JP2010243680A - 露光方法及び露光装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】同一の被露光体に対する複数種の露光パターンの形成効率を向上する。
【解決手段】被露光体8を矢印A方向に搬送しながら、各露光パターンに対応する複数種のマスクパターン群を被露光体8の搬送方向に所定間隔で並べて形成したフォトマスク11の第1のマスクパターン群12を使用して行う被露光体8の第1の露光領域9に対する露光が終了すると、フォトマスク11を被露光体の搬送速度に同期して移動して第1のマスクパターン群12から第2のマスクパターン群13に切り替え、フォトマスク11のマスクパターン群の切り替えが終了すると、該フォトマスク11の移動を停止して第2のマスクパターン群13により被露光体8の第2の露光領域10に対する露光を実行し、被露光体8の搬送方向に所定間隔で設定された複数の露光領域毎に異なる露光パターン24,25を形成する。
【選択図】図6

Description

本発明は、被露光体を一方向に搬送しながら被露光体上に設定された複数の露光領域毎に異なる露光パターンを形成する露光方法及び露光装置に関し、詳しくは、複数種の露光パターンの形成効率を向上しようとする露光方法及び露光装置に係るものである。
従来、この種の露光方法は、被露光体を一方向に搬送しながら、フォトマスクの一のマスクパターン群を選択して該一のマスクパターン群により被露光体の所定の露光領域に一の露光パターン群を露光形成し、次に、一旦上記被露光体を露光開始前の待機位置まで戻した後、フォトマスクのマスクパターン群を別のマスクパターン群に切り替え、その後、被露光体の搬送を再開して上記別のマスクパターン群により被露光体の別の露光領域に別の露光パターン群を露光形成するようになっていた(例えば、特許文献1参照)。
特開2008−310217号公報
しかし、このような従来の露光方法においては、一つのマスクパターン群による露光が終了する度に被露光体を一旦、露光開始前の待機位置まで戻すものであるため、被露光体に対する全ての露光が終了するまでの被露光体の総移動距離が、形成しようとする露光パターンの種類が多くなるほど長くなっていた。したがって、同一の被露光体上に複数種の露光パターンを形成しようとした場合に、露光パターンの形成効率が悪いという問題があった。
そこで、本発明は、このような問題点に対処し、同一の被露光体に対する複数種の露光パターンの形成効率を向上しようとする露光方法及び露光装置を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明による露光方法は、被露光体を一方向に搬送しながら該被露光体の搬送方向に所定間隔で設定された複数の露光領域毎に異なる露光パターンを形成する露光方法であって、前記各露光パターンに対応する複数種のマスクパターン群を前記被露光体の搬送方向に所定間隔で並べて形成したフォトマスクの一のマスクパターン群を使用して行う前記被露光体の一の露光領域に対する露光が終了すると、前記フォトマスクを前記被露光体の搬送速度に同期して移動して前記一のマスクパターン群から別のマスクパターン群に切り替える段階と、前記フォトマスクのマスクパターン群の切り替えが終了すると、該フォトマスクの移動を停止して前記別のマスクパターン群により前記被露光体の次の露光領域に対する露光を実行する段階と、を行うものである。
このような構成により、被露光体を一方向に搬送しながら、各露光パターンに対応する複数種のマスクパターン群を被露光体の搬送方向に所定間隔で並べて形成したフォトマスクの一のマスクパターン群を使用して行う被露光体の一の露光領域に対する露光が終了すると、フォトマスクを被露光体の搬送速度に同期して移動して一のマスクパターン群から別のマスクパターン群に切り替え、フォトマスクのマスクパターン群の切り替えが終了すると、該フォトマスクの移動を停止して別のマスクパターン群により被露光体の次の露光領域に対する露光を実行し、被露光体の搬送方向に所定間隔で設定された複数の露光領域毎に異なる露光パターンを形成する。
また、前記フォトマスクは、前記被露光体の搬送方向に移動するものである。これにより、フォトマスクを被露光体の搬送方向に移動してマスクパターン群の切り替えをする。
また、本発明による露光装置は、被露光体を一方向に搬送しながら該被露光体の搬送方向に所定間隔で設定された複数の露光領域毎に異なる露光パターンを形成する露光装置であって、前記被露光体を所定速度で搬送する搬送手段と、前記搬送手段の上面に対向して配設され、前記各露光パターンに対応する複数種のマスクパターン群を前記被露光体の搬送方向に所定間隔で並べて形成したフォトマスクを保持すると共に、前記搬送手段の移動に同期して移動可能に形成されたマスクステージと、を備え、前記フォトマスクの一のマスクパターン群を使用して行う、前記被露光体の一の露光領域に対する露光が終了すると、前記マスクステージを移動して前記フォトマスクの一のマスクパターン群から別のマスクパターン群に切り替え、該別のマスクパターン群により前記被露光体の次の露光領域に対する露光を実行するものである。
