WO2011082872A1 - Optisches element mit einer mehrzahl von reflektiven facettenelementen - Google Patents

Optisches element mit einer mehrzahl von reflektiven facettenelementen Download PDF

Info

Publication number
WO2011082872A1
WO2011082872A1 PCT/EP2010/067520 EP2010067520W WO2011082872A1 WO 2011082872 A1 WO2011082872 A1 WO 2011082872A1 EP 2010067520 W EP2010067520 W EP 2010067520W WO 2011082872 A1 WO2011082872 A1 WO 2011082872A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
facet
optical element
reflective
illumination optics
reflective surface
Prior art date
Application number
PCT/EP2010/067520
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Marc Kirch
Martin Endres
Damian Fiolka
Joachim Hartjes
Original Assignee
Carl Zeiss Smt Gmbh
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Carl Zeiss Smt Gmbh filed Critical Carl Zeiss Smt Gmbh
Priority to JP2012543559A priority Critical patent/JP5732071B2/ja
Priority to KR1020127018764A priority patent/KR101418193B1/ko
Publication of WO2011082872A1 publication Critical patent/WO2011082872A1/de
Priority to US13/486,073 priority patent/US9063336B2/en

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/0816—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0927—Systems for changing the beam intensity distribution, e.g. Gaussian to top-hat
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0938—Using specific optical elements
    • G02B27/0977—Reflective elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/08—Mirrors
    • G02B5/09—Multifaceted or polygonal mirrors, e.g. polygonal scanning mirrors; Fresnel mirrors
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/18—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors
    • G02B7/182—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors for mirrors
    • G02B7/1822—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors for mirrors comprising means for aligning the optical axis
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058—Mask illumination systems
    • G03F7/70075—Homogenization of illumination intensity in the mask plane by using an integrator, e.g. fly's eye lens, facet mirror or glass rod, by using a diffusing optical element or by beam deflection
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058—Mask illumination systems
    • G03F7/70091—Illumination settings, i.e. intensity distribution in the pupil plane or angular distribution in the field plane; On-axis or off-axis settings, e.g. annular, dipole or quadrupole settings; Partial coherence control, i.e. sigma or numerical aperture [NA]
    • G03F7/70116—Off-axis setting using a programmable means, e.g. liquid crystal display [LCD], digital micromirror device [DMD] or pupil facets
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/08—Mirrors
    • G02B5/0891—Ultraviolet [UV] mirrors

