral surface of the sub-inner guide roll 235 is preferably about 0.5 mm to 4 mm, more preferably about 1 mm.
  • the vertical separation distance between the lower edge of each carry-out opening 36a, 37a and the peripheral surface of the auxiliary indoor guide roll 235 is slightly larger than the separation distance on the upper edge side, preferably about 1 mm to 6 mm, more preferably 3 mm. Degree.
  • the sub-chamber guide roll 235 partitions the carry-out side sub-chamber 33 into a chamber portion 33a below the guide roll 235 and a chamber portion 33b above the guide roll 235.
  • the axial length along the axis L 3 sub chamber guide roll 235 is shorter than the length along the axis L 3 of the unloading side auxiliary chamber 33, even out opening 36a, 37a the axis L of A little shorter than the length along 3 .
  • the axis L 3 direction of the end face of the auxiliary chamber guide roll 235, out the opening 36a, the clearance between the axis L 3 direction of the edge of 37a is preferably about 1 mm ⁇ 3 mm.
  • a sufficiently large communication space 33e is formed between the end surfaces on both sides in the axial direction of the sub chamber guide roll 235 and the inner end surface on the same side of the carry-out side sub chamber 33.
  • the lower chamber portion 33a and the upper chamber portion 33b communicate with each other via the communication space 33e.
  • the to-be-processed film 9 is partially wound around the lower side part (one side part of the circumferential direction) of the surrounding surface of the sub indoor guide roll 235.
  • the portion 9b around the guide roll 235 of the film 9 to be processed extends over substantially the entire portion of the film 9 to be disposed in the carry-out side subchamber 33.
  • the winding portion 9 b faces the lower chamber portion 33 a of the carry-out side subchamber 33.
  • the position or posture of the film 9 to be processed in the carry-out side sub chamber 33 is determined by the sub chamber guide roll 235.
  • the angle at which the processed film 9 enters the sub-indoor guide roll 235 from the main chamber 31 and the sub-indoor guide roll 235 A position (contact point c) in contact with the peripheral surface and a position where the film to be processed 9 passes through the inner opening 35a are determined.
  • the entrance contact c is located at the inner opening 35a or in the vicinity thereof.
  • the position where the film 9 to be processed passes through the outer opening 36a is determined.
  • the delivery contact d is located just inside or near the outer opening 36a.
  • the main indoor guide roll 234 is disposed in the main chamber 31, and is disposed in the vicinity of the partition wall 37 and the opening 37a.
  • the outside tank guide roll 236 is disposed outside the processing tank 30 on the carry-out side and close to the outer opening 36a.
  • the outside tank guide roll 236 is interposed between the carry-out outer wall 36 and the take-up roll 22.
  • a main chamber exhaust means 40 is connected to the main chamber 31 of the treatment tank 30.
  • the exhaust means 40 includes an exhaust port 41 and an exhaust source 43.
  • An exhaust port 41 is provided at the bottom of the main chamber 31.
  • An exhaust passage 42 extends from the port 41.
  • the exhaust path 42 is connected to the exhaust source 43.
  • the exhaust source 43 is configured by a blower, but may be configured by an exhaust pump. By driving the exhaust source 43, the gas in the main chamber 31 is sucked from the exhaust port 41 and discharged through the exhaust path 42.
  • a carry-in side sub chamber supply means 51 is connected to the carry-in side sub chamber 32.
  • the sub chamber air supply means 51 includes a plurality of air supply ports 51p and an air supply source 51x.
  • the air supply port 51p is provided at intervals along the axis L 2 at the bottom of the entry side sub-chamber 32.
  • each air supply port 51 p is opened to the lower chamber portion 32 a of the carry-in side sub chamber 32.
  • the lower side portion of the auxiliary indoor guide roll 232 (the portion around which the film 9 to be processed is wound) and the air supply port 51p face each other vertically.
  • the air supply source 51x is configured by a blower, but may be configured by an air supply pump.
  • An air supply path 51a from the air supply source 51x is branched into a plurality (five in the figure) and is connected to each air supply port 51p. By driving the air supply source 51x, air is supplied into the carry-in side sub chamber 32 from each air supply port 51p through the air supply path 51a.
  • a carry-out side subchamber 33 is connected to the carry-out side subchamber 33.
  • the sub chamber air supply means 52 includes a plurality of air supply ports 52p and an air supply source 52x. As shown in FIGS. 2 and 4, the air supply port 52 p is provided at the bottom of the carry-out side sub-chamber 33 at an interval along the axis L 3 . As shown in FIGS. 3 and 4, each air supply port 52 p is open to the chamber portion 33 a below the carry-out side sub chamber 33.
  • the lower side portion of the sub-indoor guide roll 235 (the portion around which the film 9 to be processed is wound) and the air supply port 52p face each other vertically.
  • the air supply source 52x is configured by a blower, but may be configured by an air supply pump.
  • One supply source may be shared as the carry-in side sub-chamber supply source 51x and the carry-out side sub-chamber supply source 52x.
  • An air supply path 52a from the air supply source 52x branches into a plurality (five in the figure) and continues to each air supply port 52p. By driving the air supply source 52x, air is supplied into the carry-out side sub chamber 33 from each air supply port 52p through the air supply path 52a.
  • the operation of the surface treatment apparatus 1 having the above configuration will be described focusing on pressure control in the treatment tank 30.
  • the film 9 to be processed is continuously fed out from the feeding roll 21, continuously conveyed along the rows of the guide rolls 23 and the roll electrodes 11, surface-treated in the middle processing area 19, and continuously on the winding roll 22. Wind up.
  • the gas in the main chamber 31 is sucked and discharged by the main chamber exhaust means 40.
  • the internal pressure of the main chamber 31 becomes lower than the pressure outside the processing tank 30 (atmospheric pressure) within the pressure range near atmospheric pressure.
  • the internal pressure of the main chamber 31 is about 10 Pa to 50 Pa lower than the atmospheric pressure, more preferably about 20 Pa.
  • the sub chamber air supply means 51 and 52 air is supplied to the sub chambers 32 and 33 by the sub chamber air supply means 51 and 52.
  • the air is first charged into the lower chamber portions 32a and 33a of the sub chambers 32 and 33 from the air supply ports 51p and 52p, and further passes through the communication spaces 32e and 33e to reach the upper chamber portions 32b. 33b is filled.
  • the internal pressure of the sub chambers 32 and 33 becomes higher than the pressure outside the processing tank 30 (atmospheric pressure) within the pressure range near the atmospheric pressure.
  • the internal pressure of the sub chambers 32 and 33 is set higher by 5 Pa to 20 Pa than the atmospheric pressure. Therefore, the following relationship is established.
  • the gas g ⁇ b> 1 in contact with the film to be treated 9 is drawn by the film to be treated 9 and is carried out on the carry-out side subchamber 33 and thus on the carry-out side of the treatment tank 30. Move towards outside.
  • the air in the chamber portion 33a on the film winding side flows into the main chamber 31 through the space between the unloading side sub-chamber guide roll 235 and the lower edge of the unloading side inner opening 37a.
  • the flow direction of the inflowing gas g3 is opposite to the conveying direction of the film 9 to be processed and thus the flow of the gas g1 on the film 9 to be processed.
  • the gas g1 on the film to be processed 9 can be separated from the film to be processed 9 and pushed back into the main chamber 31.
  • This can reliably prevent the gas g1 from flowing out of the tank together with the film 9 to be processed. Therefore, leakage of the processing gas component to the outside can be reliably prevented. Therefore, the environmental load can be reduced.
  • the processing gas contains acrylic acid, it is possible to surely prevent the acetic acid-like odor peculiar to acrylic acid from drifting in the external atmosphere, and a good working environment can be secured.
  • the internal pressure of the main chamber 31 only needs to be slightly lower than the atmospheric pressure, and it is not necessary to increase the exhaust capacity of the main chamber exhaust source 43, and the main chamber exhaust source 43 can be downsized.
  • the processed film 9 in the unloading side sub chamber 33 is positioned by being wound around the unloading side sub chamber guide roll 235. Therefore, it can prevent that the to-be-processed film 9 flutters in the carrying-out side subchamber 33.
  • FIG. since almost the entire portion of the film 9 to be processed 9 in the carry-out side sub-chamber 33 is wound around the sub-chamber guide roll 235, flapping in the carry-out side sub-chamber 33 can be reliably prevented.
  • the unloading-side main indoor guide roll 234 and the unloading-side sub-indoor guide roll 235 allow the processing film 9 to enter the unloading-side sub-indoor guide roll 235 and the processed film 9 to the unloading-side partition wall 37.
  • the crossing position and angle can be determined. Accordingly, the clearance between the lower edge of the carry-out side opening 37a and the peripheral surface of the sub-inner guide roll 235 can be made sufficiently small. Therefore, it becomes difficult for the gas g1 on the to-be-processed film 9 to pass the opening 37a, and it can prevent reliably the outflow of the gas g1 out of the tank.
