WO2010060349A1 - 制造多根硅芯的高频线圈拉制孔布局 - Google Patents

制造多根硅芯的高频线圈拉制孔布局 Download PDF

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刘朝轩
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Liu Chaoxuan
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    • H05B6/42Cooling of coils
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    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B13/00Single-crystal growth by zone-melting; Refining by zone-melting
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
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    • C30B29/02Elements
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    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B6/00Heating by electric, magnetic or electromagnetic fields
    • H05B6/02Induction heating
    • H05B6/10Induction heating apparatus, other than furnaces, for specific applications

Definitions

  • Patent 11 Patent name, a high frequency coil capable of producing five silicon cores or other crystal materials at one time; Application date, February 13, 2007; Authorized announcement number, CN201024229Y;
  • Patent 14 Patent name, a high frequency coil capable of producing seven silicon cores or other crystal materials at one time; application date, January 19, 2007; authorization notice number, CN200996059Y;
  • the high-frequency coil drawing hole layout for manufacturing a plurality of silicon cores wherein the layout is to arrange a radial diverging groove between the drawing hole and the drawing hole; or to form a "C" shape on both sides of the drawing hole
  • the shunting groove is assisted by the auxiliary current guiding hole; or a short groove is respectively arranged on both sides of the drawing hole; or a connecting line is formed between the two drawn holes to form a barbell-like uniformity at the outer end of the radial dividing groove
  • the drawing of 2 to 8 and 13 or 16 or 19 or 22 silicon cores between the holes is substantially uniform due to the shunting of the shunting or shunting slots and the auxiliary current guiding holes during the operation of the current.
  • Figure 24 is a schematic view showing the working principle of the sixteen drawn holes current operation of the present invention
  • Figure 25 is a schematic view showing the structure of another embodiment of the sixteen drawn holes of the present invention
