WO2010070993A1 - 基板洗浄装置 - Google Patents

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    • B08B7/00—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass
    • B08B7/02—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass by distortion, beating, or vibration of the surface to be cleaned

Definitions

  • FIG. 8 is a cross-sectional view for schematically explaining the operation of the conventional substrate cleaning apparatus.
  • FIG. 9 is a side view schematically showing a contact state between the blade of the substrate cleaning apparatus shown in FIG. 8 and the glass substrate.
  • FIG. 10 is a cross-sectional view schematically showing a cross section of a blade provided in the substrate cleaning apparatus.
  • the cleaning plate that is elastically deformable is brought into line contact or surface contact with the upper surface of the substrate to clean the substrate, thereby preventing the cleaning plate from being in local contact with the substrate and causing scratches.
  • the cullet can be easily separated from the upper surface of the substrate by washing while vibrating the cleaning plate, and the separated cullet is prevented from adhering again to the upper surface of the substrate by arranging a suction portion in the vicinity of the front end of the cleaning plate. Therefore, the substrate can be cleaned stably.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a configuration of a substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a perspective view showing the configuration of the substrate cleaning apparatus according to the present embodiment.
  • the cleaning target of the substrate cleaning apparatus according to the embodiment of the present invention is the upper surface of the first glass substrate 5 bonded to the upper surface of the second glass substrate 7. Foreign matter such as cullet 6 adheres to the upper surface of the first glass substrate 5.
  • the substrate cleaning apparatus includes a flat cleaning plate 1 as shown in FIGS.
  • a vibration unit 2 is connected to the cleaning plate 1 to vibrate the cleaning plate 1 so as to repeatedly press the upper surface of the first glass substrate 5.
  • a first suction portion 3 having a suction port in the vicinity of the front end portion 1 a of the cleaning plate 1 is provided above the cleaning plate 1.
  • a second suction part 4 having a suction port in the vicinity of the front end part 1 a of the cleaning plate 1 is provided below the cleaning plate 1.
  • the substrate cleaning apparatus includes a moving mechanism 8 that moves the cleaning plate 1, the first suction unit 3, and the second suction unit 4 integrally with each other relative to the substrate.
  • the cleaning plate 1 is brought close to the upper surface of the first glass substrate 5 so as to come into contact with a predetermined angle. After the front end portion 1a of the cleaning plate 1 is in contact with the upper surface of the first glass substrate 5, the cleaning plate 1 is further brought closer to the first glass substrate 5 and pressed against the upper surface of the first glass substrate 5 to be elastically deformed. Be in a state of being. At this time, since the upper surface of the first glass substrate 5 may be scratched by the contact of the cleaning plate, the cleaning plate 1 is in contact with an unnecessary portion that does not become a product and exists near the end of the first glass substrate 5. Be made.
  • the cleaning plate 1 is vibrated so as to repeatedly press against the upper surface of the first glass substrate 5 by the connected vibration part.
  • the cleaning plate 1 that is moving up and down by this vibration is always in contact with the first glass substrate 5 and elastically deformed. Therefore, the front-end
  • the first suction unit 3 and the second suction unit 4 are connected to a fan or the like (not shown), and the upper surface of the first glass substrate 5 is passed through the first glass from a suction port disposed in the vicinity of the front end portion 1a of the cleaning plate 1. Suction is performed without contacting the substrate 5. Since the first suction unit 3 is disposed above the cleaning plate 1, the first suction unit 3 mainly sucks the upper surface of the cleaning plate 1 or the front surface of the front end portion 1 a of the cleaning plate 1. Since the second suction unit 4 is disposed below the cleaning plate 1, the second suction unit 4 mainly sucks the upper surface of the first glass substrate 5.