  • Increasing momentum of inflow of gas g3 from sub chamber 33 also contributes to prevention of outflow of gas g1 to the outside of the tank.
  • the delivery contact point d of the film 9 to be processed from the unloading side auxiliary chamber guide roll 235, and the position and angle at which the film 9 to be processed crosses the unloading side outer wall 36. Can be confirmed.
  • the winding diameter of the film 9 to be processed on the take-up roll 22 changes as the winding progresses.
  • the position and angle at which the delivery contact d on the peripheral surface of the sub-inner guide roll 235 and the film 9 to be processed cross the outer wall 36 do not change.
  • the film 9 to be processed in the carry-in side sub chamber 32 is positioned by being wound around the carry-in side sub chamber guide roll 232. Therefore, it can prevent that the to-be-processed film 9 flutters in the carrying-in side subchamber 32. FIG. Moreover, since almost the entire portion of the film to be processed 9 in the carry-in side sub chamber 32 is wound around the sub-chamber guide roll 232, flapping in the carry-in side sub chamber 32 can be reliably prevented.
  • the entrance contact a of the film to be processed 9 to the carry-in side sub-chamber guide roll 232 and the film to be processed 9 cross the carry-in side outer wall 34 by the carry-in side outside tank guide roll 231 and the carry-in side sub-indoor guide roll 232.
  • the position and angle can be determined. Even if the winding diameter of the film 9 to be processed on the feeding roll 21 is changed with the progress of feeding, the above-mentioned sub-roller guide roll 231 is interposed between the feeding roll 21 and the sub-indoor guide roll 232.
  • the position and angle at which the entrance contact a on the peripheral surface of the indoor guide roll 232 and the film 9 to be processed cross the outer wall 34 do not change.
  • the clearance between the lower edge of the carry-in side outer opening 34a and the peripheral surface of the auxiliary indoor guide roll 232 can be made sufficiently small.
  • the delivery contact b from the carry-in side sub-indoor guide roll 232 of the film to be processed 9 and the position where the film to be processed 9 crosses the carry-in side partition wall 35 by the carry-in side sub-indoor guide roll 232 and the carry-in side main room guide roll 233 The angle can be determined. Therefore, the clearance between the lower edge of the carry-in side inner opening 35a and the peripheral surface of the carry-in side sub-indoor guide roll 232 can be made sufficiently small.
  • the clearance between the upper edge of each carry-in opening 34a, 35a and the peripheral surface of the sub-indoor guide roll 232 is as much as possible within the range where the sub-room guide roll 232 does not contact the upper edge of each carry-in opening 34a, 35a. Can be small. As a result, it is possible to reliably prevent the gas containing the processing gas component in the main chamber 31 from leaking to the outside through the carry-in side sub chamber 32, and the external atmospheric gas to enter the main chamber 31 through the carry-in side sub chamber 32. Inflow can be reliably prevented.
  • the surface treatment apparatus 1 can be easily incorporated into, for example, a polarizing plate production line, and can be easily inlined.
  • the gas supplied to the sub chambers 32 and 33 from the sub chamber air supply means 51 and 52 is not limited to air, and may be an inert gas such as nitrogen.
  • the processing tank 30 may be provided with at least the carry-out side subchamber 33 among the carry-in side subchamber 32 and the carryout side subchamber 33.
  • the unloading side subchamber 32 and the unloading side subchamber 33 are used. Only 33 may be provided, and the carry-in side sub-chamber 32 may be omitted. From the viewpoint of preventing gas outside the tank from entering the processing tank 30 together with the film 9 to be processed, only the loading sub chamber 32 of the loading side sub chamber 32 and the unloading side sub chamber 33 is provided. May be.
  • the sub chamber supply means 51 and 52 are connected to the upper chamber portions 51b and 52b of the sub chambers 32 and 33, and the gas is directly supplied from the sub chamber supply means 51 and 52 to the upper chamber portions 51b and 52b. May be.
  • the gas may be supplied directly from the sub chamber supply means 51 and 52 to the upper chamber portions 51b and 52b and the lower chamber portions 51a and 52a of the sub chambers 32 and 33, respectively.
  • the diameters of the sub-chamber guide rolls 232 and 235 may be equal to or smaller than the inner dimensions of the sub-chambers 32 and 33 in the horizontal short direction (left and right in FIG. 1).
  • the vertical widths of the openings 34a, 35a, 36a, 37a of the sub chambers 32, 33 are preferably about 1 to 10 mm.
  • Two or more guide rolls 235 may be arranged in the carry-out side sub chamber 33. In this case, it is preferable that one guide roll 235 is disposed in the vicinity of the inner opening 37a and the other one guide roll 235 is disposed in the vicinity of the outer opening 36a.
  • Two or more guide rolls 232 may be arranged in the carry-in side sub chamber 32. In this case, it is preferable that one guide roll 232 is disposed in the vicinity of the outer opening 34a, and the other one guide roll 232 is disposed in the vicinity of the inner opening 35a.
  • the electrode structure of the processing unit 10 is not limited to the pair of roll electrodes 11, and may be a combination of a roll electrode and a plate electrode, or a combination of a roll electrode and a concave plate electrode having a concave curved surface along the circumferential surface of the roll electrode. Parallel plate electrodes may also be used.
  • the processing unit 10 is not limited to a so-called direct type plasma processing unit that directly irradiates plasma by introducing an object to be processed between a pair of electrodes, and blows out a plasma gas generated between the pair of electrodes. It may be a so-called remote-type plasma processing unit that sprays an object to be processed disposed away from the space.
  • the to-be-processed film 9 is not restricted to a continuous film, A glass substrate and a semiconductor wafer may be sufficient.
  • the conveying means 20 is not limited to the row of rolls 21, 22, 23, and may be a moving stage, a roller conveyor, or a manipulator.
  • the treatment content is not limited to plasma treatment for improving the adhesiveness of the resin film. Furthermore, the processing content is not limited to plasma processing.
  • the present invention can be applied to various surface treatments such as cleaning, surface modification, etching, and film formation.
  • the component of the processing gas is appropriately selected according to the processing content.
  • CF 4 in water repellency treatment and etching treatment of a silicon-containing film, CF 4 , C 2 F 6 , C 3 F 6 , C 3 F 8 , CHF 3 , CH 2 F 2 , CH 3 F
  • a fluorine-containing compound such as SF 6 , NF 3 , or XeF 2 is used.
  • hydrophilic treatment O 2 , N 2 or the like is used as a processing gas component.
  • An apparatus 1 having substantially the same structure as that shown in FIGS. 1 and 2 was used.
  • a TAC film was used as the film 9 to be processed.
  • the width of the film 9 (dimension in the direction orthogonal to the paper surface of FIG. 1) was 1540 mm.
  • the axial length of the guide rolls 232 and 235 was 1586 mm.
  • the diameter of the guide rolls 232 and 235 was ⁇ 100 mm.
  • the length of the auxiliary chambers 32 and 33 in the axial length direction was 1095 mm.
  • the size of the sub chamber 32 in the horizontal lateral direction was 128 mm.
  • the clearances between the lower edges of the openings 34a, 35a, 36a, 37a and the peripheral surfaces of the sub-chamber guide rolls 232, 235 were 3 mm in the vertical direction.
  • the clearance between the upper edges of the openings 34a, 35a, 36a, and 37a and the peripheral surfaces of the sub-chamber guide rolls 232 and 235 was 1 mm in the vertical direction.
  • Opening 34a, 35a, 36a, the clearance between the end face of the axis L 2, L 3 direction edges and auxiliary combustion chamber guide rolls 232, 235 of 37a was 2 mm.
  • the exhaust flow rate of the main chamber exhaust blower 43 was set to 10 m 3 / min.
  • the supply air flow rates of the carry-in side sub-chamber supply blower 51x and the carry-out side sub-chamber supply blower 52x were set to 0.5 m 3 / min, respectively.
  • the conveyance speed of the film 9 was adjusted in the range of 5 m / min to 40 m / min.
  • the internal pressure of the main chamber 31 was measured with a differential pressure sensor, the internal pressure of the main chamber 31 was maintained at a negative pressure that was 20 Pa lower than the atmospheric pressure when the transport speed of the film 9 was in the range of 5 m / min to 15 m / min. Even when the conveyance speed was 40 m / min, the internal pressure of the main chamber 31 was maintained at a negative pressure 17 Pa lower than the atmospheric pressure. Therefore, it was confirmed that even if the conveyance speed is increased, the amount of gas flowing in from the carry-in opening 34a can be suppressed, and there is no need to increase the exhaust flow rate of the main chamber exhaust means.
