WO2007122745A1

WO2007122745A1 - Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−ピロリジノン類およびその製造方法

Info

Publication number: WO2007122745A1
Application number: PCT/JP2006/313356
Authority: WO
Inventors: Norihiko Hirata; Toshitsugi Uemura
Original assignee: Sumitomo Chemical Company, Limited
Priority date: 2006-04-17
Filing date: 2006-06-28
Publication date: 2007-11-01
Also published as: EP2008999B1; EP2008999A1; US8242285B2; US20090163722A1; CN101415676A; EP2008999A4; US20100280259A1

Description

明細書

N- t e r t一ブトキシカルボ二ルー 2—ピロリジノン類およびその製造方法技術分野

本発明は、 N— t e r t—ブトキシカルボ二ルー 2—ピロリジノン類、およびその製造方法に関する。背景技術

従来、 2—ピロリジノン類のジ— t e r t—プチルジ力一ポネートを用いた N- t e r t—ブトキシカルボニル化（以下、単に N— B o c化と略記することもある）では、ァセトニトリルを反応溶媒として用いる方法（T e t r a h e d r o n, 6 1 (1 3) ， 327 1 (2005) 参照）、 N, N—ジメチルホルムアミドを反応溶媒として用いる方法（WO— 200208 1442参照 ) 、テトラヒドロフランを反応溶媒として用いる方法（US— 5024994 参照）、トリェチルァミンを反応溶媒として用いる方法（WO— 980532 7参照）や、非極性のハロゲン系溶媒を用いる方法（J . O r g. C h em. , 68 (1 9) ， 72 1 9 (2003) 参照）などが知られている。

これらの極性溶媒を用いる方法においては、反応時に併用した塩基を除去する目的で水洗すると、極性溶媒と水との分液が困難であり、一旦、疎水性有機溶媒で置換した後に水洗しなければならないという問題があった。また、塩化メチレン等のハロゲン系溶媒（J. O r g. Ch em. ， 68 (1 9) , 72 19 (2003) 参照）を用いる場合は溶媒蒸気の毒性という問題があり、ェ業的な製造方法としては、いずれの方法も必ずしも満足できるものではなかつた。

本発明者らは、上記したような問題が少ない 2—ピロリジノン類の N— B o c化の方法について検討した結果、芳香族系溶媒中で 2—ピロリジノン類の N -Bo c化する方法を見出した。また、新規な N— t e r t一ブトキシカルボニル一 2—ピロリジノン類を見出した。発明の開示

本発明の目的は、工業的にも有利な N— t e r t—ブトキシカルボ二ルー 2 一ピロリジノン類の製造方法を提供することにある。即ち、本発明は、以下の [ 1 ] ~ [ 1 2] を提供するものである。

[1] . 下記式（1) で示される N— t e r t—ブトキシカルポニル— 2—ピ口リジノン類。

。

[式中、 R"、 R² 、 R³ 、 R⁴ 、 R⁵ および R⁶ は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、シァノ基、置換基を有していてもよい炭素数 1〜 1 0 の直鎖、分枝鎖もしくは環状のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数 2〜 1 0の直鎖、分枝鎖もしくは環状のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数 6〜20のァリール基、置換基を有していてもよいアミノ基、一 O R_a基、又は— SR_b基を表し、 R_aおよび R_bは、それぞれ独立して、水素原子、炭素数 2〜 1 0のアルキルカルボ二ル基、炭素数 7 ~ 20のァリールカルポニル基、炭素数 7〜20のァラルキル基、炭素数 2〜 1 0のアルコキシアルキル基、炭素数 3〜1 0のトリアルキルシリル基、炭素数 1〜 1 0のアルキル基、炭素数 6~20のァリール基を表し、

また、 R¹と R² が結合して、その結合炭素原子とともに >C =〇基を形成してもよく、 R³ と R⁴ が結合して、その結合炭素原子とともに >C = 0基を形成してもよく、 R⁵ と R⁶ が結合して、その結合炭素原子とともに〉 C =〇基を形成してもよく、

R R² 、 R³ 、 R⁴ 、 R⁵ および R⁶ のうち任意の 2つが結合して、置換基を有していてもよい炭素数 1 ~4のポリメチレン基を形成していてもよく、かかるポリメチレン基を構成する 1つまたは互いに隣接しない 2つのメチレン基が酸素原子に置き換わっていてもよく、ポリメチレン基を構成する 1つまたは 2つのエチレン基がビニレン基に置き換わっていてもよく、ポリメチレン基を構成する互いに隣接しない 2つのメチレン基同士が、酸素原子、メチレン基、エチレン基またはビニレン基を介して結合していてもよい。 ]

[2] . 式（1) における R R² 、 R³ 、 R⁴ 、 R⁵ および R⁶ が、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数 1〜3の直鎖もしくは分岐鎖状のアルキル基を表すか、または、 R R² 、 R³ 、 R⁴ 、 R ⁵ 及び R⁶ のうち任意の 2つが結合して、置換基を有していてもよい炭素数 1 〜 4のポリメチレン基を形成している [ 1 ] 記載の N— t e r t一ブトキシカルポニル— 2—ピロリジノン類。

[3] . 式（1) における R R² 、 R⁴ および R⁶ が水素原子であり、 R ³ と R⁵ が結合して、置換基を有していてもよい炭素数 1〜4のポリメチレン基を形成している [ 1 ] 記載の N— t e r t—ブトキシカルポニル— 2—ピロリジノン類。 '

[4] . 3— t e r t—ブトキシカルボ二ルー 6， 6—ジメチル— 3—ァザビシクロ [3. 1. 0] へキサン— 2—オン。

[5] ( 1 R, 5 S) e t一ブトキシカルポ二ルー 6 , 6—ジメチルー 3—ァザビシク口

0] へキサン一 2—オン。

[6] . 下記式（2)

[式中、 R R R R R⁵ および R⁶ は、前記と同じ意味を表すで示される 2 -ピロリジノン類とジ t e r 一プチルジ力一ポネ一トとを、芳香族系溶媒中で反応させる下記式 1)

(式中、 R R² 、 R³ 、 R⁴ 、 R⁵ および R⁶ は、前記と同じ意味を表すで示される N— t e r t—ブトキシカルボ二ルー 2—ピロリジノン類の製造方法。

[7] . 芳香族系溶媒中で塩基の存在下に反応させる [6] 記載の製造方法。

[8] . 芳香族系溶媒が、芳香族炭化水素系溶媒である [6] または [7] 記載の製造方法。 [9] . 芳香族炭化水素系溶媒が、トルエンである [8] 記載の製造方法。

[ 1 0] . 式（1) および（2) における R R² 、 R³ 、 R⁴ 、 R⁵ および R⁶ が、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数

1〜3の直鎖もしくは分岐鎖状のアルキル基を表すか、または、 R"、 R² 、 R³ 、 R⁴ 、 R⁵ および R⁶ のうち任意の 2つが結合して、置換基を有していてもよい炭素数 1〜4のポリメチレン基を形成している [6] - [9] のいずれかに記載の製造方法。

[ 1 1] . 式（1) および（2) における R'、 R² 、 R⁴ および R⁶ が水素原子であり、 R³ と R⁵ が結合して、置換基を有していてもよい炭素数 1 ~4 のボリメチレン基を形成している [6] 〜 [9] のいずれかに記載の製造方法

[ 1 2] . 式（1) および（2) における R R² 、 R⁴ および R⁵ が水素原子であり、 R³ と R⁵ の 2つが結合して（CH₃ ) ₂ C<基を形成している [6] 〜 [9] のいずれかに記載の製造方法。

3 .