  • the cleaning plate 1 since the cleaning plate 1 is elastically deformed and is in contact with the first glass substrate 5, when removing foreign matter from the upper surface of the first glass substrate 5, the cleaning plate 1 is perpendicular to the upper surface of the first glass substrate 5. It functions as a buffer material, and it is possible to make it difficult for scratches to occur on the upper surface of the first glass substrate 5. Furthermore, since the suction portions 3 and 4 perform suction without contacting the upper surface of the first glass substrate 5, the suction portions 3 and 4 can prevent the first glass substrate 5 from being damaged.
  • the cleaning plate 1 formed of a material having a small deformation resistance such as a thin plate material is in contact with the upper surface of the first glass substrate 5 at a small angle of about 1 ° to 5 °, for example, the first glass substrate 5 and the tip 1a may be in surface contact.
  • unevenness such as a flash is removed from the front end 1a of the cleaning plate 1.
  • the cleaning plate 1 comes into contact with the first glass substrate 5 in an elastically deformed state, and since the contact area between the first glass substrate 5 and the cleaning plate 1 is large, the contact is applied to the upper surface of the first glass substrate 5. Stress is lowered.
  • the characteristics required of the material forming these cleaning plates 1 are required to have a predetermined hardness or more because it is necessary to have a tensile strength capable of repeatedly removing foreign matters such as the hard cullet 6 at the tip 1a. It is done. Moreover, since the washing
  • the cleaning plate 1 When the cleaning plate 1 is configured as described above, the cleaning plate 1 is curved during cleaning, and the tip end portion 1 a is in line contact or surface contact with the upper surface of the first glass substrate 5. In the state where the cleaning plate 1 is curved, the following effects can be obtained by cleaning the upper surface of the first glass substrate 5.
