WO2009142152A1 - 非検査領域制限検証方法及び修正方法、プログラム並びに装置 - Google Patents

非検査領域制限検証方法及び修正方法、プログラム並びに装置 Download PDF

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    • G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
    • G01N2021/95676—Masks, reticles, shadow masks

Definitions

  • the present invention relates to a technique for verifying a restriction related to a non-inspection area of a mask defect inspection apparatus and correcting a non-inspection area violating the restriction.
  • a pseudo defect is generated by a trade-off with calibration (for example, refer to [0018] of Patent Document 1).
  • the pseudo defect means a defect determined by the mask defect inspection apparatus as a non-defect.
  • circuit design is performed at a manufacturable level, and calibration is performed by a mask defect inspection apparatus so that a pseudo defect does not occur in the circuit design performed at the important manufacturable level.
  • a pattern exceeding the process limit may be included in the photomask.
  • Such a pattern abnormally deteriorates the fidelity of the pattern, and does not match the calibration, resulting in a pseudo defect.
  • the mask defect inspection system stops when the number of pseudo defects is extremely large. Therefore, non-inspection is performed in order to find a place where the pseudo defects are likely to occur by using MRC (Mask Rule Check) and to exclude them from the inspection range.
  • MRC Mesk Rule Check
  • Set the area (DNIR: Do Not Inspection Region).
  • the shape of the non-inspection area is a quadrangle.
  • Non-Patent Document 1 When a plurality of non-inspection areas are set, it is necessary to satisfy the following non-inspection area setting restrictions 1 to 5 (see Non-Patent Document 1).
  • the minimum DNIR size is 1 pixel. This pixel is a unit of a mask defect inspection apparatus. Depending on the apparatus or setting, the length of one pixel may be 125 nm, 90 nm, 72 nm, or the like. The length of one pixel is also called the pixel size.
  • DNIRs may overlap each other. Further, the overlapping area may be as small as possible.
  • the DNIRs may be in contact with each other at the edge.
  • the DNIRs must be at least 128 pixels apart if they are not touching at the overlap or edge, ie, if the distance is not zero.
  • ⁇ It is desirable that the non-inspection area of the mask defect inspection apparatus is small.
  • the setting of the non-inspection area can only be expressed by a rectangle.
  • the photomask is as shown in FIG. 14, setting a non-inspection area as shown in FIG. 15 is easy to set, but the area to be inspected is also not inspected.
  • it can be solved by setting as shown in FIG. 16 in order to reduce the non-inspection area, it is necessary to observe the above-described non-inspection area setting restriction.
  • a plurality of non-inspection areas as shown in FIG. 16 are required in the photomask, it is impossible for the operator to check for non-inspection area setting restriction violations without operating the mask defect inspection apparatus.
  • an object of the present invention is to enable a mask defect inspection apparatus to suitably perform a photomask defect inspection process by using the corrected non-inspection area information.
  • one aspect of the present invention employs the following: non-inspection area information including information specifying each of a plurality of non-inspection areas and a pixel indicating the length of one pixel Storing a size; calculating a size of each of the non-inspection regions with reference to the non-inspection region information, and determining a size of each of the non-inspection regions with reference to the pixel size.
  • a minimum size inspection step for inspecting whether the restriction that the unit is not less than the minimum size is observed; and referring to the non-inspection area information and the pixel size, the distance between all the non-inspection areas is determined.
  • a non-inspection area that includes a distance inspection step that calculates and inspects whether the restriction that the inter-area distance is equal to or greater than a predetermined distance is observed when the inter-area distance is greater than zero. Limited verification method.
  • the above non-inspection area restriction verification method may be executed as follows: If a restriction violation is found in the distance inspection process, one of a set of non-inspection areas in violation of the restriction A non-inspection region is further corrected so that the sides of the set of non-inspection regions are in contact with each other.
  • the non-inspection area restriction verification method described above may be executed as follows: In the correction step, the shorter side of the set of non-inspection area sides is changed to the longer side. Move to the position where it touches.
  • one aspect of the present invention employs the following: non-inspection area information including information specifying each of a plurality of non-inspection areas and a pixel indicating the length of one pixel
  • a storage routine for storing a size; calculating a size of each of the non-inspection areas with reference to the non-inspection area information; and determining a size of each of the non-inspection areas with reference to the pixel size.
  • a minimum size inspection routine for inspecting whether the restriction that the unit is not less than the minimum size is observed; and referring to the non-inspection area information and the pixel size, the distance between all the non-inspection areas is determined.
