WO2011013219A1 - パターンドメディア用原盤の製造方法及び磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

パターンドメディア用原盤の製造方法及び磁気記録媒体の製造方法 Download PDF

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宗博 小笠原
芳幸 鎌田
哲 喜々津
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株式会社 東芝
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    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
    • G11B5/855—Coating only part of a support with a magnetic layer

Definitions

  • the present invention relates to a method for manufacturing a disc-shaped master for patterned media and a method for manufacturing a magnetic recording medium.
  • patterned media has attracted attention in magnetic recording devices such as hard disk drives.
  • a resist pattern is formed on a Si substrate by electron beam lithography, and then a Ni film is embedded in the pattern opening by sputtering and plating. Subsequently, after bonding the Ni film to the support plate, the Ni film and the support plate are peeled off from the resist pattern, thereby producing a Ni father master.
  • a mother master can be made by an imprint process using the father master, and a plurality of stampers can be made. Finally, a large number of media (magnetic recording media) can be made using the stamper.
  • An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a master for patterned media and a method for manufacturing a magnetic recording medium that can shorten the pattern formation time by electron beam lithography or the like and can reduce the manufacturing time and manufacturing cost. It is in.
  • One aspect of the present invention includes a recording data portion for recording data, and a servo data portion including a sector identification region in which a sector identification pattern having a cut in a linear pattern along the circumferential direction is formed.
  • a step of forming an imprint master having a pattern of at least one sector, and an imprint using the imprint master in a circumferential direction are repeated on a support substrate for producing a patterned media master.
  • the step of forming a disc-shaped patterned media pattern By nicking each radial line pattern region, characterized in that it comprises a step of forming a sector identification pattern to the each sector.
  • the pattern formation time by electron beam lithography or the like can be shortened, and the manufacturing time and the manufacturing cost can be reduced.
  • the figure which shows schematic structure of the magnetic-recording apparatus using a patterned media The figure which shows the track
  • the figure which shows the patterned media manufacturing process concerning 1st Embodiment The figure which shows the patterned media manufacturing process concerning 1st Embodiment.
  • FIG. 1 is a perspective view showing a schematic configuration of a hard disk drive (magnetic recording device) using patterned media.
  • This apparatus uses a rotary actuator, and supports a magnetic disk (magnetic recording medium) 11, a spindle motor 12, a head slider 16 including a magnetic head, and a head slider 16 inside a housing 10.
  • a head suspension assembly (suspension 15 and actuator arm 14), a voice coil motor 17, and a circuit board are provided.
  • the magnetic disk 11 is a patterned medium, is mounted on a spindle motor 12 and is rotated, and various digital data are recorded by a perpendicular magnetic recording method.
  • the present apparatus may include a plurality of magnetic disks 11.
  • a head slider 16 for recording and reproducing information with respect to the magnetic disk 11 is attached to the tip of a thin film suspension 15.
  • the head slider 16 has a magnetic recording head mounted near its tip.
  • the magnetic head incorporated in the head slider 16 is a so-called composite head, and includes a write head having a single magnetic pole structure and a read head using a shielded MR reproducing element (GMR, TMR, etc.).
  • the pressure applied by the suspension 15 and the pressure generated at the medium facing surface (ABS) of the head slider 16 are balanced, and the medium facing surface of the head slider 16 has a predetermined flying height from the surface of the magnetic disk 11. Is held.
  • a so-called “contact traveling type” in which the head slider 16 is in contact with the magnetic disk 11 may be used.
  • the suspension 15 is connected to one end of an actuator arm 14 having a bobbin portion for holding a drive coil (not shown).
  • a voice coil motor 17 that is a kind of linear motor is provided at the other end of the actuator arm 14.
  • the voice coil motor 17 can be composed of a drive coil (not shown) wound around the bobbin portion of the actuator arm 14 and a magnetic circuit composed of a permanent magnet and a counter yoke arranged to face each other so as to sandwich the coil. .
  • the actuator arm 14 is held by ball bearings (not shown) provided at two locations above and below the bearing portion 13 and can be freely rotated and slid by the voice coil motor 17. As a result, the magnetic recording head can be moved to an arbitrary position on the magnetic disk 11.
  • the boundary of each sector is also a part of the arc.
  • R1 is the outer diameter of the magnetic disk 11
  • R1 is the inner diameter of the magnetic disk 11
  • R3 is the rotation radius of the magnetic head.
  • the recording pattern also has a different inclination with respect to the radial direction, as shown in FIGS. 3A to 3C, depending on the radial position.
  • the upper side is the outer area of the magnetic disk (area where the distance from the disk center is long), and the lower side is the inner area of the magnetic disk (area where the distance from the disk center is short).
  • the sector shape is a part of a simple sector.
  • FIG. 4 is a plan view showing a schematic configuration of the disc-shaped patterned medium according to the present embodiment.
  • the disk-shaped magnetic disk 11 is divided into a plurality of sectors in the circumferential direction. For example, it is divided into 256 sectors from sector 0 to 0 sector 255.
  • the shape of the sector boundary is usually an arc shape because of the trajectory of the signal detection head, but for the sake of simplicity, the description will be made below as a straight line.
  • FIG. 5 is an enlarged view showing the vicinity of the boundary between adjacent sectors, and is a diagram showing the arrangement relationship between the servo data portion and the recording data portion in the sector.
  • the sector 20 is divided into a servo data area 21 in which a servo pattern is formed and a recording data area 22 for storing recording data.
  • the servo data area 21 further includes a preamble pattern 211 for rotation control and a sector identification. It is divided into a sector information pattern 212, a track information pattern 213 for identifying a track in the radial direction, and a burst pattern 214 for aligning the position of the track.
  • the recording data area 22 is a continuous track, it becomes a so-called discrete track medium, and when it has a shape divided for each bit, it becomes a so-called bit patterned medium.
  • This embodiment can be applied to any medium.
  • a certain pattern may be repeatedly formed on a Si wafer.
  • a so-called step-and-repeat method is known in which a unit pattern is transferred a plurality of times.
  • this method cannot be directly applied to patterned media. This is because the pattern for each sector is similar, but the address part is different, so if it is simply applied, division patterns are required for the number of sectors, and it is difficult to obtain the advantages of the above process shortening time. .
  • the present inventors have found that the address part can be separated into a part common to each sector and a part to be additionally processed, and that the additional processing part is reduced as much as possible to greatly reduce the time. I found that it can be shortened.
  • a common sector imprint father master corresponding to one (or more) sectors is produced by electron beam lithography (FIG. 6: 101). That is, pattern data for one sector portion of the patterned media pattern is prepared.
