WO2007004602A1 - 光学機能フィルムの製造方法、光学機能フィルム、偏光板、光学素子および画像表示装置 - Google Patents

光学機能フィルムの製造方法、光学機能フィルム、偏光板、光学素子および画像表示装置 Download PDF

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WO2007004602A1
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functional film
optical functional
group
film
resin
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Wataru Nagatake
Seiji Kondou
Keiichi Okamoto
Ryouichi Takamura
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Nitto Denko Corporation
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Definitions

  • Optical functional film manufacturing method optical functional film, polarizing plate, optical element, and image display device
  • the present invention relates to a method for producing an optical functional film, an optical functional film, a polarizing plate and an optical element provided with the optical functional film, and an image display device.
  • the liquid crystal display device is configured by laminating various optical functional layers such as an optical compensation layer, a hard coat layer, an antireflection layer, and a retardation layer in addition to a liquid crystal layer and a polarizing plate. Therefore, these optical functional layers are required not only to exhibit functions suitable for the purpose of each layer but also to have no adverse effect on the display image of the image display device.
  • the optical functional film when an optical functional film for use as these optical functional layers is produced, the optical functional film has poor appearance such as very fine stripes and uneven spots. May occur.
  • an object of the present invention is to produce an optical functional film without causing an appearance defect.
  • Another object of the present invention is to provide an image display device having excellent image display characteristics.
  • an optical functional film includes a coating process for coating a resin solution on a base film, and a fixing process for forming a resin layer by fixing the coated resin.
  • the present inventors have conducted extensive research. As a result, the base film is heated and stretched in advance before applying the resin solution onto the base film. Reduce appearance defects As a result, the present invention has been completed.
  • the present invention relates to a coating process in which a resin solution is applied onto a base film made of thermoplastic resin, and fixing in which the applied resin is fixed to form a resin layer.
  • a coating process in which a resin solution is applied onto a base film made of thermoplastic resin, and fixing in which the applied resin is fixed to form a resin layer.
  • the method for producing an optically functional film comprising a stretching step for stretching the substrate film in a heated state before the coating step.
  • the stretch ratio refers to the ratio of the length in the stretch direction after stretching to the length in the stretch direction before stretching in the base film to be stretched.
  • the optical functional film of the present invention is produced by the method for producing an optical functional film as described above, and the polarizing plate of the present invention is formed by stacking the optical functional film and a polarizer.
  • the optical element and the image display device of the present invention are formed by stacking the optical functional films.
  • the method for producing an optical functional film of the present invention since the base film is heated and stretched prior to the application of the resin solution, the fine unevenness on the base film is smooth. Therefore, the resin layer laminated thereon is also smooth, so that an optical functional film with very few appearance defects can be produced. Further, since the image display device according to the present invention uses such an optical functional film with very few appearance defects, the image display characteristics are extremely excellent.
  • FIG. 1 is a diagram showing a comparison between surface irregularities and measured values of inclination angles obtained in Example 1 and Comparative Example 1.
  • FIG. 2 is a diagram showing a comparison between surface roughness and measured values of inclination angles obtained in Example 6, Comparative Example 4 and Comparative Example 5.
  • FIG. 3 is a diagram showing a comparison between the surface roughness obtained in Example 7 and Comparative Example 6 and the measured values of the inclination angle.
  • the method for producing an optical functional film according to the present invention comprises a substrate film made of thermoplastic resin.
  • a coating process for coating a resin solution on a film comprising: a coating process for coating a resin solution on a film; and a fixing process for fixing the coated resin to form a resin layer.
  • a stretching process for stretching the base film in a heated state is provided.
  • the base film examples include polyester polymers such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, cenorelose polymers such as diacetyl cellulose and triacetyl cellulose, polycarbonate polymers, polymethylol methacrylate, and the like.
  • polyester polymers such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate
  • cenorelose polymers such as diacetyl cellulose and triacetyl cellulose
  • polycarbonate polymers polymethylol methacrylate
  • polymethylol methacrylate examples of the base film
  • examples of the base film include polyester polymers such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, cenorelose polymers such as diacetyl cellulose and triacetyl cellulose, polycarbonate polymers, polymethylol methacrylate, and the like.
  • a film made of a transparent polymer such as a crylic polymer.
  • styrene polymers such as polystyrene and acrylonitrile styrene copolymers, polyethylene, polypropylene, polyolefins having a cyclic or norbornene structure, olefin polymers such as ethylene propylene copolymer, butyl chloride polymers, nylon and aromatics.
  • a film having a transparent polymer strength such as an amide polymer such as polyamide can also be mentioned.
  • imide polymers snolephone polymers, polyetheretherolephone polymers, polyetheretherketone polymers, polyphenylene sulfide polymers, vinylenoleolol polymers, vinylidene chloride polymers, bull petitar polymers, arylenes.
  • a film made of a transparent polymer such as a polymer, a polyoxymethylene polymer, an epoxy polymer, or a blend of the aforementioned polymers. In particular, those having low optical birefringence are preferably used.
  • a cellulose polymer such as triacetyl cellulose is preferred from the viewpoints of polarization characteristics and durability, and a triacetyl cellulose film is particularly preferred.
  • the base film may be a polymer film described in Japanese Patent Laid-Open No. 2001-343529 (WO 01Z370 07), for example, a thermoplastic resin having a substituted and Z or unsubstituted imide group in the side chain.
  • a resin composition containing a thermoplastic resin having a substituted and Z or unsubstituted file and -tolyl group in the side chain As a specific example, a film of a resin composition containing an alternating copolymer of isobutylene and N-methylmaleimide and an acrylonitrile-styrene copolymer can be mentioned.
  • the base film is preferably an acrylic resin (A) containing a dartaric anhydride unit represented by the following structural formula (1) described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-314534.
  • An acrylic resin film containing as a component is used.
  • Heat resistance can be improved by containing a dartal anhydride unit represented by the following structural formula (1).