  • a distance inspection routine for calculating and inspecting whether the restriction that the distance between the areas is equal to or greater than a predetermined distance is observed when the distance between the areas is greater than 0; Non-inspection area limit verification program for causing.
  • the above-mentioned non-inspection area restriction verification program may be configured as follows: When a violation of restriction is found in the distance inspection routine, any of a set of non-inspection areas that violate the restriction And a correction routine for correcting the non-inspection areas of the pair so that the sides of the set of non-inspection areas are in contact with each other.
  • the non-inspection area restriction verification program may be configured as follows: In the correction routine, the shorter side of the set of non-inspection area sides is changed to the longer side. Move to the position where it touches.
  • one aspect of the present invention employs the following: non-inspection area information including information specifying each of a plurality of non-inspection areas and a pixel indicating the length of one pixel
  • a storage member for storing a size; calculating a size of each of the non-inspection areas with reference to the non-inspection area information; and determining a size of each of the non-inspection areas with reference to the pixel size.
  • a minimum size inspection member for inspecting whether the restriction that the unit is not less than the minimum size is observed; and referring to the non-inspection area information and the pixel size, the distance between all the non-inspection areas is determined.
  • a non-inspection region that includes a distance inspection member that calculates and inspects whether the restriction that the inter-region distance is equal to or greater than a predetermined distance is observed when the inter-region distance is greater than zero. Limited verification device.
  • the non-inspection area restriction verification device described above may be configured as follows: when a violation of restriction is found in the distance inspection member, any of a set of non-inspection areas that violate the restriction The non-inspection area is further modified so that the sides of the set of non-inspection areas are in contact with each other.
  • the non-inspection area restriction verification apparatus may be configured as follows: the correction member is configured such that the shorter side of the pair of non-inspection areas is the longer side. Move to the position where it touches.
  • the inventions of (1), (4), and (7) above can analyze the non-inspection area information of the mask defect inspection apparatus and verify whether there is a non-inspection area setting restriction violation without operating the mask defect inspection apparatus. There is an effect.
  • the mask defect inspection apparatus can be suitably used by using the corrected non-inspection area information. There is an effect that a photomask defect inspection process can be performed.
  • the inventions (3), (6), and (9) have the effect of minimizing the increase in the area of the non-inspection area at the time of correction.
  • FIG. 1 is a diagram illustrating an example of setting a plurality of non-inspection areas.
  • FIG. 2 is a diagram illustrating an example of non-inspection area information in a plurality of non-inspection area setting examples illustrated in FIG. 1.
  • FIG. 3 is a flowchart showing the overall flow of the non-inspection area restriction verification method and non-inspection area correction method of the mask defect inspection apparatus according to this embodiment.
  • FIG. 4 is a flowchart showing a detailed flow of the “minimum size check” in step 1.
  • FIG. 5 is a flowchart showing a detailed flow of “distance check” in step 2.
  • FIG. 6 is a diagram showing a figure in which the non-inspection area is enlarged by 128 pixels on one side.
  • FIG. 6 is a diagram showing a figure in which the non-inspection area is enlarged by 128 pixels on one side.
  • FIG. 7 is a diagram illustrating a region in the enlarged graphic located below the upper side of the enlarged graphic and above the upper side of the non-inspection area.
  • FIG. 8 is a diagram showing a region in the enlarged graphic located above the lower side of the enlarged graphic and below the lower side of the non-inspection area.
  • FIG. 9 is a diagram showing an area in the enlarged graphic located on the right side of the left side of the enlarged graphic and on the left side of the left side of the non-inspection area.
  • FIG. 10 is a diagram showing an area in the enlarged graphic located on the left side of the right side of the enlarged graphic and on the right side of the right side of the non-inspection area.
  • FIG. 11 is a diagram when the non-contact area A in FIG.
  • FIG. 12 is a diagram showing an example of correction of the non-inspection area shown in FIG.
  • FIG. 13 is a diagram showing the non-inspection area information shown in FIG. 2 updated by correcting the non-inspection area shown in FIG.
  • FIG. 14 is a diagram illustrating an example of a photomask.
  • FIG. 15 is a diagram illustrating an example of setting a non-inspection area.
  • FIG. 16 is a diagram illustrating an example of setting a non-inspection area.
  • the non-inspection area information is an array having the XY coordinates of the lower left vertex and the XY coordinates of the upper right vertex of each set non-inspection area as elements. Since the non-inspection area is a rectangle, the non-inspection area is specified by the XY coordinates of the lower left vertex and the XY coordinates of the upper right vertex of the non-inspection area.
  • the non-inspection area information becomes, for example, an array shown in FIG.