Definitions

  • the present invention relates to an optical element for use in an illumination optical system of an EUV microlithography projection exposure apparatus having a plurality of reflective facet elements, an illumination optic for use in an EUV microlithography projection exposure apparatus, such
  • Microlithography projection exposure equipment is used to produce
  • a structure-supporting mask the so-called reticle
  • a light source unit and an illumination optical system the aid of a reticle
  • Projection optics imaged on a photosensitive layer It represents the
  • Light source unit radiation is provided, which is passed into the illumination optics.
  • the illumination optics serves to uniform illumination at the location of the structure-supporting mask with a predetermined angle-dependent
  • Illumination optics provided various suitable optical elements.
  • the thus-exposed structure-bearing mask is imaged onto a photosensitive layer with the aid of the projection optics.
  • the minimum structure width that can be imaged with the aid of such projection optics is determined inter alia by the wavelength of the radiation used.
  • the smaller the wavelength of the radiation the smaller the structures can be imaged using the projection optics.
  • imaging radiation having a wavelength in the region of 193 nm or imaging radiation in the region of extreme ultraviolet (EUV), i. in the range of 5nm to 15nm, used.
  • EUV extreme ultraviolet
  • Radiation with a wavelength in the range of 193 nm comes both refractive optical elements and reflective optical elements within the
  • Illumination optics and the projection optics are used.
  • imaging radiation with a wavelength in the range of 5 nm to 15 nm is used exclusively for reflective optical elements (mirrors).
  • Irradiation conditions on the structure-bearing mask as constant as possible.
  • both the intensity distribution of the incident radiation via the location on the mask and the angle-dependent intensity distribution at each location of the mask must satisfy given conditions on the structure-bearing mask.
  • various influences may change the intensity distribution and the angle-dependent intensity distributions on the structure-bearing mask during operation. This can e.g. be a heating of reflective optical elements, which then change their position or shape slightly.
  • the light source unit undergoes changes.
  • At least one facet element is rotatably arranged about a rotation axis, wherein the rotation axis intersects the at least one reflective surface of this facet element.
  • the optical element is configured such that the at least one facet element is only rotatable between two rotational end positions.
  • the facet element can be set precisely in exactly two positions.
  • Facet element rotatably arranged in a support element, wherein the support element and facet element each have end stops which define the rotational end positions.
  • the reflective surface of the at least one facet element has a normal vector whose direction determines the orientation of the reflective surface in space, and the angle between the normal vector and the axis of rotation is less than 20 °.
  • a normal vector to a reflective surface is defined as a vector of length 1, which is at the center of the surface perpendicular to the reflective surface.
  • the direction of the normal vector determines the orientation of the reflective surface in space. Due to the angle smaller than 20 °, the already mentioned advantage of the compact design is further enhanced.
  • Mechanical suspension and actuator for turning is typically arranged substantially along the axis of rotation. Therefore, at an angle between the normal vector and the axis of rotation which is less than 20 °, a large part of the required mechanical suspension and actuators can be mounted for rotation on the non-radiative side of the reflective surface so that a large number of facet elements according to the invention are packed close together can be without large distances of the reflective surfaces arise.
  • the reflective surface of the at least one facet element has a normal vector whose direction determines the orientation of the reflective surface in space, the angle between the normal vector and the axis of rotation being different from zero.
  • the angle is greater than 1 °, preferably greater than 1 °, particularly preferably greater than 2 °.
  • the optical element for use in an illumination optical system of an EUV microlithography projection exposure apparatus comprises a plurality of reflective facet elements, wherein at least one facet element has at least a first reflective surface and a second reflective surface and is arranged to be rotatable about a rotation axis.
  • the axis of rotation encloses a first angle with a first normal vector to the first optical surface and a second angle with a second normal vector to the second optical surface, wherein the first and the second angle differ by more than 1 °. This has the advantage that it can be determined by turning about the axis of rotation, whether the first or the second optical surface with radiation when using the optical element
  • the angle of reflection is understood to mean the angle between incident and reflected radiation.
  • the first and the second reflective surface have a different reflectivity, so that the incident radiation with
  • both the angles of the normal vectors to the rotation axis are different and the reflectivities of the two reflective surfaces, so that both a different reflection angle and a different intensity of the reflected radiation is achieved.
  • the at least one facet element is connected to an actuator for rotation about the axis of rotation. This can cause a rapid change in the rotational positions and it can be very flexible
  • An illumination optic for use in an EUV microlithography projection exposure apparatus comprising an optical element according to the invention has the same advantages as described with regard to the optical element.
  • illumination optics for use in an EUV microlithography projection exposure apparatus comprising an optical element having a plurality of reflective facet elements, wherein at least one facet element has at least a first reflective surface and a second Has reflective surface and is arranged rotatably about a rotation axis.
  • the optical element is designed such that during operation of the
  • Illumination optics in a first rotational position of the facet element only the first reflective surface is exposed to radiation and in a second rotational position, only the second reflective surface, but not both reflective surfaces simultaneously.
  • This has the advantage that it can be easily determined by rotation about the axis of rotation, if radiation is applied to the first or the second optical surface when the optical element is used.
  • the reflected radiation can be influenced in different ways.
  • the first reflective surface in the first rotational position has a first normal vector and the second reflective surface in the second rotational position has a second normal vector.
  • the angle between the first and the second normal vector is greater than 1 °, so that the incident radiation below
  • the first and the second reflective surface have a different reflectivity for the incident radiation. This allows a targeted slight attenuation of the radiation intensity of the reflected radiation by the reflective surface is brought with the lower reflectivity in a position in which it is exposed to radiation.
  • the illumination optics comprises a measuring system and a control system which is in signal communication with the measuring system and with an actuator for rotating the at least one facet element about the axis of rotation, so that the actuator can be actuated based on a signal of the measuring system.
  • the measuring system is for measuring a
  • an angle-dependent intensity distribution formed on the object field.
  • an angle-dependent intensity distribution is understood to mean a function that the
  • the direction of incidence can be parameterized by two angles of incidence.
  • Such an embodiment of the measuring system has the advantage that a measured variable is determined which directly influences the quality of the subsequent mapping.
  • the angle-dependent intensity distribution is in a simple relationship to the intensity distribution on the second optical element, since this is usually arranged in a pupil plane of the illumination optical system. The influence of a rotation of a facet element of the second optical element about the rotation axis on the angle-dependent intensity distribution can therefore be predicted particularly well, so that a correction of unwanted changes can be easily made.
  • a first optical element having at least a first and a second reflective facet element and a second optical element having at least a first and a second reflective facet element.
  • the second optical element is designed in such a way that at least one of the reflective facet elements of the second optical element can assume a first position, in which it during operation of the
  • Illumination optics one of the first reflective facet element of the first optical element emanating outgoing radiation beam in the direction of the object field, and a second position in which there during the operation of the illumination optics, emanating from the second reflective facet element of the first optical element, radiation beam in Direction to the object field directs.
  • the at least one reflective facet element of the second optical element is thus the first reflective facet element of the first optical element
  • Facet element of the first optical element Depending on the assignment, either a radiation beam emanating from the first reflective facet element of the first optical element is deflected by the at least one reflective facet element of the second optical element in the direction of the object field or a radiation beam from the second reflective facet element of the second optical element Element goes out.
  • the position of the at least one reflective facet element that is, by changing the assignment of the facet elements of the first optical element to the facet elements of the second optical element, a change in the intensity distribution over the object field and the angle-dependent intensity distribution at the location of the object field can thus be effected be, because depending on the position of different radiation beam on the
  • the first optical element is additionally embodied in such a way that at least one of the reflective facet elements of the first optical element can assume a first position in which radiation is irradiated to a first reflective surface during operation of the illumination optics
  • Facet element of the second optical element directs, and a second position in which it directs radiation to a second reflective facet element of the second optical element during operation of the illumination optical system.
  • Facet elements of the first optical element and the facet elements of the second optical element can reach the object field in different ways in the illumination optical system. This achieves a very flexible adaptation of the angle-dependent intensity distribution at the location of the object field, since the same radiation beam reaches the object field from a first direction during a first adjustment of the facet elements and the object field from a second direction at a second adjustment of the facet elements. In this way, changes in the angle-dependent intensity distribution at the location of the object field, which occur for example due to contamination of optical elements during operation, can be at least partially corrected.
  • the second optical element is embodied such that at least one of the reflective facet elements of the second optical element can assume a third position in addition to the described first and second position, in which there is no radiation beam in the direction of the
  • the illumination optics for illuminating an object field in an object plane comprises a first optical element with at least one first reflective facet element and a second optical element with at least one first reflective facet element.
  • the second optical element is designed such that at least one of the reflective
  • Facettenium of the second optical element can assume a first position in which it during the operation of the illumination optics emanating from the first reflective facet element of the first optical element
  • Intensity distribution at the location of the object field are at least partially corrected. This is achieved in that, in one position, the normal vector of the reflective surface of the at least one reflective facet element of the second optical element is oriented in such a way that a beam which strikes the reflective surface is not reflected in the direction of the object field but, for example, in the direction on a panel or on a housing of the illumination optics. The beam is thus shaded and does not reach the object field.
  • By simply changing the position of a facet element can thus be selectively shadowed a beam. Since it does not depend on the precise direction of the reflected beam at this position and thus does not depend on the precise direction of the normal vector, such a position can be easily realized.
  • a microlithography projection exposure apparatus comprising a last one
  • angle-dependent intensity distribution of radiation at the location of an object field provided, wherein the angle-dependent intensity distribution was generated by means of a prescribed illumination optics.
  • Illumination optics strikes radiation on the optical element according to the invention during operation, so that after the reflection at the plurality of reflective
  • Facet elements results in a plurality of radiation beams. Go berserk the at least one facet element about the axis of rotation changes for at least one radiation beam either the reflection angle or the intensity or both. This has the advantage that a flexible change of the angle-dependent intensity distribution can be achieved by simply rotating the facet element.
  • Facet element can be corrected.
  • FIG. 1 shows two partial images of an embodiment of a reflective one
  • Facet element In two rotational positions.
  • FIG. 2 shows a section through the reflective facet element according to FIG. 1.
  • FIG. 3 a shows a projection exposure apparatus according to the invention with a
  • FIG. 3b shows a plan view of the first optical element.
  • FIG. 3c shows a plan view of the second optical element
  • FIGS. 4a and 4b show schematically the mode of operation of the optical element according to the invention as a second optical element in the illumination optical unit according to FIG. 3a
  • FIG. 5 shows an embodiment for a mechanical mounting technique of a rotatably mounted facet element with an actuator.
  • FIG. 6 shows an embodiment of a reflective facet element with a plurality of reflective surfaces.
  • FIG. 7 shows a second embodiment of a reflective facet element having a plurality of reflective surfaces.
  • Figure 8a shows a development of the embodiment of FIG. 7, in which a
  • Figure 8b shows a plan view of an optical element having a plurality of
  • the reference numerals are chosen such that objects shown in FIG. 1 have been provided with single-digit or two-digit numbers.
  • the objects shown in the other figures have reference numerals which are three or more digits, the last two digits indicating the object and the leading digit the number of the figure on which the object is shown.
  • the reference numerals of the same objects shown in several figures agree in the last two digits. If necessary, the description of these objects can be found in the text
  • FIG. 1 shows a reflective facet element 1, which is rotatably arranged in a carrier element 3.
  • the reflective facet element 1 has a reflective surface 5 with a normal vector 7 whose direction determines the orientation of the reflective surface 5 in space.
  • the reflective facet element 1 is rotatably arranged about the axis of rotation 9.
  • the axis of rotation 9 intersects the reflective surface 5 on the one hand and, on the other hand, includes an angle 1 1 different from 0 ° with the normal vector 7.
  • This configuration makes it possible to change the direction of the normal vector 7 by rotating the reflective facet element 1 about the rotation axis 9.
  • the feature that the rotation axis 9 intersects the reflective surface 5 has the advantage that the required mechanical suspension and actuators for
  • the normal vector 7 describes a cone whose opening angle is twice as large as the angle 1 1 between the axis of rotation 9 and the normal vector 7.
  • the tip of the cone lies on
  • Figure 1 shows the reflective facet element 1 in a first rotational position 13 and in a second rotational position 15.
  • the two rotational positions 13 and 15 differ in this case by a rotation of 180 °.
  • This results in that the angle between the normal vector 7 in the first rotational position 13 and the normal vector 7 in the second rotational position 15 is twice as large as the angle 1 1 between the rotational axis 9 and the normal vector 7. This occurs whenever the axis of rotation 9 is parallel to the sum of the normal vectors 7 in the two rotational positions.
  • the angle 1 1 between the rotation axis and the normal vector 7 must be greater than 1 °.
  • An angle greater than 2 ° is advantageous in order to ensure by the rotation of a sufficient change in the reflection angle of an incident radiation beam as explained with reference to Figure 4a and Figure 4b.
  • the reflective facet element 1 has a cam 17, which is arranged on the reflective facet element 1 such that it changes its position when the reflective facet element 1 rotates about the axis of rotation 9.
  • the support member 3 has stop surfaces 19 which limit the movement of the cam 17 during rotation about the axis of rotation 9. In this way, the facet element 1 can not assume any rotational position, but is only rotatable between two rotational end positions.
  • the rotational end positions are defined by the mechanical arrangement of the cam 17 and the stop surface 19, which are referred to as end stops.
  • a section through the reflective facet element 1 in the carrier element 3 is shown in FIG. The cut was in the area of the cam 17 and the stop surfaces 19th taken along the dashed line 21 of Figure 1. Shown is the first rotational position 13 of Figure 1.
  • the cam 217 rests directly against the abutment surface 219a, so that the reflective facet element 201 only in the clockwise direction
  • the abutment surface 219a together with the cam 217, defines a second rotational end position with respect to counterclockwise rotations. Since the end stops (cams 217, stop surfaces 219a, 219b) can be manufactured very precisely mechanically, the rotational end positions can be specified very precisely. Thus, the direction of the normal vector 7 (FIG. 1) is also defined very precisely when the reflective facet element 1 is in a rotational end position. The facet element can also be stopped in addition between the rotational end positions in order to realize a further, third position. This is particularly advantageous if the third position is to achieve shadowing of an impinging beam.
  • such a third position between two rotational end positions can not be set as precisely as one of the two rotational end positions. However, this is not necessary since it is sufficient for shadowing an impinging beam when the radiation beam is reflected in any direction, as long as it is not reflected in the direction of the object field.
  • the two rotational end positions differ by a rotation about the axis of rotation by an angle of 180 °.
  • Other angles of rotation than 180 ° can also be achieved by suitable mechanical design of the cam 217 and the abutment surfaces 219a and 219b.
  • End stops are optional. A version without end stops is also possible.
  • Figure 3a shows an embodiment of an inventive
  • Projection exposure system 323 with an illumination optics 325 The
  • Illumination optics 325 comprises a first optical element 327 having a plurality of first reflective facet elements 329 and a second optical element 331 having a plurality of second reflective facet elements 333.
  • first telescope mirror 335 and a second telescope mirror 337 are operated under normal incidence, ie the radiation impinges at an angle of incidence between 0 ° and 45 ° on both mirrors.
  • the angle of incidence is understood to mean the angle between incident radiation and the normal to the reflective surface.
  • a deflection mirror 339 which directs the radiation impinging on the object field 341 in the object plane 343.
  • Deflection mirror 339 operates under grazing incidence, i. The radiation hits the mirror at an angle of incidence between 45 ° and 90 °.
  • a reflective structure-carrying mask is arranged, which, with the aid of the projection optics 345 in the
  • the projection optics 345 comprises six mirrors 349, 351, 353, 355, 357 and 359. All six mirrors of the projection optics 345 each have a reflective surface which extends along one about the optical axis 360
  • FIG. 3b shows a plan view of the first optical element 327, which comprises a plurality of first reflective facet elements 329.
  • FIG. 3c shows a corresponding plan view of the second optical element 331 with a plurality of second reflective facet elements 333.
  • the number of the first facet elements 329 can be the same as the number of the second
  • Facet elements 331 may also be greater or smaller than the number of the second facet elements 331.
  • the microlithography projection exposure apparatus further comprises a light source unit 361, which directs radiation onto the first optical element 327.
  • the light source unit 361 in this case comprises a source plasma 365 and a collector mirror 363.
  • the light source unit 361 may be formed in various embodiments. It may be a laser plasma source (LPP) in which a narrow source plasma 365 is generated by irradiating a small droplet of material with a high energy laser. Alternatively it can be a laser plasma source (LPP) in which a narrow source plasma 365 is generated by irradiating a small droplet of material with a high energy laser. Alternatively it can be a laser plasma source (LPP) in which a narrow source plasma 365 is generated by irradiating a small droplet of material with a high energy laser. Alternatively it can be a laser plasma source (LPP) in which a narrow source plasma 365 is generated by irradiating a small droplet of material with a high energy laser. Alternatively it can be a
  • Discharge source in which the source plasma 365 is generated by means of a discharge.
  • a luminous source plasma 365 occurs, which emits radiation, in particular in the wavelength range 5 nm -15 nm.
  • This radiation is collected by means of the collector mirror 363 and directed to the first optical element 327.
  • the collector mirror 363 and the first facet elements 329 have such an optical effect that images of the source plasma 365 result at the locations of the facet elements 333 of the second optical element 331.
  • the focal length of the collector mirror 363 and the first facet elements 329 are selected according to the spatial distances. This happens, for example, in that the reflective surfaces of the first reflective facet elements 329 are provided with suitable curvatures.
  • the first ones are selected according to the spatial distances. This happens, for example, in that the reflective surfaces of the first reflective facet elements 329 are provided with suitable curvatures.
  • the first ones are selected according to the spatial distances. This happens, for example, in that the reflective surfaces of the first reflective facet elements 3
  • Facet elements 329 have a reflective surface with a normal vector whose direction determines the orientation of the reflective surface in space, wherein the
  • Normal vectors of the reflective surfaces of the first facet elements 329 are oriented such that the radiation reflected by a first facet element 329 impinges on a specially assigned second facet element 333.
  • This association between first facet elements 329 and second facet elements 333 makes it possible to adapt the intensity distribution of the radiation on the second optical element 331.
  • the light source unit 361 does not generate a uniform intensity distribution on the first optical element 327 to be first
  • first facet elements There are facet elements that are irradiated with higher intensity radiation than other first facet elements.
  • the intensity distribution on the second optical element 331 can be determined by the choice of the orientations of the reflective surfaces first facet elements 329 are set.
  • the intensity distribution on the second optical element 331 is of particular importance, since the second optical element is arranged in a pupil plane of the illumination optical system 325 and thus in a plane which is optically conjugate to the entrance pupil plane of the projection optical system 345. For this reason, the intensity distribution of the radiation on the second optical element 331 is simply related to the angle-dependent intensity distribution of the radiation in the region of the object field 341 and leads to significant influences on the quality of the image by the projection optics 345. Therefore, the orientations of the reflective surfaces become the first facet elements 329 set so that a desired intensity distribution on the second optical element 331 results. Larger changes in the intensity distribution on the first optical element 327, however, lead to changes in the
  • Intensity distribution on the second optical element 331 For example, contamination of the collector 363 during operation results in significant changes in the intensity distribution on the first optical element 327. This also changes the intensity distribution on the second optical element 331 and deviates from the desired intensity distribution. This change can be measured according to the invention during operation by the angle-dependent
  • Intensity distribution of the radiation for example, in the edge region of the object field 341 is measured.
  • a measuring system 342 is arranged near the object field 341.
  • Such measuring systems are known from DE 10 2007 061 194 A1.
  • Measurement system 342 is in signal communication with a control system 344. Furthermore, the control system is in signal communication with at least one actuator 332 which is connected to at least one first facet element 329. In addition, the control system 344 is in signal communication with another actuator 334 connected to at least one second facet element 333. Based on the measurement of the measuring system, the control system 344 generates a control signal with which at least one actuator 334 is driven to rotate a second facet element 333. Furthermore, the control system generates a second control signal with which at least one actuator 332 is actuated for changing the orientation of the reflective surface of a first facet element 329. In this case, the first facet elements 329 are designed such that at least a part of the
  • Facet elements 329 has a reflective surface with a normal vector whose direction in space by means of a connected actuator 332 can be changed.
  • the first facet elements 329 are rotatable or tiltable about one or more axes.
  • Corresponding facet elements are e.g. known from US2005 / 0174650 A1. As a result, that of the reflective
  • Facet elements 329 reflected radiation are directed not only to a single predetermined second facet element 333, but alternatively to different second facet elements 333, so that the intensity distribution on the second optical element 331 and thus the angle-dependent intensity distribution of
  • Deviation of the intensity distribution on the second optical element 331 are at least partially corrected by a desired intensity distribution, because the illumination optics is formed such that the assignment of the first Facet elements 329 to second facet elements 333 can be easily changed.
  • the first facet elements 329 become
  • superimposing images means that images of the first reflective ones
  • Facet elements 329 arise in the object plane and overlap there at least partially.
  • the second facet elements have a reflective surface with a normal vector whose direction determines the orientation of the reflective surface in space.
  • the direction of the normal vector is selected such that the first facet element 329 assigned to it is imaged onto the object field 341 in the object plane 343. This results in the object level thus a superposition of all images of the first facet elements 329.
  • the orientation of the corresponding second facet elements 333 must be adjusted so that the images the corresponding first facet elements 329 still arise at the location of the object field 341.
  • the second facet elements 333 are formed in accordance with FIG.
  • the shape of the illuminated object field 341 corresponds to the outer shape of the first facet elements 329.
  • the outer shape of the first facet elements 329 is therefore usually chosen to be arcuate such that the long boundary lines of the illuminated object field 341 in FIG Essentially circular arc around the optical axis 360 of the projection optics 345 run.
  • Figures 4a and 4b show schematically the use of the optical element according to the invention as a second optical element 431 in the illumination optical system. Shown is a section of the second optical element 431 with a total of five second facet elements 433. Also shown is a plan view of the first optical element 427 with the first facet elements 429 and the object field 441. The exact functioning is exemplified by the specific first
  • Facet elements 467a and 467b and the special second facet elements 469a or 469b explained.
  • the reflective optical surface of the first facet element 467 a is oriented in such a way that the radiation (not shown) impinging on the first facet element 467 a from the light source unit is reflected toward the second facet element 469 b.
  • the second facet element 469b is in a first rotational position, so that the reflective surface is oriented in such a way that a reflected radiation beam is directed in the direction of the object field 441.
  • the illustration of additional optical components such as the mirrors 335, 337 and 339 of FIG. 3a has been omitted in this schematic illustration.
  • the optical surface of the first facet element 467b is directed to yield a radiation beam directed to the second facet element 469a.
  • the second facet element 469a is also located in a first rotational position, so that the optical surface of the second facet element 469a is directed so that the incident radiation beam is reflected in the direction of the object field 441.
  • the optical surface of the first facet element 467a is oriented so as to produce a radiation beam which is directed onto the second facet element 469a.
  • the incident radiation on the second facet element 469a accordingly has a different direction in the state according to FIG. 4b than in the state according to FIG. 4a.
  • Object field 441 reflects, but meets for example on a panel or on a housing of the illumination optics. The beam is thus shaded in this position.
  • Facet element 469a to be adapted appropriately. This was the second
  • Facet member 469b in a second rotational position in which the optical surface of the second facet element 469b is oriented so that a radiation beam, this time starting from the first facet element 467b, is reflected in the direction of the object field 441. Accordingly, there is a second reflection angle, which differs from the first reflection angle.
  • 500 first facet elements 429 and also 500 second facet elements 433, 250 pairs can be formed from respectively two first and two second facet elements, which are associated with each other as described above. Each of these 250 pairs can assume two states according to FIGS. 4a and 4b, so that there are a total of 2 250 possible assignments of the 500 first facet elements to the 500 second facet elements that can be set by simple switching.
  • FIG. 4c shows a section of the second optical element 431 in a further embodiment. Shown are five second facet elements 401, whose axes of rotation 409 have different directions. Depending on the desired
  • FIG. 5 shows, by way of example, an embodiment of a mechanical mounting technique with which a facet element according to the invention can be rotatably supported about a rotation axis, wherein the rotation axis intersects the reflective surface.
  • Facet element 501 is arranged in a carrier element 503.
  • the axis of rotation 509 is at an angle to the surface 570 of the carrier element 503, which is different from 90 °.
  • a hard metal ring 571 for fixing the position of the facet element 501 with respect to the carrier element 503.
  • the carbide ring 571 simultaneously enables a fixation of the position and rotation about the axis of rotation 509, since the rotational degree of freedom about the axis of rotation 509 not is restricted.
  • a carbide ring 571 for example, the use of a Teflon ring is possible.
  • the facet member 501 has a shaft 573 extending away from the reflective surface 505 along the axis of rotation 509. At the end of the shaft 573, the optical element 501 is connected to a mechanical compensation element 575.
  • the shaft has an internal thread 579 and the mechanical compensation element has a corresponding threaded bolt 581.
  • mechanical compensation element 575 is offset, 575 suitable conical joining surfaces 583 are arranged both on the shaft 573 and on the mechanical compensation element.
  • the mechanical compensation element 575 is connected via screws 585 to the drive shaft 587 of a motor 589, which serves as an actuator for rotating the mechanical compensation element 575 and thus also the connected facet element 501 about an axis of rotation 509.
  • the rotational position can be determined and monitored, for example with an incremental encoder (not shown).
  • a spring system of a plurality of combined disc springs 591 is arranged, which generate the necessary contact pressure with which the optical element 501 is pressed against the hard metal ring 571.
  • the combination of several disc springs 591 has the advantage that the strength of the spring force can be set very accurately.
  • FIG. 6 shows an embodiment of a reflective facet element 601 having a plurality of reflective surfaces 605 in a first rotational position.
  • the facet element 601 has, by way of example, six reflective optical surfaces 605.
  • the reflective optical surfaces 605 of the facet element 601 are arranged with respect to an axis of rotation 609 such that in a first rotational position, a first reflective surface 693 is located at an active position in which
  • Radiation beam 695 hits the reflective surface 693, and in a second
  • Rotary position a second reflective surface 694 at an active position in which a radiation beam 695 on the second reflective surface 694 hits. Shown in the figure, only the first rotational position.
  • the second rotational position is obtained by rotating about the axis of rotation 609 by an angle of approximately 60 °, so that the second reflective surface 694 comes to rest on the preceding location of the first reflective surface 693.
  • incident radiation beam 695 is reflected by the first reflective surface 693 in the first rotational position and by the second reflective surface 694 in the second rotational position.
  • the reflective surface 693 has a normal vector which encloses a first angle with the axis of rotation 609.
  • the second optical surface 694 includes, with the axis of rotation 609, a second angle that differs from the first angle by more than 1 °.
  • the normal vector to the first reflective surface 693 in the first rotational position of the facet element differs from the normal vector of the second reflective surface 694 in the second rotational position of the facet element by an angle that is greater than 1 °. In both cases, it follows that the radiation beam 695 is reflected at different reflection angles, as the case may be
  • the facet element 601 is currently located. This is because, depending on the rotational position, the radiation beam falls on another reflective surface 605 with a different orientation. Alternatively, the reflective surfaces 605 may differ only in their reflectivity. This has the consequence that the reflected radiation beam 695 has different intensities, depending on the rotational position in which the facet element 601 is located. Combinations of these two embodiments are also possible, ie that facet element 601 can eg also be designed so that two of the reflective optical surfaces 605 differ in their normal vectors and in their reflectivity.
  • FIG. 7 shows an embodiment for a facet element 701 with two reflective surfaces 793 and 794, wherein the restriction to two reflective surfaces serves only for better illustration. Designs with additional reflective surfaces are also possible.
  • the first optical surface 793 is in an active position in which the radiation beam 795 is incident on the optical surface 793.
  • the second optical surface 794 is in the active position, in which the radiation beam 795 falls on the optical surface 794.
  • the facet element 701 is configured such that the normal vector 707a to the optical surface 793 in the first rotational position differs from the direction of the normal vector 707b of the second optical surface in the second rotational position. For this reason, depending on the rotational position, the
  • Radiation beam 795 reflected at a different angle of reflection may differ in their reflectivity, so that the reflected radiation beam 695 has different intensities depending on the rotational position
  • FIG. 8 a shows an embodiment in which a group of facet elements 801 are connected to one another and are rotatably mounted about a common axis of rotation 809.
  • Each of the facet elements 801 has a plurality of reflective surfaces 805.
  • Each one of the facet elements 801 is designed according to the embodiment of FIG.
  • Facet elements 801 and the rotation about a common axis of rotation 809 is achieved, that a larger number of facet elements 801 can be changed with only one motor in the rotational position.
  • FIG. 8b shows a plan view of an optical element having a plurality of reflective facet elements 801, which are connected in groups according to the embodiment according to FIG. 8a. This results in a two-dimensional arrangement of facet elements in rows, wherein all facet elements 801 of the same row can only change their rotational position together.
  • Embodiments according to FIGS. 8a and 8b can be a cooling of the rotatable ones Facet elements are achieved by cooling channels that run along the axis of rotation through the center of the facet elements.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)

