WO2007138697A1

WO2007138697A1 - 複合電磁波シールドフィルタ

Info

Publication number: WO2007138697A1
Application number: PCT/JP2006/310902
Authority: WO
Inventors: Nobuo Naito; Hironori Kamiyama; Yuji Nakatsugawa
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 2006-05-31
Filing date: 2006-05-31
Publication date: 2007-12-06
Anticipated expiration: 2008-11-30
Also published as: KR101263249B1; KR20090013663A

Abstract

　色素の耐久性が高くかつ幅広い波長領域の近赤外線に対して良好な吸収特性を有しながら、可視光領域における優れた光透過性をも同時に具備した、複合電磁波シールドフィルタを経済的に提供する。　電磁波シールド性能と近赤外線吸収性能を有する複合電磁波シールドフィルタであって、透明基材とメッシュ層と中間層として粘着層とを含んでなり、この粘着層が特定の近赤外線吸収色素Ａ～Ｄの内の少なくとも三種類を含有することを特徴とする複合電磁波シールドフィルタ、及びこの複合電磁波シールドフィルタがディスプレイの観察者側に配置されていることを特徴とするプラズマディスプレイ。

Description

明細書

複合電磁波シールドフィルタ

技術分野

[0001] 本発明は、光透過性を有する電磁波シールドフィルタに関し、更に詳しくは光学フィルタ機能として近赤外線吸収性能も有し、特にプラズマディスプレイ用に好適な電磁波シールドフィルタに関する。

背景技術

[0002] 電気的、もしくは電子的な装置が発生した電磁波は、他の装置に悪影響を与えたり、また、人体や動物に対して影響を与えることがあると言われている。一例として、プラズマディスプレイ（以降、 PDPと略記することがある。）からは、 30MHz〜lGHzの周波数の電磁波が発生するため、周囲にあるコンピュータ、もしくはコンピュータ利用機器に影響を与えることがあり、発生する電磁波をできるだけ外部に洩らさないことが望まれている。

[0003] PDPはまた、放電ガスにネオンとキセノンの混合ガスを用いているため、波長 800η m〜1000nmの近赤外線を放出し、この近赤外線は、近赤外線を利用した各種機器、例えば、家庭電気製品のリモートコントローラや、パソコンやコードレス電話等の近赤外線を利用した通信機器に影響を与える場合がある。

[0004] そこで、電磁波シールド層と近赤外線吸収層とを有する、電磁波シールド性能と近赤外線吸収性能を有する複合電磁波シールドフィルタが提案されて、る（特許文献 D o

[0005] このような複合電磁波シールドフィルタは、通常、電磁波シールド層と、近赤外線吸収層と、例えば表面保護層、光学機能層、基板等の他の層とを、粘着剤等によって積層一体ィ匕したうえで、前面フィルタとしてディスプレイの前面に配置される。

特許文献 1：特開 2001— 210988号公報

発明の開示

発明が解決しょうとする課題

[0006] ディスプレイの前面に配置される前面フィルタには、所定の電磁波シールド性能および近赤外線吸収性能、ならびにその他の光学的性能 (例えば、光透過性、反射防止性)等を備えたうえで、軽量で薄ぐかつ製造コストの点でも好ましい必要がある。前面フィルタを軽量で薄いものとし、かつ製造コストの低減を図るためには、前面フィルタの層構成を省略ないし簡素化することが有利である。通常、この種の一般的な前面フィルタでは、粘着剤層が少なくとも一層形成されていることから、近赤外線吸収層を別途設けるのではなぐ近赤外線吸収剤を粘着剤層に混入し、粘着剤層に近赤外線吸収性能を付与することによって、前面フィルタの層構成を省略ないし簡素化することが考免られる。

[0007] しかし、例えばジインモニゥム系あるいはアミニゥム系のような従来の近赤外線吸収剤を粘着剤層に混入させた場合、近赤外線吸収剤が劣化して、近赤外線吸収性能を長期間安定して持続させることができな力つたり、吸収することが望まれる全ての近赤外線の波長領域にぉ、て目的とする近赤外線吸収特性を得ることが難し、と、う問題があった。

[0008] 近赤外線吸収剤の劣化は、近赤外線吸収剤と粘着剤との反応や、使用環境における熱、水蒸気、紫外線等の影響によるものと推測される。ここで、近赤外線吸収剤と粘着剤とが反応する場合には、近赤外線吸収剤と同様に粘着剤の自身も劣化する可能性があり、粘着力が低下することもありえる。

[0009] 粘着剤の劣化によって粘着力が低下することや、あるいは近赤外線吸収剤の劣化によって近赤外線吸収特性が十分でな力つたり使用によって変化することは、それがたとえ一部の波長領域内の近赤外線に限定される場合であったとしても、ディスプレィの前面フィルタとして適さな、ことは言うまでもな、。

課題を解決するための手段

[0010] 本発明は、広い近赤外線領域に吸収を持ち、長期間の使用によってもその近赤外線吸収特性の変化が抑制された、耐久性の優れた複合電磁波シールドフィルタを経済的に提供するものである。

[0011] 本願発明による複合電磁波シールドフィルタは、電磁波シールド性能と近赤外線吸収性能を有する複合電磁波シールドフィルタであって、透明基材と、メッシュ状導電体層を含むメッシュ層と、中間層として粘着層とを含んでなり、この粘着層が下記の四種類の近赤外線吸収色素 (A)〜（D)の内の少なくとも三種類を含有することを特徴とする。

[0012] 近赤外線吸収色素 (A) :

下記の式〔I〕で表されるフタロシアニン化合物（但し、 Ai A¹⁶の内の少なくとも 4つは硫黄原子を介する置換基であり、かつ少なくとも 3つは塩素原子を有し、 M¹は酸化バナジウムである）

[0013] 近赤外線吸収色素（B) :

下記の式〔I〕で表されるフタロシアニン化合物（但し、 Ai A¹⁶の内の少なくとも 4つは硫黄原子を介する置換基であり、かつ実質的に塩素原子を有さず、 M¹は酸化バナジゥムである）

[0014] 近赤外線吸収色素（C) :

下記の式〔I〕で表されるフタロシアニン化合物（但し、 Ai A¹⁶の内の少なくとも 4つは窒素原子を介する置換基であり、かつ硫黄原子を介する置換基を実質的に含まず、 M¹は酸ィ匕バナジウムである）

[0015] 近赤外線吸収色素（D) :

下記の式〔I〕で表されるフタロシアニン化合物（但し、 Ai A¹⁶の内の少なくとも 4つは窒素原子を介する置換基であり、かつ硫黄原子を介する置換基を実質的に含まず、 M¹は銅である）

[化 1]

(式〔I〕中、〜 ⁶は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、ヒドロキシスルホニル基、アミノスルホニル基、あるいは窒素原子、硫黄原子、酸素原子またはハロゲン原子を含んでも良い炭素数 1〜20の置換基を表し、かつ隣り合う 2個の置換基が連結基を介して繋がっていてもよぐ M¹は、酸化バナジウムまたは銅を表す)。

[0016] そして、本発明によるプラズマディスプレイは、上記の複合電磁波シールドフィルタがディスプレイの観察者側に配置されてヽること、を特徴とするものである。

発明の効果

[0017] 本発明による複合電磁波シールドフィルタは、電磁波シールド性能と近赤外線吸収性能を有する複合電磁波シールドフィルタであって、透明基材と、メッシュ状導電体層を含むメッシュ層と、中間層として粘着層とを含んでなり、この粘着層が、特定の四種類の近赤外線吸収色素 (A)〜（D)の内の少なくとも三種類を含有するものであることから、色素の耐久性が高くかつ幅広い波長領域の近赤外線に対する良好な吸収特性を有しながら、可視光領域における優れた光透過性をも同時に具備した、複合電磁波シールドフィルタが経済的に提供される。

図面の簡単な説明

[0018] [図 1]本発明による複合電磁波シールドフィルタの形態例を例示する断面図。

[図 2]本発明による複合電磁波シールドフィルタの形態例を例示する断面図。 [図 3]メッシュ層の周囲に設ける額縁部を例示する平面図。

[図 4]実施例 1で得られた複合電磁波シールドフィルタの分光特性を示す図。

[図 5]実施例 2で得られた複合電磁波シールドフィルタの分光特性を示す図。

[図 6]比較例 1で得られた複合電磁波シールドフィルタの分光特性を示す図。

[図 7]比較例 2で得られた複合電磁波シールドフィルタの分光特性を示す図。

発明を実施するための最良の形態

[0019] 以下、図面を参照しながら本発明を実施するための最良の形態を説明する。

先ず、図 1は、本発明による複合電磁波シールドフィルタについて、基本的な形態例として四例を示す断面図である。

[0020] 図 1 (A)の複合電磁波シールドフィルタ 1は、最も基本的な形態であり、透明基材 2 上に、メッシュ状導電体層を含むメッシュ層 3が形成され、更に、該メッシュ層 3の直上およびその開口部を含めた全面に、近赤外線吸収色素を含有する粘着層 4が形成され、更に機能層 5が形成されたものである。

