WO2008078477A1 - Appareil générant des rayons x - Google Patents

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Takahiro Matsumoto
Susumu Nakamura
Norikatsu Myojin
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Stanley Electric Co., Ltd.
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Abstract

Une cible (5) devant être irradiée avec un faisceau d'électrons est formée, de telle sorte que son dessin bidimensionnel, tel qu'observé dans une direction prédéterminée (une flèche (Y1)), est suffisamment supérieur en dimensions à la cible (5), mais inférieur en surface au dessin de région bidimensionnel pris au moment où soit une région de génération de rayons X caractéristiques (B1) dans une cible virtuelle (25) du même matériau que celui de la cible (5), soit sa région partielle (A1), est prise dans la direction prédéterminée (la flèche (Y1)) et de telle sorte que le dessin bidimensionnel est contenu dans son dessin de région bidimensionnel. En conséquence, la partie de génération pour générer les rayons X caractéristiques ayant la longueur d'onde selon le matériau de la cible peut être rendue plus fine que celle selon l'état antérieur de la technique.
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