JP2012504098A - 複数のシリコン芯を製造する高周波コイル引き孔の配置 - Google Patents

複数のシリコン芯を製造する高周波コイル引き孔の配置 Download PDF

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Abstract

複数のシリコン芯を製造する高周波コイル引き孔の配置であって、高周波コイル技術分野に属し、本発明が分流槽の位置配置を変化し、且つ前記「C」形の分流槽と補助電流引導孔によって補助され、又は2つの引き孔がその間に分流槽によって接続されてバーベル状均部に形成され、分流槽外端の引き孔が放射状に形成され、電流が流れる時に、分流槽又は分流槽と補助電流引導孔の分流作用下で、ほぼ均一に前記各引き孔に回って流れ、分流槽の補助下での電流が更に均一に各引き孔の周囲に分布できるため、電流が引き孔の周囲に均一に分布する目的を達成し、不良品の数も低減する。

Description

本発明は、高周波コイル技術分野に属し、電流を引き孔の周囲に均一に分布させ、電流によってシリコン芯又はその他の結晶材料を均一に加熱し、それとともに、複数のシリコン芯又はその他の結晶材料を引く構造に関し、特に、電流を均一に分布させる複数のシリコン芯又は結晶材料を製造する高周波コイル引き孔の配置に関する。
再生不能なエネルギー資源が枯渇していることにつれて、太陽エネルギー等の新エネルギーを開発する傾向があり、多結晶シリコンが太陽電池を製造する主な原料であり、将来、世界各国が多結晶シリコンに対する需要が年々増加していて、しかし、シリコン芯の非シーメンス法によって多結晶シリコンを製造する原材料が世界各国の使用量が非常に大きいであることが分かった。現有のシリコン芯、単結晶シリコン及びその他の材料結晶がゾーンメルティング方式で生産したプロセスにおいて、普通、単孔高周波コイルを用い、その作業原理は、作業時に、高周波コイルに高周波電流を加えることによって、高周波コイルに電流を生じさせて原料棒に対し誘導加熱し、加熱後の原料棒上端に融合部が形成され、そして種晶を融合部に挿入し、種晶を徐々に上昇させ、融解後の原料が種晶とともに上昇し、新しい柱形結晶を形成し、この新しい柱形結晶がシリコン芯又はその他の材料結晶の製品である。
本人は鋭意に研究した後に、以下の中国実用新案特許(特許文献1〜15)を先行出願した。
前記高周波コイル特許は配置が不合理であるため、一回で複数の本のシリコン芯又はその他の結晶材料を同時に引くと、種晶の厚さが不均一な現象を表し、前記先行出願が10本以上の種晶を同時に引くことがほとんど不可能であり、しかし、一回で引いた種晶の量が投入産出比率に影響を直接与え、利益の多少が引いたシリコン芯製品の多少によって決められ、試験によって、前記高周波コイルが引き孔の周囲において電流の流れが希望の目的を達成できなく、中部と分流槽に接続される引き孔の電流の流れが大きい他に、外周に分布してあるその他の幾つの引き孔が電流を回って、高周波電流の流れ原理の影響を受け、大部分の引き孔の温度が分流槽の引き孔に近寄り又は接続される温度よりずっと低く、つまり、本分野に俗称する「電流が近道を取る現象」であり、この現象のため、生じる結果が上昇した種晶の直径の差異が非常に大きく、これで不良品の数が大幅に増加し、本発明が前記欠点に基づいて生じるものである。
考案の名称:一回で2本のシリコン芯又はその他の結晶材料を製造可能な両孔高周波コイル。出願日:2006年4月14日。出願番号:CN2926264Y。 考案の名称:一回で2本のシリコン芯又はその他の結晶材料を製造可能な高周波コイル。出願日:2007年1月19日。出願番号:CN201001211Y。 考案の名称:一回で2本のシリコン芯又はその他の結晶材料を製造可能な高周波コイル。出願日:2007年2月13日。出願番号:CN201024223Y。 考案の名称:一回で3本のシリコン芯又はその他の結晶材料を製造可能な高周波コイル。出願日:2007年1月19日。出願番号:CN200999270Y。 考案の名称:3本のシリコン芯又はその他の結晶材料を同時に製造可能な高周波コイル。出願日:2007年1月19日。出願番号:CN201001208Y。 考案の名称:一回で3本のシリコン芯又はその他の結晶材料を製造可能な高周波コイル。出願日:2007年2月13日。出願番号:CN201024224Y。 考案の名称:一回で3本のシリコン芯又はその他の結晶材料を製造可能な高周波コイル。出願日:2007年2月13日。出願番号:CN201024227Y。 考案の名称:一回で4本のシリコン芯又はその他の結晶材料を製造可能な高周波コイル。出願日:2007年1月19日。出願番号:CN201001209Y。 考案の名称:一回で4本のシリコン芯又はその他の結晶材料を製造可能な高周波コイル。出願日:2007年2月13日。出願番号:CN201024228Y。 考案の名称:一回で5本のシリコン芯又はその他の結晶材料を製造可能な高周波コイル。出願日:2007年1月19日。出願番号:CN200996058Y。 考案の名称:一回で5本のシリコン芯又はその他の結晶材料を製造可能な高周波コイル。出願日:2007年2月13日。出願番号:CN201024229Y。 考案の名称:一回で6本のシリコン芯又はその他の結晶材料を製造可能な高周波コイル。出願日:2007年1月19日。出願番号:CN200999269Y。 考案の名称:一回で6本のシリコン芯又はその他の結晶材料を製造可能な高周波コイル。出願日:2007年2月13日。出願番号:CN201024225Y。 考案の名称:一回で7本のシリコン芯又はその他の結晶材料を製造可能な高周波コイル。出願日:2007年1月19日。出願番号:CN200996059Y。 考案の名称:7本のシリコン芯又はその他の結晶材料を同時に製造可能な高周波コイル。出願日:2007年2月13日。出願番号:CN201024226Y。
前記問題に鑑みて、本発明の目的は前記欠点を有効に克服できる複数のシリコン芯を製造する高周波コイル引き孔の配置を開示し、前記高周波コイル引き孔の配置が分流槽の位置を変化することによって、且つ前記「C」形の分流槽と補助電流引導孔によって補助され、又は2つの引き孔がその間に分流槽によって接続されてバーベル状均部に形成され、分流槽外端の引き孔が放射状に形成され、電流が流れる時に、分流槽又は分流槽と補助電流引導孔の分流作用下で、基本的に均一に前記各引き孔を回って流れ、分流槽補助下の電流が各引き孔の周囲にさらに均一に分布するため、電流が引き孔の周囲に均一に分布する目的を達成し、不良品の数を低減することも実現する。
前記発明の目的を達成するように、本発明が以下の技術方案を用いる。
複数のシリコン芯を製造する高周波コイル引き孔の配置であって、前記高周波コイル引き孔の配置が高周波コイル1の一側に相隣する電流輸送と冷却水輸送銅管A5及び電流輸送と冷却水輸送銅管B6を設け、2つの相隣する電流輸送と冷却水輸送銅管A5及び電流輸送と冷却水輸送銅管B6の間に内へ延伸する分流槽2が設けられ、前記高周波コイル1の高周波コイル上面9が中心位置へ陥入する斜面であり、前記高周波コイル1の高周波コイル下面10に中部へ陥入する環状段階を設け、冷却水道4が高周波コイル1の外縁面内に回って埋められ、前記冷却水道4の両端がそれぞれ電流輸送と冷却水輸送銅管A5及び電流輸送と冷却水輸送銅管B6に接続され、
前記分流槽2が高周波コイル1の中部コイル上の凹み7に設けられる引き孔3に接続され、又は直線距離が最も近い引き孔3に接続され、又は高周波コイル1中部に形成される「工」字分流槽2上下の任意一端「工」中部に設けられる直線分流槽2に接続され、
前記補助電流引導孔11が「C」形分流槽12の両端に設けられ、又は補助電流引導孔11が分流槽2の中部に設けられ、又は補助電流引導孔11が分流槽2の外端に設けられ、
前記引き孔3が少なくとも2つあり、2つの引き孔3が「工」字分流槽2の両側に設けられ、「工」字端点の間に対応して2本の引き孔の配置を形成し、又は2つの引き孔3が上下並列に設けられ、分流槽2を接続する引き孔3にその他の引き孔3を半分囲む「C」形分流槽を設け、且つ前記「C」形分流槽の両端に補助電流引導孔11を設け、その他の2本の引き孔の配置を形成し、又は3つの引き孔3が「品」字に並べ、1つの引き孔3の一側が電流輸送と冷却水輸送銅管A5及び電流輸送と冷却水輸送銅管B6の間の分流槽2に接続され、他側が「T」形分流槽2の下端に接続され、「T」形分流槽2の両側にそれぞれその他の2つの引き孔3を設け、前記1つの引き孔3の両辺にそれぞれ短槽13を設けて3本の引き孔の配置を形成し、又は電流輸送と冷却水輸送銅管A5及び電流輸送と冷却水輸送銅管B6の間の分流槽2が高周波コイル1中部から離れて設けられる引き孔3に接続され、且つ引き孔3のその他の両面に分流槽2が設けられ、2つの分流槽2の外端にそれぞれ補助電流引導孔11を設け、その他の2つの引き孔3が分流槽2の両側に設けられてその他の3本の引き孔の配置を形成し、又は4つの引き孔3が正方形に並べ、電流輸送と冷却水輸送銅管A5及び電流輸送と冷却水輸送銅管B6の間の分流槽2がその2つの引き孔3に対応して接続され、2つの引き孔3の両側がそれぞれ分流槽2によって補助電流引導孔11に接続され、2つの引き孔3の間に接続される分流槽2中部に補助電流引導孔11を設け、その他の2つの引き孔3が補助電流引導孔11の両側に設けられて4本の引き孔の配置を形成し、又は4つの引き孔3が中部に1つの引き孔3を設け、その他の3つの引き孔3が中部引き孔3の周囲を均一に回り、前記電流輸送と冷却水輸送銅管A5及び電流輸送と冷却水輸送銅管B6の間の分流槽2が3つの周り引き孔3の2つの間を通して中部引き孔3に接続され、その他の2つの分流槽2が中部引き孔3から外へ3つの周り引き孔3の2つの引き孔3の間に延伸し、前記2つの分流槽2の外端が3つの周り引き孔3の環状中心線と3つの周り引き孔3の外周環状線との間にあってその他の4本の引き孔の配置を形成し、又は中部に1つの引き孔3を設け、複数の引き孔3が中部引き孔3の周囲を回り、前記電流輸送と冷却水輸送銅管A5及び電流輸送と冷却水輸送銅管B6の間の分流槽2が中部引き孔3に接続され、外周を回る引き孔3と引き孔3との間にそれぞれ分流槽2を設け、又は中部引き孔3が分流槽2によって外周の引き孔3に直接接続される。
前記複数のシリコン芯を製造する高周波コイル引き孔の配置においては、5本のシリコン芯を製造する高周波コイル引き孔の配置は、5つの引き孔3が中部に1つの引き孔3を設け、その他の4つの引き孔3が中部引き孔3の周囲を均一に回り、前記電流輸送と冷却水輸送銅管A5及び電流輸送と冷却水輸送銅管B6の間の分流槽2が4つの周り引き孔3において2つの間を通して中部引き孔3に接続され、その他の3つの分流槽2が中部引き孔3から外へ4つの周り引き孔3において3つの引き孔3の間に延伸し、前記3つの分流槽2の外端が4つの周り引き孔3の環状中心線と4つの周り引き孔3の外周環状線との間にあって5本の引き孔の配置を形成する。
前記複数のシリコン芯を製造する高周波コイル引き孔の配置においては、6本のシリコン芯を製造する高周波コイル引き孔の配置は、6つの引き孔3が中部に1つの引き孔3を設け、その他の5つの引き孔3が中部引き孔3の周囲を均一に回り、前記電流輸送と冷却水輸送銅管A5及び電流輸送と冷却水輸送銅管B6の間の分流槽2が5つの周り引き孔3において2つの間を通して中部引き孔3に接続され、その他の4つの分流槽2が中部引き孔3から外へ5つの周り引き孔3において4つの引き孔3の間に延伸し、前記4つの分流槽2の外端が5つの周り引き孔3の環状中心線と5つの周り引き孔3の外周環状線との間にあって6本の引き孔の配置を形成する。
前記複数のシリコン芯を製造する高周波コイル引き孔の配置においては、7本のシリコン芯を製造する高周波コイル引き孔の配置は、7つの引き孔3が中部に1つの引き孔3を設け、その他の6つの引き孔3が中部引き孔3の周囲を均一に回り、前記電流輸送と冷却水輸送銅管A5及び電流輸送と冷却水輸送銅管B6の間の分流槽2が6つの周り引き孔3において2つの間を通して中部引き孔3に接続され、その他の5つの分流槽2が中部引き孔3から外へ6つの周り引き孔3において5つの引き孔3の間に延伸し、前記5つの分流槽2の外端が6つの周り引き孔3の環状中心線と6つの周り引き孔3の外周環状線と間にあって7本の引き孔の配置を形成する。
