WO2007111063A1 - 液晶表示装置及びその製造方法 - Google Patents

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Hitoshi Satoh
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Sharp Kabushiki Kaisha
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    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
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    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
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    • G02F1/13394—Gaskets; Spacers; Sealing of cells spacers regularly patterned on the cell subtrate, e.g. walls, pillars

Definitions

  • Liquid crystal display device and manufacturing method thereof
  • the present invention relates to a liquid crystal display device and a method for manufacturing the same, and more particularly to a liquid crystal display device that maintains a distance between transparent substrates by spacer particles and a method for manufacturing the same.
  • a liquid crystal display device includes a liquid crystal sandwiched between a glass transparent substrate on which a TFT (Thin Film Transistor) is formed and a glass transparent substrate on which a color filter having RGB is formed.
  • the thickness of the liquid crystal layer that is, the cell gap
  • the cell gap is required to have a uniform value in order to prevent uneven display of the liquid crystal panel.
  • spherical spacer particles are arranged between the transparent substrates, for example, as described in Patent Document 1, and the spacing is made uniform over the entire surface of the transparent substrate. The thing of the structure to hold
  • Patent Document 1 Japanese Patent Laid-Open No. 2005-10412
  • the present invention has been completed based on the above-described circumstances, and an object thereof is to provide a liquid crystal display device in which spacer particles are arranged at desired locations.
  • the liquid crystal display device of the present invention includes a pair of transparent substrates, spacer particles that hold the pair of transparent substrates at a predetermined interval, and the pair of transparent substrates.
  • a liquid crystal display device including a liquid crystal sealed between transparent substrates, wherein the spacer particles are arranged in a light shielding region of at least one of the pair of transparent substrates.
  • An arrangement region is provided, and a positioning recess is formed in the arrangement region so as to be recessed from the surface of the arrangement region. In the positioning recess, the nuclear particles move to the surface of the arrangement region. It is characterized in that it is accommodated in a regulated state, and the spacer particles are arranged in a form adjacent to the core particles on the surface of the arrangement region.
  • the arrangement area set in the light-shielding area of at least one of the pair of transparent substrates is recessed from the surface of the arrangement area.
  • a plurality of particles are applied together with the ink to a region including the positioning recess in the one transparent substrate, and the ink is evaporated, and the plurality of particles are formed.
  • the particles are accommodated in the positioning recesses to form core particles, and the particles remaining on the surface of the arrangement region are attracted to the core particles to form spacer particles, and the pair of transparent particles
  • the substrate is overlapped with a predetermined interval by sandwiching the spacer particles, and liquid crystal is dropped or sealed in a gap between the pair of transparent substrates stacked.
  • the present invention when a plurality of particles serving as spacer particles or core particles are applied together with ink to an area including a positioning recess by an ink jet ejection device or the like, the ink is evaporated and the droplets are reduced. Along with this, a plurality of particles move toward each other while moving on the surface of the arrangement region, and V, one of the particles is housed in the positioning recess and becomes a core particle.
  • the core particles in the positioning recess cannot move out of the positioning recess (surface of the placement area), as the ink droplets become smaller, other particles remaining in the placement area are As it evaporates, the particles are attracted to the core particles, and are arranged adjacent to the core particles on the surface of the arrangement region to become spacer particles. As described above, according to the present invention, since the spacer particles are arranged adjacent to the movement-restricted nuclear particles, the spacer particles are prevented from being arranged outside the predetermined arrangement region.
  • FIG. 1 is an enlarged plan view of a TFT substrate (transparent substrate) of Embodiment 1.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line XX of FIG.
  • FIG. 3 is a partially enlarged view of the arrangement region in FIG.
  • FIG. 4 is a perspective view of an arrangement region.
  • FIG. 5 is a partially enlarged sectional view of the second embodiment.
  • FIG. 6 is an enlarged plan view of the TFT substrate (transparent substrate) of the third embodiment.
  • Embodiment 1 of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 to 4.