Abstract

Die vorliegende Erfindung betrifft ein optisches Element zur Verwendung in einer Beleuchtungsoptik einer EUV Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage umfassend eine Mehrzahl von reflektiven Facettenelementen (1) mit jeweils mindestens einer reflektiven Fläche (5). Dabei ist mindestens ein Facettenelement drehbar (1) um eine Drehachse (9) angeordnet, wobei die Drehachse (9) die mindestens eine reflektive Fläche (5) dieses Facettenelementes (1) schneidet. Mit Hilfe eines solchen optischen Elements kann auf einfache Weise die Richtung und/oder die Intensität zumindest eines Teils der Beleuchtungsstrahlung innerhalb der Beleuchtungsoptik verändert werden.

Description

Optisches Element mit einer Mehrzahl von reflektiven Facettenelementen Beschreibung:
Die vorliegende Erfindung betrifft ein optisches Element zur Verwendung in einer Beleuchtungsoptik einer EUV Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage mit einer Mehrzahl von reflektiven Facettenelementen, eine Beleuchtungsoptik zur Verwendung in einer EUV Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage, eine derartige
Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage und ein Verfahren zur Veränderung einer Beleuchtungsverteilung erzeugt mit Hilfe einer erfindungsgemäßen
Beleuchtungsoptik.
Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlagen dienen zur Herstellung von
mikrostrukturierten Bauelementen mittels eines photolithographischen Verfahrens. Dabei wird eine strukturtragende Maske, das sogenannte Retikel, mit Hilfe einer Lichtquelleneinheit und einer Beleuchtungsoptik beleuchtet und mit Hilfe einer
Projektionsoptik auf eine photosensitive Schicht abgebildet. Dabei stellt die
Lichtquelleneinheit eine Strahlung zur Verfügung, die in die Beleuchtungsoptik geleitet wird. Die Beleuchtungsoptik dient dazu, am Ort der strukturtragenden Maske eine gleichmäßige Ausleuchtung mit einer vorbestimmten winkelabhängigen
Intensitätsverteilung zur Verfügung zu stellen. Hierzu sind innerhalb der
Beleuchtungsoptik verschiedene geeignete optische Elemente vorgesehen. Die so ausgeleuchtete strukturtragende Maske wird mit Hilfe der Projektionsoptik auf eine photosensitive Schicht abgebildet. Dabei wird die minimale Strukturbreite, die mit Hilfe einer solchen Projektionsoptik abgebildet werden kann, unter anderem durch die Wellenlänge der verwendeten Strahlung bestimmt. Je kleiner die Wellenlänge der Strahlung ist, desto kleinere Strukturen können mit Hilfe der Projektionsoptik abgebildet werden. Hierbei wird hauptsächlich Abbildungsstrahlung mit einer Wellenlänge im Bereich von 193nm oder Abbildungsstrahlung im Bereich des extremen Ultravioletts (EUV), d.h. im Bereich von 5nm bis 15nm, verwendet. Bei der Verwendung von
Strahlung mit einer Wellenlänge im Bereich von 193nm kommen sowohl refraktive optische Elemente als auch reflektive optische Elemente innerhalb der
Beleuchtungsoptik und der Projektionsoptik zum Einsatz. Bei Verwendung von Abbildungsstrahlung mit einer Wellenlänge im Bereich von 5nm bis 15nm werden dagegen ausschließlich reflektive optische Elemente (Spiegel) verwendet.
Bei einer Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage ist es erforderlich, dass während des ganzen Betriebes an der photosensitiven Schicht gleichbleibende
Einstrahlungsbedingungen vorliegen. Nur so können mikrostrukturierte Bauelemente mit gleichbleibender Qualität hergestellt werden. Daher müssen auch die
Einstrahlungsbedingungen an der strukturtragenden Maske möglichst gleichbleibend sein. Dabei müssen an der strukturtragenden Maske sowohl die Intensitätsverteilung der einfallenden Strahlung über den Ort auf der Maske als auch die winkelabhängige Intensitätsverteilung an jedem Ort der Maske vorgegebenen Bedingungen genügen. Verschiedene Einflüsse können während des Betriebs jedoch die Intensitätsverteilung und die winkelabhängige Intensitätsverteilungen an der strukturtragenden Maske verändern. Dies kann z.B. eine Erwärmung von reflektiven optischen Elementen sein, die daraufhin ihre Position oder Form geringfügig ändern. Weiterhin ist es möglich, dass die Lichtquelleneinheit Veränderungen erfährt. Hier kommen z.B.
Positionsveränderungen des Quellplasmas, von dem die Strahlung erzeugt wird, in Bezug auf einen Kollektor in Betracht. Weiterhin können z.B. auch Kontaminationen dazu führen, dass sich die Reflektivität einzelner oder aller optischen Elemente der Lichtquelleneinheit oder der Beleuchtungsoptik verändert. Alle diese Einflüsse führen zu einer Veränderung der Strahlungsverteilungen an der strukturtragenden Maske. Aus diesem Grund ist es erforderlich, die Beleuchtungsoptik derart auszubilden, dass diese auf einfache Weise umkonfiguriert werden kann, um auf solche beschriebenen
Systemveränderungen zu reagieren.
Es ist demnach die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein optisches Element zur Verwendung in einer Beleuchtungsoptik einer EUV Mikrolithographie- Projektionsbelichtungsanlage zur Verfügung zu stellen, mit dem auf einfache Weise die Richtung und/oder die Intensität zumindest eines Teils der Beleuchtungsstrahlung innerhalb der Beleuchtungsoptik verändert werden kann. Ferner ist es die Aufgabe der vorliegenden Erfindung eine entsprechende Beleuchtungsoptik bzw. eine entsprechend weitergebildete Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage zur Verfügung zu stellen. Weiterhin ist es Aufgabe ein Verfahren bereitzustellen, mit dem auf einfache Weise die Richtung und/oder die Intensität zumindest eines Teils der Beleuchtungsstrahlung innerhalb der Beleuchtungsoptik verändert werden kann.
Diese Aufgabe wird gelöst durch ein optisches Element zur Verwendung in einer Beleuchtungsoptik einer EUV Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage
umfassend eine Mehrzahl von reflektiven Facettenelementen mit jeweils mindestens einer reflektiven Fläche. Dabei ist mindestens ein Facettenelement drehbar um eine Drehachse angeordnet, wobei die Drehachse die mindestens eine reflektive Fläche dieses Facettenelementes schneidet. Dies hat den Vorteil, dass die erforderliche mechanische Aufhängung und Aktuatorik zum Drehen auf der strahlungsabgewandten Seite der reflektiven Fläche angebracht werden kann. Hierdurch wird eine sehr kompakte Bauform erreicht, die es ermöglicht eine große Zahl erfindungsgemäßer Facettenelemente dicht gepackt nebeneinander anzuordnen, so dass die reflektiven Flächen der einzelnen Facettenelemente einen geringen Abstand zueinander haben.
In einer Ausführungsform ist das optische Element derart ausgestaltet, dass das mindestens eine Facettenelement lediglich zwischen zwei Drehendstellungen drehbar ist. Für viele Anwendungen ist es ausreichend, wenn das Facettenelement in genau zwei Stellungen präzise eingestellt werden kann. Bei einem solchen Fall ist es vorteilhaft, wenn das Facettenelement lediglich zwischen zwei Drehendstellungen drehbar ist, da es genügt, die Drehendstellungen präzise mechanisch festzulegen und darauf verzichtet werden kann, alle möglichen Drehstellungen mit der gleichen
Genauigkeit einstellen zu können. Hierdurch wird die mechanische Realisierung vereinfacht, da zum Beispiel auf einen hochpräzisen Stellmotor verzichtet werden kann. Stattdessen wird die Präzision durch die statischen Drehendstellungen vorgegeben.
In einem Spezialfall für eine derartige Ausführungsform ist das mindestens eine
Facettenelement in einem Trägerelement drehbar angeordnet, wobei Trägerelement und Facettenelement jeweils Endanschläge aufweisen, welche die Drehendstellungen definieren. Dies hat den Vorteil, dass auf einfache Weise durch mechanisch leicht herzustellende hochpräzise Endanschläge eine ausreichende Präzision der
Drehendstellungen erreicht wird. In einer weiteren Ausgestaltung des optischen Elements weist die reflektive Fläche des mindestens einen Facettenelementes einen Normalenvektor auf, dessen Richtung die Orientierung der reflektiven Fläche im Raum festlegt, und der Winkel zwischen dem Normalenvektor und der Drehachse kleiner ist als 20°.
Ein Normalenvektor zu einer reflektiven Fläche ist definiert als ein Vektor der Länge 1 , der im Mittelpunkt der Fläche senkrecht auf der reflektiven Fläche steht. Damit legt die Richtung des Normalenvektors die Orientierung der reflektiven Fläche im Raum fest. Durch den Winkel kleiner als 20° wird der bereits erwähnte Vorteil der kompakten Bauform noch verstärkt. Mechanische Aufhängung und Aktuatorik zum Drehen ist typischerweise im Wesentlichen entlang der Drehachse angeordnet. Bei einem Winkel zwischen dem Normalenvektor und der Drehachse, der kleiner ist als 20°, kann daher ein großer Teil der erforderlichen mechanische Aufhängung und Aktuatorik zum Drehen auf der strahlungsabgewandten Seite der reflektiven Fläche angebracht werden, so dass eine große Zahl erfindungsgemäßer Facettenelemente dicht nebeneinander gepackt werden können, ohne dass sich große Abstände der reflektiven Flächen ergeben.
In einer Ausgestaltung des optischen Elements weist die reflektive Fläche des mindestens einen Facettenelementes einen Normalenvektor auf, dessen Richtung die Orientierung der reflektiven Fläche im Raum festlegt, wobei der Winkel zwischen dem Normalenvektor und der Drehachse von Null verschieden ist. Insbesondere ist der Winkel größer als 1 °, bevorzugt größer als 1 °, besonders bevorzugt größer als 2°. Dies hat den Vorteil, dass durch Drehen des Facettenelementes um die Drehachse, die Richtung des Normalenvektors und damit die Orientierung der reflektiven Fläche verändert werden kann. Die Veränderung ist umso größer je größer der Winkel zwischen Drehachse und Normalenvektor ist.
Bei einer weiteren Ausgestaltung umfasst das optisches Element zur Verwendung in einer Beleuchtungsoptik einer EUV Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage eine Mehrzahl von reflektiven Facettenelementen, wobei mindestens ein Facettenelement zumindest eine erste reflektive Fläche und eine zweite reflektive Fläche aufweist und um eine Drehachse drehbar angeordnet ist. Ein solches Element ermöglicht durch Drehen um die Drehachse unterschiedliche reflektive Flächen in einen Strahlengang zu bringen. In einer vorteilhaften Weiterbildung schließt dabei die Drehachse mit einem ersten Normalenvektor zur ersten optischen Fläche einen ersten Winkel ein und mit einem zweiten Normalenvektor zur zweiten optischen Fläche einen zweiten Winkel, wobei der erste und der zweite Winkel sich um mehr als 1 ° unterscheiden. Dies hat den Vorteil, dass durch Drehen um die Drehachse festgelegt werden kann, ob beim Einsatz des optischen Elementes die erste oder die zweite optische Fläche mit Strahlung
beaufschlagt wird. Dadurch, dass die Normalenvektoren der beiden reflektiven Flächen unterschiedliche Winkel mit der Drehachse einschließen, wird erreicht, dass die auftreffende Strahlung unter unterschiedlichen Reflektionswinkel reflektiert wird je nachdem, auf weiche der beiden Flächen sie trifft. Unter dem Reflektionswinkel wird dabei der Winkel zwischen einfallender und reflektierter Strahlung verstanden.
Alternativ oder ergänzend weisen die erste und die zweite reflektive Fläche eine unterschiedliche Reflektivität auf, so dass die auftreffende Strahlung mit
unterschiedlicher Intensität reflektiert wird je nachdem, auf weiche der beiden Flächen sie trifft.
In einer weiteren Variante sind sowohl die Winkel der Normalenvektoren zur Drehachse unterschiedlich als auch die Reflektivitäten der beiden reflektiven Flächen, so dass sowohl ein unterschiedlicher Reflektionswinkel als auch eine unterschiedliche Intensität der reflektierten Strahlung erreicht wird.
In einer weitergebildeten Ausführungsform ist das mindestens eine Facettenelement mit einem Aktuator zur Drehung um die Drehachse verbunden. Hierdurch lässt sich eine schnelle Änderung der Drehstellungen bewirken und es kann sehr flexibel auf
Änderungen in der Lichtquelleneinheit oder der Beleuchtungsoptik reagiert werden.
Eine Beleuchtungsoptik zur Verwendung in einer EUV Mikrolithographie- Projektionsbelichtungsanlage umfassend ein erfindungsgemäßes optisches Element hat die gleichen Vorteile, die im Hinblick auf das optische Element beschrieben wurden.
Die erfindungsgemäße Aufgabe wird ebenfalls gelöst durch eine Beleuchtungsoptik zur Verwendung in einer EUV Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage umfassend ein optisches Element mit einer Mehrzahl von reflektiven Facettenelementen, wobei mindestens ein Facettenelement zumindest eine erste reflektive Fläche und eine zweite reflektive Fläche aufweist und um eine Drehachse drehbar angeordnet ist. Hierbei ist das optische Element derart ausgebildet, dass während des Betriebs der
Beleuchtungsoptik in einer ersten Drehstellung des Facettenelementes nur die erste reflektive Fläche mit Strahlung beaufschlagt wird und in einer zweiten Drehstellung nur die zweite reflektive Fläche, jedoch nicht beide reflektiven Flächen gleichzeitig. Dies hat den Vorteil, dass durch Drehen um die Drehachse einfach festgelegt werden kann, ob beim Einsatz des optischen Elementes die erste oder die zweite optische Fläche mit Strahlung beaufschlagt wird. Je nach den Eigenschaften der beiden reflektiven Flächen kann die reflektierte Strahlung auf unterschiedliche Weise beeinflusst werden.
In einer Weiterbildung weist die erste reflektive Fläche in der ersten Drehstellung einen ersten Normalenvektor auf und die zweite reflektive Fläche in der zweiten Drehstellung einen zweiten Normalenvektor. Dabei ist Winkel zwischen dem ersten und dem zweiten Normalevektor größer als 1 °, so dass die auftreffende Strahlung unter
unterschiedlichen Reflektionswinkel reflektiert wird je nachdem, auf weiche der beiden Flächen sie trifft.