  • FIG. 6A is a cross-sectional view schematically showing an example of the structure of the cleaning plate before bending.
  • FIG. 6B is a cross-sectional view schematically showing the cleaning plate in surface contact with the glass substrate.
  • FIG. 6C is a cross-sectional view schematically showing the cleaning plate in line contact with the glass substrate.
  • the second region 1c may be formed of an elastic body such as rubber
  • the first region 1b and the third region 1d may be formed of a rigid body such as stainless steel.
  • You may connect between the 1st area
  • the elastic modulus of the second region 1c is higher than that of the first region 1b and the third region 1d, the cleaning plate 1 pressed against the first glass substrate 5 bends in the second region 1c.
  • region 1c is formed with the elastic body, the bending of the washing
  • the second region 1c may be formed of a hinge including a spring
  • the first region 1b and the third region 1d may be formed of a rigid body such as stainless steel.
  • the cleaning plate 1 pressed against the first glass substrate 5 bends in the second region 1c.
  • region 1c is formed with the hinge containing a spring, the bending of the washing

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Abstract

　基板洗浄装置は、洗浄板(１)と、洗浄板(１)を振動させる振動部(２)と、洗浄対象となる基板(５)に非接触な状態で基板(５)の上面を吸引し、洗浄板(１)の先端部(１ａ)の近傍に吸込み口を有する吸引部(３，４)と、洗浄板(１)を基板(５)に対して相対的に移動させる移動機構(８)とを備える。この基板洗浄装置では、洗浄板(１)の先端部(１ａ)が基板(５)上面に押し付けられて洗浄板(１)が弾性的に変形し、洗浄板(１)の先端部(１ａ)が基板(５)上面に線接触または面接触した状態で、洗浄板(１)が基板(５)に対して相対的に基板(５)の洗浄方向に移動する。このような構成にすることにより、基板(５)にキズが発生するのを防止しつつ、安定して基板(５)を洗浄することができる。

Description

基板洗浄装置
　本発明は、基板洗浄装置に関し、特に、液晶パネルのガラス基板用基板洗浄装置に関する。
　液晶パネルは、２枚のガラス基板を貼り合わせてその間に液晶を封入し、このガラス基板を所定の大きさに切断後、切断されたガラス基板の一方の表面に偏光板を貼り付けることにより製造される。ガラス基板を切断する工程において、切断面から発生するカレットがガラス基板の表面に付着することがある。カレット(cullet)が付着した状態で偏光板を貼り付けると、偏光板とガラス基板との間に気泡が存在して液晶パネルの表示品質が低下してしまう。