  • a resist is applied to the imprint substrate, and drawing is performed based on the common sector pattern data using an electron beam drawing apparatus.
  • drawing is performed based on the common sector pattern data using an electron beam drawing apparatus.
  • a positive resist is used as the resist.
  • an imprint father master for a common sector having a common sector pattern is manufactured through a conventional father master manufacturing process.
  • the sector information pattern portion used for sector identification is a pattern in which only the common portion of the sector information pattern is formed. For example, as shown in FIG.
  • the pattern determined in this way is called a common sector pattern
  • drawing data for drawing the common sector pattern with an electron beam drawing apparatus is called common sector pattern data.
  • FIG. 7 is a plan view showing the imprint father master for the common sector.
  • the common sector imprint father master 30 made of Ni is formed with a common sector pattern 36 for one sector in a fan-shaped region. Further, at least two marks 37 for alignment in the circumferential direction and the radial direction are provided in the peripheral portion of the master disk 30, and alignment when imprinting on the disk-shaped substrate can be performed. It is possible. In addition, it is also effective in increasing the alignment accuracy to form an alignment pattern such as a warnier pattern at a connection portion between adjacent sectors.
  • FIG. 9A a sample in which a positive resist 32 such as a PMMA resist is applied to a disk-shaped substrate 31 is prepared, and a desired pattern is drawn on the sector sector by an electron beam drawing apparatus. To do. Thereafter, the resist 32 is developed to form a resist pattern as shown in FIG. Subsequently, as shown in FIG. 9C, a Ni film 33 is formed on the surface of the resist 32 and the exposed surface of the substrate by sputtering, and then, as shown in FIG. To flatten.
  • a positive resist 32 such as a PMMA resist
  • the Ni films 33 and 34 are peeled off from the resist 32 and the substrate 31 as shown in FIG. As a result, the common sector imprint father master 30 as shown in FIG. 7 is produced.
  • a disk-shaped substrate 41 is prepared by applying a material film 42 having the characteristics of a positive resist such as PMMA resist, and the common sector imprint master 30 is used. Imprint by thermal imprint method. As a result, a common sector pattern is formed as shown in FIG. Here, by rotating the substrate 41 or rotating the common sector imprint father master 30, common sector patterns corresponding to the number of sectors are formed on the entire surface of the disk-shaped substrate 41.
  • a sector identification pattern is drawn on a disk-shaped substrate having the same number of sectors as the number of sectors formed on the entire surface of the substrate using an electron beam drawing apparatus.
  • a sector identification pattern is formed as shown in FIG. That is, as shown in FIG. 8 (b), sector identification information is formed in addition to the common sector pattern formed by imprinting by making a cut by electron beam lithography.
  • a plurality of linear patterns are cut at the same circumferential position.
  • a mother master (patterned media master) 40 having a patterned media pattern is produced by sputtering the Ni film 43.
  • a disk-shaped substrate 51 is prepared by applying a material film 52 having the characteristics of a positive resist such as PMMA resist, and thermal imprinting is performed using the mother master 40.
  • a pattern as shown in FIG. 11 (l) is formed.
  • a Ni film 53 is formed on the surface of the resist 52 and the exposed surface of the substrate 51 by sputtering, and then, as shown in FIG. To flatten.
  • the Ni films 53 and 54 are peeled off from the resist 52 and the substrate 51 as shown in FIG. As a result, the patterned medium master (stamper) 50 is duplicated.
  • the magnetic film 62 is formed on the substrate 61, and the resist film 63 is further formed thereon, and then imprinted using the stamper 50, A resist pattern as shown in 12 (q) is formed.
  • the magnetic film 62 is selectively etched by the RIE method using the pattern of the resist 63 as a mask, and then the resist film 63 is removed as shown in FIG. 12 (s). Thereafter, as shown in FIG. 12 (t), the magnetic recording medium 60 is manufactured by forming a protective film 64 and planarizing the surface.
  • a patterned media master can be produced by forming a sector identification pattern by making a cut in the radial direction in the linear pattern.
  • the pattern formation time by electron beam lithography or the like can be shortened, and the production time and production cost required for producing the patterned media master can be reduced.
  • the electron beam draws a straight line at a predetermined angle as shown in FIG. 8B.
  • the electron beam draws a straight line at a predetermined angle as shown in FIG. 8B.
  • a disk-shaped sample coated with a resist on the silicon surface is placed on a pedestal on a stage that can rotate and uniaxially translate, and the pedestal is moved in parallel at a constant speed while rotating at a constant rotational speed.
  • the electron beam irradiation position on the sample surface comes to the electron beam irradiation position, the electron beam is irradiated.
  • a pattern can be formed in a substantially concentric pattern on the disk.
  • a nickel layer is formed by sputtering a nickel layer, plating a nickel layer, bonding to a support plate, peeling off the resist pattern, and removing the resist residue.
  • a master can be produced. By performing an imprint process using this father master, a mother master with inverted irregularities can be created, and by using imprint, a large number of media masters can be duplicated for each.
  • the time required to form the pattern on the entire surface of the disk includes the area of the pattern formation area, the area of the positioning unit (hereinafter referred to as a pixel) for irradiating the electron beam, the electron beam current density, It is almost determined by the resist sensitivity. If a pixel is a square having a length of L, the area of the pixel is L 2 , and therefore the number of pixels increases in inverse proportion to the square of L as L becomes finer. For example, assuming that the resist sensitivity is 30 ⁇ C / cm 2 , the length of one side of a square pixel is 30 nm, the current density is 1000 A / cm 2 , and the area to be patterned is 5 cm in diameter, the area is about 78.5 cm 2 .
  • the number is 8.7 ⁇ 10 12 pieces. Since the irradiation time of the electron beam per pixel is 30 ns, the irradiation time requires at least about 72 hours. When the length of one side of a pixel is 20 nm, this time is twice or more.
  • the electron beam drawing apparatus is composed of many elements such as a lens power source, an electron gun, amplifiers, a stage system, etc., and high stability is required for all of them in long-time drawing of 72 hours according to the conventional method. This leads not only to deterioration in accuracy but also to increasing the probability of occurrence of defects such as pattern errors. In particular, when the pattern is miniaturized, it is required to improve the drawing accuracy. On the other hand, since the drawing time increases, the difficulty increases.
  • the pattern drawing on the master disk by the electron beam takes a much shorter time, so that the stability requirement of the electronic beam drawing apparatus can be greatly reduced. Conversely, extremely high stability can be obtained with the same apparatus.
