WO2009036716A1 - Verfahren und anordnung zum erzeugen eines laserstrahls mit einem linienhaften strahlquerschnitt - Google Patents
Verfahren und anordnung zum erzeugen eines laserstrahls mit einem linienhaften strahlquerschnitt Download PDFInfo
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Definitions
- the laser beam is telecentrically imaged at least with respect to the long axis, i. H. the laser beam homogenized with respect to the long axis is imaged by means of a condenser optics in such a way that a beam path which can be assigned to the imaged laser beam and consists of partial beams oriented parallel to the propagation direction is formed,
- Cylinder lens arrangements are. Downstream of the cylindrical lens arrangements in the beam path, a condenser lens is provided for imaging the beam cross-section which is rectangular in the long axis.
- the following is a short axis homogenizer, which also provides a first arrangement of mutually parallel cylindrical lenses, followed in the beam path of a second array of parallel aligned cylindrical lenses, the axes of the cylindrical lenses of the short axis homogenizer are oriented orthogonal to the cylindrical lens axes of the long axis homogenizer.
- the focal points or lines of the respective first arrangement of cylindrical lenses are also located between the two cylindrical lens arrangements in the case of the short-axis homogenizer.
- a condenser lens and a field lens are subsequently provided, which image the beam cross section, which is homogenized in the short axis, into the region of a slit lens.
- an optical magnifying glass arrangement ensures a reduction in the beam cross-sectional shape in the short axis, and ultimately the laser beam, which is now linearly formed and homogenized in the beam cross section, is imaged onto the substrate surface coated with amorphous silicon. Further details can be found in the aforementioned US 2005/0035103 A1.
- a method for generating a laser beam with a linear beam cross section is characterized in that in the beam path for beam shaping and beam imaging of the laser beam cross section in the short axis at least two-stage optical imaging is performed with the one hand, a spatial Bridging the caused by the telecentric beam guidance long distance between the Kurzachsenhomogenisierer and an imaging plane is made possible, in which preferably is provided with the amorphous Si layer substrate, and on the other hand, an independent adjustment for the slope and line half width is created.
- the two-stage imaging is realized by two optical imaging branches arranged one after the other in the beam path, of which the first optical imaging branch consists of the cylindrical lens arrangements of the short axis homogenizer, a subsequent short axis condensing optics and a short axis field lens optical system following the beam path.
- the laser beam L emerging from an excimer laser is matched to the input aperture of a homogenizer H composed of a long-axis LAH and a short-axis homogenizer SAH by means of suitable imaging optics, for example a telephoto lens.
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Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020107005492A KR101529344B1 (ko) | 2007-09-17 | 2008-07-18 | 선형 횡단면을 가진 레이저 빔의 생성 방법 및 장치 |
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Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102007044298A DE102007044298B3 (de) | 2007-09-17 | 2007-09-17 | Verfahren und Anordnung zum Erzeugen eines Laserstrahls mit einem linienhaften Strahlquerschnitt |
| DE102007044298.1 | 2007-09-17 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| WO2009036716A1 true WO2009036716A1 (de) | 2009-03-26 |
Family
ID=40070896
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PCT/DE2008/001181 Ceased WO2009036716A1 (de) | 2007-09-17 | 2008-07-18 | Verfahren und anordnung zum erzeugen eines laserstrahls mit einem linienhaften strahlquerschnitt |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5548127B2 (enExample) |
| KR (1) | KR101529344B1 (enExample) |
| CN (1) | CN101801586B (enExample) |
| DE (1) | DE102007044298B3 (enExample) |
| WO (1) | WO2009036716A1 (enExample) |
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- 2008-07-18 JP JP2010524341A patent/JP5548127B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2008-07-18 WO PCT/DE2008/001181 patent/WO2009036716A1/de not_active Ceased
- 2008-07-18 CN CN2008801070697A patent/CN101801586B/zh not_active Expired - Fee Related
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| CN101801586A (zh) | 2010-08-11 |
| JP5548127B2 (ja) | 2014-07-16 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| WWE | Wipo information: entry into national phase |
Ref document number: 200880107069.7 Country of ref document: CN |
|
| DPE2 | Request for preliminary examination filed before expiration of 19th month from priority date (pct application filed from 20040101) | ||
| 121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application |
Ref document number: 08784362 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
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| ENP | Entry into the national phase |
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|
| ENP | Entry into the national phase |
Ref document number: 2010524341 Country of ref document: JP Kind code of ref document: A |
|
| 122 | Ep: pct application non-entry in european phase |
Ref document number: 08784362 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |