WO2010113643A1 - 露光方法及び露光装置 - Google Patents

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Definitions

  • the present invention relates to an exposure method and an exposure apparatus that form different exposure patterns for a plurality of exposure areas set on an exposure object while conveying the exposure object in one direction.
  • the present invention relates to an exposure method and an exposure apparatus for improving the formation efficiency.
  • this type of exposure method selects one mask pattern group of a photomask while conveying the object to be exposed in one direction, and applies the one mask pattern group to a predetermined exposure region of the object to be exposed.
  • An exposure pattern group is formed by exposure, and then the object to be exposed is returned to the standby position before the exposure is started. Then, the mask pattern group of the photomask is switched to another mask pattern group, and then the object to be exposed is conveyed. Then, another exposure pattern group is exposed and formed in another exposure region of the object to be exposed by the other mask pattern group (see, for example, Patent Document 1).
  • an object of the present invention is to provide an exposure method and an exposure apparatus that address such problems and improve the formation efficiency of a plurality of types of exposure patterns on the same object to be exposed.
  • the exposure method according to the present invention forms different exposure patterns for each of a plurality of exposure areas set at predetermined intervals in the transport direction of the exposed object while transporting the exposed object in one direction.
  • the photomask When the exposure of one exposure region of the exposure body is completed, the photomask is moved in synchronization with the conveyance speed of the object to be exposed and switched from the one mask pattern group to another mask pattern group, and the photo When the switching of the mask from the one mask pattern group to another mask pattern group is completed, the movement of the photomask is stopped and the other mask pattern group is moved. A step of performing exposure of the next exposure area of the subject to be exposed, and performs.
  • one mask pattern of a photomask formed by arranging a plurality of types of mask pattern groups corresponding to each exposure pattern at a predetermined interval in the conveyance direction of the exposure object while conveying the exposure object in one direction.
  • the photomask is moved in synchronization with the conveyance speed of the object to be exposed and switched from one mask pattern group to another mask pattern group.
  • the movement of the photomask is stopped, and the exposure to the next exposure area of the object to be exposed is performed by another mask pattern group,
  • Different exposure patterns are formed for each of a plurality of exposure areas set at predetermined intervals in the conveyance direction of the object to be exposed.
  • the photomask moves in the transport direction of the object to be exposed. Thereby, the photomask is moved in the conveying direction of the object to be exposed, and the mask pattern group is switched.
  • An exposure apparatus is an exposure apparatus that forms a different exposure pattern for each of a plurality of exposure areas set at predetermined intervals in the transport direction of the object to be exposed while transporting the object to be exposed in one direction.
  • a conveying unit that conveys the object to be exposed at a predetermined speed; and a plurality of types of mask pattern groups corresponding to the exposure patterns arranged in the conveying direction of the object to be exposed.
  • the mask stage Holding a photomask formed side by side at a predetermined interval, and a mask stage formed so as to be movable in synchronization with the movement of the transfer means, and using one mask pattern group of the photomask,
  • the mask stage is moved to switch from one mask pattern group of the photomask to another mask pattern group,
  • the mask pattern group is to perform the exposure for the next exposure area of the object to be exposed.
  • the mask stage is moved in synchronization with the movement of the object to be exposed to switch from one mask pattern group of the photomask to another mask pattern group, and the next exposure area of the object to be exposed is exposed by the other mask pattern group. This is executed to form different exposure patterns for each of a plurality of exposure areas set at predetermined intervals in the conveyance direction of the object to be exposed.
  • the mask stage moves in the transport direction of the object to be exposed. Thereby, the photomask is moved in the conveying direction of the object to be exposed, and the mask pattern group is switched.
  • the object to be exposed is continued without returning the object to the standby position before the start of exposure.
  • FIG. 1 is a schematic view showing an embodiment of an exposure apparatus according to the present invention.
  • This exposure apparatus forms a different exposure pattern for each of a plurality of exposure areas set on an object to be exposed while carrying the object to be exposed in one direction during the exposure process.
  • a light source 2 a coupling optical system 3, a mask stage 4, an imaging means 6, and a control means 7.