発明を実施するための形態

以下、本発明を詳細に説明する。

式（1) で示される N— t e r t—ブトキシカルポニル— 2—ピロリジノン類 [以下、 B o c— 2—ピロリジノン類（1) と略記することもある] は、式 (2) で示される 2—ピロリジノン類 [以下、 2—ピロリジノン類（2) と略記することもある] とジ— t e r t—プチルジ力一ボネ一卜とを芳香族系溶媒中で反応させることにより得ることができる。該反応は芳香族系溶媒中で塩基の存在下に行うことが好ましい。上述した 2—ピロリジノン類（2) における R R² 、 R³ 、 R⁴ 、 R⁵ および R⁶ は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、シァノ基、置換基を有していてもよい炭素数 1〜 1 0の直鎖、分枝鎖もしくは環状のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数 2〜 1 0の直鎖、分枝鎖もしくは環状のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数 6〜20のァリール基、置換基を有していてもよいアミノ基、一 OR_a基、又は一 SR_b基を表わし、 R_aおよび R_bは、それぞれ独立して、水素原子、炭素数 2〜 1 0のアルキル力ルポニル基、炭素数 7~20のァリ一ルカルポニル基、炭素数 7〜20のァラルキル基、炭素数 2〜 1 0のアルコキシアルキル基、炭素数 3〜 1 0のトリアルキルシリル基、炭素数 1 ~ 1 0のアルキル基、炭素数 6〜 20のァリール基を表す。

また、 R'と R² が結合して、その結合炭素原子とともに >C = 0基を形成してもよく、 R³ と R⁴ が結合して、その結合炭素原子とともに >C =〇基を形成してもよく、 R⁵ と R⁶ が結合して、その結合炭素原子とともに >C =〇基を形成してもよい。

あるいは、 R R² 、 R³ 、 R⁴ 、 R⁵ および R⁶ のうち任意の 2つが結合して、置換基を有していてもよい炭素数 1〜4のポリメチレン基を形成していてもよい。かかるポリメチレン基を構成する 1つまたは互いに隣接しない 2 つのメチレン基が、酸素原子または硫黄原子に置き換わっていてもよく、ポリメチレン基を構成する 1つまたは 2つのエチレン基がビニレン基に置き換わつていてもよい。また、ポリメチレン基を構成する互いに隣接しない 2つのメチレン基同士が、酸素原子、硫黄原子、メチレン基、エチレン基またはビニレン基を介して結合していてもよい。炭素数 1〜 4のポリメチレン基上に置換していてもよい置換基としては、上記 R '、 R ² 、 R ³ 、 R ⁴ 、 R ⁵ および R ⁶ で示される置換基と同一の置換基が挙げられる。

また、 R R ² 、 R ³ 、 R ⁴ 、 R ⁵ および R ⁶ は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数 1〜 3の直鎖もしくは分岐鎖状のアルキル基を表すか、または、それらの基のうち任意の 2つが結合して、置換基を有していてもよい炭素数 1 ~ 4のポリメチレン基を形成していることが好ましい。

さらに、 R R ² 、 R ⁴ および R ⁶ が水素原子であり、 R ³ と R ⁵ が結合して、置換基を有していてもよい炭素数 1〜4のポリメチレン基を形成していることが好ましい。ここで、ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、フッ素原子、ヨウ素原子が挙げられる。

置換基を有していてもよい炭素数 1〜 1 0のアルキル基としては、例えば、メチル基、ェチル基、 n—プロピル基、イソプロピル基や n—ブチル基等の炭素数 1〜 1 0の鎖状アルキル基；シクロペンチル基、シクロへキシル基等の炭素数 3〜 1 0の環状アルキル基；クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、フルォロメチル基、ジフルォロメチル基、トリフルォロメチル基等のハロゲン化アルキル基；ァセチル基、ベンゾィル基、ベンジル基、フエニル基、メチル基、メトキシメチル基ゃトリメチルシリル基等の置換基で置換されていてもよいヒドロキシメチル基又はヒドロキシェチル基等のヒドロキシアルキル基；ァセチル基、ベンゾィル基、メチル基、ベンジル基、フエニル基、 t e r t —ブトキシカルポニル基、ベンジルォキシカルボニル基等の置換基を有してもよいアミノメチル基ゃアミノエチル基等のアミノアルキル基；メチル基、ェチル基、 n—プロピル基、イソプロピル基、ベンジル基等の置換基を有していてもよいヒドロキシカルポニルメチル基ゃヒドロキシカルポ二ルェチル基等のヒドロキシカルポニルアルキル基；ハロゲン原子、アルコキシ基、水酸基、ニトロ基、シァノ基、炭素数 1〜 6のアルキル基ゃァリール基等で置換されていてもよいフエニルメチル基、フエニルェチル基等のァラルキル基等が挙げられる。置換基を有していてもよい炭素数 2〜 1 0のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、ェテニル基、 1 一プロぺニル基、 2—プロぺニル基、 1 一ブテニル基、 2—ブテニル基、 3 —ブテニル基等の炭素数 2〜 1 0のアルケニル基；メチル基、ェチル基、 n—プロピル基、イソプロピル基、ベンジル基等の置換基で置換されていてもよいヒドロキシカルポ二ルェテニル基等のヒドロキシカルポニルァルケニル基等が挙げられる。置換基を有していてもよい炭素数 6〜 2 0のァリール基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、水酸基、ニトロ基、シァノ基や炭素数 1〜 6のアルキル基等で置換されていてもよいフエ二ル基ゃナフチル基等が挙げられる置換基を有していてもよいアミノ基としては、例えば、ァセチル基、ベンゾィル基、メチル基、ベンジル基、 t e r t —ブトキシカルボニル基やべンジルォキシカルボニル基等のような置換基で置換されていてもよいアミノ基や、ヒドロキシィミノ基、メトキシィミノ基等のォキシム基等が挙げられる。

