KR101324582B1 - 복수 개의 실리콘 코어를 제조하기 위한 고주파 코일 인상홀 배열체 - Google Patents
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Abstract
본 발명의 복수 개의 실리콘 코어를 제조하는 고주파 코일 인상 홀 배열체는 고주파 코일 기술 영역에 속하는 것으로서, 본 발명은 분류홈의 위치를 변경 설치하여, "C"형 분류홈과 보조 전류 가이드 홀을 이용하여 보조하거나, 또는 두 인상 홀 사이에 연결 분류홈을 설치하여 바벨 형상의 균일부를 형성하고, 방사형 분산홈 외측 단부의 인상 홀 사이에서, 전류 흐름 시 분류홈 혹 분류홈 과 보조 전류 가이드 홀의 분류 작용 하에서 기본적으로 균일하게 상기 각 인상 홀을 주위를 에워싸면서 흐르도록 하였으며, 분류홈 보조 하의 전류가 더욱 균일하게 각 인상 홀 주위에 분포될 수 있기 때문에, 전류가 인상 홀 주위에 균일하게 분포되도록 하는 목적을 구현하고, 이에 따라 불량품을 감소시키는 목적을 이룬다.
Description
본 발명은 고주파 코일 기술분야에 속하는 것으로서, 전류가 인상홀 주위에 균일하게 분포되도록 하여 전류를 통해 실리콘 코어 또는 기타 결정 재료에 균일하게 열을 가함으로써 복수 개의 실리콘 코어 또는 기타 결정 재료를 동시에 인상(제조)할 수 있는 구조에 관한 것이며, 특히 전류가 균일하게 분포되도록 하여 복수 개의 실리콘 코어 또는 결정 재료를 제조하는 고주파 코일 인상 홀 배열체에 관한 것이다.
재생이 불가한 에너지가 점차적으로 고갈되어 감에 따라서, 태양 에너지 등의 새로운 에너지가 개발 이용되고 있는 추세이다. 다결정 실리콘은 태양 에너지 전지의 주요 원료로서, 향후 세계 각국의 다결정 실리콘에 대한 수요는 점차적으로 증가할 것이며, 실리콘 코어의 비지멘스(Siemens)법에 의해 다결정 실리콘을 생산하는데 필요한 원자재는 세계 각국에서 사용량이 매우 많은 편이다. 종래의 실리콘 코어, 단결정 실리콘 및 기타 재료 결정의 멜트-존(melt-zone) 방식 생산의 공정 과정 중에서 대부분 사용되는 것은 단일 홀 고주파 코일로서, 그 작동원리는 다음과 같다: 작업 시 고주파 코일에 고주파 전류를 인가하여 고주파 코일로 하여금 전류를 생성하도록 하고, 원료봉에 대하여 유도 가열을 진행하여 가열 후 원료봉 상단에 멜트-존을 형성한 다음, 시드(seed) 결정을 융해면에 삽입한 뒤 천천히 들어올리면, 융해된 원료가 시드 결정을 따라 상승하면서 하나의 새로운 기둥 모양의 결정체를 형성하는데, 이러한 새로운 기둥 모양 결정체가 바로 실리콘 코어 또는 기타 재료 결정의 완제품이다.
본 출원인은 여러 차례의 시험을 거쳐, 하기와 같은 중국 실용신안 특허(특허)를 출원하였다.
특허 1: 명칭: 한번에 두 개의 실리콘 코어 또는 기타 결정 재료를 생산할 수 있는 더블 홀 고주파 코일, 출원일: 2006년 4월 14일, 등록공보 제CN2926264Y호;
특허 2: 명칭: 한번에 두 개의 실리콘 코어 또는 기타 결정 재료를 생산할 수 있는 고주파 코일, 출원일: 2007년 1월 19일, 등록공보 제CN201001211Y호;
특허 3: 명칭: 한번에 두 개의 실리콘 코어 또는 기타 결정 재료를 생산할 수 있는 고주파 코일, 출원일: 2007년 2월 13일, 등록공보 제CN201024223Y호;
특허 4: 명칭: 한번에 세 개의 실리콘 코어 또는 기타 결정 재료를 생산할 수 있는 고주파 코일, 출원일: 2007년 1월 19일, 등록공보 제CN200999270Y호;
특허 5: 명칭: 동시에 세 개의 실리콘 코어 또는 기타 결정 재료를 생산할 수 있는 고주파 코일, 출원일: 2007년 1월 19일, 등록공보 제CN201001208Y호;
특허 6: 명칭: 한번에 세 개의 실리콘 코어 또는 기타 결정 재료를 생산할 수 있는 고주파 코일, 출원일: 2007년 2월 13일, 등록공보 제CN201024224Y호;
특허 7: 명칭: 한번에 세 개의 실리콘 코어 또는 기타 결정 재료를 생산할 수 있는 고주파 코일, 출원일: 2007년 2월 13일, 등록공보 제CN201024227Y호;
특허 8: 명칭: 한번에 네 개의 실리콘 코어 또는 기타 결정 재료를 생산할 수 있는 고주파 코일, 출원일: 2007년 1월 19일, 등록공보 제CN201001209Y호;
특허 9: 명칭: 한번에 네 개의 실리콘 코어 또는 기타 결정 재료를 생산할 수 있는 고주파 코일, 출원일: 2007년 2월 13일, 등록공보 제CN201024228Y호;
특허 10: 명칭: 한번에 다섯 개의 실리콘 코어 또는 기타 결정 재료를 생산할 수 있는 고주파 코일, 출원일: 2007년 1월 19일, 등록공보 제CN200996058Y호;
특허 11: 명칭: 한번에 다섯 개의 실리콘 코어 또는 기타 결정 재료를 생산할 수 있는 고주파 코일, 출원일: 2007년 2월 13일, 등록공보 제CN201024229Y호;
특허 12: 명칭: 한번에 여섯 개의 실리콘 코어 또는 기타 결정 재료를 생산할 수 있는 고주파 코일, 출원일: 2007년 1월 19일, 등록공보 제CN200999269Y호;
특허 13: 명칭: 한번에 여섯 개의 실리콘 코어 또는 기타 결정 재료를 생산할 수 있는 고주파 코일, 출원일: 2007년 2월 13일, 등록공보 제CN201024225Y호;
특허 14: 명칭: 한번에 일곱 개의 실리콘 코어 또는 기타 결정 재료를 생산할 수 있는 고주파 코일, 출원일: 2007년 1월 19일, 등록공보 제CN200996059Y호;
특허 15: 명칭: 동시에 일곱 개의 실리콘 코어 또는 기타 결정 재료를 생산할 수 있는 고주파 코일, 출원일: 2007년 2월 13일, 등록공보 제CN201024226Y호.
상기 고주파 코일 특허는 배치 구조가 합리적이지 못하기 때문에, 한번에 여러 개를 동시에 인상하고자 할 때, 시드(seed) 결정의 굵기가 균일하지 못한 현상이 발생하고, 상기 선출원된 특허 기술을 이용하여 10 개 이상의 시드 결정을 인상 하는 것은 거의 불가능한 일이다. 한번에 인상할 수 있는 시드 결정의 수량은 투입-산출비에 직접적인 영향을 미치며, 수익은 완전히 제작된 실리콘 코어 완제품의 수량에 의해 결정된다. 시험에 의하면 상기 고주파 코일의 인상 홀 주위의 전류의 흐름이 예상했던 목표에 도달하지 못하는바, 중앙부와 분류홈에 연결되는 인상홀 홀에 전류가 비교적 많이 흐르는 것을 제외하고, 기타 몇 개의 외주에 분포된 인상 홀의 주변 전류는 고주파 전류 흐름의 영향을 받아, 대부분 인상 홀의 온도가 분류홈에 인접 또는 연결된 인상 홀의 온도보다 크게 낮다. 즉, 당업계에서 일컫는 전류가 빠른 길을 찾아가는 현상이 발생하는 것이다. 전류가 빠른 길을 찾아가는 현상에 의하여, 상승된 시드 결정의 직경 차이가 매우 커지는 결과가 발생하기 때문에, 불량품이 대폭 증가한다. 본 발명은 상기 결함에 기초하여 고안된 것이다.
상기 문제를 해결하기 위하여, 본 발명에서는 상기 결함을 효과적으로 극복할 수 있는 복수 개의 실리콘 코어를 제조하는 고주파 코일 인상 홀 배열체를 공개하는 바, 상기 고주파 코일 인상 홀 배열체는 분류홈의 위치 설정을 변경하는 것을 통하여, "C"형 분류홈과 보조 전류 가이드 홀을 이용하여 보조하거나, 또는 두 인상 홀 사이에 연결 분류홈을 형성하여 바벨 형상의 균일부를 형성하고, 방사형 분류홈 외측 단부의 인상 홀 사이에서, 전류 흐름 시 분류홈 혹 분류홈 과 보조 전류 가이드 홀의 분류 작용 하에서 기본적으로 균일하게 전류가 상기 각 인상 홀을 에돌도록 하였으며, 분류홈 보조 하의 전류가 더욱 균일하게 각 인상 홀 주위에 분포될 수 있기 때문에, 전류가 인상 홀 주위에 균일하게 분포되도록 하는 목적을 구현하고, 이에 따라 불량품을 감소시키는 목적을 이룬다.