前記複数のシリコン芯を製造する高周波コイル引き孔の配置においては、8本のシリコン芯を製造する高周波コイル引き孔の配置は、8つの引き孔3が中部に1つの引き孔3を設け、その他の7つの引き孔3が中部引き孔3の周囲を均一に回り、前記電流輸送と冷却水輸送銅管A5及び電流輸送と冷却水輸送銅管B6の間の分流槽2が7つの周り引き孔3において2つの間を通して中部引き孔3に接続され、その他の6つの分流槽2が中部引き孔3から外へ7つの周り引き孔3において6つの引き孔3の間に延伸し、前記6つの分流槽2の外端が7つの周り引き孔3の環状中心線と7つの周り引き孔3の外周環状線との間にあって8本の引き孔の配置を形成する。
本発明が拡大構造を有し、つまり、2つの引き孔3と接続される分流槽2とが形成されるバーベル状の引き孔3をそれぞれ中部引き孔3外周の引き孔3の間に設けて13本の、16本の、19本の、22本の高周波コイル引き孔の配置を形成する。
前記複数のシリコン芯を製造する高周波コイル引き孔の配置においては、13本のシリコン芯を製造する高周波コイル引き孔の配置が中部に1つの引き孔3を設け、中部の引き孔3の周囲に等距離にそれぞれ4つの中部引き孔3を回る引き孔3を設け、前記電流輸送と冷却水輸送銅管A5及び電流輸送と冷却水輸送銅管B6の間の分流槽2が4つの中部周り引き孔3において1つの引き孔3に接続され、4つの周り引き孔3がそれぞれ分流槽2と中部引き孔3によって接続され、前記4つの周り引き孔3のそれぞれ2つの引き孔3の間にそれぞれ2つの引き孔3と2つの引き孔3の間に接続される分流槽2からなるバーベル状の引き構造を設け、13本の引き孔の配置を形成する。
前記複数のシリコン芯を製造する高周波コイル引き孔の配置においては、16本のシリコン芯を製造する高周波コイル引き孔の配置が中部に1つの引き孔3を設け、中部の引き孔3の外部に等距離の5つの中部引き孔3を回る引き孔3を環状分布させ、前記電流輸送と冷却水輸送銅管A5及び電流輸送と冷却水輸送銅管B6の間の分流槽2が5つの中部周り引き孔3において1つの引き孔3に接続され、5つの周り引き孔3がそれぞれ分流槽2と中部引き孔3によって接続され、前記5つの周り引き孔3のそれぞれ2つの引き孔3の間にそれぞれ2つの引き孔3と2つの引き孔3の間に接続される分流槽2からなるバーベル状の引き構造を設け、16本の引き孔の配置を形成する。
前記複数のシリコン芯を製造する高周波コイル引き孔の配置においては、19本のシリコン芯を製造する高周波コイル引き孔の配置が中部に1つの引き孔3を設け、中部の引き孔3の外部に等距離の6つの中部引き孔3を回る引き孔3を環状分布させ、且つ前記6つの中部周り引き孔3の外周に6つの中部周り引き孔3に対応する引き孔3を更に設け、つまり、中部引き孔3外縁に二層の引き孔3が回り、前記電流輸送と冷却水輸送銅管A5及び電流輸送と冷却水輸送銅管B6の間の分流槽2が6つの最外部周り引き孔3において1つの引き孔3に接続され、前記6つの最外部周り引き孔3がそれぞれ分流槽2によって中部のその他の6つの引き孔3を通して中部の引き孔3に接続されて中部から外へ束状構造を形成し、それぞれ2つの束状構造の間にそれぞれ2つの引き孔3と2つの引き孔3の間に接続される分流槽2からなるバーベル状の引き構造を設け、且つバーベル状の引き構造と回る外周6つの引き孔3との間にそれぞれ独立の引き孔3を設けて19本の引き孔の配置を形成する。
前記複数のシリコン芯を製造する高周波コイル引き孔の配置においては、22本のシリコン芯を製造する高周波コイル引き孔の配置が中部に1つの引き孔3を設け、中部の引き孔3の外部に等距離の7つの中部引き孔3を回る引き孔3を環状分布させ、前記電流輸送と冷却水輸送銅管A5及び電流輸送と冷却水輸送銅管B6の間の分流槽2が7つの中部周り引き孔3において1つの引き孔3に接続され、7つの周り引き孔3がそれぞれ分流槽2と中部引き孔3によって接続され、前記7つの周り引き孔3のぞれぞれ2つの引き孔3の間にそれぞれ2つの引き孔3と2つの引き孔3の間に接続される分流槽2からなるバーベル状の引き構造を設け、22本の引き孔の配置を形成する。
前記複数のシリコン芯を製造する高周波コイル引き孔の配置においては、前記その他の19本の引き孔を有する拡大構造は、つまり、中部に1つの引き孔3を設け、中部引き孔3の外周に6つの引き孔3を設け、分流槽2が中部引き孔3によって放射状に6つの引き孔3に接続され、それぞれの引き孔3の間に設けられる2つの引き孔3及び接続される分流槽2からなるバーベル状引き孔3が前記その他の引き19本の引き孔の配置を形成する。
前記技術方案を用いるため、本発明は以下のメリットを有する。
本発明の前記複数のシリコン芯を製造する高周波コイル引き孔の配置においては、前記配置が引き孔と引き孔との間に放射状の分流槽を設け、又は引き孔の両側に「C」形の分流槽を設け、且つ補助電流引導孔によって補助され、又は引き孔の両側にそれぞれ短槽を設け、又は2つの引き孔がその間に分流槽によって接続されてバーベル状均部に形成され、分流槽外端の引き孔が放射状に形成され、2〜8と13本又は16本又は19本又は22本のシリコン芯の引きを形成し、前記電流が流れる時に、分流槽又は分流槽と補助電流引導孔の分流作用下で、ほぼ均一に前記各引き孔に回って流れ、且つ分流槽が電流を補助して各引き孔周囲に更に均一に分布させ、電流が引き孔の周囲に均一に分布する目的を達成し、不良品の数を低減することも実現し、エネルギー利用率を上げ、生産コストと不良品を低減し、本発明が均一に加熱し、エネルギーを節約し、設備投資及び人工コストなどを低減するメリットも有する。