  • the high frequency coil drawn hole layout of the plurality of silicon cores is manufactured; wherein FIGS. 1 to 30 are common portions of the embodiments of the present invention, the high The frequency coil drawing hole layout is arranged on one side of the high frequency coil 1 with adjacent current conveying and cooling water conveying copper tube A5 and current conveying and cooling water conveying copper tube B6, two adjacent current conveying and cooling water conveying copper An inwardly extending diversion groove 2 is disposed between the tube A5 and the current delivery and cooling water delivery copper tube B6.
  • the draw holes 3 are at least two.
  • crystal chuck 14 is only another auxiliary structure for the implementation of the present invention, and thus the present invention is not explained in detail, and the wafer chuck 14 and other devices are not within the scope of the present invention.

Abstract

一种制造多根硅芯的高频线圈拉制孔布局,属于高频线圈技术领域,本发明是通过改变分流槽的位置设置;并由所述 “C”形的分流槽和辅助电流引导 孔进行辅助;或由两个拉制孔之间设置联通分流槽形成杠铃状匀部在放射状分流槽外端的拉制孔之间,促使电流运行时在分流槽或分流槽与辅助电流引导孔的分流作用下基本均匀的围绕所述的每个拉制孔运行,由于分流槽辅助下的电 流可以更均匀的分布在每个拉制孔周围,实现了电流在拉制孔周围均匀分布的 目的,也相应的实现了减少残次品的出现。

Description

说 明 书
制造多根硅芯的高频线圈拉制孔布局
【技术领域】
本发明属于高频线圈技术领域, 涉及可使电流均匀分布在拉制孔周围, 通 过电流使硅芯或其它晶体材料受热均匀, 可同时拉制多根硅芯或其它晶体材料 的结构; 尤其是涉及一种可使电流均匀分布的制造多根硅芯或晶体材料的高频 线圈拉制孔布局。
【背景技术】
已知, 随着不可再生能源的逐渐枯竭, 开发利用太阳能等新能源已成为大 势所趋, 多晶硅是制造太阳能电池的主要原料, 未来世界各国对多晶硅的需求 量逐年增加, 而硅芯的非西门子法生产多晶硅所必需的原材料, 在世界各国使 用量非常巨大; 现有的硅芯、 单晶硅及其它材料晶体区熔方式生产的工艺过程 中, 大多使用的是一种单目高频线圈, 其工作原理如下: 工作时通过给高频线 圈通入高频电流, 使高频线圈产生电流对原料棒进行感应加热, 加热后的原料 棒上端头形成融化区, 然后将仔晶插入熔化区, 慢慢提升仔晶, 熔化后的原料 就会跟随仔晶上升, 形成一个新的柱形晶体, 这个新的柱形晶体便是硅芯或其 它材料晶体的制成品。
本人经过多次实验发现, 本人在先申请的中国实用新型专利;
专利名称、 一次可生产两根硅芯或其它晶体材料的双目高频线圈; 申请日、
2006年 4月 14日; 授权公告号、 CN2926264Y;
专利 2: 专利名称、 一种一次可生产两根硅芯或其它晶体材料的高频线圈; 申请日、 2007年 1月 19日; 授权公告号、 CN201001211Y;
专利 3 : 专利名称、 一种一次可生产两根硅芯或其它晶体材料的高频线圈; 申请日、 2007年 2月 13日; 授权公告号、 CN201024223Y; 专利 4: 专利名称、 一种一次可生产三根硅芯或其它晶体材料的高频线圈; 申请日、 2007年 1月 19日; 授权公告号、 CN200999270Y;
专利 5 : 专利名称、 可同时生产三根硅芯或其它晶体材料的高频线圈; 申请 日、 2007年 1月 19日; 授权公告号、 CN201001208Y;
专利 6: 专利名称、 一种一次可生产三根硅芯或其它晶体材料的高频线圈; 申请日、 2007年 2月 13日; 授权公告号、 CN201024224Y;
专利 7 : 专利名称、 一种一次可生产三根硅芯或其它晶体材料的高频线圈; 申请日、 2007年 2月 13日; 授权公告号、 CN201024227Y;
专利 8: 专利名称、 一种一次可生产四根硅芯或其它晶体材料的高频线圈; 申请日、 2007年 1月 19日; 授权公告号、 CN201001209Y;
专利 9: 专利名称、 一种一次可生产四根硅芯或其它晶体材料的高频线圈; 申请日、 2007年 2月 13日; 授权公告号、 CN201024228Y;
专利 10: 专利名称、一种一次可生产五根硅芯或其它晶体材料的高频线圈; 申请日、 2007年 1月 19日; 授权公告号、 CN200996058Y;
专利 11 : 专利名称、一种一次可生产五根硅芯或其它晶体材料的高频线圈; 申请日、 2007年 2月 13日; 授权公告号、 CN201024229Y;
专利 12: 专利名称、一种一次可生产六根硅芯或其它晶体材料的高频线圈; 申请日、 2007年 1月 19日; 授权公告号、 CN200999269Y;
专利 13 : 专利名称、一种一次可生产六根硅芯或其它晶体材料的高频线圈; 申请日、 2007年 2月 13日; 授权公告号、 CN201024225Y;
专利 14: 专利名称、一种一次可生产七根硅芯或其它晶体材料的高频线圈; 申请日、 2007年 1月 19日; 授权公告号、 CN200996059Y;
专利 15 : 专利名称、 可同时生产七根硅芯或其它晶体材料的高频线圈; 申 请日、 2007年 2月 13日; 授权公告号、 CN201024226Y;