Bei einer alternativen oder ergänzenden Weiterbildung weisen die die erste und die zweite reflektive Fläche eine unterschiedliche Reflektivität für die einfallende Strahlung auf. Dies ermöglicht ein gezieltes leichtes Abschwächen der Strahlungsintensität der reflektierten Strahlung, indem die reflektive Fläche mit der geringeren Reflektivität in eine Position gebracht wird, in der sie mit Strahlung beaufschlagt wird.
In einer vorteilhaften Weiterbildung umfasst die Beleuchtungsoptik ein Messsystem und ein Steuersystem, das mit dem Messsystem und mit einem Aktuator zur Drehung des mindestens einen Facettenelements um die Drehachse in Signalverbindung steht, so dass der Aktuator beruhend auf einem Signal des Messsystems angesteuert werden kann. Hierdurch kann gezielt und schnell auf Änderungen, die vom Messsystem registriert werden, reagiert werden, so dass die Beleuchtungsoptik nicht bzw. nicht lange außer Betrieb genommen werden muss. Sobald die vom Messsystem an das Steuersystem gelieferten Informationen auf eine nicht zu tolerierende Änderung hinweisen, kann ein Steuersignal generiert werden, mit dem ein Aktuator angesteuert wird, der das Facettenelement um die Drehachse dreht, so dass sich eine Korrektur ergibt. In einer weitergebildeten Form ist das Messsystem zur Messung einer
winkelabhängigen Intensitätsverteilung am Objektfeld ausgebildet. Dabei wird unter einer winkelabhängigen Intensitätsverteilung eine Funktion verstanden, die die
Intensität der einfallenden Strahlung an einem Ort in Abhängigkeit der Einfallsrichtung angibt. Dabei kann die Einfallsrichtung durch zwei Einfallswinkel parametrisiert werden. Eine derartige Ausgestaltung des Messsystems hat den Vorteil, dass eine Messgröße bestimmt wird, die direkt die Güte der nachfolgenden Abbildung beeinflusst. Außerdem steht die winkelabhängige Intensitätsverteilung in einem einfachen Zusammenhang zur Intensitätsverteilung auf dem zweiten optischen Element, da dieses üblicherweise in einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik angeordnet ist. Der Einfluss einer Drehung eines Facettenelementes des zweiten optischen Elements um die Drehachse auf die winkelabhängige Intensitätsverteilung kann daher besonders gut vorhergesagt werden, so dass eine Korrektur von ungewollten Änderungen einfach vorgenommen werden kann.
Bei einem weiteren Aspekt der Erfindung umfasst die Beleuchtungsoptik zur
Ausleuchtung eines Objektfeldes in einer Objektebene ein erstes optisches Element mit mindestens einem ersten und einem zweiten reflektiven Facettenelement und ein zweites optisches Element mit mindestens einem ersten und einem zweiten reflektiven Facettenelement. Dabei ist das zweite optische Element derart ausgeführt, dass mindestens eines der reflektiven Facettenelemente des zweiten optischen Elements eine erste Stellung einnehmen kann, in der es während des Betriebs der
Beleuchtungsoptik ein, von dem ersten reflektiven Facettenelement des ersten optischen Elements ausgehendes, Strahlungsbündel in Richtung auf das Objektfeld lenkt, und eine zweite Stellung, in der es während des Betriebs der Beleuchtungsoptik ein, von dem zweiten reflektiven Facettenelement des ersten optischen Elements ausgehendes, Strahlungsbündel in Richtung auf das Objektfeld lenkt. In der ersten Stellung ist das mindestens eine reflektive Facettenelement des zweiten optischen Elements somit dem ersten reflektiven Facettenelement des ersten optischen
Elementes zugeordnet und in der zweiten Stellung dem zweiten reflektiven
Facettenelement des ersten optischen Elements. Je nach Zuordnung wird somit entweder ein Strahlungsbündel, das vom ersten reflektiven Facettenelement des ersten optischen Elementes ausgeht, durch das mindestens eine reflektive Facettenelement des zweiten optischen Elements in Richtung auf das Objektfeld abgelenkt oder ein Strahlungsbündel, das vom zweiten reflektiven Facettenelement des zweiten optischen Elementes ausgeht. Durch eine Änderung der Stellung des mindestens einen reflektiven Facettenelementes, das heißt durch eine Änderung der Zuordnung der Facettenelemente des ersten optischen Elementes zu den Facettenelementen des zweiten optischen Elements, kann somit eine Änderung der Intensitätsverteilung über das Objektfeld und der winkelabhängigen Intensitätsverteilung am Ort des Objektfeldes bewirkt werden, da je nach Stellung unterschiedliche Strahlungsbündel auf das
Objektfeld gelenkt werden.
In einer weitergebildeten Form der Beleuchtungsoptik ist zusätzlich das erste optische Element derart ausgeführt ist, dass mindestens eines der reflektiven Facettenelemente des ersten optischen Elements eine erste Stellung einnehmen kann, in der es während des Betriebs der Beleuchtungsoptik Strahlung auf ein erstes reflektives
Facettenelement des zweiten optischen Elements lenkt, und eine zweite Stellung, in der es während des Betriebs der Beleuchtungsoptik Strahlung auf ein zweites reflektive Facettenelement des zweiten optischen Elements lenkt.
Diese Weiterbildung ermöglicht es, dass ein Strahlungsbündel, das von einem ersten Facettenelement des ersten optischen Elementes ausgeht, je nach Stellung der
Facettenelemente des ersten optischen Elementes und der Facettenelemente des zweiten optischen Elementes das Objektfeld auf unterschiedlichen Wegen in der Beleuchtungsoptik erreichen kann. Hierdurch wird eine sehr flexible Anpassung der winkelabhängigen Intensitätsverteilung am Ort des Objektfeldes erreicht, da das gleiche Strahlungsbündel bei einer ersten Einstellung der Facettenelemente das Objektfeld aus einer ersten Richtung erreicht und bei einer zweiten Einstellung der Facettenelemente das Objektfeld aus einer zweiten Richtung. Auf diese Weise können Veränderungen in der winkelabhängigen Intensitätsverteilung am Ort des Objektfeldes, die zum Beispiel durch Kontaminationen von optischen Elementen während des Betriebs auftreten, zumindest teilweise korrigiert werden.
Bei einer ersten Variante der Erfindung ist das zweite optische Element derart ausgeführt, dass mindestens eines der reflektiven Facettenelemente des zweiten optischen Elements neben der beschriebenen ersten und zweiten Stellung eine dritte Stellung einnehmen kann, in der es kein Strahlungsbündel in Richtung auf das
Objektfeld lenkt. In einer zweiten Variante der Erfindung umfasst die Beleuchtungsoptik zur Ausleuchtung eines Objektfeldes in einer Objektebene ein erstes optisches Element mit mindestens einem ersten reflektiven Facettenelement und ein zweites optischen Element mit mindestens einem ersten reflektiven Facettenelement. Dabei ist das zweite optische Element derart ausgeführt, dass mindestens eines der reflektiven
Facettenelemente des zweiten optischen Elements eine erste Stellung einnehmen kann, in der es während des Betriebs der Beleuchtungsoptik ein, von dem ersten reflektiven Facettenelement des ersten optischen Elements ausgehendes,
Strahlungsbündel in Richtung auf das Objektfeld lenkt, und eine zweite Stellung, in der es kein Strahlungsbündel in Richtung auf das Objektfeld lenkt.
Bei beiden Varianten können Veränderungen in der winkelabhängigen
Intensitätsverteilung am Ort des Objektfeldes zumindest teilweise korrigiert werden. Dies geschieht dadurch, dass in einer Stellung der Normalenvektor der reflektiven Fläche des mindestens einen reflektiven Facettenelemente des zweiten optischen Elements derart orientiert ist, dass ein Strahlbündel, das auf die reflektive Fläche trifft, nicht in Richtung auf das Objektfeld reflektiert wird sondern zum Beispiel in Richtung auf eine Blende oder auf eine Umhausung der Beleuchtungsoptik. Das Strahlbündel wird somit abgeschattet und erreicht das Objektfeld nicht. Durch einfaches Wechseln der Stellung eines Facettenelementes kann somit gezielt ein Strahlbündel abgeschattet werden. Da es bei dieser Stellung nicht auf die präzise Richtung des reflektierten Strahlbündels ankommt und damit nicht auf die präzise Richtung des Normalenvektors ankommt, kann eine solche Stellung einfach realisiert werden.
Eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage umfassend eine zuletzt
beschriebene Beleuchtungsoptik hat die gleichen Vorteile, die im Hinblick auf die Beleuchtungsoptik erläutert wurden.
Erfindungsgemäß wird weiterhin ein Verfahren zur Veränderung einer
winkelabhängigen Intensitätsverteilung einer Strahlung am Ort eines Objektfeldes zur Verfügung gestellt, wobei die winkelabhängige Intensitätsverteilung mit Hilfe einer vorbeschriebenen Beleuchtungsoptik erzeugt wurde. Bei einer solchen
Beleuchtungsoptik trifft während des Betriebs Strahlung auf das erfindungsgemäße optische Element, so dass nach der Reflektion an der Mehrzahl von reflektiven
Facettenelementen sich eine Mehrzahl von Strahlungsbündeln ergibt. Durch Drehen des mindestens einen Facettenelementes um die Drehachse ändert sich für zumindest ein Strahlungsbündel entweder der Reflektionswinkel oder die Intensität oder beides. Dies hat den Vorteil, dass durch einfaches Drehen des Facettenelementes eine flexible Änderung der winkelabhängigen Intensitätsverteilung erreicht werden kann.
In einer weitergebildeten Form des erfindungsgemäßen Verfahrens wird zunächst die winkelabhängige Intensitätsverteilung am Ort des Objektfeldes vermessen und dann beruhend auf dieser Messung mindestens ein Facettenelement gedreht, so dass sich die winkelabhängige Intensitätsverteilung am Ort des Objektfeldes ändert. Hierdurch können Änderungen der winkelabhängigen Intensitätsverteilung, die bei der Messung registriert werden, zumindest teilweise durch Drehen des mindestens einen
Facettenelementes korrigiert werden.
Näher erläutert wird die Erfindung anhand der Zeichnungen.
Figur 1 zeigt in zwei Teilbildern eine Ausführungsform eines reflektiven
Facettenelementes In zwei Drehstellungen.
Figur 2 zeigt einen Schnitt durch das reflektive Facettenelement nach Figur 1 .
Figur 3a zeigt eine erfindungsgemäße Projektionsbelichtungsanlage mit einer
Beleuchtungsoptik.
Figur 3b zeigt eine Aufsicht auf das erste optische Element. Figur 3c zeigt eine Aufsicht auf das zweite optische Element
Die Figuren 4a und 4b zeigen schematisch die Funktionsweise des erfindungsgemäßen optischen Elementes als zweites optisches Element in der Beleuchtungsoptik nach Figur 3a
Figur 4c zeigt einen Ausschnitt aus einem erfindungsgemäßen optischen Element in einer weitergebildeten Form Figur 5 zeigt eine Ausführungsform für eine mechanische Fassungstechnik eines drehbar gelagerten Facettenelementes mit einem Aktuator.
Figur 6 zeigt eine Ausführungsform eines reflektiven Facettenelementes mit einer Mehrzahl von reflektiven Flächen.
Figur 7 zeigt eine zweite Ausführungsform eines reflektiven Facettenelementes mit einer Mehrzahl von reflektiven Flächen.
Figur 8a zeigt eine Weiterbildung der Ausführungsform nach Fig. 7, bei der eine
Mehrzahl von Facettenelementen miteinander verbunden ist.
Figur 8b zeigt eine Aufsicht auf ein optisches Element mit einer Mehrzahl von
reflektiven Facettenelementen, die entsprechend der Ausführungsform nach Figur 8a gruppenweise miteinander verbunden sind.
Die Bezugszeichen sind so gewählt, dass Objekte, die in Figur 1 dargestellt sind, mit einstelligen oder zweistelligen Zahlen versehen wurden. Die in den weiteren Figuren dargestellten Objekte haben Bezugszeichen, die drei- oder mehrstellig sind, wobei die letzten beiden Ziffern das Objekt angeben und die vorangestellte Ziffer die Nummer der Figur, auf der das Objekt dargestellt ist. Damit stimmen die Bezugsziffern von gleichen Objekten, die in mehreren Figuren dargestellt sind, in den letzten beiden Ziffern überein. Gegebenenfalls findet sich die Beschreibung dieser Objekte im Text zu einer
vorhergehenden Figur.
Figur 1 zeigt ein reflektives Facettenelement 1 , das in einem Trägerelement 3 drehbar angeordnet ist. Das reflektive Facettenelement 1 weist dabei eine reflektive Fläche 5 mit einem Normalenvektor 7 auf, dessen Richtung die Orientierung der reflektiven Fläche 5 im Raum festlegt. Das reflektive Facettenelement 1 ist dabei drehbar um die Drehachse 9 angeordnet. Die Drehachse 9 schneidet zum Einen die reflektive Fläche 5 und schließt zum Anderen mit dem Normalenvektor 7 einen von 0° verschiedenen Winkel 1 1 ein. Diese Konfiguration ermöglicht es, die Richtung des Normalenvektors 7 durch Drehen des reflektiven Facettenelementes 1 um die Drehachse 9 zu verändern. Insbesondere das Merkmal, dass die Drehachse 9 die reflektive Fläche 5 schneidet, hat den Vorteil, dass die erforderliche mechanische Aufhängung und Aktuatorik zum
Drehen auf der strahlungsabgewandten Seite der reflektiven Fläche angebracht werden kann. Hierdurch wird eine sehr kompakte Bauform erreicht, die es ermöglicht eine große Zahl erfindungsgemäßer Facettenelemente dicht gepackt nebeneinander anzuordnen. Diese Vorteile werden noch verstärkt, wenn der Winkel zwischen dem Normalenvektor und der Drehachse kleiner ist als 20°. Bei einer Drehung des
reflektiven Facettenelementes 1 um die Drehachse 9 umschreibt der Normalenvektor 7 einen Kegel, dessen Öffnungswinkel doppelt so groß ist wie der Winkel 1 1 zwischen der Drehachse 9 und dem Normalenvektor 7. Die Spitze des Kegels liegt dabei am
Schnittpunkt zwischen der Drehachse 9 und der reflektiven Fläche 5.
Figur 1 zeigt das reflektive Facettenelement 1 in einer ersten Drehstellung 13 und in einer zweiten Drehstellung 15. Die beiden Drehstellungen 13 und 15 unterscheiden sich dabei um eine Drehung um 180°. Dies führt dazu, dass der Winkel zwischen dem Normalenvektor 7 in der ersten Drehstellung 13 und dem Normalenvektor 7 in der zweiten Drehstellung 15 doppelt so groß ist wie der Winkel 1 1 zwischen der Drehachse 9 und dem Normalenvektor 7. Dies tritt immer dann auf, wenn die Drehachse 9 parallel zur Summe der Normalenvektoren 7 in den beiden Drehstellungen ist. Um demnach zu erreichen, dass die Normalenvektoren in zwei Drehstellung sich um einen Winkel unterscheiden, der größer ist als 2°, muss der Winkel 1 1 zwischen der Drehachse und dem Normalevektor 7 größer als 1 ° gewählt werden. Ein Winkel größer als 2° ist vorteilhaft, um durch die Drehung eine ausreichende Änderung des Reflexionswinkels eines auftreffenden Strahlungsbündels zu gewährleisten wie anhand von Figur 4a und Figur 4b erläutert.