  • the X coordinate of the lower left vertex, the Y coordinate of the lower left vertex, the X coordinate of the upper right vertex, and the Y coordinate of the upper right vertex referred to by indexes 1 to 3, respectively, are the lower left vertex of the non-inspection areas A to C.
  • the non-inspection area information and the pixel size used in the mask defect inspection apparatus are stored in advance in the memory.
  • a minimum size check is performed as step 1 and a distance check is performed as step 2 as shown in the flowchart of FIG.
  • Step 11 First, from the non-inspection area information, the XY coordinates of the lower left vertex and the XY coordinates of the upper right inspection area of each non-inspection area are read, and the horizontal width and vertical width are calculated.
  • Step 12 Next, it is checked whether each of the non-inspection area has a width of 1 pixel or more depending on the pixel size used in the mask defect inspection apparatus.
  • the first index is the index
  • the non-inspection area in which the XY coordinates of the lower left vertex and the XY coordinates of the upper right vertex are referred to by the index is the non-inspection area.
  • Step 22 Based on the index, the XY coordinates of the lower left vertex and the XY coordinates of the upper right vertex of the non-inspection area are read from the non-inspection area information.
  • the pixel size as shown in FIG. 6, by subtracting 128 pixels from the XY coordinates of the lower left vertex of the non-inspection area 1 and adding 128 pixels to the XY coordinates of the upper right vertex, A figure 2 is created by enlarging the non-inspection area 1 by 128 pixels on one side.
  • Step 23 Referring to the non-inspection area information, as shown in FIG. 7, the non-inspection area information in the area 3 in the enlarged figure 2 located below the upper side of the enlarged figure 2 and above the upper side of the non-inspection area 1 It is checked that the restriction that the lower side of another non-inspection area different from the inspection area 1 is not included is satisfied.
  • Step 24 With reference to the non-inspection area information, as shown in FIG. 8, the non-inspection area information in the area 4 in the enlarged figure 2 located above the lower side of the enlarged figure 2 and below the lower side of the non-inspection area 1 It is checked that the restriction that the upper side of another non-inspection area different from the inspection area 1 is not included is satisfied.
  • Step 25 With reference to the non-inspection area information, as shown in FIG. 9, the non-inspection area 5 in the enlarged figure 2 located on the right side of the left side of the enlarged figure 2 and on the left side of the left side of the non-inspection area 1 It is checked that the right side of another non-inspection area different from area 1 is not included.
  • Step 26 Referring to the non-inspection area information, as shown in FIG. 10, the non-inspection area 6 in the enlarged figure 2 located on the left side of the right side of the enlarged figure 2 and on the right side of the right side of the non-inspection area 1 It is checked that the left side of another non-inspection area different from area 1 is not included.
  • Step 27 If the checks in steps 23-26 reveal that any one or more of the restrictions are not met, go to step 28; On the other hand, if it is determined by the checks in steps 23 to 26 that all restrictions are satisfied, the process proceeds to step 30.
  • Step 28 For the non-inspection area and other non-inspection areas that are combinations that do not satisfy the restriction, the side of the non-inspection area and the other non-inspection area are connected, and the non-inspection area or other non-inspection area is Correct it. At this time, the short side is connected to the long side to minimize the increase in the area upon correction.
  • the increase in the area of the non-inspection area A is smaller than the increase in the area of the non-inspection area C when the lower side of the non-inspection area C is extended downward and connected to the upper side of the non-inspection area A.
  • the increase in area upon correction is minimized.
  • Step 29 In the non-inspection area information, the XY coordinates of the lower left vertex and the XY coordinates of the upper right vertex of the non-inspection area to be corrected are updated with the XY coordinates of the lower left vertex and the XY coordinates of the upper right vertex after correction.
  • FIG. 13 shows an update of the non-inspection area information shown in FIG. 2 by correcting the non-inspection area shown in FIG.
  • Step 30 If the index is the last index, go to END, If the index is not the last index, the process proceeds to step 31.
  • Step 31 The index next to the index is newly set as the index, and the non-inspection area in which the XY coordinate of the lower left vertex and the XY coordinate of the upper right vertex are referred to by the new index is newly set as the non-inspection area, and the process returns to step 22.
  • Non-inspection area B ... Non-inspection area C ... Non-inspection area 1 ... Non-inspection area 2 ... Figure 3 in which the non-inspection area is enlarged by 128 pixels on one side
  • An area 4 in the enlarged figure located below the upper side of the enlarged figure and above the upper side of the non-inspection area 1 ... located above the lower side of the enlarged figure and below the lower side of the non-inspection area
  • the area 6 in the enlarged figure located on the right side of the left side of the enlarged figure and the left side of the non-inspection area 6 ...