[0021] 図 1 (B)の複合電磁波シールドフィルタ 10は、透明基材 2上に、近赤外線吸収色素を含有する粘着層 4が形成され、その上にメッシュ状導電体層を含むメッシュ層 3が形成され、該メッシュ層 3の直上およびその開口部を含めた全面に透明榭脂層 6が形成され、更に機能層 5が形成されたものである。

[0022] 図 1 (C)の複合電磁波シールドフィルタ 11は、透明基材 2上に、メッシュ状導電体層を含むメッシュ層 3が形成され、該メッシュ層 3の直上およびその開口部を含めた全面に透明榭脂層 6が形成され、その上に近赤外線吸収色素を含有する粘着層 4が形成され、更に機能層 5が形成されたものである。

[0023] 図 1 (D)の複合電磁波シールドフィルタ 12は、透明基材 7上に、近赤外線吸収色素を含有する粘着層 4が形成され、その上に透明基材 2が形成され、更にメッシュ状導電体層を含むメッシュ層 3が形成されたものである。

[0024] 以下、本発明の複合電磁波シールドフィルタについて、透明基材 2から、各層毎に順に説明する。

[0025] 〔透明基材〕

透明基材 2は、一般的に機械的強度が弱いメッシュ層を補強する為の層である。従つて、機械的強度と共に光透過性を有すれば、その他、耐熱性、絶縁性等も適宜勘案した上で、用途に応じたものを選択使用すれば良い。透明基材の具体例としては、例えば、榭脂板、榭脂シート（乃至はフィルム、以下同様)、ガラス板等である。

[0026] 榭脂板、榭脂シート等として用いる透明榭脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、テレフタノレ酸イソフタル酸一エチレングリコール共重合体、テレフタル酸ーシクロへキサンジメタノールエチレングリコール共重合体などのポリエステル系榭脂、ナイロン 6などのポリアミド系榭脂、ポリプロピレン、ポリメチルペンテンなどのポリオレフイン系榭脂、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリスチレン、スチレン一アクリロニトリル共重合体などのスチレン系榭脂、トリァセチルセルロースなどのセルロース系榭脂、イミド系榭脂、ポリカーボネート榭脂等が挙げられる。

[0027] なお、これら榭脂は、榭脂材料的には、単独、または複数種類の混合榭脂 (ポリマーァロイを含む）として用いられ、また層的には、単層、または二層以上の積層体として用いられる。また、榭脂シートの場合、一軸延伸や二軸延伸した延伸シートが機械的強度の点でより好ましい。

[0028] また、これら榭脂中には、必要に応じて適宜、紫外線吸収剤、充填剤、可塑剤、帯電防止剤などの添加剤を加えても良!、。

[0029] また、ガラス板のガラスとしては、石英ガラス、ホウケィ酸ガラス、ソーダライムガラスなどがあり、より好ましくは熱膨脹率力、さく寸法安定性および高温加熱処理における作業性に優れ、また、ガラス中にアルカリ成分を含まない無アルカリガラス等が挙げられ、ディスプレイの前面基板等とする電極基板と兼用することもできる。

[0030] なお、透明基材の厚さは、用途に応じたものとすれば良く特に制限は無ぐ透明榭脂から成る場合は、通常 12〜： LOOO μ m程度である力好ましくは 50〜700 m、より好ましくは 100〜500 /ζ πιが望ましい。一方、透明基材がガラス板である場合には、通常 l〜5mm程度が好適である。いずれの材料に於いても、上記未満の厚さとなると機械的強度が不足して反りや弛み、破断などが起こり、上記を超える厚さとなると過剰性能でコスト高となるうえ、薄型化が難しくなる。

[0031] なお、透明基材としては、これらの無機材料、有機材料等カゝらなる、シート (乃至はフィルム）、板などが適用でき、また、透明基材は、前面基板および背面基板等からなるディスプレイ本体の一構成要素である前面基板と兼用しても良ヽが、前面基板の前に配置する前面フィルタとして複合電磁波シールドフィルタを用いる形態では、薄さ、軽さの点で、板よりもシートの方が優れており、また割れない等の点でも、ガラス板よりも榭脂シートが優れて、ることは言うまでもな、。

[0032] また、複合電磁波シールドフィルタを連続的に製造し生産性を向上できる点では、透明基材は、メッシュ状導電体層形成等の少なくとも製造初期の段階に於いては、連続帯状のシートの形態で取り扱うのが好ましい。

[0033] この様な点で、透明基材としては榭脂シートが好ま、材料であるが、榭脂シートのなかでも、特に、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系榭脂シート、セルロース系榭脂シートが、透明性、耐熱性、コスト等の点で好ましぐより好ましくはポリエチレンテレフタレートシートが最適である。なお、透明基材の透明性は高いほどよいが、好ましくは可視光線透過率で 80%以上となる光透過性が良い。

[0034] なお、榭脂シート等の透明基材は、適宜その表面に、コロナ放電処理、プラズマ処理、オゾン処理、フレーム処理、プライマー処理、予熱処理、除塵埃処理、蒸着処理、アルカリ処理、などの公知の易接着処理を行ってもよい。

[0035] 〔メッシュ層：メッシュ状導電体層〕

メッシュ状導電体層 3aは、電磁波シールド機能を担う層であり、またそれ自体は不透明性であっても、メッシュ状の形状で開口部が存在することにより、電磁波シールド性能と光透過性を両立させており、メッシュ状の形状をして、るメッシュ層 3の必須の層である。なお、メッシュ層 3には、メッシュ状導電体層 3a以外にも、メッシュ層 3の形状的特徴のもととなるメッシュ状導電体層が有するメッシュ形状が維持される点で、後述する防鲭層 3bや黒ィ匕層 3c等も含めて、メッシュ状導電体層 3として捉える。従って、図 1の断面図では、メッシュ層 3としては必須のメッシュ状導電体層のみ符号的に明示した例であるが、必要に応じ設ける防鲭層や黒化層を有する場合のメッシュ層も含めた概念的な図面である。

[0036] メッシュ状導電体層 3aのメッシュ状としての形状は、任意で特に限定されな、が、そのメッシュの開口部の形状として、正方形が代表的である。開口部の形状は、例えば、正三角形等の三角形、正方形、長方形、菱形、台形等の四角形、六角形、等の多角形、或いは、円形、楕円形などである。メッシュはこれら形状力なる複数の開口部を有し、開口部間は通常幅均一のライン状のライン部となり、通常は、開口部および開口部間は全面で同一形状同一サイズである。具体的サイズを例示すれば、開口率およびメッシュの非視認性の点で、開口部間のライン部の幅は 50 m以下、好ましくは 20 m以下が良い。また、開口部サイズは〔ライン間隔或いはラインピッチ〕〔ライン幅〕である力この〔ライン間隔或いはラインピッチ〕で言うと 150 m以上、好ましくは 200 μ m以上とするの力光透過性の点で好ましい。

[0037] なお、バイアス角度 (メッシュのライン部と複合電磁波シールドフィルタの外周辺との成す角度）は、ディスプレイの画素ピッチや発光特性を考慮して、モアレが出難い角度に適宜設定すれば良い。

[0038] また、複数の開口部を有する領域 (メッシュ部 3A)は、少なくとも光透過性が必要な領域であれば良ぐ従って全面でなくても良い。その一例として、図 3の平面図で例示するように、四角形の複合電磁波シールドフィルタ 1、 10〜 14の四辺周囲の画像表示に影響しない部分を額縁状に、開口部無しのままにした額縁部 3Bとして、その内側のみに複数の開口部を有するメッシュ部 3Aとする形態が挙げられる。額縁部はアースを取るのに利用できる。なお、額縁部 3Bは全周囲でなくても、一辺のみ等でも良い。また、額縁部の一部領域或いは全領域はアースが取り易い様に露出させるのが好ましぐこの為には、粘着層、機能層等のメッシュ層上に設ける層は、額縁部では露出された部分が残る様にメッシュ部 3A、乃至はメッシュ部 3Aから一部額縁部 3 Bに力かる様に設けると良、。

[0039] メッシュ状導電体層 3aは、一般的には金属箔のエッチングで形成した物が代表的であるが、これ以外のものでも、電磁波シールド性能に於いては意義を有する。従つて、本発明では、メッシュ状導電体層の材料および形成方法は特に限定されるものでは無ぐ従来公知の光透過性の電磁波シールドフィルタに於ける各種メッシュ状導電体層を適宜採用できるものである。例えば、印刷法やめつき法等を利用して透明基材上に最初からメッシュ状の形状でメッシュ状導電体層を形成したもの、或いは、最初は透明基材上に全面に、めっき法で導電体層を形成後、エッチング等でメッシュ状の形状にしてメッシュ状導電体層としたもの等でも構わない。