In der Ausführungsform nach Figur 1 weist das reflektive Facettenelement 1 einen Nocken 17 auf, der derart am reflektiven Facettenelement 1 angeordnet ist, dass er bei Drehung des reflektiven Facettenelementes 1 um die Drehachse 9 seine Position verändert. Das Trägerelement 3 weist dabei Anschlagflächen 19 auf, die die Bewegung des Nockens 17 bei der Drehung um die Drehachse 9 begrenzen. Auf diese Weise kann das Facettenelement 1 nicht jede beliebige Drehstellung einnehmen, sondern ist lediglich zwischen zwei Drehendstellungen drehbar. Die Drehendstellungen werden dabei durch die mechanische Anordnung des Nockens 17 und der Anschlagfläche 19, die als Endanschläge bezeichnet werden, definiert. Zur besseren Verdeutlichung ist in Figur 2 ein Schnitt durch das reflektive Facettenelement 1 im Trägerelement 3 gezeigt. Der Schnitt wurde dabei im Bereich des Nockens 17 und der Anschlagflächen 19 entlang der gestrichelten Linie 21 aus Figur 1 gemacht. Gezeigt ist die erste Drehstellung 13 aus Figur 1 . Der Nocken 217 liegt dabei direkt an der Anschlagfläche 219a an, so dass das reflektive Facettenelement 201 nur noch im Uhrzeigersinn
(angedeutet durch den Pfeil 216) gedreht werden kann, bis der Nocken 217 an die Anschlagfläche 219b stößt. Die Anschlagfläche 219b gibt somit eine erste
Drehendstellung bezüglich Drehungen im Uhrzeigersinn vor. Entsprechend definiert die Anschlagfläche 219a zusammen mit dem Nocken 217 eine zweite Drehendstellung bezüglich Drehungen gegen den Uhrzeigersinn. Da die Endanschläge (Nocken 217, Anschlagflächen 219a, 219b) sehr präzise mechanisch gefertigt werden können, können die Drehendstellungen sehr präzise vorgegeben werden. Somit ist auch die Richtung des Normalenvektors 7 (Figur 1 ) sehr genau definiert, wenn das reflektive Facettenelement 1 sich in einer Drehendstellung befindet. Das Facettenelement kann auch zusätzlich zwischen den Drehendstellungen angehalten werden, um eine weitere, dritte Stellung zu realisieren. Dies ist besonders dann vorteilhaft, wenn durch die dritte Stellung ein Abschatten eines auftreffenden Strahlbündels erreicht werden soll.
Typischerweise kann eine solche dritte Stellung zwischen zwei Drehendstellungen nicht so präzise eingestellt werden wie eine der beiden Drehendstellungen. Dies ist jedoch auch nicht erforderlich, da es zum Abschatten eines auftreffenden Strahlbündels ausreichend ist, wenn das Strahlungsbündel in irgendeine Richtung reflektiert wird, solange es nicht in Richtung auf das Objektfeld reflektiert wird.
In der Ausführungsform nach Figur 2 unterscheiden sich die beiden Drehendstellungen um eine Drehung um die Drehachse um einen Winkel von 180°. Andere Drehwinkel als 180° können ebenfalls durch geeignete mechanische Ausführung des Nocken 217 und der Anschlagflächen 219a und 219b erreicht werden. Die Ausführung mit
Endanschlägen ist optional zu verstehen. Eine Ausführung ohne Endanschläge ist ebenfalls möglich.
Figur 3a zeigt eine Ausgestaltung einer erfindungsgemäßen
Projektionsbelichtungsanlage 323 mit einer Beleuchtungsoptik 325. Die
Beleuchtungsoptik 325 umfasst dabei ein erstes optisches Element 327 mit einer Mehrzahl von ersten reflektiven Facettenelementen 329 und ein zweites optisches Element 331 mit einer Mehrzahl von zweiten reflektiven Facettenelementen 333. Im Lichtweg nach dem zweiten optischen Element 331 sind ein erster Teleskopspiegel 335 und ein zweiter Teleskopspiegel 337 angeordnet, die beide unter senkrechtem Einfall betrieben werden, d.h. die Strahlung trifft unter einem Einfallswinkel zwischen 0° und 45° auf beide Spiegel. Unter dem Einfallswinkel wird dabei der Winkel zwischen einfallender Strahlung und der Normalen zur reflektiven Fläche verstanden.
Nachfolgend ist ein Umlenkspiegel 339 angeordnet, der die auf ihn treffende Strahlung auf das Objektfeld 341 in der Objektebene 343 lenkt. Der Umlenkspiegel 339 wird unter streifendem Einfall betrieben, d.h. die Strahlung trifft unter einem Einfallswinkel zwischen 45° und 90° auf den Spiegel. Am Ort des Objektfeldes 341 ist eine reflektive strukturtragende Maske angeordnet, die mit Hilfe der Projektionsoptik 345 in die
Bildebene 347 abgebildet wird. Die Projektionsoptik 345 umfasst sechs Spiegel 349, 351 , 353, 355, 357 und 359. Alle sechs Spiegel der Projektionsoptik 345 weisen jeweils eine reflektive Fläche auf, die entlang einer um die optische Achse 360
rotationssymmetrischen Fläche verläuft.
Figur 3b zeigt eine Aufsicht auf das erste optische Element 327, das eine Mehrzahl von ersten reflektiven Facettenelementen 329 umfasst.
Figur 3c zeigt eine entsprechende Aufsicht auf das zweite optische Element 331 mit einer Mehrzahl von zweiten reflektiven Facettenelementen 333. Die Anzahl der ersten Facettenelemente 329 kann genauso groß sein wie die Anzahl der zweiten
Facettenelemente 331 . Alternativ kann die Anzahl der ersten Facettenelemente 329 auch größer oder kleiner sein als die Anzahl der zweiten Facettenelemente 331 .
Die Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage nach Figur 3a umfasst ferner eine Lichtquelleneinheit 361 , die Strahlung auf das erste optische Element 327 lenkt. Die Lichtquelleneinheit 361 umfasst dabei ein Quellplasma 365 und einen Kollektorspiegel 363. Die Lichtquelleneinheit 361 kann in verschiedenen Ausführungsformen ausgebildet sein. Es kann sich dabei um eine Laserplasmaquelle (LPP) handeln, bei der ein eng begrenztes Quellplasma 365 erzeugt wird, indem ein kleines Materialtröpfchen mit einem hochenergetischen Laser bestrahlt wird. Alternativ kann es sich um eine
Entladungsquelle handeln, bei der das Quellplasma 365 mit Hilfe einer Entladung erzeugt wird. In beiden Fällen tritt ein leuchtendes Quellplasma 365 auf, das Strahlung insbesondere im Wellenlängenbereich 5nm - 15nm emittiert. Diese Strahlung wird mit Hilfe des Kollektorspiegels 363 gesammelt und auf das erste optische Element 327 gelenkt. Dabei haben der Kollektorspiegel 363 und die ersten Facettenelemente 329 eine derartige optische Wirkung, dass sich Bilder des Quellplasmas 365 an den Orten der Facettenelemente 333 des zweiten optischen Elementes 331 ergeben. Hierzu werden einerseits die Brennweite des Kollektorspiegels 363 und der ersten Facettenelemente 329 entsprechend der räumlichen Abstände gewählt. Dies geschieht z.B. in dem die reflektiven Flächen der ersten reflektiven Facettenelemente 329 mit geeigneten Krümmungen versehen werden. Andererseits weisen die ersten
Facettenelemente 329 eine reflektive Fläche auf mit einem Normalenvektor, dessen Richtung die Orientierung der reflektiven Fläche im Raum festlegt, wobei die
Normalenvektoren der reflektiven Flächen der ersten Facettenelemente 329 derart orientiert sind, dass die von einem ersten Facettenelement 329 reflektierte Strahlung auf ein speziell zugeordnetes zweites Facettenelement 333 trifft. Diese Zuordnung zwischen ersten Facettenelementen 329 und zweiten Facettenelemente 333 ermöglicht es, die Intensitätsverteilung der Strahlung auf dem zweiten optischen Element 331 anzupassen. Typischerweise erzeugt die Lichtquelleneinheit 361 keine gleichmäßige Intensitätsverteilung auf dem ersten optischen Element 327, so dass es erste
Facettenelemente gibt, die mit Strahlung höherer Intensität bestrahlt werden als andere erste Facettenelemente. Durch die Einstellung der Orientierung der reflektiven Flächen der ersten Facettenelemente 329 wird vorgegeben, welche ersten Facettenelemente 329 zu welchen zweiten Facettenelementen 333 zugeordnet sind, das heißt auf weiche sie Strahlung lenken. Während somit die Intensitätsverteilung der Strahlung auf dem ersten optischen Element 327 durch die Eigenschaften der Lichtquelleneinheit bzw. möglicher weiterer optischer Elemente zwischen Lichtquelleneinheit und erstem optischen Element vorgegeben wird, kann die Intensitätsverteilung auf dem zweiten optischen Element 331 durch die Wahl der Orientierungen der reflektiven Flächen der ersten Facettenelemente 329 eingestellt werden. Man spricht von einer Mischung der Strahlung durch die optischen Elemente 327 und 331 , da die Intensitätsverteilung auf dem zweiten optischen Element 331 sich von der Intensitätsverteilung auf dem ersten optischen Element 327 unterscheidet. Die Intensitätsverteilung auf dem zweiten optischen Element 331 ist von besonderer Bedeutung, da das zweite optische Element in einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 325 angeordnet ist und somit in einer Ebene, die optisch konjugiert zur Eintrittspupillenebene der Projektionsoptik 345 liegt. Aus diesem Grund steht die Intensitätsverteilung der Strahlung auf dem zweiten optischen Element 331 in einem einfachen Zusammenhang zur winkelabhängigen Intensitätsverteilung der Strahlung im Bereich des Objektfeldes 341 und führt zu signifikanten Einflüssen auf die Güte der Abbildung durch die Projektionsoptik 345. Daher werden die Orientierungen der reflektiven Flächen der ersten Facettenelemente 329 so eingestellt, dass sich eine gewünschte Intensitätsverteilung auf dem zweiten optischen Element 331 ergibt. Größere Veränderungen der Intensitätsverteilung auf dem ersten optischen Element 327 führen jedoch zu Änderungen der
Intensitätsverteilung auf dem zweiten optischen Element 331 . Eine Kontamination des Kollektors 363 während des Betriebes führt zum Beispiel zu signifikanten Änderungen der Intensitätsverteilung auf dem ersten optischen Element 327. Hierdurch ändert sich ebenfalls die Intensitätsverteilung auf dem zweiten optischen Element 331 und weicht von der gewünschten Intensitätsverteilung ab. Diese Veränderung kann während des Betriebs erfindungsgemäß vermessen werden, indem die winkelabhängige
Intensitätsverteilung der Strahlung beispielsweise im Randbereich des Objektfeldes 341 vermessen wird. Hierzu ist nahe des Objektfeldes 341 ein Messsystem 342 angeordnet. Derartige Messsysteme sind aus der DE 10 2007 061 194 A1 bekannt. Das
Messsystem 342 steht mit einem Steuersystem 344 in Signalverbindung. Weiterhin steht das Steuersystem mit mindestens einem Aktuator 332 in Signalverbindung, der mit mindestens einem ersten Facettenelement 329 verbunden ist. Zusätzlich steht das Steuersystem 344 in Signalverbindung mit einem weiteren Aktuator 334, der mit mindestens einem zweiten Facettenelement 333 verbunden ist. Beruhend auf der Messung des Messsystems generiert das Steuersystem 344 ein Steuersignal, mit dem mindestens ein Aktuator 334 zur Drehung eines zweiten Facettenelementes 333 angesteuert wird. Weiterhin generiert das Steuersystem ein zweites Steuersignal mit dem mindestens ein Aktuator 332 zur Veränderung der Orientierung der reflektiven Fläche eines ersten Facettenelementes 329 angesteuert wird. Dabei sind die ersten Facettenelemente 329 derart ausgebildet, dass zumindest ein Teil der
Facettenelemente 329 eine reflektive Fläche aufweist mit einem Normalenvektor dessen Richtung im Raum mit Hilfe eines verbundenen Aktuators 332 verändert werden kann. Hierzu sind die ersten Facettenelemente 329 drehbar oder kippbar um eine Achse oder mehrere Achsen ausgeführt. Entsprechende Facettenelemente sind z.B. aus der US2005/0174650 A1 bekannt. Hierdurch kann die von den reflektiven
Facettenelementen 329 reflektierte Strahlung nicht nur auf ein einziges vorbestimmtes zweites Facettenelement 333 gerichtet werden, sondern alternativ auf verschiedene zweite Facettenelemente 333, so dass die Intensitätsverteilung auf dem zweiten optischen Element 331 und damit die winkelabhängige Intensitätsverteilung der
Strahlung am Ort des Objektfeldes verändert wird. Auf diese Weise kann eine
Abweichung der Intensitätsverteilung auf dem zweiten optischen Element 331 von einer gewünschten Intensitätsverteilung zumindest teilweise korrigiert werden, weil die Beleuchtungsoptik derart ausgebildet ist, dass die Zuordnung von ersten Facettenelementen 329 zu zweiten Facettenelementen 333 auf einfache Weise verändert werden kann.
Mit Hilfe der zweiten Facettenelemente 333 und der nachfolgenden Optik, die die Spiegel 335, 337 und 339 umfasst, werden die ersten Facettenelemente 329
überlagernd auf das Objektfeld 341 in der Objektebene 343 abgebildet. Dabei versteht man unter überlagernder Abbildung, dass Bilder der ersten reflektiven
Facettenelemente 329 in der Objektebene entstehen und dort zumindest teilweise überlappen. Hierzu weisen die zweiten Facettenelemente eine reflektive Fläche auf mit einem Normalenvektor, dessen Richtung die Orientierung der reflektiven Fläche im Raum festlegt. Für jedes zweite Facettenelement 333 ist dabei die Richtung des Normalenvektors so gewählt, dass das ihm zugeordnete erste Facettenelement 329 auf das Objektfeld 341 in der Objektebene 343 abgebildet wird. Es ergibt sich in der Objektebene somit eine Überlagerung aller Bilder der ersten Facettenelemente 329. Bei einer Änderung der Zuordnung von ersten Facettenelementen 329 zu zweiten Facettenelementen 333 durch Verkippen der ersten Facettenelemente 329 muss die Orientierung der entsprechenden zweiten Facettenelemente 333 so angepasst werden, dass die Bilder der entsprechenden ersten Facettenelemente 329 immer noch am Ort des Objektfeldes 341 entstehen. Hierzu werden die zweiten Facettenelemente 333 entsprechend der Figur 1 ausgebildet.
Da die ersten Facettenelemente 329 auf das Objektfeld 341 abgebildet werden, entspricht die Form des ausgeleuchteten Objektfeldes 341 der äußeren Form der ersten Facettenelemente 329. Die äußere Form der ersten Facettenelemente 329 wird daher üblicherweise derart bogenförmig gewählt, dass die langen Berandungslinien des ausgeleuchteten Objektfeldes 341 im Wesentlichen kreisbogenförmig um die optische Achse 360 der Projektionsoptik 345 verlaufen.