  • the transport means 1 places the object 8 to be exposed on the upper surface 1a and transports it at a predetermined speed in the direction indicated by the arrow A. Air is ejected from the upper surface 1a and sucked, and the air is ejected. In a state in which the object to be exposed 8 is floated by a predetermined amount while being balanced with suction, both end edges of the object to be exposed 8 are held and conveyed by a conveyance roller (not shown). Further, the transport unit 1 includes a speed sensor that detects the moving speed of the object to be exposed 8 and a position sensor (not shown) that detects the position of the object to be exposed 8.
  • the object 8 to be used here includes a first exposure region 9 in which a first exposure pattern group is to be formed and a second exposure pattern group in which a second exposure pattern group is to be formed.
  • the exposure area 10 is preset in the transport direction (arrow A direction) at an interval W, for example, a multi-colored color filter substrate.
  • a light source 2 is provided above the conveying means 1.
  • the light source 2 emits ultraviolet rays as the light source light 5, and is a xenon lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a laser light source, or the like.
  • a coupling optical system 3 is provided in front of the light source 2 in the light emission direction.
  • the coupling optical system 3 converts the light source light 5 emitted from the light source 2 into parallel light and irradiates a mask pattern group of a photomask 11 described later, and includes optical components such as a photo integrator and a condenser lens. It is configured. Further, a mask for shaping the cross-sectional shape of the light source light 5 in accordance with the outer shape of the formation region of each mask pattern group of the photomask 11 is also provided.
  • a mask stage 4 is provided opposite to the upper surface of the transfer means 1. As shown in FIG. 3, the mask stage 4 includes first and second mask pattern groups 12 and 13 respectively corresponding to different types of first and second exposure pattern groups formed on the object 8 to be exposed. Further, the photomask 11 formed side by side in the transport direction (arrow A direction) of the exposure object 8 at the same interval W as the interval between the first and second exposure regions 9 and 10 set on the exposure object 8. The peripheral edge portion is held, and is configured to be movable in the same direction as the conveyance direction of the object to be exposed 8 indicated by arrow A (in the direction of arrow B) in synchronization with the moving speed of the object to be exposed 8.
  • the imaging means 6 is provided so as to be able to image a position away from the exposure position by the photomask 11 by a predetermined distance in the direction opposite to the transport direction (arrow A direction).
  • the imaging means 6 images the surface of the object to be exposed 8 and is a line in which a plurality of light receiving elements are arranged in a straight line in a direction substantially perpendicular to the transport direction in a plane parallel to the upper surface of the transport means 1. It is a camera.
  • the image pickup means 6 is arranged so as to pick up an image of a position separated by a distance L in the direction opposite to the transport direction with reference to the exposure center position of the mask pattern group of the photomask 11.
  • Control means 7 is provided in electrical connection with the conveying means 1, light source 2, mask stage 4, and imaging means 6.
  • the control means 7 appropriately controls the movement of the transport means 1 and the mask stage 4, and as shown in FIG. 4, the image processing section 14, the memory 15, the calculation section 16, and the comparator 17.
  • the image processing unit 14 processes the image of the surface of the object to be exposed 8 picked up by the image pickup means 6 and detects the position of each exposure region 9, 10 on the leading side in the transport direction.
  • the memory 15 stores the dimension of each exposure area 9, 10 in the direction of arrow A, the distance L between the exposure center position by the photomask 11 and the imaging position by the imaging means 6, and the arithmetic unit described later.
  • the calculation result in 16 is temporarily stored.
  • the calculation unit 16 calculates the moving distance of the object to be exposed 8 based on the output of the position sensor of the transport unit 1.
  • the comparator 17 compares the moving distance of the conveying means 1 calculated by the calculating unit 16 with each dimension read from the memory 15.
  • the transport unit drive controller 18 controls the drive of the transport unit 1 so that the object to be exposed 8 moves at a predetermined speed. Further, the mask stage drive controller 19 switches the mask stage 4 from the first mask pattern group 12 of the photomask 11 to the second mask pattern group 13 by moving the mask stage 4 in synchronization with the movement of the object 8 to be exposed. . Furthermore, the light source drive controller 20 controls the turning on and off of the light source 2. And the control part 21 integrates and controls the whole apparatus so that each said component may drive appropriately.