[0040] 例えば、メッシュ状導電体層のメッシュ形状をエッチングで形成する場合は、透明基材に積層した金属層をエッチングでパターンユングして開口部を空けてメッシュ状にすることで形成できる。透明基材に金属層を積層するには、金属箔として用意した金属層を接着剤で透明基材にラミネートしたり、或いはラミネート用接着剤は用いずに、金属層を蒸着、スパッタ、めっき等の 1或いは 2以上の物理的或いは化学的形成手法を用いて透明基材上に積層したりすることもできる。なお、エッチングによるメッシュ状導電体層は、透明基材に積層前の金属箔単体をエッチングでパターンユングしてメッシュ状のメッシュ状導電体層とすることも可能である。この層単体のメッシュ状導電体層は、接着剤等で透明基材に積層する。これらのなかでも、機械的強度が弱いメッシュ状導電体層の取扱が容易で且つ生産性にも優れる等の点で、金属箔を接着剤で透明基材に積層した後、エッチングでメッシュ状に加工して、透明基材上に接着剤を介して積層された形態となる、メッシュ状導電体層が望ましい。

[0041] メッシュ状導電体層は、電磁波シールド性能を発現するに足る導電性を有する物質であれば、特に制限は無いが、通常は、導電性が良い点で金属層が好ましぐ金属層は上記の如ぐ蒸着、めっき、金属箔ラミネート等により形成することができる。金属層乃至は金属箔の金属材料としては、例えば、金、銀、銅、鉄、ニッケル、クロム等が挙げられる。また金属層の金属は合金でも良ぐ金属層は単層でも多層でも良い。例えば、鉄の場合には、低炭素リムド鋼ゃ低炭素アルミキルド鋼などの低炭素鋼、 Ni —Fe合金、インバー合金、等が好ましい。一方、金属が銅の場合は、銅や銅合金となるが、銅箔としては圧延銅箔や電解銅箔があるが、薄さおよびその均一性、黒ィ匕層との密着性等の点力もは、電解銅箔が好ましい。

[0042] なお、金属層による導電体層の厚さは、 1-100 μ m程度、好ましくは 2〜10 μ m である。厚さがこれより薄くなり過ぎると電気抵抗上昇により十分な電磁波シールド性能を得難くなり、厚さがこれより厚くなり過ぎると高精細なメッシュ形状が得難くなり、開口率低下により光透過性や、メッシュ側面が邪魔してディスプレイの視野角が低下する。 [0043] また、メッシュ状導電体層となる金属層の表面は、透明接着剤層等の隣接層との密着性向上の為に粗面である事が好ましい。例えば、銅箔の場合、黒化処理による黒化層の形成と同時にその表面（黒ィ匕層の表面）に粗面が得られる。なお、その粗面の程度は、 10点平均粗さ Rz m) FIS— B0601準拠（1994年版）〕で、 0. 1〜10 m程度が良ぐより好ましくは 1. 5 m以下、さらに好ましくは 0. 5〜1. 5 mである。粗さがこれ未満では、粗面化の効果が十分に得られず、またこれより大きくなると、接着剤やレジスト等の塗布時に気泡を抱き込んだりし易くなる。

[0044] 〔メッシュ層：防鲭層〕

メッシュ層 3はメッシュ状導電体層 3aだけでも良、が、金属層からなるメッシュ状導電体層は製造時、取扱時等に鲭びて変質して電磁波シールド性能の低下をきたすことがあるので、鲭びを防ぐ必要がある場合には、防鲭層 3bでメッシュ状導電体層 3a 表面を被覆することが好ましい。また、後述する黒ィ匕層 3cが鲭び易い場合には、黒化層 3cも含めて被覆するのが好ましい。防鲭層 3bの被覆は、メッシュ状導電体層 3a の表面、裏面、側面の各面のうち必要な 1以上の面の中から製造コスト等を勘案して選んだ面について行えば良い。従って、防鲭層 3bの被覆は、表面だけ、裏面だけ、表裏両面〔例えば図 2 (A)参照〕、側面（両側或いは片側)だけ、表面と両側面〔例えば図 2 (B)参照〕、裏面と両側面、表裏両面と両側面等である。

[0045] なお、本明細書にて、「表面」とは、注目層（ここではメッシュ状導電体層）の透明基材 2から遠い方の面（図面上方の面、透明基材ではその図面上方の面）、「裏面」とは該注目層の透明基材 2に近い方の面（図面下方の面、透明基材ではその図面下方の面）、「側面」とは表面と裏面とを連結する面（図面左右方向に向、た面）を言うことにする。また、ディスプレイ用途等に適用した場合に於いて、観察者側の面が常に本発明で定義する表面では無く裏面の場合もあり得る。

[0046] 防鲭層は、それで被覆するメッシュ状導電体層 3aよりも鲭び難ヽものであれば、金属等の無機材料、榭脂等の有機材料、或いはこれらの組合せ等、特に限定されるものではない。また場合によっては、黒ィ匕層 3cをも防鲭層 3bで被覆することで、黒ィ匕層の粒子の脱落や変形を防止し、黒ィ匕層の黒さを高めることもできる。この点では、メッシュ状導電体層を金属箔で形成する場合、透明基材上の金属箔に黒化処理で黒化層を設けておく場合には、該黒化層の脱落や変質防止の意味で、透明基材と金属箔との積層前に設けておくのが好ましい。

[0047] 防鲭層は、従来公知のものを適宜採用すれば良ぐ例えば、クロム、亜鉛、ニッケル、スズ、銅等の金属乃至これら金属を含む合金、或いはこれら金属を含む金属酸ィ匕物等の金属化合物の層等である。これらは、公知のめっき法等で形成できる。ここで

、防鲭効果および密着性等の点で好ましい防鲭層の一例を示せば、亜鉛めつきした後、クロメート処理して得られるクロム化合物層力挙げられる。また、このクロム化合物層による防鲭層は、後述する銅一コバルト合金粒子層力もなる黒ィ匕層、および透明接榭脂層 6 (特に二液硬化型ウレタン榭脂系の接着剤)との密着性にも優れる。

[0048] なお、クロムの場合はクロメート (クロム酸塩)処理等でもよ!/、。なお、クロメート処理は、処理面にクロメート処理液を接触させて行うが、該接触は、ロールコート、カーテンコート、スクイズコート、カゝけ流し法 (以上片面接触)等の塗布法の他、静電霧化法

、浸漬法等によれば両面接触も可能である。また、接触後は水洗せずに乾燥すればよい。なお、クロメート処理液にはクロム酸を含む水溶液を通常使用し、具体的には、「アルサーフ（登録商標） 1000」（日本ペイント株式会社製）、 ΓΡΜ- 284] (日本パ —カライジング株式会社製)等の処理液を利用できる。

[0049] また、クロメート処理は、該処理前に亜鉛めつきするの力密着性、防鲭効果の点で好ましい。また、防鲭層中には、エッチングや酸洗浄時の耐酸性向上の為に、シランカップリング剤等のケィ素化合物を含有させることもできる。

[0050] なお、防鲭層の厚さは通常 0. 001〜10 μ m程度、好ましくは 0. 01〜1 μ mである

[0051] 〔メッシュ層：黒化層〕

黒ィ匕層 3cにより、ディスプレイの明室時の画像のコントラストを向上できる。なお、黒化層の中には、上述した如く該層表面が粗面となり密着強化を図れるものもある。黒化層 3cはディスプレイ画像のコントラスト向上の点では、観察者から見えるメッシュ層 (メッシュ状導電体層自体、或いは防鲭層等形成済みのメッシュ状導電体層）の全ての面に設けることが好ましいが、そのうち、表面、裏面、側面の各面のうち 1以上の面に設ければ相応の効果が得られる。従って、設ける面は、本複合電磁波シールドフィルタとディスプレイとの配置関係にもよるが、表面だけ、裏面だけ、表裏両面〔例えば図 2 (A)参照〕、側面 (両側或いは片側)だけ、表面と両側面〔例えば図 2 (B)参照〕、裏面と両側面、表裏両面と両側面等である。

[0052] いずれにしても、黒ィヒ層としては、黒等の暗色を呈する層であれば良ぐ密着性等の基本的物性を満足するものであれば良ぐ公知の黒ィ匕層を適宜採用し得る。

[0053] 従って、黒ィ匕層としては、金属等の無機材料、黒着色榭脂等の有機材料等を用いることができ、例えば無機材料としては、金属、合金、金属酸化物、金属硫化物の金属化合物等の金属系の層として形成する。金属系の層の形成法としては、従来公知の各種黒ィ匕処理法を適宜採用できる。なかでも、めっき法による黒ィ匕処理は密着性、均一性、容易性等で好ましい。めっき法の材料は、例えば、銅、コバルト、ニッケル、亜鉛、モリブデン、スズ、クロム等の金属や金属化合物等を用いる。これらは、密着性、黒さ等の点でカドミウム等による場合よりも優れている。