상기 발명의 목적을 이루기 위한 본 발명에 의한 기술방안은 하기와 같다.
본 발명에 따른 복수 개의 실리콘 코어를 제조하는 고주파 코일 인상 홀 배열체로서, 상기 고주파 코일 인상 홀 배열체에는, 고주파 코일(1) 일측에 인접한 전류 전송 및 냉각수 전송 동관A(5)와 전류 전송 및 냉각수 전송 동관B(6)가 설치되고, 두 개의 인접한 상기 전류 전송 및 냉각수 전송 동관A(5)와 전류 전송 및 냉각수 전송 동관B(6) 사이에 내부 방향으로 연장된 분류홈(2)이 설치되며, 상기 고주파 코일(1)의 고주파 코일 상부(9)는 중심 위치를 향해 내부 함입된 경사면이고, 상기 고주파 코일(1)의 고주파 코일 하부(10)에는 중간이 함입된 환형 단턱이 설치되며, 냉각수로(4)가 고주파 코일(1)의 외주면 내에 환형으로 매설되고, 상기 냉각수로(4)의 양단은 각각 전류 전송 및 냉각수 전송 동관A(5)과 전류 전송 및 냉각수 전송 동관B(6)와 연결되며,
상기 분류홈(2)은 고주파 코일(1) 중앙부 코일 상의 함몰부(7)에 설치된 중앙의 인상 홀(3)에 연결되거나, 또는 직선 거리가 가장 가까운 인상 홀(3)에 연결되거나, 또는 고주파 코일(1) 중앙에 형성된 “工”자 분류홈(2) 상하 임의 일단에서 “工”자 중앙에 대응되도록 설치되는 직선 분류홈(2)에 연결되며,
보조 전류 가이드 홀(11)이 "C"형 분류홈(12)의 양단에 설치되거나, 또는 분류홈(2)의 중앙부에 설치되거나, 또는 분류홈(2)의 외측 단부에 설치되며,
상기 인상 홀(3)은 적어도 두 개이며, 두 개의 인상 홀(3)이 "工"자 분류홈(2) 양측에서 "工”자 단부에 대응되는 지점 사이에 설치되어 두 개의 인상 홀 배열 구조가 형성되거나,
또는 두 개의 인상 홀(3)이 상하로 병렬되게 설치되고, 분류홈(2)과 연결되는 인상 홀(3)에 다른 한 인상 홀(3)의 절반을 감싸는 "C"형 분류홈이 설치되고, 상기 "C"형 분류홈 양단에 보조 전류 가이드 홀(11)이 설치되어, 다른 형태의 두 개의 인상 홀 배열 구조가 형성되거나,
또는 세 개의 인상 홀(3)이 “品”자로 배열되도록 하고, 그 중의 한 인상 홀(3)의 일측이 전류 전송 및 냉각수 전송 동관A(5)과 전류 전송 및 냉각수 전송 동관B(6) 사이의 분류홈(2)에 연결되고, 타측이 “T”형 분류홈(2)의 하단에 연결되며, “T”형 분류홈(2)의 양측에 각각 다른 두 개의 인상 홀(3)이 설치되고, 상기한 그 중의 한 인상 홀(3) 양쪽에 각각 단홈(13)이 설치되어 공동으로 세 갈래 인상 홀 배열 구조가 형성되거나,
또는 전류 전송 및 냉각수 전송 동관A(5)과 전류 전송 및 냉각수 전송 동관B(6) 사이의 분류홈(2)을 고주파 코일(1)의 중앙에서 약간 떨어져 위치하는 인상 홀(3)에 연결 설치하고, 인상 홀(3)의 다른 두 면에 분류홈(2)이 설치되며, 두 분류홈(2)의 외측 단부에 각각 보조 전류 가이드 홀(11)이 설치되고, 다른 두 인상 홀(3)이 분류홈(2)이 양측에 설치되어 공동으로 다른 형태의 세 개의 인상 홀 배열 구조가 형성되거나,
또는 네 개의 인상 홀(3)이 정사각형 배열을 형성하고, 전류 전송 및 냉각수 전송 동관A(5)과 전류 전송 및 냉각수 전송 동관B(6) 사이의 분류홈(2)이 그 중 두 인상 홀(3)에 대응되게 연결되며, 그 중 두 인상 홀(2)의 양측이 각각 분류홈(2)에 의하여 보조 전류 가이드 홀(11)에 연결되고, 두 인상 홀(3) 사이에 연결된 분류홈(2) 중앙부에 보조 전류 가이드 홀(11)이 설치되며, 다른 두 인상 홀(3)이 보조 전류 가이드 홀(11)의 양측에 설치되어 네 개의 인상 홀 배열 구조가 형성되거나,
또는 네 개의 인상홀(3)은 중앙에 설치되는 한 개의 인상홀(3), 중앙 인상홀(3)의 주위를 균등하게 에워싸는 다른 세 개의 인상홀(3)이고, 상기 전류 전송 및 냉각수 전송 동관A(5)과 전류 전송 및 냉각수 전송 동관B(6) 사이의 분류홈(2)이 세 개의 외측 인상홀(3) 중 두 개 사이를 통과한 후 중앙의 인상홀(3)과 연결되고, 다른 두 개의 분류홈(2)은 중앙의 인상홀(3)로부터 외측 방향으로 세 개의 외측 인상홀(3)의 두 분류홈(2) 사이로 연장되며, 상기 두 분류홈(2)의 외측 단부가 세 개의 외측 인상 홀(3)의 환형 중심선과 세 개의 외측 인상 홀(3)의 외부 환형선 사이에 형성되어 다른 형태의 네 개의 인상홀 배열 구조가 형성되거나,
또는, 중앙에 하나의 인상 홀(3)이 설치되고, 복수의 인상홀(3)이 중앙의 인상홀(3) 주위를 에워싸며, 상기 전류 전송 및 냉각수 전송 동관A(5)과 전류 전송 및 냉각수 전송 동관B(6) 사이의 분류홈(2)이 중앙의 인상 홀(3)에 연결되고, 외측을 에워싸는 인상홀(3)과 인상홀(3) 사이에는 각각 분류홈(2)이 설치되거나, 중앙의 인상홀(3)이 분류홈(2)을 통해 외측의 인상홀(3)과 직접 연결된다.
상기 복수개의 실리콘 코어를 제조하는 고주파 코일 인상 홀 배열체는 다섯 개의 실리콘 코어를 제조하는 고주파 코일 인상 홀 배열체이며, 다섯 개 인상 홀(3) 중에서 중앙에 하나의 인상 홀(3)이 설치되고, 다른 네 개의 외측 인상 홀(3)이 균일하게 중앙의 인상 홀(3) 주위를 에워싸며, 상기 전류 전송 및 냉각수 전송 동관A(5)과 전류 전송 및 냉각수 전송 동관B(6) 사이의 분류홈(2)이 네 개의 외측 인상 홀(3) 중의 두 개 사이를 통과한 후 중앙의 인상 홀(3)에 연결되고, 다른 세 개의 분류홈(2)이 중앙의 인상 홀(3)로부터 외측 방향으로 네 개의 외측 인상 홀(3) 중의 세 인상 홀(3)들 사이로 연장되며, 상기 세 개의 분류홈(2)의 외측 단부가 네 개의 외측 인상 홀(3)의 환형 중심선과 네 개의 외측 인상 홀(3)의 외부 환형선 사이에 형성되어 다섯 개의 인상 홀 배열 구조가 형성된다.
상기 복수개의 실리콘 코어를 제조하는 고주파 코일 인상 홀 배열체는 여섯 개의 실리콘 코어를 제조하는 고주파 코일 인상 홀 배열체이며, 여섯 개 인상 홀(3) 중에서 중앙에 하나의 인상 홀(3)이 설치되고, 다른 다섯 개의 외측 인상 홀(3)이 균일하게 중앙의 인상 홀(3) 주위를 에워싸며, 상기 전류 전송 및 냉각수 전송 동관A(5)과 전류 전송 및 냉각수 전송 동관B(6) 사이의 분류홈(2)이 다섯 개의 외측 인상 홀(3) 중의 두 개 사이를 통과한 후 중앙의 인상 홀(3)에 연결되고, 다른 네 개의 분류홈(2)이 중앙의 인상 홀(3)로부터 외측 방향으로 다섯 개의 외측 인상 홀(3) 중의 네 인상 홀(3)들 사이로 연장되며, 상기 네 개의 분류홈(2)의 외측 단부가 다섯 개의 외측 인상 홀(3)의 환형 중심선과 다섯 개의 외측 인상 홀(3)의 외부 환형선 사이에 형성되어 여섯 개의 인상 홀 배열 구조가 형성된다.