上述的高频线圈专利由于布局不合理, 一次想要同时拉制多根, 便会出现 仔晶的粗细不均匀现象, 要想利用所述在先申请同时拉制十根以上仔晶几乎是 不可能的, 而一次拉制仔晶的多少直接影响到投入产出比, 效益的多少完全取 决于拉制硅芯成品的多少, 经过试验上述的高频线圈在拉制孔周围的电流运行 达不到预期的目的, 出现了除中部和连接分流槽的拉制孔电流运行较多, 另外 几个外围分布的拉制孔环绕电流受到高频电流运行原理的影响, 使得大部分拉 制孔的温度远低于靠近或连接分流槽拉制孔的温度, 也就是本领域俗称的电流 走近路现象, 由于电流的走近路现象, 所产生的后果是提升起来的仔晶直径悬 殊非常大, 从而造成残次品数量的大幅增加; 本发明正是基于所述缺陷而产生 的。
【发明内容】
鉴于上述问题的存在, 本发明的目的是公开了一种有效克服上述缺陷的一 种制造多根硅芯的高频线圈拉制孔布局, 所述的高频线圈拉制孔布局是通过改 变分流槽的位置设置; 并由所述 "c"形的分流槽和辅助电流引导孔进行辅助; 或由两个拉制孔之间设置联通分流槽形成杠铃状匀部在放射状分流槽外端的拉 制孔之间, 促使电流运行时在分流槽或分流槽与辅助电流引导孔的分流作用下 基本均匀的围绕所述的每个拉制孔运行, 由于分流槽辅助下的电流可以更均匀 的分布在每个拉制孔周围, 实现了电流在拉制孔周围均匀分布的目的, 也相应 的实现了减少残次品的出现。
为了实现上述发明的目的, 本发明采用如下技术方案:
一种制造多根硅芯的高频线圈拉制孔布局, 所述的高频线圈拉制孔布局在 高频线圈 1的一侧设置有相邻的电流输送暨冷却水输送铜管 A5及电流输送暨冷 却水输送铜管 B6,两相邻的电流输送暨冷却水输送铜管 A5及电流输送暨冷却水 输送铜管 B6之间设有向内延伸的分流槽 2, 所述高频线圈 1的高频线圈上面 9 为向中心位置内陷的斜面, 所述的高频线圈 1的高频线圈下面 10设有中部内陷 的环状台阶, 冷却水道 4环埋在高频线圈 1的外缘面内, 所述冷却水道 4的两 端分别连通电流输送暨冷却水输送铜管 A5及电流输送暨冷却水输送铜管 B6; 所述分流槽 2连通高频线圈 1中部线圈上凹陷 7设置的拉制孔 3或连通直 线最近距离的拉制孔 3或连通设置在高频线圈 1 中部形成的 "工"字分流槽 2 上下任意一端对应 "工" 中部的直线分流槽 2 ;
其中所述辅助电流引导孔 11设置在 "C "形分流槽 12的两端; 或辅助电流 引导孔 11设置在分流槽 2的中部; 或辅助电流引导孔 11设置在分流槽 2的外 所述拉制孔 3为至少两个; 由两个拉制孔 3设置在 "工"字分流槽 2的两 侧对应 "工"字端点之间形成两根拉制孔布局; 或由两个拉制孔 3 上下并列设 置, 在连通分流槽 2的拉制孔 3设置半包裹另一拉制孔 3 "C"形分流槽, 并在 所述 "C"形分流槽的两端设置辅助电流引导孔 11 形成另一两根拉制孔布局; 或三个拉制孔 3呈 "品 "字排列, 其中一个拉制孔 3—侧连通电流输送暨冷却 水输送铜管 A5及电流输送暨冷却水输送铜管 B6之间的分流槽 2,另一侧连通" T" 形分流槽 2的下端, 在 "T"形分流槽 2的两侧分别设置另两个拉制孔 3, 所述 其中一个拉制孔 3的两边分别设有短槽 13后共同形成三根拉制孔布局; 或电流 输送暨冷却水输送铜管 A5及电流输送暨冷却水输送铜管 B6之间的分流槽 2连 通设置在高频线圈 1中部略远的拉制孔 3,并在拉制孔 3的另外两面设置分流槽 2, 两个分流槽 2的外端分别设置辅助电流引导孔 11, 其中的另两个拉制孔 3设 置在分流槽 2的两侧共同形成另一三根拉制孔布局; 或四个拉制孔 3形成正方 形排列, 电流输送暨冷却水输送铜管 A5及电流输送暨冷却水输送铜管 B6之间 的分流槽 2对应并连通其中两个拉制孔 3,其中两个拉制孔 3的两侧分别由分流 槽 2连通辅助电流引导孔 11, 在两拉制孔 3之间联通的分流槽 2中部设置辅助 电流引导孔 11,另两个拉制孔 3设置在辅助电流引导孔 11的两侧形成四根拉制 孔布局; 或四个拉制孔 3为中部设置一个拉制孔 3, 另外三个拉制孔 3均匀环绕 在中部拉制孔 3的周围, 所述电流输送暨冷却水输送铜管 A5及电流输送暨冷却 水输送铜管 B6之间的分流槽 2穿过三个环绕拉制孔 3的其中两个之间后连通中 部拉制孔 3,另两个分流槽 2由中部拉制孔 3向外延伸在三个环绕拉制孔 3的两 个拉制孔 3之间, 所述两个分流槽 2的外端在三个环绕拉制孔 3的环形中心线 与三个环绕拉制孔 3 的外围环形线之间形成另一四根拉制孔布局; 或中部设置 一个拉制孔 3, 多个拉制孔 3环绕在中部拉制孔 3周围, 所述电流输送暨冷却水 输送铜管 A5及电流输送暨冷却水输送铜管 B6之间的分流槽 2连通中部拉制孔 3, 外围环绕的拉制孔 3与拉制孔 3之间分别设置分流槽 2,或中部拉制孔 3直接通 过分流槽 2与外围的拉制孔 3连通。
所述的制造多根硅芯的高频线圈拉制孔布局, 所述制造多根硅芯的高频线 圈拉制孔布局, 其中制造五根硅芯的高频线圈拉制孔布局为五个拉制孔 3 为中 部设置一个拉制孔 3, 另外四个拉制孔 3均匀环绕在中部拉制孔 3的周围, 所述 电流输送暨冷却水输送铜管 A5及电流输送暨冷却水输送铜管 B6之间的分流槽 2 穿过四个环绕拉制孔 3的其中两个之间后连通中部拉制孔 3,另三个分流槽 2由 中部拉制孔 3向外延伸在四个环绕拉制孔 3的三个拉制孔 3之间, 所述三个分 流槽 2的外端在四个环绕拉制孔 3的环形中心线与四个环绕拉制孔 3的外围环 形线之间形成五根拉制孔布局。
所述的制造多根硅芯的高频线圈拉制孔布局, 所述制造多根硅芯的高频线 圈拉制孔布局, 其中制造六根硅芯的高频线圈拉制孔布局为六个拉制孔 3 为中 部设置一个拉制孔 3, 另外五个拉制孔 3均匀环绕在中部拉制孔 3的周围, 所述 电流输送暨冷却水输送铜管 A5及电流输送暨冷却水输送铜管 B6之间的分流槽 2 穿过五个环绕拉制孔 3的其中两个之间后连通中部拉制孔 3,另四个分流槽 2由 中部拉制孔 3向外延伸在五个环绕拉制孔 3的四个拉制孔 3之间, 所述四个分 流槽 2的外端在五个环绕拉制孔 3的环形中心线与五个环绕拉制孔 3的外围环 形线之间形成六根拉制孔布局。 所述的制造多根硅芯的高频线圈拉制孔布局, 所述制造多根硅芯的高频线 圈拉制孔布局, 其中制造七根硅芯的高频线圈拉制孔布局为七个拉制孔 3 为中 部设置一个拉制孔 3, 另外六个拉制孔 3均匀环绕在中部拉制孔 3的周围, 所述 电流输送暨冷却水输送铜管 A5及电流输送暨冷却水输送铜管 B6之间的分流槽 2 穿过六个环绕拉制孔 3的其中两个之间后连通中部拉制孔 3,另五个分流槽 2由 中部拉制孔 3向外延伸在六个环绕拉制孔 3的五个拉制孔 3之间, 所述五个分 流槽 2的外端在六个环绕拉制孔 3的环形中心线与六个环绕拉制孔 3的外围环 形线之间形成七根拉制孔布局。