[0054] なお、メッシュ状導電体層が銅箔等、銅による場合、黒化層形成の為の黒化処理として好ましいめっき法には、銅からなるメッシュ状導電体層（メッシュ状とする前に行うのであればその前の導電体層）を、硫酸、硫酸銅および硫酸コバルト等力なる電解液中で、陰極電解処理を行ヽカチオン性粒子を付着させるカソーディック電着めつき法がある。この方法によれば、カチオン性粒子の付着で黒色と同時に粗面も得られる。カチオン性粒子としては、銅粒子、銅合金粒子を採用できる。銅合金粒子としては、銅コバルト合金粒子が好ましぐ更にその平均粒子径は 0. 1〜1 μ mが好ましい。銅—コバルト合金粒子により、銅—コバルト合金粒子層力なる黒ィ匕層が得られる。カソーディック電着法では、付着させるカチオン性粒子の平均粒子径 0. 1〜1 μ mに揃えられる点でも好ましい。平均粒子径が上記範囲超過では、付着粒子の緻密さが低下し黒さの低下やムラが起こり、粒子脱落 (粉落ち）が発生し易くなる。一方、平均粒子径が上記範囲未満でも、黒さが低下する。なお、カソーディック電着法は処理を高電流密度で行うことで、処理面がカソーディックとなり、還元性水素発生で活性ィ匕し、銅面とカチオン性粒子との密着性が著しく向上する。

[0055] また、黒化層として、黒色クロム、黒色ニッケル、ニッケル合金等も好ましぐ該ニッケル合金としては、ニッケル—亜鉛合金、ニッケル—スズ合金、ニッケル—スズ—銅合金である。特に、ニッケル合金は黒色度合いと導電性が良い上、黒ィ匕層に防鲭機能も付与でき (黒ィ匕層兼防鲭層となる）、防鲭層を省略することもできる。しかも、通常、黒ィ匕層の粒子は針状のために、外力で変形して外観が変化しやすいが、ニッケル合金による黒ィ匕層では粒子が変形し難ぐ後加工工程で外観が変化し難くい利点も得られる。なお、黒ィ匕層として、ニッケル合金の形成方法は、公知の電解または無電解メツキ法でよぐニッケルメツキを行った後に、ニッケル合金を形成してもよい。

[0056] 〔粘着層〕

粘着層 4は、本発明による複合電磁波シールドフィルタの中間層として存在し、この粘着層 4に接触した各層を接合する機能とともに、下記特定の四種類の近赤外線吸収色素 (A)〜 (D)の内の少なくとも三種類を含有することに基づく近赤外線吸収機能をも、併せて備えたものである。従って、この粘着層 4は、少なくとも 1種の粘着剤と、特定の四種類の近赤外線吸収色素 (A)〜（D)の内の少なくとも三種類の近赤外線吸収色素とを含有するものである。

[0057] ここで、粘着剤とは、単に適度な加圧 (通常、軽く手で押圧する程度の加圧)のみで、表面の粘着性のみで接着可能なものを言う。粘着剤の粘着力発現には、特に加熱、加湿、放射線 (例えば、紫外線や電子線等）照射といった物理的なエネルギー乃至作用が不要で、且つ重合反応等の化学反応も不要である。

[0058] この粘着剤は、各層を接合する機能がある点で広義の接着剤に包含されるが、カロ熱、加湿、放射線照射といった物理的なエネルギー乃至作用によって接着力を発揮する接着剤 (以下、狭義の接着剤と言う場合がある）を包含しないものである。そして、本発明における粘着剤は、接着後も再剥離可能な程度の接着力を経時的に維持し得る点で、上記の狭義の接着剤と区別される。

[0059] 本発明による複合電磁波シールドフィルタにおヽて粘着層 4を構成する粘着剤としては、特に制限は無ぐ公知の粘着剤として慣用されているものの中から、適度な粘着性 (接着力）、透明性、塗工適性を有し、本発明に於いて使用する特定の近赤外線吸収剤と反応してその近赤外線および可視光線領域の透過スペクトルに実質を変ィ匕させることの無ヽものを適宜選択して用いることができる。

[0060] 例えば、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ポリウレタン系粘着剤およびポリエステル系粘着剤等を用いることが出來る。これらの中で、一般的にはアクリル系粘着剤、およびゴム系粘着剤がよく用いられるが、耐光性をも考慮するとアクリル系粘着剤が好まし、。

[0061] 上記アクリル系粘着剤としては、主成分として、例えば (メタ)アクリル酸エステル単独重合体、（メタ）アクリル酸エステル単位 2種以上を含む共重合体および (メタ)アタリル酸エステルと他の官能性単量体との共重合体の中力選ばれた少なくとも 1種を含有するものが用いられる。

[0062] 例えば、（メタ)アクリル酸エステル単独重合体としては、ポリ（メタ）アクリル酸メチル

、ポリ（メタ）アクリル酸ェチル、ポリ（メタ）アクリル酸プロピル、ポリ（メタ）アクリル酸ブチル、ポリ（メタ）アクリル酸ォクチル等が挙げられる。

[0063] アクリル酸エステル単位 2種以上を含む共重合体としては、（メタ)アクリル酸メチル（メタ)アクリル酸ェチル共重合体、（メタ)アクリル酸メチルー（メタ)アクリル酸プチル共重合体、（メタ）アクリル酸メチルー（メタ)アクリル酸 2ヒドロキシェチル共重合体、

(メタ）アクリル酸メチル—（メタ）アクリル酸 2ヒドロキシ 3フエ-ルォキシプロピル共重合体等が挙げられる。

[0064] (メタ）アクリル酸エステルと他の官能性単量体との共重合体としては、（メタ)アタリル酸メチル—スチレン共重合体、（メタ)アクリル酸メチル—エチレン共重合体、（メタ）アクリル酸メチル—（メタ）アクリル酸 2ヒドロキシェチル—スチレン共重合体が挙げられる。

尚、此処で (メタ)アクリル酸とは、アクリル酸、またはメタクリル酸のことを意味する。

[0065] また、ゴム系粘着剤としては、主成分として、例えば天然ゴム、ポリイソプレンゴム、ポリイソブチレン、ポリブタジエンゴム、スチレンブタジエンスチレンブロック共重合体、スチレン一イソプレン一スチレンブロック共重合体などの中力も選ばれた少なくとも 1種を含有するものが用いられる。

[0066] これらの粘着剤には、所望に応じて、イソシァネートイ匕合物等の架橋剤、粘着付与剤、酸化防止剤、シランカップリング剤、充填剤等を配合することができる。

[0067] そして、本発明での粘着層 4は、下記の四種類の近赤外線吸収色素 (A)〜（D)の内の少なくとも三種類を含有するものであって、複合電磁波シールドフィルタとして近赤外線吸収機能を付与する層である。なお、近赤外線とは、可視光領域に隣接し可視光よりも長波長側の光線であり、本発明で注目する近赤外線とは、波長 800〜10 OOnm程度の光線のことである。

[0068] 本発明の粘着層 4において、適当な近赤外線吸収性能としては、一般的には、該 7 80〜： LOOOnmの波長領域にて、平均して、少なくとも 50%以上、好ましくは 80%以上、より好ましくは 90%以上、吸収するのが望ましい。特にプラズマディスプレイ用への複合電磁波シールドフィルタとして用いる場合には、 800〜950nmの波長領域にて、 70%以上、より好ましくは 90%以上の近赤外線吸収性能が望ましい。

[0069] 粘着層の形成は、粘着層形成材料 (例えば、粘着材料、所定の近赤外線吸収色素

、必要に応じて、例えば架橋剤、酸化防止剤、溶剤等のその他の材料を、例えば口ールコート、コンマコート、グラビアコート、カーテンコート、スクイズコート、かけ流し法

、静電霧化法、浸漬法等によって形成する方法が挙げられる。また、任意形状で部分形成可能な層形成手段として、例えば、スクリーン印刷、グラビア印刷等の印刷法を採用することちできる。

本発明では、下記の四種類の近赤外線吸収色素 (A)〜（D)の内の少なくとも三種類を使用することが重要である。

[0071] 近赤外線吸収色素 (A) :

[0072] 近赤外線吸収色素（B) :

[0073] 近赤外線吸収色素（C) :

[0074] 近赤外線吸収色素（D) :

[化 2]

[0075] 本発明における近赤外線吸収色素 (A)〜（D)は、上記式〔I〕で表されるフタロシアニンィ匕合物において、置換基〜 ⁶ならびに M¹に関する所定の条件が満たされる限りにおいて特に制限を受けないが、以下に具体的に記載する。