  • RR 2 represents the same or different hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, preferably a hydrogen atom or a methyl group, more preferably a methyl group.
  • the content ratio of the dartaric anhydride unit represented by the structural formula (1) is preferably 20 to 40% by weight, more preferably 25 to 35% by weight. is there.
  • the acrylic resin (A) may contain one or more arbitrary monomer units in addition to the dartaric anhydride unit represented by the structural formula (1).
  • a monomer unit a carboxylic acid alkyl ester unit is preferable.
  • the content ratio of Bulle carboxylic acid alkyl ester unit is preferably 60 to 80 weight 0/0, more preferably 65 to 75 weight 0/0.
  • Examples of the above-mentioned carboxylic acid alkyl ester units include units represented by the following general formula (2).
  • R 3 represents a hydrogen atom or an aliphatic or alicyclic hydrocarbon having 1 to 5 carbon atoms
  • R 4 represents an aliphatic hydrocarbon having 1 to 5 carbon atoms.
  • the weight average molecular weight of the acrylic resin (A) is preferably 80,000 to 150000.
  • the content ratio of the acrylic resin (A) in the base film is preferably 60 to 90% by weight.
  • the base film may contain one or more arbitrary appropriate components in addition to the various types of rosins as described above.
  • any appropriate component can be adopted as long as the object of the present invention is not impaired.
  • coagulants ultraviolet absorbers, antioxidants, lubricants, plasticizers, mold release agents, anti-coloring agents, flame retardants, nucleating agents, antistatic agents, pigments, coloring agents and the like.
  • the thickness of the base film is a force that can be appropriately determined. Generally, it is about 10 to 500 / ⁇ ⁇ in terms of workability such as strength and handleability, and thin layer properties, and 20 to 300 111 capacities. More preferably, it is more preferably 30 to 200 / zm.
  • the stretching ratio of the base film in the stretching step is preferably in the range of 1.001 to 1.2 times when the base film is a cellulose polymer such as triacetyl cellulose. 1.08-1. More preferably, it is within the range of 16 times.
  • the base film is preferably in the range of 1.001 to 4 times, more preferably in the range of 2 to 3 times.
  • the substrate film is an acrylic polymer, it is preferably in the range of 001 to 4 times, more preferably in the range of 2 to 3 times.
  • Examples of the method of stretching the base film include a free end longitudinal stretching in which a thermoplastic polymer film is uniaxially stretched in the longitudinal direction, and a fixed end lateral stretch in which the film is stretched in the width direction with the longitudinal direction fixed.
  • Examples include stretching and tenter stretching in which the film is stretched in the width direction while moving in the longitudinal direction.
  • Tenter stretching is, for example, stretching a substrate film in the width direction by a stretching device arranged between the rolls while transferring the substrate film from a roll around which the substrate film is wound to another roll. is there.
  • both ends in the width direction of the base film are gripped by a pair of gripping members provided in the stretching apparatus, and the gripping members are transferred to the base while gradually increasing the distance between the pair of gripping members.
  • the base film is released at a predetermined stretch ratio by releasing the base film after the ratio of the gripping member spacing after stretching to the pre-stretching gripping member spacing becomes a predetermined enlargement ratio. It extends to The
  • the heating temperature of the base film in the stretching step is preferably 80 to 300, and more preferably 120 to 180 ° C, more preferably 100 to 200 ° C. Further, when the heating temperature is expressed on the basis of the glass transition temperature (Tg) of the resin constituting the base film, it is preferably Tg—30 ° C. to T g + 60 ° C. Tg— It is more preferable that the temperature is 10 ° C to Tg + 40 ° C. Tg + 0 ° C to Tg + 25 ° C is even more preferable.
  • Tg glass transition temperature
  • the draw ratio in the range of 1.05 to L15, the difference in level of the surface irregularities of the base film becomes, for example, 0 or less, and the appearance defect can be remarkably reduced.
  • the stretching step after the base film is once stretched to the maximum stretch ratio, the film can be relaxed (shrinked) in the opposite direction to the stretching.
  • relaxation shrinkage
  • the displacement of the orientation axis due to the bowing phenomenon is suppressed, the retardation in the substrate film plane ( ⁇ nd), the retardation in the thickness direction of the substrate film (Rth), and The accuracy of the alignment axis can be further improved.
  • the stretch ratio (final stretch ratio) in the present invention is after the relaxation with respect to the base film width before stretching.
  • Substrate film width i.e.,
  • the draw ratio (final draw ratio) is obtained as the product of the maximum draw ratio and the relaxation rate.
  • Examples of the resin material to be applied to the base film include polyamide, polyimide, polyester, polyether ketone, polyamide-imide or polyester because of excellent heat resistance, chemical resistance and transparency, and high rigidity.
  • -Polymers such as imides can be mentioned. Any one of these polymers may be used alone, or, for example, a mixture of two or more kinds having different functional groups such as a mixture of polyetherketone and polyamide may be used.
  • polyimide is particularly preferable because of its high transparency, high orientation, and high stretchability.
  • the molecular weight of the polymer is not particularly limited, but for example, the weight average molecular weight (Mw) is preferably in the range of 1,000 to 1,000,000, and is preferably in the range of 2,000 to 500,000.
  • the polyimide for example, a polyimide soluble in an organic solvent having high in-plane orientation is preferable. Specifically, for example, it includes a condensation polymerization product of 9,9-bis (aminoaryl) fluorene and an aromatic tetracarboxylic dianhydride disclosed in Japanese Patent Special Publication 2000-511296. A polymer containing one or more repeating units represented by formula (3) can be used.
  • R 3 to R 6 are hydrogen, halogen, a phenyl group, a phenyl group substituted with 1 to 4 halogen atoms or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and Alkyl group strength having 1 to 10 carbon atoms is a group force that is at least one substituent selected independently.
  • R 3 to R 6 are preferably halogen, a phenol group, 1 to 4 halogen atoms, or 1 to 1 carbon atoms.