本発明の2つの引き孔の構造を示す図である。 本発明の2つの引き孔の電流の流れ作業原理を示す図である。 本発明の2つの引き孔のもう1つの実施例の構造を示す図である。 本発明の2つの引き孔のもう1つの実施例の電流の流れ作業原理を示す図である。 本発明の3つの引き孔の構造を示す図である。 本発明の3つの引き孔の電流の流れ作業原理を示す図である。 本発明の3つの引き孔のもう1つの実施例の構造を示す図である。 本発明の3つの引き孔のもう1つの実施例の電流の流れ作業原理を示す図である。 本発明の4つの引き孔の構造を示す図である。 本発明の4つの引き孔の電流の流れ作業原理を示す図である。 本発明の4つの引き孔のもう1つの実施例の構造を示す図である。 本発明の4つの引き孔のもう1つの実施例の電流の流れ作業原理を示す図である。 本発明の5つの引き孔の構造を示す図である。 本発明の5つの引き孔の電流の流れ作業原理を示す図である。 本発明の6つの引き孔の構造を示す図である。 本発明の6つの引き孔の電流の流れ作業原理を示す図である。 本発明の7つの引き孔の構造を示す図である。 本発明の7つの引き孔の電流の流れ作業原理を示す図である。 本発明の8つの引き孔の構造を示す図である。 本発明の8つの引き孔の電流の流れ作業原理を示す図である。 本発明の13つの引き孔の構造を示す図である。 本発明の13つの引き孔の電流の流れ作業原理を示す図である。 本発明の16つの引き孔の構造を示す図である。 本発明の16つの引き孔の電流の流れ作業原理を示す図である。 本発明の16つの引き孔のもう1つの実施例の構造を示す図である。 本発明の16つの引き孔のもう1つの実施例の電流の流れ作業原理を示す図である。 本発明の19つの引き孔の構造を示す図である。 本発明の19つの引き孔の電流の流れ作業原理を示す図である。 本発明の22つの引き孔の構造を示す図である。 本発明の22つの引き孔の電流の流れ作業原理を示す図である。 本発明が引いた種晶において磁力線が高周波コイルの強弱磁力分布を示す図である。 本発明の8つの引き孔の配置の立体図である。 本発明の高周波コイルの断面構造を示す図である。
以下の実施例を参照し、本発明を更に詳しく説明し、しかし、本発明がこれら実施例に限られない。
図面31、32又は33を参照し、その実施例において、前記複数のシリコン芯を製造する高周波コイル引き孔の配置では、図1〜30が本発明の各実施例の共用部分であり、前記高周波コイル引き孔の配置が高周波コイル1の一側に相隣する電流輸送と冷却水輸送銅管A5及び電流輸送と冷却水輸送銅管B6を設け、2つの相隣する電流輸送と冷却水輸送銅管A5及び電流輸送と冷却水輸送銅管B6の間に内へ延伸する分流槽2が設けられ、前記高周波コイル1の高周波コイル上面9は中心位置へ陥入する斜面であり、前記高周波コイル1の高周波コイル下面10に中部へ陥入する環状段階を設け、冷却水道4が高周波コイル1の外縁面内に回って埋められ、前記冷却水道4の両端がそれぞれ電流輸送と冷却水輸送銅管A5及び電流輸送と冷却水輸送銅管B6に接続され、
前記分流槽2が高周波コイル1の中部コイル上の凹み7に設けられる中部の引き孔3に接続され、又は直線距離が最も近い引き孔3に接続され、又は高周波コイル1中部に形成される「工」字分流槽2上下の任意一端に対応する「工」中部の直線分流槽2に接続され、分流槽2によって内外接続構造を形成する。
前記補助電流引導孔11が「C」形分流槽12の両端に設けられ、又は補助電流引導孔11が分流槽2の中部に設けられ、又は補助電流引導孔11が分流槽2の外端に設けられる。
本発明の権利要求に合わせて、前記引き孔3が少なくとも2つある。
図1、2を参照し、本発明は、2つの引き孔3が「工」字分流槽2の両側に設けられ、「工」字の端点間に対応して2本の引き孔の配置を形成する。作業時に、電流8が「工」字分流槽2のガイドによって、電流8が2つの引き孔3にそれぞれ回って均一に流れる。
図3、4を参照し、本発明のもう1つの実施例が2つの引き孔3で上下並列に設けられ、分流槽2に接続される引き孔3にもう1つの引き孔3を半分囲む「C」形分流槽を設け、且つ前記「C」形分流槽の両端に補助電流引導孔11を設け、もう1つの2本の引き孔の配置を形成する。作業時に、電流8が回って流れ、「C」形分流槽2及び「C」形分流槽の両端に設けられる補助電流引導孔11のガイドを通し、電流8を2つの引き孔3にそれぞれ回して均一に流す。
図5、6を参照し、本発明が前記3つの引き孔3を引く構造を実施し、3つの引き孔3が「品」字に並べ、1つの引き孔3一側が電流輸送と冷却水輸送銅管A5及び電流輸送と冷却水輸送銅管B6の間の分流槽2に接続され、他側が「T」形分流槽2の下端に接続され、「T」形分流槽2の両側にそれぞれその他の2つの引き孔3を設け、前記1つの引き孔3の両辺にそれぞれ短槽13を設けて3本の引き孔の配置を形成する。作業時に、電流8が回って流れ、「T」形分流槽2のガイドを通し、電流8がそれぞれ3つの引き孔3周囲を均一に回る。
図7、8を参照し、本発明が前記もう1つの3つの引き孔3を引く構造を実施し、電流輸送と冷却水輸送銅管A5及び電流輸送と冷却水輸送銅管B6の間の分流槽2が高周波コイル1中部から離れて設けられる引き孔3に接続され、且つ引き孔3のその他の両面に分流槽2が設けられ、2つの分流槽2の外端にそれぞれ補助電流引導孔11を設け、その他の2つの引き孔3が分流槽2の両側に設けられてその他の3本の引き孔の配置を形成する。作業時に、電流8が回って流れ、中部から離れる引き孔3のその他の両面に設けられる分流槽2及び2つの分流槽2の外端の補助電流引導孔11のガイドを通し、電流8をそれぞれ2つの引き孔3に均一に回して流す。
図9、10を参照し、本発明が前記4つの引き孔3を引く構造を実施し、4つの引き孔3が正方形に並べ、電流輸送と冷却水輸送銅管A5及び電流輸送と冷却水輸送銅管B6の間の分流槽2がその2つの引き孔3に対応して接続され、2つの引き孔3の両側にそれぞれ分流槽2によって補助電流引導孔11に接続され、2つの引き孔3の間に接続される分流槽2の中部に補助電流引導孔11を設け、その他の2つの引き孔3が補助電流引導孔11の両側に設けられ、4本の引き孔の配置を形成する。作業時に、電流8が回って流れ、2つの電流輸送と冷却水輸送銅管A5及び電流輸送と冷却水輸送銅管B6の間の分流槽2に対応する引き孔3の両側の分流槽2及び補助電流引導孔11のガイドを通し、電流8をそれぞれ2つの引き孔3に均一に回して流す。
図11〜20を参照し、本発明が前記5〜8つの引き孔3を引く構造を実施し、前記引き孔3が中部に1つの引き孔3を設け、その他の4〜7つの引き孔3が中部引き孔3の周囲を均一に囲んであり、前記電流輸送と冷却水輸送銅管A5及び電流輸送と冷却水輸送銅管B6の間の分流槽2が4〜7つの引き孔3において2つの間を通して中部引き孔3に接続され、引き孔3を回るその他の4〜7つの引き孔3の間にそれぞれ分流槽2を設け、前記分流槽2が中部引き孔3から外へ回る引き孔3の間に延伸し、前記各分流槽2の外端が引き孔3を回る環状中心線と引き孔3を回る外周環状線の間に5〜8つの引き孔の配置を形成する。特に説明するのは、本実施例に記載の5〜8つの引き孔の配置の構造が類似するため、ここでくどく述べない。