상기 복수개의 실리콘 코어를 제조하는 고주파 코일 인상 홀 배열체는 일곱 개의 실리콘 코어를 제조하는 고주파 코일 인상 홀 배열체이며, 일곱 개 인상 홀(3) 중에서 중앙에 하나의 인상 홀(3)이 설치되고, 다른 여섯 개의 외측 인상 홀(3)이 균일하게 중앙의 인상 홀(3) 주위를 에워싸며, 상기 전류 전송 및 냉각수 전송 동관A(5)과 전류 전송 및 냉각수 전송 동관B(6) 사이의 분류홈(2)이 여섯 개의 외측 인상 홀(3) 중의 두 개 사이를 통과한 후 중앙의 인상 홀(3)에 연결되고, 다른 다섯 개의 분류홈(2)이 중앙의 인상 홀(3)로부터 외측 방향으로 여섯 개의 외측 인상 홀(3) 중의 다섯 개의 인상 홀(3)들 사이로 연장되며, 상기 다섯 개의 분류홈(2)의 외측 단부가 여섯 개의 외측 인상 홀(3)의 환형 중심선과 여섯 개의 외측 인상 홀(3)의 외부 환형선 사이에 형성되어 일곱 개의 인상 홀 배열 구조가 형성된다.
상기 복수개의 실리콘 코어를 제조하는 고주파 코일 인상 홀 배열체는 여덟 개의 실리콘 코어를 제조하는 고주파 코일 인상 홀 배열체이며, 여덟 개 인상 홀(3) 중에서 중앙에 하나의 인상 홀(3)이 설치되고, 다른 일곱 개의 외측 인상 홀(3)이 균일하게 중앙의 인상 홀(3) 주위를 에워싸며, 상기 전류 전송 및 냉각수 전송 동관A(5)과 전류 전송 및 냉각수 전송 동관B(6) 사이의 분류홈(2)이 일곱 개의 외측 인상 홀(3) 중의 두 개 사이를 통과한 후 중앙의 인상 홀(3)에 연결되고, 다른 여섯 개의 분류홈(2)이 중앙의 인상 홀(3)로부터 외측 방향으로 일곱 개의 외측 인상 홀(3) 중의 여섯 개의 인상 홀(3)들 사이로 연장되며, 상기 여섯 개의 분류홈(2)의 외측 단부가 일곱 개의 외측 인상 홀(3)의 환형 중심선과 일곱 개의 외측 인상 홀(3)의 외부 환형선 사이에 형성되어 여덟 개의 인상 홀 배열 구조가 형성된다.
상기 인상 홀 배열체는 확장 구조를 구비하는 것으로서, 두 개의 인상홀(3) 및 인접한 분류홈(2)의 의해 바벨 형상의 인상홀(3)이 형성되고, 상기 바벨 형상의 인상홀(3)을 각각 중앙의 인상홀(3)과 외측 인상홀(3) 사이에 형성하여 열세개, 열여섯개, 열아홉개, 스물두개의 고주파 코일 인상홀 배열 구조가 형성된다.
상기 복수개의 실리콘 코어를 제조하는 고주파 코일 인상홀 배열체 중 열 세개의 시리콘 코어를 제조하는 고주파 코일 인상홀 배열체는 중앙에 하나의 인상 홀(3)이 설치되고, 중앙 인상 홀(3)의 주위에 같은 거리로 각각 중앙 인상 홀(3)을 에워싼 네 개의 외측 인상 홀(3)이 설치되며, 상기 전류 전송 및 냉각수 전송 동관A(5)과 전류 전송 및 냉각수 전송 동관B(6) 사이에서 분류홈(2)이 중앙 인상 홀(3)을 에워싼 네 개 외측 인상 홀(3) 중의 하나에 연결되고, 네 개의 외측 인상 홀(3)이 각각 분류홈(2)을 통하여 중앙 인상 홀(3)과 연결되며, 상기 네 개 외측 인상 홀(3)들의 사이에는 각각 두 개의 인상 홀(3) 및 상기 두 개의 인상 홀(3)의 사이를 연결하는 분류홈(2)이 바벨 형상의 인상 구조를 구성하여, 열세개의 인상 홀 배열 구조가 형성된다.
상기 복수개의 실리콘 코어를 제조하는 고주파 코일 인상홀 배열체 중 열 여섯개의 실리콘 코어를 제조하는 고주파 코일 인상홀 배열체는 중앙에 하나의 인상 홀(3)이 설치되고, 중앙 인상 홀(3)의 주위에 같은 거리로 각각 중앙 인상 홀(3)을 에워싼 다섯 개의 외측 인상 홀(3)이 환형으로 분포되며, 상기 전류 전송 및 냉각수 전송 동관A(5)과 전류 전송 및 냉각수 전송 동관B(6) 사이에서 분류홈(2)이 중앙 인상 홀(3)을 에워싼 다섯 개의 외측 인상 홀(3) 중의 하나에 연결되고, 다섯 개의 외측 인상 홀(3)이 각각 분류홈(2)을 통하여 중앙 인상 홀(3)과 연결되며, 상기 다섯 개의 외측 인상 홀(3)들 사이에는 각각 두개의 인상 홀(3)과 상기 두개의 인상홀(3) 사이를 연결하는 분류홈(2)이 바벨 형상의 인상 구조를 구성하여, 열여섯 개의 인상 홀 배열 구조가 형성된다.
상기 복수개의 실리콘 코어를 제조하는 고주파 코일 인상홀 배열체 중 열 아홉개의 실리콘 코어를 제조하는 고주파 코일 인상홀 배열체는 중앙에 하나의 인상 홀(3)이 설치되고, 중앙 인상 홀(3)의 주위에 같은 거리로 환형 분포되는 중앙 인상 홀(3)을 에워싸는 여섯개의 외측 인상 홀(3)이 설치되며, 또한, 상기 중앙 인상 홀(3)을 에워싸는 여섯개의 외측 인상 홀(3)에 대응하여서 상기 여섯 개의 외측 인상 홀(3)의 외주를 에워싸는 별도의 여섯개의 인상 홀(3)이 설치 즉, 중앙의 인상 홀(3)의 외주가 두 층의 인상 홀(3)에 의해 에워싸여지며, 상기 전류 전송 및 냉각수 전송 동관A(5) 및 전류 전송 및 냉각수 전송 동관B(6) 사이에서 분류홈(2)이 중앙 인상 홀(3)을 에워싼 가장 외측의 여섯 개 인상 홀(3) 중의 하나에 연결되고, 상기 가장 외측을 에워싸는 여섯 개의 인상 홀(3)은 각각 분류홈(2)을 통하여 중앙의 다른 여섯 개 인상 홀(3)를 통과한 후, 중앙 인상 홀(3)과 연결되어 중앙에서 외측으로의 스트링 구조를 형성하며, 각각의 스트링 구조 사이에는 각각 두개의 인상 홀(3)과 상기 두개의 인상 홀(3) 사이를 연결하는 분류홈(2)이 바벨 형상의 인상 구조를 구성하며, 바벨 형상의 인상 구조와 외측의 여섯개 인상 홀(3) 사이에 각각 독립한 인상 홀(3)이 설치되어, 열아홉 개의 인상 홀 배열 구조가 형성된다.
상기 복수개의 실리콘 코어를 제조하는 고주파 코일 인상홀 배열체 중 스물두개의 실리콘 코어를 제조하는 고주파 코일 인상홀 배열체는 중앙에 하나의 인상 홀(3)이 설치되고, 중앙 인상 홀(3)의 주위에 같은 거리로 환형으로 분포되어 중앙 인상 홀(3)을 에워싸는 일곱개의 외측 인상 홀(3)이 설치되며, 상기 전류 전송 및 냉각수 전송 동관A(5) 과 전류 전송 및 냉각수 전송 동관B(6) 사이의 분류홈(2)이 중앙 인상 홀(3)을 에워싼 일곱 개의 외측 인상 홀(3) 중의 하나에 연결되고, 일곱 개의 외측 인상 홀(3)이 각각 분류홈(2)을 통하여 중앙 인상 홀(3)과 연결되며, 상기 일곱 개의 외측 인상 홀(3)들 사이에 각각 두개의 인상 홀(3)과 상기 두개의 인상 홀(3) 사이를 연결하는 분류홈(2)이 바벨 형상의 인상 구조를 구성하여, 스물두 개의 인상 홀 배열 구조가 형성된다.
상기 복수개의 실리콘 코어를 제조하는 고주파 코일 인상홀 배열체는 열아홉개의 인상홀 구조의 다른 확장 구조로서, 중앙에 하나의 인상 홀(3)이 설치되고, 중앙 인상 홀(3) 외주에 여섯 개의 외측 인상 홀(3)이 설치되며, 분류홈(2)은 중앙 인상 홀(3)로부터 방사형으로 여섯 개의 외측 인상 홀(3)과 연결되고, 각각의 외측 인상 홀(3) 사이에 두개의 인상 홀(3)과 상기 두개의 인상 홀(3) 사이를 연결하는 분류홈(2)으로 구성된 바벨 형상의 인상 홀(3)을 설치하여, 다른 형태의 19개의 인상 홀 배열 구조가 형성된다.