  • a full group substituted with 0 alkyl groups and an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms are also at least one kind of substituents independently selected from the group.
  • Z is, for example, a tetravalent aromatic group having 6 to 20 carbon atoms, preferably a pyromellitic group, a polycyclic aromatic group, or a polycyclic aromatic group.
  • Z ′ is, for example, a covalent bond, a C (R 7 ) group, a CO group, a 0 atom, an S atom, a SO group,
  • Si (CH 3) group or NR 8 group when plural, they are the same or different.
  • W represents an integer from 1 to L0.
  • Each R 7 is independently hydrogen or C (R 9 ).
  • R 8 is hydrogen, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and in a plurality of cases, they are the same or different.
  • R 9 is independently hydrogen, fluorine, or chlorine.
  • Examples of the polycyclic aromatic group include naphthalene, fluorene, benzofluorene, or a tetravalent group that also induces anthracene force.
  • the substituted derivative of the polycyclic aromatic group for example, at least one selected from an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a fluorine derivative thereof, and a group power of halogen power such as F and C1 Mention may be made of the above polycyclic aromatic group substituted by a group.
  • the homopolymer represented by the following general formula (5) or (6) described in Japanese National Publication No. 8-511812, or a repeating unit represented by The polyimide etc. which are shown by General formula (7) can be mentioned.
  • the polyimide represented by the following formula (7) is a preferred embodiment of the homopolymer represented by the following formula (5).
  • G and G ′ are, for example, a covalent bond, a CH group, a C (CH 3) group, C (C
  • C (CX) group (where X is a halogen), CO group, 0 atom, S atom, SO group, Si (
  • L is a substituent
  • d and e represent the number of substitutions.
  • L is, for example, a halogen, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a halogenated alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a phenyl group, or a substituted phenyl group.
  • the substituted phenol group include a substituted phenol having at least one kind of substituent selected from halogen, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and a group force including a halogenated alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.
  • Diyl groups can be mentioned.
  • the halogen include fluorine, chlorine, bromine and iodine.
  • d is an integer from 0 to 2
  • e is an integer from 0 to 3.
  • Q is a substituent, and f represents the number of substitutions.
  • Q is, for example, hydrogen, halogen, alkyl group, substituted alkyl group, nitro group, cyano group, thioalkyl group, alkoxy group, aryl group, substituted aryl group, alkyl ester group, and substituted alkyl ester group strength. Atom or group, and when Q is plural, they are the same or different.
  • the halogen include fluorine, chlorine, bromine and And iodine.
  • the substituted alkyl group include a halogenated alkyl group.
  • Examples of the substituted aryl group include a halogen aryl group.
  • f is an integer from 0 to 4
  • g and h are integers from 0 to 3 and 1 to 3, respectively.
  • G and h are preferably larger than 1.
  • R 1Q and R 11 are each independently selected from the group consisting of hydrogen, halogen, a phenol group, a substituted phenol group, an alkyl group, and a substituted alkyl group. It is a group. Among them, R 1Q and R 11 are preferably each independently a halogenated alkyl group.
  • M 1 and M 2 are the same or different, for example, halogen, alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, halogenated alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, phenol, Or a substituted process group.
  • halogen examples include fluorine, chlorine, bromine and iodine.
  • substituted phenyl group examples include halogen, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and a halogen group having 1 to 3 carbon atoms.
  • Alkyl group strength can be exemplified by a substituted phenyl group having at least one kind of substituent selected.
  • polyimide represented by the formula (5) include those represented by the following formula (8).
  • examples of the polyimide include a copolymer obtained by appropriately copolymerizing acid dianhydride and diamine other than the skeleton (repeating unit) as described above.
  • Examples of the acid dianhydride include aromatic tetracarboxylic dianhydrides.
  • Examples of the aromatic tetracarboxylic dianhydride include pyromellitic dianhydride, benzophenone tetracarboxylic dianhydride, naphthalene tetracarboxylic dianhydride, and bicyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride. And 2,2′-substituted biphenyltetracarboxylic dianhydrides.
  • Examples of the pyromellitic dianhydride include pyromellitic dianhydride, 3,6-diphenylpyromellitic dianhydride, and 3,6-bis (trifluoromethyl) pyromellitic acid. Examples thereof include dianhydride, 3,6-dibromopyromellitic dianhydride, 3,6-dichloropyromellitic dianhydride, and the like.
  • benzophenone tetracarboxylic dianhydride examples include 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 2,3,3 ′, 4′-benzophenone tetra Examples thereof include carboxylic acid dianhydrides and 2,2 ′, 3,3′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride.
  • naphthalenetetracarboxylic dianhydride examples include 2,3,6,7-naphthalene-tetracarboxylic dianhydride, 1,2,5,6-naphthalene-tetracarboxylic dianhydride, 2, And 6-dichloro-naphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride.
  • heterocyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride include, for example, thiophene-2,3,4,5-tetracarboxylic dianhydride, pyrazine-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride And pyridine-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride.
  • Examples of the 2,2′-substituted biphenyltetracarboxylic dianhydride include, for example, 2,2′-dibubutomo-4,4 ′, 5,5′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2'-dichloro-4,4 ', 5,5'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4', 5,5'- Biphenyl tetracarboxylic dianhydride and the like can be mentioned.
  • aromatic tetracarboxylic dianhydride examples include 3,3 ', 4,4'-bitetratetracarboxylic dianhydride, bis (2,3-dicarboxyl Phenol) methane dianhydride, bis (2,5,6-trifluoro-3,4-dicarboxyphenol) methane dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) -1,1, 1,3,3,3-hexafluoropropane dianhydride, 4,4 '-(3,4-dicarboxylphenyl) -2,2-diphenylpropane dianhydride, Bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, 4,4 oxydiphthalic dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfonic dianhydride (3,3 ', 4,4'-diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride), 4,4
  • aromatic tetracarboxylic dianhydride 2,2'-substituted biphenyltetracarboxylic dianhydride is more preferable, and 2,2'_bis (trihalo Methyl) -4,4 ', 5,5'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, more preferably 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4', 5,5 -Tetratetracarboxylic dianhydride.
  • diamine examples include aromatic diamines, and specific examples include benzene diamine, diaminobenzophenone, naphthalenediamine, heterocyclic aromatic diamine, and other aromatic diamines. Can be mentioned.
  • Examples of the benzenediamine include o-, m- and P-phenylenediamine, 2,4-diaminetoluene, 1,4-diamine-2-methoxybenzene, 1,4-diamine-2-phenol. Mention may be made of diamines selected from the group consisting of benzenediamins such as enylbenzene and 1,3-diamino-4-chlorobenzene. Examples of the diaminobenzophenone include 2,2 diaminobenzophenone and 3,3′-diaminobenzophenone. Examples of the naphthalenediamine include 1,8-diaminonaphthalene and 1,5-diaminonaphthalene. Examples of the heterocyclic aromatic diamine include 2,6-diaminopyridine, 2,4-diaminopyridine, 2,4-diamino-S-triazine, and the like.
  • the aromatic diamine includes 4,4'-diaminobiphenyl, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4 (9-fluorenylidene) -dialine.
  • polyether ketone that is the resin material
  • X represents a substituent, and q represents the number of substitutions.
  • X is, for example, a halogen atom, a lower alkyl group, a halogenated alkyl group, a lower alkoxy group, or a halogenated alkoxy group, and when there are a plurality of X, they may be the same or different.
  • halogen atom examples include a fluorine atom, a bromine atom, a chlorine atom and an iodine atom, and among these, a fluorine atom is preferable.
  • a lower alkyl group for example, a lower alkyl group having a linear or branched chain having 1 to 6 carbon atoms is preferable, and a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is more preferable.
  • a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, and a tert-butyl group are preferable, and a methyl group and an ethyl group are particularly preferable.
  • the halogenoalkyl group include halogenated compounds of the lower alkyl group such as a trifluoromethyl group.
  • the lower alkoxy group is, for example, preferably a linear or branched alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a linear or branched alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms.
  • a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, an isobutoxy group, a sec-butoxy group, and a tert-butoxy group, more preferably a methoxy group and an ethoxy group are more preferable.
  • the halogenoalkoxy group include halides of the lower alkoxy group such as trifluoromethoxy group.
  • q is an integer of 0 to 4.
  • q 0, and it is preferable that the carbocycle group bonded to both ends of the benzene ring and the oxygen atom of the ether are present at the para positions.
  • R 1 is a group represented by the following formula (10), and m is an integer of 0 or 1.
  • X ′ represents a substituent, and is the same as X in the formula (9), for example.
  • X ′ represents plural, they are the same or different.
  • P is an integer of 0 or 1.
  • R 2 represents a divalent aromatic group.
  • the divalent aromatic group include 0-, m-, and p-phenylene groups, or naphthalene, biphenyl, and anthracene. Examples thereof include-, m- or p-terphenyl, phenanthrene, dibenzofuran, biphenyl ether, or a divalent group that also induces biphenyl sulfone force.
  • These divalent aromatic groups may be substituted with a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkyl group or a lower alkoxy group directly bonded to the aromatic group.
  • R 2 an aromatic group in which a group force having the following formulas (11) to (17) is selected is preferable.
  • R 1 is preferably a group represented by the following formula (18).
  • R 2 and p are the same as those in the formula (10). It is synonymous.
  • n represents the degree of polymerization, and is, for example, in the range of 2 to 5,000, and preferably in the range of 5 to 500.
  • the polymerization may be a repeating unit force having the same structure or a repeating unit force having a different structure. In the latter case, the polymerization form of the repeating unit may be block polymerization or random polymerization.
  • the terminal of the polyaryletherketone represented by the formula (9) is preferably such that the P-tetrafluoro-benzoylene group side is fluorine and the oxyalkylene group side is a hydrogen atom.
  • the polyaryletherketone can be represented by the following general formula (19). In the following formula, n represents the same degree of polymerization as the formula (9).
  • polyaryletherketone represented by the above formula (9) include those represented by the following formulas (20) to (23). In each of the following formulas, n represents the above formula. Degree of polymerization similar to (9).
  • polyamide or polyester as the resin material examples include polyamides and polyesters described in Japanese Patent Publication No. 10-508048. These repeating units can be represented, for example, by the following general formula (24).
  • Y is 0 or NH.
  • E is, for example, a covalent bond, C alkyle
  • R is at least one of an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms and a halogenated alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and is in a meta position or a para position with respect to the carbonyl functional group or the Y group. is there.
  • P is an integer from 0 to 3
  • q is an integer from 1 to 3
  • r is an integer from 0 to 3.
  • A is, for example, hydrogen, halogen, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a halogenated alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, OR (where R is as defined above).
  • a substituted aryl group such as an aryl group, a halogen group, etc., an alkoxy carbo group having 1 to 9 carbon atoms, an alkyl carbooxy group having 1 to 9 carbon atoms, an allylo group having 1 to 12 carbon atoms.
  • A for example, is selected from the group consisting of halogen, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a halogenated alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a phenol group, and a substituted phenol group. Each is the same or different.
  • Examples of the substituent on the ring of the substituted phenyl group include a halogen, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a halogenated alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and combinations thereof. .
  • the t is an integer from 0 to 4
  • the z is an integer from 0 to 3.
  • those represented by the following general formula (25) are preferred.
  • A, A ′ and Y are as defined in the formula (24), and v is an integer of 0 to 3, preferably an integer of 0 to 2.
  • X and y are 0 or 1 respectively.
  • the repeating unit may be represented by the following general formula (26X27).
  • X and Y are substituents.
  • X is selected from the group consisting of hydrogen, chlorine and bromine.