図21〜22を参照し、本発明が前記13つの引き孔3の構造を実施し、前記13本のシリコン芯を引く高周波コイル引き孔の配置が中部に1つの引き孔3を設け、中部引き孔3の周囲に等距離にそれぞれ4つの中部引き孔3を回る引き孔3を設け、前記電流輸送と冷却水輸送銅管A5及び電流輸送と冷却水輸送銅管B6の間の分流槽2が中部引き孔3を回る4つの引き孔3において1つの引き孔3に接続され、4つの回り引き孔3がそれぞれ分流槽2と中部引き孔3によって接続され、前記4つの回る引き孔3のそれぞれ2つの引き孔3の間にそれぞれ2つの引き孔3と2つの引き孔3の間に接続される分流槽2からなるバーベル状の引き構造を設け、13本の引き孔の配置を形成する。作業時に、一部の電流8が13つの引き孔外縁に回って流れ、もう1つの部分の電流8がバーベル状の引き孔3と中部引き孔3の間に往復し、電流8をそれぞれ13つの引き孔3に回して均一に流す。
図23〜24を参照し、本発明が前記16つの引き孔3の構造を実施し、前記16本のシリコン芯を引く高周波コイル引き孔の配置が中部に1つの引き孔3を設け、中部引き孔3の周囲に等距離にそれぞれ5つの中部引き孔3を回る引き孔3を設け、前記電流輸送と冷却水輸送銅管A5及び電流輸送と冷却水輸送銅管B6の間の分流槽2が中部引き孔3を回る5つの引き孔3において3つの引き孔3に接続され、5つの回り引き孔3がそれぞれ分流槽2と中部引き孔3によって接続され、前記5つの回る引き孔3のそれぞれ5つの引き孔3の間にそれぞれ2つの引き孔3と2つの引き孔3の間に接続される分流槽2からなるバーベル状の引き構造を設け、16本の引き孔の配置を形成する。作業時に、一部の電流8が16つの引き孔外縁に回って流れ、もう1つの部分の電流8がバーベル状の引き孔3と中部引き孔3の間に往復し、電流8をそれぞれ16つの引き孔3に回して均一に流す。
図25〜26を参照し、本発明が前記19つの引き孔3の構造を実施し、前記19本のシリコン芯を引く高周波コイル引き孔の配置が中部に1つの引き孔3を設け、中部の引き孔3の外部環状に等距離に6つの中部引き孔3を回る引き孔3を分布し、且つ前記6つの中部引き孔3外周を回る引き孔3が6つの中部引き孔3外周を回る引き孔3に対応する引き孔3を更に設け、つまり、中部引き孔3外縁に二層の引き孔3を回り、前記電流輸送と冷却水輸送銅管A5及び電流輸送と冷却水輸送銅管B6の間の分流槽2が6つの最外部回る引き孔3において1つの引き孔3に接続され、前記最外部に回る6つの引き孔3がそれぞれ分流槽2によって中部のその他の6つの引き孔3を通して中部引き孔3に接続され中部から外への束状構造を形成し、それぞれ2つの束状構造の間にそれぞれ2つの引き孔3と2つの引き孔3の間に接続される分流槽2からなるバーベル状の引き構造を設け、且つバーベル状の引き構造と外周を回る6つの引き孔3の間にそれぞれ独立な引き孔3を設けて19本の引き孔の配置を形成する。作業時に、一部の電流8が19つの引き孔外縁に回って流れ、もう1つの部分電流8がバーベル状の引き孔3及び独立な引き孔3と中部引き孔3に接続される束状引き孔3の間に往復し、電流8をそれぞれ16つの引き孔3に回して均一に流す。
図27〜28を参照し、本発明がもう1つの前記19つの引き孔3の構造を実施し、前記もう1つの19本の引き孔を有する拡展構造が、つまり、中部に1つの引き孔3を設け、中部引き孔3の外周に6つの引き孔3を設け、分流槽2が中部引き孔3から放射状に6つの引き孔3に接続され、各引き孔3の間に設けられる2つの引き孔3及び接続される分流槽2からなるバーベル状引き孔3が前記もう1つの引き19本の引き孔の配置を形成する。作業時に、一部の電流8が19つの引き孔外縁に回って流れ、もう1つの部分の電流8がバーベル状の引き孔3及び外周の6つの引き孔3の間に往復し、電流8をそれぞれ16つの引き孔3に回して均一に流す。
図29〜30を参照し、本発明が前記22つの引き孔3の構造を実施し、前記22本のシリコン芯を引く高周波コイル引き孔の配置が中部に1つの引き孔3を設け、中部引き孔3の周囲に等距離にそれぞれ7つの中部引き孔3を回る引き孔3を設け、前記電流輸送と冷却水輸送銅管A5及び電流輸送と冷却水輸送銅管B6の間の分流槽2が中部引き孔3を回る7つの引き孔3において1つの引き孔3に接続され、7つの回り引き孔3がそれぞれ分流槽2と中部引き孔3によって接続され、前記7つの回る引き孔3のそれぞれ2つの引き孔3の間にそれぞれ2つの引き孔3と2つの引き孔3の間に接続される分流槽2からなるバーベル状の引き構造を設け、22本の引き孔の配置を形成する。作業時に、一部の電流8が22つの引き孔外縁に回って流れ、もう1つの部分の電流8がバーベル状の引き孔3と中部引き孔3の間に往復し、電流8をそれぞれ22つの引き孔3に回して均一に流す。
本発明に記載の複数のシリコン芯を製造する高周波コイル引き孔の配置を実施する。
図31、32又は33及び図1〜30を参照し、電流輸送と冷却水輸送銅管A5及び電流輸送と冷却水輸送銅管B6の間に分流槽2を設け、前記分流槽2の接続形式が図1〜30の実際要求によって決められ、分流槽2の主な機能が高周波電流8に分界点で互いに借用又は交差を形成させ、原料棒16を均一に加熱し、且つ補助化料「原料棒16」の作用を実現する。原料棒16「原料シリコン棒とも呼ぶ」の端末に高周波コイル下面10に近づく部が溶解した後に、種晶コレット14が種晶15をつれて降下し、種晶15が図1〜30に記載の引き孔3を通した後に原料棒16の融合部に挿入し、そして種晶15を上昇し、原料棒16上部の融解液体が種晶15とともに上昇し、前記原料棒16下部の下軸も相応的に徐々に上昇し、しかし、前記原料棒16が高周波コイル1と接触しなく、原料棒16の端部がスムーズではないため、高周波コイル下面10が陥入段階と設計され、その作用が原料棒16を高周波コイルの下部面にできるだけ近づいて、さらにすばやく液化し、前記高周波コイル上面9が外から内への斜めと設計され、斜めの作用が高周波電流8が中部に集中することを避け、前記電流8を高周波コイル3に均一に分布させ、均一に加熱する効果を達成する。原料棒1上部の融合部が種晶15の接着につれて、且つ高周波コイル1引き孔3を通した後に、磁力線17の低減によって凝縮され、1つの新しい柱型結晶を形成し、前記種晶コレット14が種晶15をつれて徐々に上昇し、希望長さの製品シリコン芯を形成する。