  • ozone detection was performed by installing an ozone detector (manufactured by Riken Keiki Co., Ltd., model number GD-K77D) outside each of the outer wall openings 34a and 36a, no matter what the opening 34a or 36a side is, regardless of the conveyance speed. Ozone was not detected. Therefore, it was confirmed that the gas in the main chamber 31 can be sufficiently prevented from leaking outside through the openings 34a and 36a.
  • the detection limit ozone concentration of the ozone detector was 0.02 ppm.
  • Example 2 the same apparatus 1 as in Example 1 was used, and the exhaust flow rate of the main chamber exhaust blower 43 was adjusted in the range of 2.5 m 3 / min to 30 m 3 / min.
  • the conveyance speed of the film 9 was 15 m / min (constant).
  • Other conditions and the detection method were the same as those in Example 1.
  • the internal pressure of the main chamber 31 when the exhaust flow rate was 10.0 m 3 / min was a negative pressure that was 16.5 Pa lower than the atmospheric pressure.
  • the internal pressure of the main chamber 31 when the exhaust flow rate was 15.0 m 3 / min was a negative pressure 34.5 Pa lower than the atmospheric pressure.
  • the internal pressure of the main chamber 31 when the exhaust flow rate was 20.0 m 3 / min was a negative pressure that was 48 Pa lower than the atmospheric pressure. Therefore, it was confirmed that leakage can be prevented by reducing the internal pressure of the main chamber 31 by about 10 Pa from the atmospheric pressure. It was confirmed that leakage could be sufficiently prevented by reducing the internal pressure of the main chamber 31 by about 15 Pa or more from the atmospheric pressure. Therefore, it is not necessary to increase the exhaust capacity of the main chamber exhaust means.
  • the present invention is applicable to the manufacture of optical devices such as polarizing plates.

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Abstract

　処理槽の排気手段を大型化しなくても処理ガス成分が処理槽から外部に漏出するのを十分に抑制できる表面処理装置を提供する。　被処理物９を、搬送手段２０によって処理槽３０の主室３１内の処理領域１９を通過するように搬送方向に搬送する。処理槽３０には、主室３１の少なくとも搬出側に副室３３を設ける。これら室を仕切る仕切壁３７及び外壁３６に被処理物９を搬入出可能な常開の開口３７ａ，３６ａを形成する。主室排気手段４０を主室３１に接続し、主室３１の内圧を槽外の圧力より低くする。副室給気手段５２を副室３３に接続して給気し、副室３３の内圧を槽外の圧力より高くする。

Description

表面処理装置
　本発明は、被処理物を大気圧近傍下において表面処理する装置に関し、特に被処理物を連続的に搬送しながら大気圧プラズマ処理等の表面処理を行なうのに適した表面処理装置に関する。
　一般に、大気圧プラズマ処理等の表面処理においては、処理ガス成分の漏れ等を防止するため、処理領域を処理槽にて囲んでいる（特許文献１等参照）。この処理槽に排気ブロアや排気ポンプ等の排気源を接続し、処理槽内の処理ガスを含むガスを吸引して排出している。処理槽の端壁には、被処理物を搬入出する開口が設けられている。被処理物が枚葉状であったりバッチ処理する場合等では、上記開口に扉を設け、個々の被処理物を搬入、搬出する度に扉を開閉すれば、処理ガスの漏れを防止できる。しかし、被処理物が連続シート状であったり被処理物を処理ラインに沿って搬送しながら連続処理する場合等では、扉の開閉が困難ないしは不可能である。そこで、特許文献１では、搬入側及び搬出側の壁をそれぞれ二重構造にして小室を設けている。各壁に常開の開口が形成されている。
特開２００１－１０２１９８号公報（００５４、図８）
　上掲特許文献１の搬入側及び搬出側の二重壁によれば、処理槽からの流出ガスが、一旦、上記二重壁内の小室に溜められる。しかし、その後、ガスが拡散して外部に漏れるおそれがある。特に、搬出側においては、被処理物に接するガスが被処理物に引き連れられて外部に漏れやすい。これを防止するためには、排気ブロアや排気ポンプ等の排気源の容量を大きくする必要がある。
　本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、被処理物を例えば連続的に搬送しながら処理槽内において表面処理する装置において、処理槽の排気源を大型化しなくても処理ガス成分が処理槽から外部に漏出するのを十分に抑制できるようにすることを主目的とする。
　上記課題を解決するため、本発明は、被処理物を大気圧近傍の処理領域にて表面処理する表面処理装置であって、
（ａ）　前記被処理物を、前記処理領域を通過するように搬送方向に搬送する搬送手段と、
（ｂ）　前記処理領域を含む主室と、前記主室の前記搬送方向の搬入側及び搬出側のうち少なくとも搬出側に設けられて前記主室と仕切壁にて仕切られた副室とを有し、かつ搬入側の外壁及び搬出側の外壁並びに前記仕切壁には、前記被処理物を搬入出可能な常開の開口が形成された処理槽と、
（ｃ）　前記主室に接続され、前記主室内のガスを吸引して前記主室の内圧を前記処理槽の外部の圧力より低くする排気手段と、
（ｄ）　前記副室に接続され、前記副室内に空気又は不活性ガスを供給して前記副室の内圧を前記処理槽の外部の圧力より高くする副室給気手段と、
を備えたことを特徴とする。
　副室給気手段から副室に供給された空気又は不活性ガスが、上記圧力差によって仕切壁の開口から主室内に流入する。この流れによって、主室内の処理ガス成分を含むガスが外部に漏れるのを確実に防止できる。特に、主室内の搬出側の部分においては、被処理物に接するガスが、被処理物に引き連れられて搬出側の副室ひいては槽外へ向けて移動する。これに対し、搬出側の副室からのガスが主室に流入する。この搬出側副室からのガス流入方向は、上記被処理物の移動方向ひいては被処理物上のガスの流れ方向とは大略逆方向である。この逆方向の流入ガスによって、被処理物上のガスを押し戻すことができる。これによって、処理ガス成分を含むガスが被処理物と一緒に外部に漏れるのを確実に防止できる。主室の内圧は大気圧より少し低くすればよく、主室排気手段の排気源の排気容量を大きくする必要がなく、排気源を小型化できる。