상기한 기술수단을 이용한 본 발명은 하기와 같은 이점을 가진다.
본 발명에 따른 복수개의 실리콘 코어를 제조하는 고주파 코일 인상 배열체는, 인상 홀과 인상 홀 사이에 방사형 분류홈을 설치하거나, 또는 인상 홀 양측에 "C" 형상의 분류홈을 설치하고 보조 전류 가이도 홀로 보조하거나, 또는 인상 홀 양측에 각각 단홈을 설치하거나, 또는 두 인상 홀 사이에 연결 분류홈을 설치하여 바벨 형상의 균일부를 형성하고, 방사형 분산홈 외부 단부의 인상 홀 사이에 2~8 개 또는 열세 개 또는 열여섯 개 또는 열아홉 개 또는 스물두 개의 실리콘 코어 인상 홀을 형성하여, 전류 흐름 시 분류홈 또는 분류홈과 보조 전류 가이드 홀의 분류 작용 하에서 기본적으로 전류가 균일하게 상기 각 인상 홀을 에돌도록 하였으며, 분류홈 보조 하의 전류가 더욱 균일하게 각 인상 홀 주위에 분포될 수 있기 때문에, 전류가 인상 홀 주위에 균일하게 분포되도록 하는 목적을 구현하고, 이에 따라 불량품을 감소시키는 목적을 이루었으며, 본 발명은 또한 균일한 가열 특성을 구비하고, 대량의 에너지를 절감하며, 설비 투자 및 인력 종합 원가를 절감시키는 등 이점을 구비하고 있다.
도 1은 본 발명에 따른 두 개의 인상홀 구조를 도시한 도면이다.
도 2는 본 발명에 따른 두 개의 인상홀에서의 전류 흐름 원리를 도시한 도면이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 두 개의 인상홀 구조를 도시한 도면이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 두 개의 인상홀에서의 전류 흐름 원리를 도시한 도면이다.
도 5는 본 발명에 따른 세 개의 인상홀 구조를 도시한 도면이다.
도 6은 본 발명에 따른 세 개의 인상홀에서의 전류 흐름 원리를 도시한 도면이다.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 세 개의 인상홀 구조를 도시한 도면이다.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 세 개의 인상홀에서의 전류 흐름 원리를 도시한 도면이다.
도 9는 본 발명에 따른 네 개의 인상홀 구조를 도시한 도면이다.
도 10은 본 발명에 따른 네 개의 인상홀에서의 전류 흐름 원리를 도시한 도면이다.
도 11은 본 발명의 다른 실시예에 따른 네 개의 인상홀 구조를 도시한 도면이다.
도 12는 본 발명의 다른 실시예에 따른 네 개의 인상홀에서의 전류 흐름 원리를 도시한 도면이다.
도 13은 본 발명에 따른 다섯 개의 인상홀 구조를 도시한 도면이다.
도 14는 본 발명에 따른 다섯 개의 인상홀에서의 전류 흐름 원리를 도시한 도면이다.
도 15는 본 발명에 따른 여섯 개의 인상홀 구조를 도시한 도면이다.
도 16은 본 발명에 따른 여섯 개의 인상홀에서의 전류 흐름 원리를 도시한 도면이다.
도 17은 본 발명에 따른 일곱 개의 인상홀 구조를 도시한 도면이다.
도 18은 본 발명에 따른 일곱 개의 인상홀에서의 전류 흐름 원리를 도시한 도면이다.
도 19는 본 발명에 따른 여덟 개의 인상홀 구조를 도시한 도면이다.
도 20은 본 발명에 따른 여덟 개의 인상홀에서의 전류 흐름 원리를 도시한 도면이다.
도 21은 본 발명에 따른 열세 개의 인상홀 구조를 도시한 도면이다.
도 22는 본 발명에 따른 열세 개의 인상홀에서의 전류 흐름 원리를 도시한 도면이다.
도 23은 본 발명에 따른 열여섯 개의 인상홀 구조를 도시한 도면이다.
도 24는 본 발명에 따른 열여섯 개의 인상홀에서의 전류 흐름 원리를 도시한 도면이다.
도 25는 본 발명의 다른 실시예에 따른 열여섯 개의 인상홀 구조를 도시한 도면이다.
도 26은 본 발명의 다른 실시예에 따른 열여섯 개의 인상홀에서의 전류 흐름 원리를 도시한 도면이다.
도 27은 본 발명에 따른 열아홉 개의 인상홀 구조를 도시한 도면이다.
도 28은 본 발명에 따른 열아홉 개의 인상홀에서의 전류 흐름 원리를 도시한 도면이다.
도 29는 본 발명에 따른 이십이 개의 인상홀 구조를 도시한 도면이다.
도 30은 본 발명에 따른 이십이 개의 인상홀에서의 전류 흐름 원리를 도시한 도면이다.
도 31은 본 발명에 따라 인상되는 시드 결정의 자력선이 고주파 코일에서 크고 작은 자력으로 분포되는 것을 도시한 도면이다.
도 32는 본 발명에 따른 여덟 개의 인상홀 구조의 사시도이다.
도 33은 본 발명에 따른 고주파 코일의 단면도이다.
도 2는 본 발명에 따른 두 개의 인상홀에서의 전류 흐름 원리를 도시한 도면이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 두 개의 인상홀 구조를 도시한 도면이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 두 개의 인상홀에서의 전류 흐름 원리를 도시한 도면이다.
도 5는 본 발명에 따른 세 개의 인상홀 구조를 도시한 도면이다.
도 6은 본 발명에 따른 세 개의 인상홀에서의 전류 흐름 원리를 도시한 도면이다.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 세 개의 인상홀 구조를 도시한 도면이다.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 세 개의 인상홀에서의 전류 흐름 원리를 도시한 도면이다.
도 9는 본 발명에 따른 네 개의 인상홀 구조를 도시한 도면이다.
도 10은 본 발명에 따른 네 개의 인상홀에서의 전류 흐름 원리를 도시한 도면이다.
도 11은 본 발명의 다른 실시예에 따른 네 개의 인상홀 구조를 도시한 도면이다.
도 12는 본 발명의 다른 실시예에 따른 네 개의 인상홀에서의 전류 흐름 원리를 도시한 도면이다.
도 13은 본 발명에 따른 다섯 개의 인상홀 구조를 도시한 도면이다.
도 14는 본 발명에 따른 다섯 개의 인상홀에서의 전류 흐름 원리를 도시한 도면이다.
도 15는 본 발명에 따른 여섯 개의 인상홀 구조를 도시한 도면이다.
도 16은 본 발명에 따른 여섯 개의 인상홀에서의 전류 흐름 원리를 도시한 도면이다.
도 17은 본 발명에 따른 일곱 개의 인상홀 구조를 도시한 도면이다.
도 18은 본 발명에 따른 일곱 개의 인상홀에서의 전류 흐름 원리를 도시한 도면이다.
도 19는 본 발명에 따른 여덟 개의 인상홀 구조를 도시한 도면이다.
도 20은 본 발명에 따른 여덟 개의 인상홀에서의 전류 흐름 원리를 도시한 도면이다.
도 21은 본 발명에 따른 열세 개의 인상홀 구조를 도시한 도면이다.
도 22는 본 발명에 따른 열세 개의 인상홀에서의 전류 흐름 원리를 도시한 도면이다.
도 23은 본 발명에 따른 열여섯 개의 인상홀 구조를 도시한 도면이다.
도 24는 본 발명에 따른 열여섯 개의 인상홀에서의 전류 흐름 원리를 도시한 도면이다.
도 25는 본 발명의 다른 실시예에 따른 열여섯 개의 인상홀 구조를 도시한 도면이다.
도 26은 본 발명의 다른 실시예에 따른 열여섯 개의 인상홀에서의 전류 흐름 원리를 도시한 도면이다.
도 27은 본 발명에 따른 열아홉 개의 인상홀 구조를 도시한 도면이다.
도 28은 본 발명에 따른 열아홉 개의 인상홀에서의 전류 흐름 원리를 도시한 도면이다.
도 29는 본 발명에 따른 이십이 개의 인상홀 구조를 도시한 도면이다.
도 30은 본 발명에 따른 이십이 개의 인상홀에서의 전류 흐름 원리를 도시한 도면이다.
도 31은 본 발명에 따라 인상되는 시드 결정의 자력선이 고주파 코일에서 크고 작은 자력으로 분포되는 것을 도시한 도면이다.
도 32는 본 발명에 따른 여덟 개의 인상홀 구조의 사시도이다.
도 33은 본 발명에 따른 고주파 코일의 단면도이다.
이하의 실시예를 참고하여 본 발명에 대하여 상세히 설명한다. 다만, 본 발명이 이러한 실시예들에 국한되는 것이 아니다.