  • group force consisting of the following formulas (28), 29), 30), and 31) is also selected for Y.
  • the polyester may be a copolymer in which the polyester represented by the general formula (26) 's 27) is combined! / ⁇ .
  • a resin material and a substrate film that can be used as long as they can dissolve the resin material and do not extremely erode the substrate film. It can be selected appropriately according to the situation. Specifically, for example, chloroform, formaldehyde, dichloromethane, carbon tetrachloride, dichloroethane, tetrachloroethane, trichloroethylene, tetrachloroethylene, black benzene.
  • -Halogenated hydrocarbons such as dichlorobenzene, phenols such as phenol and parachlorophenol, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, methoxybenzene, 1,2-dimethoxybenzene, acetone, ethyl acetate, t-Butanolenoreconole, glycerin, ethylene glycol, triethylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol, dipropylene glycol, 2-methyl-2,4-pentanediol, ethyl cellosolve, butyl Cellsolve, 2-pyrrolidone, N-methyl-2-pyrrolidone, pyridine, triethylamine, dimethylformamide, dimethylacetamide, acetonitrile, butyl-tolyl, methylisobutylketone, methyletherketone , Cyclopentan
  • methylisoptyl ketone is particularly preferred because it is excellent in dissolving the resin composition and does not erode the base film.
  • solvents can be used alone or in combination of two or more.
  • Additives can be appropriately added to the greave solution as necessary.
  • additives There are no particular limitations, but UV absorbers, deterioration inhibitors (for example, antioxidants, peroxide decomposers, radical inhibitors, metal deactivators, acid scavengers, amines), plasticizers, charging agents
  • deterioration inhibitors for example, antioxidants, peroxide decomposers, radical inhibitors, metal deactivators, acid scavengers, amines
  • plasticizers for example, antioxidants, peroxide decomposers, radical inhibitors, metal deactivators, acid scavengers, amines
  • charging agents for example, antioxidants, peroxide decomposers, radical inhibitors, metal deactivators, acid scavengers, amines
  • additives that meet any purpose, such as securing adhesion to the plastic substrate as the support, can be used.
  • the number of blending parts is preferably in a range that does not impair the properties of the retardation
  • the coating method of the resin solution is not particularly limited, and for example, spin coating method, roll coating method, flow coating method, print coating method, dip coating method, casting film forming method, bar coating method, dalavia printing Law.
  • the resin solution may be applied via one or more other layers which may be applied directly to the substrate film.
  • the method for fixing the coating film is not particularly limited, and can be appropriately determined depending on the type of polymer resin used, the number of blended parts thereof, and the material of the base film.
  • An example of the fixing method is a drying method, more specifically, natural drying or heat drying (for example, heating to 40 ° C to 350 ° C).
  • the drying process may be performed in two stages by changing the conditions.
  • the solvent is volatilized to some extent by heat treatment, and then visible light or ultraviolet light is applied. Irradiation can fix the coating film.
  • the thickness of the fixed coating film is usually 0.2 to 50 / z m, preferably 1 to 30 m.
  • the thickness is 1 to 30 / ⁇ ⁇ , unevenness during coating and drying can be prevented, and appearance defects can be further reduced.
  • the polarizing plate of the present invention is obtained by laminating the optical functional film produced as described above and a polarizing element, and there are no particular restrictions on other configurations.
  • the retardation film and the polarizing element may be laminated via other members that may be directly bonded together.
  • the polarizing element is not particularly limited, and is prepared by adsorbing and dying dichroic substances such as iodine and dichroic dyes on various films, stretching, crosslinking, and drying by a conventionally known method. Things can be used. Among them, a film having excellent light transmittance and degree of polarization, which is preferable for a film that transmits linearly polarized light when natural light is incident, is preferable.
  • Examples of the various films for adsorbing the dichroic material include polybulal alcohol (PVA) film. , Partially formalized PVA film, hydrophilic polymer film such as ethylene-vinyl acetate copolymer partially saponified film, cellulose film, etc. Polysalt vinyl oriented films obtained by treating salt bulls with hydrochloric acid can also be used. Among these, a PVA film is preferable. Further, the thickness of the polarizing element is not limited to this range, which is usually a force in the range of 1 to 80 / ⁇ ⁇ .
  • an optical functional film for example, retardation film
  • a polarizer for example, a polarizer
  • a transparent protective film according to the present invention produced as described above are laminated. Things can be mentioned.
  • the transparent protective film has been subjected to a surface treatment for the purpose of hard coat treatment, antireflection treatment, anti-sticking, diffusion, anti-glare, etc. on at least one surface of the transparent protective film, for example. It may be a thing.
  • the hard coat treatment is intended to prevent scratches on the surface of the polarizing plate, for example, and forms a cured film having excellent hardness and slipperiness composed of curable resin on the surface of the transparent protective film. It is processing.
  • the curable resin for example, ultraviolet curable resin such as silicone, urethane, acryl, and epoxy can be used, and the treatment can be performed by a conventionally known method.
  • the prevention of sticking is intended to prevent adhesion between adjacent layers.
  • the antireflection treatment is intended to prevent reflection of external light on the surface of the polarizing plate, and can be performed by forming a conventionally known antireflection layer or the like.
  • the anti-glare treatment is intended to prevent visual interference with the light transmitted through the polarizing plate due to reflection of external light on the surface of the polarizing plate.
  • the anti-glare treatment is finely applied to the surface of the transparent protective film by a conventionally known method. This can be done by forming an uneven structure.
  • the method of laminating the retardation film and the polarizing plate (or polarizer) is not particularly limited, and can be performed by a conventionally known method.
  • a pressure-sensitive adhesive, an adhesive, or the like can be used, and the type can be appropriately determined depending on the material of the retardation film.
  • the adhesive include polymer pressure sensitive adhesives such as acrylic, butyl alcohol, silicone, polyester, polyurethane, and polyether, and rubber pressure sensitive adhesives.