  • the servo portion since the servo portion only draws a pattern orthogonal to that obtained by the common pattern, the accuracy requirement in the radial direction can be greatly reduced, and the pattern formation accuracy of the track portion can be greatly increased.
  • This problem can be alleviated by using electron beam lithography technology.
  • the resist undergoes a change in chemical characteristics, and the change in shape is achieved by dissolving the exposed portion by a chemical process called development, so a pattern like when using the imprint method is used. The deformation of can be mitigated.
  • a high acceleration device of, for example, 50 kV to 100 kV.
  • the method of using electron beam lithography for forming the sector identification signal is particularly effective in improving the tracking reliability.
  • the track pitch is larger than 100 nm, this effect may be small.
  • the effect of the present invention is large particularly at a track pitch smaller than 100 nm. It seems to be.
  • a common sector pattern can also be formed by using optical imprinting using a UV curable resin.
  • a sector identification pattern is formed by sputtering by focused ion beam or gas assist etching as a method for forming an identification pattern not by electron beam lithography. It is also possible.
  • sputtering with a focused ion beam there are problems such that re-adhesion is likely to occur and damage may occur, but there is an advantage that pattern development can be performed without development.
  • gas-assisted etching there are problems such as gas processing and gas contamination, but there is an advantage that processing with less damage can be performed.
  • ion beam lithography can be used instead of sputtering by the focused ion beam. In this case, the possibility that ions may damage the substrate must be considered.
  • the resist is sensitive to the wavelength of X-rays or light used in X-ray lithography, EUV lithography, or optical lithography
  • X-ray lithography, EUV lithography, or optical lithography may be used instead of electron beam lithography. it can.
  • a high-accuracy mask is prepared and the lithography apparatus itself is extremely large. Furthermore, there is a problem that the resolution is inferior to that of electron beam lithography. Therefore, electron beam lithography is most suitable.
  • FIG. 13 is a diagram for explaining a method of manufacturing a patterned media master according to the second embodiment of the present invention.
  • the difference of the present embodiment from the first embodiment described above is a method for forming a sector identification pattern.
  • an identification pattern is formed by performing ion beam etching using a stencil mask 70 dedicated to a sector identification pattern as shown in FIG. It is also possible.
  • a sector identification pattern 71 is formed in each sector identification region corresponding to each sector. For this reason, since the sector identification pattern can be formed collectively for all sectors, the manufacturing time and the manufacturing cost can be reduced.
  • the time for forming a fine pattern of the patterned media in the process of forming the master of the patterned media is as follows. Can be reduced to 1/256 compared with the conventional method. Even if the time required for the process of creating the imprint master and the process of forming the sector identification pattern is included, the master production time can be drastically reduced.
  • each process can be performed using different apparatuses. Therefore, if the operations are performed in parallel, the time required for creating the board can be several tens of minutes per sheet. . Furthermore, when using the method of this embodiment, it is possible to form the same pattern with high accuracy as each sector. Therefore, there is an advantage that the servo characteristics are equal in all sectors with high accuracy and adjustment is easy.
  • the step of making a cut in the linear pattern is not limited to the method of performing selective etching by electron beam lithography as in the first embodiment and ion beam using a stencil mask as in the second embodiment. Can also be used.
  • a disc-shaped imprint master for forming an identification pattern is prepared, and a sector identification pattern is formed after the common sector pattern is formed using this.
  • a sector identification pattern is formed in each sector identification area corresponding to each sector, like the pattern 71 of FIG. For this reason, since the sector identification pattern can be formed collectively for all sectors, the manufacturing time and the manufacturing cost can be reduced.
  • the pattern of the disc-shaped imprint master for forming the identification pattern is very simple and the area is small, even when pattern formation is performed using electron beam lithography, the time for electron beam irradiation can be short. .
  • the identification pattern is applied by applying pressure to the already formed linear resist structure, it is necessary to consider the problem that the resist is easily deformed.
  • FIG. 14 is a diagram for explaining a method of manufacturing a patterned medium according to the fourth embodiment of the present invention.
  • the alignment mark 90 is provided in advance on the pattern production substrate 41 so as to correspond to the alignment mark 37 of the father master 30.
  • the mark 90 is used as an alignment mark at the time of imprinting, as well as an alignment mark at the time of electron beam drawing, focused ion beam processing, etching, and imprinting for forming a sector identification pattern.
  • the position is determined using the mark 37 provided on the father master 30 and the mark 90 provided on the pattern production substrate 41. Align. For this, an optical alignment technique may be used. Thereby, alignment of the father master 30 and each sector of the pattern production substrate 41 can be performed with high accuracy. In the present embodiment, three marks 90 are arranged in each sector, but at least two marks 90 are sufficient.
  • the common sector pattern can be configured to include a plurality of sectors. For example, in the case of 512 sectors, even if one common sector pattern includes four sectors, the electron beam writing time can be reduced to 1/128. By doing so, the electron beam drawing time is extended, but the number of imprints can be reduced. It is desirable to select the optimum number of sectors in terms of shortening the entire manufacturing process.
  • the arrangement is not only arranged side by side in the angular direction, but for example, if the total number of sectors is an even number, two are arranged at positions 180 degrees apart from each other, or 90 if the number is a multiple of 4.
  • Various arrangements are conceivable, such as four arrangements every degree or six arrangements every 60 degrees if they are multiples of six. In this case, it becomes easy to mechanically match the center of the father mask having the common sector pattern with the center of the mother mask substrate.
  • this invention is not limited to each Example mentioned above.
  • the imprint method is used when producing the stamper from the mother master, but it is also possible to use an electroforming method.
  • the number of sector patterns formed on the father master (imprint master) is not limited to 1, 2, 4 and 6, and can be appropriately changed according to the specifications.
  • the material of the substrate, the imprint film to be formed thereon, and the metal film formed by sputtering or plating can be appropriately changed according to the specifications.

