WO2007129499A1 - 液晶表示装置及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

液晶表示装置は、平行に重ねられるＴＦＴ基板１０及びＣＦ基板２０と、両基板１０，２０を所定の間隔に保持するスペーサ粒子３１と、両基板１０，２０同士の間に封入された液晶３２とを備えている。ＴＦＴ基板１０におけるＣＦ基板２０との対向面には、スペーサ粒子３１を配置すべき配置領域１７を全周に亘って包囲する突部１８が形成されているので、インクに含有させた状態で配置領域１７内に塗着されたスペーサ粒子３１は、配置領域１７の外へ移動することがなく、スペーサ粒子３１は、確実に配置領域１７内に配置される。

Description

明 細 書

液晶表示装置及びその製造方法

技術分野

[0001] 本発明は、液晶表示装置及びその製造方法に関し、特にスぺーサ粒子によって透 明基板同士の間隔を保持する液晶表示装置及びその製造方法に関するものである 背景技術

[0002] 液晶表示装置は、 TFT (Thin Film Transistor)が形成されたガラス製の透明基板と 、 RGBが分布されてカラーフィルターを構成するガラス製の透明基板との間に液晶 を挟持してなるものである。このような液晶パネルにおいて、液晶層の厚みいわゆる セルギャップは、液晶パネルの表示むら等を防ぐためにもその値が均一であることが 要求される。そして、このセルギャップを均一にする手段として、例えば特許文献 1に 記載のもののように、球状のスぺーサ粒子を透明基板の間に配してその間隔を透明 基板の全面に亘つて均一に保持する構成のものが製造されている。

特許文献 1 :特開 2005— 10412公報

発明の開示

[0003] し力しながら、このような球状のスぺーサ粒子力 液晶表示装置の表示領域に混入 してしまうと、表示領域の液晶分子の配列が乱れて表示品質に支障をきたす怖れが ある。このため、できる限り画像表示に関与しない遮光領域内におさまるように配設 することが望まれるが、球状のスぺーサ粒子を遮光領域等の所望の箇所に配設する ことは困難であった。

本発明は上記のような事情に基づいて完成されたものであって、スぺーサ粒子を所 望の箇所に配置した液晶表示装置を提供することを目的とする。

[0004] 上記の目的を達成するための手段として、本発明の液晶表示装置は、平行に重ね られる一対の透明基板と、前記一対の透明基板を所定の間隔に保持するスぺーサ 粒子と、前記一対の透明基板同士の間に封入された液晶とを備えた液晶表示装置 であって、前記一対の透明基板のうち少なくとも一方の透明基板における相手側の 透明基板との対向面には、前記スぺーサ粒子を配置すべき配置領域と、前記配置 領域を概ね全周に亘つて包囲する突部とが形成されているところに特徴を有する。

[0005] また、本発明の液晶表示装置の製造方法は、一対の透明基板のうち少なくとも一 方の透明基板における相手側の透明基板との対向面に、スぺーサ粒子を配置すベ き配置領域を概ね全周に亘つて包囲する突部を設け、前記一方の透明基板におけ る前記突部で包囲された前記配置領域内に、インクとともに前記スぺーサ粒子を塗 布し、前記インクを蒸発させて、前記スぺーサ粒子を前記配置領域に固着させ、前 記一対の透明基板を、前記スぺーサ粒子を挟むことにより所定の間隔を空けて重ね 合わせ、前記重ね合わせた一対の透明基板の隙間に液晶を滴下または封入すると ころに特徴を有する。

[0006] 本発明によれば、スぺーサ粒子を配置すべき配置領域を、その概ね全周に亘つて 突部で包囲して 、るので、配置領域内のスぺーサ粒子が配置領域の外へ移動する ことが防止される。