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子が挙げられる。この中では、特にフッ素原子および塩素原子が好ま U、。

[0076] 窒素原子、硫黄原子、酸素原子、ハロゲン原子を含んでもよい炭素数 1〜20の置換基としては、メチル基、ェチル基、 n—プロピル基、 iso—プロピル基、 n—ブチル基 iso ブチル基、 sec ブチル基、 t ブチル基、 n ペンチル基、 n キシル基、シクロへキシル基、 n プチル基、 n—ォクチル基、 2—ェチルへキシル基、等の直鎖、分岐または環状のアルキル基、メトキシメチル基、フエノキシメチル基、ジェチルアミノメチル基、フエ-ルチオメチル基、ベンジル基、 p—クロ口べンジル基、 p—メトキシベンジル基、等のへテロ原子や芳香環を含むアルキル基、フ -ル基、 p—メトキシフエ-ル基、 p—t ブチルフエ-ル基、 p—クロ口フエ-ル基等のァリール基、メトキシ基、エトキシ基、 n—プロピルォキシ基、 iso プロピルォキシ基、 n—ブチルォキシ基、 iso ブチルォキシ基、 sec ブチルォキシ基、 t ブチルォキシ基、 n— ペンチルォキシ基、 n キシルォキシ基、シクロへキシルォキシ基、 n プチルォキシ基、 n—ォクチルォキシ基、 2—ェチルへキシルォキシ基等のアルコキシ基、メトキシェトキシ基、フエノキシエトキシ基等のアルコキシアルコキシ基、ヒドロキシェトキシ基等のヒドロキシアルコキシ基、ベンジルォキシ基、 p—クロ口べンジルォキシ基、 p ーメトキシベンジルォキシ基等のァラルキルォキシ基、フエノキシ基、 p—メトキシフエノキシ基、 p—t—ブチルフエノキシ基、 p クロロフエノキシ基、 o アミノフエノキシ基 p -ジェチルァミノフエノキシ基等のァリールォキシ基、

ァセチルォキシ基、ェチルカルボ-ルォキシ基、 n プロピルカルボ-ルォキシ基 iso プロピルカルボ-ルォキシ基、 n ブチルカルボ-ルォキシ基、 iso ブチルカルボ-ルォキシ基、 sec ブチルカルボ-ルォキシ基、 t ブチルカルボ-ルォキシ基、 n ペンチルカルボ-ルォキシ基、 n キシルカルボ-ルォキシ基、シクロへキシルカルボ-ルォキシ基、 n プチルカルボ-ルォキシ基、 3 プチルカルボ -ルォキシ基、 n—ォクチルカルボ-ルォキシ基等のアルキルカルボ-ルォキシ基、ベンゾィルォキシ基、 ρ—クロ口ベンゾィルォキシ基、 ρ—メトキシベンゾィルォキシ基 p—エトキシベンゾィルォキシ基、 p—t—ブチルベンゾィルォキシ基、 p—トリフロルオメチルベンゾィルォキシ基、 m トリフルォロメチルベンゾィルォキシ基、 o ァミノベンゾィルォキシ基、 p ジェチルァミノベンゾィルォキシ基等のァリールカルボ-ルォキシ基、

メチルチオ基、ェチルチオ基、 n プロピルチオ基、 iso プロピルチオ基、 n—ブチルチオ基、 iso ブチルチオ基、 sec ブチルチオ基、 tーブチルチオ基、 n ペンチルチオ基、 n キシルチオ基、シクロへキシルチオ基、 n プチルチオ基、 n— ォクチルチオ基、 2—ェチルへキシルチオ基等のアルキルチオ基、ベンジルチオ基、 p クロ口べンジルチオ基、 pーメトキシベンジルチオ基等のァラルキルチオ基、フエ

-ルチオ基、 p—メトキシフヱ-ルチオ基、 p— t ブチルフエ-ルチオ基、 p クロロフェ-ルチオ基、 o ァミノフエ-ルチオ基、 o—（n—ォクチルァミノ）フエ-ルチオ基、 o （ベンジルァミノ）フエ-ルチオ基、 o （メチルァミノ）フエ-ルチオ基、 p ジェチルアミノフヱ-ルチオ基、ナフチルチオ基等のァリールチオ基、

メチルァミノ基、ェチルァミノ基、 n—プロピルアミノ基、 n—ブチルァミノ基、 sec ブチルァミノ基、 n—ペンチルァミノ基、 n キシルァミノ基、 n プチルァミノ基、 n ーォクチルァミノ基、 2—ェチルへキシルァミノ基、ジメチルァミノ基、ジェチルァミノ基、ジー n プロピルアミノ基、ジー n—ブチルァミノ基、ジー sec ブチルァミノ基、ジ —n—ペンチルァミノ基、ジ n キシルァミノ基、ジ—n プチルァミノ基、ジー n—ォクチルァミノ基等のアルキルアミノ基、フエ-ルァミノ基、 p メチルフエ-ルアミノ基、 p—t—ブチルフエ-ルァミノ基、ジフヱ-ルァミノ基、ジー p メチルフエ-ルァミノ基、ジー p—t—ブチルフエ-ルァミノ基等のァリールアミノ基、ァセチルァミノ基、ェチルカルボ-ルァミノ基、 n—プロピルカルボ-ルァミノ基、 iso プロピルカルボ- ルァミノ基、 n ブチルカルボ-ルァミノ基、 iso ブチルカルボ-ルァミノ基、 sec— ブチルカルボ-ルァミノ基、 t ブチルカルボ-ルァミノ基、 n ペンチルカルボ-ルアミノ基、 n キシルカルボ-ルァミノ基、シクロへキシルカルボ-ルァミノ基、 n— ヘプチルカルボ-ルァミノ基、 3—へプチルカルボ-ルァミノ基、 n—ォクチルカルボ -ルァミノ基等のアルキルカルボ-ルァミノ基、ベンゾィルァミノ基、 p—クロ口べンゾィルァミノ基、 p—メトキシベンゾィルァミノ基、 p—メトキシベンゾィルァミノ基、 p— t— ブチルベンゾィルァミノ基、 p—クロ口べンゾィルァミノ基、 p—トリフルォロメチルベンゾィルァミノ基、 m—トリフルォロメチルベンゾィルァミノ基等のァリールカルボ-ルァミノ基、

ヒドロキシカルボ-ル基、メトキシカルボ-ル基、エトキシカルボ-ル基、 n プロピルォキシカルボ-ル基、 iso プロピルォキシカルボ-ル基、 n ブチルォキシカルボ-ル基、 iso ブチルォキシカルボ-ル基、 sec ブチルォキシカルボ-ル基、 t ブチルォキシカルボ-ル基、 n ペンチルォキシカルボ-ル基、 n キシルォキシカルボ-ル基、シクロへキシルォキシカルボニル基、 n プチルォキシカルボ-ル基、 n—ォクチルォキシカルボ-ル基、 2—ェチルへキシルォキシカルボ-ル基等のアルコキシカルボ-ル基、メトキシェトキシカルボ-ル基、フエノキシエトキシカルボ- ル基、ヒドロキシエトキシカルボ-ル基等のアルコキシアルコキシカルボ-ル基、ベンジルォキシカルボ-ル基、フエノキシカルボ-ル基、 p—メトキシフエノキシカルボ-ル基、 p—t—ブチルフエノキシカルボ-ル基、 ρ クロロフヱノキシカルボ-ル基、 o ァミノフエノキシカルボ-ル基、 p ジェチルァミノフエノキシカルボ-ル基等のァリールォキシカルボニル基、

ァミノカルボ-ル基、メチルァミノカルボ-ル基、ェチルァミノカルボ-ル基、 n—プ口ピルアミノカルボ-ル基、 n—ブチルァミノカルボ-ル基、 sec ブチルァミノカルボ -ル基、 n—ペンチルァミノカルボ-ル基、 n キシルァミノカルボ-ル基、 n プチルァミノカルボ-ル基、 n—ォクチルァミノカルボ-ル基、 2—ェチルへキシルァミノカルボニル基、ジメチルァミノカルボ-ル基、ジェチルァミノカルボ-ル基、ジー n プロピルァミノカルボ-ル基、ジー n—ブチルァミノカルボ-ル基、ジー sec ブチルァミノカルボ-ル基、ジ—n—ペンチルァミノカルボ-ル基、ジ—n キシルァミノカルボ-ル基、ジー _n プチルァミノカルボ-ル基、ジー n—ォクチルァミノカルボ -ル基等のアルキルアミノカルボ-ル基、フエ-ルァミノカルボ-ル基、 p—メチルフェ-ルァミノカルボ-ル基、 p—t—ブチルフエ-ルァミノカルボ-ル基、ジフヱ-ルァミノカルボニル基、ジー p メチルフエ-ルァミノカルボ-ル基、ジ—p—t—ブチルフェ-ルァミノカルボ-ル基等のァリールァミノカルボ-ル基、