このような構成により、搬送手段で被露光体を一方向に所定速度で搬送しながら、フォトマスクの一のマスクパターン群を使用して行う被露光体の一の露光領域に対する露光が終了すると、マスクステージを被露光体の移動と同期して移動してフォトマスクの一のマスクパターン群から別のマスクパターン群に切り替え、該別のマスクパターン群により被露光体の次の露光領域に対する露光を実行し、被露光体の搬送方向に所定間隔で設定された複数の露光領域毎に異なる露光パターンを形成する。
そして、前記マスクステージは、前記被露光体の搬送方向に移動するものである。これにより、フォトマスクを被露光体の搬送方向に移動してマスクパターン群の切り替えをする。
請求項1又は3に係る発明によれば、従来技術と違って、所定の露光領域に対する露光が終了する度に、被露光体を露光開始前の待機位置まで戻すことなく被露光体を連続して所定速度で移動しながら、複数の露光領域毎に夫々異なる露光パターンを形成することができる。したがって、全ての露光が終了するまでの被露光体の総移動距離は、従来技術よりも遥かに短くなる。それ故、同一の被露光体に対する複数種の露光パターンの形成効率を従来技術に増して向上することができる。
また、請求項2又は4に係る発明によれば、フォトマスクを被露光体に近接対向させて露光するプロキシミティ露光装置を構成することができる。
本発明による露光装置の実施形態を示す概要図である。 上記露光装置に使用する被露光体の表面に設定された露光領域の一設定例を示す平面図である。 上記露光装置に使用するフォトマスクの一構成例を示す平面図である。 上記露光装置の制御手段の概略構成を示すブロック図である。 本発明の露光方法を示すフローチャートである。 本発明の露光方法を示す説明図である。
以下、本発明の実施形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。図1は本発明による露光装置の実施形態を示す概要図である。この露光装置は、露光工程の実行中、常時、被露光体を一方向に搬送しながら被露光体上に設定された複数の露光領域毎に異なる露光パターンを形成するもので、搬送手段1と、光源2と、カップリング光学系3と、マスクステージ4と、撮像手段6と、制御手段7とを備えてなる。
上記搬送手段1は、上面1aに被露光体8を載置して矢印Aで示す方向に所定の速度で搬送するものであり、エアを上面1aから噴射すると共に吸引し、該エアの噴射と吸引とをバランスさせて被露光体8を所定量だけ浮上させた状態で搬送するようになっている。また、搬送手段1には、被露光体8の移動速度を検出する速度センサー及び被露光体8の位置を検出する位置センサー(図示省略)が備えられている。
ここで使用する被露光体8は、図2に示すように、第1の露光パターン群を形成しようとする第1の露光領域9と、第2の露光パターン群を形成しようとする第2の露光領域10とが搬送方向(矢印A方向)に間隔Wで予め設定されたものであり、例えば多面付けされたカラーフィルタ基板等である。
上記搬送手段1の上方には、光源2が設けられている。この光源2は、光源光5として紫外線を放射するものであり、キセノンランプ、超高圧水銀ランプ、又はレーザ光源等である。
上記光源2の光放射方向前方には、カップリング光学系3が設けられている。このカップリング光学系3は、光源2から放射された光源光5を平行光にして後述のフォトマスク11のマスクパターン群に照射させるものであり、フォトインテグレータやコンデンサレンズ等の光学部品を含んで構成されている。さらに、フォトマスク11の各マスクパターン群の形成領域の外形状に合わせて光源光5の横断面形状を整形するマスクも備えている。
上記搬送手段1の上面に対向してマスクステージ4が設けられている。このマスクステージ4は、被露光体8上に形成される異種類の第1及び第2の露光パターン群に夫々対応する第1及び第2のマスクパターン群12,13を、図3に示すように、被露光体8上に設定された第1及び第2の露光領域9,10の間隔と同じ間隔Wで、被露光体8の搬送方向(矢印A方向)に並べて形成したフォトマスク11の周縁部を保持すると共に、矢印Aで示す被露光体8の搬送方向と同方向(矢印B方向)に該被露光体8の移動速度に同期して移動可能に形成されている。
上記フォトマスク11による露光位置の搬送方向手前側の位置を撮像可能に撮像手段6が設けられている。この撮像手段6は、被露光体8の表面を撮像するものであり、搬送手段1の上面に平行な面内にて搬送方向と略直交する方向に複数の受光素子を一直線状に並べたラインカメラである。撮像手段6は、具体的には、フォトマスク11のマスクパターン群の露光中心位置を基準に搬送方向手前側に距離Lだけ離れた位置を撮像するように配設されている。
