WO2008066027A1 - Appareil de fabrication de trichlorosilane - Google Patents

Appareil de fabrication de trichlorosilane Download PDF

Info

Publication number
WO2008066027A1
WO2008066027A1 PCT/JP2007/072828 JP2007072828W WO2008066027A1 WO 2008066027 A1 WO2008066027 A1 WO 2008066027A1 JP 2007072828 W JP2007072828 W JP 2007072828W WO 2008066027 A1 WO2008066027 A1 WO 2008066027A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
silicon
container
trichlorosilane
heat insulating
insulating material
Prior art date
Application number
PCT/JP2007/072828
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Toshiyuki Ishii
Original Assignee
Mitsubishi Materials Corporation
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP2007276843A external-priority patent/JP5119856B2/ja
Application filed by Mitsubishi Materials Corporation filed Critical Mitsubishi Materials Corporation
Priority to US12/312,367 priority Critical patent/US8034300B2/en
Publication of WO2008066027A1 publication Critical patent/WO2008066027A1/ja

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/08Compounds containing halogen
    • C01B33/107Halogenated silanes
    • C01B33/1071Tetrachloride, trichlorosilane or silicochloroform, dichlorosilane, monochlorosilane or mixtures thereof

Definitions

  • the present invention relates to a trichlorosilane production apparatus that converts tetrachlorosilane to trichlorosilane.
  • SiHCl 3 is converted by reacting tetrachlorosilane (SiCl: silicon tetrachloride) with hydrogen.
  • Patent Document 1 As an apparatus for producing this trichlorosilane, for example, in Patent Document 1, a plurality of carbon heaters are provided in a reaction furnace, and these carbon heaters are directly energized and heated to introduce tetrachlorosilane introduced into the reaction furnace. An apparatus for heating a feed gas containing hydrogen and converting it to trichlorosilane has been proposed.
  • the surface of the carbon heater is coated with a silicon compound such as silicon carbide. That is, by protecting carbon with a coating film of silicon compound, carbon, supply gas, and hydrogen, chlorosilane, and hydrogen chloride in the reaction product gas obtained by conversion react to react with methane, methyl chlorosilane, silicon carbide, etc. This is to prevent generation of impurities as impurities.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Laid-Open No. 62-123011
  • the present invention has been made in view of the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a trichlorosilane manufacturing apparatus that can reduce the member cost and can be configured with a long-life member. Means for solving the problem
  • the present invention employs the following configuration in order to solve the above problems.
  • the trichlorosilane production apparatus of the present invention includes a container having a gas supply port for introducing a supply gas therein and a gas outlet port for deriving a reaction product gas to the outside, a plurality of silicon core rods provided in the container, A heating mechanism for heating the silicon core rod, and reacting a supply gas containing tetrachlorosilane and hydrogen to produce a reaction product gas containing trichlorosilane and hydrogen chloride.
  • the silicon core rod which is not a carbon heater, is heated by a heating mechanism, so that silicon carbide (SiC) coating is not required, reducing the cost of the material and reducing the life of the material.
  • the device can be configured.
  • carbon is not used as a heating element, high-purity trichlorosilane can be obtained without generating impurities due to carbon.
  • silicon is also deposited on the silicon core rod by the reduction reaction and thermal decomposition reaction of trichlorosilane produced by the conversion reaction, it is possible to simultaneously produce trichlorosilane and silicon.
  • the silicon core rod is erected on the bottom of the container, and the heating mechanism includes an electrode portion that holds the lower end of the silicon core rod at the bottom of the container; And a power source that heats the silicon core rod by passing an electric current through the electrode portion.
  • a heat insulating material provided on the inner wall of the container and a heat insulating material protective material provided on the inner surface of the heat insulating material and having silicon carbide coated on the surface of the carbon. Also good.
  • the thermal efficiency can be improved. It is possible to prevent silicon from precipitating on the surface of the heat insulating material.
  • the silicon core rod is heated by the heating mechanism, the silicon carbide coating on the conventional carbon heater becomes unnecessary, and the cost of the member is reduced and the long service life is achieved.
  • An apparatus can be comprised by the member of. Also, since silicon is deposited on the silicon core rod, it is possible to simultaneously produce trichlorosilane and silicon.