  • the left side of the enlarged figure and the non-right side The area in the enlarged figure located on the right side of the right side of the inspection area

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Abstract

　複数の非検査領域のそれぞれを特定する情報を含む非検査領域情報と１ピクセルの長さを示すピクセルサイズとを記憶する記憶工程と；前記非検査領域情報を参照して個々の前記非検査領域の大きさを算出し、前記ピクセルサイズを参照して個々の前記非検査領域の大きさが前記ピクセル単位で最小サイズ以上であるという制限が守られているかを検査する最小サイズ検査工程と；前記非検査領域情報と前記ピクセルサイズとを参照して、全ての前記非検査領域同士で互いの距離を算出し、前記領域間距離が０よりも大きい場合は前記領域間距離が所定距離以上であるという制限が守られているかを検査する距離検査工程と；を含むことを特徴とする非検査領域制限検証方法。

Description

非検査領域制限検証方法及び修正方法、プログラム並びに装置
　本発明は、マスク欠陥検査装置の非検査領域に係る制限を検証し、制限違反の非検査領域を修正する技術に関する。
　本願は、２００８年５月２２日に、日本に出願された特願２００８－１３４１７３号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
　一般に、光リソグラフィ用のフォトマスクの欠陥をマスク欠陥検査装置で検査すると、キャリブレーションとのトレードオフで、擬似欠陥が発生する（例えば特許文献１の［００１８］参照）。ここで、擬似欠陥とは、欠陥でないものを欠陥とマスク欠陥検査装置が判定したものを云う。
　通常、製造可能なレベルで回路設計が行なわれ、その重要な製造可能なレベルで回路設計が行なわれた部分では、擬似欠陥が発生しないようにマスク欠陥検査装置でキャリブレーションを行う。
　しかしながら何かのプロセス限界等を評価するためにプロセス限界以上のパターンがフォトマスクに含まれる場合がある。そのようなパターンは、パターンの忠実度が異常に悪くなり、キャリブレーションとは合わずに擬似欠陥となる。
　そして、この擬似欠陥が極めて多いとマスク欠陥検査装置がストップするので、この擬似欠陥が多発するであろう箇所をＭＲＣ（Ｍａｓｋ　Ｒｕｌｅ　Ｃｈｅｃｋ）で見つけ出し、そこを検査範囲から除外するために、非検査領域（ＤＮＩＲ：Ｄｏ　Ｎｏｔ　Ｉｎｓｐｅｃｔｉｏｎ　Ｒｅｇｉｏｎ）を設定する。非検査領域の形状は、四角形である。
　ところで、非検査領域を複数設定する場合、以下の１～５に示す非検査領域設定制限を満たす必要がある（非特許文献１参照）。
　１．最小のＤＮＩＲのサイズは１ピクセルである。このピクセルはマスク欠陥検査装置の単位で、装置または設定により、１ピクセルの長さは、１２５ｎｍ、９０ｎｍ、７２ｎｍなどがある。１ピクセルの長さを、ピクセルサイズとも云う。
　２．ＤＮＩＲの数に制限はない。
　３．ＤＮＩＲ同士はオーバーラップしていても良い。また、その重なり合っている面積は、どんなに小さくても良い。
　４．ＤＮＩＲ同士はエッジで接触していても良い。
　５．ＤＮＩＲ同士は、オーバーラップ或いはエッジで接触していなければ、すなわち距離が零でなければ、少なくとも１２８ピクセル以上離なれていなければならない。
　非検査領域を複数設定した場合、非検査領域設定制限に違反があれば、マスク欠陥検査装置を稼動させると、非検査領域設定制限エラーとなる。
　マスク欠陥検査装置の非検査領域は小さい方が望ましい。但し非検査領域の設定は四角形でしか表現できない。例えば、フォトマスクが図１４のような場合、図１５のように非検査領域を設定すると、設定が簡単であるが、検査したい領域も非検査となる。非検査領域を小さくするために図１６のように設定すると解決可能であるが、上記の非検査領域設定制限を守る必要がある。フォトマスク内に図１６のような非検査領域が複数必要な場合、マスク欠陥検査装置を稼動させることなく、非検査領域設定制限違反の有無を操作者がチェックすることは不可能であった。
特開２００４－１９１２９７号公報