　また、副室給気手段から副室に供給された空気又は不活性ガスの一部は、外壁の開口から外部に流出する。この流れによって、外部の雰囲気ガスが処理槽内に入り込むのを防止することができる。
　前記被処理物が連続シート状である場合には、前記搬送手段が、前記被処理物を掛け回す複数のガイドロールを含むことが好ましい。例えば、搬入側の槽外に繰出ロールが設けられ、搬出側の槽外に巻取ロールが設けられ、前記繰出ロール及び前記巻取ロールの間に前記複数のガイドロールが配列される。これら複数のガイドロールの一部又は全部が、処理槽の内部に配置される。前記連続シート状の被処理物は、繰出ロールから繰り出され、前記ガイドロールの列に案内されて処理槽の処理領域を含む主室及び副室を通り、巻取ロールに巻き取られる。
　前記ガイドロールのうち第１のガイドロールが前記副室内に収容されていることが好ましい。前記第１ガイドロールに連続シート状の被処理物を掛け回すことによって、副室内における連続シート状被処理物を位置決めしてばたつきを防止できる。したがって、外壁及び仕切壁の各開口の開口度を、連続シート状被処理物のばたつきを殆ど考慮することなく小さく設定できる。ひいては、主室からのガス漏れ又は外部雰囲気の侵入を確実に防止できる。
　前記第１ガイドロールの直径が前記副室を画成する外壁と仕切壁との間の距離より大きく、前記第１ガイドロールの外周部が前記外壁の開口及び前記仕切壁の開口に入り込んでいることが好ましい。
　これにより、前記第１ガイドロールによって前記開口の大部分を塞ぐようにできる。しかも、前記第１ガイドロールの周面上における前記連続シート状の被処理物の進入接点及び送出接点が、ちょうど前記開口の内部又は前記開口の近傍に位置するようにできる。そうすると、前記連続シート状の被処理物における前記副室内に配置される部分のほぼ全体が前記第１ガイドロールに掛け回される。したがって、前記副室内での前記連続シート状の被処理物のばたつきを確実に防止できる。よって、前記開口の開口度（すなわち、前記開口の縁部と前記第１ガイドロールの周面との間に形成される隙間の大きさ）を十分に小さくでき、主室からのガス漏れ又は外部雰囲気の侵入を確実に防止できる。副室内には第１ガイドロールを１つだけ設ければよく、部品点数を減らすことができる。
　前記第１ガイドロールの周面の周方向の一側部に前記被処理物が巻き付けられており、前記副室給気手段が、前記副室の前記一側部が面する室部分に開口する給気ポートを含むことが好ましい。これによって、前記室部分を確実に高圧にできる。したがって、主室内の処理ガス成分を含むガスが被処理物に引き連れられて副室に入り込んだり、外部の雰囲気ガスが副室内に入り込んだりするのを確実に低減できる。ひいては、処理ガス成分を含むガスが外部に流出したり、外部の雰囲気ガスが主室内に流入したりするのを一層確実に防止できる。
　前記複数のガイドロールのうち前記第１ガイドロールと隣接する第２のガイドロールが、前記処理槽の前記搬送方向の外側又は前記主室内に配置され、前記第１ガイドロールと前記第２ガイドロールとによって前記被処理物が前記開口を通過する位置が設定されていることが好ましい。
　これにより、前記開口の開口度を十分に小さくでき、主室からのガス漏れ又は外部雰囲気の侵入を確実に防止できる。前記第２ガイドロールは、前記繰出ロールと搬入側の副室内のガイドロールとの間、又は搬出側の副室内のガイドロールと前記巻取ロールとの間に介在される。繰出ロール又は巻取ロール上の被処理物の巻き付け径が繰り出し及び巻き取りの進行に伴って変化しても、上記位置が変化することはない。したがって、外壁の開口の開口度を十分に小さく設定できる。ひいては、主室からのガス漏れ又は外部雰囲気の侵入を確実に防止できる。特に、前記第１ガイドロールを搬出側の副室に設け、前記第２ガイドロールを前記搬出側の外壁と前記巻取ロールとの間に配置することによって、前記巻取ロール上の被処理物の巻き付け径が巻き取りの進行に伴って増大しても、被処理物が第１ガイドロールから第２ガイドロールへ送出される角度が変化するのを回避でき、かつ被処理物が前記搬出側の外壁の開口を通過する位置が変化するのを回避できる。したがって、前記搬出側の外壁の開口の縁と被処理物との間に形成される隙間の大きさを一定に維持できる。よって、前記搬出側の外壁の開口の開口度を十分に小さく設定できる。この結果、主室からのガスが前記搬出側の外壁の開口から外部へ流出したり、外部の雰囲気ガスが前記搬出側の外壁の開口から処理槽内に流入したりするのを確実に防止できる。
　前記主室の内圧は、好ましくは、前記処理槽の外部の圧力より１０Ｐａ～５０Ｐａ低い。よって、主室排気源の排気容量を小さくできる。
　前記副室の内圧は、好ましくは、前記処理槽の外部の圧力より５Ｐａ～２０Ｐａ高い。これにより、処理ガス成分の漏れを確実に防止できる。
　ここで、大気圧近傍とは、１．０１３×１０４～５０．６６３×１０４Ｐａの範囲を言い、圧力調整の容易化や装置構成の簡便化を考慮すると、１．３３３×１０４～１０．６６４×１０４Ｐａが好ましく、９．３３１×１０４～１０．３９７×１０４Ｐａがより好ましい。
　本発明によれば、処理ガス成分が処理槽から外部に漏出するのを十分に抑制できる。排気源を大型化する必要はない。
本発明の第１実施形態に係る表面処理装置の概略構成を示す解説正面図である。 上記表面処理装置の処理槽の搬入側の部分及び搬出側の部分を、被処理フィルムを省略して示す、図１のＩＩ－ＩＩ線に沿う平面断面図である。 上記処理槽の搬出側の部分を拡大して示す正面断面図である。 図３のＩＶ－ＩＶ線に沿う、上記処理槽の搬出側の部分の側面図である。
　以下、本発明の実施形態を図面にしたがって説明する。
　図１は、本発明の一実施形態を示したものである。この実施形態の被処理物９は、連続シート状のフィルムにて構成されている。被処理フィルムは、例えば偏光板等の光学装置用の光学樹脂フィルムである。ここでは、被処理フィルム９として、偏光板の保護フィルムとなる光学樹脂フィルムが適用されている。被処理フィルム９の主成分としては、例えばトリアセテートセルロース（ＴＡＣ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレン（ＰＥ）、シクロオレフィン重合体（ＣＯＰ）、シクロオレフィン共重合体（ＣＯＣ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）、ポリイミド（ＰＩ）等が挙げられるが、これに限定されるものではない。フィルムの厚さは、例えば１００μｍ程度である。
　本実施形態の表面処理装置１は、被処理フィルム９に対し、偏光フィルムとの接着工程における接着性を向上させるための表面処理を施す。処理ガスとして重合性モノマーとキャリアガスの混合ガス等が用いられている。重合性モノマーとしては、例えばアクリル酸（ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＨ）が用いられている。アクリル酸は、酢酸様の臭気を有し、爆発性等をも有しているため、適切な管理を要する。重合性モノマーとしては、アクリル酸に限定されるものではなく、メタクリル酸、イタコン酸、マイレン酸、２－メタクリロイルプロピオン酸、メタクリル酸エチレングリコール、アリルアルコール、メタクリル酸ヒドロキシエチル、酢酸ビニル、メタクリル酸グリシジル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ｔ－ブチル、アクリル酸２－エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ｔ－ブチル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸２－エチル、アクリルアルデヒド、クロトンアルデヒド等であってもよい。キャリアガスとしては不活性ガスが用いられている。不活性ガスとして窒素（Ｎ２）が挙げられるが、これに限定されず、Ａｒ、Ｈｅ等の希ガスであってもよい。
　表面処理装置１は、処理部１０と、搬送手段２０と、処理槽３０を備えている。