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  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

　円周方向に配列された複数のセクターから構成される円盤状パターンドメディア用原盤の製造方法であって、サーボデータ部と記録データ部を含み、サーボデータ部のセクター識別領域には線状パターンに切れ目を入れる前の各セクターで共通の周方向に沿った線状パターンが形成された、少なくとも１つのセクターのパターンを有するインプリント原盤を形成する工程と、支持基板上に、前記インプリント原盤を用いたインプリントを円周方向に繰り返して円盤状のパターンドメディアのパターンを形成する工程と、前記支持基板上に形成されたパターンのうち、前記各セクター識別領域の線状パターンに、半径方向に切れ目を入れてセクター識別用パターンを形成する工程と、を含む。

Description

パターンドメディア用原盤の製造方法及び磁気記録媒体の製造方法
　本発明は、円盤状のパターンドメディア用の原盤を製造する方法及び磁気記録媒体の製造方法に関する。
　近年、ハードディスクドライブ等の磁気記録装置においてパターンドメディアが注目されている。このパターンドメディアの原盤を作製するには、電子ビームリソグラフィーによってＳｉ基板上にレジストパターンを形成した後、スパッタ及びメッキによりパターン開口部にＮｉ膜を埋め込む。続いて、Ｎｉ膜を支持板に接着した後、Ｎｉ膜及び支持板をレジストパターンから剥離することにより、Ｎｉのファザー原盤を作製する。そして、このファザー原盤を用いたインプリントプロセスによりマザー原盤を作り、更に複数のスタンパを作り、このスタンパを用いて最終的に多数のメディア（磁気記録媒体）を作ることができる。
　しかしながら、この種の方法にあっては、ファザー原盤を作製するために電子ビーム描画装置を用いて円盤全面にパターンを描画する必要があり、ファザー原盤を形成するのに多大な時間が掛かる問題がある。
　そこで最近、データ領域をインプリントで形成し、サーボ領域を電子ビーム描画で形成する方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。しかし、データ領域とサーボ領域とは半径方向にも高精度に位置合わせする必要があり、データ領域とサーボ領域を別々に形成した場合、これらの領域の位置合わせが極めて難しい。さらに、サーボ領域の全体を電子ビームで描画するために、依然としてサーボ領域の形成に多大な時間が掛かる。
　また、パターンドメディア用原盤ではないが、小型スタンパを反復的にインプリントしてスタンパを形成する方法がある（例えば、特許文献２参照）。しかし、この方法は、形成すべきパターンが全く同じパターンの繰り返しであれば適用できるが、パターンドメディアのようにセクター毎にセクター番号等の違いがあるパターンには適用できない。
特開２００５－１００４９９号公報 特開２００８－０５５９０８号公報
　本発明の目的は、電子ビームリソグラフィー等によるパターン形成時間を短縮することができ、製造時間及び製造コストの低減をはかり得るパターンドメディア用原盤の製造方法及び磁気記録媒体の製造方法を提供することにある。
　本発明の一態様は、データを記録するための記録データ部と、円周方向に沿った線状パターンに切れ目を入れたセクター識別パターンが形成されたセクター識別領域を含むサーボデータ部と、を有する複数のセクターを円周方向に配列した円盤状パターンドメディア用の原盤を製造する方法であって、前記セクター識別領域には前記切れ目を入れる前の各セクターで共通の線状パターンが形成された、少なくとも１つのセクターのパターンを有するインプリント原盤を形成する工程と、パターンドメディア用原盤を作製するための支持基板上に、前記インプリント原盤を用いたインプリントを円周方向に繰り返して円盤状のパターンドメディアのパターンを形成する工程と、前記支持基板上に形成されたパターンのうち、前記各セクター識別領域の線状パターンにそれぞれ半径方向に切れ目を入れることにより、前記各セクターにセクター識別用パターンを形成する工程と、を含むことを特徴とする。
　本発明によれば、パターンドメディア用原盤の製造に際し、電子ビームリソグラフィー等によるパターン形成時間を短縮することができ、製造時間及び製造コストの低減をはかることができる。
パターンドメディアを用いた磁気記録装置の概略構成を示す図。 磁気ヘッドの軌道を示す図。 磁性体が円弧状に配列される状態を示す図。 パターンドメディアの構成を示す図。 セクター内のサーボデータ部と記録データ部の配置関係を示す図。 第１の実施形態に係わるパターンドメディア用原盤の製造手順を示す図。 共通セクター用インプリントファザー原盤を示す図。 セクター識別領域にセクター識別用パターンを形成する工程を示す図。 第１の実施形態に係わるパターンドメディア製造プロセスを示す図。 第１の実施形態に係わるパターンドメディア製造プロセスを示す図。 第１の実施形態に係わるパターンドメディア製造プロセスを示す図。 第１の実施形態に係わるパターンドメディア製造プロセスを示す図。 第２の実施形態に係わるパターンドメディア製造プロセスを示す図。 第４の実施形態に係わるパターンドメディア製造プロセスを示す図。
　以下、本発明の詳細を図示の実施形態によって説明する。
　（第１の実施形態）
　図１は、パターンドメディアを用いたハードディスクドライブ（磁気記録装置）の概略構成を示す斜視図である。
　この装置は、ロータリーアクチュエータを用いた形式であり、筐体１０の内部に、磁気ディスク（磁気記録媒体）１１と、スピンドルモータ１２と、磁気ヘッドを含むヘッドスライダー１６と、ヘッドスライダー１６を支持するヘッドサスペンションアッセンブリ（サスペンション１５とアクチュエータアーム１４）と、ボイスコイルモータ１７と、回路基板とを備えている。
　磁気ディスク１１はパターンドメディアであり、スピンドルモータ１２に装着されて回転され、垂直磁気記録方式により各種のデジタルデータが記録される。ここで、本装置は、複数の磁気ディスク１１を備えたものとしても良い。
　磁気ディスク１１に対して情報の記録再生を行うヘッドスライダー１６は、薄膜状のサスペンション１５の先端に取り付けられている。ここで、ヘッドスライダー１６は、磁気記録ヘッドをその先端付近に搭載している。ヘッドスライダー１６に組み込まれている磁気ヘッドはいわゆる複合型ヘッドであり、単磁極構造のライトヘッドと、シールド型ＭＲ再生素子（ＧＭＲ，ＴＭＲなど）を用いたリードヘッドとを含む。