  • FIG. 1 is a partially cutaway perspective view showing an embodiment of a trichlorosilane production apparatus according to the present invention.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view showing the trichlorosilane production apparatus of the present embodiment.
  • the trichlorosilane production apparatus of the present embodiment includes a supply gas containing tetrachlorosilane and hydrogen. This is a device that generates a reaction product gas containing trichlorosilane and hydrogen chloride by converting the gas at a high temperature. As shown in FIGS.
  • a container 3 having a port 1 and a plurality of gas outlets 2 for deriving reaction product gas to the outside, a plurality of silicon core rods 5 standing on the bottom 4 in the container 3, and a current flowing through the silicon core rod 5
  • the container 3 includes the bottom portion 4 provided with a plurality of the gas supply ports 1 and the gas outlet ports 2, and a bellows portion 8 that covers the bottom portion 4 and is formed in a bell shape.
  • a plurality of gas outlets 2 are arranged at equal intervals in the circumferential direction in the vicinity of the peripheral edge of the bottom 4. Further, the gas supply port 1 is arranged on the inner side of the arrangement position of the gas outlet port 2.
  • the heat insulating material 7a is provided on the inner surface of the pelja portion 8, and is formed of carbon fiber.
  • the heat insulating material protecting material 7b is a carbon container provided inside the heat insulating material 7a, and is formed by coating the surface of carbon with silicon carbide.
  • the silicon core rod 5 is connected to the upper end portion and is formed in a substantially inverted U shape.
  • the heating mechanism 6 includes a plurality of electrodes 4a provided on the bottom 4 and supporting the lower end of the silicon core 5 to hold the silicon core 5 in an upright state, and connected to the electrodes 6a.
  • a power source 6b that heats the silicon core rod 5 by passing an electric current through the electrode portion 6a is provided. This heating mechanism 6 controls the heating so that the silicon core 5 has a temperature in the range of 800 ° C to 1400 ° C.
  • the silicon core 5 is set to 1200 ° C or higher, the conversion rate is improved. Further, disilanes may be introduced into the supply gas and the silanes may be taken out.
  • the gas supply port 1 is connected to a supply source (not shown) of a supply gas. Further, the gas supply port 1 is connected with a gas ratio adjusting unit 9 including a flow rate adjusting valve for adjusting the ratio of tetrachlorosilane in the supply gas.
  • the silicon core rod 5 that is not a carbon heater is heated by the heating mechanism 6, so that the coating of silicon carbide (SiC) becomes unnecessary, and the cost of the member is reduced and the long life is achieved.
  • An apparatus can be comprised by the member of.
  • carbon is not used as a heating element, high purity trichlorosilane with no generation of impurities due to carbon can be obtained.
  • silicon is also deposited on the silicon core 5 by the reduction reaction and thermal decomposition reaction of trichlorosilane generated by the conversion reaction, it is possible to simultaneously produce trichlorosilane and silicon.
  • the inner surface of the heat insulating material 7a provided on the inner wall of the container 3 is provided with a heat insulating material protecting material 7b formed by coating silicon carbide on the surface of carbon! It is possible to prevent the silicon from being deposited on the inner surface of the heat insulating material 7a.
  • the silicon core rod 5 may be heated by other methods such as high-frequency induction heating such as the heating mechanism 6 in which the silicon core rod 5 is energized and heated by Joule heat. .
  • Each silicon core rod 5 may be configured to be supported by being suspended from the force of the ceiling of the container placed in a standing state on the bottom of the container 3. Further, the silicon core rod 5 is not necessarily in a vertical posture but may be arranged in a horizontal posture or the like.
  • a heat exchange mechanism for performing gas-gas heat exchange between the introduced supply gas and the derived reaction product gas may be provided. In this case, it will be possible to further reduce power consumption Industrial applicability
  • the silicon core rod is heated by the heating mechanism, the silicon carbide coating on the conventional carbon heater becomes unnecessary, and the cost of the member is reduced and the long life is achieved.
  • An apparatus can be comprised by the member of.
  • silicon is deposited on the silicon core rod, trichlorosilane and silicon can be generated simultaneously. Therefore, it can be suitably used in the production process of trichlorosilane used as a raw material for producing high-purity silicon.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)