  • step S1 the mask stage 4 stops at the standby position, and the first mask pattern group 12 of the photomask 11 is selected.
  • step S2 the transport unit 1 is controlled and driven by the transport unit drive controller 18 to start the operation of transporting the object 8 to be exposed in the direction of arrow A at a predetermined speed.
  • step S3 the image processing unit 14 processes the image of the surface of the object to be exposed 8 imaged by the imaging unit 6, and at the front edge of the first exposure region 9 in the arrow A direction, for example, the first The front edge of the reference pattern group composed of a plurality of reference patterns formed in advance in the exposure area 9 in the direction of arrow A is detected.
  • step S ⁇ b> 4 the calculation unit 16 calculates the distance that the object 8 moves after detecting the front edge of the first exposure region 9 in the direction of arrow A based on the output of the position sensor of the transport unit 1. Then, the movement distance of the object to be exposed 8 calculated by the comparator 17 is compared with the distance L read from the memory 15. If they match and the determination is “YES” in step S4, the process proceeds to step S5.
  • step S5 the light source drive controller 20 is activated to turn on the light source 2.
  • the light source light 5 radiated from the light source 2 converted into parallel light through the coupling optical system 3, and further shaped in accordance with the outer shape of the mask pattern group is obtained from the light source light 5 of the photomask 11.
  • the first exposure pattern 24 is exposed and formed in the first exposure region 9 of the object 8 to be exposed (see FIG. 6A).
  • step S ⁇ b> 6 the movement distance of the object to be exposed 8 is calculated by the calculation unit 16 based on the output of the position sensor of the transport unit 1, and the distance and the first exposure area 9 read from the memory 15 in the direction of arrow A. The dimensions are compared by the comparator 17, and it is determined whether or not the two match and the exposure for the first exposure region 9 is completed. Here, if the two match (see FIG. 6B) and the determination is “YES” in step S6, the process proceeds to step S7.
  • step S7 the mask stage drive controller 19 is activated to move the mask stage 4 in the direction of arrow B in synchronization with the conveyance speed of the object to be exposed 8 (see FIGS. 6C, 6D, and 6E). ).
  • 6C shows a portion of the first mask pattern group 12 on the rear side in the arrow B direction of the first mask pattern group 12 of the photomask 11 while the photomask 11 moves in the arrow B direction in synchronization with the movement of the object 8 to be exposed.
  • FIG. 4D shows a state in which exposure is performed on the first exposure region 9 of the object 8 to be exposed.
  • FIG. 4D shows the second mask pattern group 13 of the photomask 11 when the photomask 11 further moves.
  • FIG. 1 shows a state in which the rear end portion in the arrow B direction of the mask pattern group 12 matches the front end portion in the arrow A (or arrow B) direction of the light source light 5, and exposure of the second exposure region 25 of the object to be exposed 8 is started. It shows the state that was done.
  • step S8 the movement distance of the mask stage 4 is detected based on a position sensor (not shown) provided in the mask stage 4, and the mask stage 4 moves by a predetermined distance so that the mask pattern group of the photomask 11 becomes the first mask.
  • the mask stage drive controller 19 determines whether or not the pattern group 12 has completely switched to the second mask pattern group 13.
  • the determination in step S8 is “YES” and the process proceeds to step S9.
  • step S ⁇ b> 9 the movement of the mask stage 4 is stopped by the mask stage drive controller 19, and the second exposure area 10 of the object 8 being continuously moved is moved by the second mask pattern group 13 of the photomask 11. Is exposed to form a second exposure pattern 25 (see FIG. 6F).
  • step S ⁇ b> 10 the movement distance of the object to be exposed 8 is calculated by the calculation unit 16 based on the output of the position sensor of the transport unit 1, and the distance and the second exposure area 10 read from the memory 15 in the direction of arrow A.
  • the dimensions are compared by the comparator 17, and it is determined whether or not the two match and the exposure for the second exposure region 10 is completed.
  • the two match and the determination is “YES”
  • the exposure ends.
  • the light source 2 is turned off under the control of the light source drive controller 20, and the drive of the transport means 1 is stopped under the control of the transport means drive controller 18.
  • the conveying unit 1 is continuously driven.
  • the photomask 11 is provided with three or more mask pattern groups arranged side by side in the transport direction (arrow A direction) of the object 8 to be exposed.
  • the photomask 11 is applied to a proximity exposure apparatus arranged close to and opposite to the object 8 to be exposed.
  • the present invention is not limited to this, and the mask pattern of the photomask 11 is used. You may apply to the projection exposure apparatus which projects and exposes a group on the to-be-exposed body 8. FIG. In this case, the moving direction of the photomask 11 is opposite to the conveying direction of the object 8 to be exposed.

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Abstract

　本発明は、被露光体８を矢印Ａ方向に搬送しながら、各露光パターンに対応する複数種のマスクパターン群を被露光体８の搬送方向に所定間隔で並べて形成したフォトマスク１１の第１のマスクパターン群１２を使用して行う被露光体８の第１の露光領域９に対する露光が終了すると、フォトマスク１１を被露光体の搬送速度に同期して移動して第１のマスクパターン群１２から第２のマスクパターン群１３に切り替え、フォトマスク１１のマスクパターン群の切り替えが終了すると、該フォトマスク１１の移動を停止して第２のマスクパターン群１３により被露光体８の第２の露光領域１０に対する露光を実行し、被露光体８の搬送方向に所定間隔で設定された複数の露光領域毎に異なる露光パターン２４，２５を形成する。これにより、同一の被露光体に対する複数種の露光パターンの形成効率を向上する。

Description

露光方法及び露光装置
　本発明は、被露光体を一方向に搬送しながら被露光体上に設定された複数の露光領域毎に異なる露光パターンを形成する露光方法及び露光装置に関し、詳しくは、複数種の露光パターンの形成効率を向上しようとする露光方法及び露光装置に係るものである。
　従来、この種の露光方法は、被露光体を一方向に搬送しながら、フォトマスクの一のマスクパターン群を選択して該一のマスクパターン群により被露光体の所定の露光領域に一の露光パターン群を露光形成し、次に、一旦上記被露光体を露光開始前の待機位置まで戻した後、フォトマスクのマスクパターン群を別のマスクパターン群に切り替え、その後、被露光体の搬送を再開して上記別のマスクパターン群により被露光体の別の露光領域に別の露光パターン群を露光形成するようになっていた（例えば、特許文献１参照）。
特開２００８－３１０２１７号公報
　しかし、このような従来の露光方法においては、一つのマスクパターン群による露光が終了する度に被露光体を一旦、露光開始前の待機位置まで戻すようになっていたため、被露光体に対する全ての露光が終了するまでの被露光体の総移動距離が、形成しようとする露光パターンの種類が多くなるほど長くなっていた。したがって、同一の被露光体上に複数種の露光パターンを形成しようとした場合に、露光パターンの形成効率が悪いという問題があった。