Ｗａｙｎｅ　Ｒｕｃｈ，Ｒｕｌｅｓ　ｆｏｒ　ＤＮＩＲ　Ｐｌａｃｅｍｅｎｔ　ｉｎ　ＴＥＲＡ　Ｆｏｒｍａｔ　Ｄａｔａｂａｓｅ　ＳＬＦ　Ｓｅｒｉｅｓ　ａｎｄ　５ＸＸ　Ｓｅｒｉｅｓ，"Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ　Ｎｏｔｅ"，ＵＳＡ，ＫＬＡ－Ｔｅｎｃｏｒ　Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ，０２－Ａｕｇ－２００２，ＡＮ４０８４，ｐ．２
　本発明は斯かる背景技術に鑑みてなされたもので、マスク欠陥検査装置の非検査領域情報を解析することで、マスク欠陥検査装置を稼動させることなく、非検査領域設定制限違反の有無を検証でき、さらに修正された非検査領域情報を使うことで好適にマスク欠陥検査装置でフォトマスク欠陥検査工程を実施できるようにすることを課題とする。
（１）　上記課題を解決するために、本発明の一つの態様は、以下を採用する：複数の非検査領域のそれぞれを特定する情報を含む非検査領域情報と１ピクセルの長さを示すピクセルサイズとを記憶する記憶工程と；前記非検査領域情報を参照して個々の前記非検査領域の大きさを算出し、前記ピクセルサイズを参照して個々の前記非検査領域の大きさが前記ピクセル単位で最小サイズ以上であるという制限が守られているかを検査する最小サイズ検査工程と；前記非検査領域情報と前記ピクセルサイズとを参照して、全ての前記非検査領域同士で互いの距離を算出し、前記領域間距離が０よりも大きい場合は前記領域間距離が所定距離以上であるという制限が守られているかを検査する距離検査工程と；を含むことを特徴とする非検査領域制限検証方法。
（２）　上記の非検査領域制限検証方法は、以下のように実行してもよい：前記距離検査工程で制限の違反が判明した場合、制限に違反する一組の非検査領域のうち何れかの非検査領域を修正し、前記一組の非検査領域の辺同士が接するようにする修正工程をさらに含む。
（３）　上記の非検査領域制限検証方法は、以下のように実行してもよい：前記修正工程で、前記一組の非検査領域の辺のうち、短い方の辺を長い方の辺に接する位置に移動させる。
（４）　上記課題を解決するために、本発明の一つの態様は、以下を採用する：複数の非検査領域のそれぞれを特定する情報を含む非検査領域情報と１ピクセルの長さを示すピクセルサイズとを記憶する記憶ルーチンと；前記非検査領域情報を参照して個々の前記非検査領域の大きさを算出し、前記ピクセルサイズを参照して個々の前記非検査領域の大きさが前記ピクセル単位で最小サイズ以上であるという制限が守られているかを検査する最小サイズ検査ルーチンと；前記非検査領域情報と前記ピクセルサイズとを参照して、全ての前記非検査領域同士で互いの距離を算出し、前記領域間距離が０よりも大きい場合は前記領域間距離が所定距離以上であるという制限が守られているかを検査する距離検査ルーチンと；をコンピュータに実行させることを特徴とする非検査領域制限検証プログラム。
（５）　上記の非検査領域制限検証プログラムは、以下のように構成してもよい：前記距離検査ルーチンで制限の違反が判明した場合、制限に違反する一組の非検査領域のうち何れかの非検査領域を修正し、前記一組の非検査領域の辺同士が接するようにする修正ルーチンをさらに含む。
（６）　上記の非検査領域制限検証プログラムは、以下のように構成してもよい：前記修正ルーチンで、前記一組の非検査領域の辺のうち、短い方の辺を長い方の辺に接する位置に移動させる。
（７）　上記課題を解決するために、本発明の一つの態様は、以下を採用する：複数の非検査領域のそれぞれを特定する情報を含む非検査領域情報と１ピクセルの長さを示すピクセルサイズとを記憶する記憶部材と；前記非検査領域情報を参照して個々の前記非検査領域の大きさを算出し、前記ピクセルサイズを参照して個々の前記非検査領域の大きさが前記ピクセル単位で最小サイズ以上であるという制限が守られているかを検査する最小サイズ検査部材と；前記非検査領域情報と前記ピクセルサイズとを参照して、全ての前記非検査領域同士で互いの距離を算出し、前記領域間距離が０よりも大きい場合は前記領域間距離が所定距離以上であるという制限が守られているかを検査する距離検査部材と；を含むことを特徴とする非検査領域制限検証装置。