  • FIG. 1 In the liquid crystal display device of this embodiment, a pair of transparent substrates made of glass, that is, the TFT substrate 10 and the CF substrate 20 are overlapped in parallel, and the spacer particles 35 are interposed between the substrates 10 and 20. Therefore, the gap (cell gap) between the substrates 10 and 20 is kept constant over the entire surface, and the liquid crystal 36 is filled in the gap between the substrates 10 and 20 by dropping or sealing.
  • a plurality of source electrode lines 11 are vertically arranged at regular intervals and a plurality of gate electrode lines 12 are arranged.
  • a substantially rectangular display electrode 13 in the form of a transparent thin plate made of IT O (Indium Tin Oxide) is arranged.
  • a driving element 14 made of TFT (Thin Film Transistor) connected to the source electrode line 11 and the gate electrode line 12 is provided at each corner of each lattice frame.
  • an insulating film 15 is formed on the surface of the TFT substrate 10 (the surface facing the CF substrate 20) and the surface of the gate electrode line 12, and the display electrode 13 is formed of the insulating film 15. It is formed on the surface. Further, an alignment film 16 is formed on the surface of the display electrode 13.
  • a large number of colored portions 22 of the three primary colors red (R), green (G), and blue (B) are arranged vertically and horizontally.
  • the color filter 21 is formed on the surface of the CF substrate 20 facing the TFT substrate 10.
  • a black light-shielding film 23 (black 'matrix) is formed.
  • a transparent thin plate common electrode 24 made of ITO dndium tin oxide is formed on the surface of the color filter 21 and the black light shielding film 23 (the surface facing the TFT substrate 10).
  • An alignment film 25 is formed.
  • the lattice-shaped region where the black light shielding film 23 is formed in the CF substrate 20 corresponds to the lattice-shaped wiring region of the source electrode line 11 and the gate electrode line 12 on the TFT substrate 10, and this
  • the grid-like region formed by the black light shielding film 23 is a light shielding region 30 that is not involved in image display of the liquid crystal display device.
  • An arrangement region 31 and a positioning recess 32 for arranging the spacer particles 35 are provided in the light shielding region 30 of the TFT substrate 10.
  • the arrangement region 31 is provided so as to be placed on the surface of the insulating film 15 on the gate electrode line 12.
  • the arrangement region 31 as a whole has a rectangular shape that is long in the same direction as the length direction of the gate electrode line 12, and has a constant thickness.
  • the arrangement region 31 is formed by the photolithography method simultaneously with the display electrode 13 in the step of forming the display electrode 13. Note that the height of the surface of the arrangement region 31 is substantially the same as the surface of the alignment film 16.
  • a positioning recess 32 is formed in the arrangement region 31.
  • the positioning recess 32 is formed by recessing the center position in the long side direction and the short side direction.
  • the positioning recess 32 is formed by etching, its planar shape is square, and the depth dimension (the step dimension from the surface of the placement region 31 to the bottom of the positioning recess 32) is the diameter of the spacer particle 35. Smaller dimension (for example, about 1Z8 to 1Z5 of the diameter of the spacer particles 35).
  • Spacer particles 35 and core particles 34 are spherical particles that are indistinguishable before being arranged, and are made of a synthetic resin, and the surfaces thereof are coated with an adhesive (not shown).
  • the spacer particles 35 and the core particles 34 are applied toward the arrangement region 31 by an ink jet coating apparatus (not shown) while being contained in ink (not shown). At this time, the ink droplets are applied within a range including the positioning recess 32.
  • the applied ink gradually evaporates while maintaining the state of a single droplet due to surface tension, and the drying proceeds. Therefore, the diameter of the ink droplet gradually decreases.
  • a plurality of particles contained in the ink move on the surface of the arrangement region 31 and approach each other, and eventually one particle is positioned in the positioning recess 32. (See Fig. 3 and Fig. 4).
  • the particles accommodated in the positioning recesses 32 become the core particles 34 whose upper part protrudes upward from the surface of the arrangement region 31.