メチルアミノスルホ -ル基、ェチルアミノスルホ -ル基、 n—プロピルアミノスルホ- ル基、 n ブチルアミノスルホ -ル基、 sec ブチルアミノスルホ -ル基、 n—ペンチルアミノスルホ -ル基、 n キシルアミノスルホ -ル基、 n プチルアミノスルホ-ル基、 n—ォクチルアミノスルホ-ル基、 2—ェチルへキシルアミノスルホ -ル基、ジメチルアミノスルホ -ル基、ジェチルアミノスルホ -ル基、ジ n—プロピルアミノスルホ- ル基、ジー n ブチルアミノスルホ -ル基、ジー sec ブチルアミノスルホ -ル基、ジ —n—ペンチルアミノスルホ-ル基、ジ n キシルアミノスルホ -ル基、ジー n— ヘプチルアミノスルホ -ル基、ジー n—ォクチルアミノスルホ -ル基等のアルキルアミノスルホ -ル基、フエ-ルアミノスルホ -ル基、 p—メチルフヱ-ルアミノスルホ -ル基、 p—t—ブチルフエ-ルアミノスルホ -ル基、ジフエ-ルアミノスルホ -ル基、ジ—p— メチルフエ-ルアミノスルホ -ル基、ジ— p— t—ブチルフエ-ルアミノスルホ-ル基等のァリールアミノスルホ -ル基等が挙げられる。

[0077] 隣り合う 2個の置換基が連結基を介して繋がっていてもよい置換基としては、下記式等で表されるようなヘテロ原子を介して 5員環あるいは 6員環を形成する置換基が挙げられる。

[化 3]

[0078] 近赤外線吸収色素 (A)および (B)における「硫黄原子を介する置換基」、あるいは近赤外線吸収色素 (C)および (D)における「窒素原子を介する置換基」としては、ァミノ基、アミノスルホ -ル基、上記のアルキルチオ基、ァリールチオ基、アルキルアミノ基、ァリールアミノ基、アルキルカルボ-ルァミノ基、ァリールカルボ-ルァミノ基等が挙げられる。フタロシアニンの吸収波長は通常 600〜750nm程度である力硫黄原子あるいは窒素原子を介する置換基が導入されることにより、吸収が長波長化され、 800nm以上に吸収を有するようになる。そのためには、 Ai A¹⁶の内の少なくとも 4 つは硫黄原子を介する置換基および Zまたは窒素原子を介する置換基であり、より好ましくは 8つ以上が硫黄原子を介する置換基および Zまたは窒素原子を介する置換基である。

[0079] 本発明による複合電磁波シールドフィルタにおける近赤外線吸収層は、上記の四種類の近赤外線吸収色素 (A)〜（D)の内の少なくとも三種類を含むものである。即ち、本発明での近赤外線吸収層は、近赤外線吸収層として、上記四種類の近赤外線吸収色素 (A)〜（D)の全種類を含むもの、および上記四種類の化合物から選択された三種類の近赤外線吸収色素を含むものである。三種類の近赤外線吸収色素の選択方法な、しフタロシアニン化合物の組み合わせ、ならびに各フタロシアニン化合物の混合比率等は任意である。例えば、本発明では、フタロシア-ンィ匕合物中の置換基 Ai A¹⁶の具体的内容、それによるフタロシアニン化合物の具体的特定、特に赤外線吸収特性、等を考慮して、フタロシア-ンィ匕合物の組み合わせ、各フタロシァニン化合物の混合比率ならびに全フタロシア-ンィ匕合物の総配合量等を定めることができる。なお、本発明は、同種類のフタロシアニン化合物として分類された化合物を二種以上併用することを排除しない。即ち、例えば近赤外線吸収色素 (A)として分類された化合物群に属する二種以上の近赤外線吸収色素 (A)を併用する場合を排除しな!ヽ。近赤外線吸収色素（B)〜（D)につ、ても同様である。

[0080] このような本発明では、フタロシア-ンィ匕合物の具体的種類およびその組み合わせ、各フタロシア-ンィ匕合物の配合量ないしそれらの配合比率等を適当に変更することによって、複合電磁波シールドフィルタの光学的特性 (例えば、吸収波長領域や光透過率等）を任意に制御することが可能であって、複合電磁波シールドフィルタの具体的用途、目的等に応じた最も好ましい近赤外線吸収フィルタを提供することができる。

[0081] なお、粘着層中には、必要に応じて、近赤外線吸収色素以外の色素を含有させることができる。例えば、近赤外線吸収色素が可視光領域にも吸収を持ち、その吸収が可視光領域で均一で無、ために着色し画像のホワイトバランスが崩れるのを防ぐ為には、可視光領域全体で光吸収が-ユートラル (無彩色）となる様に、更に、可視光領域内のその他の部分に吸収を持つ色素を併用すると良い。或いは、 PDP力ら放射されるネオン発光を抑えて色再現性を向上させるネオン光吸収剤、不要な外光反射を抑える色素等である。

また、粘着層中の近赤外線吸収色素の含有量は、要求特性、透明榭脂層の厚み等に応じて適宜決めれば良いが、例えば、粘着層の全量に対して好ましくは 0. 1〜 10質量％である。

[0082] 本発明におヽて、近赤外線吸収色素は、ディスプレイから放射される近赤外線を吸収する為には、該近赤外線が複合電磁波シールドフィルタを通過する部分であるメッシュ層の開口部に存在すれば良い。従って、所定の粘着力が得られるならば、粘着層はメッシュ層の開口部のみに形成することができる。例えば、特に図 1 (A)の場合には、粘着層は、メッシュ層 3の開口部内及びライン部直上部の両方にわたって形成される。

[0083] また、これ以外の形態として図示は省くが、例えば粘着層をメッシュ層 3の開口部のみに、この開口部を埋めるようにメッシュ層 3とほぼ同一の厚さで形成することができ、また、メッシュ層 3の非開口部領域における色素量を減らすために、メッシュ層 3より僅かに厚い粘着層 4を形成することができる。

[0084] 〔機能層〕

機能層 5は、本発明による複合電磁波シールドフィルタの構成層として、光学特性改善や、保護機能、機械的強度向上等の上述した層構成力は実現できないその他の機能を、複合電磁波シールドフィルタ更に付与する為に、複合電磁波シールドフィルタの表面層あるいは場合によってはその他の層として形成されるものである。この機能層 5は、好ましくは、例えば、（i)光学機能層、例えば反射防止機能層、防眩機能層、ネオン光遮蔽機能層、あるいは (ii)保護機能層、例えば防汚染機能層、傷つき防止機能層、紫外線吸収機能層、ガス (水蒸気を含む)バリヤ機能層、耐衝撃層として、複合電磁波シールドフィルタに形成することができる。

[0085] 以下に、本発明における特に好ましい機能層の具体例を示す。なお、一層の機能層が、同時に複数機能を具備することがあること、そして多くの場合そのように複数機能を具備するものが好ましいしいことから、下記では同一の機能層が複数箇所にわたって記載されて、る場合がある。 [0086] (I)光学機能層

(1)反射防止機能層

反射防止機能層は、高屈折率層と低屈折率層が順に積層されたものが代表的であるが、これ以外の積層構造を持つものもある。高屈折率層は、例えば、 ZnOや TiO の素材の薄膜、もしくはこれらの素材の微粒子が分散した透明榭脂膜である。また、

2

低屈折率層は、 MgFや SiO力もなる薄膜、もしくは SiOゲル膜、または、フッ素含

2 2 2

有の、もしくはフッ素およびケィ素含有の透明榭脂膜である。反射防止機能層が積層されたこと〖こより、積層された側の外光等の不要な光の反射を低下させ、適用されるディスプレイの画像もしくは映像のコントラストを高めることができる。

[0087] (2)防眩機能層

防眩機能層は、例えば、透明榭脂中に直径数 m程度のポリスチレン榭脂ゃアタリル榭脂等のビーズを分散させたものが挙げられ、層が持つ光拡散性により、ディスプレイ前面に配置した際に、ディスプレイの特定の位置、方向に生じるシンチレーシヨンの防止を行なうためのものである。

[0088] (3)ネオン光遮蔽機能層

ネオン光遮蔽機能層は、 PDPにおける主にネオンガスの励起によって放出される 5 95nm付近の不要な発光をカットするためのもので、この波長付近に吸収極大を持つネオン光遮蔽色素およびバインダ榭脂、並びにその他の必要に応じて添加する添加剤等を用いて、前記した近赤外線吸収層の形成と同様にして行なえばよい。ネオン光遮蔽色素としては、シァニン系、ォキソノール系、メチン系、サブフタロシアニン系、もしくはポルフィリン系の化合物を好ましく用いることができ、ポルフィリン系の化合物が耐久性の面で特に好ま、。