（８）　上記の非検査領域制限検証装置は、以下のように構成してもよい：前記距離検査部材で制限の違反が判明した場合、制限に違反する一組の非検査領域のうち何れかの非検査領域を修正し、前記一組の非検査領域の辺同士が接するようにする修正部材をさらに含む。
（９）　上記の非検査領域制限検証装置は、以下のように構成してもよい：前記修正部材は、前記一組の非検査領域の辺のうち、短い方の辺を長い方の辺に接する位置に移動させる。
　上記（１）（４）（７）の発明は、マスク欠陥検査装置の非検査領域情報を解析することで、マスク欠陥検査装置を稼動させることなく、非検査領域設定制限違反の有無を検証できるという効果がある。
　上記（２）（５）（８）の発明は、非検査領域設定違反を無くすように非検査領域情報を修正するので、修正された非検査領域情報を使うことで好適にマスク欠陥検査装置でフォトマスク欠陥検査工程を実施できるという効果がある。
　上記（３）（６）（９）の発明は、修正時の非検査領域の面積の増大を最小にするという効果がある。
図１は、非検査領域の複数設定の例を示す図である。 図２は、図１に示す非検査領域の複数設定例における非検査領域情報の例を示す図である。 図３は、本実施形態におけるマスク欠陥検査装置の非検査領域制限検証方法及び非検査領域修正方法の全体の流れを示すフローチャートである。 図４は、ステップ１の『最小サイズチェック』の詳細な流れを示すフローチャートである。 図５は、ステップ２の『距離チェック』の詳細な流れを示すフローチャートである。 図６は、当該非検査領域を片側１２８ピクセル分だけ拡大した図形を示す図である。 図７は、拡大した図形の上辺より下側かつ当該非検査領域の上辺より上側に位置する拡大した図形内の領域を示す図である。 図８は、拡大した図形の下辺より上側かつ当該非検査領域の下辺より下側に位置する拡大した図形内の領域を示す図である。 図９は、拡大した図形の左辺より右側かつ当該非検査領域の左辺より左側に位置する拡大した図形内の領域を示す図である。 図１０は、拡大した図形の右辺より左側かつ当該非検査領域の右辺より右側に位置する拡大した図形内の領域を示す図である。 図１１は、図１において非接触領域Ａを片側１２８ピクセル分だけ拡大したときの図である。 図１２は、図１に示す非検査領域の修正の例を示す図である。 図１３は、図１２に示す非検査領域の修正により図２に示す非検査領域情報を更新したものを示す図である。 図１４は、フォトマスクの例を示す図である。 図１５は、非検査領域の設定例を示す図である。 図１６は、非検査領域の設定例を示す図である。
　以下に、本発明の一実施形態を説明する。
　本実施形態では、非検査領域情報は、設定された個々の非検査領域の左下頂点のＸＹ座標と右上頂点のＸＹ座標とを要素に持つ配列である。非検査領域は四角形なので、この非検査領域の左下頂点のＸＹ座標と右上頂点のＸＹ座標とで、この非検査領域が特定される。
　例えば、図１に示すように、非検査領域Ａ～Ｃが設定された場合、非検査領域情報は、例えば、図２に示す配列になる。図２において、インデックス１～３で参照される、左下頂点のＸ座標、左下頂点のＹ座標、右上頂点のＸ座標、右上頂点のＹ座標は、それぞれ、非検査領域Ａ～Ｃの、左下頂点のＸ座標、左下頂点のＹ座標、右上頂点のＸ座標、右上頂点のＹ座標である。
　この非検査領域情報と、マスク欠陥検査装置で用いるピクセルサイズとは、予めメモリに記憶される。
　この非検査領域情報と、このマスク欠陥検査装置で用いるピクセルサイズとにより、図３のフローチャートに示すように、ステップ１として最小サイズチェックを行い、ステップ２として距離チェックを行う。
　以下に、ステップ１の『最小サイズチェック』の詳細な流れを、図４のフローチャートに従って説明する。
　ステップ１１；
　まず、非検査領域情報から、各非検査領域の左下頂点のＸＹ座標と右上検査領域のＸＹ座標とを読み出し、それぞれの横幅と縦幅とを算出する。
　ステップ１２；
　次に、マスク欠陥検査装置で用いるピクセルサイズにより、各非検査領域の横幅と縦幅のそれぞれが１ピクセル以上の幅になっているか否かをチェックする。
　以下に、ステップ２の『距離チェック』の詳細な流れを、図５のフローチャートに従って説明する。
　ステップ２１；
　最初のインデックスを当該インデックスとし、当該インデックスで左下頂点のＸＹ座標と右上頂点のＸＹ座標とが参照される非検査領域を当該非検査領域とする。