  • the core particles 34 abut against the bottom surface 32a of the positioning recess 32 and abut against the four sides of the opening edge 32b of the positioning recess 32 in a direction parallel to the surface of the arrangement region 31 (a direction parallel to the TFT substrate 10). Movement is restricted. After the core particles 34 are accommodated in the positioning recesses 32, as the ink droplets become smaller, other particles remaining on the surface of the arrangement region 31 approach the core particles 34, Eventually, the particles that come into contact with the core particles 34 are adjacent to each other) and become the spacer particles 35. When the ink is completely evaporated, the core particle 34 is fixed in the positioning recess 32 by the adhesive on the surface, and the spacer particle 35 is also fixed on the surface of the arrangement region 31 by the adhesive on the surface.
  • the TFT substrate 10 and the CF substrate 20 are overlapped with the spacer particles 35 interposed therebetween. Then, the gap (cell gap) between the substrates 10 and 20 is kept constant over the entire area of the substrates 10 and 20 by the spacer particles 35. As a result, both substrates 10 and 20 are kept parallel with high accuracy. Thereafter, the liquid crystal display device is manufactured by performing a process such as dropping or enclosing the liquid crystal 36 in the gap between the substrates 10 and 20.
  • the spacer particles 35 are attracted to the nuclear particles 34 whose movement is restricted, so that the spacer particles 35 are outside the predetermined arrangement region 31. It is prevented from being placed on.
  • the accommodating position of the nuclear particles 34 in the positioning recess 32 is determined in one place, and the nuclear particle 34 Is inserted in a state in which movement within the positioning recess 32 is restricted, so that the positioning accuracy of the spacer particles 35 is increased.
  • Embodiment 2 of the present invention will be described with reference to FIG.
  • the spacer particles 35 are arranged on the CF substrate 20 instead of the TFT substrate 10.
  • the TFT substrate 10 is superposed on the upper side of the CF substrate 20.
  • the arrangement region 40 is secured in the region corresponding to the black light shielding film 23 in the light shielding region 30, and a part of the common electrode 24 and the alignment film 25 in the arrangement region 30 (black light shielding film 23) is etched.
  • a positioning recess 41 for accommodating the core particle 34 is formed by cutting out the corresponding portion.
  • the spacer particles 35 are fixed to the surface of the alignment film 25.
  • symbol is attached
  • FIG. 6 shows Embodiment 3 of the present invention.
  • the color filter 21 is configured on the CF substrate 20 by dividing the plurality of colored portions 22 by the grid-like black light shielding film 23 (black 'matrix).
  • the auxiliary capacity electrode line 50 of the auxiliary capacity (storage capacity or additional capacity) is provided so as to cross the colored portion 22, and the area corresponding to the auxiliary capacity electrode line 50 is also a light shielding area 30.
  • an arrangement region 31 having the same positioning recess 32 as in the first embodiment is formed on the auxiliary capacitance electrode line 50 in the light shielding region 30.
  • the core particles 34 are fixedly disposed in the positioning recesses 32, and the spacer particles 35 are disposed on the surface of the placement region 3.
  • the auxiliary capacitance electrode line 50 is arranged so as to cross the colored portion 22 and the arrangement region 31 and the positioning concave portion 32 are arranged so as to correspond to the colored portion 22, but instead, the colored portion It is also possible to arrange auxiliary capacitance electrode wires 50 that do not cross 22 and arrange the arrangement region 31 and the positioning recess 32 so as not to correspond to the colored portion 22 (so that they are separated from the colored portion 22). ,.
  • the positioning recess is formed by photolithography and etching, but the present invention is not limited to this.
  • the positioning recess may be formed by laser processing.
  • the arrangement region is arranged on the gate electrode line, the black light shielding film, and the auxiliary capacitance electrode line.
  • the arrangement area is not limited to this, and may be arranged on the source electrode line.
  • the spacer particles are arranged on either the TFT substrate or the CF substrate.
  • the spacer particles may be arranged on both the TFT substrate and the CF substrate. In this case, the spacer particles arranged on the TFT substrate and the spacer particles arranged on the CF substrate overlap each other and do not interfere with each other.
  • the positioning recess is square.
  • the positioning recess is not limited to this, and may be, for example, a rectangle, a circle, an ellipse, or an oval.
  • the nuclear particles are brought into contact with the opening edge of the positioning recess so that the positioning position of the nuclear particles in the recess is determined at one place, but within a certain range in the positioning recess.