図面の簡単な説明

[0007] [図 1]図 1は実施形態 1の TFT基板の部分拡大平面図である。

[図 2]図 2は図 1の X— X線拡大断面図である。

[図 3]図 3は実施形態 2の CF基板の部分拡大平面図である。

[図 4]図 4は図 3の Y— Y線断面図である。

[図 5]図 5は図 3の Z— Z線断面図である。

[図 6]図 6は実施形態 3の TFT基板の部分拡大平面図である。

符号の説明

[0008] 10...TFT基板 (透明基板）

17...配置領域

18...突部

19…ジブ

20... CF基板 (透基板）

21...カラーフィルター

22...着色部 23...黒色遮光膜

25...配向膜

31...スぺーサ粒子

32...液晶

40...配置領域

41...突部

42a, 42b…リブ

43...隆起部

44...斜面

45…テーノヽ ¾

50...配置領域

51…補助容量電極線

52...突部

発明を実施するための最良の形態

[0009] <実施形態 1 >

以下、本発明を具体化した実施形態 1を図 1及び図 2を参照して説明する。本実施 形態 1の液晶表示装置は、一対のガラス製の透明基板、即ち TFT基板 10と CF基板 20を平行に重ね合わせ、両基板 10, 20の間にスぺーサ粒子 31を介在させることに よって両基板 10, 20の間隔（セルギャップ）を全面に亘つて一定に保つようにすると ともに、両基板 10, 20の隙間に液晶 32を滴下又は封入により充填した構造になる。

[0010] TFT基板 10における CF基板 20との対向面には、図 1に示すように、複数のソース 電極線 11が一定間隔で縦方向に配索されているとともに、複数のゲート電極線 12が 一定間隔で横方向に配索されており、このソース電極線 11とゲート電極線 12とによ つて構成された多数（図 1には 1箇所のみ記載)の方形の格子枠の中には、夫々、 IT O (Indium Tin Oxide)からなる透明な薄板状をなす略方形の表示電極 13が配置され ている。また、各格子枠の角隅部には、夫々、ソース電極線 11とゲート電極線 12とに 接続された TFT (Thin Film Transistor)力 なるスイッチング素子 14が設けられてい る。ゲート電極線 12はこの駆動素子 14に接続されている。尚、図 2に示すように、 TF T基板 10の表面 (CF基板 20との対向面）とゲート電極線 12の表面には絶縁膜 15が 形成されており、表示電極 13はこの絶縁膜 15の表面に形成されている。さらに、表 示電極 13の表面には配向膜 16が形成されている。

[0011] 一方、 CF基板 20における TFT基板 10との対向面には、赤 (R) ,緑 (G) ,青（B)の 三原色の多数の着色部 22を縦横に整列して配設してなるカラーフィルター 21が設 けられていると共に、隣接する着色部 22同士の間及び着色部 22の配設領域の周囲 (CF基板 20の外周縁）に光の漏れを防止するために枠状に配置された黒色遮光膜 23 (ブラック 'マトリックス）が形成されている。この黒色遮光膜 23は着色部 22を区画 している。また、カラーフィルター 21と黒色遮光膜 23の表面 (TFT基板 10との対向 面）には ITO (Indium Tin Oxide)からなる透明な薄板状をなす共通電極 24が形成さ れ、共通電極 24の表面には配向膜 25が形成されて 、る。

[0012] CF基板 20のうち黒色遮光膜 23が形成されている格子状の領域は、 TFT基板 10 におけるソース電極線 11とゲート電極線 12の格子状の配線領域と対応しており、こ の黒色遮光膜 23による格子状の領域は、液晶表示装置の画像表示に関与しない遮 光領域 30となっている。ソース電極線 11とゲート電極線 12は、いずれも、遮光領域 3 0内に配置されている。 TFT基板 10における CF基板との対向面（表面）には、スぺ ーサ粒子 31を配置するための配置領域 17が設けられている。この配置領域 17は、 帯状に延びるゲート電極線 12上に位置しており、配置領域 17の平面形状は、 4辺の うちの 2辺がゲート電極線 12の長さ方向と平行な正方形をなしている。

[0013] また、 TFT基板の表面には、配置領域 17をその外周縁に沿い、且つ全周に亘つて 連続して包囲する形態の突部 18が形成されている。突部の平面形状は、配置領域と 同じく正方形をなす。突部 18の 4辺のうちゲート電極線 12と平行な 2辺は、ゲート電 極線 12の両側縁に沿うように配置されている。突部 18は、絶縁膜 15の表面に形成し た平面形状が正方形をなすリブ 19 (即ち、ゲート電極線 12の長さ方向と平行な一対 のリブ 19と、ゲート電極線 12の幅方向と平行な (長さ方向と直角な）一対のリブ 19)を 備えて構成されている。リブ 19の長さ方向と直角な横断面形状は、台形をなしている 。本実施形態では、配置領域 17がゲート電極線 12上に配置されているとともに、ソ ース電極線 11がゲート電極線 12に対してその表面 (絶縁膜 15の表面）〖こ重なるよう に交差することに着目し、リブ 19をソース電極線 11と同種の材料によって形成して!/ヽ る。つまり、リブ 19は、ソース電極線 11を形成する工程においてフォトリソグラフィ法 によりソース電極線 11と同時に形成される。尚、リブ 19の外面 (表面及び側面）は、 配向膜 16によって覆われている。