所述的制造多根硅芯的高频线圈拉制孔布局, 所述制造多根硅芯的高频线 圈拉制孔布局, 其中制造八根硅芯的高频线圈拉制孔布局为八个拉制孔 3 为中 部设置一个拉制孔 3, 另外七个拉制孔 3均匀环绕在中部拉制孔 3的周围, 所述 电流输送暨冷却水输送铜管 A5及电流输送暨冷却水输送铜管 B6之间的分流槽 2 穿过七个环绕拉制孔 3的其中两个之间后连通中部拉制孔 3,另六个分流槽 2由 中部拉制孔 3向外延伸在七个环绕拉制孔 3的六个拉制孔 3之间, 所述六个分 流槽 2的外端在七个环绕拉制孔 3的环形中心线与七个环绕拉制孔 3的外围环 形线之间形成八根拉制孔布局。
本发明具有扩展结构, 也就是将两个拉制孔 3及相连的分流槽 2形成的杠 铃状拉制孔 3,所述铃状拉制孔 3分别设置在中部拉制孔 3外围拉制孔 3之间形 成十三根、 十六根、 十九根、 二十二根的高频线圈拉制孔布局。
所述的制造多根硅芯的高频线圈拉制孔布局, 所述制造多根硅芯的高频线 圈拉制孔布局, 其中制造十三根硅芯的高频线圈拉制孔布局为中部设置一个拉 制孔 3,在中部的拉制孔 3的四周等距分别设置四个环绕中部拉制孔 3的拉制孔 3, 所述电流输送暨冷却水输送铜管 A5及电流输送暨冷却水输送铜管 B6之间的 分流槽 2连通四个环绕中部拉制孔 3的其中一个拉制孔 3, 四个环绕的拉制孔 3 分别由分流槽 2与中部拉制孔 3连通, 所述四个环绕的拉制孔 3的每两个拉制 孔 3之间分别设置由两个拉制孔 3和两拉制孔 3之间联通的分流槽 2构成杠铃 状的拉制结构, 形成十三根拉制孔布局。
所述的制造多根硅芯的高频线圈拉制孔布局, 所述制造多根硅芯的高频线 圈拉制孔布局, 其中制造十六根硅芯的高频线圈拉制孔布局为中部设置一个拉 制孔 3,在中部的拉制孔 3的外部环状分布等距的五个环绕中部拉制孔 3的拉制 孔 3,所述电流输送暨冷却水输送铜管 A5及电流输送暨冷却水输送铜管 B6之间 的分流槽 2连通五个环绕中部拉制孔 3的其中一个拉制孔 3,五个环绕的拉制孔 3分别由分流槽 2与中部拉制孔 3连通,所述五个环绕的拉制孔 3的每两个拉制 孔 3之间分别设置由两个拉制孔 3和两拉制孔 3之间联通的分流槽 2构成杠铃 状的拉制结构, 形成十六根拉制孔布局。
所述的制造多根硅芯的高频线圈拉制孔布局, 所述制造多根硅芯的高频线 圈拉制孔布局, 其中制造十九根硅芯的高频线圈拉制孔布局为中部设置一个拉 制孔 3,在中部的拉制孔 3的外部环状分布等距的六个环绕中部拉制孔 3的拉制 孔 3,并在所述六个环绕中部的拉制孔 3外围另设六个与环绕中部的拉制孔 3相 对应的拉制孔 3, 也就是中部的拉制孔 3外缘环绕两层拉制孔 3, 所述电流输送 暨冷却水输送铜管 A5及电流输送暨冷却水输送铜管 B6之间的分流槽 2连通六 个最外部环绕的拉制孔 3的其中一个拉制孔 3, 所述最外部环绕的六个拉制孔 3 分别由分流槽 2贯通中部的另外六个拉制孔 3后与中部的拉制孔 3连通形成由 中部向外的串状结构, 在每两个串状结构之间分别设置由两个拉制孔 3 和两拉 制孔 3之间联通的分流槽 2构成杠铃状的拉制结构, 并在杠铃状的拉制结构与 环绕的外围六个拉制孔 3之间分别设有独立的拉制孔 3形成十九根拉制孔布局。
所述的制造多根硅芯的高频线圈拉制孔布局, 所述制造多根硅芯的高频线 圈拉制孔布局, 其中制造二十二根硅芯的高频线圈拉制孔布局为中部设置一个 拉制孔 3,在中部的拉制孔 3的外部环状分布等距的七个环绕中部拉制孔 3的拉 制孔 3,所述电流输送暨冷却水输送铜管 A5及电流输送暨冷却水输送铜管 B6之 间的分流槽 2连通七个环绕中部拉制孔 3的其中一个拉制孔 3,七个环绕的拉制 孔 3分别由分流槽 2与中部拉制孔 3连通, 所述七个环绕的拉制孔 3的每两个 拉制孔 3之间分别设置由两个拉制孔 3和两拉制孔 3之间联通的分流槽 2构成 杠铃状的拉制结构, 形成二十二根拉制孔布局。
所述的制造多根硅芯的高频线圈拉制孔布局, 所述另一具有十九根拉制孔 的扩展结构, 也就是在中部设置一个拉制孔 3, 在中部拉制孔 3的外围设置有六 个拉制孔 3, 分流槽 2由中部拉制孔 3呈放射状连通六个拉制孔 3, 在每个拉制 孔 3之间的设有两个拉制孔 3及相连的分流槽 2形成的杠铃状拉制孔 3形成所 述另一拉制十九根拉制孔布局。
由于采用上述技术方案, 本发明具有如下优越性:
本发明所述制造多根硅芯的高频线圈拉制孔布局, 所述布局是将拉制孔与 拉制孔之间设置放射状分流槽; 或在拉制孔两侧设置呈 "C "形的分流槽并由辅 助电流引导孔进行辅助; 或在拉制孔两侧分别设置短槽; 或由两个拉制孔之间 设置联通分流槽形成杠铃状匀部在放射状分流槽外端的拉制孔之间形成 2〜8和 13根或 16根或 19根或 22根硅芯的拉制,由于所述促使电流运行时在分流槽或 分流槽与辅助电流引导孔的分流作用下基本均匀的围绕所述的每个拉制孔运 行, 并且分流槽辅助电流更均匀的分布在每个拉制孔周围, 实现了电流在拉制 孔周围均匀分布的目的, 也相应的实现了减少残次品的出现; 提高能量利用率, 降低生产成本和减少次品率; 本发明且具有加热均匀、 大量节约能源、 减少设 备投资及人工综合成本等优点。
【附图说明】 图 3是本发明的两个拉制孔另一实施例结构示意图; 图 4是本发明的两个拉制孔另一实施例电流运行工作原理示意图; 图 5是本发明的三个拉制孔结构示意图;
图 6是本发明的三个拉制孔电流运行工作原理示意图;
图 7是本发明的三个拉制孔另一实施例结构示意图;
图 8是本发明的三个拉制孔另一实施例电流运行工作原理示意图; 图 9是本发明的四个拉制孔结构示意图;
图 10是本发明的四个拉制孔电流运行工作原理示意图;