　ガラス基板の表面に付着したカレットを除去する液晶パネルクリーニング装置を開示した先行文献として、特許文献１～４がある。特開２００２－２４４１１５号公報(特許文献１)に開示された液晶パネルクリーニング装置は、液晶パネルの表面に対して平行な対向面を有して回転するヘッド部を備えている。ヘッド部には超硬材によって構成される平板状の刃が備えられ、その刃先には平端部が形成されている。
　特開平１１－９５２４２号公報(特許文献２)に開示された液晶パネル端子クリーニング装置は、液晶パネルを位置決めする位置決め手段を備えている。特開平１０－３９２８２号公報(特許文献３)に開示された液晶ガラス基板のカレット除去装置は、刃物にモータの駆動で自転と公転とを与えている。特開２０００－１５１８８号公報(特許文献４)に開示された液晶パネル用洗浄装置は、第１の吸着固定手段と第２の洗浄手段とが一体的に形成された第１のユニット、および、第２の吸着固定手段と第１の洗浄手段とが一体的に形成された第２のユニットを備えている。
　図８は、従来の基板洗浄装置の動作を模式的に説明する断面図である。図９は、図８で示した基板洗浄装置の刃とガラス基板との接触状態を模式的に示す側面図である。図１０は、基板洗浄装置に備えられる刃の横断面を模式的に示す断面図である。
　図８に示すように、第２ガラス基板７０の上面に貼り合わされている第１ガラス基板５０の上面に、カレット６０が付着している。基板洗浄装置の刃１０の先端部１０ａは、第１ガラス基板５０の上面と接触している。この刃１０が、第１ガラス基板５０の上面を第１ガラス基板５０に対して相対的に洗浄方向に移動することにより、カレット６０を第１ガラス基板５０の上面から除去している。
　そのため、刃１０の先端部１０ａと第１ガラス基板５０との平行度が保たれていない場合には、図９に示すように、刃１０の先端部１０ａと第１ガラス基板５０とが、刃１０の一方の側端において局部的に接触する。図１０に示すように、基板洗浄装置に備えられる刃１０の先端部１０ａは、鋭角を有するように加工されている。刃１０は超硬材から構成されているため容易には変形しない。
特開２００２－２４４１１５号公報 特開平１１－９５２４２号公報 特開平１０－３９２８２号公報 特開２０００－１５１８８号公報
　特開２００２－２４４１１５号公報に記載の液晶パネルクリーニング装置では、刃が鋭角を有するように加工されているため、ガラス基板の上面に刃の先端部が局部的に接触すると、局所的に高い接触応力が発生してガラス基板にキズがつく場合がある。特許文献２～４に記載のカレット除去装置においても、カレットの除去は刃物で行なうため、ガラス基板にキズがつく恐れがある。
　本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであり、基板にキズが発生するのを防止しつつ、安定して基板を洗浄することができる、基板洗浄装置を提供することを目的とする。
　本発明の基板洗浄装置は、洗浄板と、洗浄板を振動させる振動部と、基板に非接触な状態で基板上を吸引し、洗浄板の先端部の近傍に吸込み口を有する吸引部と、洗浄板を基板に対して相対的に移動させる移動機構とを備える。この基板洗浄装置では、洗浄板の先端部が基板上面に押し付けられて洗浄板が弾性的に変形し、洗浄板の先端部が基板上面に線接触または面接触した状態で、洗浄板が相対的に基板の洗浄方向に移動する。
　本発明によれば、基板の上面に弾性変形可能な洗浄板を線接触または面接触させて基板を洗浄することにより、基板に洗浄板が局部接触してキズが発生するのを防止している。さらに、洗浄板を振動させながら洗浄することにより基板上面からカレットを分離しやすくし、洗浄板の先端部の近傍に吸引部を配置することにより分離したカレットが基板上面に再度付着することを防ぐため、安定して基板を洗浄することができる。
本発明の一実施の形態に係る、基板洗浄装置の構成を模式的に示す断面図である。 同実施の形態に係る、基板洗浄装置の構成を模式的に示す図である。 同実施の形態に係る基板洗浄装置の洗浄板が湾曲した状態を模式的に示す断面図である。 同実施の形態に係る基板洗浄装置の洗浄板が屈曲した状態を模式的に示す断面図である。 同実施の形態に係る基板洗浄装置の洗浄板が屈曲した状態を模式的に示す断面図である。 屈曲する前の洗浄板の構造の一例を模式的に示す断面図である。 ガラス基板に面接触した状態の洗浄板を模式的に示す断面図である。 ガラス基板に線接触した状態の洗浄板を模式的に示す断面図である。 吸引部を洗浄板の上方にのみ配置した基板洗浄装置を模式的に示す断面図である。 従来の基板洗浄装置の動作を模式的に説明する断面図である。 図８で示した基板洗浄装置の刃とガラス基板との接触状態を模式的に示す側面図である。 基板洗浄装置に備えられる刃の横断面を模式的に示す断面図である。