— OR_a基の R_aとしては、例えば、水素原子、ァセチル基などの炭素数 1〜 1 0のアルキルカルポニル基、ベンゾィル基などの炭素数 6〜20のァリールカルボ二ル基、ベンジル基などの炭素数 6~20のァリールアルキル基、メトキシメチル基などの炭素数 1 ~ 1 0のアルコキシアルキル基、トリメチルシリル基などの炭素数 1〜 1 0のトリアルキルシリル基、メチル基、ェチル基、 n 一プロピル基、ィソプロピル基、 t e r t—ブチル基などの炭素数 1〜 1 0のアルキル基やフエニル基などの炭素数 6 ~ 20のァリール基などが挙げられる。

— SR_b基の R_bとしては、例えば、水素原子、ァセチル基などの炭素数 1〜 1 0のアルキルカルポニル基、ベンゾィル基などの炭素数 6〜20のァリ一ルカルポニル基、ベンジル基などの炭素数 6〜20のァリールアルキル基、メトキシメチル基などの炭素数 1〜 1 0のアルコキシアルキル基、卜リメチルシリル基などの炭素数 1~1 0のトリアルキルシリル基、メチル基、ェチル基、 n— プロピル基、イソプロピル基、 t e r t—ブチル基などの炭素数 1〜 1 0のァルキル基やフエニル基などの炭素数 6〜 20のァリール基などが挙げられる。 R，、 R² 、 R³ 、 R⁴ 、 R⁵ および R⁶ のうち任意の 2つが結合して形成される基の具体的な構造としては、例えば、下記式で示される二価の基などが挙げられる。一 CH₂ —、一 (CH₂ 2 一、一 (CH₂ ) ₃ —、 — (CH₂ ) 4 - > ( CH₃ ) 2 C<、 (C 1 ) C<、 (F) , C<、 >CH (C〇₂ C ₂ H₅ )

2—ピロリジノン類（2) としては、例えば、 2—ピロリジノン、 3—メチルー 2—ピロリジノン、 4一メチル一 2—ピロリジノン、 5—メチル一 2—ピロリジノン、 4， 4ージメチル一 2—ピロリジノン、 5, 5—ジメチル一 2— ピロリジノン、 3—ェチル一 2—ピロリジノン、 4一プロピル一 2—ピロリジノン、 4—シクロへキシルー 2—ピロリジノン、 4ーメチルー 4一プロピル一 2—ピロリジノン、 2—ァザビシクロ [3, 1， 0] へキサン一 3—オン、 3 —ァザビシクロ [3. 1. 0] へキサン一 2—オン、 6, 6—ジメチルー 3— ァザビシクロ [3. 1. 0] へキサン一 2—オン、 2—ァザビシクロ [2. 2 . 1] ヘプタン一 3—オン、 2—ァザビシクロ [3. 3. 0] オクタン一 3— オン、 3—ァザビシクロ [3. 3. 0] オクタン一 2—オン、 7—ァザビシク口 [4. 3. 0] ノナン一 8—オン、 8—ァザビシクロ [4. 3. 0] ノナン — 7—オン、 4—ァザトリシクロ [5. 2. 1. 0² ■ ⁶ ] デカー 3オン、 4 —ァザトリシクロ [5. 2. 2. 0² · ⁶ ] ゥンデ力一 3オン、 2—ァザスピ口 [4. 4] ノナン一 3—オン、スピロ [ビシクロ [2. 2. 2] オクタン一 2 , 3，一ピロリジン] 一 5，一オン、 3— （2—プロぺニル）一 2—ピロリジノン、 2—ァザビシクロ [2. 2. 1] ヘプタ一 5—ェンー 3—オン、 3— ァザビシクロ [3. 2. 0] ヘプタン一 2—オン、 2—ァザビシクロ [3. 3 . 0] ォク夕一 7—ェンー 3—オン、 8—ァザビシクロ [4. 3. 0] ノナン — 3—ェン一 7—オン、 4一ァザトリシクロ [ 5. 2. 1. 0² ' ⁶ ] デカ一 8—ェン— 3オン、 4—ァザトリシクロ [5. 2. 2. 0² · ⁶ ] ゥンデ力— 8—ェン一 3オン、 6, 6—ジクロ口一 3—ァザビシクロ [3. 1. 0] へキサンー 2—オン、 6， 6—ジフルオロー 3—ァザビシクロ [3. 1. 0] へキサン一 2—オン、 3—べンジルー 2—ピロリジノン、 5—ベンジル一 2—ピロリジノン、 4一べンジルー 4—メチルー 2—ピロリジノン、 6—エトキシカルポニルー 3—ァザビシクロ [3. 1. 0] へキサン一 2—オン、 2— （5—ォキソピロリジン— 2—ィル）酢酸ェチル、 3— (2—ォキソピロリジン— 3— ィル）アクリル酸メチル、 3—フエ二ルー 2—ピロリジノン、 4一フエニル— 2—ピロリジノン、 5—ジフエニル一 2—ピロリジノン、 5— (3—ヒドロキシフエ二ル）一 2—ピロリジノン、 1一フエニル一 3—ァザビシクロ [3. 1 . 0] へキサン一 2—オン、 4一クロ口一 2—ピロリジノン、 4、 4—ジフルオロー 2—ピロリジノン、 4—ヒドロキシ一 2—ピロリジノン、 3—ヒドロキシ一2—ピロリジノン、 4—ァセトキシ一 2—ピロリジノン、 4ーメ卜キシー 2—ピロリジノン、 4一 t e r t—ブトキシ一 2—ピロリジノン、 4—ベンジルォキシー 2—ピロリジノン、 4一フエニルォキシー 2—ピロリジノン、 3— ヒドロキシー 4—メチル一 2—ピロリジノン、 3—ヒドロキシー 3—メチル一 2—ピロリジノン、 4—ヒドロキシ一 5—ヒドロキシメチル一 2—ピロリジノン、 3， 3—ジメチル— 2， 4ージォキサー 7—ァザビシクロ [3. 3. 0] オクタン一 6—オン、 3—フエニル一 2， 4ージォキサー 7—ァザビシクロ [ 3. 3. 0 ] オクタン— 6—オン、 3, 3—ジメチル— 2—ォキサ— 7—ァザピシクロ [3. 3. 0] オクタン— 6—オン、 1, 4—ジォキサ一 7—ァザスピロ [4. 4] ノナン一 8—オン、 4ーァザ一 1 0—ォキサトリシクロ [5.