　磁気ディスク１１が回転すると、サスペンション１５による押付け圧力とヘッドスライダー１６の媒体対向面（ＡＢＳ）で発生する圧力とが釣り合い、ヘッドスライダー１６の媒体対向面は、磁気ディスク１１の表面から所定の浮上量をもって保持される。なお、ヘッドスライダー１６が磁気ディスク１１と接触する、いわゆる「接触走行型」としても良い。
　サスペンション１５は、図示しない駆動コイルを保持するボビン部などを有するアクチュエータアーム１４の一端に接続されている。アクチュエータアーム１４の他端には、リニアモータの一種であるボイスコイルモータ１７が設けられている。ボイスコイルモータ１７は、アクチュエータアーム１４のボビン部に巻き上げられた図示しない駆動コイルと、このコイルを挟み込むように対向して配置された永久磁石及び対向ヨークからなる磁気回路とから構成することができる。
　アクチュエータアーム１４は、軸受部１３の上下２箇所に設けられた図示しないボールベアリングによって保持され、ボイスコイルモータ１７により回転摺動が自在にできるようになっている。その結果、磁気記録ヘッドを磁気ディスク１１の任意の位置に移動可能となる。
　このような構成の磁気記録装置においては、図２に示すように磁気ヘッドの軌道は円弧を描くため、各セクターの境界も円弧の一部となる。図２において、Ｒ１は磁気ディスク１１の外径、Ｒ１は磁気ディスク１１の内径、Ｒ３は磁気ヘッドの回転半径である。また、記録パターンも半径方向位置によって、図３（ａ）～（ｃ）に示すように、半径方向に対して異なる傾きを持つ。図３において、上側が磁気ディスクの外側領域（ディスク中心からの距離が長い領域）、下側が磁気ディスクの内側領域（ディスク中心からの距離が短い領域）である。便宜上、以下では、セクターの形状を単純な扇形の一部として説明を進める。
　図４は、本実施形態に係わる円盤状パターンドメディアの概略構成を示す平面図である。円盤状の磁気ディスク１１は円周方向に複数のセクターに分割される。例えば、sector 0 から sector 255 の２５６のセクターに分割される。セクター境界の形状は、信号検出のヘッドの軌道の関係で円弧状になっているのが普通であるが、以下簡単のため、直線状として説明を進める。
　図５は、隣接するセクターの境界付近を拡大して示すものであり、セクター内のサーボデータ部と記録データ部の配置関係を示す図である。セクター２０はサーボパターンが形成されたサーボデータ領域２１と記録データを保存するための記録データ領域２２とに分けられ、更にサーボデータ領域２１は回転制御のためのプリアンブルパターン２１１、セクター識別のためのセクター情報パターン２１２、半径方向にトラックを識別するためのトラック情報パターン２１３、及びトラックの位置を合わせるためのバーストパターン２１４とに分けられる。記録データ領域２２が連続したトラックの場合、いわゆるディスクリートトラック媒体となり、ビット毎に分割された形状の場合、いわゆるビットパターンド媒体となる。本実施形態は何れの媒体にも適用可能である。
　次に、本実施形態の特徴である、パターンドメディア用原盤の製造方法について、図６のフローチャートを参照して説明する。
　半導体プロセスにおいては、ある決まったパターンを繰り返しＳｉウェハー上に形成することがあり、そのような場合にはユニットとなるパターンを複数回転写する、いわゆるステップアンドリピートと呼ばれる方式が知られている。しかしながら、この手法をそのままパターンドメディアに適用することはできない。何故ならば、各セクター毎のパターンは類似しているが、アドレス部分が異なるため、単純に適用するとなるとセクターの数の分だけ分割パターンが必要であり、上記のプロセス短縮時間のメリットは得にくい。本発明者らは、これを解消する手法を検討した結果、アドレス部分は各セクターで共通する部分と追加工する部分とに分離できること、またその追加工部分をできる限り少なくして時間を大幅に短縮できることを見出した。
　まず、電子ビームリソグラフィーにより、セクター１個（又は複数個）に相当する共通セクター用インプリントファザー原盤を作製する（図６：１０１）。即ち、パターンドメディアパターンのうち、１セクター部分のパターンデータを用意する。
　具体的には、インプリント基板にレジストを塗布し、電子ビーム描画装置を用いて、共通セクターパターンデータに基づいて描画を行う。この際、電子ビーム描画装置としてはＸＹステージを使用したベクタースキャン方式の描画装置を使用することが望ましい。これは、１軸並行移動と回転ステージを有する装置ではパターンが存在しない領域も電子ビーム描画可能領域を通過するために無駄時間が発生するためである。レジストとしてはポジ型レジストを使う。以下、従来のファザー原盤製作のプロセスを経て、共通セクターパターンを有する共通セクター用インプリントファザー原盤が作製される。
　ここで、セクター識別に用いられるセクター情報パターン部分についてはセクター情報パターンの共通部分のみが形成されたパターンとしておく。例えば、図８（ａ）に示すように、切れ目の無いパターンとしておく。このように決められたパターンを共通セクターパターン、共通セクターパターンを電子ビーム描画装置で描画するための描画データを共通セクターパターンデータと呼ぶ。
　図７は、共通セクター用インプリントファザー原盤を示す平面図である。Ｎｉからなる共通セクター用インプリントファザー原盤３０には、扇型の領域に１セクター分の共通セクターパターン３６が形成されている。また、原盤３０の周辺部には、円周方向及び半径方向の位置合わせのためのマーク３７が少なくとも２箇所設けられており、円盤状の基板にインプリントを行う際の位置合わせを行うことが可能となっている。また、隣り合うセクターとの接続部に例えばワーニアパターン等の位置合わせパターンを形成しておくことも位置合わせ精度を高める上で有効である。
　次いで、図７に示す共通セクター用インプリントファザー原盤を用いて円周方向にインプリントを繰り返し、全てのセクターに共通セクターパターンを形成する（図６：１０２）。続いて、セクター識別情報を電子ビームリソグラフィーにより形成することにより、セクター識別用パターンを形成する。即ち、前記図８（ａ）に示す線状のパターンに対して、図８（ｂ）に示すように電子ビームを照射し、図８（ｃ）に示すように一定の規則について切れ目を入れることにより、セクター毎に異なるセクター識別用パターンを形成する。これにより、マザー原盤（パターンドメディア用原盤）を作製する（図６：１０３）
　次いで、マザー原盤を用いてインプリントすることにより、複数のメディア用原盤（スタンパ）を作製する（図６：１０４）。続いて、メディア用原盤を用いてインプリントすることにより、多数のメディア（磁気記録媒体）を作製する（図６：１０５）。
　図９～図１２に、更に詳細なプロセスを示す。