　以下、この発明に基づいた実施の形態における基板洗浄装置について、図を参照しながら説明する。
　図１は、本発明の一実施の形態に係る、基板洗浄装置の構成を示す断面模式図である。図２は、本実施の形態に係る、基板洗浄装置の構成を示す斜視図である。本発明の実施の形態に係る基板洗浄装置の洗浄対象は、第２ガラス基板７の上面に貼り合わされている第１ガラス基板５の上面である。第１ガラス基板５の上面に、カレット６などの異物が付着している。
　本実施の形態に係る基板洗浄装置は、図１，２に示すように、平板状の洗浄板１を備えている。洗浄板１には、洗浄板１を第１ガラス基板５の上面に対して繰り返し押圧するように振動させる、振動部２が接続されている。洗浄板１の先端部１ａの近傍に吸込み口を有する第１吸引部３が、洗浄板１の上方に設けられている。さらに、洗浄板１の先端部１ａの近傍に吸込み口を有する第２吸引部４が、洗浄板１の下方に設けられている。基板洗浄装置には、洗浄板１、第１吸引部３および第２吸引部４を一体的に、基板に対して相対的に移動させる移動機構８が備えられている。
　以下、本実施の形態に係る基板洗浄装置の動作を説明する。第１ガラス基板５の上方から洗浄板１が、第１ガラス基板５の上面に所定の角度で接触するように接近させられる。洗浄板１の先端部１ａが第１ガラス基板５の上面に接した後、さらに洗浄板１は第１ガラス基板５に接近させられ、第１ガラス基板５の上面に押し付けられて弾性変形している状態にされる。このとき、洗浄板の接触により第１ガラス基板５の上面にキズが発生する恐れがあるため、洗浄板１は、第１ガラス基板５の端部近傍に存在する、製品にならない不要部で接触させられる。
　洗浄板１は、接続されている振動部により、第１ガラス基板５の上面に対して繰り返し押圧するように振動させられる。この振動による上下移動中の洗浄板１は、常に第１ガラス基板５と接触して弾性変形した状態が維持されている。よって、洗浄板１の先端部１ａと第１ガラス基板５の上面とは、線接触または面接触した状態で維持される。そのため、洗浄板１と第１ガラス基板５との平行度にズレが生じていても、先端部１ａが第１ガラス基板５の上面に局部接触することはなく、全体的に接触する。また、振動部２が超音波を洗浄板１に印加するようにしてもよい。この場合、洗浄板１に微振動を与えることができる。
　第１吸引部３および第２吸引部４は、図示しないファンなどに接続され、洗浄板１の先端部１ａの近傍に配置される吸込み口から、第１ガラス基板５の上面を、第１ガラス基板５に非接触な状態で吸引する。第１吸引部３は、洗浄板１の上方に配置されるため、洗浄板１の上面または洗浄板１の先端部１ａの前面を主に吸引する。第２吸引部４は、洗浄板１の下方に配置されるため、第１ガラス基板５の上面を主に吸引する。
　洗浄板１、第１吸引部３および第２吸引部４は、移動機構８により一体的に基板の洗浄方向に相対的に移動させられる。たとえば、基板に対して洗浄板１を相対的に、３０ｍｍ／ｓｅｃ～２００ｍｍ／ｓｅｃの速度で移動させてもよい。このように、洗浄板１が振動しながら第１ガラス基板５の上面を相対的に移動することにより、第１ガラス基板５の上面に付着したカレット６などの異物を第１ガラス基板５から分離することができる。第１ガラス基板５から分離したカレット６などの異物は、第１吸引部３および第２吸引部４により吸引されて除去される。
　本実施の形態に係る基板洗浄装置を上記の構成にすることにより、下記の効果が得られる。第１ガラス基板５の上面に洗浄板１の先端部１ａを全体的に接触させることができ、局所的に高い接触応力が発生することを防ぐことが可能となる。洗浄板１は振動しながら、第１ガラス基板５の上面を相対的に移動するため、第１ガラス基板５の上面に付着したカレット６などの異物に対して、衝撃的なせん断力を作用させることができる。そのため、第１ガラス基板５上から異物を分離する高い分離力を発揮することができる。洗浄板１が超音波振動する場合には、微振動によって、第１ガラス基板５上の小さな異物に対する分離効率の上昇が図れる。さらに、分離された異物を第１ガラス基板５上に再度付着する前に、吸引部３，４により吸引除去するため、高い洗浄能力を発揮することができる。