Die Figuren 4a und 4b zeigen schematisch den Einsatz des erfindungsgemäßen optischen Elementes als zweites optisches Element 431 in der Beleuchtungsoptik. Dargestellt ist ein Ausschnitt aus dem zweiten optischen Element 431 mit insgesamt fünf zweiten Facettenelementen 433. Weiterhin gezeigt ist eine Aufsicht auf das erste optische Element 427 mit den ersten Facettenelementen 429 und das Objektfeld 441 . Die genaue Funktionsweise wird beispielhaft anhand der speziellen ersten
Facettenelemente 467a bzw. 467b und den speziellen zweiten Facettenelementen 469a bzw. 469b erläutert. Im Zustand nach Figur 4a ist die reflektive optische Fläche des ersten Facettenelementes 467a derart orientiert, dass die von der Lichtquelleneinheit auf das erste Facettenelement 467a treffende Strahlung (nicht dargestellt) in Richtung auf das zweite Facettenelement 469b reflektiert wird. Es liegt also ein Strahlungsbündel zwischen dem ersten Facettenelement 467a und dem zweiten Facettenelemente 469b vor, angedeutet durch die durchgezogenen Linie. Das zweite Facettenelement 469b befindet sich in einer ersten Drehstellung, so dass die reflektive Fläche derart orientiert ist, dass ein reflektiertes Strahlungsbündel in Richtung auf das Objektfeld 441 gerichtet ist. Auf die Darstellung zusätzlicher optischen Komponenten wie den Spiegeln 335, 337 und 339 aus Figur 3a wurde in dieser schematischen Darstellung verzichtet.
Entsprechend ist die optische Fläche des ersten Facettenelementes 467b so gerichtet, dass sich ein Strahlungsbündel ergibt, das auf das zweite Facettenelement 469a gerichtet ist. Das zweite Facettenelement 469a befindet sich dabei ebenfalls in einer ersten Drehstellung, so dass die optische Fläche des zweiten Facettenelementes 469a so gerichtet ist, dass das auftreffende Strahlungsbündel in Richtung auf das Objektfeld 441 reflektiert wird. Im Zustand nach Figur 4b ist dagegen die optische Fläche des ersten Facettenelements 467a so orientiert, das sich ein Strahlungsbündel ergibt, dass auf das zweite Facettenelement 469a gerichtet ist. Die auftreffende Strahlung auf das zweite Facettenelement 469a weist demnach im Zustand nach Figur 4b eine andere Richtung auf als im Zustand nach Figur 4a.
In dieser Stellung wird das Strahlungsbündel demnach nicht in Richtung auf das
Objektfeld 441 reflektiert, sondern trifft zum Beispiel auf eine Blende oder auf eine Umhausung der Beleuchtungsoptik. Das Strahlbündel ist in dieser Stellung somit abgeschattet.
Damit das Strahlungsbündel dennoch in Richtung auf das Objektfeld 441 reflektiert wird, muss der Reflektionswinkel zwischen einfallendem und reflektierten
Strahlungsbündel und damit die Orientierung der optischen Fläche des zweiten
Facettenelements 469a geeignet angepasst werden. Hierzu wurde das zweite
Facettenelement 469a von der ersten Drehstellung, die in Figur 4a dargestellt ist, in eine zweite Drehstellung (Figur 4b) verbracht, das heißt um eine Drehachse gedreht. Auf diese Weise wird ein vom ersten Facettenelement 467a ausgehendes
Strahlungsbündel am zweiten Facettenelement 469a in beiden Zuständen nach Figur 4a und nach Figur 4b in Richtung des Objektfeldes 441 reflektiert. Entsprechendes gilt auch für das zweite Facettenelement 469b. In der ersten Drehstellung nach Figur 4a ist die reflektive optische Fläche des zweiten Facettenelementes 469b so orientiert, dass ein Strahlungsbündel, das vom ersten Facettenelement 467a ausgeht, in Richtung des Objektfeldes 441 reflektiert wird. Es liegt ein erster Reflektionswinkel am zweiten Facettenelement 469b vor. Im Zustand nach Figur 4b befindet sich das zweite
Facettenelement 469b in einer zweiten Drehstellung, in der die optische Fläche des zweiten Facettenelementes 469b so orientiert ist, dass ein Strahlungsbündel, das diesmal vom ersten Facettenelement 467b ausgeht, in Richtung des Objektfeldes 441 reflektiert wird. Es liegt demnach ein zweiter Reflektionswinkel vor, der sich vom ersten Reflektionswinke unterscheidet. Durch einfaches Ändern der Orientierungen der ersten Facettenelemente 429 und der Drehstellung der zweiten Facettenelemente 433 kann somit die Zuordnung zwischen den ersten Facettenelementen 429 und den zweiten Facettenelementen 433 geändert werden, um eine Intensitätsverteilung auf dem zweiten optischen Element 431 und damit eine winkelabhängige Intensitätsverteilung der Strahlung am Ort des Objektfeldes 441 zu verändern. Bei einer Anzahl von 500 ersten Facettenelementen 429 und ebenfalls 500 zweiten Facettenelementen 433 lassen sich 250 Paare aus jeweils zwei ersten und zwei zweiten Facettenelementen bilden, die wie oben beschrieben einander zugeordnet sind. Jedes dieser 250 Paare kann zwei Zustände einnehmen entsprechend den Figuren 4a und 4b, so dass sich eine Gesamtzahl von 2250 möglichen Zuordnungen der 500 ersten Facettenelemente zu den 500 zweiten Facettenelementen gibt, die durch einfaches Schalten eingestellt werden können.
Figur 4c zeigt einen Ausschnitt aus dem zweiten optischen Element 431 in einer weiteren Ausführungsform. Dargestellt sind fünf zweite Facettenelemente 401 , deren Drehachsen 409 unterschiedliche Richtungen aufweisen. Je nach gewünschtem
Reflektionswinkel in der ersten und der zweiten Drehstellung wird für jedes
Facettenelement 401 die Drehachse 409 und der Normalenvektor 407 individuell festgelegt. Dabei ergibt es sich zwangsläufig, dass mindestens zwei Facettenelemente unterschiedliche Winkel zwischen Drehachse 409 und Normalenvektor 407 aufweisen. Aufgrund der unterschiedlichen Drehachsen 409 ergibt sich ferner zwangsläufig, dass die Drehachsen 409 unter unterschiedlichen Winkeln bezüglich der Oberfläche 470 des Trägerelements 403 angeordnet sind. Im allgemeinen Fall ist der Winkel zwischen der Oberfläche 470 und der Drehachse 409 eines Facettenelementes 401 verschieden von 90°. Figur 5 zeigt beispielhaft eine Ausführungsform für eine mechanische Fassungstechnik, mit der ein erfindungsgemäßes Facettenelement drehbar um eine Drehachse gehaltert werden kann, wobei die Drehachse die reflektive Fläche schneidet. Das
Facettenelement 501 ist dabei in einem Trägerelement 503 angeordnet. Dabei steht die Drehachse 509 unterm einem Winkel zur Oberfläche 570 des Trägerelementes 503, der von 90° verschieden ist. Zwischen Trägerelement 503 und Facettenelement 501 befindet sich ein Hartmetallring 571 zur Fixierung der Position des Facettenelements 501 bezüglich des Trägerelementes 503. Dabei ermöglicht der Hartmetallring 571 gleichzeitig eine Fixierung der Position und eine Drehbarkeit um die Drehachse 509, da der rotatorische Freiheitsgrad um die Drehachse 509 nicht eingeschränkt wird. Anstelle eines Hartmetallrings 571 ist auch zum Beispiel die Verwendung eines Teflonringes möglich. Das Facettenelement 501 weist einen Schaft 573 auf, der sich entlang der Drehachse 509 von der reflektiven Fläche 505 weg erstreckt. Am Ende des Schaftes 573 ist das optische Element 501 mit einem mechanischen Ausgleichselement 575 verbunden. Hierzu weist der Schaft ein Innengewinde 579 auf und das mechanische Ausgleichselement einen entsprechenden Gewindebolzen 581 . Um sicherzustellen, dass die Drehachse 509 des optischen Elements 501 nicht gegenüber dem
mechanischen Ausgleichelement 575 versetzt ist, sind sowohl am Schaft 573 als auch an dem mechanischen Ausgleichselement 575 geeignete konische Fügeflächen 583 angeordnet. Das mechanische Ausgleichelement 575 ist über Schrauben 585 mit der Antriebsachse 587 eines Motors 589 verbunden, der als Aktuator dient, um das mechanische Ausgleichselement 575 und damit auch das verbundene Facettenelement 501 um eine Drehachse 509 zu drehen. Die Drehposition kann dabei zum Beispiel mit einem inkrementalen Messgeber (nicht dargestellt) bestimmt und überwacht werden. Zwischen Trägerelement 503 und Motor 589 ist ein Federsystem aus mehreren kombinierten Tellerfedern 591 angeordnet, die den nötigen Anpressdruck erzeugen, mit dem das optische Element 501 gegen den Hartmetallring 571 gedrückt wird. Dabei hat die Kombination von mehreren Tellerfedern 591 den Vorteil, dass die Stärke der Federkraft sehr genau eingestellt werden kann. Alternativ zu Tellerfedern 591 können auch Druckfedern verwendet werden. Um zu verhindern, dass sich die Verschraubung des optischen Elements 501 mit dem mechanischen Ausgleichselement 575 mit der Zeit löst, kann die Kontaktstelle zwischen den konischen Fügeflächen 583 nach der Verschraubung mit einem Sicherungslack versehen werden. Zur Kühlung der optischen Elemente 501 ist das Trägerelement 503 mit Kühlkanälen 577 ausgestattet, durch die eine Kühlflüssigkeit geleitet werden kann. Figur 6 zeigt eine Ausführungsform eines reflektiven Facettenelementes 601 mit einer Mehrzahl von reflektiven Flächen 605 in einer ersten Drehstellung. Im vorliegenden Fall weist das Facettenelement 601 beispielhaft sechs reflektive optische Flächen 605 auf. Die reflektiven optischen Flächen 605 des Facettenelementes 601 sind dabei derart bezüglich einer Drehachse 609 angeordnet, dass sich in einer ersten Drehstellung eine erste reflektive Fläche 693 an einer aktiven Position befindet, in der ein
Strahlungsbündel 695 auf die reflektive Fläche 693 trifft, und in einer zweiten
Drehstellung eine zweite reflektive Fläche 694 an einer aktiven Position, in der ein Strahlungsbündel 695 auf die zweite reflektive Fläche 694 trifft. Dargestellt ist in der Figur nur die erste Drehstellung. Die zweite Drehstellung ergibt sich durch Drehen um die Drehachse 609 um einen Winkel von etwa 60°, so dass die zweite reflektive Fläche 694 am vorhergehenden Ort der ersten reflektiven Fläche 693 zu liegen kommt.
Während des Betriebs der Beleuchtungsoptik wird somit in einer ersten Drehstellung des Facettenelementes nur die erste reflektive Fläche 693 mit Strahlung beaufschlagt und in einer zweiten Drehstellung nur die zweite reflektive Fläche 694. Das
auftreffendes Strahlungsbündel 695 wird demnach in der ersten Drehstellung von der ersten reflektiven Fläche 693 reflektiert und in der zweiten Drehstellung von der zweiten reflektiven Fläche 694. Die reflektive Fläche 693 weist dabei einen Normalenvektor auf, der mit der Drehachse 609 einen ersten Winkel einschließt. Dagegen schließt die zweite optische Fläche 694 mit der Drehachse 609 einen zweiten Winkel ein, der sich von dem ersten Winkel um mehr als 1 ° unterscheidet. Gleiches gilt, wenn sich der Normalenvektor zur ersten reflektiven Fläche 693 in der ersten Drehstellung des Facettenelementes vom Normalenvektor der zweiten reflektiven Fläche 694 in der zweiten Drehstellung des Facettenelementes um einen Winkel unterscheidet, der größer als 1 ° ist. In beiden Fällen ergibt sich, dass das Strahlungsbündel 695 unter unterschiedlichen Reflexionswinkeln reflektiert wird, je nachdem in welcher
Drehstellung sich das Facettenelement 601 gerade befindet. Dies liegt daran, dass je nach Drehstellung das Strahlungsbündel auf eine andere reflektive Fläche 605 mit einer anderen Orientierung fällt. Alternativ können die reflektiven Flächen 605 sich auch nur in ihrer Reflektivität unterscheiden. Dies hat dann zur Folge, dass das reflektierte Strahlungsbündel 695 unterschiedliche Intensitäten aufweist, je nachdem in welcher Drehstellung sich das Facettenelement 601 befindet. Kombinationen dieser beiden Ausführungsformen sind ebenfalls möglich, d.h. dass Facettenelement 601 kann z.B. auch so ausgeführt sein, dass zwei der reflektiven optischen Flächen 605 sich in ihren Normalenvektoren und in ihrer Reflektivität unterscheiden.
Figur 7 zeigt eine Ausführungsform für ein Facettenelement 701 mit zwei reflektiven Flächen 793 und 794, wobei die Beschränkung auf zwei reflektive Flächen nur zur besseren Darstellung dient. Ausführungen mit weiteren reflektiven Flächen sind ebenfalls möglich. In einer ersten Drehstellung 713 befindet sich die erste optische Fläche 793 in einer aktiven Position, in der das Strahlungsbündel 795 auf die optische Fläche 793 fällt. In einer zweiten Drehstellung 715 befindet sich stattdessen die zweite optische Fläche 794 in der aktiven Position, in der das Strahlungsbündel 795 auf die optische Fläche 794 fällt. Dabei ist das Facettenelement 701 derart ausgestaltet, dass der Normalenvektor 707a zur optischen Fläche 793 in der ersten Drehstellung sich von der Richtung des Normalenvektors 707b der zweiten optischen Fläche in der zweiten Drehstellung unterscheidet. Aus diesem Grund wird je nach Drehstellung das
Strahlungsbündel 795 unter einem anderen Reflektionswinkel reflektiert. Auch in dieser Ausführungsform können die reflektiven Flächen 793 und 794 sich in ihrer Reflektivität unterscheiden, so dass das reflektierte Strahlungsbündel 695 je nach Drehstellung unterschiedliche Intensitäten aufweist
Figur 8a zeigt eine Ausführungsform, bei der eine Gruppe von Facettenelementen 801 miteinander verbunden ist, und um eine gemeinsame Drehachse 809 drehbar gelagert sind. Jedes der Facettenelemente 801 weist dabei eine Mehrzahl von reflektiven Flächen 805 auf. Jedes einzelne der Facettenelemente 801 ist dabei entsprechend der Ausführungsform nach Figur 7 ausgeführt. Durch die Verbindung von mehreren
Facettenelementen 801 und die Drehung um eine gemeinsame Drehachse 809 wird erreicht, dass eine größere Anzahl von Facettenelementen 801 mit nur einem Motor in der Drehstellung verändert werden kann.
Figur 8b zeigt eine Aufsicht auf ein optisches Element mit einer Mehrzahl von reflektiven Facettenelementen 801 , die entsprechend der Ausführungsform nach Figur 8a gruppenweise miteinander verbunden sind. Es ergibt sich eine zweidimensionale Anordnung von Facettenelementen in Reihen, wobei alle Facettenelemente 801 der gleichen Reihe ihre Drehstellung nur gemeinsam wechseln können. Bei den
Ausführungsformen nach den Figuren 8a und 8b kann eine Kühlung der drehbaren Facettenelemente durch Kühlkanäle erreicht werden, die entlang der Drehachse durch das Zentrum der Facettenelemente verlaufen.