도 31, 32, 또는 33에는 상술한 복수 개의 실리콘 코어를 제조하는 고주파 코일 인상홀 배열체의 실시예가 도시되어 있으며, 도 1 ~ 도 30 중에 있어 본 발명의 각 실시예의 공통 부분은, 상기 고주파 코일 인상 홀 배열체는 고주파 코일(1) 일측에 서로 인접한 전류 전송 및 냉각수 전송 동관 A(5)와 전류 전송 및 냉각수 전송 동관B(6)이 설치되고, 두 개의 인접한 전류 전송 및 냉각수 전송 동관A(5)과 전류 전송 및 냉각수 전송 동관B(6) 사이에 내부 방향으로 연장된 분류홈(2)이 설치되며, 상기 고주파 코일(1)의 고주파 코일 상부(9)는 중심 위치로 함입된 경사면이고, 상기 고주파 코일(1)의 고주파 코일 하부(10)에는 중간이 함입된 환형 단턱이 설치되며, 냉각수로(4)가 고주파 코일(1)의 외주면 내에 환형으로 매설되고, 상기 냉각수로(4)의 양단은 각각 전류 전송 및 냉각수 전송 동관A(5) 과 전류 전송 및 냉각수 전송 동관B(6)과 연결되며,
상기 분류홈(2)은 고주파 코일(1) 중앙부 코일 상의 함몰부(7)에 설치된 중앙의 인상 홀(3)에 연결되거나, 또는 직선 거리가 가장 가까운 인상 홀(3)에 연결되거나, 또는 고주파 코일(1) 중앙에 형성된 “工”자 분류홈(2) 상하 임의 일단에서 “工” 중앙에 대응되도록 설치되는 직선 분류홈(2)에 연결되어, 분류홈(2)을 통해 내외부가 연결된 구조가 형성되고,
보조 전류 가이드 홀(11)은 "C"형 분류홈(12)의 양단에 설치되거나, 또는 보조 전류 가이드 홀(11)은 분류홈(2)의 중앙부에 설치되거나, 또는 보조 전류 가이드 홀(11)은 분류홈(2)의 외측 단부에 설치되며,
본 발명의 권리를 구하는 것이, 상기 인상 홀(3)이 적어도 두 개라는 점이다.
도 1 및 2에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따르면 두 개의 인상 홀(3)이 "工"자 분류홈(2) 양측에서 "工”자 단부에 대응하는 지점 사이에 설치되어 두 개의 인상 홀 배열구조가 형성된다. 동작 시 전류(8)는 "工"자 분류홈(2)의 가이드를 통해 그 주위를 에워싸며 운행되고, 전류(8)는 균일하게 각각의 두 인상 홀(3)의 주위를 에워싸며 흐른다.
도 3 및 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 다른 실시예에 따르면, 두 개의 인상 홀(3)이 상하로 병렬되게 설치되고, 연결 분류홈(2)과 연결되는 인상 홀(3)에는 다른 한 인상 홀(3)의 절반을 감싸는 "C"형 분류홈이 설치되고, 상기 "C"형 분류홈 양단에 보조 전류 가이드 홀(11)이 설치되어, 다른 형태의 두 개의 인상 홀 배열 구조가 형성된다. 동작 시 전류(8)는 "C"형 분류홈(2) 및 "C"형 분류홈 양단에 설치된 보조 전류 가이드 홀(11)의 가이드를 통해 그 주위를 에워싸며 운행되어, 전류(8)가 균일하게 각각의 두 인상 홀(3)의 주위를 에워싸며 흐르게 된다.
도 5 및 6에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 세 개의 인상 홀(3) 구조에 따르면, 세 개의 인상 홀(3)이 “品”자로 배열되도록 하고, 그 중의 한 인상 홀(3)의 일측이 전류 전송 및 냉각수 전송 동관A(5)과 전류 전송 및 냉각수 전송 동관B(6) 사이의 분류홈(2)에 연결되고, 타측이 “T”형 분류홈(2)의 하단에 연결되며, “T”형 분류홈(2)의 양측에 각각 다른 두 개의 인상 홀(3)이 설치되고, 상기한 그 중의 한 인상 홀(3) 양쪽에 각각 단홈(13)을 설치하여 공동으로 세 개의 인상홀 배열 구조를 형성한다. 동작 시 전류(8)는 "T"형 분류홈(2)의 가이드를 통해 그 주위를 에워싸며 운행되어, 전류(8)가 균일하게 각각의 세 인상 홀(3)의 주위를 에워싸며 흐르게 된다.
도 7 및 8에 도시된 바와 같이, 본 발명의 다른 실시예에 따른 세 개의 인상 홀(3) 구조에 따르면, 전류 전송 및 냉각수 전송 동관A(5)과 전류 전송 및 냉각수 전송 동관B(6) 사이의 분류홈(2)을 고주파 코일(1)의 중앙에서 약간 떨어져 위치하는 인상 홀(3)에 연결 설치하고, 인상 홀(3)의 다른 두 면에 분류홈(2)을 설치하며, 두 분류홈(2)의 외측 단부에 각각 보조 전류 가이드 홀(11)을 설치한다. 다른 두 인상 홀(3)이 분류홈(2)의 양측에 설치되어 공동으로 다른 형태의 세 개의 인상 홀 배열 구조를 형성한다. 동작 시 전류(8)는 중앙에서 약간 떨어진 인상 홀(3)의 다른 양측에 설치된 분류홈(2) 및 두 분류홈(2) 외측 단부의 보조 전류 가이드 홀(11)의 가이드를 통해 그 주위를 에워싸며 운행되어, 전류(8)가 균일하게 각각의 두 인상 홀(3)의 주위를 에워싸며 흐르게 된다.
도 9 및 10에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 네 개의 인상 홀(3) 구조에 따르면, 네 개의 인상 홀(3)이 정사각형 배열을 형성하고, 전류 전송 및 냉각수 전송 동관A(5)과 전류 전송 및 냉각수 전송 동관B(6) 사이의 분류홈(2)이 그 중 두 인상 홀(3)에 대응되도록 연결되며, 그 중 두 인상 홀(2)의 양측이 각각 분류홈(2)에 의하여 보조 전류 가이드 홀(11)에 연결되고, 두 인상 홀(3) 사이에 연결된 분류홈(2) 중앙부에 보조 전류 가이드 홀(11)이 설치되며, 다른 두 인상 홀(3)이 보조 전류 가이드 홀(11)의 양측에 설치되어 네 개의 인상 홀 배열 구조를 형성한다. 동작 시 전류(8)는 전류 전송 및 냉각수 전송 동관A(5)과 전류 전송 및 냉각수 전송 동관B(6) 사이의 분류홈(2)에 대응되는 인상 홀(3) 양측의 분류홈(2) 및 보조 전류 가이드 홀(11)의 가이드를 통해 그 주위를 에워싸며 운행되어, 전류(8)가 균일하게 두 인상 홀(3)의 주위를 에워싸며 흐르게 된다.
도 11 내지 20에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 다섯 내지 여덟 개의 인상 홀(3) 구조에 따르면, 인상 홀(3) 중에서 중앙에 하나의 인상 홀(3)이 설치되고, 기타 네 개 내지 일곱 개의 인상 홀(3)이 균일하게 중앙의 인상 홀(3) 주위를 에워싸며, 상기 전류 전송 및 냉각수 전송 동관A(5)과 전류 전송 및 냉각수 전송 동관B(6) 사이의 분류홈(2)이 네 개 내지 일 곱개의 외측 인상 홀(3) 중의 두 개 사이를 통과한 후 중앙의 인상 홀(3)에 연결되고, 네 개 내지 일곱 개 외측 인상 홀(3)들 사이에 각각 분류홈(2)이 설치되어 상기 분류홈(2)은 중앙부 인상 홀(3)로부터 외측 방향으로 에워싼 인상 홀(3)들 사이로 연장되고, 상기 각각의 분류홈(2)의 외측 단부가 외측 인상 홀(3)의 환형 중심선과 외측 인상 홀(3)의 외부 환형선 사이에 위치하여 다섯 내지 여덟 개의 인상 홀 배열 구조를 형성한다. 본 실시예들 중의 상기 다섯 내지 여덟 인상 홀 배열체는 서로 유사한 구조이기 때문에 일일히 나열하지는 않는다.
도 21 ~ 22에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 열세개의 인상홀 구조에 따르면, 중앙부에 하나의 인상 홀(3)이 설치되고, 중앙 인상 홀(3)의 주위에 같은 거리로 각각 중앙 인상 홀(3)을 에워싼 네 개의 외측 인상 홀(3)이 설치되며, 상기 전류 전송 및 냉각수 전송 동관A(5)과 전류 전송 및 냉각수 전송 동관B(6) 사이에서 분류홈(2)이 중앙 인상 홀(3)을 에워싼 네 개 외측 인상 홀(3) 중의 하나에 연결되고, 네 개의 외측 인상 홀(3)이 각각 분류홈(2)을 통하여 중앙 인상 홀(3)과 연결되며, 상기 네 개 외측 인상 홀(3)의 각 두 인상 홀(3) 사이에는 각각 두개의 인상 홀(3)과 두 인상 홀(3) 사이를 연결하는 분류홈(2)이 바벨 형상의 인상 구조를 구성하여, 열세개의 인상 홀 배열 구조가 형성된다. 동작 시 일부 전류(8)는 13 개의 인상 홀 주변을 흐르고, 다른 일부 전류(8)는 바벨 형상의 인상 홀(3)과 중앙의 인상 홀(3) 사이를 오고감으로써, 전류(8)가 균일하게 각각의 13 개 인상 홀(3)의 주위를 에워싸며 흐르게 된다.