图 11是本发明的四个拉制孔另一实施例结构示意图;
图 12是本发明的四个拉制孔另一实施例电流运行工作原理示意图; 图 13是本发明的五个拉制孔结构示意图;
图 14是本发明的五个拉制孔电流运行工作原理示意图;
图 15是本发明的六个拉制孔结构示意图;
图 16是本发明的六个拉制孔电流运行工作原理示意图;
图 17是本发明的七个拉制孔结构示意图;
图 18是本发明的七个拉制孔电流运行工作原理示意图;
图 19是本发明的八个拉制孔结构示意图;
图 20是本发明的八个拉制孔电流运行工作原理示意图;
图 21是本发明的十三个拉制孔结构示意图;
图 22是本发明的十三个拉制孔电流运行工作原理示意图; 图 23是本发明的十六个拉制孔结构示意图;
图 24是本发明的十六个拉制孔电流运行工作原理示意图; 图 25是本发明的十六个拉制孔另一实施例结构示意图;
图 26是本发明的十六个拉制孔另一实施例电流运行工作原理示意图; 图 27是本发明的十九个拉制孔结构示意图;
图 28是本发明的十九个拉制孔电流运行工作原理示意图;
图 29是本发明的二十二个拉制孔结构示意图;
图 30是本发明的二十二个拉制孔电流运行工作原理示意图;
图 31是本发明在拉制的仔晶中磁力线在高频线圈的强弱磁力分布示意图; 图 32是本发明的八个拉制孔布局结构立体示意图;
图 33是本发明的高频线圈刨面结构示意图;
在图中: 1、 高频线圈; 2、 分流槽; 3、 拉制孔; 4、 冷却水道; 5、 电流输 送暨冷却水输送铜管 A; 6、 电流输送暨冷却水输送铜管 B; 7、 线圈上凹陷; 8、 电流; 9、高频线圈上面; 1 0、高频线圈下面; 11、辅助电流引导孔; 12、 "C " 形分流槽; 13、 短槽; 14、 仔晶夹头; 15、 仔晶; 16、 原料棒; 17、 磁力线。
【具体实施方式】
参考下面的实施例, 可以更详细地解释本发明; 但是, 本发明并不局限于 这些实施例。
结合附图 31、 32或 33给出的实施例中; 所述制造多根硅芯的高频线圈拉 制孔布局; 其中图 1〜30 为本发明各个实施例的共用部分, 所述的高频线圈拉 制孔布局在高频线圈 1的一侧设置有相邻的电流输送暨冷却水输送铜管 A5及电 流输送暨冷却水输送铜管 B6 ,两相邻的电流输送暨冷却水输送铜管 A5及电流输 送暨冷却水输送铜管 B6之间设有向内延伸的分流槽 2, 所述高频线圈 1的高频 线圈上面 9为向中心位置内陷的斜面, 所述的高频线圈 1的高频线圈下面 10设 有中部内陷的环状台阶, 冷却水道 4环埋在高频线圈 1的外缘面内, 所述冷却 水道 4的两端分别连通电流输送暨冷却水输送铜管 A5及电流输送暨冷却水输送 铜管 B6;
所述分流槽 2连通高频线圈 1中部线圈上凹陷 7设置的其中中部的拉制孔 3 或连通直线距离最近的拉制孔 3或连通设置在高频线圈 1中部形成的 "工"字 分流槽 2上下任意一端对应 "工"中部的直线分流槽 2 ; 由分流槽 2形成内外连 通结构;
其中所述辅助电流引导孔 11设置在 "C "形分流槽 12的两端; 或辅助电流 引导孔 11设置在分流槽 2的中部; 或辅助电流引导孔 11设置在分流槽 2的外 山
¾ ; 结合本发明的权利诉求, 所述拉制孔 3为至少两个。
结合附图 1、 2本发明由两个拉制孔 3设置在 "工"字分流槽 2的两侧对应 "工"字端点之间形成两根拉制孔布局; 工作时电流 8环绕运行通过 "工"字 分流槽 2的引导, 电流 8均匀的分别环绕两个拉制孔 3行进。
结合附图 3、 4本发明另一实施例由两个拉制孔 3上下并列设置, 在连通分 流槽 2的拉制孔 3设置半包裹另一拉制孔 3 "C"形分流槽, 并在所述 "C "形 分流槽的两端设置辅助电流引导孔 11形成另一两根拉制孔布局; 工作时电流 8 环绕运行通过 "C "形分流槽 2及设置在 "C"形分流槽两端的辅助电流引导孔 11的引导, 使电流 8均匀的分别环绕两个拉制孔 3行进。
结合附图 5、 6本发明实施所述拉制三个拉制孔 3结构,三个拉制孔 3呈 "品 " 字排列, 其中一个拉制孔 3—侧连通电流输送暨冷却水输送铜管 A5及电流输送 暨冷却水输送铜管 B6之间的分流槽 2, 另一侧连通 "T "形分流槽 2的下端, 在 "T"形分流槽 2的两侧分别设置另两个拉制孔 3, 所述其中一个拉制孔 3的两 边分别设有短槽 13后共同形成三根拉制孔布局;工作时电流 8环绕运行通过 "T" 形分流槽 2的引导, 使电流 8均匀的分别环绕三个拉制孔 3的周围。
结合附图 7、 8本发明实施所述另一拉制三个拉制孔 3结构, 电流输送暨冷 却水输送铜管 A5及电流输送暨冷却水输送铜管 B6之间的分流槽 2连通设置在 高频线圈 1中部略远的拉制孔 3, 并在拉制孔 3的另外两面设置分流槽 2, 两个 分流槽 2的外端分别设置辅助电流引导孔 11, 其中的另两个拉制孔 3设置在分 流槽 2的两侧共同形成另一三根拉制孔布局; 工作时电流 8环绕运行通过中部 略远拉制孔 3另外两面设置的分流槽 2及两个分流槽 2的外端的辅助电流引导 孔 11的引导, 使电流 8均匀的分别环绕两个拉制孔 3行进。
结合附图 9、 10本发明实施所述拉制四个拉制孔 3结构, 四个拉制孔 3形 成正方形排列,电流输送暨冷却水输送铜管 A5及电流输送暨冷却水输送铜管 B6 之间的分流槽 2对应并连通其中两个拉制孔 3,其中两个拉制孔 3的两侧分别由 分流槽 2连通辅助电流引导孔 11, 在两拉制孔 3之间联通的分流槽 2中部设置 辅助电流引导孔 11,另两个拉制孔 3设置在辅助电流引导孔 11的两侧形成四根 拉制孔布局; 工作时电流 8 环绕运行通过两个对应于电流输送暨冷却水输送铜 管 A5及电流输送暨冷却水输送铜管 B6之间分流槽 2的拉制孔 3的两侧的分流 槽 2及辅助电流引导孔 11的引导,使电流 8均匀的分别环绕两个拉制孔 3行进。