特に説明するのは、種晶コレット14がただ本発明の実施過程においてもう1つの補助構造として、このため、本発明に詳しく説明しなく、また種晶コレット14及びその他の設備が本発明の保護範囲に属しない。
本発明の目的を公開するため、本文に選ばれる実施例が適切な実施例であるが、本発明が本アイディアと本発明範囲内に属する実施例のすべての修正や変更を含むことを了承する。
1、高周波コイル;2、分流槽;3、引き孔;4、冷却水道;5、電流輸送と冷却水輸送銅管A;6、電流輸送と冷却水輸送銅管B;7、コイル上凹み;8、電流;9、高周波コイル上面;10、高周波コイル下面;11、補助電流引導孔;12、「C」形分流槽;13、短槽;14、種晶コレット;15、種晶;16、原料棒;17、磁力線。

Claims (6)

  1. 高周波コイル引き孔の配置が高周波コイル(1)の一側に相隣する電流輸送と冷却水輸送銅管A(5)及び電流輸送と冷却水輸送銅管B(6)を設け、2つの相隣する電流輸送と冷却水輸送銅管A(5)及び電流輸送と冷却水輸送銅管B(6)の間に内へ延伸する分流槽(2)が設けられ、前記高周波コイル(1)の高周波コイル上面(9)が中心位置へ陥入する斜面であり、前記高周波コイル(1)の高周波コイル下面(10)に中部へ陥入する環状段階を設け、冷却水道(4)が高周波コイル(1)の外縁面内に回って埋められ、前記冷却水道(4)の両端がそれぞれ電流輸送と冷却水輸送銅管A(5)及び電流輸送と冷却水輸送銅管B(6)に接続される複数のシリコン芯を製造する高周波コイル引き孔の配置であって、
    前記分流槽(2)が高周波コイル(1)の中部コイル上の凹み(7)に設けられる引き孔(3)に接続され、又は直線距離が最も近い引き孔(3)に接続され、又は高周波コイル(1)中部に形成される「工」字分流槽(2)上下の任意一端「工」中部の直線分流槽(2)に接続され、
    補助電流引導孔(11)が「C」形分流槽(12)の両端に設けられ、又は補助電流引導孔(11)が分流槽(2)の中部に設けられ、又は補助電流引導孔(11)が分流槽(2)の外端に設けられ、
    前記引き孔(3)が少なくとも2つあり、2つの引き孔(3)が「工」字分流槽(2)の両側に設けられ、「工」字端点の間に対応して2本の引き孔の配置を形成し、又は2つの引き孔(3)が上下並列に設けられ、分流槽(2)を接続する引き孔(3)にもう一つの引き孔(3)を半分囲む「C」形分流槽(12)を設け、且つ前記「C」形分流槽(12)の両端に補助電流引導孔(11)を設け、もう一つの2本の引き孔の配置を形成し、又は3つの引き孔(3)が「品」字に並べ、1つの引き孔(3)の一側が電流輸送と冷却水輸送銅管A(5)及び電流輸送と冷却水輸送銅管B(6)の間の分流槽(2)に接続され、もう一側が「T」形分流槽(2)の下端に接続され、「T」形分流槽(2)の両側にそれぞれ他の2つの引き孔(3)を設置し、前記1つの引き孔(3)の両辺にそれぞれ短槽(13)を設置してから、3本の引き孔の配置を形成し、又は電流輸送と冷却水輸送銅管A(5)及び電流輸送と冷却水輸送銅管B(6)の間の分流槽(2)が高周波コイル(1)中部から離れて設置される引き孔(3)に接続され、且つ引き孔(3)の他の二つの面に分流槽(2)を設置し、2つの分流槽(2)の外端にそれぞれ補助電流引導孔(11)を設け、その他の2つの引き孔(3)が分流槽(2)の両側に設置され、もう一つの3本の引き孔の配置を形成し、又は4つの引き孔(3)が正方形に並べ、電流輸送と冷却水輸送銅管A(5)及び電流輸送と冷却水輸送銅管B(6)の間の分流槽(2)が2つの引き孔(3)に対応して接続され、2つの引き孔(3)の両側がそれぞれ分流槽(2)によって補助電流引導孔(11)に接続され、2つの引き孔(3)の間に接続される分流槽(2)中部に補助電流引導孔(11)を設置し、他の2つの引き孔(3)が補助電流引導孔(11)の両側に設けられ、4本の引き孔の配置を形成することを特徴とする複数のシリコン芯を製造する高周波コイル引き孔の配置。
  2. 前記引き孔の配置が拡大構造を有し、つまり、2つの引き孔(3)と接続される分流槽(2)が形成されるバーベル状の引き孔(3)をそれぞれ中部引き孔(3)と外周の引き孔(3)の間に設置し、13本の、16本の、19本の、22本の高周波コイル引き孔の配置を形成する請求項1に記載の複数のシリコン芯を製造する高周波コイル引き孔の配置であって、
    前記複数のシリコン芯を製造する高周波コイル引き孔の配置においては、13本のシリコン芯を製造する高周波コイル引き孔の配置が中部に1つの引き孔(3)を設置し、中部の引き孔(3)の外周に均一にそれぞれ4つの中部引き孔(3)を回る引き孔(3)を設置し、前記電流輸送と冷却水輸送銅管A(5)及び電流輸送と冷却水輸送銅管B(6)の間の分流槽(2)が4つの中部周り引き孔(3)において1つの引き孔(3)に接続され、4つの周り引き孔(3)がそれぞれ分流槽(2)と中部引き孔(3)によって接続され、前記4つの周り引き孔(3)の2つの引き孔(3)の間毎にそれぞれ2つの引き孔(3)及び2つの引き孔(3)の間に接続される分流槽(2)からなるバーベル状の引き構造を設置し、13本の引き孔の配置を形成することを特徴とする請求項1に記載の複数のシリコン芯を製造する高周波コイル引き孔の配置。