[0089] (II)保護機能層

(1)傷つき防止機能層

傷つき防止機能層は、本発明による複合電磁波シールドフィルタを製造する過程、あるいはカ卩ェする過程、あるいは製造あるいはカ卩ェにあたり移動させる過程、あるいは PDPに組み込まれた後の使用過程等において、外部力の衝撃等によって複合電磁波シールドフィルタが傷つくのを防止するものである。この傷つき防止機能層は、十分な表面硬度を有し、実質的に複合電磁波シールドフィルタに悪影響を与えないものが好ましい。そのようなものとしては、例えば透明基材 2として前記したものを挙げることができる。

[0090] (2)防汚染機能層

防汚染機能層は、複合電磁波シールドフィルタを使用する際に、その表面に、不用意な接触や環境力の汚染が原因で、ごみや汚染物質が付着するのを防止し、あるいは付着しても除去しやすくするために形成される層である。例えば、フッ素系コート剤、シリコン系コート剤、シリコン 'フッ素系コート剤等が使用され、なかでもシリコン'フッ素系コート剤が好ましく適用される。これらの防汚染機能層の厚さは好ましくは 0. 1 〜 10 m程度とする。

[0091] (3)紫外線吸収機能層

紫外線吸収機能層は、電気的もしくは電子的な装置や自然光等に含まれる紫外線を、遮蔽ないし制御するものである。このことによって、ディスプレイを構成する各種の榭脂材料その他の構成材料 (例えば、透明榭脂材料や色素等)の耐久性を更に向上させることが可能になる。本発明では、例えば 380nmより下の領域の波長の全てにおいて光線透過率が、 40%以下、好ましくは 30%以下、である紫外線吸収機能層を前記反射防止機能層と近赤外線吸収層 (本発明に於いては前記中間層）との間に設けることができる。このような紫外線吸収機能層が形成された複合電磁波シールドフィルタは、本発明の好ましい一具体例である。紫外線吸収剤は、上述の透明基材中に含有させてもよいし、紫外線吸収剤を含有させた独立の層、即ち、紫外線吸収機能層として設けられていてもよい。紫外線吸収機能層は、バインダー榭脂として、例えば、アクリル系榭脂、ポリカーボネート系榭脂、エチレン一ビニルアルコール系共重合榭脂、エチレン一酢酸ビュル系共重合榭脂、 AS榭脂、ポリエステル系榭脂、塩酢ビ榭脂、ポリビュルプチラール系榭脂、 PVPA、ポリスチレン系榭脂、フエノール系榭脂、フエノキシ系榭脂、ポリスルフォン、ナイロン、セルロース系榭脂、酢酸セル口一ス系榭脂等に、紫外線吸収剤を含有させたものを、塗布法により、通常、 0. 1〜3 0 m、好ましくは 0. 5〜10 mの膜厚の層として形成する。尚、紫外線吸収機能層は、フィルタとしての使用時に近赤外線吸収層よりも外界側に位置させる力、外界側に位置する層に含有させるのが、近赤外線吸収層中の近赤外線吸収剤の劣化を保護するために好ましい。

[0092] 〔透明榭脂層〕

透明榭脂層 6は、例えば図 1 (B)あるいは図 1 (C)のように、メッシュ層 3の開口部を埋めるように形成される場合、特にメッシュ層 3の開口部を埋めた上でメッシュ層 3の非開口部上にも十分な厚さで形成される場合においては、この透明榭脂層 6は、メッシュ層 3の平坦化層として機能するものである。

[0093] この透明榭脂層 6によって、図 1 (B)の場合には、機能層 5との接合界面および機能層 5の表面がより平坦なものとなり、図 1 (C)の場合には、粘着層 4との接合界面、粘着層 4と機能層 5との接合界面および機能層 5の表面がより平坦なものにすること力 S

できる。

[0094] この透明榭脂層 6は、透明榭脂を形成でき、かつメッシュ層 3の開口部を埋めて、本発明による複合電磁波シールドフィルタの構成層として形成可能なものであるならば、任意の材料および方法によって形成することができる。本発明では、例えば、電離放射線照射、熱その他の作用によって透明榭脂を形成可能な組成物からなる塗工液を、平坦面が形成されるように塗工し、それを硬化させることによって形成することが好ましい。本発明によるプラズマディスプレイは、上記の複合電磁波シールドフィルタがプラズマディスプレイ (PDP)の観察側に配置されて、ること、を特徴とするものである。

[0096] 上記の本発明による複合電磁波シールドフィルタが PDP用として用いられる際は、 PDPから放射される電磁波および近赤外線光をカットするべく PDPの前面に設置される。このため、可視光線の透過率が低いと、画像の鮮明さが低下することから、フィルタの可視光線の透過率は高い程良ぐ少なくとも 30%以上、好ましくは 50%以上必要である。

[0097] また、近赤外線光のカット領域は PDPからの発光がある 800〜1000nmであり、その領域の光線の透過率が 30%以下、更に好ましくは 10%以下、になるように設計することが好ましい。

実施例

[0098] 以下、実施例および比較例を挙げ、本発明をさらに具体的に説明する。なお、これらの記載により本発明を制限するものではない。

[0099] <実施例 1>

i斤 ^ ま (A)の

250mlの 4ッロフラスコに、 3— (4 クロロフエノキシ） 4, 5 ビス（フエ-ルチオ） — 6 フルオロフタ口-トリル 20g (41ミリモル）、三塩化バナジウム 2g ( 13ミリモル）、ォクタノール 2gおよびべンゾ-トリル 30gを仕込み、還流下で撹拌しながら約 6時間保持した。その後べンゾニトリル 60gを投入し 60°Cに保温後、 1— (2 アミノエチル）モルホリン 30g (230ミリモル）を加え 60°Cに保持しながらで撹拌し約 6時間保持した。反応液を、ァセトニトリルと水の混合溶液を用いたフタ口-トリル法にて析出させた後、真空乾燥して、 VOPc (PhS) {4-ClPhO} (OC H N (CH ) NH) を 8g得

8 4 4 8 2 2 4 た（ここで、 Pcはフタロシアニンを、 Phはフエ-ルを意味する。以下同様)。なお、近赤外線吸収色素 (A)をポリエステル系榭脂 (バイロン 200、東洋紡績 (株)製）に分散させた場合の最大吸収波長は 925nmであった。

[0100] 沂赤外線吸収色素 (B)の合成

3— (4—クロロフエノキシ） 4, 5—ビス（フエ-ルチオ） 6—フルオロフタ口-トリルの代わりに 3—フエノキシ 4, 5—ビス（4—メトキシフエ-ルチオ） 6—フルオロフタ口-トリル 22g (41ミリモル)を用いた以外はフタロシア-ンィ匕合物 (A)と同様にして、 VOPc{4— (CH 0) PhS} (PhO) (OC H N (CH ) NH) を lOg得た。なお、近

3 8 4 4 8 2 2 4

赤外線吸収色素 (B)をポリエステル系榭脂 (バイロン 200、東洋紡績 (株)製）に分散させた場合の最大吸収波長は 975nmであった。

[oioi]

250mlの 4ッロフラスコに、 3 フエノキシ 4, 5 ビス（2, 5 ジクロロフエノキシ） 6 フルオロフタ口-トリル 20g (34ミリモル）、 3塩化バナジウム 2g ( 13ミリモル）、および n -ォクタノール 30mlを仕込み、窒素をバブリングしながら 170°C下で攪拌しな力約 4時間保持した。その後常温まで冷却し、 PhCH NHを 15g (136ミリモル）とベンゾニトリル 120mlをカ卩え、 90°Cに保温しながらで約 5時間保持した。反応液を冷却し、フタ口-トリル法にて析出させた後、真空乾燥して、 VOPc (2, 5 -C1 PhO) (

2 8

PhO) (PhCH NH) を 180g得た。なお、近赤外線吸収色素（C)をポリエステル系

4 2 4

榭脂 (バイロン 200、東洋紡績 (株)製）に分散させた場合の最大吸収波長は 878nm であった。

[0102] ；斤ま ^虞 (D)の成

三塩ィ匕バナジウムの代わりに、塩化銅 lg (10ミリモル)を用いた他は化合物（C)の合成と同様にして、 CuPc (2, 5— CI PhO) (PhO) (PhCH NH) を 180g得た。な

2 8 4 2 4

お、近赤外線吸収色素 (D)をポリエステル系榭脂 (バイロン 200、東洋紡績 (株)製）に分散させた場合の最大吸収波長は 810nmであった。

[0103] 複合雷磁波シールドフィルタの作製

図 3 (A)において、先ず、メッシュ状導電体層 3aとする金属箔として、一方の面に銅 —コバルト合金粒子力も成る黒ィ匕層 3cが形成された厚さ 10 mの連続帯状の電解銅箔を用意した。また、透明基材 2として厚さ 100 mで連続帯状の無着色透明な二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを用意した。