Description

明 細 書
トリクロロシラン製造装置
技術分野
[0001] 本発明は、テトラクロロシランをトリクロロシランに転換するトリクロロシラン製造装置 に関する。
本願 (ま、 2006年 11月 29曰 ίこ出願された曰本国特許出願第 2006— 322628号 および 2007年 10月 24日に出願された日本国特許出願第特願 2007— 276843号 に対し優先権を主張し、その内容をここに援用する。
背景技術
[0002] 高純度のシリコン(Si :珪素)を製造するための原料として使用されるトリクロロシラン
(SiHCl )は、テトラクロロシラン(SiCl :四塩化珪素)を水素と反応させて転換するこ
3 4
とで製造でさる。
[0003] すなわち、シリコンは、以下の反応式(1) , (2)によるトリクロロシランの還元反応と熱 分解反応で生成され、トリクロロシランは、以下の反応式(3)による転換反応で生成さ れる。
[0004] SiHCl +H → Si + 3HC1 · · · (1)
3 2
4SiHCl → Si + 3SiCl + 2H
4 2 …(2)
3
SiCl +H → SiHCl +HC1 · · · (3)
4 2 3
このトリクロロシランの製造装置として、例えば特許文献 1には、反応炉内に複数の カーボン製ヒータが設けられて、これらのカーボン製ヒータが直接通電加熱されて、 反応炉に導入されたテトラクロロシランと水素とを含む供給ガスを加熱し、トリクロロシ ランへ転換させる装置が提案されている。なお、このカーボン製ヒータの表面には、 炭化珪素等のシリコン化合物がコーティングされている。すなわち、シリコン化合物の コーティング膜でカーボンを保護することにより、カーボンと供給ガス及び転換して得 られた反応生成ガス中の水素、クロロシラン及び塩化水素とが反応してメタン、メチル クロロシラン、炭化珪素等が生成されて不純物となることを防ぐためである。
[0005] 上記従来の技術には、以下の課題が残されている。 すなわち、上記特許文献 1の技術では、不純物生成を防ぐためにカーボン製ヒータ の表面に炭化珪素等をコーティングしている力 この場合、部材コストが高くなると共 に、炭化珪素等のコーティング膜が徐々にエッチングされて劣化することから、長期 にわたつて使用できな!/、と!/、う不都合があった。
特許文献 1:特開昭 62— 123011号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0006] 本発明は、前述の課題に鑑みてなされたもので、部材コストの低減を図ると共に長 寿命の部材で構成可能なトリクロロシラン製造装置を提供することを目的とする。 課題を解決するための手段
[0007] 本発明は、前記課題を解決するために以下の構成を採用した。
本発明のトリクロロシラン製造装置は、供給ガスを内部に導入するガス供給口及び 反応生成ガスを外部に導出するガス導出口を有する容器と、前記容器内に設けられ た複数のシリコン芯棒と、前記シリコン芯棒を加熱する加熱機構とを備え、テトラクロ口 シランと水素とを含む供給ガスを反応させてトリクロロシランと塩化水素とを含む反応 生成ガスを生成する。
[0008] このトリクロロシラン製造装置では、カーボン製ヒータではなぐシリコン芯棒を加熱 機構により加熱するので、炭化珪素(SiC)のコーティングが不要になり、部材コストの 低減を図ると共に長寿命の部材で装置を構成できる。また、カーボンを発熱体として 用いないので、カーボンに起因する不純物の生成がなぐ純度の高いトリクロロシラン が得られる。さらに、転換反応により生成したトリクロロシランの還元反応と熱分解反 応とにより、シリコン芯棒にシリコンも析出されるため、トリクロロシランとシリコンとを同 時に生成することが可能になる。
[0009] 本発明のトリクロロシラン製造装置では、前記シリコン芯棒は、前記容器の底部に立 設され、前記加熱機構は、前記容器の底部で前記シリコン芯棒の下端部を保持する 電極部と、該電極部を介して前記シリコン芯棒に電流を流して加熱する電源とを備え てもよい。このトリクロロシラン製造装置の構成であれば、いわゆるシーメンス法として 前記反応式(1) , (2)の還元反応と熱分解反応によって多結晶シリコンを製造する際 に用いられている反応装置とほぼ同じ仕様のものを適用可能であり、前記反応式(1 ) , (2) , (3)に供する一連の設備全体の設計の容易化、コスト低減を図ることができ
[0010] また、前記容器の内壁に設けられた断熱材と、前記断熱材の内面に設けられ、力 一ボンと該カーボンの表面にコーティングされた炭化珪素を有する断熱材保護材と を備えてもよい。このトリクロロシラン製造装置では、容器の内壁の断熱材内面に、力 一ボンの表面に炭化珪素がコーティングされて形成された断熱材保護材が設けられ ているので、熱効率を向上させることができると共に、断熱材表面にシリコンが析出す ることを防ぐこと力できる。
発明の効果
[0011] 本発明によれば、以下の効果を奏する。
すなわち、本発明に係るトリクロロシラン製造装置によれば、シリコン芯棒を加熱機 構により加熱するので、従来のカーボン製ヒータへの炭化珪素コーティングが不要に なり、部材コストの低減を図ると共に長寿命の部材で装置を構成することができる。ま た、シリコン芯棒にシリコンも析出されるため、トリクロロシランとシリコンとを同時に生 成することが可能になる。
図面の簡単な説明
[0012] [図 1]図 1は、本発明に係るトリクロロシラン製造装置の一実施形態を示す一部を破断 した斜視図である。
[図 2]図 2は、本実施形態のトリクロロシラン製造装置を示す断面図である。
符号の説明
[0013] 1…ガス供給口、 2…ガス導出口、 3…容器、 4…容器の底部、 5…シリコン芯棒、 6 …加熱機構、 6a…電極部、 6b…電源、 7a…断熱材、 7b…断熱材保護材。
発明を実施するための最良の形態
[0014] 以下、本発明に係るトリクロロシラン製造装置の一実施形態を、図 1又は図 2を参照 しながら説明する。