　ステップ２２；
　当該インデックスにより非検査領域情報から当該非検査領域の左下頂点のＸＹ座標と右上頂点のＸＹ座標とを読み出す。ピクセルサイズを参照して、図６に示すように、当該非検査領域１の左下頂点のＸＹ座標から、それぞれ１２８ピクセル分減算し、右上頂点のＸＹ座標に、それぞれ１２８ピクセル分加算することにより、当該非検査領域１を片側１２８ピクセル分だけ拡大した図形２を作成する。
　ステップ２３；
　非検査領域情報を参照して、図７に示すように、拡大した図形２の上辺より下側かつ当該非検査領域１の上辺より上側に位置する拡大した図形２内の領域３に、当該非検査領域１とは異なる他の非検査領域の下辺が含まれていないという制限を満たすことをチェックする。
　ステップ２４；
　非検査領域情報を参照して、図８に示すように、拡大した図形２の下辺より上側かつ当該非検査領域１の下辺より下側に位置する拡大した図形２内の領域４に、当該非検査領域１とは異なる他の非検査領域の上辺が含まれていないという制限を満たすことをチェックする。
　ステップ２５；
　非検査領域情報を参照して、図９に示すように、拡大した図形２の左辺より右側かつ当該非検査領域１の左辺より左側に位置する拡大した図形２内の領域５に、当該非検査領域１とは異なる他の非検査領域の右辺が含まれていないという制限を満たすことをチェックする。
　ステップ２６；
　非検査領域情報を参照して、図１０に示すように、拡大した図形２の右辺より左側かつ当該非検査領域１の右辺より右側に位置する拡大した図形２内の領域６に、当該非検査領域１とは異なる他の非検査領域の左辺が含まれていないという制限を満たすことをチェックする。
　ステップ２７；
　ステップ２３～２６のチェックにより何れか１つ以上の制限を満たさないことが判明した場合、ステップ２８に進み、
　他方、ステップ２３～２６のチェックにより全ての制限を満たすことが判明した場合、ステップ３０に進む。
　ステップ２８；
　制限を満たさない組み合わせである当該非検査領域と他の非検査領域とについて、当該非検査領域の辺と他の非検査領域の辺とを繋げて、当該非検査領域又は他の非検査領域を修正する。この際、短い辺を、長い辺に繋げて、修正した際の面積の増大を最小にする。
　例えば、図１において当該非検査領域として非検査領域Ａを片側１２８ピクセル分だけ拡大したとき図１１に示す図形（領域Ａ‘とする）になった場合を考える。領域Ａ‘の上辺より下側かつ非検査領域Ａの上辺より上側に位置する領域Ａ‘内の領域に、非検査領域Ｃの下辺が含まれている。この場合、非検査領域Ａの上辺は、非検査領域Ｃの下辺よりも短いので、図１２に示すように、非検査領域Ａの上辺からこの領域を上方に延長し、非検査領域Ｃの下辺に繋ぐ。こうすることにより、非検査領域Ａの面積の増大は、非検査領域Ｃの下辺を下方に延長して、非検査領域Ａの上辺に繋いだときの非検査領域Ｃの面積の増大よりも小さくなるので、修正した際の面積の増大が最小になる。
　ステップ２９；
　非検査領域情報において、修正されるべき非検査領域の修正前の左下頂点のＸＹ座標と右上頂点のＸＹ座標とを、修正後の左下頂点のＸＹ座標と右上頂点のＸＹ座標とで更新する。
　例として、図１２に示す非検査領域の修正により図２に示す非検査領域情報を更新したものを、図１３に示す。
　ステップ３０；
　当該インデックスが最後のインデックスである場合、ＥＮＤに進み、
　当該インデックスが最後のインデックスでない場合、ステップ３１に進む。
　ステップ３１；
　当該インデックスの次のインデックスを新たに当該インデックスとし、新しい当該インデックスで左下頂点のＸＹ座標と右上頂点のＸＹ座標とが参照される非検査領域を新たに当該非検査領域として、ステップ２２に戻る。
　本願の発明は、マスク欠陥検査装置の非検査領域情報を解析することで、マスク欠陥検査装置を稼動させることなく、非検査領域設定制限違反の有無を検証できるという効果がある。
Ａ・・・非検査領域
Ｂ・・・非検査領域
Ｃ・・・非検査領域
１・・・当該非検査領域
２・・・当該非検査領域を片側１２８ピクセル分だけ拡大した図形
３・・・拡大した図形の上辺より下側かつ当該非検査領域１の上辺より上側に位置する拡大した図形内の領域
４・・・拡大した図形の下辺より上側かつ当該非検査領域の下辺より下側に位置する拡大した図形内の領域