  • the nuclear particles may be arranged at any of the positions.
  • one nucleus particle is accommodated in one positioning recess, but a plurality of nucleus particles may be accommodated in one positioning recess.
  • the driving element is a TFT. It can also be applied when the drive element is something other than TFT, such as MIM (Metal Insulator Metal).
  • a force in which the number of positioning recesses in one arrangement area is one.
  • a plurality of positioning recesses may be provided in one arrangement area.

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Abstract

スペーサ粒子３５又は核粒子３４となる複数の粒子をインクとともに位置決め凹部３２を含む領域に塗布すると、インクが蒸発してその液滴が小さくなるのに伴い、複数の粒子が配置領域３１の表面上を移動しつつ互いに接近するとともに、いずれかの粒子が位置決め凹部３２内に収容されて核粒子３４となる。核粒子３４は位置決め凹部３２の外（配置領域３１の表面）へ移動できないので、配置領域３１に残留する他の粒子は、核粒子３４に引き寄せられ、配置領域３１上で核粒子３４に隣接して配置されたスペーサ粒子３５となる。

Description

明 細 書
液晶表示装置及びその製造方法
技術分野
[0001] 本発明は、液晶表示装置及びその製造方法に関し、特にスぺーサ粒子によって透 明基板同士の間隔を保持する液晶表示装置及びその製造方法に関するものである 背景技術
[0002] 液晶表示装置は、 TFT (Thin Film Transistor)が形成されたガラス製の透明基板と 、 RGBを備えるカラーフィルターが形成されたガラス製の透明基板との間に液晶を挟 持してなるものである。このような液晶パネルにおいて、液晶層の厚みいわゆるセル ギャップは、液晶パネルの表示むら等を防ぐためにもその値が均一であることが要求 される。そして、このセルギャップを均一にする手段として、例えば特許文献 1に記載 のもののように、球状のスぺーサ粒子を透明基板の間に配してその間隔を透明基板 の全面に亘つて均一に保持する構成のものが製造されている。
特許文献 1 :特開 2005— 10412公報
発明の開示
[0003] (発明が解決しょうとする課題）
し力しながら、このような球状のスぺーサ粒子が、液晶表示装置の表示領域に混入 してしまうと、表示領域の液晶分子の配列が乱れて表示品質に支障をきたす怖れが ある。このため、できる限り画像表示に関与しない遮光領域内におさまるように配設 することが望まれるが、球状のスぺーサ粒子を遮光領域等の所望の箇所に配設する ことは困難であった。
本発明は上記のような事情に基づいて完成されたものであって、スぺーサ粒子を所 望の箇所に配置した液晶表示装置を提供することを目的とする。
[0004] (課題を解決するための手段）
上記の目的を達成するための手段として、本発明の液晶表示装置は、一対の透明 基板と、前記一対の透明基板を所定の間隔に保持するスぺーサ粒子と、前記一対の 透明基板同士の間に封入された液晶とを備えた液晶表示装置であって、前記一対 の透明基板のうち少なくとも一方の透明基板の遮光領域には、前記スぺーサ粒子を 配置する領域である配置領域が設けられ、前記配置領域内には、その配置領域の 表面よりも凹ませた形態の位置決め凹部が形成され、前記位置決め凹部には、核粒 子が前記配置領域の表面への移動を規制された状態で収容され、前記配置領域の 表面には、前記スぺーサ粒子が前記核粒子に隣接する形態で配置されている構成 としたところに特徴を有する。