　そこで、本発明は、このような問題点に対処し、同一の被露光体に対する複数種の露光パターンの形成効率を向上しようとする露光方法及び露光装置を提供することを目的とする。
　上記目的を達成するために、本発明による露光方法は、被露光体を一方向に搬送しながら該被露光体の搬送方向に所定間隔で設定された複数の露光領域毎に異なる露光パターンを形成する露光方法であって、前記各露光パターンに対応する複数種のマスクパターン群を前記被露光体の搬送方向に所定間隔で並べて形成したフォトマスクの一のマスクパターン群を使用して行う前記被露光体の一の露光領域に対する露光が終了すると、前記フォトマスクを前記被露光体の搬送速度に同期して移動して前記一のマスクパターン群から別のマスクパターン群に切り替える段階と、前記フォトマスクの前記一のマスクパターン群から別のマスクパターン群への切り替えが終了すると、該フォトマスクの移動を停止して前記別のマスクパターン群により前記被露光体の次の露光領域に対する露光を実行する段階と、を行うものである。
　このような構成により、被露光体を一方向に搬送しながら、各露光パターンに対応する複数種のマスクパターン群を被露光体の搬送方向に所定間隔で並べて形成したフォトマスクの一のマスクパターン群を使用して行う被露光体の一の露光領域に対する露光が終了すると、フォトマスクを被露光体の搬送速度に同期して移動して一のマスクパターン群から別のマスクパターン群に切り替え、フォトマスクの一のマスクパターン群から別のマスクパターン群への切り替えが終了すると、該フォトマスクの移動を停止して別のマスクパターン群により被露光体の次の露光領域に対する露光を実行し、被露光体の搬送方向に所定間隔で設定された複数の露光領域毎に異なる露光パターンを形成する。
　また、前記フォトマスクは、前記被露光体の搬送方向に移動するものである。これにより、フォトマスクを被露光体の搬送方向に移動してマスクパターン群の切り替えをする。
　また、本発明による露光装置は、被露光体を一方向に搬送しながら該被露光体の搬送方向に所定間隔で設定された複数の露光領域毎に異なる露光パターンを形成する露光装置であって、前記被露光体を所定速度で搬送する搬送手段と、前記搬送手段の上面に対向して配設され、前記各露光パターンに対応する複数種のマスクパターン群を前記被露光体の搬送方向に所定間隔で並べて形成したフォトマスクを保持すると共に、前記搬送手段の移動に同期して移動可能に形成されたマスクステージと、を備え、前記フォトマスクの一のマスクパターン群を使用して行う、前記被露光体の一の露光領域に対する露光が終了すると、前記マスクステージを移動して前記フォトマスクの一のマスクパターン群から別のマスクパターン群に切り替え、該別のマスクパターン群により前記被露光体の次の露光領域に対する露光を実行するものである。
　このような構成により、搬送手段で被露光体を一方向に所定速度で搬送しながら、フォトマスクの一のマスクパターン群を使用して行う被露光体の一の露光領域に対する露光が終了すると、マスクステージを被露光体の移動と同期して移動してフォトマスクの一のマスクパターン群から別のマスクパターン群に切り替え、該別のマスクパターン群により被露光体の次の露光領域に対する露光を実行し、被露光体の搬送方向に所定間隔で設定された複数の露光領域毎に異なる露光パターンを形成する。
　そして、前記マスクステージは、前記被露光体の搬送方向に移動するものである。これにより、フォトマスクを被露光体の搬送方向に移動してマスクパターン群の切り替えをする。
　請求項１又は３に係る発明によれば、従来技術と違って、所定の露光領域に対する露光が終了する度に、被露光体を露光開始前の待機位置まで戻すことなく被露光体を連続して所定速度で移動しながら、複数の露光領域毎に夫々異なる露光パターンを形成することができる。したがって、全ての露光が終了するまでの被露光体の総移動距離は、従来技術よりも遥かに短くなる。それ故、同一の被露光体に対する複数種の露光パターンの形成効率を従来技術に増して向上することができる。
　また、請求項２又は４に係る発明によれば、フォトマスクを被露光体に近接対向させて露光するプロキシミティ露光装置を構成することができる。