[0014] このように突部 18によって囲まれた配置領域 17には複数のスぺーサ粒子 31が配 置される。つまり、本実施形態では、駆動素子 14に接続されたゲート電極線 12を利 用してスぺーサ粒子 31を配置している。このスぺーサ粒子 31は、合成樹脂製の球体 であり、その表面は粘着材（図示せず)でコーティングされて 、る。

尚、ゲート電極線 12の幅寸法は 25〜60 /ζ πιであり、ゲート電極線 12の幅寸法が 2 である場合、配置領域 17の 1辺の長さは約 20 mに設定することができる。ま た、スぺーサ粒子 31の直径が約 3 mであり、突部 18の突出寸法 (配置領域 17に おけるスぺーサ粒子 31が載置される面からの高さ寸法）は、約 0. 2 μ mである。また 、突部 18の横断面形状は、リブ 19と同じく上方へ向力つて幅寸法が小さくなる台形 をなすが、突部 18の上辺の幅寸法 (配向膜 16を含む寸法）は約 4. O /z mである。

[0015] 液晶表示装置を製造する工程において、スぺーサ粒子 31は、インク（図示せず）内 に含有された状態でインクジェット装置（図示せず)から吐出されることによって配置 領域 17の表面に塗着される。このとき、インクの 1つの液滴には複数のスぺーサ粒子 31が含まれるので、 1つの配置領域 17内には複数のスぺーサ粒子 31が塗着される

[0016] 塗着されたインクは、表面張力によって単一の液滴の状態を保ったまま次第に蒸発 して乾燥が進むので、インクの液滴の径は次第に小さくなる。インクの液滴径が縮小 するのに伴い、インク内に含有されている複数のスぺーサ粒子 31が、配置領域の載 置面上を移動しつつ互いに接近する。このとき、配置領域 17は全周に亘つて突部 1 8により柵のように包囲されているので、配置領域 17内のスぺーサ粒子 31が配置領 域 17の外部へ移動することはない。そして、インクが完全に蒸発すると、スぺーサ粒 子 31は、その表面の粘着剤によって配置領域の載置面に固定される。

[0017] 尚、配置領域 17に向けて塗着されたインクの液滴の一部が突部 18にかかり、スぺ ーサ粒子 31が突部 18の上面に載り上がっても、載り上がったスぺーサ粒子 31は、ィ ンクの液滴の縮小に伴い、配置領域 17内に位置するスぺーサ粒子 31 (即ち、突部 1 8に引っ掛力つて配置領域 17外への移動を規制されているスぺーサ粒子 31 )に引き 寄せられるので、最終的には配置領域 17内に配置されることになる。

[0018] このようにして TFT基板 10の表面にスぺーサ粒子 31が配置（固着）された後は、ス ぺーサ粒子 31を挟むようにして TFT基板 10と CF基板 20とを重ね合わせ (貼り合わ せ)る。すると、両基板 10, 20の隙間（セルギャップ）は、複数の配置領域 17に固定 されているスぺーサ粒子 31により両基板 10, 20の全領域に亘つて一定に保たれ、 ひいては、両基板 10, 20が高い精度で平行に保たれる。この後は、液晶滴下装置（ 図示せず)等を用いて、両基板 10, 20の隙間に液晶 32を滴下または封入する等の 工程が行われることにより、液晶表示装置の製造が進められる。

[0019] 上述のように本実施形態においては、スぺーサ粒子 31を配置すべき配置領域 17 を、その全周に亘つて突部 18で包囲しているので、配置領域 17内に塗着されたスぺ ーサ粒子 31が配置領域 17の外へ移動することが防止され、スぺーサ粒子 31の位置 決め精度が高くなる。

また、突部 18が配置領域 17を全周に亘つて連続して包囲しているので、スぺーサ 粒子 31の配置領域 17外への移動を確実に防止することができる。

また、本実施形態では、突部 18を構成するリブ 19を、ソース電極線 11と同じ工程 で形成することができるようになって 、る。

[0020] <実施形態 2>

次に、本発明の実施形態 2を図 3ないし図 5を参照して説明する。

本実施形態 2は、スぺーサ粒子 31を、 TFT基板 10に代えて CF基板 20のみに配 置したものである。その他の構成については上記実施形態 1と同じであるため、同じ 構成については、同一符号を付し、構造、作用及び効果の説明は省略する。

尚、図 4においては、 CF基板 20の上側の面が TFT基板 10との対向面となってい る。本実施形態 2では、配置領域 40が、遮光領域 30内のうち黒色遮光膜 23と対応 する領域 (詳しくは、ソース電極線 11と対応する領域）に確保されており、平面形状 は長方形をなしている。配置領域 40の表面は配向膜 25によって覆われており、スぺ ーサ粒子 31は配向膜 25の表面に固着される。つまり、スぺーサ粒子 31は、複数の 着色部 22を区画する黒色遮光膜 23を利用して配置されている。

[0021] 配置領域 40は、そのほぼ全周に亘つて突部 41によって包囲されている。突部 41 は、配置領域 41の 4辺に沿った 4本のリブ 42a, 42bによって略長方形に構成されて いる。リブ 42a, 42bは、互いに非接触となっており、突部 41によって形成される長方 形は、その四隅において途切れた形態となっている。この途切れた部分におけるリブ 42a, 42b間の間隔は、スぺーサ粒子 31の直径に比べて十分に小さい。リブ 42aは、 黒色遮光膜 23の長さ方向と平行をなし、リブ 42bは、黒色遮光膜 23の長さ方向と直 角をなす。これらのリブ 42a, 42bの表面は配向膜 25で覆われている。

[0022] また、リブ 42a, 42bは、共通電極 24の表面 (TFT基板 10との対向面）に形成され ているのである力 この共通電極 24の表面における着色部 22との対応領域 (遮光領 域 30の外部）には、ソース電極線 11をその長さ方向と直角に交差するとともに着色 部 22を横切るように延びる細長い隆起部 43が形成されている。この隆起部 43は、図 5に示すように、横断面形状が弓形をなし、表面がアーチ状に湾曲した形状をなして いる。この隆起部 43は、着色部 22の表面（正確には、共通電極 24の表面）に重なる ように形成される配向膜 25を部分的に嵩上げして、その嵩上げにより CF基板 20に 対して傾！ヽた斜面 44を形成するために形成されて!、る。配向膜 25上に配置されて いる液晶分子 32a, 32bのうち、隆起部 43と非対応の領域に配置されている液晶分 子 32aと、斜面 44上に配置されている液晶分子 32bとでは、配列の向きが異なるよう になっている。

[0023] 本実施形態では、リブ 42a, 42bを、隆起部 43と同種の合成樹脂材料によって形成 している。つまり、リブ 42a, 42bは、隆起部 43を形成する工程においてフォトリソダラ フィ法により隆起部 43と同時に形成される。そして、黒色遮光膜 23の長さ方向と直角 なリブ 42bは、隆起部 43のうち黒色遮光膜 23を横切る領域を兼ねている。つまり、リ ブ 42bは隆起部 43の一部を構成している。また、リブ 42a, 42bの外面（表面及び側 面）は、配向膜 25によって覆われている。また、リブ 42bの横断面形状は、隆起部 43 と同じ形状であるが、リブ 42aの横断面形状も、リブ 42b及び隆起部 43と同じ形状を なしている。これにより、突部 41の各辺の横断面形状は、突部 41の表面がアーチ状 に湾曲して配置領域 40に向力つて下り勾配となるテーパ面 45を有する形状をなす。 また、突部 41の突出寸法 (配置領域 40におけるスぺーサ粒子 31が載置される面か らの高さ寸法）は、約 1. 0 /z mであり、突部 41の幅寸法 (配向膜 16を含む寸法）は約 10. O /z mである。

[0024] 本実施形態 2においては、突部 41を、隆起部 43と同種材料のリブ 42a, 42bによつ て構成しているので、リブ 42a, 42bを、隆起部 43と同じ工程で形成することができる また、インクに含有させた状態でスぺーサ粒子 31を CF基板 20に塗着させたときに 、一部のスぺーサ粒子 31が、図 5に想像線で示すように突部 41の表面（リブ 42aの 上）に載ってしまうことが懸念される。しかし、本実施形態では、突部 41の断面形状が 、突部 41の表面をアーチ状に湾曲させることで配置領域 40に向力つて下り勾配とな るテーパ面 45を有する形状をなしているので、突部 41に載り上がったスぺーサ粒子 31は、テーパ面 45によって配置領域 40内に誘い込まれ、突部 41に載り上がったま まになる虞がない。