[0005] また、本発明の液晶表示装置の製造方法は、一対の透明基板のうち少なくとも一 方の透明基板の遮光領域内に設定した配置領域内に、その配置領域の表面よりも 凹ませた形態の位置決め凹部を形成し、前記一方の透明基板における前記位置決 め凹部を含む領域に対し、インクとともに複数の粒子を塗布し、前記インクが蒸発す るのに伴レ、、前記複数の粒子のうちいずれかの前記粒子を前記位置決め凹部内に 収容して核粒子とするとともに、前記配置領域の表面上に残留する前記粒子を前記 核粒子に引き寄せてスぺーサ粒子とし、前記一対の透明基板を、前記スぺーサ粒子 を挟むことにより所定の間隔を空けて重ね合わせ、前記重ね合わせた一対の透明基 板の隙間に液晶を滴下または封入するところに特徴を有する。
[0006] 本発明によると、スぺーサ粒子又は核粒子となる複数の粒子をインクとともにインク ジェット噴出装置などによって位置決め凹部を含む領域に塗布すると、インクが蒸発 してその液滴が小さくなるのに伴レ、、複数の粒子が配置領域の表面上を移動しつつ 互レ、に接近するとともに、 V、ずれかの粒子が位置決め凹部内に収容されて核粒子と なる。位置決め凹部内の核粒子は位置決め凹部の外 (配置領域の表面）へ移動でき ないので、インクの液滴が小さくなるのに伴レ、、配置領域に残留している他の粒子は 、インクの蒸発に伴って核粒子に引き寄せられ、配置領域の表面上において核粒子 に隣接した状態で配置されてスぺーサ粒子となる。このように本発明によれば、移動 規制した核粒子にスぺーサ粒子を隣接して配置してレ、るので、スぺーサ粒子が所定 の配置領域の外に配置されることが防止される。
図面の簡単な説明
[0007] [図 1]図 1は実施形態 1の TFT基板 (透明基板）の拡大平面図である。 [図 2]図 2は図 1の X— X線断面図である。
[図 3]図 3は図 2における配置領域の部分拡大図である。
[図 4]図 4は配置領域の斜視図である。
園 5]図 5は実施形態 2の部分拡大断面図である。
園 6]図 6は実施形態 3の TFT基板 (透明基板）の拡大平面図である。
符号の説明
[0008] 10., ..TFT基板 (透明基板)
14., ..駆動素子
20., .•CF基板 (透明基板）
23., ..黒色遮光膜
30., ..遮光領域
31., .·目 G置領域
32., ..位置決め凹部
34., ..核粒子
35., .·スぺーサ粒子
36·, ..液晶
発明を実施するための最良の形態
[0009] ぐ実施形態 1 >
以下、本発明を具体化した実施形態 1を図 1乃至図 4を参照して説明する。本実施 形態の液晶表示装置は、一対のガラス製の透明基板、即ち TFT基板 10と CF基板 2 0を平行に重ね合わせ、両基板 10, 20の間にスぺーサ粒子 35を介在させることによ つて両基板 10, 20の間隔（セルギャップ）を全面に亘つて一定に保つようにするととも に、両基板 10， 20の隙間に液晶 36を滴下又は封入により充填した構造になる。
[0010] TFT基板 10における CF基板 20との対向面には、図 1に示すように、複数のソース 電極線 11が一定間隔で縦方向に配索されているとともに、複数のゲート電極線 12が 一定間隔で横方向に配索されており、このソース電極線 11とゲート電極線 12とによ つて構成された多数（図 1には 1箇所のみ記載）の方形の格子枠の中には、夫々、 IT O (Indium Tin Oxide)からなる透明な薄板状をなす略方形の表示電極 13が配置され ている。また、各格子枠の角隅部には、夫々、ソース電極線 11とゲート電極線 12とに 接続された TFT (Thin Film Transistor)からなる駆動素子 14が設けられている。尚、 図 2に示すように、 TFT基板 10の表面（CF基板 20との対向面）とゲート電極線 12の 表面には絶縁膜 15が形成されており、表示電極 13はこの絶縁膜 15の表面に形成さ れている。さらに、表示電極 13の表面には配向膜 16が形成されている。