도 23 ~ 24에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 열여섯 개의 인상 홀 구조에 따르면, 중앙에 하나의 인상 홀(3)이 설치되고, 중앙 인상 홀(3)의 주위에 같은 거리로 각각 중앙 인상 홀(3)을 에워싼 다섯 개의 외측 인상 홀(3)을 설치하며, 상기 전류 전송 및 냉각수 전송 동관A(5)과 전류 전송 및 냉각수 전송 동관B(6) 사이에서 분류홈(2)이 중앙 인상 홀(3)을 에워싼 다섯 개의 외측 인상 홀(3) 중의 하나에 연결되고, 다섯 개의 외측 인상 홀(3)이 각각 분류홈(2)을 통하여 중앙 인상 홀(3)과 연결되며, 상기 다섯 개의 외측 인상 홀(3)의 각 두 인상 홀(3) 사이에는 각각 두개의 인상 홀(3)과 두개의 인상홀(3) 사이를 연결하는 분류홈(2)이 바벨 형상의 인상 구조를 구성하여, 열여섯 개의 인상 홀 배열 구조를 형성한다. 동작 시 일부 전류(8)는 16 개의 인상 홀 주변을 흐르고, 다른 일부 전류(8)는 바벨 형상의 인상 홀(3)과 중앙 인상 홀(3) 사이를 오고감으로써, 전류(8)가 균일하게 각각의 16 개의 인상 홀(3)의 주위를 에워싸며 흐르게 된다.
도 25 ~ 26에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 열아홉 개의 인상 홀 구조에 따르면, 상술한 열아홉개의 실리콘 코어를 인상하는 고주파 코일 인상홀 배열체는 중앙에 하나의 인상 홀(3)이 설치되고, 중앙 인상 홀(3)의 주위에 같은 거리로 환형 분포되는 중앙 인상 홀(3)을 에워싸는 여섯개의 외측 인상 홀(3)이 설치되며, 또한, 상기 중앙 인상 홀(3)을 에워싸는 여섯개의 외측 인상 홀(3)에 대응하여서 상기 여섯 개의 외측 인상 홀(3)의 외주를 에워싸는 별도의 여섯개의 인상 홀(3)이 설치된다. 즉, 중앙의 인상 홀(3)의 외주는 두 층의 인상 홀(3)에 의해 에워싸여진다. 상기 전류 전송 및 냉각수 전송 동관A(5) 및 전류 전송 및 냉각수 전송 동관B(6) 사이에서 분류홈(2)이 중앙 인상 홀(3)을 에워싼 가장 외측의 여섯 개 인상 홀(3) 중의 하나에 연결되고, 상기 가장 외측을 에워싸는 여섯 개의 인상 홀(3)은 각각 분류홈(2)을 통하여 중앙의 다른 여섯 개 인상 홀(3)를 통과한 후, 중앙 인상 홀(3)과 연결되어 중앙에서 외측으로의 스트링 구조를 형성하며, 각각의 스트링 구조 사이에는 각각 두 인상 홀(3)과 두 인상 홀(3) 사이를 연결하는 분류홈(2)이 바벨 형상의 인상 구조를 구성하며, 바벨 형상의 인상 구조와 외측의 여섯개 인상 홀(3) 사이에 각각 독립한 인상 홀(3)을 설치하여, 열아홉 개의 인상 홀 배열 구조를 형성한다. 동작 시 일부 전류(8)는 19 개의 인상 홀 주변을 흐르고, 다른 일부 전류(8)는 바벨 형상의 인상 홀(3) 및 독립한 인상 홀(3)과 중앙 인상 홀(3)을 연결하는 스트링 형상 인상 홀(3) 사이를 오고감으로써 전류(8)는 균일하게 각각의 19 개의 인상 홀(3)의 주위를 에워싸며 흐르게 된다.
도 27 ~ 28에 도시된 바와 같이, 본 발명의 다른 실시예에 따른 열아홉 개의 인상 홀 구조에 따르면, 열아홉 개의 인상 홀을 구비한 확장 구조로서, 중앙에 하나의 인상 홀(3)이 설치되고, 중앙 인상 홀(3) 외주에 여섯 개의 외측 인상 홀(3)이 설치되며, 분류홈(2)은 중앙 인상 홀(3)로부터 방사형으로 여섯 개의 외측 인상 홀(3)과 연결되고, 각 외측 인상 홀(3) 사이에 두 인상 홀(3)과 두 인상 홀(3)을 연결하는 분류홈(2)으로 구성된 바벨 형상의 인상 홀(3)을 설치하여, 다른 형태의 19개의 인상 홀 배열 구조를 형성한다. 동작 시, 일부 전류(8)는 19 개의 인상 홀 주변을 흐르고, 다른 일부 전류(8)는 바벨 형상의 인상 홀(3) 및 6 개의 외측 인상 홀(3) 사이를 오고감으로써, 전류(8)가 균일하게 각각의 19 개의 인상 홀(3)의 주위를 에워싸며 흐르게 된다.
도 29 ~ 30에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 스물두 개의 인상 홀 구조에 따르면, 스물두 개의 실리콘 코어를 인상하는 고주파 코일 인상홀 배열체는 중앙에 하나의 인상 홀(3)이 설치되고, 중앙 인상 홀(3)의 주위에 같은 거리로 환형 분포되는 중앙 인상 홀(3)을 에워싸는 일곱개의 외측 인상 홀(3)이 설치되며, 상기 전류 전송 및 냉각수 전송 동관A(5)과 전류 전송 및 냉각수 전송 동관B(6) 사이의 분류홈(2)이 중앙 인상 홀(3)을 에워싼 일곱 개의 외측 인상 홀(3) 중의 하나에 연결되고, 일곱 개의 외측 인상 홀(3)이 각각 분류홈(2)을 통하여 중앙 인상 홀(3)과 연결되며, 상기 일곱 개의 외측 인상 홀(3)의 각 두 인상 홀(3) 사이에 각각 두 인상 홀(3)과 두 인상홀(3) 사이를 연결하는 분류홈(2)이 바벨 형상의 인상 구조를 구성하여, 스물두 개의 인상 홀 배열 구조를 형성한다. 동작 시 일부 전류(8)는 22 개의 인상 홀 주변을 흐르고, 다른 일부 전류(8)는 바벨 형상의 인상 홀(3)과 중앙 인상 홀(3)에 연결된 인상 홀(3) 사이를 오고감으로써, 전류(8)는 균일하게 각각의 22 개 인상 홀(3)의 주위를 에워싸며 흐르게 된다.
본 발명에 따라 복수개의 실리콘 코어를 제조하는 고주파 코일 인상 홀 배열체를 실시하는 방법은 하기와 같다.
도 31, 32 또는 33 및 상술한 도 1~ 30을 참조하면, 전류 전송 및 냉각수 전송 동관A(5)과 전류 전송 및 냉각수 전송 동관B(6) 사이에 분류홈(2)이 설치되는 바, 상기 분류홈(2)의 연결 방식은 도 1~30의 실제 요구에 따라 결정되며, 분류홈(2)의 주요 기능으로는 고주파 전류(8)로 하여금 분계선에서 상호 보완 및 교차를 형성하여 원료봉(16)으로 하여금 균일하게 열을 받도록 하고, 또한 “원료봉(16)”을 화학적으로 보조하는 작용을 하며, "원료 실리콘봉"으로도 불리우는 원료봉(16)의 단부 헤드가 고주파 코일 하부(10)에 근접하여 융화되게 한 후, 시드 결정 척(14)이 시드 결정(15)을 집고 내려와, 시드 결정(15)이 도 1~30의 인상 홀(3)을 통과하도록 한 다음 원료봉(16)의 멜팅존에 삽입되도록 하고, 시드 결정(15)을 상승시키면 원료봉(16) 상부의 융액은 시드 결정(15)을 따라 상승하게 되며, 상기 원료봉(16) 하부의 하부축도 상응하게 천천히 상승한다. 상기 원료봉(16)은 고주파 코일(1)과 접촉되지 않아야 한다. 원료봉(16)의 단부가 평평하지 않을 수 있기 때문에 고주파 코일 하부(10)을 내부로 함몰된 단턱으로 설계하였으며, 이의 작용은 원료봉(16)이 고주파 코일 하부면에 더욱 근접되도록 하여 빨리 액화되도록 하며, 상기 고주파 코일의 상부(9)는 내부로부터 외부로 경사지게 설계하였으며, 경사면의 작용은 고주파 전류(8)가 지나치게 중부에 집중되는 것을 방지하고, 전류(8)로 하여금 고주파 코일(1) 상에 균일하게 분포되도록 하여, 균일하게 열을 받는 효과를 구현하며, 원료봉(16) 상부의 멜팅존은 시드 결정(15)의 접착 이동에 의하여 고주파 코일(1) 인상 홀(3)을 통과한 후, 자력선(17)의 감소로 냉각되어 새로운 기둥 모양 결정을 형성하고, 상기 시드 결정 척(14)이 시드 결정(15)을 집고 천천히 상승하면 필요한 길이의 완제품 실리콘 코어를 형성할 수 있다.