2. 1. 0² ⁶ ] デカー 3オン、 4ーァザ— 1 0—ォキサ卜リシクロ [ 5. 2. 1. 0^{2 6} ] デカー 8—ェン— 3オン、 3—ヒドロキシ一 9—ァザビシクロ [4. 3 0] ノナン一 8—オン、 4—メルカプト一 2—ピロリジノン、 4一メルカプト 5—メチルー 2—ピロリジノン、 4一フエ二ルチオ一 2—ピロリジノン、 1 4—ジチア一 7—ァザスピロ [4. 4] ノナン一 8—オン、 1， 4—ジチア一 7—ァザスピロ [4. 4] ノナン一 6—オン、 6, 1 0—ジチア一 2—ァザスピロ [4. 5] デカン一 3—オン、 4—ァセチルアミノー 2 —ピロリジノン、 4ージメチルアミノー 2—ピロリジノン、 4一べンジルアミノ一 2—ピロリジノン、 4一べンゾィルァミノ一 2—ピロリジノン、 4— t e r t一ブトキシカルポニルァミノ一 2—ピロリジノン、 4一ベンジルォキシカルポニルァミノ一 2—ピロリジノン、 3—ァセチルァミノ一 2—ピロリジノン、 3—ジメチルァミノ一 2—ピロリジノン、 3—べンジルアミノー 2—ピロリジノン、 3—ベンゾィルアミノー 2—ピロリジノン、 3— t e r t—ブトキシカルボニルァミノ一 2—ピロりジノン、 3—ベンジルォキシカルボニルァミノ一 2—ピロリジノン、 4— t e r t—ブトキシカルボニルアミノメチル一 2— ピロリジノン、 5— t e r t—ブトキシカルポニルアミノメチル一 2—ピロリジノン、 4—メトキシイミノー 2—ピロリジノン、コハク酸イミド、 2, 4— ピロリジンジオン等、およびこれらの光学活性体などが挙げられる。かかる 2—ピロリジノン類（2) は、公知の方法に従って製造されたものでもよいし、それ以外の方法で製造されたものでもよく、市販品を使用してもよい。反応に用いる塩基としては、例えば、ピリジン、キノリン、イソキノリン、 N, N—ジメチルァミノピリジン、 2—ピコリン、 3—ピコリン、 4—ピコリン、 2， 3—ルチジン、 2， 4ールチジン、 2， 5—ルチジン、 2 , 6—ルチジン、 3, 4—ルチジン、 3， 5—ルチジン、 3—クロ口ピリジン、 2—ェチルー 3—メチルピリジン、 5—ェチルー 2—メチルピリジン、 N， N—ジメチルァニリン、 N， N—ジェチルァニリン、トリェチルァミン、トリー n—プチルァミン、ベンジルジメチルァミン、 N—メチルモルホリン、フエネチルジメチルァミン、 N—メチルビペリジン、 1， 8—ジァザビシクロ [5. 4. 0] ゥンデック一 7—ェン、 1， 4—ジァザビシクロ [2. 2. 2] オクタン等が挙げられる。

これらの塩基は単独でも 2種類以上用いることも可能である。塩基としては、 N, N—ジメチルァミノピリジン、トルェチルァミンをそれぞれ単独で用いるか、あるいはこれらを合わせて用いることが好ましい。用いられる塩基の使用量は、 2—ピロリジノン類（2) に対して、通常、 0. 0 1〜5モル倍、好ましくは 0. 0 2〜 1モル倍の範囲である。反応に用いる芳香族系溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、ェチルベンゼン、イソブチルベンゼン、キシレン、ジェチルベンゼン、クメン、シメン、ジイソプロピルベンゼン、メシチレン、 1 , 2， 4, 5—テトラメチルべンゼン、クロ口ベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロ口ベンゼン、ブロモベンゼン、ジブロモベンゼン、ブロモクロロベンゼン、フルォロベンゼン、ひ， , α—トリフルォロトルエン、ニトロベンゼン、ニトロクロ口ベンゼン、ベンゾニトリル、スチレン、ァニソ一ル、ジメトキシベンゼン、安息香酸ェチル、フタル酸ジ（2—ェチルへキシル）や Ν， Ν—ジメチルァニリン等が挙げられる。

好ましい芳香族系溶媒としては、トルエン、キシレン、クロ口ベンゼン又は a, a, α—トリフルォロトルエンが挙げられる。特に好ましい溶媒としてはトルエンが挙げられる。

これらの溶媒は 2種以上を混合して用いてもよい。芳香族系溶媒の使用量は、 2—ピロリジノン類（2) に対して、通常は 1〜 5 0重量倍の範囲、好ましくは 1〜 1 0重量倍の範囲である。ジー t e r t—プチルジ力一ポネートの使用量は、 2—ピロリジノン類（2 ) に対して、通常は 1〜 1 0モル倍の範囲、好ましくは 1〜2モル倍の範囲である。上記の反応は、例えば、 2—ピロリジノン類（2) とジー t e r t—ブチルジカーボネートと芳香族系溶媒、必要に応じて塩基を混合し、所望の反応温度に調節することにより実施される。

また、上記の反応は、 2—ピロリジノン類（2 ) と芳香族系溶媒、必要に応じて塩基とからなる溶液中に、ジー t e r t—プチルジ力一ポネート又はジー t e r t—プチルジ力一ポネートと溶媒とからなる溶液を滴下ことにより実施してもよい。前記の反応温度は、通常は 0で〜反応溶媒の沸点以下の範囲であり、好ましくは 1 0〜； I 0 0での範囲である。このようにして、 N— B o c化された 2—ピロリジノン類（1 ) を含む反応溶液が得られる。反応終了後、溶媒を留去してシリカゲルカラムクロマト等により単離することも可能であるが、通常は反応で使用した塩基等を除去するため、後処理操作を行う。

後処理操作では、 N— B o c化反応終了後に得られた溶液に、水または酸性水溶液を加えて混合、分液することにより、上記の塩基を水層に除去する。水または酸性水溶液による洗浄操作は繰り返し行われてもよい。また、酸性水溶液による洗浄後、アル力リ性水溶液又は水を用いて洗浄を繰り返し行ってもよい。

上記の酸性水溶液に用いられる酸としては、例えば、無機酸（塩化水素、臭化水素、硫酸、リン酸等）や有機酸（酢酸、クェン酸等）が挙げられる。これらの酸の使用量は、塩基に対して、通常は 0 . 5〜 2 0モル倍の範囲であり、好ましくは 1〜 5モル倍の範囲である。アル力リ性水溶液による洗浄操作を行う際に用いられる塩基としては、例えば、アルカリ金属水酸化物（水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等）、アルカリ金属炭酸塩（炭酸ナトリウム、炭酸力リウム等）、アルカリ金属重炭酸塩（炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等）等が挙げられる。後処理時には、通常は反応で使用した芳香族系溶媒がそのまま用いられるが、生成物を溶解させる目的や分液性を向上させる目的で、芳香族系溶媒以外の有機溶媒を加えて、洗浄操作を行ってもよい。芳香族系溶媒以外の有機溶媒の種類や使用量に関しては、特に制限されるものではない。このようにして得られた溶液は、例えば、有機溶媒の濃縮等を行うことにより、 B o c— 2 —ピロリジノン類（1 ) を単離することができる。この B o c — 2—ピロリジノン類（1 ) は、さらにカラムクロマトグラフィーや再結晶法等により精製してもよい。