  • butyl alcohol polymers such as glutaraldehyde, melamine, and oxalic acid.
  • An adhesive composed of a water-soluble crosslinking agent or the like can also be used.
  • these adhesives and pressure-sensitive adhesives for example, those which are excellent in light transmittance and polarization degree which are difficult to be peeled off even under the influence of temperature and heat are preferable.
  • the polarizing element is a PVA film
  • a PVA adhesive is preferable from the viewpoint of the stability of the bonding process.
  • These adhesives and pressure-sensitive adhesives may be applied to the surface of a polarizing element or a transparent protective film, for example, or a layer such as a tape or sheet composed of the adhesives or pressure-sensitive adhesives is disposed on the surface. May be.
  • the image display device of the present invention is one in which the optical functional film is arranged on the display screen of the image display device.
  • any image display device such as a transmissive or reflective liquid crystal display device and an organic electroluminescence device can be employed.
  • the liquid crystal display device is not particularly limited.
  • a liquid crystal cell in a twisted nematic (TN) mode a liquid crystal cell in a vertical alignment (VA) mode, or an in-plane switching (IPS) mode.
  • TN twisted nematic
  • VA vertical alignment
  • IPS in-plane switching
  • a liquid crystal display device using a liquid crystal cell or the like can be used.
  • a vertical alignment (VA) mode liquid crystal cell is a liquid crystal display device having excellent compatibility with the optical functional film and excellent image display characteristics.
  • the liquid crystal cell in the vertical alignment (VA) mode employs nematic liquid crystal having negative dielectric anisotropy as the liquid crystal molecules constituting the liquid crystal layer, and is perpendicular to the substrate.
  • the liquid crystal molecules are aligned perpendicular to the substrate surface when no voltage is applied. Then, in such a state where no voltage is applied, when linearly polarized light that has passed through the first polarizing plate is incident on the liquid crystal layer from one substrate surface, the incident light is perpendicularly polarized. It will proceed along the long axis direction.
  • the incident light travels without changing the polarization direction and is absorbed by the second polarizing plate having a polarization axis orthogonal to the first polarizing plate.
  • a dark display can be obtained when no voltage is applied.
  • the liquid crystal molecules are aligned so that their long axes are parallel to the substrate surface. In such a voltage application state, the liquid crystal molecules exhibit birefringence with respect to the light incident on the liquid crystal layer, whereby the polarization state of the incident light changes according to the inclination of the liquid crystal molecules.
  • the display device can obtain a bright display.
  • the optical functional film having such a configuration realizes optical isotropy of the liquid crystal display device in combination with the VA mode liquid crystal cell, and provides an image display device excellent in viewing angle characteristics and appearance characteristics. It becomes possible to do.
  • Such an optical compensation layer having a biaxial optical characteristic of nx> ny> nz prevents light leakage due to the axial misalignment of the polarizer when the polarizer in the cross-col state is viewed obliquely. Is preferred.
  • a 30 mm square base film piece was taken as a sample from the center in the width direction of the base film.
  • the surface unevenness ( ⁇ m) in the base film width direction (TD direction) was measured with a high-precision fine shape measuring instrument (manufactured by Kosaka Laboratory, ET4000), and the average value of the sump nore was calculated as surface unevenness m) did.
  • the measurement conditions of the high precision fine shape measuring instrument were as follows.
  • Stylus tip radius 0.5 m (diamond)
  • a 30mm square base film piece is taken as a sample from a position 30mm inside the base film width direction (TD direction) edge, and a 30mm square base is also taken from the center of the base film.
  • a piece of film was taken as a sample.
  • the average inclination angle of the measured surface irregularities was defined as the average inclination angle (in).
  • an optical functional film piece 30 mm square from the center in the width direction of the base film is collected, and it is removed with a spectrophotometer (Ocean Optakes, USB2000) using the peak valley method. The thickness of the oil layer was measured and the standard deviation was determined.
  • a long film made of triacetyl cellulose (Fuji Photo Film Co., Ltd., TF-80UL, film thickness 80 ⁇ m, width 1330 mm, Tgl45 ° C) is used as the base film, and the base film is heated to 145 ° C.
  • the both ends of the base film in the width direction are respectively gripped by a pair of gripping members provided in the stretching device, the pair of gripping members are moved in the longitudinal direction of the base film, and the spacing between the gripping members is 1
  • the base film was stretched by gradually widening the interval until it became 1 time (maximum stretching ratio). Thereafter, relaxation was performed (that is, relaxation rate of 0.992 times) so that the interval between the gripping members was 1.09 times (final draw ratio).
  • the polyimide solution was coated on the substrate film obtained as described above, and dried at 120 ° C. for 3 minutes to obtain a 3.0 m thick resin. A layer was formed.
  • the optical function was the same as in Example 1 except that a long film made of triacetyl cellulose (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., TFY-80UL, film thickness 80 / ⁇ ⁇ , width 1330 mm) was used as the base film. A film was prepared. When the appearance of the obtained optical functional film was visually confirmed, no streaks were observed. The other measurement results are shown in Table 1.
  • the optical function was the same as in Example 1 except that a long film made of triacetyl cellulose (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., TFY-80UL, film thickness 80 / ⁇ ⁇ , width 1475 mm) was used as the base film. A film was prepared.
  • a long film made of triacetyl cellulose (made by Fuji Photo Film Co., Ltd., TD-80UL, film thickness 80 m, width 1330 mm, Tgl45 ° C) is used as the base film, and the heating temperature in the stretching process is 163 °.
  • An optical functional film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the maximum draw ratio in the drawing process was 1.05 times, the relaxation rate was 0.998 times, and the final draw ratio was 1.05 times. .
  • the measurement results are shown in Table 1.
  • a long film made of olefinic polymer (Zeon Corporation, ZE ONOR, film thickness 80 ⁇ m, width 1330 mm, Tgl37 ° C) is used, and the heating temperature in the stretching process is set to 155 ° C.