上記搬送手段1と、光源2と、マスクステージ4と、撮像手段6とに結線して制御手段7が設けられている。この制御手段7は、搬送手段1、及びマスクステージ4の移動を適切に制御するものであり、図4に示すように、画像処理部14と、メモリ15と、演算部16と、比較器17と、搬送手段駆動コントローラ18と、マスクステージ駆動コントローラ19と、光源駆動コントローラ20と、制御部21とを備えている。
ここで、画像処理部14は、撮像手段6で撮像された被露光体8表面の画像を処理して各露光領域9,10の搬送方向先頭側の位置を検出するものである。また、メモリ15は、各露光領域9,10の矢印A方向の寸法、及びフォトマスク11による露光中心位置と撮像手段6による撮像位置との間の距離L等を記憶すると共に、後述の演算部16における演算結果を一時的に記憶するものである。さらに、演算部16は、搬送手段1の位置センサーの出力に基づいて被露光体8の移動距離を演算するものである。さらにまた、比較器17は、演算部16で演算された搬送手段1の移動距離とメモリ15から読み出した各寸法とを比較するものである。そして、搬送手段駆動コントローラ18は、搬送手段1が所定速度で移動するように制御するものである。また、マスクステージ駆動コントローラ19は、マスクステージ4を被露光体8の移動に同期して移動させてフォトマスク11の第1及び第2のマスクパターン群12,13を切り替えるものである。さらに、光源駆動コントローラ20は、光源2の点灯及び消灯の駆動を制御するものである。そして、制御部21は、上記各構成要素が適切に駆動するように装置全体を統合して制御するものである。
次に、このように構成された露光装置の動作及び該露光装置を使用して行う露光方法について図5を参照して説明する。ここでは、被露光体8がその表面に異なる露光パターンを形成する第1の露光領域9と第2の露光領域10とを搬送方向に間隔Wで設定したものである場合について説明する。
先ず、ステップS1においては、マスクステージ4は、待機位置に停止してフォトマスク11の第1のマスクパターン群12が選択されている。
ステップS2においては、搬送手段1が搬送手段駆動コントローラ18によって制御されて駆動し、被露光体8を矢印A方向に所定速度で搬送を開始する。
ステップS3においては、画像処理部14で撮像手段6により撮像された被露光体8の表面の画像を処理し、第1の露光領域9の矢印A方向の先頭側縁部にて、例えば第1の露光領域9内に予め形成された複数の基準パターンからなる基準パターン群の矢印A方向先頭側の縁部を検出する。
ステップS4においては、演算部16により、搬送手段1の位置センサーの出力に基づいて第1の露光領域9の矢印A方向の先頭側縁部を検出してから被露光体8が移動する距離を算出し、比較器17により該算出された被露光体8の移動距離とメモリ15から読み出した距離Lとを比較する。そして、両者が合致して、ステップS4において“YES”判定となると、ステップS5に進む。
ステップS5においては、光源駆動コントローラ20が起動して光源2を点灯させる。これにより、光源2から放射され、カップリング光学系3を経て平行光にされ、さらに横断面形状がマスクパターン群の外形状に合わせて整形された光源光5がフォトマスク11の第1のマスクパターン群12に照射して、被露光体8の第1の露光領域9に第1の露光パターン24が露光形成される(図6(a)参照)。
ステップS6においては、搬送手段1の位置センサーの出力に基づいて被露光体8の移動距離が演算部16で演算され、該距離とメモリ15から読み出した第1の露光領域9の矢印A方向の寸法が比較器17で比較され、両者が合致して第1の露光領域9に対する露光が終了したか否かが判定される。ここで、両者が合致して(図6(b)参照)、ステップS6において“YES”判定となると、ステップS7に進む。
ステップS7においては、マスクステージ駆動コントローラ19が起動し、マスクステージ4を被露光体8の搬送速度に同期させて矢印B方向に移動させる(図6(c),(d),(e)参照)。なお、図6(c)は、フォトマスク11が被露光体8の移動に同期して矢印B方向に移動しながらフォトマスク11の第1のマスクパターン群12の矢印B方向後部側の部分で被露光体8の第1の露光領域9に対して露光を行っている状態を示し、同図(d)は、フォトマスク11が更に移動して、フォトマスク11の第2のマスクパターン群13の矢印B方向の前端部が光源光5の矢印A(又は矢印B)方向後端部に合致した状態を示し、同図(e)は、フォトマスク11が更に移動してフォトマスク11の第1のマスクパターン群12の矢印B方向後端部が光源光5の矢印A(又は矢印B)方向前端部に合致した状態を示し、被露光体8の第2の露光領域25に対する露光が開始された状態を示している。