本発明による露光装置の実施形態を示す概要図である。 上記露光装置に使用する被露光体の表面に設定された露光領域の一設定例を示す平面図である。 上記露光装置に使用するフォトマスクの一構成例を示す平面図である。 上記露光装置の制御手段の概略構成を示すブロック図である。 本発明の露光方法を示すフローチャートである。 本発明の露光方法を示す説明図である。
　以下、本発明の実施形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。図１は本発明による露光装置の実施形態を示す概要図である。この露光装置は、露光工程の実行中、常時、被露光体を一方向に搬送しながら被露光体上に設定された複数の露光領域毎に異なる露光パターンを形成するもので、搬送手段１と、光源２と、カップリング光学系３と、マスクステージ４と、撮像手段６と、制御手段７とを備えてなる。
　上記搬送手段１は、上面１ａに被露光体８を載置して矢印Ａで示す方向に所定の速度で搬送するものであり、エアを上面１ａから噴射すると共に吸引し、該エアの噴射と吸引とをバランスさせて被露光体８を所定量だけ浮上させた状態で図示省略の搬送ローラにより被露光体８の両端縁部を保持して搬送するようになっている。また、搬送手段１には、被露光体８の移動速度を検出する速度センサー及び被露光体８の位置を検出する位置センサー（図示省略）が備えられている。
ここで使用する被露光体８は、図２に示すように、第１の露光パターン群を形成しようとする第１の露光領域９と、第２の露光パターン群を形成しようとする第２の露光領域１０とが搬送方向（矢印Ａ方向）に間隔Ｗで予め設定されたものであり、例えば多面付けされたカラーフィルタ基板等である。
　上記搬送手段１の上方には、光源２が設けられている。この光源２は、光源光５として紫外線を放射するものであり、キセノンランプ、超高圧水銀ランプ、又はレーザ光源等である。
　上記光源２の光放射方向前方には、カップリング光学系３が設けられている。このカップリング光学系３は、光源２から放射された光源光５を平行光にして後述のフォトマスク１１のマスクパターン群に照射させるものであり、フォトインテグレータやコンデンサレンズ等の光学部品を含んで構成されている。さらに、フォトマスク１１の各マスクパターン群の形成領域の外形状に合わせて光源光５の横断面形状を整形するマスクも備えている。
　上記搬送手段１の上面に対向してマスクステージ４が設けられている。このマスクステージ４は、被露光体８上に形成される異種類の第１及び第２の露光パターン群に夫々対応する第１及び第２のマスクパターン群１２，１３を、図３に示すように、被露光体８上に設定された第１及び第２の露光領域９，１０の間隔と同じ間隔Ｗで、被露光体８の搬送方向（矢印Ａ方向）に並べて形成したフォトマスク１１の周縁部を保持すると共に、矢印Ａで示す被露光体８の搬送方向と同方向（矢印Ｂ方向）に該被露光体８の移動速度に同期して移動可能に形成されている。
　上記フォトマスク１１による露光位置から搬送方向（矢印Ａ方向）と反対方向に所定距離だけ離れた位置を撮像可能に撮像手段６が設けられている。この撮像手段６は、被露光体８の表面を撮像するものであり、搬送手段１の上面に平行な面内にて搬送方向と略直交する方向に複数の受光素子を一直線状に並べたラインカメラである。撮像手段６は、具体的には、フォトマスク１１のマスクパターン群の露光中心位置を基準にして搬送方向と反対方向に距離Ｌだけ離れた位置を撮像するように配設されている。
　上記搬送手段１と、光源２と、マスクステージ４と、撮像手段６とに電気的に結線して制御手段７が設けられている。この制御手段７は、搬送手段１、及びマスクステージ４の移動を適切に制御するものであり、図４に示すように、画像処理部１４と、メモリ１５と、演算部１６と、比較器１７と、搬送手段駆動コントローラ１８と、マスクステージ駆動コントローラ１９と、光源駆動コントローラ２０と、制御部２１とを備えている。