Claims

Patentansprüche
1 . Optisches Element (331 , 431 ) zur Verwendung in einer Beleuchtungsoptik (325) einer EUV Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage (323)
umfassend eine Mehrzahl von reflektiven Facettenelementen (1 , 201 , 333, 401 , 433, 501 , 601 , 801 ),
dadurch gekennzeichnet, dass
mindestens ein Facettenelement (1 , 201 , 333, 401 , 433, 501 , 601 , 801 ) zumindest eine erste reflektive Fläche (5, 505, 605, 793, 794, 805) und eine zweite reflektive Fläche (5, 505, 605, 793, 794, 805) aufweist
und um eine Drehachse (9, 409, 509, 609, 709, 809) drehbar angeordnet ist.
2. Optisches Element (331 , 431 ) nach Anspruch 1
dadurch gekennzeichnet, dass
die Drehachse (9, 409, 509, 609, 709, 809) mit einem ersten Normalenvektor (7, 407, 507, 707a, 707b) zur ersten reflektiven Fläche (5, 505, 605, 793, 794, 805) einen ersten Winkel einschließt und mit einem zweiten Normalenvektor (7, 407, 507, 707a, 707b) zur zweiten reflektiven Fläche (5, 505, 605, 793, 794, 805) einen zweiten Winkel, wobei der erste und der zweite Winkel sich um mehr als 1 ° unterscheiden.
3. Optisches Element (331 , 431 ) nach einem der Ansprüche 1 -2,
dadurch gekennzeichnet, dass
die erste und die zweite reflektive Fläche (5, 505, 605, 793, 794, 805) eine
unterschiedliche Reflektivität aufweisen.
4. Optisches Element (331 , 431 ) zur Verwendung in einer Beleuchtungsoptik (325) einer EUV Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage (323)
umfassend eine Mehrzahl von Facettenelementen (1 , 201 , 333, 401 , 433, 501 , 601 , 801 ) mit jeweils mindestens einer reflektiven Fläche (5, 505, 605, 793, 794, 805) dadurch gekennzeichnet, dass
mindestens ein Facettenelement (1 , 201 , 333, 401 , 433, 501 , 601 , 801 ) drehbar um eine Drehachse (9, 409, 509, 609, 709, 809) angeordnet ist, wobei die Drehachse (9, 409, 509, 609, 709, 809) die mindestens eine reflektive Fläche (5, 505, 605, 793, 794, 805) dieses Facettenelementes (1 , 201 , 333, 401 , 433, 501 , 601 , 801 ) schneidet.
5. Optisches Element (331 , 431 ) nach Anspruch 4,
dadurch gekennzeichnet, dass
das optische Element (331 , 431 ) derart ausgestaltet ist, dass das mindestens eine Facettenelement (1 , 201 , 333, 401 , 433, 501 , 601 , 801 ) lediglich zwischen zwei Drehendstellungen (13, 15) drehbar ist.
6. Optisches Element (331 , 431 ) nach Anspruch 5,
dadurch gekennzeichnet, dass
das mindestens eine Facettenelement (1 , 201 , 333, 401 , 433, 501 , 601 , 801 ) in einem Trägerelement (3, 403, 503) drehbar angeordnet ist, wobei Trägerelement (3, 403, 503) und Facettenelement (1 , 201 , 333, 401 , 433, 501 , 601 , 801 ) jeweils Endanschläge (19, 219a, 219b) aufweisen, welche die Drehendstellungen (13, 15) definieren.
7. Optisches Element (331 , 431 ) nach einem der Ansprüche 4-6
dadurch gekennzeichnet, dass
die reflektive Fläche (5, 505, 605, 793, 794, 805) des mindestens einen
Facettenelementes (1 , 201 , 333, 401 , 433, 501 , 601 , 801 ) einen Normalenvektor (7, 407, 507, 707a, 707b) aufweist, dessen Richtung die Orientierung der reflektiven Fläche (5, 505, 605, 793, 794, 805) im Raum festlegt, wobei der Winkel zwischen dem
Normalenvektor (7, 407, 507, 707a, 707b) und der Drehachse (9, 409, 509, 609, 709, 809) von Null verschieden ist
8. Optisches Element (331 , 431 ) nach einem der Ansprüche 4-7
dadurch gekennzeichnet, dass
die reflektive Fläche (5, 505, 605, 793, 794, 805) des mindestens einen
Facettenelementes (1 , 201 , 333, 401 , 433, 501 , 601 , 801 ) einen Normalenvektor (7, 407, 507, 707a, 707b) aufweist, dessen Richtung die Orientierung der reflektiven Fläche (5, 505, 605, 793, 794, 805) im Raum festlegt, wobei der Winkel zwischen dem
Normalenvektor (7, 407, 507, 707a, 707b) und der Drehachse (9, 409, 509, 609, 709, 809) kleiner als 20° ist.
9. Optisches Element (331 , 431 ) nach einem der Ansprüche 1 -8,
dadurch gekennzeichnet, dass das mindestens eine Facettenelement (1 , 201 , 333, 401 , 433, 501 , 601 , 801 ) mit einem Aktuator (332, 334) zur Drehung um die Drehachse (9, 409, 509, 609, 709, 809) verbunden ist.
10. Beleuchtungsoptik (325) zur Verwendung in einer EUV Mikrolithographie- Projektionsbelichtungsanlage (323) umfassend ein optisches Element (331 , 431 ) nach einem der Ansprüche 1 -9.
1 1 . Beleuchtungsoptik zur Verwendung in einer EUV Mikrolithographie- Projektionsbelichtungsanlage umfassend ein optischen Element (331 , 431 ) mit einer Mehrzahl von reflektiven Facettenelementen (1 , 201 , 333, 401 , 433, 501 , 601 , 801 ), dadurch gekennzeichnet, dass
mindestens ein Facettenelement (1 , 201 , 333, 401 , 433, 501 , 601 , 801 ) zumindest eine erste reflektive Fläche (5, 505, 605, 793, 794, 805) und eine zweite reflektive Fläche (5, 505, 605, 793, 794, 805) aufweist und um eine Drehachse (9, 409, 509, 609, 709, 809) drehbar angeordnet ist,
wobei das optische Element (331 , 431 ) derart ausgebildet ist, dass während des Betriebs der Beleuchtungsoptik in einer ersten Drehstellung des Facettenelementes (1 , 201 , 333, 401 , 433, 501 , 601 , 801 ) nur die erste reflektive Fläche (5, 505, 605, 793, 794, 805) mit Strahlung beaufschlagt wird und in einer zweiten Drehstellung nur die zweite reflektive Fläche (5, 505, 605, 793, 794, 805).
12. Beleuchtungsoptik nach Anspruch 1 1
dadurch gekennzeichnet, dass
die erste reflektive Fläche (5, 505, 605, 793, 794, 805) in der ersten Drehstellung einen ersten Normalenvektor (707a) aufweist
und die zweite reflektive Fläche (5, 505, 605, 793, 794, 805) in der zweiten Drehstellung einen zweiten Normalenvektor (707b) aufweist, wobei der erste und der zweite
Normalenvektor (707a, 707b) einen Winkel einschließen, der größer als 1 ° ist.
13. Beleuchtungsoptik nach einem der Ansprüche 1 1 -12,
dadurch gekennzeichnet, dass
die erste und die zweite reflektive Fläche (5, 505, 605, 793, 794, 805) eine
unterschiedliche Reflektivität aufweisen.
14. Beleuchtungsoptik nach einem der Ansprüche 1 1 -13,
dadurch gekennzeichnet, dass
die Beleuchtungsoptik ein Messsystem (342) und ein Steuersystem (344) umfasst, das mit dem Messsystem (342) und mit einem Aktuator (332, 334) zur Drehung des mindestens einen Facettenelements (1 , 201 , 333, 401 , 433, 501 , 601 , 801 ) um die Drehachse (9, 409, 509, 609, 709, 809) in Signalverbindung steht, so dass der Aktuator (332, 334) beruhend auf einem Signal des Messsystems (342) angesteuert werden kann.
15. Beleuchtungsoptik nach Anspruch 14 zur Ausleuchtung eines Objektfeldes (341 , 441 ) in einer Objektebene (343),
dadurch gekennzeichnet, dass
das Messsystem (342) zur Messung einer winkelabhängigen Intensitätsverteilung am Objektfeld (341 , 441 ) ausgebildet ist.
16. Beleuchtungsoptik (325) zur Ausleuchtung eines Objektfeldes (341 , 441 ) in einer Objektebene (343)
umfassend ein erste optisches Element (327, 427) mit mindestens einem ersten und einem zweiten reflektiven Facettenelement (1 , 201 , 333, 401 , 433, 501 , 601 , 801 ) und ein zweites optischen Element (331 , 431 ) mit mindestens einem ersten und einem zweiten reflektiven Facettenelement (1 , 201 , 333, 401 , 433, 501 , 601 , 801 )
dadurch gekennzeichnet, dass
das zweite optische Element (331 , 431 ) derart ausgeführt ist, dass mindestens eines der reflektiven Facettenelemente (1 , 201 , 333, 401 , 433, 501 , 601 , 801 ) des zweiten optischen Elements (331 , 431 ) eine erste Stellung einnehmen kann, in der es während des Betriebs der Beleuchtungsoptik ein, von dem ersten reflektiven Facettenelement (1 , 201 , 333, 401 , 433, 501 , 601 , 801 ) des ersten optischen Elements (327, 427) ausgehendes, Strahlungsbündel in Richtung auf das Objektfeld (341 , 441 ) lenkt, und eine zweite Stellung, in der es während des Betriebs der Beleuchtungsoptik ein, von dem zweiten reflektiven Facettenelement (1 , 201 , 333, 401 , 433, 501 , 601 , 801 ) des ersten optischen Elements (327, 427) ausgehendes, Strahlungsbündel in Richtung auf das Objektfeld (341 , 441 ) lenkt
17. Beleuchtungsoptik nach Anspruch 16
dadurch gekennzeichnet, dass das zweite optische Element (331 , 431 ) derart ausgeführt ist, dass mindestens eines der reflektiven Facettenelemente (1 , 201 , 333, 401 , 433, 501 , 601 , 801 ) des zweiten optischen Elements (331 , 431 ) eine dritte Stellung einnehmen kann, in der es kein Strahlungsbündel in Richtung auf das Objektfeld lenkt
18. Beleuchtungsoptik nach Anspruch 17
dadurch gekennzeichnet, dass
das erste optische Element (327, 427) derart ausgeführt ist, dass mindestens eines der reflektiven Facettenelemente (1 , 201 , 333, 401 , 433, 501 , 601 , 801 ) des ersten optischen Elements (327, 427) eine erste Stellung einnehmen kann, in der es während des Betriebs der Beleuchtungsoptik Strahlung auf das erste reflektive Facettenelement (1 , 201 , 333, 401 , 433, 501 , 601 , 801 ) des zweiten optischen Elements (331 , 431 ) lenkt, und eine zweite Stellung, in der es während des Betriebs der Beleuchtungsoptik
Strahlung auf das zweite reflektive Facettenelement (1 , 201 , 333, 401 , 433, 501 , 601 , 801 ) des zweiten optischen Elements (331 , 431 ) lenkt.
19. Beleuchtungsoptik (325) nach einem der Ansprüche 16-18
dadurch gekennzeichnet, dass
dass das zweite optische Element (331 , 431 ) entsprechend einem der Ansprüche 1 -6 ausgeführt ist.
20. Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage (323) umfassend eine
Beleuchtungsoptik (325) nach einem der Ansprüche 9-18.
21 . Verfahren zur Veränderung einer winkelabhängigen Intensitätsverteilung einer Strahlung am Ort eines Objektfeldes (341 , 441 ),
wobei die winkelabhängige Intensitätsverteilung mit Hilfe einer Beleuchtungsoptik (325) nach einem der Ansprüche 7-14 erzeugt wird,
und wobei während des Betriebs der Beleuchtungsoptik Strahlung auf das optische Element (327, 427) trifft, so dass nach der Reflektion an der Mehrzahl von reflektiven Facettenelementen (1 , 201 , 333, 401 , 433, 501 , 601 , 801 ) sich eine Mehrzahl von Strahlungsbündeln ergibt,
dadurch gekennzeichnet, dass das mindestens eine Facettenelement (1 , 201 , 333, 401 , 433, 501 , 601 , 801 ) um die Drehachse (9, 409, 509, 609, 709, 809) gedreht wird, so dass sich der
Reflektionswinkel und/oder die Intensität zumindest eines Strahlungsbündels ändert.
22. Verfahren zur Veränderung einer winkelabhängigen Intensitätsverteilung nach Anspruch 14,
dadurch gekennzeichnet, dass
das Verfahren die folgenden Schritte umfasst:
a. Messung einer winkelabhängigen Intensitätsverteilung am Ort des Objektfeldes (341 ,441 )
b. Drehung des mindestens einen Facettenelements (1 , 201 , 333, 401 , 433, 501 , 601 , 801 ) beruhend auf der Messung, so dass sich die winkelabhängige Intensitätsverteilung am Ort des Objektfeldes (341 , 441 ) ändert.
PCT/EP2010/067520 2009-12-17 2010-11-16 Optisches element mit einer mehrzahl von reflektiven facettenelementen WO2011082872A1 (de)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012543559A JP5732071B2 (ja) 2009-12-17 2010-11-16 複数の反射ファセット要素を有する光学要素
KR1020127018764A KR101418193B1 (ko) 2009-12-17 2010-11-16 복수개의 반사 패싯 소자를 갖는 광학 소자
US13/486,073 US9063336B2 (en) 2009-12-17 2012-06-01 Optical element having a plurality of reflective facet elements