[0015] 本実施形態のトリクロロシラン製造装置は、テトラクロロシランと水素とを含む供給ガ スを高温下で転換反応させてトリクロロシランと塩化水素とを含む反応生成ガスを生 成する装置であって、図 1及び図 2に示すように、供給ガスを内部に導入する複数の ガス供給口 1及び反応生成ガスを外部に導出する複数のガス導出口 2を有する容器 3と、容器 3内の底部 4に立設された複数のシリコン芯棒 5と、シリコン芯棒 5に電流を 流してジュール熱によりシリコン芯棒 5を加熱する加熱機構 6と、容器 3の内壁に設け られた断熱材 7aと、この断熱材 7aの内面に設けられた断熱材保護材 7bとを備えて いる。
[0016] 上記容器 3は、上記ガス供給口 1と上記ガス導出口 2とが複数設けられた上記底部 4と、この底部 4を覆って釣鐘形状に形成されたペルジャ部 8とを備えている。なお、 ガス導出口 2は、底部 4の周縁部近傍において周方向に等間隔に複数配置されてい る。また、ガス供給口 1は、ガス導出口 2の配置位置よりも内側に配置されている。
[0017] 上記断熱材 7aは、ペルジャ部 8の内面に設けられ、カーボンファイバーで形成され ている。また、上記断熱材保護材 7bは、断熱材 7aの内側に設けられたカーボン容器 であり、カーボンの表面に炭化珪素がコーティングされて形成されている。
[0018] 上記シリコン芯棒 5は、上端部で連結されてほぼ逆 U字状に形成されたものである
[0019] 上記加熱機構 6は、底部 4に複数設けられシリコン芯棒 5の下端部を支持してシリコ ン芯棒 5を立設状態に保持する電極部 6aと、これら電極部 6aに接続され電極部 6aを 介してシリコン芯棒 5に電流を流して加熱する電源 6bとを備えている。この加熱機構 6は、シリコン芯棒 5が 800°C〜; 1400°Cの範囲内の温度になるように加熱制御を行う
[0020] なお、シリコン芯棒 5を 1200°C以上に設定すれば、転換率が向上する。また、供給 ガスにジシラン類を導入し、シラン類を取り出してもよい。
[0021] 上記ガス供給口 1には、供給ガスの供給源(図示略)が接続されて!/、る。また、ガス 供給口 1には、供給ガスにおいて、テトラクロロシランの比率を調整する流量調整バ ルブ等からなるガス比率調整部 9が接続されている。
[0022] このトリクロロシラン製造装置では、ガス比率調整部 9によってテトラクロロシランの比 率を所定のモル比とした供給ガスをガス供給口 1から容器 3内に導入すると、加熱機 構 6によって高温状態に加熱されたシリコン芯棒 5に接触して転換反応によってトリク ロロシランを含む反応生成ガスが生成される。また、生成されたトリクロロシランの一部 は、さらに熱分解反応及び還元反応によってシリコン芯棒 5の表面にシリコンとなって 析出する。したがって、テトラクロロシランからの転換反応により生成されたトリクロロシ ランは、一部がシリコンとなって析出し、残りがガス導出口 2から外部に導出されて回 収される。
[0023] なお、シリコンが析出してシリコン芯棒 5の径が太くなつてきたら、トリクロロシランの 比率を増やしていき、シリコン芯棒 5に通電する電流を下げてもシリコン芯棒 5へのシ リコンの析出が行われるようにすることで、トリクロロシランへの転換反応とシリコンの析 出とを両立させることができる。すなわち、シリコン芯棒 5の径が小さい製造前半では 、トリクロロシランの生成を主とし、シリコン芯棒 5の径が大きくなつた製造後半では、ト リクロロシランとテトラクロロシランとの混合によるシリコン析出を主として行うように設定 する。
[0024] このように本実施形態では、カーボン製ヒータではなぐシリコン芯棒 5を加熱機構 6 により加熱するので、炭化珪素(SiC)のコーティングが不要になり、部材コストの低減 を図ると共に長寿命の部材で装置を構成することができる。また、カーボンを発熱体 として用いないので、カーボンに起因する不純物の生成がなぐ純度の高いトリクロ口 シランが得られる。
[0025] さらに、転換反応により生成したトリクロロシランの還元反応と熱分解反応とにより、 シリコン芯棒 5にシリコンも析出されるため、トリクロロシランとシリコンとを同時に生成 することが可能になる。
[0026] このように、テトラクロロシランでシリコン析出が可能であるため、前工程のメタルシリ コンからトリクロロシランを蒸留する蒸留塔において負荷を下げることができ、設備全 体としての処理コストも低減できる。
[0027] また、容器 3の内壁に設けられた断熱材 7a内面に、カーボンの表面に炭化珪素が コーティングされて形成された断熱材保護材 7bが設けられて!/、るので、熱効率を向 上させることができると共に、断熱材 7aの内面にシリコンが析出することを防ぐことが できる。 [0028] なお、本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなぐ本発明の趣 旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
[0029] 例えば、上記実施形態では、加熱機構 6としてシリコン芯棒 5に通電してジュール熱 で加熱している力 高周波誘導加熱等の他の方法でシリコン芯棒 5を加熱しても構わ ない。
[0030] また、各シリコン芯棒 5は、容器 3の底部に立設状態に配置した力 容器の天井部 力、ら吊下げて支持する構成等としてもよい。またシリコン芯棒 5は、必ずしも垂直姿勢 でなくとも、水平状態等の姿勢で配置してもよい。
[0031] また、導入する供給ガスと導出する反応生成ガスとの間でガス ガス熱交換を行う 熱交換機構を設けても構わない。この場合、さらに省電力化を図ることが可能になる 産業上の利用可能性
[0032] 本発明のトリクロロシラン製造装置によれば、シリコン芯棒を加熱機構により加熱す るので、従来のカーボン製ヒータへの炭化珪素コーティングが不要になり、部材コスト の低減を図ると共に長寿命の部材で装置を構成することができる。また、シリコン芯棒 にシリコンも析出されるため、トリクロロシランとシリコンとを同時に生成できる。このた め高純度のシリコンを製造するための原料として使用されるトリクロロシランの製造ェ 程に好適に利用できる。