여기서 시드 결정 척(14)은 단지 본 발명 실시 과정의 다른 보조 기구이기 때문에, 본 발명에서는 상세한 설명을 생략하였으며, 또 시드 결정 척(14) 및 기타 설비는 본 발명의 보호범위에 속하지 않는다.
본 발명을 명세서에 사용된 실시예는 현재에 적합한 것이지만, 본 발명은 본 사상 및 본 발명 범위 내의 실시예의 모든 변화와 개선을 포함함은 물론이다.
1: 고주파 코일, 2. 분류홈, 3. 인상홀, 4. 냉각수로, 5. 전류 전송 및 냉각수 전송 동관A；6. 전류 전송 및 냉각수 전송 동관B, 7. 코일 함몰부, 8. 전류, 9. 고주파 코일 상면, 10. 고주파 코일 하면, 11. 보조 전류 가이드 홀, 12. “C”형 분류홈, 13. 단홈, 14. 시드 결정 척, 15. 시드 결정, 16. 원료봉, 17. 자력선.
Claims (15)
- 인상 홀들이 형성된 고주파 코일;
서로 인접하게 상기 고주파 코일에 설치되는 전류 전송 및 냉각수 전송 동관A와 전류 전송 및 냉각수 전송 동관B를 포함하되,
상기 고주파 코일에는 상기 전류 전송 및 냉각수 전송 동관A와 상기 전류 전송 및 냉각수 전송 동관B 사이에서 내부 방향으로 연장된 분류홈이 설치되는
고주파 코일 인상 홀 배열체. - 제 1 항에 있어서,
상기 고주파 코일의 고주파 코일 상부는 중심 위치를 향해 내부 함입된 경사면이 형성되는 고주파 코일 인상 홀 배열체. - 제 1 항에 있어서,
상기 고주파 코일의 고주파 코일 하부에는 중간이 함입된 환형 단턱이 설치되는 고주파 코일 인상 홀 배열체. - 제 1 항에 있어서,
상기 고주파 코일의 외주면 내에 환형으로 매설되고, 그 양단은 각각 상기 전류 전송 및 냉각수 전송 동관A와 상기 전류 전송 및 냉각수 전송 동관B에 연결되는 냉각수로를 포함하는 고주파 코일 인상 홀 배열체. - 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 분류홈은 그 일부가 工자 형상으로 제공되는 工자 분류홈을 포함하고,
상기 인상 홀들 중 두 개는 상기 工자 분류홈의 양측에서 工자 단부에 대응하는 지점 사이에 설치되는 고주파 코일 인상 홀 배열체. - 제 5 항에 있어서,
상기 분류홈은, 상기 工자 분류홈의 상하 임의 일단에서 상기 工자 중앙에 대응되도록 설치되는 직선 분류홈을 더 포함하는 고주파 코일 인상 홀 배열체. - 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 분류홈은 상기 인상 홀들 중에서 직선 거리가 가장 가까운 것에 연결되는 고주파 코일 인상 홀 배열체. - 제 7 항에 있어서,
상기 인상 홀들은 두 개가 상하로 병렬되게 설치되고,
상기 분류홈은 상기 전류 전송 및 냉각수 전송 동관A와 상기 전류 전송 및 냉각수 전송 동관B 사이에서 내부 방향으로 연장되는 연결 분류홈;
상기 인상 홀들 중에서 상기 연결 분류홈과 연결된 것에 설치되고, 상기 인상 홀들 중 다른 하나의 절반을 감싸는 C형 분류홈을 포함하는 고주파 코일 인상 홀 배열체. - 제 8 항에 있어서,
상기 C형 분류홈의 양단에는 보조 전류 가이드 홀이 설치되는 고주파 코일 인상 홀 배열체. - 제 7 항에 있어서,
상기 인상 홀들 중 일측이 상기 분류홈과 연결된 것은, 타측이 T형 분류홈의 하단에 연결되고,
상기 T형 분류홈의 양측에는 상기 인상 홀들 중 다른 두 개가 설치되고,
상기 인상 홀들 중 상기 T형 분류홈에 연결된 것의 양쪽에는 각각 단홈이 설치되는 고주파 코일 인상 홀 배열체. - 제 7 항에 있어서,
상기 인상 홀들은 네 개가 정사각형으로 배열되고,
상기 분류홈은 상기 인상 홀들 중 두 개에 대응되도록 연결되며,
상기 인상 홀들 중 상기 분류홈에 연결된 상기 인상 홀들의 양측과 상기 인상 홀들 중 상기 분류홈에 연결된 두 개의 사이에 위치되는 상기 분류홈의 중앙부에 보조 전류 가이드 홀이 설치되는 고주파 코일 인상 홀 배열체. - 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 분류홈은,
상기 전류 전송 및 냉각수 전송 동관A과 상기 전류 전송 및 냉각수 전송 동관B 사이에서 연장되는 부분과,
상기 인상 홀들 중 상기 전류 전송 및 냉각수 전송 동관A과 상기 전류 전송 및 냉각수 전송 동관B 사이에서 연장되는 부분과 연결된 것의 다른 두 면에 설치되고 외측 단부에 보조 전류 가이드 홀이 설치되는 부분을 포함하고,
상기 인상 홀들 중 두 개는 상기 분류홈에서 상기 보조 전류 가이드 홀이 설치되는 부분의 양측에 설치되는 고주파 코일 인상 홀 배열체. - 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 인상 홀들은,
상기 고주파 코일의 중앙에 위치되는 중앙의 인상홀; 및
상기 중앙의 인상홀의 주위를 균일하게 에워싸는 외측 인상 홀을 포함하고,
상기 분류홈은,
상기 전류 전송 및 냉각수 전송 동관A와 상기 전류 전송 및 냉각수 전송 동관B 사이에서 내부 방향으로 연장되어 상기 중앙의 인상 홀에 연결되는 부분과,
상기 중앙의 인상 홀에서 외측 방향으로 연장되며, 상기 외측 인상 홀 사이에 설치되는 부분을 포함하는 고주파 코일 인상 홀 배열체. - 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 인상 홀들은,
상기 고주파 코일의 중앙에 위치되는 중앙의 인상홀; 및
상기 중앙의 인상홀의 주위를 균일하게 에워싸는 외측 인상 홀을 포함하고,
상기 분류홈은,
상기 전류 전송 및 냉각수 전송 동관A와 상기 전류 전송 및 냉각수 전송 동관B 사이에서 내부 방향으로 연장되어 상기 외측 인상 홀들 중의 하나에 연결되는 부분과,
상기 중앙의 인상홀과 상기 외측 인상 홀들을 연결하는 부분을 포함하는 고주파 코일 인상 홀 배열체. - 제 14 항에 있어서,
상기 외측 인상 홀들 사이에는 바벨 형상의 인상 구조가 제공되는 고주파 코일 인상 홀 배열체.