结合附图 11〜20本发明实施所述拉制五个至八个拉制孔 3结构, 所述拉制 孔 3为中部设置一个拉制孔 3,另外的四个至七个拉制孔 3均匀环绕在中部拉制 孔 3的周围, 所述电流输送暨冷却水输送铜管 A5及电流输送暨冷却水输送铜管 B6之间的分流槽 2穿过四个至七个环绕拉制孔 3的其中两个之间后连通中部拉 制孔 3, 另外的四个至七个环绕拉制孔 3之间分别设置分流槽 2, 所述分流槽 2 由中部拉制孔 3向外延伸在环绕的拉制孔 3之间, 所述每个分流槽 2的外端在 环绕拉制孔 3的环形中心线与环绕拉制孔 3的外围环形线之间形成五个至八个 拉制孔布局; 需要说明的是本条实施例所述的五个至八个拉制孔布局为结构相 近, 所以不再 累述。
结合附图 21〜22本发明实施所述十三个拉制孔 3结构, 所述拉制十三根硅 芯的高频线圈拉制孔布局为中部设置一个拉制孔 3,在中部的拉制孔 3的四周等 距分别设置四个环绕中部拉制孔 3的拉制孔 3,所述电流输送暨冷却水输送铜管 A5及电流输送暨冷却水输送铜管 B6之间的分流槽 2连通四个环绕中部拉制孔 3 的其中一个拉制孔 3,四个环绕的拉制孔 3分别由分流槽 2与中部拉制孔 3连通, 所述四个环绕的拉制孔 3的每两个拉制孔 3之间分别设置由两个拉制孔 3和两 拉制孔 3之间联通的分流槽 2构成杠铃状的拉制结构, 形成十三根拉制孔布局; 工作时一部分电流 8环绕十三个拉制孔外缘运行, 另一部分电流 8穿梭在杠铃 状的拉制孔 3与中部拉制孔 3之间, 使电流 8均匀的分别环绕十三个拉制孔 3 行进。
结合附图 23〜24本发明实施所述十六个拉制孔 3结构, 所述拉制十六根硅 芯的高频线圈拉制孔布局为中部设置一个拉制孔 3,在中部的拉制孔 3的外部环 状分布等距的五个环绕中部拉制孔 3的拉制孔 3,所述电流输送暨冷却水输送铜 管 A5及电流输送暨冷却水输送铜管 B6之间的分流槽 2连通五个环绕中部拉制 孔 3的其中一个拉制孔 3, 五个环绕的拉制孔 3分别由分流槽 2与中部拉制孔 3 连通,所述五个环绕的拉制孔 3的每两个拉制孔 3之间分别设置由两个拉制孔 3 和两拉制孔 3之间联通的分流槽 2构成杠铃状的拉制结构, 形成十六根拉制孔 布局; 工作时一部分电流 8环绕十六个拉制孔外缘运行, 另一部分电流 8穿梭 在杠铃状的拉制孔 3与中部拉制孔 3之间, 使电流 8均匀的分别环绕十六个拉 制孔 3行进。
结合附图 25〜26本发明实施所述十九个拉制孔 3结构, 所述拉制十九根硅 芯的高频线圈拉制孔布局为中部设置一个拉制孔 3,在中部的拉制孔 3的外部环 状分布等距的六个环绕中部拉制孔 3的拉制孔 3,并在所述六个环绕中部的拉制 孔 3外围另设六个与环绕中部的拉制孔 3相对应的拉制孔 3,也就是中部的拉制 孔 3外缘环绕两层拉制孔 3, 所述电流输送暨冷却水输送铜管 A5及电流输送暨 冷却水输送铜管 B6之间的分流槽 2连通六个最外部环绕的拉制孔 3的其中一个 拉制孔 3,所述最外部环绕的六个拉制孔 3分别由分流槽 2贯通中部的另外六个 拉制孔 3后与中部的拉制孔 3连通形成由中部向外的串状结构, 在每两个串状 结构之间分别设置由两个拉制孔 3和两拉制孔 3之间联通的分流槽 2构成杠铃 状的拉制结构, 并在杠铃状的拉制结构与环绕的外围六个拉制孔 3 之间分别设 有独立的拉制孔 3形成十九根拉制孔布局; 工作时一部分电流 8环绕十九个拉 制孔外缘运行, 另一部分电流 8穿梭在杠铃状的拉制孔 3及独立的拉制孔 3与 连通中部拉制孔 3的串状拉制孔 3之间, 使电流 8均匀的分别环绕十六个拉制 孔 3行进。
结合附图 27〜28本发明实施另一所述十九个拉制孔 3结构, 所述另一具有 十九根拉制孔的扩展结构, 也就是在中部设置一个拉制孔 3, 在中部拉制孔 3的 外围设置有六个拉制孔 3,分流槽 2由中部拉制孔 3呈放射状连通六个拉制孔 3, 在每个拉制孔 3之间的设有两个拉制孔 3及相连的分流槽 2形成的杠铃状拉制 孔 3形成所述另一拉制十九根拉制孔布局; 工作时一部分电流 8环绕十九个拉 制孔外缘运行,另一部分电流 8穿梭在杠铃状的拉制孔 3及外围的六个拉制孔 3 之间, 使电流 8均匀的分别环绕十六个拉制孔 3行进。
结合附图 29〜30本发明实施所述二十二个拉制孔 3结构, 所述拉制二十二 根硅芯的高频线圈拉制孔布局为中部设置一个拉制孔 3,在中部的拉制孔 3的外 部环状分布等距的七个环绕中部拉制孔 3的拉制孔 3,所述电流输送暨冷却水输 送铜管 A5及电流输送暨冷却水输送铜管 B6之间的分流槽 2连通七个环绕中部 拉制孔 3的其中一个拉制孔 3,七个环绕的拉制孔 3分别由分流槽 2与中部拉制 孔 3连通, 所述七个环绕的拉制孔 3的每两个拉制孔 3之间分别设置由两个拉 制孔 3和两拉制孔 3之间联通的分流槽 2构成杠铃状的拉制结构, 形成二十二 根拉制孔布局; 工作时一部分电流 8环绕二十二个拉制孔外缘运行, 另一部分 电流 8穿梭在杠铃状的拉制孔 3与连通中部拉制孔 3的拉制孔 3之间,使电流 8 均匀的分别环绕二十二个拉制孔 3行进。
实施本发明所述制造多根硅芯的高频线圈拉制孔布局: 结合附图 31、 32或 33及其附图 1〜30所述, 在电流输送暨冷却水输送铜 管 A5及电流输送暨冷却水输送铜管 B6之间设置分流槽 2, 所述分流槽 2连接形 式根据附图 1〜30 的实际需求所定, 分流槽 2 的主要功能是为了使高频电流 8 在分界处能形成相互借用或交叉使原料棒 16均匀受热, 并且可以实现辅助化料 "原料棒 16 " 的作用; 在原料棒 16 "也叫原料硅棒" 的端头靠近高频线圈下面 10的部位融化后, 仔晶夹头 14带着仔晶 15下降, 使仔晶 15通过附图 1〜30所 述拉制孔 3后插入原料棒 16的熔化区, 然后提升仔晶 15, 原料棒 16上部的熔 化液体会跟随仔晶 15上升,所述原料棒 16下部的下轴也相应跟随同歩缓慢上升, 但是所述原料棒 16不得与高频线圈 1接触;因为原料棒 16的端部可能不太平整, 所以, 高频线圈下面 10设计为内陷台阶, 其作用在于尽可能的使原料棒 16多靠 近高频线圈的下部面,进而快速液化, 所述高频线圈上面 9设计为由外至内的斜 坡,斜坡的作用是可以减少高频电流 8过于在中部的集中, 使所述电流 8在高频 线圈 3上均匀分布, 以实现受热均匀的效果; 原料棒 1上部的熔化区在仔晶 15 的粘和带动并通过高频线圈 1拉制孔 3后, 由于磁力线 17的减弱而冷凝, 便形 成一个新的柱型晶体,所述仔晶夹头 14夹带仔晶 15缓慢上升, 便可形成所需长 度的成品硅芯。