Claims

請求の範囲
[1] 供給ガスを内部に導入するガス供給口及び反応生成ガスを外部に導出するガス導 出口を有する容器と、
前記容器内に設けられた複数のシリコン芯棒と、
前記シリコン芯棒を加熱する加熱機構とを備え、
テトラクロロシランと水素とを含む供給ガスを反応させてトリクロロシランと塩化水素と を含む反応生成ガスを生成することを特徴とするトリクロロシラン製造装置。
[2] 前記シリコン芯棒は、前記容器の底部に立設され、
前記加熱機構は、前記容器の底部で前記シリコン芯棒の下端部を保持する電極部 と、該電極部を介して前記シリコン芯棒に電流を流して加熱する電源とを備える請求 項 1に記載のトリクロロシラン製造装置。
[3] 前記容器の内壁に設けられた断熱材と、
前記断熱材の内面に設けられ、カーボンと該カーボンの表面にコーティングされた 炭化珪素を有する断熱材保護材とを備えている請求項 1に記載のトリクロロシラン製 造装置。
[4] 前記容器の内壁に設けられた断熱材と、
前記断熱材の内面に設けられ、カーボンと該カーボンの表面にコーティングされた 炭化珪素を有する断熱材保護材とを備えている請求項 2に記載のトリクロロシラン製 造装置。
PCT/JP2007/072828 2006-11-29 2007-11-27 Appareil de fabrication de trichlorosilane WO2008066027A1 (fr)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US12/312,367 US8034300B2 (en) 2006-11-29 2007-11-27 Apparatus for producing trichlorosilane