Applications Claiming Priority (31)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN2008101820534A CN101457390B (zh) | 2008-11-25 | 2008-11-25 | 可同时生产八根硅芯及其它晶体材料的高频线圈结构 |
| CN200810182058.7 | 2008-11-25 | ||
| CN200810182055.3 | 2008-11-25 | ||
| CN200810181998.4 | 2008-11-25 | ||
| CN 200810182052 CN101457389B (zh) | 2008-11-25 | 2008-11-25 | 可同时生产七根硅芯及其它晶体材料的高频线圈结构 |
| CN200810182000.2 | 2008-11-25 | ||
| CN2008101820568A CN101457393B (zh) | 2008-11-25 | 2008-11-25 | 可同时生产三根硅芯及其它晶体材料的高频线圈结构 |
| CN200810182057.2 | 2008-11-25 | ||
| CNA2008101820553A CN101457392A (zh) | 2008-11-25 | 2008-11-25 | 可同时生产五根硅芯及其它晶体材料的高频线圈结构 |
| CN2008101820572A CN101457394B (zh) | 2008-11-25 | 2008-11-25 | 可同时生产两根硅芯及其它晶体材料的高频线圈结构 |
| CN200810182054.9 | 2008-11-25 | ||
| CN2008101820549A CN101457391B (zh) | 2008-11-25 | 2008-11-25 | 可同时生产四根硅芯及其它晶体材料的高频线圈结构 |
| CN200810182053.4 | 2008-11-25 | ||
| CN2008101819999A CN101487137B (zh) | 2008-11-25 | 2008-11-25 | 可同时生产四根硅芯及其它晶体材料的高频线圈结构 |
| CN2008101820002A CN101457388B (zh) | 2008-11-25 | 2008-11-25 | 可同时生产两根硅芯及其它晶体材料的高频线圈结构 |
| CN2008101819984A CN101487136B (zh) | 2008-11-25 | 2008-11-25 | 可同时生产六根硅芯或其它晶体材料的高频线圈结构 |
| CN2008101820587A CN101457395B (zh) | 2008-11-25 | 2008-11-25 | 可同时生产三根硅芯及其它晶体材料的高频线圈结构 |
| CN200810181999.9 | 2008-11-25 | ||
| CN200810182052.X | 2008-11-25 | ||
| CN200810182056.8 | 2008-11-25 | ||
| CN200910064013.4 | 2009-01-06 | ||
| CN200910064012.X | 2009-01-06 | ||
| CN200910064012XA CN101570883B (zh) | 2009-01-06 | 2009-01-06 | 可以同时拉制十九根硅芯或其它晶体材料的高频线圈结构 |
| CN2009100640149A CN101570885B (zh) | 2009-01-06 | 2009-01-06 | 一次可同时拉制十三根硅芯或其它晶体材料的高频线圈 |
| CN200910064015.3 | 2009-01-06 | ||
| CN200910064014.9 | 2009-01-06 | ||
| CN2009100640134A CN101570884B (zh) | 2009-01-06 | 2009-01-06 | 一次可同时拉制十六根硅芯或其它晶体材料的高频线圈 |
| CN2009100640168A CN101570887B (zh) | 2009-01-06 | 2009-01-06 | 一种拉制十九根硅芯或其它晶体材料的高频线圈 |
| CN 200910064015 CN101570886B (zh) | 2009-01-06 | 2009-01-06 | 可以拉制二十二根硅芯或其它晶体材料的高频线圈结构 |
| CN200910064016.8 | 2009-01-06 | ||
| PCT/CN2009/074838 WO2010060349A1 (zh) | 2008-11-25 | 2009-11-06 | 制造多根硅芯的高频线圈拉制孔布局 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20110008306A KR20110008306A (ko) | 2011-01-26 |
| KR101324582B1 true KR101324582B1 (ko) | 2013-11-04 |
Family
ID=42225252
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020107026853A KR101324582B1 (ko) | 2008-11-25 | 2009-11-06 | 복수 개의 실리콘 코어를 제조하기 위한 고주파 코일 인상홀 배열체 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP2366814A4 (ko) |
| JP (1) | JP5313354B2 (ko) |
| KR (1) | KR101324582B1 (ko) |
| WO (1) | WO2010060349A1 (ko) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102009005837B4 (de) | 2009-01-21 | 2011-10-06 | Pv Silicon Forschungs Und Produktions Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Siliziumdünnstäben |
| WO2013040735A1 (zh) * | 2011-09-20 | 2013-03-28 | 洛阳金诺机械工程有限公司 | 可同时生产五根至十根硅芯的高频线圈拉制孔结构 |
| RU2507318C1 (ru) * | 2012-08-14 | 2014-02-20 | Закрытое Акционерное Общество "Валенсия" | Способ получения кремниевых филаментов произвольного сечения (варианты) |
Family Cites Families (30)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2428705A (en) * | 1945-09-06 | 1947-10-07 | Induction Heating Corp | Inductor for induction heating of objects of various sizes and shapes |
| US2714648A (en) * | 1951-06-02 | 1955-08-02 | Hartford Nat Bank & Trust Co | High frequency heating |
| BE789504A (fr) * | 1971-12-07 | 1973-01-15 | Siemens Ag | Bobine de chauffage par induction pour la fusion par zones sanscreuset de barreaux semiconducteurs |
| US4220839A (en) * | 1978-01-05 | 1980-09-02 | Topsil A/S | Induction heating coil for float zone melting of semiconductor rods |
| DE3805118A1 (de) * | 1988-02-18 | 1989-08-24 | Wacker Chemitronic | Verfahren zum tiegelfreien zonenziehen von halbleiterstaeben und induktionsheizspule zu seiner durchfuehrung |
| JP2006169060A (ja) * | 2004-12-17 | 2006-06-29 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 単結晶製造装置及び単結晶製造方法 |
| CN201001211Y (zh) * | 2007-01-19 | 2008-01-02 | 刘朝轩 | 一种可同时生产两根硅芯或其它晶体材料的高频线圈 |
| CN200996059Y (zh) * | 2007-01-19 | 2007-12-26 | 刘朝轩 | 一种一次可生产七根硅芯或其它晶体材料的高频线圈 |
| CN201001208Y (zh) * | 2007-01-19 | 2008-01-02 | 刘朝轩 | 可同时生产三根硅芯或其它晶体材料的高频线圈 |
| CN200996057Y (zh) * | 2007-01-19 | 2007-12-26 | 刘朝轩 | 一种四个内孔呈四方形排列的高频线圈 |
| CN200999269Y (zh) * | 2007-01-19 | 2008-01-02 | 刘朝轩 | 一种一次可生产六根硅芯或其它晶体材料的高频线圈 |
| CN200996058Y (zh) * | 2007-01-19 | 2007-12-26 | 刘朝轩 | 一种一次可生产五根硅芯或其它晶体材料的高频线圈 |
| CN200999270Y (zh) * | 2007-01-19 | 2008-01-02 | 刘朝轩 | 一种一次可生产三根硅芯或其它晶体材料的高频线圈 |
| CN201001209Y (zh) * | 2007-01-19 | 2008-01-02 | 刘朝轩 | 一种一次可生产四根硅芯或其它晶体材料的高频线圈 |
| CN201022424Y (zh) * | 2007-04-30 | 2008-02-20 | 王雯静 | 带存水罩的雨伞 |
| CN101457398B (zh) * | 2007-12-11 | 2012-08-22 | 中国科学院福建物质结构研究所 | 双掺镱钠离子钼酸锶激光晶体及其制备方法 |
| CN101570886B (zh) * | 2009-01-06 | 2012-08-29 | 洛阳金诺机械工程有限公司 | 可以拉制二十二根硅芯或其它晶体材料的高频线圈结构 |
| CN101457395B (zh) * | 2008-11-25 | 2011-07-27 | 刘朝轩 | 可同时生产三根硅芯及其它晶体材料的高频线圈结构 |
| CN101487137B (zh) * | 2008-11-25 | 2011-06-29 | 刘朝轩 | 可同时生产四根硅芯及其它晶体材料的高频线圈结构 |
| CN101457390B (zh) * | 2008-11-25 | 2011-06-29 | 刘朝轩 | 可同时生产八根硅芯及其它晶体材料的高频线圈结构 |
| CN101457391B (zh) * | 2008-11-25 | 2011-06-22 | 刘朝轩 | 可同时生产四根硅芯及其它晶体材料的高频线圈结构 |
| CN101570883B (zh) * | 2009-01-06 | 2011-06-29 | 刘朝轩 | 可以同时拉制十九根硅芯或其它晶体材料的高频线圈结构 |
| CN101457393B (zh) * | 2008-11-25 | 2010-11-17 | 刘朝轩 | 可同时生产三根硅芯及其它晶体材料的高频线圈结构 |
| CN101570884B (zh) * | 2009-01-06 | 2011-06-29 | 刘朝轩 | 一次可同时拉制十六根硅芯或其它晶体材料的高频线圈 |
| CN101570885B (zh) * | 2009-01-06 | 2012-02-08 | 洛阳金诺机械工程有限公司 | 一次可同时拉制十三根硅芯或其它晶体材料的高频线圈 |
| CN101487136B (zh) * | 2008-11-25 | 2011-04-13 | 刘朝轩 | 可同时生产六根硅芯或其它晶体材料的高频线圈结构 |
| CN101457394B (zh) * | 2008-11-25 | 2011-06-29 | 刘朝轩 | 可同时生产两根硅芯及其它晶体材料的高频线圈结构 |
| CN101457392A (zh) * | 2008-11-25 | 2009-06-17 | 刘朝轩 | 可同时生产五根硅芯及其它晶体材料的高频线圈结构 |
| CN101570887B (zh) * | 2009-01-06 | 2011-04-06 | 刘朝轩 | 一种拉制十九根硅芯或其它晶体材料的高频线圈 |
| CN101457388B (zh) * | 2008-11-25 | 2011-06-29 | 刘朝轩 | 可同时生产两根硅芯及其它晶体材料的高频线圈结构 |
-
2009
- 2009-11-06 JP JP2011529439A patent/JP5313354B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2009-11-06 EP EP09828609.9A patent/EP2366814A4/en not_active Withdrawn
- 2009-11-06 WO PCT/CN2009/074838 patent/WO2010060349A1/zh active Application Filing
- 2009-11-06 KR KR1020107026853A patent/KR101324582B1/ko active IP Right Grant
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20110008306A (ko) | 2011-01-26 |
| WO2010060349A1 (zh) | 2010-06-03 |
| JP5313354B2 (ja) | 2013-10-09 |
| EP2366814A1 (en) | 2011-09-21 |
| JP2012504098A (ja) | 2012-02-16 |
| EP2366814A4 (en) | 2014-03-19 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| N231 | Notification of change of applicant | ||
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| GRNT | Written decision to grant | ||
| FPAY | Annual fee payment |
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|
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Payment date: 20181024 Year of fee payment: 6 |
|
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Payment date: 20190926 Year of fee payment: 7 |