  • An optical functional film was produced in the same manner as in Example 1, except that the maximum draw ratio in the drawing step was 2.5 times, the relaxation rate was 0.995 times, and the final draw ratio was 2.49 times. The measurement results are shown in Table 1.
  • Fig. 1 the measured data of surface irregularities and inclination angles for Example 1 and Comparative Example 1 are shown in Fig. 1
  • Fig. 2 the measured data of surface irregularities and inclination angles for Example 6 and Comparative Examples 4 and 5 are shown in Fig. 2.
  • Fig. 3 shows the measured data of surface irregularities and inclination angles for Example 7 and Comparative Example 6.
  • the optical functional film of the example prepared by the method including the stretching step was compared with the optical functional film of the comparative example manufactured by the method not including the stretching step. Therefore, it is recognized that the visual evaluation is high, that is, the appearance is good.
  • results of such visual evaluation are consistent with the results of the standard deviation of the surface irregularity m) and the average inclination angle (°) of the surface irregularity of the substrate film, and the standard deviation of the resin thickness. It is recognized that the measurement result power is supported.
  • FIG. 1 shows a comparison between the surface irregularities obtained in Example 1 and Comparative Example 1 and the measured values of the inclination angle. According to FIG. 1, the surface irregularities in the optical functional film of Example 1 were It is more clearly shown that the force is greatly reduced as compared with Comparative Example 1.
  • FIG. 2 shows a comparison of the actually measured values obtained in Example 6, Comparative Example 4 and Comparative Example 5.
  • FIG. 3 shows a comparison of the actually measured values obtained in Example 7 and Comparative Example 6. According to FIG. 3, it is more clearly shown that the unevenness of the surface unevenness and the inclination angle in the optical functional film of Example 7 are greatly reduced as compared with the case of Comparative Example 6.

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Abstract

　外観不良を生じさせることなく光学機能フィルムを製造することを一の課題とする。 　熱可塑性樹脂からなる基材フィルム上に樹脂溶液を塗工する塗工工程と、塗工された樹脂を固定化して樹脂層を形成する固定化工程とを備えた光学機能フィルムの製造方法において、前記塗工工程の前段に、基材フィルムを加熱した状態で延伸する延伸工程を備えたことを特徴とする。

Description

明 細 書
光学機能フィルムの製造方法、光学機能フィルム、偏光板、光学素子お よび画像表示装置
技術分野
[0001] 本発明は、光学機能フィルムの製造方法および光学機能フィルム、該光学機能フィ ルムを備えた偏光板および光学素子、並びに画像表示装置に関する。
背景技術
[0002] 近年、 TVやパソコンと 、つた OA機器の表示装置として、薄型軽量で且つ消費電 力の少ない液晶表示装置が多用される傾向にある。該液晶表示装置は、液晶層や 偏光板の他にも、光学補償層、ハードコート層、反射防止層、位相差層などの種々 の光学機能層が積層されることによって構成される。したがって、これらの光学機能 層は、各層の目的に適った機能を発揮することのみならず、その前提として、画像表 示装置の表示画像に悪影響を及ぼさないものであることが求められている。
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0003] し力しながら、これらの光学機能層として使用するための光学機能フィルムを製造し た際、該光学機能フィルムに極めて微細な縞模様のムラや点状のムラなどの外観不 良が発生する場合がある。
[0004] 本発明は、このような従来の問題点に鑑み、外観不良を生じさせることなく光学機 能フィルムを製造することを一の課題とする。
また、本発明は、優れた画像表示特性を有する画像表示装置を提供することを他 の課題とする。
課題を解決するための手段
[0005] 光学機能フィルムは、一般に、基材フィルム上に榭脂溶液を塗工する塗工工程と、 塗工された榭脂を固定ィ匕して樹脂層を形成する固定ィ匕工程とを経て製造されること が多いが、本発明者らが鋭意研究したところ、基材フィルム上に榭脂溶液を塗工する 前に予め基材フィルムを加熱延伸しておくことにより、上述のような外観不良の低減 を図りうることを見出し、本発明を完成するに至った。
[0006] 即ち、本発明は、熱可塑性榭脂からなる基材フィルム上に榭脂溶液を塗工する塗 ェ工程と、塗工された榭脂を固定ィ匕して樹脂層を形成する固定ィ匕工程とを備えた光 学機能フィルムの製造方法において、前記塗工工程の前段に、基材フィルムを加熱 した状態で延伸する延伸工程を備えたことを特徴とするものである。