　処理部１０は、大気圧近傍プラズマにて被処理物９を表面処理する大気圧プラズマ処理部にて構成されている。大気圧プラズマ処理部１０は、少なくとも２つの電極１１を有している。これら電極１１は、円筒形状（ロール状）になっている。２つのロール電極１１が、軸線を図１の紙面と直交する水平方向に向けて平行に配置されている。ロール電極１１，１１どうし間の最も狭くなった箇所及びその近傍の空間が処理領域１９になっている。図示は省略するが、２つのロール電極１１の一方は電源に接続されている。他方のロール電極１１は、電気的に接地されている。電源からの電力供給によって、ロール電極１１，１１間に大気圧近傍の圧力下でプラズマ放電が生成される。処理領域１９の上方及び下方にノズル１２がそれぞれ配置されている。各ノズル１２の吹出し口が処理領域１９に臨んでいる。図示しない処理ガス源からの処理ガスがノズル１２に供給され、ノズル１２から処理領域１９へ吹き出される。これにより、処理ガスが処理領域１９内でプラズマ化（励起、活性化、ラジカル化、イオン化等を含む）されて被処理フィルム９の表面処理がなされる。具体的には、処理ガス中のアクリル酸（重合性モノマー）が被処理フィルム９上で重合反応を起こし、被処理フィルム９の表面に接着性促進層が形成される。
　上下のノズル１２，１２から同時に処理ガスを吹き出してもよく、上下何れか１つのノズル１２からのみ処理ガスを吹出し、他方のノズル１２を処理領域１９の閉塞部材として用いてもよい。
　被処理フィルム９の搬送方向の上流側のロール電極１１の周面上で、アクリル酸等の重合性モノマーを含有するガスを被処理フィルム９に吹き付けて付着させ、続いて処理領域１９に窒素等の不活性ガスを供給してプラズマ化し、重合性モノマーの重合反応を起こさせてもよい。
　搬送手段２０は、被処理フィルム９を搬送方向（図１において概略右方向）に搬送する。搬送手段２０は、繰出ロール２１と、巻取ロール２２と、ガイドロール２３を備えている。これらロール２１，２２，２３は、共に軸線を図１の紙面と直交する方向に向けた円筒形状になっている。繰出ロール２１は、処理槽３０より搬送方向の上流側すなわち搬入側（図１において左）に配置されている。繰出ロール２１から被処理フィルム９が繰り出される。巻取ロール２２は、処理槽３０より搬送方向の下流側すなわち搬出側（図１において右）に配置されている。処理済みの被処理フィルム９が巻取ロール２２に巻き取られる。繰出ロール２１と巻取ロール２２の間に複数のガイドロール２３（２３１～２３６）が配列されている。これらガイドロール２３に被処理フィルム９の中間部分が掛け回されている。ガイドロール２３の列の中間にロール電極１１，１１が配置されている。被処理フィルム９がロール電極１１，１１の上側部分に半周程度掛け回されている。２つのロール電極１１の中間の被処理フィルム９が処理領域１９に通されている。各ロール電極１１は、軸線まわりに回転可能になっている。ロール２１，２２及びロール電極１１，１１が互いに同期して回転駆動し、被処理フィルム９を搬送する。ロール電極１１は、搬送手段２０の一要素を構成する。ガイドロール２３（２３１～２３６）は、被処理フィルム９の搬送に合わせて従動回転する。ガイドロール２３によって、被処理フィルム９の搬送経路が設定され、かつ被処理フィルム９に張力が付与されている。
　処理槽３０は、主室３１と、搬入側の副室３２と、搬出側の副室３３を有している。主室３１は、処理槽３０の内容積の大半を占めている。主室３１の内部に処理部１０ひいては処理領域１９が配置されている。
　処理槽３０の搬入側の壁は、搬入側外壁３４と搬入側仕切壁３５の二重構造になっている。外壁３４が処理槽３０の搬入側の外部と処理槽３０の内部とを仕切っている。仕切壁３５によって、主室３１と搬入側副室３２が仕切られている。外壁３４と仕切壁３５との間に搬入側副室３２が形成されている。搬入側副室３２は、ロール２３の軸線と同方向（図１の紙面と直交する方向）に延びる筒状空間になっている。搬入側副室３２の内容積は、主室３１の内容積より十分に小さい。搬入側副室３２の内容積は、主室３１の内容積の例えば５００分の１～２０００分の１である。
　処理槽３０の搬出側の壁は、搬出側外壁３６と搬出側仕切壁３７の二重構造になっている。外壁３６が処理槽３０の搬出側の外部と処理槽３０の内部とを仕切っている。仕切壁３７によって、主室３１と搬出側副室３３が仕切られている。外壁３６と仕切壁３７との間に搬出側副室３３が形成されている。搬出側副室３３は、ロール２３の軸線と同方向（図１の紙面と直交する方向）に延びる筒状空間になっている。搬出側副室３３の内容積は、搬入側副室３２の内容積とほぼ同じであり、主室３１の内容積より十分に小さい。搬出側副室３３の内容積は、主室３１の内容積の例えば５００分の１～２０００分の１である。搬入側の副室３２の内容積と搬出側の副室３３の内容積が互いに異なっていてもよい。
　処理槽３０の搬入側部及び搬出側部の構造を更に詳述する。
　搬入側の外壁３４に搬入側外開口３４ａが形成されている。開口３４ａを介して搬入側の外部空間と搬入側副室３２が連通している。搬入側仕切壁３５に搬入側内開口３５ａが形成されている。開口３５ａを介して搬入側副室３２と主室３１が連通している。被処理フィルム９が、外部から外開口３４ａを通して搬入側副室３２に搬入され、更に内開口３５ａを通して主室３１に搬入される。搬入開口３４ａ，３５ａは、常開であり、扉が設けられていない。
　搬入側副室３２内に搬入側副室内ガイドロール２３２（第１ガイドロール）が収容されている。副室内ガイドロール２３２の直径は、副室３２の水平短手方向（図１の左右方向）の寸法すなわち壁３４，３５間の距離より若干大きい。副室内ガイドロール２３２の左右の周側部が、各搬入開口３４ａ，３５ａに少し入り込んでいる。副室内ガイドロール２３２によって、搬入開口３４ａ，３５ａの大部分が塞がれている。各搬入開口３４ａ，３５ａの上下の縁と副室内ガイドロール２３２の周面との間の隙間（クリアランス）は十分に狭い。各搬入開口３４ａ，３５ａの上縁と副室内ガイドロール２３２の周面との垂直方向の離間距離は、好ましくは０．５ｍｍ～４ｍｍ程度であり、より好ましくは１ｍｍ程度である。各搬入開口３４ａ，３５ａの下縁と副室内ガイドロール２３２の周面との垂直方向の離間距離は、上記上縁側の離間距離より若干大きく、好ましくは１ｍｍ～６ｍｍ程度であり、より好ましくは３ｍｍ程度である。副室内ガイドロール２３２によって、搬入側副室３２が、ガイドロール２３２より下側の室部分３２ａと、ガイドロール２３２より上側の室部分３２ｂとに仕切られている。
　図２に示すように、副室内ガイドロール２３２の軸線Ｌ２に沿う軸長は、搬入側副室３２の軸線Ｌ２に沿う長さより短く、更には搬入開口３４ａ，３５ａの軸線Ｌ２に沿う長さより少し短い。副室内ガイドロール２３２の軸線Ｌ２方向の端面と、搬入開口３４ａ，３５ａの軸線Ｌ２方向の端縁との間のクリアランスは、好ましくは１ｍｍ～３ｍｍ程度である。副室内ガイドロール２３２の軸方向の両側の各端面と搬入側副室３２の同側の内端面との間には十分な広さの連通空間３２ｅが形成されている。副室３２の下側の室部分３２ａと上側の室部分３２ｂが連通空間３２ｅを介して連通している。
　図１に示すように、被処理フィルム９が、副室内ガイドロール２３２の周面の下側部（周方向の一側部）に部分的に巻き付けられている。被処理フィルム９のガイドロール２３２への巻き付け部分９ａは、被処理フィルム９における搬入側副室３２内に配置された部分のほぼ全体に及んでいる。巻き付け部分９ａは、搬入側副室３２の下側の室部分３２ａに面している。副室内ガイドロール２３２によって被処理フィルム９の搬入側副室３２内における位置ないしは姿勢が決められている。副室内ガイドロール２３２とその前段に隣接する槽外ガイドロール２３１（第２ガイドロール）とによって、被処理フィルム９が槽外から副室内ガイドロール２３２に進入する角度及び副室内ガイドロール２３２の周面に接する位置（進入接点ａ）、並びに被処理フィルム９が外開口３４ａを通過する位置が決められている。上記進入接点ａは、ちょうど外開口３４ａ又はその近傍に位置している。副室内ガイドロール２３２とその後段に隣接する主室内ガイドロール２３３（第２ガイドロール）とによって、被処理フィルム９が副室内ガイドロール２３２の周面から送り出される位置（送出接点ｂ）及び角度、並びに被処理フィルム９が内開口３５ａを通過する位置が決められている。上記送出接点ｂは、ちょうど内開口３５ａの内部又はその近傍に位置している。
　上記槽外ガイドロール２３１は、処理槽３０の搬入側の外部に、外開口３４ａに近接して配置されている。槽外ガイドロール２３１は、繰出ロール２１と搬入側の外壁３４との間に介在されている。
　上記主室内ガイドロール２３３は、主室３１の内部に、内開口３５ａに近接して配置されている。
　同様に、処理槽３０の搬出側の仕切壁３７に搬出側内開口３７ａが形成されている。開口３７ａを介して主室３１と搬出側副室３３が連通している。搬出側外壁３６に搬出側外開口３６ａが形成されている。開口３６ａを介して搬出側副室３３と搬出側の外部空間とが連通している。処理部１０にて処理済みの被処理フィルム９が、主室３１から内開口３７ａを通して搬出側副室３３に出され、更に外開口３６ａを通して外部に搬出される。搬出開口３６ａ，３７ａは、常開であり、扉が設けられていない。