[0025] <実施形態 3 >

次に、本発明を具体化した実施形態 3を図 6を参照して説明する。本実施形態 3は 、配置領域 50を上記実施形態 1とは異なる位置に設けたものである。その他の構成 については上記実施形態 1と同じであるため、同じ構成については、同一符号を付し 、構造、作用及び効果の説明は省略する。

上述したように CF基板 20には、格子状の黒色遮光膜 23 (ブラック 'マトリックス）に よって複数の着色部 22を区画することによりカラーフィルター 21が構成されているが 、 TFT基板 10には、補助容量 (蓄積容量又は付加容量）に接続される補助容量電 極線 51が着色部 22を横切るような配置で設けられており、この補助容量電極線 51と 対応する領域も、遮光領域 30となっている。そして、この遮光領域 30内における補 助容量電極線 51の表面側（CF基板 20と対向する面側）には、配置領域 50と、この 配置領域 50を全周に亘つて連続して包囲する平面形状が平方形の突部 52とが設 けられている。つまり、スぺーサ粒子 31は、着色部 22を横切るように配置された補助 容量電極線 51を利用して配置されて 、る。

尚、本実施形態 3では、着色部 22を横切るように配置した補助容量電極線 51を利 用して配置領域 50を設けたが、これに替えて、着色部 22を横切らない形態の補助 容量電極線を利用して配置領域を構成してもよ ヽ。

<他の実施形態 >

本発明は上記記述及び図面によって説明した実施形態に限定されるものではなく 、例えば次のような実施形態も本発明の技術的範囲に含まれる。

(1)上記実施形態 1では突部が配置領域を全周に亘つて連続して包囲する枠状を なすが、これに替えて、突部が、配置領域の外周縁に沿って概ね包囲する形態であ りながらも、部分的に途切れた不連続の形態であってもよい。

(2)上記実施形態 1では突部を正方形の枠状としたが、突部は、長方形、台形、平 行四辺形、円形、長円形、楕円形等の形状としてもよい。

(3)上記実施形態 1では突部が、ゲート電極線の長さ方向と平行な一対のリブと、 電極線の幅方向と平行な一対のリブとによって構成されている力 これに替えて、電 極線の長さ方向に対して斜めに延びるリブによって突部が構成されて 、てもよ 、。

(4)上記実施形態 1, 3では突部をソース電極線と同種材料のリブによって構成した 力 ソース電極線以外の TFT基板に設けられる層膜と同種の材料としてもよい。

(5)上記実施形態 1, 3では突部の断面形状を台形としたが、突部の断面形状は、 長方形、正方形、半円形、三角形等としてもよい。

(6)上記実施形態 2では突部を隆起部と同種材料のリブによって構成したが、隆起 部以外の CF基板に設けられる層膜と同種の材料としてもよい。

(7)上記実施形態 2では突部の断面形状をアーチ状に湾曲させた形状としたが、こ れに替えて、突部の断面形状は、三角形、台形、長方形、正方形、半円形等としても よい。

(8)上記実施形態 2では突部の平面形状を長方形の枠状としたが、突部は、正方 形、台形、平行四辺形、円形、長円形、楕円形等の形状としてもよい。

(9)上記実施形態 2では突部が 4本のリブを四隅において途切れた略長方形に配 置して構成されている力 これに替えて、突部が配置領域を全周に亘つて連続して 包囲する枠状をなして 、てもよ 、。

(10)上記実施形態 2では、突部の 4辺を構成するリブのうち 2辺を構成するリブを、 隆起部で兼用したが、これに替えて、突部を構成する 4つのリブの全てを、隆起部か ら独立させた形態としてもよ!、。

(11)上記実施形態ではフォトリソグラフィ法によって突部（リブ)を形成したが、これ に限らず例えば、レーザー処理によって突部（リブ)を形成してもよい。

(12)上記実施形態では配置領域と突部をゲート電極線、黒色遮光膜上、補助容 量電極線上に配置したが、これに限らず、配置領域と突部はソース電極線上に配置 してちよい。