５・・・拡大した図形の左辺より右側かつ当該非検査領域の左辺より左側に位置する拡大した図形内の領域
６・・・拡大した図形の右辺より左側かつ当該非検査領域の右辺より右側に位置する拡大した図形内の領域

Claims (9)

  1. 　複数の非検査領域のそれぞれを特定する情報を含む非検査領域情報と１ピクセルの長さを示すピクセルサイズとを記憶する記憶工程と；
    　前記非検査領域情報を参照して個々の前記非検査領域の大きさを算出し、前記ピクセルサイズを参照して個々の前記非検査領域の大きさが前記ピクセル単位で最小サイズ以上であるという制限が守られているかを検査する最小サイズ検査工程と；
    　前記非検査領域情報と前記ピクセルサイズとを参照して、全ての前記非検査領域同士で互いの距離を算出し、前記領域間距離が０よりも大きい場合は前記領域間距離が所定距離以上であるという制限が守られているかを検査する距離検査工程と；を含むことを特徴とする非検査領域制限検証方法。
  2. 　請求項１記載の非検査領域制限検証方法であって、
    　前記距離検査工程で制限の違反が判明した場合、制限に違反する一組の非検査領域のうち何れかの非検査領域を修正し、前記一組の非検査領域の辺同士が接するようにする修正工程をさらに含むことを特徴とする非検査領域制限検証方法。
  3. 　請求項２記載の非検査領域制限検証方法であって、
    　前記修正工程で、前記一組の非検査領域の辺のうち、短い方の辺を長い方の辺に接する位置に移動させることを特徴とする非検査領域制限検証方法。
  4. 　複数の非検査領域のそれぞれを特定する情報を含む非検査領域情報と１ピクセルの長さを示すピクセルサイズとを記憶する記憶ルーチンと；
    　前記非検査領域情報を参照して個々の前記非検査領域の大きさを算出し、前記ピクセルサイズを参照して個々の前記非検査領域の大きさが前記ピクセル単位で最小サイズ以上であるという制限が守られているかを検査する最小サイズ検査ルーチンと；
    　前記非検査領域情報と前記ピクセルサイズとを参照して、全ての前記非検査領域同士で互いの距離を算出し、前記領域間距離が０よりも大きい場合は前記領域間距離が所定距離以上であるという制限が守られているかを検査する距離検査ルーチンと；をコンピュータに実行させることを特徴とする非検査領域制限検証プログラム。
  5. 　請求項４記載の非検査領域制限検証プログラムであって、
    　前記距離検査ルーチンで制限の違反が判明した場合、制限に違反する一組の非検査領域のうち何れかの非検査領域を修正し、前記一組の非検査領域の辺同士が接するようにする修正ルーチンをさらに含むことを特徴とする非検査領域検証プログラム。
  6. 　請求項５記載の非検査領域制限検証プログラムであって、
    　前記修正ルーチンで、前記一組の非検査領域の辺のうち、短い方の辺を長い方の辺に接する位置に移動させることを特徴とする非検査領域制限検証プログラム。
  7. 　複数の非検査領域のそれぞれを特定する情報を含む非検査領域情報と１ピクセルの長さを示すピクセルサイズとを記憶する記憶部材と；
    　前記非検査領域情報を参照して個々の前記非検査領域の大きさを算出し、前記ピクセルサイズを参照して個々の前記非検査領域の大きさが前記ピクセル単位で最小サイズ以上であるという制限が守られているかを検査する最小サイズ検査部材と；
    　前記非検査領域情報と前記ピクセルサイズとを参照して、全ての前記非検査領域同士で互いの距離を算出し、前記領域間距離が０よりも大きい場合は前記領域間距離が所定距離以上であるという制限が守られているかを検査する距離検査部材と；を含むことを特徴とする非検査領域制限検証装置。
  8. 　請求項７記載の非検査領域制限検証装置であって、
    　前記距離検査部材で制限の違反が判明した場合、制限に違反する一組の非検査領域のうち何れかの非検査領域を修正し、前記一組の非検査領域の辺同士が接するようにする修正部材を含むことを特徴とする非検査領域検証装置。
  9. 　請求項８記載の非検査領域制限検証装置であって、
    　前記修正部材は、前記一組の非検査領域の辺のうち、短い方の辺を長い方の辺に接する位置に移動させることを特徴とする非検査領域制限検証装置。
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