  3. 前記複数のシリコン芯を製造する高周波コイル引き孔の配置においては、16本のシリコン芯を製造する高周波コイル引き孔の配置が中部に1つの引き孔(3)を設置し、中部の引き孔(3)の外周に均一に中部引き孔(3)を回る引き孔(3)を5つ環状分布し、前記電流輸送と冷却水輸送銅管A(5)及び電流輸送と冷却水輸送銅管B6の間の分流槽(2)が中部引き孔(3)を回る5つの引き孔(3)の中の一つに接続され、5つの周り引き孔(3)がそれぞれ分流槽(2)により中部引き孔(3)と接続され、前記5つの周り引き孔(3)の2つの引き孔(3)の間毎にそれぞれ2つの引き孔(3)及び2つの引き孔(3)の間に接続される分流槽(2)からなるバーベル状の引き構造を設置し、16本の引き孔の配置を形成することを特徴とする請求項1又は2に記載の複数のシリコン芯を製造する高周波コイル引き孔の配置。
  4. 前記複数のシリコン芯を製造する高周波コイル引き孔の配置においては、19本のシリコン芯を製造する高周波コイル引き孔の配置が中部に1つの引き孔(3)を設置し、中部の引き孔(3)の外周に均一にそれぞれ6つの中部引き孔(3)を回る引き孔(3)を環状分布し、更に前記6つの中部周り引き孔(3)の外周に6つの中部周り引き孔(3)に対応する引き孔(3)を設置し、つまり、中部の引き孔(3)外縁に二層の引き孔(3)を回り、前記電流輸送と冷却水輸送銅管A(5)及び電流輸送と冷却水輸送銅管B(6)の間の分流槽(2)が6つの最外部周り引き孔(3)の中の1つの引き孔(3)に接続され、前記6つの最外部周り引き孔(3)がそれぞれ分流槽(2)によって中部のその他の6つの引き孔(3)を貫通してから、中部の引き孔(3)に接続され、中部から外へ束状構造を形成し、2つ束状構造の間毎にそれぞれ2つの引き孔(3)及び2つの引き孔(3)の間に接続される分流槽(2)からなるバーベル状の引き構造を設置し、且つバーベル状の引き構造と6つの最外部周り引き孔(3)との間にそれぞれ独立の引き孔(3)を設けて、19本の引き孔の配置を形成することを特徴とする請求項1又は2に記載の複数のシリコン芯を製造する高周波コイル引き孔の配置。
  5. 前記複数のシリコン芯を製造する高周波コイル引き孔の配置においては、22本のシリコン芯を製造する高周波コイル引き孔の配置が中部に1つの引き孔(3)を設置し、中部の引き孔(3)の外周に均一に7つの中部引き孔(3)を回る引き孔(3)を環状分布し、前記電流輸送と冷却水輸送銅管A(5)及び電流輸送と冷却水輸送銅管B(6)の間の分流槽(2)が中部引き孔(3)を回る7つの引き孔(3)の中の一つに接続され、7つの周り引き孔(3)がそれぞれ分流槽(2)により中部引き孔(3)と接続され、前記7つの回り引き孔(3)の2つの引き孔(3)の間毎にそれぞれ2つの引き孔(3)及び2つの引き孔(3)の間に接続される分流槽(2)からなるバーベル状の引き構造を設置し、22本の引き孔の配置を形成することを特徴とする請求項1又は6に記載の複数のシリコン芯を製造する高周波コイル引き孔の配置。
  6. 前記もう一つの19本の引き孔を有する拡大構造であって、つまり、中部に1つの引き孔(3)を設置し、中部引き孔(3)の外周に6つの引き孔(3)を設置し、分流槽(2)が中部引き孔(3)から放射状に6つの引き孔(3)に接続され、引き孔(3)の間毎に設置される2つの引き孔(3)及び接続される分流槽(2)からなるバーベル状引き孔(3)が前記もう一つの引き19本の引き孔の配置を形成することを特徴とする請求項1に記載の複数のシリコン芯を製造する高周波コイル引き孔の配置。
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CN200910064012XA CN101570883B (zh) 2009-01-06 2009-01-06 可以同时拉制十九根硅芯或其它晶体材料的高频线圈结构
CN2009100640149A CN101570885B (zh) 2009-01-06 2009-01-06 一次可同时拉制十三根硅芯或其它晶体材料的高频线圈
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CN2009100640168A CN101570887B (zh) 2009-01-06 2009-01-06 一种拉制十九根硅芯或其它晶体材料的高频线圈
CN 200910064015 CN101570886B (zh) 2009-01-06 2009-01-06 可以拉制二十二根硅芯或其它晶体材料的高频线圈结构
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012515698A (ja) * 2009-01-21 2012-07-12 ペーファオ シリコン フォルシュングス ウント プロドゥクツィオンス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング シリコン心棒を製造する方法及び装置

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013040735A1 (zh) * 2011-09-20 2013-03-28 洛阳金诺机械工程有限公司 可同时生产五根至十根硅芯的高频线圈拉制孔结构
RU2507318C1 (ru) * 2012-08-14 2014-02-20 Закрытое Акционерное Общество "Валенсия" Способ получения кремниевых филаментов произвольного сечения (варианты)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006169060A (ja) * 2004-12-17 2006-06-29 Shin Etsu Handotai Co Ltd 単結晶製造装置及び単結晶製造方法
CN201001209Y (zh) * 2007-01-19 2008-01-02 刘朝轩 一种一次可生产四根硅芯或其它晶体材料的高频线圈

Family Cites Families (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2428705A (en) * 1945-09-06 1947-10-07 Induction Heating Corp Inductor for induction heating of objects of various sizes and shapes