(13)上記実施形態ではスぺーサ粒子を TFT基板と CF基板の ヽずれか一方のみ に配置した力 TFT基板と CF基板との双方にスぺーサ粒子を配置してもよい。この 場合、 TFT基板上に配設したスぺーサ粒子と CF基板上に配設したスぺーサ粒子と が重なりあって干渉しな 、ように配置する。

(14)上記実施形態では駆動素子が TFTである場合について説明したが、本発明 は、駆動素子が MIM (Metal Insulator Metal)等、 TFT以外のものである場合にも適 用できる。

Claims

請求の範囲

[1] 一対の透明基板と、

前記一対の透明基板を所定の間隔に保持するスぺーサ粒子と、

前記一対の透明基板同士の間に封入された液晶とを備えた液晶表示装置であつ て、

前記一対の透明基板のうち少なくとも一方の透明基板における相手側の透明基板 との対向面には、前記スぺーサ粒子を配置すべき配置領域と、前記配置領域を概ね 全周に亘つて包囲する突部とが形成されて 、ることを特徴とする液晶表示装置。

[2] 前記突部が概ね方形の枠状をなしていることを特徴とする請求の範囲第 1項に記 載の液晶表示装置。

[3] 前記突部が、前記配置領域を全周に亘つて連続して包囲する枠状をなして 、ること を特徴とする請求の範囲第 1項または請求の範囲第 2項に記載の液晶表示装置。

[4] 前記配置領域と前記突部が、駆動素子に接続される帯状の電極線上に設けられて V、ることを特徴とする請求の範囲第 1項な 、し請求の範囲第 3項の 、ずれかに記載 の液晶表示装置。

[5] 前記突部が、前記電極線の長さ方向と平行な一対のリブと、前記電極線の幅方向 と平行な一対のリブとによって構成されていることを特徴とする請求の範囲第 4項に 記載の液晶表示装置。

[6] 前記電極線がゲート電極線であり、

前記突部が、前記ゲート電極線に対してその表面側に重なるように交差するソース 電極線と同種材料によって構成されていることを特徴とする請求の範囲第 4項又は請 求の範囲第 5項のいずれかに記載の液晶表示装置。

[7] 一方の前記透明基板には、格子状の黒色遮光膜によって区画された複数の着色 部を配設した形態のカラーフィルターが形成され、

前記配置領域と前記突部が、前記黒色遮光膜上に設けられていることを特徴とす る請求の範囲第 1項ないし請求の範囲第 3項のいずれかに記載の液晶表示装置。

[8] 前記着色部の前記液晶側には、前記着色部の前記液晶側に積層される配向膜を 部分的に嵩上げして前記透明基板に対して傾いた斜面を形成する隆起部が形成さ れており、

前記突部が、前記隆起部と同種材料のリブによって構成されていることを特徴とす る請求の範囲第 7項に記載の液晶表示装置。

[9] 前記突部の断面形状が、前記突部の表面をアーチ状に湾曲させることで前記配置 領域に向力つて下り勾配となったテーパ面を有する形状をなしていることを特徴とす る請求の範囲第 7項又は請求の範囲第 8項に記載の液晶表示装置。

[10] 前記一対の透明基板のうち一方の透明基板上には、格子状の黒色遮光膜によつ て区画された複数の着色部を配設した形態のカラーフィルターが形成され、

前記配置領域と前記突出部が、他方の前記透明基板に前記着色部を横切るように 配置された電極線上に設けられていることを特徴とする請求の範囲第 1項ないし請求 の範囲第 3項のいずれかに記載の液晶表示装置。

[11] 前記一対の透明基板のうちの一方の透明基板上には、補助容量に接続される補 助容量電極線が形成され、

前記配置領域と前記突部が前記補助容量電極線上に設けられていることを特徴と する請求の範囲第 1項ないし請求の範囲第 3項のいずれかに記載の液晶表示装置。

[12] 一対の透明基板のうち少なくとも一方の透明基板における相手側の透明基板との 対向面に、スぺーサ粒子を配置すべき配置領域を概ね全周に亘つて包囲する突部 を設け、

前記一方の透明基板における前記突部で包囲された前記配置領域内に、インクと ともに前記スぺーサ粒子を塗布し、

前記インクを蒸発させて、前記スぺーサ粒子を前記配置領域に固着させ、 前記一対の透明基板を、前記スぺーサ粒子を挟むことにより所定の間隔を空けて 重ね合わせ、

前記重ね合わせた一対の透明基板の隙間に液晶を滴下または封入することを特 徴とする液晶表示装置の製造方法。