　また、洗浄板１は弾性変形した状態で第１ガラス基板５に接触しているため、第１ガラス基板５の上面から異物を除去する際に、第１ガラス基板５の上面に対して垂直方向には緩衝材として機能し、第１ガラス基板５の上面にキズが発生しにくくすることができる。さらに、吸引部３，４は、第１ガラス基板５の上面に非接触な状態で吸引を行なうため、吸引部３，４により第１ガラス基板５にキズがつくことを防止することができる。
　次に、本実施の形態に係る基板洗浄装置の洗浄板１について説明する。図３は、本実施の形態に係る基板洗浄装置の洗浄板１が湾曲した状態を示す断面模式図である。図４，５は、本実施の形態に係る基板洗浄装置の洗浄板１が屈曲した状態を示す断面模式図である。
　洗浄板１を均一な板状の材料で形成した場合、洗浄の際の洗浄板１は図３に示すように、第１ガラス基板５と先端部１ａで線接触した状態で、所定の曲率で湾曲する。たとえば、洗浄板１を０．０５ｍｍ～０．２ｍｍの厚さを有する、ＳＵＳ３０３またはＳＵＳ３０４などのステンレス系合金で形成することにより、図３に示すような洗浄板１が湾曲した状態で洗浄を行なうことができる。
　薄い板状の材料など変形抵抗の小さい材料で形成される洗浄板１が、第１ガラス基板５の上面に、たとえば１°～５°程度の小さい角度で接触するような場合、第１ガラス基板５と先端部１ａとが面接触することもある。なお、洗浄板１の先端部１ａでは、ばりなどの凸凹は除去されている。この場合には、洗浄板１は弾性変形した状態で第１ガラス基板５に接触し、第１ガラス基板５と洗浄板１との接触面積が大きいため、第１ガラス基板５の上面にかかる接触応力が低くなる。
　これらの洗浄板１を形成する材料に求められる特性は、先端部１ａにおいて硬いカレット６などの異物を繰り返し除去することができる抗張力を有する必要があるため、所定の硬さ以上であることが求められる。また、第１ガラス基板５の上面にキズをつけずに洗浄板１が湾曲する必要があるため、変形抵抗が所定の抵抗値以下である必要がある。さらに、振動に耐えうる疲労性能、および湿式の洗浄に対応できる耐食性が求められる。これらの特性を有する金属製の薄板または樹脂製の複合材料などが、洗浄板１の材料として使用できる。上述のように、ＳＵＳ３０３またはＳＵＳ３０４などのステンレス鋼を用いてもよい。
　洗浄板１を上記の構成にすることにより、洗浄の際、洗浄板１は湾曲して先端部１ａが第１ガラス基板５の上面に線接触または面接触する。このような洗浄板１が湾曲した状態において、第１ガラス基板５の上面を洗浄することによって下記の効果が得られる。
　第１ガラス基板５の上面に洗浄板１の先端部１ａを全体的に接触させることができ、局所的に高い接触応力が発生することを防ぐことが可能となる。また、洗浄板１は弾性変形した状態で第１ガラス基板５に接触しているため、第１ガラス基板５の上面に対して垂直方向には緩衝材として機能し、第１ガラス基板５の上面にキズが発生しにくくすることができる。
　洗浄板１の他の構成として、図４，５に示すように、洗浄板１が屈曲して第１ガラス基板５の上面に線接触または面接触するようにしてもよい。この場合、洗浄板１と第１ガラス基板５との傾斜角度、すなわち、洗浄板１が第１ガラス基板５に接近させられる際の、第１ガラス基板５の上面に対して洗浄板１がなす角度を、たとえば、１°～５０°にしてもよい。この傾斜角度を小さくすると、第１ガラス基板５の上面のカレット６に作用するせん断力を大きくすることができる。ただし、傾斜角を小さくしすぎると、洗浄板１が弾性変形しにくくなるため、洗浄対象となる基板の種類、洗浄速度および洗浄板１の材質などの条件により、適宜、傾斜角度を調節する必要がある。
　図６Ａは、屈曲する前の洗浄板の構造の一例を模式的に示す断面図である。図６Ｂは、ガラス基板に面接触した状態の洗浄板を模式的に示す断面図である。図６Ｃは、ガラス基板に線接触した状態の洗浄板を模式的に示す断面図である。
　図６Ａに示すように、屈曲変形可能な洗浄板１は、先端部１ａを含む第１領域１ｂと、先端部１ａの反対側に位置する第３領域１ｄと、第１領域１ｂおよび第３領域の間に形成される第２領域１ｃから構成されている。第１領域１ｂおよび第３領域１ｄは、変形しにくい剛性を有する材料で形成される。第２領域１ｃは、変形しやすい材料で形成される。