[0104] そして、前記銅箔の両面に対して、亜鉛めつき後、デイツビング法にて公知のクロメート処理を行い、表裏両面に防鲭層 3bを形成した。次いで、この銅箔をその黒ィ匕層面側で上記透明基材に、平均分子量 3万のポリエステルポリウレタンポリオール 12質量部と、キシレンジイソシァネート系プレボリマー 1質量部と力成る透明な二液硬化型ウレタン榭脂系接着剤でドライラミネートした後、 50°C3日間養生して、銅箔 (防鲭層）と透明基材間に厚さの透明接着剤層を有する連続帯状の銅貼積層シートを得た。

[0105] 次いで、上記銅貼積層シートに対して、その銅箔 (全面の、導電体層、黒化層および防鲭層）をフォトリソグラフィ法を利用したエッチングにより、防鲭層 3b、メッシュ状導電体層 3aおよび黒ィ匕層 3cからなるメッシュ層 3が透明基材 2上に形成されたメッシュ積層シートを得た。

[0106] エッチングは、具体的には、カラー TVシャドウマスク用の製造ラインを利用して、連続帯状の上記銅貼積層シートに対してマスキング力もエッチングまでを行った。すなわち、上記銅貼積層シートの導電体層面全面にエッチングレジストを塗布後、所望のメッシュパターンを密着露光し、現像、硬膜処理、ベーキング後、塩化第二鉄溶液で黒化層、防鲭層を含めて銅箔をエッチングしてメッシュ状の開口部を形成し、次いで

、水洗、レジスト剥離、洗浄、乾燥を順次行った。メッシュ層のメッシュの形状は、図 3 に示されるように、その開口部が正方形で非開口部となる線状部分のライン幅は 10 μ m、そのライン間隔（ピッチ）は 300 m、メッシュ部 3Aの長方形領域の長辺に対する劣角として定義されるバイアス角度 49度である。また、メッシュ層のメッシュは、連続帯状のシートを所望の大きさの枚葉の四角形のシートに切断した時に、その四辺外周に開口部が無、幅 15mmの額縁部 3Bを残す様にエッチングした。

[0107] 次いで、一且卷き取られた上記メッシュ積層シートを、巻き出してそのメッシュ層 3の面に対して、粘着層 4を形成する為に、所定の近赤外線吸収色素を添加した粘着剤形成用塗液 (詳細後記)を、間欠塗工によって、メッシュ上に（固形分基準)塗工量で 25gZm²塗布した。塗工は、幅方向に走る額縁部および両側の額縁部の全内周から 2. 5mm外側の位置まで塗工した。

[0108] なお、上記粘着剤形成用塗液は、上記の近赤外線吸収色素 (A)〜（D)、粘着主剤としてアクリル系粘着剤（SK1811L、綜研ィ匕学 (株)製)を 80g、イソシァネート系硬化剤 (L 45、綜研ィ匕学 (株)製)を 1. 6g、トルエン:メチルェチルケトン (以下、 M EK) = 1： 1の混合溶媒 20gを混合したものであって、上記塗工量で塗工後に於ける開口部での粘着層中の単位面積当りの濃度 (以下、「面積濃度」とも呼ぶ)が順に、近赤外線吸収色素 (A) : 0. 09gZm²、近赤外線吸収色素（B) : 0. 13g/m²,近赤外線吸収色素（C) : 0. 13gZm²、近赤外線吸収色素（D) : 0. 18gZm²となる様な割合で含有したものである。

[0109] そして、上記塗布後、溶剤を乾燥後の塗膜に対して、厚さ 50 mの連続帯状の二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム (コスモシャイン A400、東洋紡績 (株)製）をその易接着処理未処理面で塗膜にラミネートした本発明による複合電磁波シールドフィルタを製造した。

[0110] 複合雷磁波シールドフィルタの評価

得られた本発明による複合電磁波シールドフィルタの製造直後の分光特性を分光光度計（島津製作所製: UV— 3100)を用いて測定した。一方、上記の本発明による複合電磁波シールドフィルタを、温度 60°C、湿度 95%の雰囲気中に 100時間の条件下で保存した後の分光特性を、上記と同様に測定した。

結果は、図 4に示される通りである。図 4において、（i)は製造直後の分光特性を、 (i i)は保存後の分光特性を示す。図 4から明らかな様に、保存後の近赤外線領域の分光透過率は 800〜950nm域において 15%以下を保持し、且つ可視光線域（380〜 780nm)に於いても変化は認められ無い。

[0111] く実施例 2 >

近赤外線吸収色素として 3種類の近赤外線吸収色素、即ち、近赤外線吸収色素（ A) : 0. 13gZm²、近赤外線吸収色素（C) : 0. 13gZm²、近赤外線吸収色素（D)： 0. 18gZm²を用いた以外は実施例 1と同様にして複合電磁波シールドフィルタの製造を行った。

得られた複合電磁波シールドフィルタの製造直後の分光特性、および同フィルタを温度 60°C、湿度 95%の雰囲気中に 100時間の条件下で保存した後の分光特性を、実施例 1と同様に測定した。

結果は、図 5に示される通りである。図 5 (i)は製造直後の分光特性を、図 5 (ii)は保存後の分光特性を示す。図 5から明らかなように、 lOOOnm付近の光線透過率は若干高、ものの、 PDPパネルからの近赤外線輻射強度の強!、800— 950nmも光透過率は 10%以下であり近赤外線を充分に遮蔽していた。

[0112] <比較例 1 >

実施例 1の粘着剤形成用塗液にぉヽて、近赤外線吸収色素 (A)〜（D)の代わりに、ジインモ-ゥム色素（IRG— 022、日本化薬 (株）製）を 0. 25gZm²および 2種類の近赤外線吸収色素、即ち、近赤外線吸収色素（C) : 0. 13gZm²、近赤外線吸収色素（D) : 0. 12gZm²を用いた以外は実施例 1と同様にして、複合電磁波シールドフィルタの製造を行った。

得られた複合電磁波シールドフィルタの製造直後の分光特性、および同フィルタを温度 60°C、湿度 95%の雰囲気中に 100時間の条件下で保存した後の分光特性を、実施例 1と同様に測定した。結果は、図 6に示される通りである。図 6において、（i)は製造直後の分光特性を、 (i i)は保存後の分光特性を示す。図 6から明らかな様に、保存後の近赤外線領域の光透過率は 900〜： LOOOnm付近で 30%を超過し近赤外線遮断性能は不十分となっている。且つ可視域（380〜780nm)に於いても明らかに変化を来たし、色相の変化が認められた。

<比較例 2>

近赤外線吸収色素として 2種類の近赤外線吸収色素、即ち、近赤外線吸収色素（ C) : 0. 13gZm²、近赤外線吸収色素（D) : 0. 12gZm²のみを用いた以外は実施例 1と同様にして複合電磁波シールドフィルタの製造を行った。

結果は、図 7に示される通りである。図 7 (i)は製造直後の分光特性を、図 7 (ii)は保存後の分光特性を示す。図 7から明らかなように、保存試験前後で分光特性の変化は殆ど起きて、な、が、 PDPパネルからの近赤外線輻射強度の強!、800— 950nm のうち 900nm以降を充分に遮蔽できなかった。

Claims

請求の範囲電磁波シールド性能と近赤外線吸収性能を有する複合電磁波シールドフィルタであって、透明基材と、メッシュ状導電体層を含むメッシュ層と、中間層として粘着層とを含んでなり、この粘着層が下記の四種類の近赤外線吸収色素 (A)〜（D)の内の少なくとも三種類を含有することを特徴とする、複合電磁波シールドフィルタ：近赤外線吸収色素 (A) : 下記の式〔I〕で表されるフタロシアニン化合物（但し、 Ai A16の内の少なくとも 4つは硫黄原子を介する置換基であり、かつ少なくとも 3つは塩素原子を有し、 M1は酸化バナジウムである）近赤外線吸収色素（B) : 下記の式〔I〕で表されるフタロシアニン化合物（但し、 Ai A16の内の少なくとも 4つは硫黄原子を介する置換基であり、かつ実質的に塩素原子を有さず、 M1は酸化バナジゥムである）近赤外線吸収色素 (C) : 下記の式〔I〕で表されるフタロシアニン化合物（但し、 Ai A16の内の少なくとも 4つは窒素原子を介する置換基であり、かつ硫黄原子を介する置換基を実質的に含まず、 M1は酸ィ匕バナジウムである）近赤外線吸収色素（D) : 下記の式〔I〕で表されるフタロシアニン化合物（但し、 Ai A16の内の少なくとも 4つは窒素原子を介する置換基であり、かつ硫黄原子を介する置換基を実質的に含まず、 M1は銅である）

[化 1]

請求項 1に記載の複合電磁波シールドフィルタがディスプレイの観察者側に配置されていることを特徴とする、プラズマディスプレイ。