US2714648A (en) * 1951-06-02 1955-08-02 Hartford Nat Bank & Trust Co High frequency heating
BE789504A (fr) * 1971-12-07 1973-01-15 Siemens Ag Bobine de chauffage par induction pour la fusion par zones sanscreuset de barreaux semiconducteurs
US4220839A (en) * 1978-01-05 1980-09-02 Topsil A/S Induction heating coil for float zone melting of semiconductor rods
DE3805118A1 (de) * 1988-02-18 1989-08-24 Wacker Chemitronic Verfahren zum tiegelfreien zonenziehen von halbleiterstaeben und induktionsheizspule zu seiner durchfuehrung
CN201001211Y (zh) * 2007-01-19 2008-01-02 刘朝轩 一种可同时生产两根硅芯或其它晶体材料的高频线圈
CN200996059Y (zh) * 2007-01-19 2007-12-26 刘朝轩 一种一次可生产七根硅芯或其它晶体材料的高频线圈
CN201001208Y (zh) * 2007-01-19 2008-01-02 刘朝轩 可同时生产三根硅芯或其它晶体材料的高频线圈
CN200996057Y (zh) * 2007-01-19 2007-12-26 刘朝轩 一种四个内孔呈四方形排列的高频线圈
CN200999269Y (zh) * 2007-01-19 2008-01-02 刘朝轩 一种一次可生产六根硅芯或其它晶体材料的高频线圈
CN200996058Y (zh) * 2007-01-19 2007-12-26 刘朝轩 一种一次可生产五根硅芯或其它晶体材料的高频线圈
CN200999270Y (zh) * 2007-01-19 2008-01-02 刘朝轩 一种一次可生产三根硅芯或其它晶体材料的高频线圈
CN201022424Y (zh) * 2007-04-30 2008-02-20 王雯静 带存水罩的雨伞
CN101457398B (zh) * 2007-12-11 2012-08-22 中国科学院福建物质结构研究所 双掺镱钠离子钼酸锶激光晶体及其制备方法
CN101570886B (zh) * 2009-01-06 2012-08-29 洛阳金诺机械工程有限公司 可以拉制二十二根硅芯或其它晶体材料的高频线圈结构
CN101457395B (zh) * 2008-11-25 2011-07-27 刘朝轩 可同时生产三根硅芯及其它晶体材料的高频线圈结构
CN101487137B (zh) * 2008-11-25 2011-06-29 刘朝轩 可同时生产四根硅芯及其它晶体材料的高频线圈结构
CN101457390B (zh) * 2008-11-25 2011-06-29 刘朝轩 可同时生产八根硅芯及其它晶体材料的高频线圈结构
CN101457391B (zh) * 2008-11-25 2011-06-22 刘朝轩 可同时生产四根硅芯及其它晶体材料的高频线圈结构
CN101570883B (zh) * 2009-01-06 2011-06-29 刘朝轩 可以同时拉制十九根硅芯或其它晶体材料的高频线圈结构
CN101457393B (zh) * 2008-11-25 2010-11-17 刘朝轩 可同时生产三根硅芯及其它晶体材料的高频线圈结构
CN101570884B (zh) * 2009-01-06 2011-06-29 刘朝轩 一次可同时拉制十六根硅芯或其它晶体材料的高频线圈
CN101570885B (zh) * 2009-01-06 2012-02-08 洛阳金诺机械工程有限公司 一次可同时拉制十三根硅芯或其它晶体材料的高频线圈
CN101487136B (zh) * 2008-11-25 2011-04-13 刘朝轩 可同时生产六根硅芯或其它晶体材料的高频线圈结构
CN101457394B (zh) * 2008-11-25 2011-06-29 刘朝轩 可同时生产两根硅芯及其它晶体材料的高频线圈结构
CN101457392A (zh) * 2008-11-25 2009-06-17 刘朝轩 可同时生产五根硅芯及其它晶体材料的高频线圈结构
CN101570887B (zh) * 2009-01-06 2011-04-06 刘朝轩 一种拉制十九根硅芯或其它晶体材料的高频线圈
CN101457388B (zh) * 2008-11-25 2011-06-29 刘朝轩 可同时生产两根硅芯及其它晶体材料的高频线圈结构

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006169060A (ja) * 2004-12-17 2006-06-29 Shin Etsu Handotai Co Ltd 単結晶製造装置及び単結晶製造方法
CN201001209Y (zh) * 2007-01-19 2008-01-02 刘朝轩 一种一次可生产四根硅芯或其它晶体材料的高频线圈

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012515698A (ja) * 2009-01-21 2012-07-12 ペーファオ シリコン フォルシュングス ウント プロドゥクツィオンス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング シリコン心棒を製造する方法及び装置

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KR101324582B1 (ko) 2013-11-04
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