再結晶の方法は、通常の再結晶法を用いればよく、特に限定されるものではない。

再結晶法としては、例えば良溶媒に溶解した後、貧溶媒を滴下して結晶を析出させる方法、 B o c— 2—ピロリジノン類（1 ) を再結晶溶媒に加熱して溶解させた後、冷却して結晶を析出させる方法、再結晶溶媒に溶解させた後、濃縮により溶媒を留去させて結晶を析出させる方法、又はこれらの方法を組合せた方法等が挙げられる。

また、 B o c— 2 —ピロリジノン類（1 ) が光学活性体である場合は、上記の再結晶を行うと、光学活性体の光学純度が向上する場合がある。 B o c— 2—ピロリジノン類（ 1 ) における R¹、 R² 、 R³ 、 R⁴ 、 R⁵ および R⁶ は 2—ピロリジノン類（2) において定義した R R² 、 R³ 、 R⁴ 、 R⁵ および R⁶ と同じ意味を表す。

B o c— 2—ピロリジノン類（ 1 ) の具体例としては、 N— t e r t—ブトキシカルポニル— 2—ピロリジノン、 N— t e r t—ブトキシカルポニル— 3 ーメチルー 2—ピロリジノン、 N— t e r t—ブトキシカルボニル一 4ーメチル— 2—どロリジノン、 N— t e r t—ブトキシカルボ二ルー 5—メチル— 2 —ピロリジノン、 N— t e r t—ブトキシカルポ二ルー 4， 4ージメチル— 2 —ピロリジノン、 N— t e r t—ブトキシカルポ二ルー 5 , 5—ジメチル— 2 —ピロリジノン、 N— t e r t—ブトキシカルポ二ルー 3—ェチルー 2—ピロリジノン、 N— t e r t—ブトキシカルボニル一 4—プロピル一 2—ピロりジノン、 N— t e r t—ブトキシカルポ二ルー 4—シクロへキシルー 2—ピロリジノン、 N— t e r t—ブトキシカルボニル一 4—メチル— 4一プロピル— 2 一ピロリジノン、 2— t e r t—ブトキシカルポニル一 2—ァザビシクロ [3 ， 1， 0] へキサン— 3—オン、 3— t e r t—ブトキシカルポニル— 3—ァザビシクロ [3. 1. 0] へキサン一 2—オン、 6, 6—ジメチル一 3— t e r t一ブトキシカルポ二ルー 3—ァザビシクロ [3. 1. 0] へキサン— 2— オン、 2— t e r t—ブトキシカルボニル一 2—ァザビシクロ [2. 2. 1 ] ヘプタン一 3—オン、 2— t e r t—ブトキシカルポ二ルー 2—ァザビシクロ [3. 3. 0] オクタン一 3—オン、 3— t e r t—ブトキシカルポ二ルー 3 ーァザビシクロ [3. 3. 0] オクタン一 2—オン、 7— t e r t—ブトキシカルボニル一 7—ァザビシクロ [4. 3. 0] ノナン一 8—オン、 8— t e r t一ブトキシカルポ二ルー 8—ァザビシクロ [4. 3. 0] ノナン一 7—オン 4 - t e r t一ブトキシカルポニル— 4ーァザトリシクロ [ 5. 2. 1. 0 ² · ⁶ ] デカ— 3オン、 4一 t e r t—ブトキシカルポ二ルー 4—ァザトリシクロ [5. 2. 2. 0² · ⁶ ] ゥンデ力一 3オン、 2— t e r t—ブトキシカルポニル一 2—ァザスピロ [4. 4] ノナン— 3—オン、 N— t e r t—ブトキシカルポ二ル一スピロ [ビシクロ [2. 2. 2] オクタン一 2， 3 ' 一ピロリジン] ― 5 ' —オン、 N— t e r t—ブトキシカルポ二ルー 3— （2—プロぺニル）一 2—ピロリジノン、 2— t e r t—ブトキシカルポ二ルー 2—ァザビシクロ [2. 2. 1] ヘプ夕一 5—ェン一 3—オン、 3— t e r t—ブトキシカルボ二ルー 3—ァザビシクロ [3. 2. 0] ヘプタン一 2—オン、 2— t e r t—ブトキシカルポニル一 2—ァザどシクロ [3. 3. 0] ォク夕— 7— ェン一 3—オン、 8— t e r t—ブトキシカルポ二ルー 8—ァザピシクロ [4 . 3. 0] ノナン一 3—ェンー 7—オン、 4— t e r t—ブトキシカルボニル - 4—ァザトリシクロ [5. 2. 1. 0² · ⁶ ] デカー 8—ェンー 3オン、 4 — t e r t—ブトキシカルポ二ルー 4一ァザトリシクロ [5. 2. 2. 0² - ⁶ ] ゥンデカー 8—ェン一 3オン、 6, 6—ジクロ口一 3— t e r t—ブトキシカルボ二ルー 3—ァザビシクロ [3. 1. 0] へキサン一 2—オン、 6, 6 ージフルォロ— 3— t e r t—ブトキシカルポ二ルー 3—ァザビシクロ [ 3. 1. 0 ] へキサン一 2—オン、 N— t e r t—ブトキシカルポ二ルー 3—ベンジル— 2—ピロリジノン、 N— t e r t—ブトキシカルポ二ルー 5—べンジル一 2—ピロリジノン、 N— t e r t—ブトキシカルポニル一 4—ベンジルー 4 ーメチルー 2—ピロリジノン、 N— t e r t—ブトキシカルポニル— 6—エトキシカルポ二ルー 3—ァザビシクロ [3. 1. 0] へキサン— 2—オン、 N— t e r t一ブトキシカルポニル— 2— ( 5—ォキソピロリジン一 2—ィル）酢酸エヂル、 N— t e r t—ブトキシカルポニル— 3— （2—ォキソピロリジン一 3—ィル）アクリル酸メチル、 N— t e r t—ブトキシカルポ二ルー 3—フェニル一 2—ピロリジノン、 N— t e r t—ブトキシカルポ二ルー 4一フエ二ル— 2—ピロリジノン、 N— t e r t—ブトキシカルポ二ルー 5—ジフエニル一 2—ピロリジノン、 N— t e r t—ブトキシカルポ二ルー 5— （3—ヒドロキシフエニル）一 2—ピロリジノン、 1—フエニル一 3— t e r t一ブトキシ力ルポニル— 3—ァザビシクロ [ 3. 1. 0 ] へキサン— 2—オン、 N— t e r t—ブトキシカルボ二ルー 4一クロロー 2—ピロリジノン、 N— t e r t— ブトキシカルボニル一 4、 4ージフルオロー 2—ピロリジノン、 N— t e r t 一ブトキシカルボ二ルー 4—ヒドロキシ一 2—ピロリジノン、 N— t e r t— ブトキシカルポ二ルー 3—ヒドロキシ一 2 -ピロリジノン、 N— t e r t—ブトキシカルポ二ルー 4ーァセトキシー 2—ピロリジノン、 N— t e r t—ブトキシカルポニル一 4ーメトキシ一 2—ピロリジノン、 2, 4—ジ一 t e r t— ブトキシー 2—ピロリジノン、 N— t e r t—ブトキシカルポニル— 4—ベンジルォキシー 2—ピロリジノン、 N— t e r t—ブトキシカルポ二ルー 4ーフェニルォキシ— 2—ピロリジノン、 N— t e r t—ブトキシカルボ二ルー 3— ヒドロキシ一 4—メチル一 2—ピロリジノン、 N— t e r t—ブトキシカルボニル一 3—ヒドロキシー 3—メチル一 2—ピロリジノン、 N— t e r t—ブトキシカルポニル一 4ーヒドロキシー 5—ヒドロキシメチルー 2—ピロリジノン、 3， 3—ジメチルー 2， 4—ジォキサ— 7— t e r t—ブトキシカルポニル — 7—ァザビシクロ [3. 3. 0] オクタン一 6—オン、 3—フエニル一 2, 4ージォキサー 7— t e r t—ブトキシカルポ二ルー 7—ァザビシクロ [ 3. 3. 0] オクタン一 6—オン、 3， 3一ジメチルー 2—ォキサ一 7— t e r t 一ブトキシカルポニル一 7—ァザビシクロ [ 3. 3. 0] オクタン一 6—オン、 1， 4ージォキサ— 7— t e r t—ブトキシカルポニル— 7—ァザスピロ [ 4. 4] ノナン— 8—オン、 4一 t e r t—ブトキシカルボ二ルー 4ーァザ— 10—ォキサトリシクロ [5. 2. 1. 0² · ⁶ ] デカー 3オン、 4— t e r t—ブトキシカルボ二ルー 4—ァザ— 1 0—ォキサトリシクロ [ 5. 2. 1. 0² · ⁶ ] デカ一 8—ェン一 3オン、 3—ヒドロキシー 9— t e r t—ブトキシカルポニル一 9ーァザビシクロ [4. 3. 0] ノナン一 8—オン、 N— t e r t—ブトキシカルポニル一 4—メルカプト— 2—ピロリジノン、 N— t e r t—ブトキシカルボニル一 4—メルカプト一 5—メチル一 2—ピロリジノン、 N- t e r t一ブトキシカルポ二ルー 4一フエ二ルチオ一 2—ピロリジノン、 1， 4ージチア— 7— t e r t—ブトキシカルポニル— 7—ァザスピロ [4. 4] ノナン一 8—オン、 1， 4ージチア— 7— t e r t—ブトキシカルポニル — 7—ァザスピロ [4. 4] ノナン一 6—オン、 6， 1 0—ジチァー 2— 6 r t—ブトキシカルポニル一 2—ァザスピロ [4. 5] デカン一 3—オン、 1 - t e r t—ブトキシカルポ二ルー 4ーァセチルァミノ一 2—ピロリジノン、 1 - t e r t一ブトキシカルポ二ルー 4ージメチルァミノ一 2—ピロリジノン、 1一 t e r t—ブトキシカルポニル一 4—ベンジルァミノ一 2—ピロリジノン、 1— t e r t—ブトキシカルポニル— 4—ベンゾィルァミノ一 2—ピロリジノン、 1— t e r t—ブトキシカルポニル— 4一 t e r t一ブトキシカルポニルァミノ一 2—ピロリジノン、 1一 t e r t—ブトキシカルポ二ルー 4—ベンジルォキシ力ルポニルァミノ一 2—ピロリジノン、 1一 t e r t—ブトキシ力ルポ二ルー 3—ァセチルァミノ一 2—ピロリジノン、 1— t e r tーブトキシカルポ二ルー 3—ジメチルアミノー 2—ピロリジノン、 1一 t e r t—ブトキシカルポ二ルー 3—ベンジルァミノ一 2—ピロリジノン、 1一 t e r t—ブトキシカルポ二ルー 3—べンゾィルァミノ一 2—ピロリジノン、 1一 t e r t 一ブトキシカルポ二ルー 3— t e r t—ブトキシカルポニルァミノ一 2—ピロリジノン、 1— t e r t—ブトキシカルポ二ルー 3—ベンジルォキシカルポ二ルァミノ一 2—ピロリジノン、 l— t e r t—ブトキシカルポ二ルー 4一 t e r t—ブトキシカルボニルアミノメチルー 2—ピロリジノン、 l— t e r t— ブトキシカルポ二ルー 5— t e r t—ブトキシカルポニルアミノメチルー 2 - ピロリジノン、 l— t e r t—ブトキシカルポ二ルー 4ーメトキシィミノー 2 一ピロリジノン、 N— t e r t—ブトキシカルポ二ルーコハク酸ィミド、 N— t e r t—ブトキシカルポ二ルー 2， 4—ピロリジンジオン等およびこれらの光学活性体などが挙げられる。本発明によれば、化学原料や医農薬中間体として有用な N— t e r t—ブトキシカルポニル— 2—ピロリジノン類を提供することが可能となる。