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006322628 2006-11-29
JP2006-322628 2006-11-29
JP2007276843A JP5119856B2 (ja) 2006-11-29 2007-10-24 トリクロロシラン製造装置
JP2007-276843 2007-10-24

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2008066027A1 true WO2008066027A1 (fr) 2008-06-05

Family

ID=39467814

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2007/072828 WO2008066027A1 (fr) 2006-11-29 2007-11-27 Appareil de fabrication de trichlorosilane

Country Status (1)

Country Link
WO (1) WO2008066027A1 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20100229796A1 (en) * 2009-03-10 2010-09-16 Mitsubishi Materials Corporation Manufacturing apparatus of polycrystalline silicon
US8282902B2 (en) 2008-05-28 2012-10-09 Mitsubishi Materials Corporation Apparatus for producing trichlorosilane, and method for producing trichlorosilane
CN108816177A (zh) * 2018-06-16 2018-11-16 枣庄九星生物科技有限公司 一种4-甲基-5-乙基丁酸酯生产用反应罐

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6036317A (ja) * 1983-05-27 1985-02-25 アメリカ合衆国 高純度シリコンの製造方法およびその装置
JP2003020217A (ja) * 2001-07-03 2003-01-24 Tokuyama Corp シリコンおよびトリクロロシランの製造法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6036317A (ja) * 1983-05-27 1985-02-25 アメリカ合衆国 高純度シリコンの製造方法およびその装置
JP2003020217A (ja) * 2001-07-03 2003-01-24 Tokuyama Corp シリコンおよびトリクロロシランの製造法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8282902B2 (en) 2008-05-28 2012-10-09 Mitsubishi Materials Corporation Apparatus for producing trichlorosilane, and method for producing trichlorosilane
US20100229796A1 (en) * 2009-03-10 2010-09-16 Mitsubishi Materials Corporation Manufacturing apparatus of polycrystalline silicon
US8840723B2 (en) * 2009-03-10 2014-09-23 Mitsubishi Materials Corporation Manufacturing apparatus of polycrystalline silicon
CN108816177A (zh) * 2018-06-16 2018-11-16 枣庄九星生物科技有限公司 一种4-甲基-5-乙基丁酸酯生产用反应罐

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5119856B2 (ja) トリクロロシラン製造装置
US8399072B2 (en) Process for improved chemcial vapor deposition of polysilicon
JP5444839B2 (ja) トリクロロシラン製造装置及び製造方法
JP5194003B2 (ja) 金属コア手段を使用した高純度多結晶シリコン棒の製造方法
KR100892123B1 (ko) 폴리 실리콘 증착장치
JP5635128B2 (ja) 四塩化ケイ素を反応させてトリクロロシランを得るための流通管反応器
TWI449819B (zh) Manufacture of Polysilicon
KR101912486B1 (ko) 4염화규소를 3염 실란으로 변환하기 위한 장치 및 방법
JP2013533203A (ja) 四塩化ケイ素を水素化脱塩素する方法での組込型熱交換器を備えた反応器の使用
JPS62123011A (ja) トリクロルシランの製造方法およびその装置
WO2008053750A1 (fr) Appareil de production de trichlorosilane
WO2008066027A1 (fr) Appareil de fabrication de trichlorosilane
KR20130116311A (ko) 사염화규소를 트리클로로실란으로 전환하기 위한 방법 및 장치
CN107074561B (zh) 使用高效混合式水平反应器的多晶硅制造装置和方法
JP5012449B2 (ja) トリクロロシラン製造装置
JP5160181B2 (ja) トリクロロシラン製造装置
WO2008065829A1 (fr) Dispositif de production de trichlorosilane
WO2015174705A1 (ko) 수평형 반응기를 이용한 폴리실리콘 제조 장치 및 제조 방법
JP2008150273A (ja) トリクロロシラン製造装置
WO2008062629A1 (fr) Appareil pour la fabrication de trichlorosilane
US9059220B2 (en) Polysilicon manufacturing device
JP5637013B2 (ja) トリクロロシラン製造装置及び製造方法
WO2008062632A1 (fr) Appareil de production de trichlorosilane
JP5393185B2 (ja) シリコン製造に用いるカーボンヒータの再生方法
KR101538205B1 (ko) 히터 기능을 구비한 가스 공급 노즐 및 이를 포함하는 폴리실리콘 제조 장치

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 07832553

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 12312367

Country of ref document: US

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 07832553

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1