ステップS8においては、マスクステージ4に備える図示省略の位置センサーに基づいてマスクステージ4の移動距離を検出し、マスクステージ4が所定距離だけ移動してフォトマスク11のマスクパターン群が第1のマスクパターン群12から第2のマスクパターン群13に完全に切り替わったか否かをマスクステージ駆動コントローラ19で判定する。ここで、マスクパターン群の切り替えが完了すると、ステップS8は“YES”判定となってステップS9に進む。
ステップS9においては、マスクステージ駆動コントローラ19によりマスクステージ4の移動を停止し、フォトマスク11の第2のマスクパターン群13により、継続して移動中の被露光体8の第2の露光領域10に対して露光を実行し、第2の露光パターン25を形成する(図6(f)参照)。
ステップS10においては、搬送手段1の位置センサーの出力に基づいて被露光体8の移動距離が演算部16で演算され、該距離とメモリ15から読み出した第2の露光領域10の矢印A方向の寸法が比較器17で比較され、両者が合致して第2の露光領域10に対する露光が終了したか否かが判定される。ここで、両者が合致して “YES”判定となると露光が終了する。そして、光源駆動コントローラ20により制御されて光源2が消灯され、搬送手段駆動コントローラ18により制御されて搬送手段1の駆動が停止される。ここで、複数の被露光体8が逐次搬送され、該複数の被露光体8に対して続けて露光が実行される場合には、搬送手段1は継続して駆動される。
なお、上記実施形態においては、被露光体8に設定された露光領域が二つである場合について説明したが、本発明はこれに限られず、設定される露光領域は三つ以上であってもよい。この場合、フォトマスク11には、三つ以上のマスクパターン群が設けられており、上記ステップS10が終了するとステップS7に戻り、全ての露光領域に対する露光が終了するまでステップS7〜S10が繰り返し実行されることになる。
また、上記実施形態においては、フォトマスク11を被露光体8に近接対向して配置したプロキシミティ露光装置に適用した場合について説明したが、本発明はこれに限られず、フォトマスク11のマスクパターン群を被露光体8上に投影して露光する投影露光装置に適用してもよい。この場合、フォトマスク11の移動方向は、被露光体8の搬送方向と反対方向となる。
1…搬送手段
4…マスクステージ
5…光源光
8…被露光体
9…第1の露光領域
10…第2の露光領域
11…フォトマスク
12…第1のマスクパターン群
13…第2のマスクパターン群
24…第1の露光パターン
25…第2の露光パターン

Claims (4)

  1. 被露光体を一方向に搬送しながら該被露光体の搬送方向に所定間隔で設定された複数の露光領域毎に異なる露光パターンを形成する露光方法であって、
    前記各露光パターンに対応する複数種のマスクパターン群を前記被露光体の搬送方向に所定間隔で並べて形成したフォトマスクの一のマスクパターン群を使用して行う前記被露光体の一の露光領域に対する露光が終了すると、前記フォトマスクを前記被露光体の搬送速度に同期して移動して前記一のマスクパターン群から別のマスクパターン群に切り替える段階と、
    前記フォトマスクのマスクパターン群の切り替えが終了すると、該フォトマスクの移動を停止して前記別のマスクパターン群により前記被露光体の次の露光領域に対する露光を実行する段階と、
    を行うことを特徴とする露光方法。
  2. 前記フォトマスクは、前記被露光体の搬送方向に移動することを特徴とする請求項1記載の露光方法。
  3. 被露光体を一方向に搬送しながら該被露光体の搬送方向に所定間隔で設定された複数の露光領域毎に異なる露光パターンを形成する露光装置であって、
    前記被露光体を所定速度で搬送する搬送手段と、
    前記搬送手段の上面に対向して配設され、前記各露光パターンに対応する複数種のマスクパターン群を前記被露光体の搬送方向に所定間隔で並べて形成したフォトマスクを保持すると共に、前記搬送手段の移動に同期して移動可能に形成されたマスクステージと、を備え、
    前記フォトマスクの一のマスクパターン群を使用して行う、前記被露光体の一の露光領域に対する露光が終了すると、前記マスクステージを移動して前記フォトマスクの一のマスクパターン群から別のマスクパターン群に切り替え、該別のマスクパターン群により前記被露光体の次の露光領域に対する露光を実行することを特徴とする露光装置。
  4. 前記マスクステージは、前記被露光体の搬送方向に移動することを特徴とする請求項3記載の露光装置。
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