また、本発明によれば、化学原料や医農薬中間体として有用な 3— t e r t 一ブトキシカルポニル一 6， 6—ジメチルー 3—ァザビシクロ [3. 1, 0] へキサン一 2—オンを提供することが可能となる。

さらに、本発明によれば、化学原料や医農薬の前駆体として有用な（1 R, 5 S) — 3— N— t e r t—ブトキシカルポ二ルー 6， 6—ジメチルー 3—ァザビシクロ [3. 1. 0] へキサン一 2—オンを提供することが可能となる。本発明の N— B o c化反応によれば、後処理操作において、水溶性の極性溶媒を疎水性溶媒に置換する必要がなく、また有害性の強い溶媒を使用する必要がないので特殊な除害設備などが不要となり、簡便で工業的有利に N— t e r t一ブトキシカルボ二ルー 2—ピロリジノン類を製造することが可能となる。本発明の N— t e r t一ブトキシカルポニル— 2 -ピロリジノン類は、化学原料や医農薬中間体として有用であり、例えば、抗 C型肝炎薬（HCV薬）の一種である下記化合物（W02004X 1 1 3295参照）の製造中間体として好適に使用し得る。

実施例

以下、本発明を実施例に基づいてより詳細に説明するが、本発明が実施例によって限定されるものではないことは言うまでもない。実施例 1 3 - t e r t—ブトキシカルボ二ルー 6 , 6一ジメチルー 3—ァザビシクロ [3. 1. 0] へキサン— 2—オンの製造例