　まず、図９（ａ）に示すように、円盤状の基板３１上にＰＭＭＡレジスト等のポジ型レジスト３２を塗布した試料を用意し、扇型のセクター領域に電子ビーム描画装置により所望パターンを描画する。その後、レジスト３２を現像することにより、図９（ｂ）に示すように、レジストパターンを形成する。続いて、図９（ｃ）に示すように、レジスト３２の表面及び基板の露出面にＮｉ膜３３をスパッタで形成した後、図９（ｄ）に示すように、Ｎｉ膜３４をメッキし表面を平坦化する。
　次いで、Ｎｉ膜３４を支持板（図示せず）に接着した後、図９（ｅ）に示すように、Ｎｉ膜３３，３４をレジスト３２及び基板３１から引き剥がす。これにより、前記図７に示すような共通セクター用インプリントファザー原盤３０が作製される。
　次いで、図１０（ｆ）に示すように、円盤状の基板４１に例えばＰＭＭＡレジスト等のポジ型レジストの特性を有する材料膜４２を塗布したものを用意し、共通セクター用インプリント原盤３０を用いて熱インプリント法によりインプリントする。これにより、図１０（ｇ）に示すように、共通セクターパターンを形成する。ここで、基板４１を回転する或いは共通セクター用インプリントファザー原盤３０を回転することにより、円盤状の基板４１上の全面にセクターの数だけの共通セクターパターンを形成する。
　次いで、図１０（ｈ）に示すように、基板全面にセクターの数だけの共通セクターパターンが形成された円盤状の基板に電子ビーム描画装置を用いて、セクター識別用パターンを描画する。その後、現像プロセスを通すことにより、図１０（ｉ）に示すように、セクター識別用パターンを形成する。即ち、前記図８（ｂ）に示すように、電子ビームリソグラフィーにより切れ目を入れることにより、インプリントで形成された共通セクターパターンに加えてセクター識別情報を形成する。ここで、電子ビームを半径方向に走査することにより、複数の線状パターンの同じ周方向位置に切れ目を入れることになる。
　次いで、図１０（ｊ）に示すように、Ｎｉ膜４３をスパッタすることにより、パターンドメディアのパターンのマザー原盤（パターンドメディア用原盤）４０を作製する。
　次いで、図１１（ｋ）に示すように、円盤状の基板５１に例えばＰＭＭＡレジスト等のポジ型レジストの特性を有する材料膜５２を塗布したものを用意し、マザー原盤４０を用いて熱インプリント法によりインプリントすることにより、図１１（ｌ）に示すようなパターンを形成する。
　次いで、図１１（ｍ）に示すように、レジスト５２の表面及び基板５１の露出面にＮｉ膜５３をスパッタで形成した後、図１１（ｎ）に示すように、Ｎｉ膜５４をメッキし表面を平坦化する。
　次いで、Ｎｉ膜５４に支持板（図示せず）を接着した後、図１１（ｏ）に示すように、Ｎｉ膜５３，５４をレジスト５２及び基板５１から引き剥がす。これにより、パターンドメディアの原盤（スタンパ）５０が複製される。
　次いで、図１２（ｐ）に示すように、基板６１上に磁性体膜６２を形成し、更にその上にレジスト膜６３を形成した試料に対し、スタンパ５０を用いてインプリントすることにより、図１２（ｑ）に示すようなレジストパターンを形成する。
　次いで、図１２（ｒ）に示すように、レジスト６３のパターンをマスクに磁性体膜６２をＲＩＥ法で選択エッチングした後に、図１２（ｓ）に示すように、レジスト膜６３を除去する。その後、図１２（ｔ）に示すように、保護膜６４を形成して表面を平坦化することにより、磁気記録媒体６０を作製する。
　このように本実施形態によれば、１つのセクターのパターンを有するインプリント原盤を用いたインプリントを円周方向に繰り返して円盤状のパターンドメディアのパターンを形成した後、各セクター識別領域の線状パターンに、半径方向に切れ目を入れてセクター識別用パターンを形成することにより、パターンドメディア用原盤を作製することができる。そしてこの場合、電子ビームリソグラフィー等によるパターン形成時間を短縮することができ、パターンドメディア原盤の作製に要する製造時間及び製造コストの低減をはかることができる。
　ここで、前記図８（ｃ）に示すようにセクター識別用パターンとして線に切れ目を入れたものを用いる場合、図８（ｂ）に示すように電子ビームは決められた角度で直線を描画するだけで良いので、描画時の位置精度の要求を大幅に低減できる。セクター識別用パターンの円周方向パターンを形成せずに、独立して電子ビーム描画で形成する場合は、それ以外のパターンと半径方向位置を合わせて描画するには極めて高い描画位置精度が必要となる。図８で述べる方法では、半径方向の線は予め形成されており、電子ビームの露光は半径方向に直線状に行うので良いから、容易に高いパターン形成精度が得られる。
　セクター識別用パターンとしては様々なものが考えられる。２５６種類を識別するのであれば最低８箇所に切れ目があるか無いか、つまり８ビットのパターンで識別できるが、切れ目を入れる箇所を増やして識別信号のビット数を増やし必要に応じて誤り修正機能を持つパターンとすることもできる。
　また、本実施形態により作製したパターンドメディアのサーボ特性を詳細に検討したところ、本実施形態によるとサーボ信号の品質を向上させる効果もあることが分かった。その検討結果を以下に示す。
　従来方法では、シリコン表面にレジストを塗布された円盤状の試料を回転と１軸平行移動が可能なステージ上の台座に載せ、台座を一定の回転速度で回転させながら一定の速度で平行に移動させ、電子ビームの照射位置に試料面上の電子ビームを照射する位置が来た時に電子ビームを照射する。この後、試料を現像することにより、円盤上にほぼ同心円状にパターンを形成することができる。その上に、例えばＮｉ膜をスパッタ法で成膜した上にニッケル層をメッキして、支持板に接着した後レジストパターンから剥離して、レジスト残渣を除去するプロセスを行うことにより、ニッケルのファザー原盤を作製できる。このファザー原盤を用いてインプリントプロセスを行うことにより凹凸が反転したマザー原盤を作り、更に、インプリントを用いることでそれぞれについてメディア用原盤の複製を多数作ることができる。
　ここで、円盤全面にパターンを形成するのに必要な時間は、パターンを形成する領域の面積と、電子ビームを照射する位置の位置決め単位（以下ピクセルと呼ぶ）の面積と、電子ビーム電流密度と、レジスト感度でほぼ決まる。ピクセルを一片の長さがＬの正方形とすると、ピクセルの面積はＬ2 であるから、Ｌの微細化と共にピクセルの数はＬの２乗に反比例して増加する。例えば、レジスト感度を３０μＣ／ｃｍ2、正方形のピクセルの一辺の長さを３０ｎｍ、電流密度を１０００Ａ／ｃｍ2、パターンを形成すべき領域を直径５ｃｍとすると、面積は約７８．５ｃｍ2 でピクセル数は８．７×１０12個。１ピクセル当りの電子ビームの照射時間は３０ｎｓであるから、照射時間は少なくとも約７２時間を必要とする。ピクセルの一辺の長さが２０ｎｍとなると、この２倍以上の時間が必要である。