需要说明的是仔晶夹头 14仅作为本发明的实施过程的另一辅助结构, 因此 本发明没有给与详细解释, 况且仔晶夹头 14以及其它设备不属于本发明的保护 范围。
为了公开本发明的目的而在本文中选用的实施例, 当前认为是适宜的, 但 是应了解的使, 本发明旨在包括一切属于本构思和本发明范围内的实施例的所 有变化和改进。

Claims

权 利 要 求 书
1、 一种制造多根硅芯的高频线圈拉制孔布局, 所述的高频线圈拉制孔布局 在高频线圈 (1) 的一侧设置有相邻的电流输送暨冷却水输送铜管 A (5)及电流 输送暨冷却水输送铜管 B (6), 两相邻的电流输送暨冷却水输送铜管 A (5) 及 电流输送暨冷却水输送铜管 B (6) 之间设有向内延伸的分流槽 (2), 所述高频 线圈(1) 的高频线圈上面(9)为向中心位置内陷的斜面, 所述的高频线圈(1) 的高频线圈下面 (10) 设有中部内陷的环状台阶, 冷却水道 (4) 环埋在高频线 圈 (1) 的外缘面内, 所述冷却水道 (4) 的两端分别连通电流输送暨冷却水输 送铜管 A (5)及电流输送暨冷却水输送铜管 B (6), 其特征是: 所述分流槽(2) 连通高频线圈 (1) 中部线圈上凹陷 (7) 设置的拉制孔 (3) 或连通直线最近距 离的拉制孔 (3) 或连通设置在高频线圈 (1) 中部形成的 "工"字分流槽 (2) 上下任意一端对应 "工" 中部的直线分流槽 (2);
其中所述辅助电流引导孔 (11) 设置在 "C"形分流槽 (12) 的两端; 或辅 助电流引导孔 (11) 设置在分流槽 (2) 的中部; 或辅助电流引导孔 (11) 设置 在分流槽 (2) 的外端;
所述拉制孔 (3) 为至少两个; 由两个拉制孔 (3) 设置在 "工"字分流槽 (2) 的两侧对应 "工"字端点之间形成两根拉制孔布局; 或由两个拉制孔 (3) 上下并列设置, 在连通分流槽 (2) 的拉制孔 (3) 设置半包裹另一拉制孔 (3 ) "C"形分流槽 (12), 并在所述 "C"形分流槽 (12) 的两端设置辅助电流引导 孔 (11) 形成另一两根拉制孔布局; 或三个拉制孔 (3) 呈 "品"字排列, 其 中一个拉制孔(3)—侧连通电流输送暨冷却水输送铜管 A (5)及电流输送暨冷 却水输送铜管 B (6) 之间的分流槽 (2), 另一侧连通 "T"形分流槽 (2) 的下 端, 在 "T"形分流槽 (2) 的两侧分别设置另两个拉制孔 (3), 所述其中一个 拉制孔 (3) 的两边分别设有短槽 (13) 后共同形成三根拉制孔布局; 或电流输 送暨冷却水输送铜管 A (5) 及电流输送暨冷却水输送铜管 B (6) 之间的分流槽
(2) 连通设置在高频线圈 (1) 中部略远的拉制孔 (3), 并在拉制孔 (3) 的另 外两面设置分流槽(2),两个分流槽(2)的外端分别设置辅助电流引导孔(11), 其中的另两个拉制孔 (3) 设置在分流槽 (2) 的两侧共同形成另一三根拉制孔 布局; 或四个拉制孔 (3) 形成正方形排列, 电流输送暨冷却水输送铜管 A (5) 及电流输送暨冷却水输送铜管 B (6)之间的分流槽(2)对应并连通其中两个拉 制孔 (3), 其中两个拉制孔 (3) 的两侧分别由分流槽 (2) 连通辅助电流引导 孔(11),在两拉制孔(3)之间联通的分流槽(2)中部设置辅助电流引导孔(11), 另两个拉制孔 (3) 设置在辅助电流引导孔 (11) 的两侧形成四根拉制孔布局; 或四个拉制孔 (3) 为中部设置一个拉制孔 (3), 另外三个拉制孔 (3) 均匀环 绕在中部拉制孔(3) 的周围, 所述电流输送暨冷却水输送铜管 A (5)及电流输 送暨冷却水输送铜管 B (6) 之间的分流槽 (2) 穿过三个环绕拉制孔 (3) 的其 中两个之间后连通中部拉制孔 (3), 另两个分流槽 (2) 由中部拉制孔 (3) 向 外延伸在三个环绕拉制孔 (3) 的两个拉制孔 (3) 之间, 所述两个分流槽 (2) 的外端在三个环绕拉制孔 (3) 的环形中心线与三个环绕拉制孔 (3) 的外围环 形线之间形成另一四根拉制孔布局; 或中部设置一个拉制孔 (3), 多个拉制孔
(3) 环绕在中部拉制孔 (3) 周围, 所述电流输送暨冷却水输送铜管 A (5) 及 电流输送暨冷却水输送铜管 B (6)之间的分流槽(2)连通中部拉制孔(3), 外 围环绕的拉制孔 (3) 与拉制孔 (3) 之间分别设置分流槽 (2), 或中部拉制孔
(3) 直接通过分流槽 (2) 与外围的拉制孔 (3) 连通。
2、根据权利要求 1所述的制造多根硅芯的高频线圈拉制孔布局,其特征是: 所述制造多根硅芯的高频线圈拉制孔布局, 其中制造五根硅芯的高频线圈拉制 孔布局为五个拉制孔 (3) 为中部设置一个拉制孔 (3), 另外四个拉制孔 (3) 均匀环绕在中部拉制孔(3) 的周围, 所述电流输送暨冷却水输送铜管 A (5)及 电流输送暨冷却水输送铜管 B (6)之间的分流槽(2) 穿过四个环绕拉制孔(3) 的其中两个之间后连通中部拉制孔 (3), 另三个分流槽 (2) 由中部拉制孔 (3) 向外延伸在四个环绕拉制孔(3) 的三个拉制孔(3)之间, 所述三个分流槽(2) 的外端在四个环绕拉制孔 (3) 的环形中心线与四个环绕拉制孔 (3) 的外围环 形线之间形成五根拉制孔布局。
3、根据权利要求 1所述的制造多根硅芯的高频线圈拉制孔布局,其特征是: 所述制造多根硅芯的高频线圈拉制孔布局, 其中制造六根硅芯的高频线圈拉制 孔布局为六个拉制孔 (3) 为中部设置一个拉制孔 (3), 另外五个拉制孔 (3) 均匀环绕在中部拉制孔(3) 的周围, 所述电流输送暨冷却水输送铜管 A (5)及 电流输送暨冷却水输送铜管 B (6)之间的分流槽(2) 穿过五个环绕拉制孔(3) 的其中两个之间后连通中部拉制孔 (3), 另四个分流槽 (2) 由中部拉制孔 (3) 向外延伸在五个环绕拉制孔(3) 的四个拉制孔(3)之间, 所述四个分流槽(2) 的外端在五个环绕拉制孔 (3) 的环形中心线与五个环绕拉制孔 (3) 的外围环 形线之间形成六根拉制孔布局。
4、根据权利要求 1所述的制造多根硅芯的高频线圈拉制孔布局,其特征是: 所述制造多根硅芯的高频线圈拉制孔布局, 其中制造七根硅芯的高频线圈拉制 孔布局为七个拉制孔 (3) 为中部设置一个拉制孔 (3), 另外六个拉制孔 (3) 均匀环绕在中部拉制孔(3) 的周围, 所述电流输送暨冷却水输送铜管 A (5)及 电流输送暨冷却水输送铜管 B (6)之间的分流槽(2) 穿过六个环绕拉制孔(3) 的其中两个之间后连通中部拉制孔 (3 ), 另五个分流槽 (2) 由中部拉制孔 (3) 向外延伸在六个环绕拉制孔(3) 的五个拉制孔(3)之间, 所述五个分流槽(2) 的外端在六个环绕拉制孔 (3 ) 的环形中心线与六个环绕拉制孔 (3 ) 的外围环 形线之间形成七根拉制孔布局。
5、根据权利要求 1所述的制造多根硅芯的高频线圈拉制孔布局,其特征是: 所述制造多根硅芯的高频线圈拉制孔布局, 其中制造八根硅芯的高频线圈拉制 孔布局为八个拉制孔 (3 ) 为中部设置一个拉制孔 (3 ), 另外七个拉制孔 (3 ) 均匀环绕在中部拉制孔(3) 的周围, 所述电流输送暨冷却水输送铜管 A ( 5)及 电流输送暨冷却水输送铜管 B (6)之间的分流槽(2) 穿过七个环绕拉制孔(3) 的其中两个之间后连通中部拉制孔 (3 ), 另六个分流槽 (2) 由中部拉制孔 (3) 向外延伸在七个环绕拉制孔(3) 的六个拉制孔(3)之间, 所述六个分流槽(2) 的外端在七个环绕拉制孔 (3 ) 的环形中心线与七个环绕拉制孔 (3 ) 的外围环 形线之间形成八根拉制孔布局。
6、 根据权利要求 1所述的制造多根硅芯的高频线圈拉制孔布局, 所述拉制 孔布局具有扩展结构, 也就是将两个拉制孔 (3 ) 及相连的分流槽 (2 ) 形成的 杠铃状拉制孔 (3 ), 所述铃状拉制孔 (3 ) 分别设置在中部拉制孔 (3 ) 外围拉 制孔(3 )之间形成十三根、 十六根、 十九根、 二十二根的高频线圈拉制孔布局, 其特征是: 所述制造多根硅芯的高频线圈拉制孔布局, 其中制造十三根硅芯的 高频线圈拉制孔布局为中部设置一个拉制孔 (3), 在中部的拉制孔 (3) 的四周 等距分别设置四个环绕中部拉制孔 (3) 的拉制孔 (3), 所述电流输送暨冷却水 输送铜管 A (5) 及电流输送暨冷却水输送铜管 B (6) 之间的分流槽 (2) 连通 四个环绕中部拉制孔 (3 ) 的其中一个拉制孔 (3 ), 四个环绕的拉制孔 (3 ) 分 别由分流槽 (2 ) 与中部拉制孔 (3) 连通, 所述四个环绕的拉制孔 (3 ) 的每两 个拉制孔 (3 ) 之间分别设置由两个拉制孔 (3 ) 和两拉制孔 (3) 之间联通的分 流槽 (2) 构成杠铃状的拉制结构, 形成十三根拉制孔布局。
7、 根据权利要求 1或 6所述的制造多根硅芯的高频线圈拉制孔布局, 其特 征是: 所述制造多根硅芯的高频线圈拉制孔布局, 其中制造十六根硅芯的高频 线圈拉制孔布局为中部设置一个拉制孔 (3), 在中部的拉制孔 (3) 的外部环状 分布等距的五个环绕中部拉制孔 (3) 的拉制孔 (3), 所述电流输送暨冷却水输 送铜管 A (5 ) 及电流输送暨冷却水输送铜管 B6之间的分流槽 (2) 连通五个环 绕中部拉制孔 (3 ) 的其中一个拉制孔 (3 ), 五个环绕的拉制孔 (3 ) 分别由分 流槽 (2 ) 与中部拉制孔 (3) 连通, 所述五个环绕的拉制孔 (3) 的每两个拉制 孔(3)之间分别设置由两个拉制孔(3 )和两拉制孔(3)之间联通的分流槽(2 ) 构成杠铃状的拉制结构, 形成十六根拉制孔布局。
8、 根据权利要求 1或 6所述的制造多根硅芯的高频线圈拉制孔布局, 其特 征是: 所述制造多根硅芯的高频线圈拉制孔布局, 其中制造十九根硅芯的高频 线圈拉制孔布局为中部设置一个拉制孔 (3), 在中部的拉制孔 (3) 的外部环状 分布等距的六个环绕中部拉制孔 (3) 的拉制孔 (3), 并在所述六个环绕中部的 拉制孔 (3 ) 外围另设六个与环绕中部的拉制孔 (3 ) 相对应的拉制孔 (3 ), 也 就是中部的拉制孔 (3) 外缘环绕两层拉制孔 (3), 所述电流输送暨冷却水输送 铜管 A (5) 及电流输送暨冷却水输送铜管 B (6) 之间的分流槽 (2 ) 连通六个 最外部环绕的拉制孔 (3) 的其中一个拉制孔 (3), 所述最外部环绕的六个拉制 孔 (3) 分别由分流槽 (2) 贯通中部的另外六个拉制孔 (3) 后与中部的拉制孔 (3) 连通形成由中部向外的串状结构, 在每两个串状结构之间分别设置由两个 拉制孔 (3) 和两拉制孔 (3) 之间联通的分流槽 (2) 构成杠铃状的拉制结构, 并在杠铃状的拉制结构与环绕的外围六个拉制孔 (3) 之间分别设有独立的拉制 孔 (3) 形成十九根拉制孔布局。
9、 根据权利要求 1或 6所述的制造多根硅芯的高频线圈拉制孔布局, 其特 征是: 所述制造多根硅芯的高频线圈拉制孔布局, 其中制造二十二根硅芯的高 频线圈拉制孔布局为中部设置一个拉制孔 (3), 在中部的拉制孔 (3) 的外部环 状分布等距的七个环绕中部拉制孔 (3) 的拉制孔 (3), 所述电流输送暨冷却水 输送铜管 A (5) 及电流输送暨冷却水输送铜管 B (6) 之间的分流槽 (2) 连通 七个环绕中部拉制孔 (3) 的其中一个拉制孔 (3), 七个环绕的拉制孔 (3) 分 别由分流槽 (2) 与中部拉制孔 (3) 连通, 所述七个环绕的拉制孔 (3) 的每两 个拉制孔 (3) 之间分别设置由两个拉制孔 (3) 和两拉制孔 (3) 之间联通的分 流槽 (2) 构成杠铃状的拉制结构, 形成二十二根拉制孔布局。
10、 根据权利要求 1 所述的制造多根硅芯的高频线圈拉制孔布局, 其特征 是:所述另一具有十九根拉制孔的扩展结构,也就是在中部设置一个拉制孔(3), 在中部拉制孔 (3) 的外围设置有六个拉制孔 (3), 分流槽 (2) 由中部拉制孔
(3) 呈放射状连通六个拉制孔 (3), 在每个拉制孔 (3) 之间的设有两个拉制 孔 (3) 及相连的分流槽 (2) 形成的杠铃状拉制孔 (3) 形成所述另一拉制十九 根拉制孔布局。
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