6, 6—ジメチル一 3—ァザビシクロ [3. 1. 0] へキサン一 2—オン 1 95. 5 g (1. 562 mo 1 ) を含むトルエン溶液 1 1 58. 5 gに N, N ージメチルァミノピリジン 1 9. 08 g (0. 1 56mo 1 ) を加え、 2 5でで溶解させた。この溶液中にジー t e r t—プチルジ力一ポネート 443. 2 g (2. 03 1 mo 1 ) とトルエン 1 95. 5 gとからなる溶液を 2時間かけて滴下し、 25でで 1 2時間保温した。

この溶液に 1 %塩酸 569. 5 gを加えて混合、分液した。分液により得られた有機層を 5 %炭酸水素ナトリウム水溶液 262. 5 gで洗浄し、さらに水 2 62. 5 gで洗浄後、 3— t e r t—ブトキシカルポ二ルー 6 , 6—ジメチル — 3—ァザビシクロ [3. 1. 0] へキサン— 2—オンの 349. 7 g (1. 552 mo 1 ) を含むトルエン溶液 1 652. 8 gを得た。 6， 6—ジメチル一 3—ァザビシクロ [3. 1. 0] へキサン— 2—オンに対する収率は、 99 . 4%であった。

3 - t e r t一ブトキカルポニル一 6， 6ージメチル一 3—ァザビシクロ [3. 1. 0] へキサン一 2—オンの定量は、高速液体クロマトグラフィーにより求めた。カラムは、 SUM I PAX ODS D— 2 1 0 FF、 4. 6 m πιφ X 1 5 Omm, 3 // m (住化分析セン夕一社製）を使用した。実施例 2

(、1 R， 5 S) — 3— t e r t—ブトキシカルポニル— 6， 6—ジメチルー 3—ァザビシクロ [3. 1. 0] へキサン一 2—オンの製造例

光学純度 93. 0 % e eの（1 R， 5 S) 一 6， 6—ジメチル— 3—ァザビシクロ [ 3. 1. 0 ] へキサン一 2—オン 5. 89 k g (47. 1 mo 1 ) を含むトルエン溶液 36. O k gに N, N—ジメチルァミノピリジン 0. 58 k g (4. 7 5mo 1 ) を加え、 25 ^で溶解させた。この溶液にジ— t e r t —ブチルジ力一ポネート 1 3. 36 k (6 1. 2mo 1 ) とトルエン 5. 9 k gとからなる溶液を 3時間かけて滴下し、 2 5でで 2時間保温した。反応は定量的に進行していた。

この溶液に 1 %塩酸 1 7. 38 k gを加えて混合、分液した。続いて得られた有機層を 5 %炭酸水素ナトリウム水溶液 7. 89 k gで洗浄し、さらに水 7 . 9 k gで洗浄して、（1 R, 5 S) — 3— t e r t—ブトキシカルボ二ル— 6, 6—ジメチルー 3—ァザビシクロ [3. 1. 0] へキサン— 2—オンを含むトルエン溶液を得た。この溶液中のトルエンの大部分を、減圧濃縮により留去した。これにヘプタン 58. 8 k gを加えて減圧濃縮し溶媒の大部分を留去した。この溶媒の置換操作を再度繰り返した後、得られた残渣にヘプタン 38 . 7 k gを加えて 50〜55"Cまで昇温して、析出した結晶をすベて溶解させた。この溶液を 45でに冷却後、（1 R, 5 S) 一 3— t e r t—ブトキシカルポ二ルー 6， 6—ジメチルー 3—ァザビシクロ [3. 1. 0] へキサン一 2 —オンの種晶を添加した。

結晶が析出したことを確認した後、 0でまで冷却した。得られた結晶を濾過後、ヘプタン 1 5. 9 k gで 2回洗浄した。次いで、減圧条件下で乾燥した。光学純度が 99. 6 % e eである（1 R, 5 S) — 3.— t e r t—ブトキシ力ルポ二ルー 6, 6—ジメチル— 3—ァザビシクロ [3. 1. 0] へキサン一 2一オンの結晶 8. 35 k g (37. 1 m o 1 ) を得た。光学純度は、高速液体クロマトグラフィーにより求めた。カラムは、 CH I RAL C E L O F, 4. 6 πιπιφ X 2 5 0mm, 1 0 m (ダイセル社製）を使用した。

( 1 R, 5 S) — 6 , 6—ジメチル— 3—ァザビシクロ [ 3. 1. 0 ] へキサン一 2—オンに対する（ 1 R， 5 S) — 3— t e r t —ブトキシカルポニル — 6， 6—ジメチルー 3—ァザビシクロ [ 3. 1. 0 ] へキサン一 2—オンの収率は、収率 7 8. 8 %であった。

( 1 R, 5 S) — 3— t e r t —ブトキシカルポ二ルー 6， 6—ジメチルー 3—ァザビシクロ [ 3. 1. 0 ] へキサン一 2—オンの融点は、 8 7〜8 8でであった。

また、 ¹ H— NMR (CD C 1 3 ) の結果を下記に記す。

δ = 3. 8 1 d d ( 1 H) , 3. 5 9 d ( 1 H) , 1. 8 8 d d ( 1 H) , 1. 6 7 d t ( 1 H) , 1. 5 6 s ( 9 H) , 1. 1 3 s ( 3 H) , 1. 0 9 s (3 H) 実施例 3

N- t e r t—ブトキシカルポニル— 2—ピロリジノンの製造例

2—ピロリジノン 2. 5 5 g ( 3 0. Ommo 1 ) とトルエン 2 5. 5 gと N, N—ジメチルアミノピリジン 0. 3 7 g ( 3. Ommo 1 ) を加え、混合物の温度を 2 5 "Cに調節した。得られた溶液中にジ— t e r t —プチルジ力一ポネート 8. 5 0 g ( 3 9. Ommo 1 ) とトルエン 2. 5 5 gとからなる溶液を 3 0分かけて滴下し、 2 5でで 8時間保温した。得られた溶液中に 1 %塩酸 1 0. 9 gを加えて混合後、分液した。得られた有機層を 5 %炭酸水素ナトリウム水溶液 5. O gで洗浄後、さらに水 5. 0 gで洗浄した。得られた有機層を減圧下に濃縮して、 N— t e r t —ブトキシカルポ二ルー 2—ピロリジノン 5. 3 0 g ( 2 8. 6mmo 1 ) を含む油状物質の 5. 7 0 gを得た。

N- t e r t—ブトキシカルポニル一 2—ピロリジノンの 2—ピロリジノンに対する収率は、 9 5. 3 %であった。

N- t e r t 一ブトキシカルポニル— 2—ピロリジノンの定量は、ガスクロマトグラフィ一により求めた。カラムは、 J & J社製の D B— 5 ( 0. 5 3 m πιφ X 3 0 m, 1. 5 ^m) を使用した。実施例 4