　ここで、画像処理部１４は、撮像手段６で撮像された被露光体８表面の画像を処理して各露光領域９，１０の搬送方向先頭側の位置を検出するものである。また、メモリ１５は、各露光領域９，１０の矢印Ａ方向の寸法、及びフォトマスク１１による露光中心位置と撮像手段６による撮像位置との間の距離Ｌ等を記憶すると共に、後述の演算部１６における演算結果を一時的に記憶するものである。さらに、演算部１６は、搬送手段１の位置センサーの出力に基づいて被露光体８の移動距離を演算するものである。さらにまた、比較器１７は、演算部１６で演算された搬送手段１の移動距離とメモリ１５から読み出した各寸法とを比較するものである。そして、搬送手段駆動コントローラ１８は、被露光体８が所定速度で移動するように搬送手段１の駆動を制御するものである。また、マスクステージ駆動コントローラ１９は、マスクステージ４を被露光体８の移動に同期して移動させてフォトマスク１１の第１のマスクパターン群１２から第２のマスクパターン群１３に切り替えるものである。さらに、光源駆動コントローラ２０は、光源２の点灯及び消灯の駆動を制御するものである。そして、制御部２１は、上記各構成要素が適切に駆動するように装置全体を統合して制御するものである。
　次に、このように構成された露光装置の動作及び該露光装置を使用して行う露光方法について図５を参照して説明する。ここでは、被露光体８は、その表面に異なる露光パターンが形成される第１の露光領域９と第２の露光領域１０とを搬送方向に間隔Ｗで設定したものである場合について説明する。
　先ず、ステップＳ１においては、マスクステージ４は、待機位置に停止してフォトマスク１１の第１のマスクパターン群１２が選択されている。
　ステップＳ２においては、搬送手段１が搬送手段駆動コントローラ１８によって制御されて駆動し、被露光体８を矢印Ａ方向に所定速度で搬送する動作を開始する。
　ステップＳ３においては、画像処理部１４で撮像手段６により撮像された被露光体８の表面の画像を処理し、第１の露光領域９の矢印Ａ方向の前側縁部にて、例えば第１の露光領域９内に予め形成された複数の基準パターンからなる基準パターン群の矢印Ａ方向前側の縁部を検出する。
　ステップＳ４においては、演算部１６により、搬送手段１の位置センサーの出力に基づいて第１の露光領域９の矢印Ａ方向の前側縁部を検出してから被露光体８が移動する距離を算出し、比較器１７により該算出された被露光体８の移動距離とメモリ１５から読み出した距離Ｌとを比較する。そして、両者が合致して、ステップＳ４において“ＹＥＳ”判定となると、ステップＳ５に進む。
　ステップＳ５においては、光源駆動コントローラ２０が起動して光源２を点灯させる。これにより、光源２から放射され、カップリング光学系３を経て平行光にされ、さらに横断面形状がマスクパターン群の外形状に合わせて整形された光源光５がフォトマスク１１の第１のマスクパターン群１２に照射して、被露光体８の第１の露光領域９に第１の露光パターン２４が露光形成される（図６（ａ）参照）。
　ステップＳ６においては、搬送手段１の位置センサーの出力に基づいて被露光体８の移動距離が演算部１６で演算され、該距離とメモリ１５から読み出した第１の露光領域９の矢印Ａ方向の寸法が比較器１７で比較され、両者が合致して第１の露光領域９に対する露光が終了したか否かが判定される。ここで、両者が合致して（図６（ｂ）参照）、ステップＳ６において“ＹＥＳ”判定となると、ステップＳ７に進む。
　ステップＳ７においては、マスクステージ駆動コントローラ１９が起動し、マスクステージ４を被露光体８の搬送速度に同期させて矢印Ｂ方向に移動させる（図６（ｃ），（ｄ），（ｅ）参照）。なお、図６（ｃ）は、フォトマスク１１が被露光体８の移動に同期して矢印Ｂ方向に移動しながらフォトマスク１１の第１のマスクパターン群１２の矢印Ｂ方向後部側の部分で被露光体８の第１の露光領域９に対して露光を行っている状態を示し、同図（ｄ）は、フォトマスク１１が更に移動して、フォトマスク１１の第２のマスクパターン群１３の矢印Ｂ方向の前端部が光源光５の矢印Ａ（又は矢印Ｂ）方向後端部に合致した状態を示し、同図（ｅ）は、フォトマスク１１が更に移動してフォトマスク１１の第１のマスクパターン群１２の矢印Ｂ方向後端部が光源光５の矢印Ａ（又は矢印Ｂ）方向前端部に合致した状態を示し、被露光体８の第２の露光領域２５に対する露光が開始された状態を示している。
ステップＳ８においては、マスクステージ４に備える図示省略の位置センサーに基づいてマスクステージ４の移動距離を検出し、マスクステージ４が所定距離だけ移動してフォトマスク１１のマスクパターン群が第１のマスクパターン群１２から第２のマスクパターン群１３に完全に切り替わったか否かをマスクステージ駆動コントローラ１９で判定する。ここで、第１のマスクパターン群１２から第２のマスクパターン群１３へのマスクパターン群の切り替えが完了すると、ステップＳ８は“ＹＥＳ”判定となってステップＳ９に進む。