　図３及び図４に示すように、搬出側副室３３内に搬出側副室内ガイドロール２３５（第１ガイドロール）が収容されている。副室内ガイドロール２３５の直径は、副室３３の水平短手方向（図１の左右方向）の寸法すなわち壁３６，３７間の距離より若干大きい。副室内ガイドロール２３５の左右の周側部が、各搬出開口３６ａ，３７ａに少し入り込んでいる。副室内ガイドロール２３５によって、搬出開口３６ａ，３７ａの大部分が塞がれている。各搬出開口３６ａ，３７ａの上下の縁と副室内ガイドロール２３５の周面との間の隙間（クリアランス）は十分に狭い。各搬出開口３６ａ，３７ａの上縁と副室内ガイドロール２３５の周面との垂直方向の離間距離は、好ましくは０．５ｍｍ～４ｍｍ程度であり、より好ましくは１ｍｍ程度である。各搬出開口３６ａ，３７ａの下縁と副室内ガイドロール２３５の周面との垂直方向の離間距離は、上記上縁側の離間距離より若干大きく、好ましくは１ｍｍ～６ｍｍ程度であり、より好ましくは３ｍｍ程度である。副室内ガイドロール２３５によって、搬出側副室３３が、ガイドロール２３５より下側の室部分３３ａと、ガイドロール２３５より上側の室部分３３ｂとに仕切られている。
　図２及び図４に示すように、副室内ガイドロール２３５の軸線Ｌ３に沿う軸長は、搬出側副室３３の軸線Ｌ３に沿う長さより短く、更には搬出開口３６ａ，３７ａの軸線Ｌ３に沿う長さより少し短い。副室内ガイドロール２３５の軸線Ｌ３方向の端面と、搬出開口３６ａ，３７ａの軸線Ｌ３方向の端縁との間のクリアランスは、好ましくは１ｍｍ～３ｍｍ程度である。副室内ガイドロール２３５の軸方向の両側の端面と搬出側副室３３の同側の内端面との間には十分な広さの連通空間３３ｅが形成されている。副室３３の下側の室部分３３ａと上側の室部分３３ｂが連通空間３３ｅを介して連通している。
　図１に示すように、被処理フィルム９が、副室内ガイドロール２３５の周面の下側部（周方向の一側部）に部分的に巻き付けられている。被処理フィルム９のガイドロール２３５への巻き付け部分９ｂは、被処理フィルム９における搬出側副室３３内に配置された部分のほぼ全体に及んでいる。巻き付け部分９ｂは、搬出側副室３３の下側の室部分３３ａに面している。副室内ガイドロール２３５によって被処理フィルム９の搬出側副室３３内における位置ないしは姿勢が決められている。副室内ガイドロール２３５とその前段に隣接する主室内ガイドロール２３４（第２ガイドロール）とによって、被処理フィルム９が主室３１から副室内ガイドロール２３５に進入する角度及び副室内ガイドロール２３５の周面に接する位置（進入接点ｃ）、並びに被処理フィルム９が内開口３５ａを通過する位置が決められている。上記進入接点ｃは、ちょうど内開口３５ａ又はその近傍に位置している。副室内ガイドロール２３５とその後段に隣接する槽外ガイドロール２３６（第２ガイドロール）とによって、被処理フィルム９が副室内ガイドロール２３５の周面から送り出される位置（送出接点ｄ）及び角度、並びに被処理フィルム９が外開口３６ａを通過する位置が決められている。上記送出接点ｄは、ちょうど外開口３６ａの内部又はその近傍に位置している。
　上記主室内ガイドロール２３４は、主室３１内に配置され、かつ仕切壁３７ひいてはその開口３７ａに近接して配置されている。
　上記槽外ガイドロール２３６は、処理槽３０の搬出側の外部に、外開口３６ａに近接して配置されている。槽外ガイドロール２３６は、搬出側の外壁３６と巻取ロール２２との間に介在されている。
　処理槽３０の主室３１に主室排気手段４０が接続されている。排気手段４０は、排気ポート４１と、排気源４３を含む。主室３１の底部に排気ポート４１が設けられている。ポート４１から排気路４２が延びている。この排気路４２が排気源４３に連なっている。排気源４３は、ブロアにて構成されているが、排気ポンプにて構成されていてもよい。排気源４３の駆動によって、主室３１内のガスが排気ポート４１から吸い込まれ、排気路４２を経て排出される。
　図１に示すように、搬入側副室３２には搬入側副室給気手段５１が接続されている。副室給気手段５１は、複数の給気ポート５１ｐと、給気源５１ｘを含む。図２に示すように、給気ポート５１ｐは、搬入側副室３２の底部に軸線Ｌ２に沿って間隔を置いて設けられている。図１に示すように、各給気ポート５１ｐは、搬入側副室３２の下側の室部分３２ａに開口している。副室内ガイドロール２３２の下側部（被処理フィルム９が巻き付けられた部分）と給気ポート５１ｐが上下に対向している。
　給気源５１ｘは、ブロアにて構成されているが、給気ポンプにて構成されていてもよい。給気源５１ｘからの給気路５１ａが複数（図では５つ）に分岐し、各給気ポート５１ｐに連なっている。給気源５１ｘの駆動によって、空気が給気路５１ａを経て、各給気ポート５１ｐから搬入側副室３２内に供給される。
　図１に示すように、搬出側副室３３には搬出側副室給気手段５２が接続されている。副室給気手段５２は、複数の給気ポート５２ｐと、給気源５２ｘを含む。図２及び図４に示すように、給気ポート５２ｐは、搬出側副室３３の底部に軸線Ｌ３に沿って間隔を置いて設けられている。図３及び図４に示すように、各給気ポート５２ｐは、搬出側副室３３の下側の室部分３３ａに開口している。副室内ガイドロール２３５の下側部（被処理フィルム９が巻き付けられた部分）と給気ポート５２ｐが上下に対向している。
　給気源５２ｘは、ブロアにて構成されているが、給気ポンプにて構成されていてもよい。１つの給気源が、搬入側副室給気源５１ｘ及び搬出側副室給気源５２ｘとして共用されていてもよい。給気源５２ｘからの給気路５２ａが複数（図では５つ）に分岐し、各給気ポート５２ｐに連なっている。給気源５２ｘの駆動によって、空気が給気路５２ａを経て、各給気ポート５２ｐから搬出側副室３３内に供給される。
　上記構成の表面処理装置１の動作を、処理槽３０内の圧力制御を中心に説明する。
　被処理フィルム９を、繰出ロール２１から連続的に繰り出し、ガイドロール２３及びロール電極１１の列に沿って連続的に搬送し、途中の処理領域１９において表面処理し、巻取ロール２２にて連続的に巻き取る。
　上記被処理フィルム９の搬送及び表面処理と併行して、主室排気手段４０によって主室３１内のガスを吸引して排出する。これにより、主室３１の内圧が、大気圧近傍の圧力範囲内において処理槽３０の外部の圧力（大気圧）より低くなる。好ましくは、主室３１の内圧を大気圧より１０Ｐａ～５０Ｐａ程度低くし、より好ましくは２０Ｐａ程度低くする。
　さらに、副室給気手段５１，５２によって、副室３２，３３に空気を供給する。この空気は、給気ポート５１ｐ，５２ｐから、先ず副室３２，３３の下側の室部分３２ａ，３３ａに充填され、更に連通空間３２ｅ，３３ｅを通って、上側の室部分３２ｂ．３３ｂ内に充填される。これにより、副室３２，３３の内圧が、大気圧近傍の圧力範囲内において処理槽３０の外部の圧力（大気圧）より高くなる。好ましくは、副室３２，３３の内圧を大気圧より５Ｐａ～２０Ｐａ程度高くする。したがって、以下の関係が成立する。
　（主室３１の内圧）＜（大気圧）＜（副室３２，３３の内圧）　（式１）
そのため、副室給気手段５１，５２から副室３２，３３に供給された空気が、外開口３４ａ，３６ａから外部に流出するとともに、内開口３５ａ，３７ａから主室３１内に流入する。外開口３４ａ，３６ａから外部に流出する流れによって、外部の雰囲気ガスが処理槽３０内に入り込むのを防止できる。内開口３５ａ，３７ａから主室３１内に流入する流れによって、主室３１内の処理ガス成分を含むガスが外部に漏れるのを防止できる。
　更に、給気ポート５１ｐ，５２ｐからの空気は、直接的には下側の室部分３２ａ，３３ａに供給され、そこから上側の室部分３２ｂ，３３ｂに拡散するため、以下の関係が成立する。
  （下側の室部分３２ａ，３３ａの内圧）＞（上側の室部分３２ｂ，３３ｂの内圧）　　　…（式２）