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102009054888.2 2009-12-17
DE102009054888A DE102009054888A1 (de) 2009-12-17 2009-12-17 Optisches Element mit einer Mehrzahl von refletiven Facettenelementen

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
US13/486,073 Continuation US9063336B2 (en) 2009-12-17 2012-06-01 Optical element having a plurality of reflective facet elements

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2011082872A1 true WO2011082872A1 (de) 2011-07-14

Family

ID=43903392

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/EP2010/067520 WO2011082872A1 (de) 2009-12-17 2010-11-16 Optisches element mit einer mehrzahl von reflektiven facettenelementen

Country Status (5)

Country Link
US (1) US9063336B2 (de)
JP (1) JP5732071B2 (de)
KR (1) KR101418193B1 (de)
DE (1) DE102009054888A1 (de)
WO (1) WO2011082872A1 (de)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102385082A (zh) * 2011-10-31 2012-03-21 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种用于euv光刻系统的复眼反射镜制作方法
JP2014003290A (ja) * 2012-06-04 2014-01-09 Carl Zeiss Smt Gmbh Ｅｕｖ用途向けの少なくとも１つのファセットミラーのファセットの角度位置を測定する光学的方法及び光学測定デバイス

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102008000967B4 (de) * 2008-04-03 2015-04-09 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Mikrolithographie
DE102011086345A1 (de) * 2011-11-15 2013-05-16 Carl Zeiss Smt Gmbh Spiegel
DE102012005546A1 (de) 2012-03-21 2013-09-26 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Mikrospiegelanordnung und Verfahren zur Herstellung einer Mikrospiegelanordnung
DE102013203364A1 (de) * 2013-02-28 2014-09-11 Carl Zeiss Smt Gmbh Reflektierende Beschichtung mit optimierter Dicke
DE102014216801A1 (de) * 2014-08-25 2016-02-25 Carl Zeiss Smt Gmbh Facettenspiegel für eine Beleuchtungsoptik für die Projektionslithographie
DE102016213561A1 (de) * 2016-07-25 2018-01-25 Trumpf Laser Gmbh Optische Anordnung mit scheibenförmigem laseraktiven Medium
DE102018207410A1 (de) 2018-05-14 2019-05-23 Carl Zeiss Smt Gmbh Facettenspiegel für eine Beleuchtungsoptik für die Projektionslithographie
DE102019214269A1 (de) * 2019-09-19 2021-03-25 Carl Zeiss Smt Gmbh Facettenspiegel für eine Beleuchtungsoptik einer Projektionsbelichtungsanlage
DE102022209214A1 (de) 2022-09-05 2024-03-07 Carl Zeiss Smt Gmbh Einzelspiegel eines Pupillenfacettenspiegels und Pupillenfacettenspiegel für eine Beleuchtungsoptik einer Projektionsbelichtungsanlage

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07333528A (ja) * 1994-06-07 1995-12-22 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 光ビーム偏向装置
US20050030653A1 (en) * 2002-02-09 2005-02-10 Hubert Holderer Facet mirror having a number of mirror facets
US20050174650A1 (en) 2002-04-30 2005-08-11 Frank Melzer Lighting system, particularly for use in extreme ultraviolet (euv) lithography
DE102007061194A1 (de) 2006-12-18 2008-06-19 Carl Zeiss Smt Ag Beleuchtungssystem für die EUV-Mikro-Lithografie, Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Mikro-Lithografie, Verfahren zur Korrektur der Elliptizität und/oder der Uniformität innerhalb einer derartigen Projektionsbelichtungsanlage, Verfahren zur Herstellung eines mikrostrukturierten Bauteils sowie mit dem Herstellungsverfahren hergestelltes Bauteil
EP1233292B1 (de) * 2001-01-05 2009-04-15 Avago Technologies Fiber IP (Singapore) Pte. Ltd. Optischer Schalter mit gestuften Facettenspiegeln
WO2009100856A1 (en) * 2008-02-15 2009-08-20 Carl Zeiss Smt Ag Facet mirror for use in a projection exposure apparatus for microlithography

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4738499A (en) * 1985-06-12 1988-04-19 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Stationary hologram scanner
US4793672A (en) * 1987-04-08 1988-12-27 Compugraphic Corporation Constant deviation scanning apparatus
JP2771593B2 (ja) * 1989-04-20 1998-07-02 富士通株式会社 光走査装置
DE10053587A1 (de) 2000-10-27 2002-05-02 Zeiss Carl Beleuchtungssystem mit variabler Einstellung der Ausleuchtung
US6292285B1 (en) * 1999-12-20 2001-09-18 Xerox Corporation Single rotating polygon mirror with v-shaped facets for a multiple beam ROS
US7129601B2 (en) * 2001-03-30 2006-10-31 Gsi Group Corporation Apparatus for controlled movement of an element
US6798494B2 (en) * 2001-08-30 2004-09-28 Euv Llc Apparatus for generating partially coherent radiation
JP2005508520A (ja) * 2001-11-09 2005-03-31 カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー 傾斜調節ミラー
DE10205425A1 (de) * 2001-11-09 2003-05-22 Zeiss Carl Smt Ag Facettenspiegel mit mehreren Spiegelfacetten
JP2003255092A (ja) 2002-02-28 2003-09-10 Nikon Corp 多面反射鏡の製造方法、多面反射鏡および投影露光装置
US7246909B2 (en) 2003-01-24 2007-07-24 Carl Zeiss Smt Ag Method for the production of a facetted mirror
WO2004100236A1 (ja) * 2003-05-09 2004-11-18 Nikon Corporation 照明光学系、投影露光装置、マイクロデバイスの製造方法、照明装置の製造方法、投影露光装置の調整方法、及び投影露光装置の製造方法
US7136214B2 (en) 2004-11-12 2006-11-14 Asml Holding N.V. Active faceted mirror system for lithography
DE102006020734A1 (de) 2006-05-04 2007-11-15 Carl Zeiss Smt Ag Beleuchtungssystem für die EUV-Lithographie sowie erstes und zweites optisches Element zum Einsatz in einem derartigen Beleuchtungssystem
DE102006059024A1 (de) * 2006-12-14 2008-06-19 Carl Zeiss Smt Ag Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie, Beleuchtungsoptik für eine derartige Projektionsbelichtungsanlage, Verfahren zum Betrieb einer derartigen Projektionsbelichtungsanlage, Verfahren zur Herstellung eines mikrostrukturierten Bauteils sowie durch das Verfahren hergestelltes mikrostrukturiertes Bauteil
CN103345128B (zh) 2007-02-06 2017-04-12 卡尔蔡司Smt有限责任公司 微光刻投射曝光设备的照明系统
DE102007008448A1 (de) * 2007-02-19 2008-08-21 Carl Zeiss Smt Ag Verfahren zur Herstellung von Spiegelfacetten für einen Facettenspiegel
WO2008131930A1 (en) * 2007-04-25 2008-11-06 Carl Zeiss Smt Ag Mirror matrix for a microlithographic projection exposure apparatus
DE102008040742A1 (de) 2007-08-02 2009-02-05 Carl Zeiss Smt Ag Verfahren und Vorrichtung zur Überwachung von Mehrfachspiegelanordnungen, optische Anordnung mit einer derartigen Vorrichtung sowie mit einer zweiten Mehrfachspiegelanordnung zum Ein- und Ausschalten einer ersten Mehrfachspiegelanordnung sowie Beleuchtungsoptik für eine Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen Vorrichtung
JP5326259B2 (ja) * 2007-11-08 2013-10-30 株式会社ニコン 照明光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法
JP2009244120A (ja) * 2008-03-31 2009-10-22 Dkk Toa Corp 光反射装置
DE102008001511A1 (de) * 2008-04-30 2009-11-05 Carl Zeiss Smt Ag Beleuchtungsoptik für die EUV-Mikrolithografie sowie Beleuchtungssystem und Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen Beleuchtungsoptik
DE102011004615A1 (de) * 2010-03-17 2011-09-22 Carl Zeiss Smt Gmbh Beleuchtungsoptik für die Projektionslithografie

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07333528A (ja) * 1994-06-07 1995-12-22 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 光ビーム偏向装置
EP1233292B1 (de) * 2001-01-05 2009-04-15 Avago Technologies Fiber IP (Singapore) Pte. Ltd. Optischer Schalter mit gestuften Facettenspiegeln
US20050030653A1 (en) * 2002-02-09 2005-02-10 Hubert Holderer Facet mirror having a number of mirror facets
US20050174650A1 (en) 2002-04-30 2005-08-11 Frank Melzer Lighting system, particularly for use in extreme ultraviolet (euv) lithography
DE102007061194A1 (de) 2006-12-18 2008-06-19 Carl Zeiss Smt Ag Beleuchtungssystem für die EUV-Mikro-Lithografie, Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Mikro-Lithografie, Verfahren zur Korrektur der Elliptizität und/oder der Uniformität innerhalb einer derartigen Projektionsbelichtungsanlage, Verfahren zur Herstellung eines mikrostrukturierten Bauteils sowie mit dem Herstellungsverfahren hergestelltes Bauteil
WO2009100856A1 (en) * 2008-02-15 2009-08-20 Carl Zeiss Smt Ag Facet mirror for use in a projection exposure apparatus for microlithography

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102385082A (zh) * 2011-10-31 2012-03-21 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种用于euv光刻系统的复眼反射镜制作方法
CN102385082B (zh) * 2011-10-31 2013-05-29 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种用于euv光刻系统的复眼反射镜制作方法
JP2014003290A (ja) * 2012-06-04 2014-01-09 Carl Zeiss Smt Gmbh Ｅｕｖ用途向けの少なくとも１つのファセットミラーのファセットの角度位置を測定する光学的方法及び光学測定デバイス

Also Published As

Publication number Publication date
JP5732071B2 (ja) 2015-06-10
US20120293785A1 (en) 2012-11-22
DE102009054888A1 (de) 2011-06-22
US9063336B2 (en) 2015-06-23
KR20120094519A (ko) 2012-08-24
KR101418193B1 (ko) 2014-08-06
JP2013514639A (ja) 2013-04-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2011082872A1 (de) Optisches element mit einer mehrzahl von reflektiven facettenelementen
DE102013212613B4 (de) Beleuchtungsoptik für ein Metrologiesystem sowie Metrologiesystem mit einer derartigen Beleuchtungsoptik
EP1186956B1 (de) Projektionsbelichtungsanlage
DE69132110T2 (de) Verfahren und vorrichtung zur belichtung
DE102009045096A1 (de) Beleuchtungssystem mit einer Spiegelanordnung aus zwei Spiegeln
WO2011091900A2 (de) Facettenspiegel zum einsatz in der mikrolithografie
WO1999067683A2 (de) Optisches system, insbesondere projektions-belichtungsanlage der mikrolithographie
WO2017153165A1 (de) Verfahren zum herstellen eines beleuchtungssystems für eine euv-projektionsbelichtungsanlage und beleuchtungssystem
DE102008041593A1 (de) Beleuchtungsoptik für die Mikrolithographie
DE102012209132A1 (de) Beleuchtungsoptik für die Projektionslithographie
DE102018216870A1 (de) Verfahren zum Herstellen eines Beleuchtungssystems für eine EUV-Anlage
DE102017219179B3 (de) Verfahren zum Wiedererstellen eines Beleuchtungssystems für eine EUV-Anlage, Detektormodul sowie Verfahren zum Überwachen eines in einer EUV-Anlage eingebauten Beleuchtungssystems
DE102012206153A1 (de) Optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102017217867A1 (de) EUV-Facettenspiegel für eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage
DE102013200394A1 (de) Polarisationsmessvorrichtung, Lithographieanlage, Messanordnung, und Verfahren zur Polarisationsmessung
DE102018207410A1 (de) Facettenspiegel für eine Beleuchtungsoptik für die Projektionslithographie
DE102011006003A1 (de) Beleuchtungsoptik zum Einsatz in einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithografie
DE102022209868A1 (de) Optische baugruppe, optisches system und projektionsbelichtungsanlage
WO2019149462A1 (de) Beleuchtungsoptik für die projektionslithographie
DE102022209214A1 (de) Einzelspiegel eines Pupillenfacettenspiegels und Pupillenfacettenspiegel für eine Beleuchtungsoptik einer Projektionsbelichtungsanlage
DE102022207148A1 (de) Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie
DE102022207312A1 (de) Optisches system und projektionsbelichtungsanlage
DE102022205815A1 (de) Komponente für eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithografie und Projektionsbelichtungsanlage
DE102012210073A1 (de) Beleuchtungsoptik für die EUV- Projektionslithographie
DE102011076460A1 (de) Beleuchtungsoptik

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 10782236

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2012543559

Country of ref document: JP

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20127018764

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 10782236

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1