[0011] 一方、 CF基板 20における TFT基板 10との対向面には、赤（R)，緑（G) ,青（B)の 三原色の多数の着色部 22を縦横に整列して配設してなるカラーフィルター 21が設 けられていると共に、隣接する着色部 22同士の間及び着色部 22の配設領域の周囲 (CF基板 20の外周縁）に光の漏れを防止するために線状に配置された黒色遮光膜 23 (ブラック 'マトリックス）が形成されている。また、カラーフィルター 21と黒色遮光膜 23の表面（TFT基板 10との対向面）には ITO dndium Tin Oxide)からなる透明な薄 板状をなす共通電極 24が形成され、共通電極 24の表面には配向膜 25が形成され ている。
[0012] CF基板 20のうち黒色遮光膜 23が形成されている格子状の領域は、 TFT基板 10 におけるソース電極線 11とゲート電極線 12の格子状の配線領域と対応しており、こ の黒色遮光膜 23による格子状の領域は、液晶表示装置の画像表示に関与しない遮 光領域 30となっている。そして、 TFT基板 10における遮光領域 30内には、スぺーサ 粒子 35を配置するための配置領域 31と位置決め凹部 32が設けられている。配置領 域 31は、ゲート電極線 12上における絶縁膜 15の表面に載置されるように設けられて いる。配置領域 31は、全体としてゲート電極線 12の長さ方向と同方向に長い長方形 をなしており、一定の厚さを有している。この配置領域 31は、表示電極 13を形成する 工程で表示電極 13と同時にフォト'リソグラフィ法によって形成される。尚、配置領域 31の表面の高さは、配向膜 16の表面とほぼ同じ高さとなっている。
[0013] また、配置領域 31内には、その長辺方向及び短辺方向における中央位置を凹ま せた形態の位置決め凹部 32が形成されている。位置決め凹部 32は、エッチングに より形成され、その平面形状は正方形をなし、深さ寸法 (配置領域 31の表面から位 置決め凹部 32の底面までの段差寸法）は、スぺーサ粒子 35の直径よりも小さい寸法 (例えば、スぺーサ粒子 35の直径の約 1Z8〜1Z5)とされている。 [0014] 配置領域 31、位置決め凹部 32、配向膜 16が形成された後、配置領域 31にはスぺ ーサ粒子 35と核粒子 34が配置される。スぺーサ粒子 35と核粒子 34は、配置される 前には区別のつかない球形の粒子であって、合成樹脂からなり、その表面は粘着材 (図示せず）でコーティングされている。このスぺーサ粒子 35と核粒子 34は、インク（ 図示せず）内に含有された状態で図示しないインクジェット塗布装置により配置領域 31に向けて塗着される。このとき、インクの液滴は、位置決め凹部 32を含む範囲内 に塗着させる。
[0015] 塗着されたインクは、表面張力によって単一の液滴の状態を保ったまま次第に蒸発 して乾燥が進むので、インクの液滴の径は次第に小さくなる。インクの液滴径が縮小 するのに伴い、インク内に含有されている複数の粒子が、配置領域 31の表面上を移 動しつつ互いに接近するとともに、いずれ力、 1つの粒子が位置決め凹部 32内に落ち 込む（図 3及び図 4参照）。この位置決め凹部 32に収容された粒子は、上側部分を配 置領域 31の表面よりも上方へ突出させた核粒子 34となる。核粒子 34は、位置決め 凹部 32の底面 32aに当接するとともに、位置決め凹部 32の開口縁 32bの 4辺に当接 し、配置領域 31の表面と平行な方向（TFT基板 10と平行な方向）への移動を規制さ れる。そして、核粒子 34が位置決め凹部 32に収容された後は、インクの液滴が小さ くなるのに伴い、配置領域 31の表面上に残留している他の粒子が核粒子 34に接近 し、やがて核粒子 34に当接ほたは隣接）してスぺーサ粒子 35となる。インクが完全 に蒸発すると、核粒子 34はその表面の粘着剤により位置決め凹部 32内に固定され ると共に、スぺーサ粒子 35も、その表面の粘着剤により配置領域 31の表面に固定さ れる。
[0016] 尚、配置領域 31に向けて塗着されたインクの一部が配置領域 31の外へはみ出し ても、 1つの粒子が位置決め凹部 32に収容されて移動規制された核粒子 34となるの で、配置領域 31の外に位置している粒子は、インクの液滴の縮小に伴って核粒子 3 4に引き寄せられるので、最終的には配置領域 31内に固定されることになる。