　通常、スパッタ時間とメッキ時間とを加えても高々数時間であるから、上記の工程の中で大部分の時間は電子ビーム描画の時間となる。
　電子ビーム描画装置はレンズ電源、電子銃、アンプ類、ステージ系等の多くの要素から構成されており、従来方法による７２時間という長時間の描画においては、これら全てに高い安定性が求められる。このことは、精度の劣化ということにとどまらずパターンエラー等の欠陥の発生する確率を高めることに通じる。特に、パターンが微細化すると描画精度の向上が求められる一方で、描画時間が増大することから、困難が増加する。
　これに対して、本実施形態で述べた方法であれば、電子ビームによる原盤のパターン描画は遥かに短い時間であるので、電子ビム描画装置の安定性の要求を大きく低減できる。逆に、同じ装置であれば極めて高い安定性が得られる。特に、サーボ部分は共通パターンで得られたものに直交するパターンを描画するだけであるから、半径方向の精度要求を遥かに低減でき、トラック部のパターン形成精度を大幅に高めることができる。
　先に述べたようにセクター識別用パターンをインプリントで追加形成しようとする場合、既に形成されている微細パターンに更に圧力を加えることになるのでパターンが変形して、所望のパターン形成が難しい。これは、トラッキング特性の観点からの製品の歩留まりの低下につながる。
　電子ビームリソグラフィー技術を用いることでこの問題を緩和できる。つまり、電子ビーム露光時はレジストに化学的な特性の変化をもたらし、形状の変化は現像と言う化学プロセスにより露光部を溶解させることで成されるので、インプリント法を用いる場合のようなパターンの変形を緩和することができる。セクター識別部のパターンを電子ビーム露光の後現像することにより後から形成する場合は例えば５０ｋＶ～１００ｋＶの高加速の装置を用いることが望ましい。高加速電子ビームを用いることで、レジスト中の電子ビームの散乱を抑えることができ、現像後で形成されるパターンの形状をより垂直に近くできる。
　以上述べたように、本実施形態に従い、特にセクター識別信号の形成に電子ビームリソグラフィーを用いる方法はトラッキングの信頼性を高める点でも有効である。トラックピッチが１００ｎｍよりも大きい場合には、この効果は小さいかもしれないが、今後の高密度ＨＤＤ媒体としてパターンドメディアを用いる場合には、特に１００ｎｍよりも小さいトラックピッチにおいて本発明の効果は大きくなるものと思われる。
　インプリントを行う場合にＵＶ硬化型の樹脂を用いて光インプリントを用いて共通セクターパターンを形成することもできる。光硬化した樹脂がポジ型の電子ビームレジストとならない場合を含めて、電子ビームリソグラフィーによらない識別パターンの形成方法として、集束イオンビームによるスパッタ或いはガスアシストエッチングを用いてセクター識別用パターンを形成することも可能である。集束イオンビームによるスパッタの場合には、再付着が起きやすい、ダメージを及ぼす場合がある、等の問題もあるが、現像が不要でパターン描画ができる利点がある。ガスアシストエッチングを用いる場合には、ガスの処理を要する、ガスのコンタミネーションといった問題があるが、ダメージの少ない加工ができる利点がある。
　また、上記の集束イオンビームによるスパッタリングではなく、イオンビームリソグラフィーを用いることも可能である。この場合は、イオンが基板にダメージを与える可能性を考慮しなければならない。また、レジストが、Ｘ線リソグラフィー、ＥＵＶリソグラフィー、光リソグラフィーで用いられるＸ線や光の波長に感度を持つ場合は、Ｘ線リソグラフィー、ＥＵＶリソグラフィー、光リソグラフィーを電子ビームリソグラフィーの代わりに利用することもできる。但し、何れも高精度のマスクを用意することやリソグラフィー装置そのものが極めて大掛かりなものとなる。さらに、電子ビームリソグラフィーに比べると分解能に劣るという問題がある。従って、電子ビームリソグラフィーが最も適している。
　（第２の実施形態）
　図１３は、本発明の第２の実施形態に係わるパターンドメディア用原盤の製造方法を説明するための図である。
　本実施形態が先に説明した第１の実施形態と異なる点は、セクター識別用パターンの形成方法である。
　前記図６中の処理１０２が終了した、前記図１０（ｇ）の状態で、図１３に示すようにセクター識別パターン専用のステンシルマスク７０を用いてイオンビームエッチングを行うことで識別パターンを形成することも可能である。ここで、ステンシルマスク７０には、各セクターに対応して、各々のセクター識別領域にセクター識別用パターン７１が形成されている。このため、全てのセクターに対して一括でセクター識別用パターンを形成できるので、製造時間及び製造コストの低減をはかることができる。
　なお、ステンシルマスクを用いる場合には、プロセス時間を飛躍的に短くできる利点があるが、ステンシルマスク形成のコストや高精度のマスク位置制御が要求されるといった課題がある。何れの手法を用いるかは磁気記録媒体の仕様・用途によって決めるものであり、何れの手法でも本発明の効果は得られる。
　例えば、１枚のパターンドメディアが２５６個のセクターから構成されているとすると、上記で説明した方法によれば、パターンドメディアの原盤形成過程において、パターンドメディアの微細なパターンを形成する時間は従来の方法に比べて２５６分の１に低減できる。インプリント原盤を作成するプロセスや、セクター識別用パターンを形成するプロセスに必要な時間を含めても、原盤作製時間を飛躍的に短縮できる。
　また、本実施形態の方法では、各工程を異なる装置を用いて行うことができるので、作業を並列化すれば、盤の作成に要する時間は１枚当たりにすると数１０分とすることができる。さらに、本実施形態方法を用いる場合は、各セクターとして高精度で同じパターンを形成することが可能である。従って、サーボ特性が全てのセクターにおいて高精度で等しくなり、調整が容易になる利点もある。
　（第３の実施形態）
　次に、本発明の第３の実施形態に係わるパターンドメディア用原盤の製造方法を説明する。
　線状パターンに切れ目を入れる工程としては、第１の実施形態のように電子ビームリソグラフィー、第２の実施形態のようにステンシルマスクを用いたイオンビームによる選択エッチングを行う方法に限らず、インプリントを用いることもできる。
　本実施形態では、識別パターン形成用の円板状インプリント原盤を作成しておき、これを用いて、共通セクターパターン形成の後で、セクター識別用パターンを形成する。ここで、原盤には、各セクターに対応して、前記図１３のパターン７１と同様に、各々のセクター識別領域にセクター識別用パターンが形成されている。このため、全てのセクターに対して一括でセクター識別用パターンを形成できるので、製造時間及び製造コストの低減をはかることができる。