したがって、下側の室部分３２ａ，３３ａ、すなわち被処理フィルム９の巻き付け部分９ａ，９ｂが面する室部分３２ａ，３３ａの内圧を確実に高圧にできる。よって、主室３１内の処理ガス成分を含むガスが、室部分３２ａ，３３ａを経て、外部に流出したり、外部の雰囲気ガスが、室部分３２ａ，３３ａを経て、主室３２内に流入したりするのを一層確実に防止できる。特に、図３に示すように、主室３１の搬出側の部分においては、被処理フィルム９に接するガスｇ１が、被処理フィルム９に引き連れられて搬出側副室３３ひいては処理槽３０の搬出側の外部へ向けて移動する。これに対し、フィルム巻き付け側の室部分３３ａ内の空気が、搬出側副室内ガイドロール２３５と搬出側内開口３７ａの下縁との間を通って主室３１内に流入する。この流入ガスｇ３の流れ方向は、被処理フィルム９の搬送方向ひいては被処理フィルム９上のガスｇ１の流れとは逆方向である。この逆方向の流入ガスｇ３によって、被処理フィルム９上のガスｇ１を被処理フィルム９から離して主室３１の内側へ押し戻すことができる。これによって、ガスｇ１が被処理フィルム９と一緒に槽外に流出するのを確実に防止できる。したがって、処理ガス成分の外部への漏出を確実に防止できる。よって、環境負荷を軽減できる。処理ガスがアクリル酸を含む場合、アクリル酸特有の酢酸様の臭気が外部雰囲気中に漂うのを確実に防止でき、良好な作業環境を確保できる。
　主室３１の内圧は大気圧より少し低くすればよく、主室排気源４３の排気容量を大きくする必要がなく、主室排気源４３を小型化できる。
　搬出側副室３３内における被処理フィルム９は、搬出側副室内ガイドロール２３５に掛け回されることによって位置決めされている。したがって、被処理フィルム９が搬出側副室３３内でばたつくのを防止できる。しかも、被処理フィルム９の搬出側副室３３内における部分のほぼ全体が副室内ガイドロール２３５に掛け回されているため、搬出側副室３３内におけるばたつきを確実に防止できる。加えて、搬出側主室内ガイドロール２３４及び搬出側副室内ガイドロール２３５によって、被処理フィルム９の搬出側副室内ガイドロール２３５への進入接点ｃ、並びに被処理フィルム９が搬出側仕切壁３７を横切る位置及び角度を確定できる。したがって、搬出側内開口３７ａの下縁と副室内ガイドロール２３５の周面とのクリアランスを十分に小さくできる。よって、被処理フィルム９上のガスｇ１が開口３７ａを通過しにくくなり、ガスｇ１の槽外への流出を確実に防止できる。副室３３からのガスｇ３の流入の勢いが増すことも、ガスｇ１の槽外への流出防止に寄与する。
　搬出側副室内ガイドロール２３５及び搬出側槽外ガイドロール２３６によって、被処理フィルム９の搬出側副室内ガイドロール２３５からの送出接点ｄ、並びに被処理フィルム９が搬出側外壁３６を横切る位置及び角度を確定できる。搬出側副室内ガイドロール２３５と巻取ロール２２との間に槽外ガイドロール２３６を介在させることで、巻取ロール２２上の被処理フィルム９の巻き付け径が巻き取りの進行に伴って変化しても、上記副室内ガイドロール２３５の周面上の送出接点ｄ並びに被処理フィルム９が外壁３６を横切る位置及び角度が変化することはない。（図３の二点鎖線にて示すように、槽外ガイドロール２３６と巻取ロール２２との間の被処理フィルム９の角度が、巻き取りの進行に伴って変化する。）したがって、搬出側外開口３６ａの下縁と副室内ガイドロール２３５の周面とのクリアランスを十分に小さくできる。また、各搬出開口３６ａ，３７ａの上縁と副室内ガイドロール２３５の周面との間のクリアランスは、副室内ガイドロール２３５が各搬出開口３６ａ，３７ａの上縁に接しない範囲で可能な限り小さくできる。
　この結果、主室３１内の処理ガス成分を含むガスが、搬出側副室３３を経て外部に漏れるのを一層確実に防止できる。また、外部の雰囲気ガスが搬出側副室３３を経て主室３１内に流入するのを確実に防止できる。
　搬入側副室３２内における被処理フィルム９は、搬入側副室内ガイドロール２３２に掛け回されることによって位置決めされている。したがって、被処理フィルム９が搬入側副室３２内でばたつくのを防止できる。しかも、被処理フィルム９の搬入側副室３２内における部分のほぼ全体が副室内ガイドロール２３２に掛け回されているため、搬入側副室３２内におけるばたつきを確実に防止できる。加えて、搬入側槽外ガイドロール２３１及び搬入側副室内ガイドロール２３２によって、被処理フィルム９の搬入側副室内ガイドロール２３２への進入接点ａ、並びに被処理フィルム９が搬入側外壁３４を横切る位置及び角度を確定できる。繰出ロール２１と副室内ガイドロール２３２との間に槽外ガイドロール２３１を介在させることで、繰出ロール２１上の被処理フィルム９の巻き付け径が繰り出しの進行に伴って変化しても、上記副室内ガイドロール２３２の周面上の進入接点ａ並びに被処理フィルム９が外壁３４を横切る位置及び角度が変化することはない。したがって、搬入側外開口３４ａの下縁と副室内ガイドロール２３２の周面とのクリアランスを十分に小さくできる。搬入側副室内ガイドロール２３２及び搬入側主室内ガイドロール２３３によって、被処理フィルム９の搬入側副室内ガイドロール２３２からの送出接点ｂ、並びに被処理フィルム９が搬入側仕切壁３５を横切る位置及び角度を確定できる。したがって、搬入側内開口３５ａの下縁と搬入側副室内ガイドロール２３２の周面とのクリアランスを十分に小さくできる。また、各搬入開口３４ａ，３５ａの上縁と副室内ガイドロール２３２の周面との間のクリアランスは、副室内ガイドロール２３２が各搬入開口３４ａ，３５ａの上縁に接しない範囲で可能な限り小さくできる。この結果、主室３１内の処理ガス成分を含むガスが搬入側副室３２を経て外部に漏れるのを確実に防止でき、かつ外部の雰囲気ガスが搬入側副室３２を経て主室３１内に流入するのを確実に防止できる。
　よって、表面処理装置１を、例えば偏光板の製造ラインなどに簡単に組み込むことができ、容易にインライン化することができる。
　本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない範囲において種々の改変をなすことができる。
　例えば、副室給気手段５１，５２から副室３２，３３に供給されるガスは、空気に限られず、窒素等の不活性ガスであってもよい。
　処理槽３０には搬入側副室３２及び搬出側副室３３のうち少なくとも搬出側副室３３が設けられていればよい。特に、処理槽３０内の処理ガス成分を含むガスが被処理フィルム９と一緒に外部に漏出するのを防止する観点からは、搬入側副室３２及び搬出側副室３３のうち搬出側副室３３だけを設け、搬入側副室３２を省略してもよい。
　なお、槽外のガスが被処理フィルム９と一緒に処理槽３０内に入り込むのを防止する観点からは、搬入側副室３２及び搬出側副室３３のうち搬入副室３２だけを設けることにしてもよい。
　副室給気手段５１，５２を副室３２，３３の上側の室部分５１ｂ，５２ｂに接続し、副室給気手段５１，５２からガスを上記上側の室部分５１ｂ，５２ｂに直接的に供給してもよい。副室給気手段５１，５２からガスを、副室３２，３３の上側の室部分５１ｂ，５２ｂと下側の室部分５１ａ，５２ａにそれぞれ直接的に供給してもよい。
　副室内ガイドロール２３２，２３５の直径は、副室３２，３３の水平短手方向（図１の左右）の内寸法と等しくてもよく、上記内寸法より小さくてもよい。この場合、副室３２，３３の開口３４ａ，３５ａ，３６ａ，３７ａの上下方向の幅は、１～１０ｍｍ程度であることが好ましい。
　搬出側副室３３内にガイドロール２３５を２つ以上配置してもよい。この場合、１つのガイドロール２３５を内開口３７ａの近傍に配置し、他の１つのガイドロール２３５を外開口３６ａの近傍に配置するのが好ましい。
　搬入側副室３２内にガイドロール２３２を２つ以上配置してもよい。この場合、１つのガイドロール２３２を外開口３４ａの近傍に配置し、他の１つのガイドロール２３２を内開口３５ａの近傍に配置するのが好ましい。
　副室３３の内部又は仕切壁３７の近くにエアナイフノズルを設け、被処理フィルム９の表面に沿ってエアナイフを吹き付け、被処理フィルム９上のガスｇ１を被処理フィルム９から離し、又は主室３１の内側へ押し戻してもよい。　
  処理部１０の電極構造は、一対のロール電極１１に限られず、ロール電極と平板電極の組み合わせでもよく、ロール電極と該ロール電極の周面に沿う凹曲面を有する凹板電極との組み合わせでもよく、平行平板電極でもよい。
　処理部１０は、一対の電極間に被処理物を導入してプラズマを直接的に照射する所謂ダイレクト式のプラズマ処理部に限られず、一対の電極間で生成したプラズマガスを吹き出して、電極間空間から離れて配置された被処理物に吹き付ける所謂リモート式のプラズマ処理部であってもよい。
　被処理フィルム９は、連続フィルムに限られず、ガラス基板や半導体ウェハであってもよい。　搬送手段２０は、ロール２１，２２，２３の列に限られず、移動ステージでもよく、コロコンベアでもよく、マニピュレータでもよい。
　処理内容は、樹脂フィルムの接着性向上のためのプラズマ処理に限られない。更に、処理内容は、プラズマ処理に限られない。本発明は、洗浄、表面改質、エッチング、成膜等の種々の表面処理に適用できる。