[0017] このようにしてスぺーサ粒子 35が配置された後は、スぺーサ粒子 35を挟むようにし て TFT基板 10と CF基板 20とを重ね合わせる。すると、両基板 10, 20の隙間（セル ギャップ）は、スぺーサ粒子 35により両基板 10， 20の全領域に亘つて一定に保たれ 、ひいては、両基板 10, 20が高い精度で平行に保たれる。この後は、両基板 10, 20 の隙間に液晶 36を滴下又は封入する等の工程が行われることにより、液晶表示装置 の製造が進む。
[0018] 上述のように本実施形態によれば、スぺーサ粒子 35を、移動規制した核粒子 34に § Iき寄せるようにしたので、スぺーサ粒子 35が所定の配置領域 31の外に配置される ことが防止される。
また、位置決め凹部 32内に収容されている核粒子 34が位置決め凹部 32の開口縁 32bに当接することにより、位置決め凹部 32内における核粒子 34の収容位置がーケ 所に定められ、核粒子 34が位置決め凹部 32の内部での移動を規制された状態で 嵌め込まれているので、スぺーサ粒子 35の位置決め精度が高くなる。
[0019] ぐ実施形態 2 >
次に、本発明の実施形態 2を図 5を参照して説明する。
本実施形態 2は、スぺーサ粒子 35を、 TFT基板 10に代えて CF基板 20に配置した ものである。尚、図 5においては、 TFT基板 10が CF基板 20の上側に重ね合わされ るようになっている。配置領域 40は、遮光領域 30内のうち黒色遮光膜 23と対応する 領域に確保されており、エッチングにより、共通電極 24と配向膜 25のうち配置領域 3 0内の一部（黒色遮光膜 23と対応する部分）を切欠することにより、核粒子 34を収容 するための位置決め凹部 41が形成されている。スぺーサ粒子 35は、配向膜 25の表 面に固着される。尚、他の同様の構成については同様の符号を付して、重複する説 明は割愛する。
[0020] <実施形態 3 >
図 6は本発明の実施形態 3を示している。
上述したように CF基板 20には、格子状の黒色遮光膜 23 (ブラック 'マトリックス）に よって複数の着色部 22を区画することによってカラーフィルター 21が構成されている が、 TFT基板 20には、補助容量（蓄積容量又は付加容量）の補助容量電極線 50が 着色部 22を横切るような配置で設けられており、この補助容量電極線 50と対応する 領域も、遮光領域 30となっている。そして、この遮光領域 30内のうち補助容量電極 線 50上には、上記実施形態 1と同じ位置決め凹部 32を有する配置領域 31が形成さ れており、この位置決め凹部 32内に核粒子 34が固定して配置されるとともに、配置 領域 3の表面にスぺーサ粒子 35が配置される。尚、他の同様の構成については、実 施形態 1と同じ構成なので、同様の符号を付して、重複する説明は割愛する。また、 本実施形態では、補助容量電極線 50が着色部 22を横切るように配置して配置領域 31と位置決め凹部 32を着色部 22と対応するように配置したが、これに替えて、着色 部 22を横切らない形態の補助容量電極線 50を配置し、配置領域 31と位置決め凹 部 32を着色部 22と対応しなレ、ように（着色部 22から外れるように）配置してもよレ、。 ぐ他の実施形態 >
本発明は上記記述及び図面によって説明した実施形態に限定されるものではなく 、例えば次のような実施形態も本発明の技術的範囲に含まれ、さらに、下記以外にも 要旨を逸脱しない範囲内で種々変更して実施することができる。
(1)上記実施形態ではフォト'リソグラフィ法とエッチングによって位置決め凹部を形 成したが、これに限らず例えば、レーザー処理によって位置決め凹部を形成してもよ レ、。
(2)上記実施形態では配置領域をゲート電極線、黒色遮光膜上、補助容量電極線 上に配置したが、これに限らず、ソース電極線上に配置してもよい。