　たとえば、第２領域１ｃをゴムなどの弾性体で形成し、第１領域１ｂおよび第３領域１ｄは、ステンレス鋼などの剛体で形成してもよい。第１領域１ｂと第２領域１ｃとの間、および、第２領域１ｃと第３領域１ｄとの間は、接着剤の塗布または焼付けなどの方法で接続してもよい。このような構造にした場合、第２領域１ｃの弾性率が第１領域１ｂおよび第３領域１ｄより高いため、第１ガラス基板５に押し付けられた洗浄板１は第２領域１ｃにおいて屈曲する。また、第２領域１ｃが弾性体で形成されているため、洗浄板１の屈曲は弾性変形になる。
　または、第２領域１ｃをばねを含む蝶番で形成し、第１領域１ｂおよび第３領域１ｄは、ステンレス鋼などの剛体で形成してもよい。この場合にも、第１ガラス基板５に押し付けられた洗浄板１は第２領域１ｃにおいて屈曲する。また、第２領域１ｃがばねを含む蝶番で形成されているため、洗浄板１の屈曲は、ばねによる反力を受けて弾性変形となる。
　あるいは、同一の材質で第１領域１ｂ、第２領域１ｃおよび第３領域１ｄを形成し、第２領域１ｃのみ第１領域１ｂおよび第３領域１ｄよりも薄い材料で形成してもよい。たとえば、第１領域１ｂおよび第３領域１ｄは０．２ｍｍの板厚で、第２領域１ｃは０．０５ｍｍの板厚で形成する。このような構造にした場合にも、第２領域１ｃの変形抵抗が第１領域１ｂおよび第３領域１ｄより高いため、第１ガラス基板５に押し付けられた洗浄板１は第２領域１ｃにおいて屈曲する。
　図６Ｂ,６Ｃに示すように、洗浄板１を上記の構成にすることにより、洗浄板１は特定の箇所で屈曲して、先端部１ａが第１ガラス基板５の上面に線接触または面接触する。このような洗浄板１が屈曲した状態において、第１ガラス基板５の上面を洗浄することによって下記の効果が得られる。なお、洗浄板１の先端部１ａでは、ばりなどの凸凹は除去されている。
　第１ガラス基板５の上面に洗浄板１の先端部１ａを全体的に接触させることができ、局所的に高い接触応力が第１ガラス基板５に発生することを防ぐことが可能となる。また、洗浄板１は弾性変形した状態で第１ガラス基板５に接触しているため、第１ガラス基板５の上面に対して垂直方向には緩衝材として機能して、第１ガラス基板５の上面にキズが発生しにくくすることができる。
　図７は、吸引部を洗浄板の上方にのみ配置した基板洗浄装置を模式的に示す断面図である。図７に示すように、基板洗浄装置には、吸引部として第１吸引部３のみを設けてもよい。このようにした場合、洗浄板１の上面に乗り上げる第１ガラス基板５から除去されたカレットを第１吸引部３により吸引することができる。吸引部を一ヶ所にすることにより、装置コストを削減することができる。
　なお、今回開示した上記実施の形態はすべての点で例示であって、限定的な解釈の根拠となるものではない。したがって、本発明の技術的範囲は、上記した実施の形態のみによって解釈されるものではなく、請求の範囲の記載に基づいて画定される。また、請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれる。
　１　洗浄板、１ａ，１０ａ　先端部、１ｂ　第１領域、１ｃ　第２領域、１ｄ　第３領域、２　振動部、３　第１吸引部、４　第２吸引部、５，５０　第１ガラス基板、６，６０　カレット、７，７０　第２ガラス基板、８　移動機構、１０　刃。

Claims (5)

  1. 　洗浄板(１)と、
    　前記洗浄板(１)を振動させる振動部(２)と、
    　前記洗浄板(１)の先端部(１ａ)の近傍に吸込み口を有し、洗浄対象である基板(５)に非接触な状態で該基板(５)の上面を吸引する吸引部(３，４)と、
    　前記洗浄板(１)を前記基板(５)に対して相対的に移動させる移動機構(８)と
    を備え、
    　前記洗浄板(１)の先端部(１ａ)が前記基板(５)の上面に押し付けられて前記洗浄板(１)が弾性的に変形し、前記洗浄板(１)の先端部(１ａ)が前記基板(５)の上面に線接触または面接触した状態で、前記洗浄板(１)が前記基板(５)に対して相対的に前記基板(５)の洗浄方向に移動する、基板洗浄装置。
  2. 　前記洗浄板(１)の変形形態が湾曲である、請求の範囲第１項に記載の基板洗浄装置。
  3. 　前記洗浄板(１)の変形形態が屈曲である、請求の範囲第１項に記載の基板洗浄装置。
  4. 　前記振動部(２)が超音波を前記洗浄板(１)に印加する、請求の範囲第１項に記載の基板洗浄装置。
  5. 　前記洗浄板(１)がステンレス鋼を含む、請求の範囲第１項に記載の基板洗浄装置。
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