　処理ガスの成分は、処理内容に応じて適宜選択される。例えば、撥水化処理やシリコン含有膜のエッチング処理においては、処理ガス成分としてＣＦ４、Ｃ２Ｆ６、Ｃ３Ｆ６、Ｃ３Ｆ８、ＣＨＦ３、ＣＨ２Ｆ２、ＣＨ３Ｆ、ＳＦ６、ＮＦ３、ＸｅＦ２等のフッ素含有化合物を用いる。親水化処理においては、処理ガス成分としてＯ２、Ｎ２等を用いる。
　実施例を説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
　図１及び図２と実質的に同じ構造の装置１を用いた。
　被処理フィルム９としてＴＡＣフィルムを用いた。フィルム９の幅（図１の紙面と直交する方向の寸法）は、１５４０ｍｍであった。
　ガイドロール２３２，２３５の軸長は、１５８６ｍｍであった。ガイドロール２３２，２３５の直径は、φ１００ｍｍであった。
　副室３２，３３の上記軸長方向の長さは、１０９５ｍｍであった。副室３２の水平短手方向の寸法は、１２８ｍｍであった。
　開口３４ａ，３５ａ，３６ａ，３７ａの下縁と副室内ガイドロール２３２，２３５の周面との間のクリアランスは、垂直方向に３ｍｍであった。
　開口３４ａ，３５ａ，３６ａ，３７ａの上縁と副室内ガイドロール２３２，２３５の周面との間のクリアランスは、垂直方向に１ｍｍであった。
　開口３４ａ，３５ａ，３６ａ，３７ａの軸線Ｌ２，Ｌ３方向の端縁と副室内ガイドロール２３２，２３５の端面との間のクリアランスは、２ｍｍであった。
　主室排気ブロア４３の排気流量を、１０ｍ３／ｍｉｎに設定した。
　搬入側副室給気ブロア５１ｘ及び搬出側副室給気ブロア５２ｘの給気流量を、それぞれ０．５ｍ３／ｍｉｎに設定した。
　フィルム９の搬送速度は、５ｍ／ｍｉｎ～４０ｍ／ｍｉｎの範囲で調節した。
　処理部１０におけるプラズマ条件は以下の通りとした。
　　供給電力：　１２００Ｗ
　　印加電圧：Ｖｐｐ＝１７ｋＶ
　　ロール電極１１，１１間のギャップ：　１ｍｍ
　上記ロール電極１１，１１間において空気放電を起こし、オゾンを発生させた。ノズル１２からのガス供給は行なわなかった。
　主室３１の内圧を差圧センサにて測定したところ、フィルム９の搬送速度が５ｍ／ｍｉｎ～１５ｍ／ｍｉｎの範囲では、主室３１の内圧を大気圧より２０Ｐａ低い陰圧に維持できた。搬送速度を４０ｍ／ｍｉｎにしても、主室３１の内圧は大気圧より１７Ｐａ低い陰圧を維持できた。したがって、搬送速度を大きくしても、搬入開口３４ａからのガス流入量を抑制でき、主室排気手段の排気流量を増大させる必要がないことが確認された。
　さらに、各外壁開口３４ａ，３６ａの外側にオゾン検出器（理研計器株式会社製、型番ＧＤ－Ｋ７７Ｄ）を設置してオゾン検出を行なったところ、何れの開口３４ａ，３６ａ側でも搬送速度にかかわらずオゾンは検出されなかった。したがって、主室３１内のガスが開口３４ａ，３６ａから外部に漏れるのを十分に防止できることが確認された。なお、上記オゾン検出器の検出限界オゾン濃度は、０．０２ｐｐｍであった。
　実施例２では、実施例１と同じ装置１を用い、主室排気ブロア４３の排気流量を、２．５ｍ３／ｍｉｎ～３０ｍ３／ｍｉｎの範囲で調節した。フィルム９の搬送速度は、１５ｍ／ｍｉｎ（一定）とした。それ以外の条件及び検出方法は、実施例１と同じにした。
　主室排気ブロア４３の排気流量が２．５ｍ３／ｍｉｎ～５．０ｍ３／ｍｉｎのときは、両開口３４ａ，３６ａ側でオゾンが検出された。排気流量５．０ｍ３／ｍｉｎのときの主室３１の内圧は、大気圧より４．５Ｐａ低い陰圧であった。
　主室排気ブロア４３の排気流量が７．５ｍ３／ｍｉｎのときは、オゾンが検出されたり、されなかったりした。
　主室排気ブロア４３の排気流量が１０．０ｍ３／ｍｉｎ～３０．０ｍ３／ｍｉｎのときは、何れの開口３４ａ，３６ａ側でもオゾンは検出されなかった。排気流量１０．０ｍ３／ｍｉｎのときの主室３１の内圧は、大気圧より１６．５Ｐａ低い陰圧であった。排気流量１５．０ｍ３／ｍｉｎのときの主室３１の内圧は、大気圧より３４．５Ｐａ低い陰圧であった。排気流量２０．０ｍ３／ｍｉｎのときの主室３１の内圧は、大気圧より４８Ｐａ低い陰圧であった。
　したがって、主室３１の内圧を大気圧より１０Ｐａ程度低くすれば、漏れを防止できることが確認された。主室３１の内圧を大気圧より１５Ｐａ程度以上低くすれば、漏れを十分に防止できることが確認された。よって、主室排気手段の排気容量を大きくする必要はない。
　本発明は、例えば偏光板等の光学装置の製造に適用可能である。
１　　　表面処理装置
９　　　被処理物
１０　　処理部
１１　　ロール電極
１２　　ノズル
１９　　処理領域
２０　　搬送手段
２１　　繰出ロール
２２　　巻取ロール
２３　　ガイドロール
２３１　搬入側の槽外ガイドロール（第２ガイドロール）
２３２　搬入側の副室内ガイドロール（第１ガイドロール）
２３３　搬入側の主室内ガイドロール（第２ガイドロール）
２３４　搬出側の主室内ガイドロール（第２ガイドロール）
２３５　搬出側の副室内ガイドロール（第１ガイドロール）
２３６　搬入側の槽外ガイドロール（第２ガイドロール）
３０　　処理槽
３１　　主室
３２　　搬入側の副室
３２ａ　搬入側副室の下側（被処理フィルムの巻付側）の室部分
３２ｂ　搬入側副室の上側（非巻付側）の室部分
３２ｅ　搬入側の連通空間
３３　　搬出側の副室
３３ａ　搬出側副室の下側（被処理フィルムの巻付側）の室部分
３３ｂ　搬出側副室の上側（非巻付側）の室部分
３３ｅ　搬入側の連通空間
３４　　搬入側の外壁
３４ａ　搬入側外開口（外壁の開口）
３５　　搬入側の仕切壁
３５ａ　搬入側の内開口（仕切壁の開口）
３６　　搬出側の外壁
３６ａ　搬出側の外開口（外壁の開口）
３７　　搬出側の仕切壁
３７ａ　搬出側の内開口（仕切壁の開口）
４０　　主室排気手段
４１　　排気ポート
４２　　排気路
４３　　排気源
５１　　搬入側の副室給気手段
５２　　搬出側の副室給気手段
５１ａ，５２ａ　給気路
５１ｐ，５２ｐ　給気ポート
５１ｘ，５２ｘ　給気源
ａ，ｃ　進入接点
ｂ，ｄ　送出接点
 

Claims (7)

  1. 　被処理物を大気圧近傍の処理領域にて表面処理する表面処理装置であって、
    （ａ）　前記被処理物を、前記処理領域を通過するように搬送方向に搬送する搬送手段と、
    （ｂ）　前記処理領域を含む主室と、前記主室の前記搬送方向の搬入側及び搬出側のうち少なくとも搬出側に設けられて前記主室と仕切壁にて仕切られた副室とを有し、かつ搬入側の外壁及び搬出側の外壁並びに前記仕切壁には、前記被処理物を搬入出可能な常開の開口が形成された処理槽と、
    （ｃ）　前記主室に接続され、前記主室内のガスを吸引して前記主室の内圧を前記処理槽の外部の圧力より低くする排気手段と、
    （ｄ）　前記副室に接続され、前記副室内に空気又は不活性ガスを供給して前記副室の内圧を前記処理槽の外部の圧力より高くする副室給気手段と、
    を備えたことを特徴とする表面処理装置。
  2. 　前記被処理物が連続シート状であり、
    　前記搬送手段が、前記被処理物を掛け回す複数のガイドロールを含み、前記ガイドロールのうち第１のガイドロールが前記副室内に収容されていることを特徴とする請求項１に記載の表面処理装置。
  3. 　前記第１ガイドロールの直径が前記副室を画成する外壁と仕切壁との間の距離より大きく、前記第１ガイドロールの外周部が前記外壁の開口及び前記仕切壁の開口に入り込んでいることを特徴とする請求項２に記載の表面処理装置。
  4. 　前記第１ガイドロールの周面の周方向の一側部に前記被処理物が巻き付けられており、前記副室給気手段が、前記副室の前記一側部が面する室部分に開口する給気ポートを含むことを特徴とする請求項２又は３に記載の表面処理装置。
  5. 　前記複数のガイドロールのうち前記第１ガイドロールと隣接する第２のガイドロールが、前記処理槽の前記搬送方向の外側又は前記主室内に配置され、前記第１ガイドロールと前記第２ガイドロールとによって前記被処理物が前記開口を通過する位置が設定されていることを特徴とする請求項２～４の何れか１項に記載の表面処理装置。
  6. 　前記搬送手段が、前記処理槽より前記搬出側の外側に配置されて前記被処理物を巻き取る巻取ロールを更に含み、前記第２ガイドロールが、前記搬出側の外壁と前記巻取ロールとの間に配置されていることを特徴とする請求項５に記載の表面処理装置。
  7. 　前記主室の内圧が、前記処理槽の外部の圧力より１０Ｐａ～５０Ｐａ低く、前記副室の内圧が、前記処理槽の外部の圧力より５Ｐａ～２０Ｐａ高いことを特徴とする請求項１～６の何れか１項に記載の表面処理装置。
     
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