N- t e r t—ブトキシカルポ二ルーコハク酸イミドの製造例

コハク酸イミド 2. 9 7 g ( 3 0. Ommo 1 ) とトルエン 2 9. 7 gとN , N—ジメチルァミノピリジン 0. 3 7 g ( 3. O mmo 1 ) を加え、混合物の温度を 2 5でに調節した。この溶液中にジ— t e r t—ブチルジカーボネート 8. 7 9 g (4 0. 3 mmo 1 ) とトルエン 4. 8 3 gとからなる溶液を 3 0分かけて滴下し、 2 5でで 2 4時間保温した。この溶液に 1 %塩酸 1 0. 9 gを加えて混合後、分液した。次に、得られた有機層を 5 %炭酸水素ナトリウム水溶液 5. O gで洗浄し、さらに水 5. O gで洗浄した。

得られた有機層を減圧下に濃縮して、 N— t e r t —ブトキシカルボ二ルーコハク酸イミド 4. 2 2 g (2 1. 2 mmo 1 ) を含む油状物質 5. 2 1 gを得た。

N- t e r t 一ブトキシカルポ二ルーコハク酸ィミドのコハク酸ィミドに対する収率は、 7 0. 7 %であった。 N— t e r t—ブトキシカルポ二ルーコハク酸ィミドの定量は、ガスクロマトグラフィ一により求めた。カラムは、 J &J社製の DB— 1 [0. 25mm X 30 m, 0. 2 5 m] を使用した。産業上の利用可能性

本発明の製造法で得られる N— t e r t一ブトキシカルポ二ルー 2—ピロリジノン類は、化学原料や医農薬中間体として有用である。

Claims

請求の範囲

1. 下記式（1) で示される N— t e r t一ブトキシカルポニル— 2—ピロリジノン類。

[式中、 R R² 、 R³ 、 R⁴ 、 R⁵ および R⁶ は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、シァノ基、置換基を有していてもよい炭素数 1〜 1 0 の直鎖、分枝鎖もしくは環状のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数 2〜1 0の直鎖、分枝鎖もしくは環状のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数 6〜20のァリール基、置換基を有していてもよいアミノ基、 — Ο R_a基、又は— S R_b基を表し、 R_aおよび R_bは、それぞれ独立して、水素原子、炭素数 2〜 1 0のアルキルカルポニル基、炭素数 7〜20のァリールカルポニル基、炭素数 7〜20のァラルキル基、炭素数 2〜 1 0のアルコキシアルキル基、炭素数 3〜 1 0のトリアルキルシリル基、炭素数 1〜 1 0のアルキル基、炭素数 6〜2 0のァリール基を表し、

また、 R¹と R² が結合して、その結合炭素原子とともに >C = 0基を形成してもよく、 R³ と R⁴ が結合して、その結合炭素原子とともに >C = 0基を形成してもよく、 R⁵ と R⁶ が結合して、その結合炭素原子とともに >C = 0 基を形成してもよく、

R R² 、 R³ 、 R⁴ 、 R ⁵ および R⁶ のうち任意の 2つが結合して、置換基を有していてもよい炭素数 1 ~4のポリメチレン基を形成していてもよく、かかるポリメチレン基を構成する 1つまたは互いに隣接しない 2つのメチレン基が酸素原子に置き換わっていてもよく、ポリメチレン基を構成する 1つまたは 2つのエチレン基がビニレン基に置き換わっていてもよく、ポリメチレン基を構成する互いに隣接しない 2つのメチレン基同士が、酸素原子、メチレン基、エチレン基またはビニレン基を介して結合していてもよい。 ]

2. 式（1) における R R² 、 R³ 、 R⁴ 、 R ⁵ および R ⁶ が、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数 1〜3の直鎖もしくは分岐鎖状のアルキル基を表すか、または、 R R² 、 R³ 、 R⁴ 、 R⁵ 及び R⁶ のうち任意の 2つが結合して、置換基を有していてもよい炭素数 1〜4 のポリメチレン基を形成しているクレーム 1記載の N— t e r t—ブトキシカルポ二ルー 2—ピロリジノン類。

3. 式（1) における R R² 、 R⁴ および R⁶ が水素原子であり、 R³ と R⁵ が結合して、置換基を有していてもよい炭素数 1〜4のポリメチレン基を形成しているクレーム 1記載の N— t e r t一ブトキシカルポ二ルー 2—ピロリジノン類。

4. 3— t e r t—ブトキシカルポ二ルー 6 , 6—ジメチル— 3—ァザビシク口 [3. 1. 0] へキサン— 2—オン。

5. (1 R， 5 S) - 3 - t e r t—ブトキシカルポ二ルー 6 , 6ージメチル一 3—ァザビシクロ [3. 1. 0] へキサン一 2—オン。

6. 下記式（2)

。 «

[式中、 R R² 、 R³ 、 R⁴ 、 R⁵ および R⁶ は、前記と同じ意味を表す。 ]

で示される 2—ピロリジノン類とジ— t e r t—プチルジ力一ポネ一トとを、芳香族系溶媒中で反応させる下記式（1)

(式中、 R¹, R² 、 R³ 、 R⁴ 、 R⁵ および R⁶ は、前記と同じ意味を表すで示される N— t e r t—ブトキシカルボニル— 2—ピロリジノン類の製造方法。

7. 芳香族系溶媒中で塩基の存在下に反応させるクレーム 6記載の製造方法。

8. 芳香族系溶媒が、芳香族炭化水素系溶媒であるクレーム 6または 7記載の製造方法。

9. 芳香族炭化水素系溶媒が、トルエンであるクレーム 8記載の製造方法。

10. 式（1) および（2) における R R² 、 R³ 、 R⁴ 、 R⁵ および R

⁶ が、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数 1 ~ 3の直鎖もしくは分岐鎖状のアルキル基を表すか、または、 R R² 、 R³ 、 R⁴ 、 R⁵ および R⁶ のうち任意の 2つが結合して、置換基を有していてもよい炭素数 1 ~4のポリメチレン基を形成しているクレーム 6〜 9のいずれかに記載の製造方法。

1 1. 式（1) および（2) における R R² 、 R⁴ および R⁶ が水素原子であり、 R³ と R⁵ が結合して、置換基を有していてもよい炭素数 1〜4のポリメチレン基を形成しているクレーム 6〜 9のいずれかに記載の製造方法。

12. 式（1) および（2) における R R² 、 R⁴ および R⁵ が水素原子であり、 R³ と R⁵ の 2つが結合して（CH₃ ) ₂ C<基を形成しているクレ —ム 6〜9のいずれかに記載の製造方法。