　また、識別パターン形成用の円板状インプリント原盤のパターンは非常に単純であり、領域も狭いので、電子ビームリソグラフィーを用いてパターン形成を行う場合でも、電子ビームを照射する時間は短くて済む。但し、既に形成された線状のレジスト構造に圧力を加えて識別パターンを加えるため、レジストの変形が起き易いという問題を考慮する必要がある。
　（第４の実施形態）
　図１４は、本発明の第４の実施形態に係わるパターンドメディアの製造方法を説明するための図である。
　本実施形態は、ファザー原盤３０の位置合わせのマーク３７に対応するように、パターン作製用基板４１に予め位置合わせマーク９０を設けている。このマーク９０はインプリントの際の位置合わせマークとして使用する他、セクター識別用パターン形成のための電子ビーム描画や集束イオンビーム加工、エッチング、インプリントの際の位置合わせマークとして使用される。
　本実施形態では、前記図６中の処理１０２、前記図１０（ｆ）に示す工程で、ファザー原盤３０に設けられたマーク３７とパターン作製用基板４１に設けられたマーク９０とを用いて位置合わせを行う。これには、光学的な位置合わせ技術を用いればよい。これにより、ファザー原盤３０とパターン作製用基板４１の各セクターとの位置合わせを高精度に行うことができる。なお、本実施形態では、各セクターにマーク９０を３個ずつ配置しているが、最低２個あれば良い。
　（第５の実施形態）
　また、一つのセクターパターンを電子ビーム描画で形成する時間が許容できる程度に短い場合には共通セクターパターンには複数のセクターを含むように構成することも可能である。例えば、５１２セクターから構成される場合で、一つの共通セクターパターンが４つのセクターを含むとしても、電子ビーム描画の時間は１２８分の１に短縮できる。このようにすることで、電子ビーム描画の時間は伸びるが、インプリントの回数は減らすことができる。全体の製造工程短縮の点で最適なセクター数を選択することが望ましい。
　複数のセクターを含む場合には、その配置は角度方向に隣り合わせに並べるだけでなく、例えばセクター総数が偶数であれば互いに１８０度離れた位置に２個配置したり、４の倍数であれば９０度おきに４個配置したり、６の倍数であれば６０度おきに６個配置したりというように、様々な配置が考えられる。このようにした場合には、共通セクターパターンを有するファザーマスクの中心とマザーマスク基板の中心とを機械的に一致させることが容易となる。
　（変形例）
　なお、本発明は上述した各実施例に限定されるものではない。実施形態では、マザー原盤からスタンパを作製する際にインプリント法を利用したが、電鋳法を用いることも可能である。また、ファザー原盤（インプリント原盤）に形成するセクターパターンの数は、１，２，４，６に限るものではなく、仕様に応じて適宜変更可能である。また、基板やその上に形成される被インプリント膜、更にはスパッタやメッキで形成される金属膜の材料等も、仕様に応じて適宜変更可能である。
　その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々変形して実施することができる。
　１０…筐体
　１１…磁気ディスク（磁気記録媒体）
　１２…スピンドルモータ
　１３…軸受部
　１４…アクチュエータアーム
　１５…サスペンション
　１６…ヘッドスライダー
　１７…ボイスコイルモータ
　２０…セクター
　２１…サーボデータ領域
　２２…記録データ領域
　３０…インプリント原盤（ファザー原盤）
　３１，４１，５１，６１…基板
　３２，５２，６３…レジスト
　３３，３４，４３，５３，５４…Ｎｉ膜
　３６…共通セクターパターン
　３７…位置合わせ用マーク
　４０…マザー原盤（パターンドメディア用原盤）
　４２，５２…材料膜
　５０…メディア用原盤（スタンパ）
　６０…磁気記録媒体
　６２…磁性体膜
　６４…保護膜
　２１１…プリアンブルパターン
　２１２…セクター情報パターン
　２１３…トラック情報パターン
　２１４…バーストパターン

Claims (5)

  1. 　データを記録するための記録データ部と、円周方向に沿った線状パターンに切れ目を入れたセクター識別パターンが形成されたセクター識別領域を含むサーボデータ部と、を有する複数のセクターを円周方向に配列した円盤状パターンドメディア用の原盤を製造する方法であって、
    　前記セクター識別領域には前記切れ目を入れる前の各セクターで共通の線状パターンが形成された、少なくとも１つのセクターのパターンを有するインプリント原盤を形成する工程と、
    　パターンドメディア用原盤を作製するための支持基板上に、前記インプリント原盤を用いたインプリントを円周方向に繰り返して円盤状のパターンドメディアのパターンを形成する工程と、
    　前記支持基板上に形成されたパターンのうち、前記各セクター識別領域の線状パターンにそれぞれ半径方向に切れ目を入れることにより、前記各セクターにセクター識別用パターンを形成する工程と、
    　を含むことを特徴とするパターンドメディア用原盤の製造方法。
  2. 　前記セクター識別用パターンを形成する工程は、電子ビームリソグラフィーにより行うことを特徴とする請求項１記載のパターンドメディア用原盤の製造方法。
  3. 　前記セクター識別領域に形成された線状パターンは、半径方向に離間して複数本が平行に配置され、前記セクター識別用パターンを形成するための電子ビームリソグラフィーは、電子ビームを半径方向に走査することにより同一セクターの各線状パターンの同じ周方向位置に切れ目を入れることを特徴とする請求項２記載のパターンドメディア用原盤の製造方法。
  4. 　前記インプリント原盤には、円周方向の重ね合わせ調整用のマークが形成されており、該マークを用いて、隣り合うパターン位置の位置を合わせて、円周方向に繰り返しインプリントを行うことを特徴とする請求項１記載のパターンドメディア用原盤の製造方法。
  5. 　請求項１に記載された方法により製造されたパターンドメディア用原盤を用いたインプリントにより、前記パターンドメディア用原盤のパターンと同じパターン又は反転したパターンを有するスタンパを形成する工程と、
    　支持基板上に磁性体層を形成し、該磁性体層上にレジストを形成した基板に対し、前記スタンパを用いたインプリントにより前記レジストに前記パターンドメディア用原盤と同じパターンを形成する工程と、
    　前記レジストに形成されたパターンをマスクに前記磁性体層を選択エッチングすることにより、前記磁性体のパターンを形成する工程と、
    　を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
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