(3)上記実施形態ではスぺーサ粒子を TFT基板と CF基板のいずれか一方に配置 したが、 TFT基板と CF基板との双方にスぺーサ粒子を配置してもよい。この場合、 T FT基板上に配設したスぺーサ粒子と CF基板上に配設したスぺーサ粒子とが重なり あって干渉しなレ、ように配置する。
(4)上記実施形態では、位置決め凹部が正方形であつたが、これに限らず、例え ば長方形、円形、楕円形、長円形などであってもよい。
(5)上記実施形態では核粒子が位置決め凹部の開口縁に当接することで位置決 め凹部内における核粒子の収容位置が一ヶ所に定められるようにしたが、位置決め 凹部内の一定の範囲内のいずれかの位置に核粒子が配置されるようにしてもよい。
(6)上記実施形態では 1つの位置決め凹部に 1つの核粒子が収容されるようにした が、 1つの位置決め凹部に複数の核粒子が収容されてもよい。
(7)上記実施形態では駆動素子が TFTである場合について説明したが、本発明は 、駆動素子が MIM (Metal Insulator Metal) 等、 TFT以外のものである場合にも適用 できる。
(8)上記実施形態では 1つの配置領域における位置決め凹部の数を 1つとした力 1つの配置領域に複数の位置決め凹部を設けてもよい。

Claims

請求の範囲
[1] 一対の透明基板と、
前記一対の透明基板を所定の間隔に保持するスぺーサ粒子と、
前記一対の透明基板同士の間に封入された液晶とを備えた液晶表示装置であつ て、
前記一対の透明基板のうち少なくとも一方の透明基板の遮光領域には、前記スぺ ーサ粒子を配置する領域である配置領域が設けられ、
前記配置領域内には、その配置領域の表面よりも凹ませた形態の位置決め凹部が 形成され、
前記位置決め凹部には、核粒子が前記配置領域の表面への移動を規制された状 態で収容され、
前記配置領域の表面には、前記スぺーサ粒子が前記核粒子に隣接する形態で配 置されてレ、ることを特徴とする液晶表示装置。
[2] 前記配置領域と前記位置決め凹部が、駆動素子に接続された電極線上に設けら れていることを特徴とする請求の範囲第 1項に記載の液晶表示装置。
[3] 前記配置領域と前記位置決め凹部が、複数の画素間を区画するように配置された 黒色遮光膜上に設けられていることを特徴とする請求の範囲第 1項又は請求の範囲 第 2項に記載の液晶表示装置。
[4] 前記一対の透明基板のうちの一方の透明基板上には、格子状の黒色領域によつ て区画された複数の着色部を配設した形態のカラーフィルターが形成され、
他方の前記透明基板には、前記着色部を平面視において横切るように配置された 電極線が設けられ、
前記配置領域と前記位置決め凹部が、前記電極線に設けられていることを特徴と する請求の範囲第 1項ないし請求の範囲第 3項のいずれかに記載の液晶表示装置。
[5] 前記一対の透明基板のうちの一方の透明基板上には、補助容量の補助容量電極 線が設けられ、
前記配置領域と前記位置決め凹部が、前記補助容量電極線に設けられていること を特徴とする請求の範囲第 1項ないし請求の範囲第 4項のいずれかに記載の液晶表 示装置。
[6] 前記位置決め凹部内に収容されている前記核粒子が前記位置決め凹部の開口縁 に当接することで、前記位置決め凹部内における前記核粒子の収容位置が一ヶ所 に定められていることを特徴とする請求の範囲第 1項ないし請求の範囲第 5項のいず れかに記載の液晶表示装置。
[7] 一対の透明基板のうち少なくとも一方の透明基板の遮光領域内に設定した配置領 域内に、その配置領域の表面よりも凹ませた形態の位置決め凹部を形成し、 前記一方の透明基板における前記位置決め凹部を含む領域に対し、インクととも に複数の粒子を塗布し、
前記インクが蒸発するのに伴い、前記複数の粒子のうちいずれかの前記粒子を前 記位置決め凹部内に収容して核粒子とするとともに、前記配置領域の表面上に残留 する前記粒子を前記核粒子に引き寄せてスぺーサ粒子とし、
前記一対の透明基板を、前記スぺーサ粒子を挟むことにより所定の間隔を空けて 重ね合わせ、
前記重ね合わせた一対の透明基板の隙間に液晶を滴下または封入することを特 徴とする液晶表示装置の製造方法。
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