　ステップＳ９においては、マスクステージ駆動コントローラ１９によりマスクステージ４の移動を停止し、フォトマスク１１の第２のマスクパターン群１３により、継続して移動中の被露光体８の第２の露光領域１０に対して露光を実行し、第２の露光パターン２５を形成する（図６（ｆ）参照）。
　ステップＳ１０においては、搬送手段１の位置センサーの出力に基づいて被露光体８の移動距離が演算部１６で演算され、該距離とメモリ１５から読み出した第２の露光領域１０の矢印Ａ方向の寸法が比較器１７で比較され、両者が合致して第２の露光領域１０に対する露光が終了したか否かが判定される。ここで、両者が合致して “ＹＥＳ”判定となると露光が終了する。そして、光源駆動コントローラ２０により制御されて光源２が消灯され、搬送手段駆動コントローラ１８により制御されて搬送手段１の駆動が停止される。ここで、複数の被露光体８が逐次搬送され、該複数の被露光体８に対して続けて露光が実行される場合には、搬送手段１は継続して駆動される。
　なお、上記実施形態においては、被露光体８に設定された露光領域が二つである場合について説明したが、本発明はこれに限られず、設定される露光領域は三つ以上であってもよい。この場合、フォトマスク１１には、三つ以上のマスクパターン群が被露光体８の搬送方向（矢印Ａ方向）に並べて設けられており、上記ステップＳ１０が終了するとステップＳ７に戻り、全ての露光領域に対する露光が終了するまでステップＳ７～Ｓ１０が繰り返し実行されることになる。
　また、上記実施形態においては、フォトマスク１１を被露光体８に近接対向して配置したプロキシミティ露光装置に適用した場合について説明したが、本発明はこれに限られず、フォトマスク１１のマスクパターン群を被露光体８上に投影して露光する投影露光装置に適用してもよい。この場合、フォトマスク１１の移動方向は、被露光体８の搬送方向と反対方向となる。
　１…搬送手段
　４…マスクステージ
　５…光源光
　８…被露光体
　９…第１の露光領域
　１０…第２の露光領域
　１１…フォトマスク
　１２…第１のマスクパターン群
　１３…第２のマスクパターン群
　２４…第１の露光パターン
　２５…第２の露光パターン

Claims (4)

  1. 　被露光体を一方向に搬送しながら該被露光体の搬送方向に所定間隔で設定された複数の露光領域毎に異なる露光パターンを形成する露光方法であって、
    　前記各露光パターンに対応する複数種のマスクパターン群を前記被露光体の搬送方向に所定間隔で並べて形成したフォトマスクの一のマスクパターン群を使用して行う前記被露光体の一の露光領域に対する露光が終了すると、前記フォトマスクを前記被露光体の搬送速度に同期して移動して前記一のマスクパターン群から別のマスクパターン群に切り替える段階と、
    　前記フォトマスクの前記一のマスクパターン群から別のマスクパターン群への切り替えが終了すると、該フォトマスクの移動を停止して前記別のマスクパターン群により前記被露光体の次の露光領域に対する露光を実行する段階と、
    を行うことを特徴とする露光方法。
  2. 　前記フォトマスクは、前記被露光体の搬送方向に移動することを特徴とする請求項１記載の露光方法。
  3. 　被露光体を一方向に搬送しながら該被露光体の搬送方向に所定間隔で設定された複数の露光領域毎に異なる露光パターンを形成する露光装置であって、
    　前記被露光体を所定速度で搬送する搬送手段と、
    　前記搬送手段の上面に対向して配設され、前記各露光パターンに対応する複数種のマスクパターン群を前記被露光体の搬送方向に所定間隔で並べて形成したフォトマスクを保持すると共に、前記搬送手段の移動に同期して移動可能に形成されたマスクステージと、を備え、
    　前記フォトマスクの一のマスクパターン群を使用して行う、前記被露光体の一の露光領域に対する露光が終了すると、前記マスクステージを移動して前記フォトマスクの一のマスクパターン群から別のマスクパターン群に切り替え、該別のマスクパターン群により前記被露光体の次の露光領域に対する露光を実行することを特徴とする露光装置。
  4. 　前記マスクステージは、前記被露光体の搬送方向に移動することを特徴とする請求項３記載の露光装置。
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