[0007] 尚、本発明において延伸倍率とは、延伸される基材フィルムにおける延伸前の延伸 方向長さに対する延伸後の延伸方向長さの比をいう。
[0008] また、本発明の光学機能フィルムは、上述のような光学機能フィルムの製造方法に よって製造されたものであり、本発明の偏光板は該光学機能フィルムと偏光子とが積 層されてなり、本発明の光学素子および画像表示装置は、該光学機能フィルムが積 層されてなるものである。
発明の効果
[0009] 本発明に係る光学機能フィルムの製造方法によれば、榭脂溶液の塗工に先立って 基材フィルムを加熱延伸する工程を備えたことにより、基材フィルム上の微細な凹凸 が平滑化され、延いてはその上に積層される榭脂層も平滑となるため、外観不良の 極めて少ない光学機能フィルムを製造することができる。また、本発明に係る画像表 示装置は、このような外観不良の極めて少ない光学機能フィルムを用いたものである ため、画像表示特性が極めて優れたものとなる。
図面の簡単な説明
[0010] [図 1]実施例 1及び比較例 1で得られた表面凹凸と傾斜角度の実測値の対比を示し た図。
[図 2]実施例 6、比較例 4及び比較例 5で得られた表面凹凸と傾斜角度の実測値の対 比を示した図。
[図 3]実施例 7及び比較例 6で得られた表面凹凸と傾斜角度の実測値の対比を示し た図。
発明を実施するための最良の形態
[0011] 以下、本発明に係る光学機能フィルムの製造方法について説明する。
本発明に係る光学機能フィルムの製造方法は、熱可塑性榭脂からなる基材フィル ム上に樹脂溶液を塗工する塗工工程と、塗工された榭脂を固定化して榭脂層を形成 する固定ィ匕工程とを備えた光学機能フィルムの製造方法において、前記塗工工程の 前段に、基材フィルムを加熱した状態で延伸する延伸工程を備えたことを特徴とする ものである。
[0012] 基材フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレー ト等のポリエステル系ポリマー、ジァセチルセルロース、トリァセチルセルロース等の セノレロース系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマー、ポリメチノレメタタリレート等のァク リル系ポリマー等の透明ポリマーからなるフィルムを挙げることができる。
また、ポリスチレン、アクリロニトリル スチレン共重合体等のスチレン系ポリマー、ポ リエチレン、ポリプロピレン、環状ないしノルボルネン構造を有するポリオレフイン、ェ チレン プロピレン共重合体等のォレフィン系ポリマー、塩化ビュル系ポリマー、ナイ ロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー等の透明ポリマー力もなるフィルムも挙げ ることがでさる。
さらにイミド系ポリマー、スノレホン系ポリマー、ポリエーテノレスノレホン系ポリマー、ポリ エーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフエ二レンスルフイド系ポリマー、ビニノレアノレ コール系ポリマー、塩化ビ-リデン系ポリマー、ビュルプチラール系ポリマー、ァリレ ート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマーや前記ポリマーの ブレンド物等の透明ポリマーからなるフィルムなども挙げることができる。特に光学的 に複屈折の少ないものが好適に用いられる。
尚、基材フィルムとしては、偏光特性や耐久性などの点より、トリァセチルセルロース 等のセルロース系ポリマーが好ましぐ特にトリァセチルセルロースフィルムが好適で ある。
[0013] また、基材フィルムとしては、 日本国特開 2001— 343529号公報（WO 01Z370 07)に記載のポリマーフィルム、例えば、側鎖に置換および Zまたは非置換イミド基 を有する熱可塑性榭脂と、側鎖に置換および Zまたは非置換フエ-ルならびに-トリ ル基を有する熱可塑性榭脂を含有する榭脂組成物を挙げることができる。具体例と しては、イソブチレンと N—メチルマレイミドカもなる交互共重合体とアクリロニトリル一 スチレン共重合体とを含有する榭脂組成物のフィルムを挙げることができる。 また、前記基材フィルムとしては、好ましくは、 日本国特開 2005— 314534号公報 に記載の下記構造式（1)で表されるダルタル酸無水物単位を含有するアクリル榭脂 (A)を主成分として含むアクリル榭脂フィルムが用いられる。下記構造式（1)で表さ れるダルタル酸無水物単位を含有することにより、耐熱性が向上し得る。下記構造式 (1)中、 R R2は、同一または相異なる水素原子または炭素数 1〜5のアルキル基を 表し、好ましくは水素原子またはメチル基であり、より好ましくはメチル基である。
[化 1]
Figure imgf000006_0001
[0015] 上記アクリル榭脂 (A)中、上記構造式（1)で表されるダルタル酸無水物単位の含 有割合は、好ましくは 20〜40重量％、より好ましくは 25〜35重量％である。
[0016] 上記アクリル榭脂 (A)は、上記構造式（1)で表されるダルタル酸無水物単位の他に 、任意の適切なモノマー単位を 1種または 2種以上含んでいても良い。このようなモノ マー単位として、好ましくは、ビュルカルボン酸アルキルエステル単位が挙げられる。 上記アクリル榭脂 (A)中、ビュルカルボン酸アルキルエステル単位の含有割合は、 好ましくは 60〜80重量0 /0、より好ましくは 65〜75重量0 /0である。
[0017] 上記ビュルカルボン酸アルキルエステル単位としては、例えば、下記一般式（2)で 表される単位が挙げられる。下記一般式 (2)中、 R3は水素原子または炭素数 1〜5の 脂肪族もしくは脂環式炭化水素、 R4は炭素数 1〜5の脂肪族炭化水素を表す。
[化 2]
Figure imgf000006_0002
[0018] 上記アクリル榭脂（A)の重量平均分子量は、好ましくは 80000〜 150000である [0019] 前記基材フィルム中の上記アクリル榭脂 (A)の含有割合は、好ましくは 60〜90重 量％である。
[0020] さらに、前記基材フィルム中には、上述したような各種榭脂以外に、任意の適切な 成分が 1種または 2種以上含まれていても良い。このような成分としては、本発明の目 的を損なわない範囲で任意の適切な成分を採用し得る。例えば、上述した榭脂以外 の榭脂、紫外線吸収剤、酸化防止剤、滑剤、可塑剤、離型剤、着色防止剤、難燃剤 、核剤、帯電防止剤、顔料、着色剤などが挙げられる。
[0021] 基材フィルムの厚さは、適宜に決定しうる力 一般には強度や取扱性等の作業性、 薄層性などの点より 10〜500 /ζ πι程度であり、 20〜300 111カ 子ましく、 30〜200 /z mがより好ましい。
[0022] また、前記延伸工程における基材フィルムの延伸倍率は、基材フィルムがトリァセチ ルセルロースなどのセルロース系ポリマーである場合、 1. 001〜1. 2倍の範囲内で あることが好ましぐ 1. 08-1. 16倍の範囲内であることがより好ましい。また、基材 カ ルボルネン構造を有するォレフィン系ポリマーである場合、 1. 001〜4倍の範囲 内であることが好ましぐ 2〜3倍の範囲内であることがより好ましい。更に、基材フィル ムがアクリル系ポリマーである場合、 1. 001〜4倍の範囲内であることが好ましぐ 2 〜3倍の範囲内であることがより好ましい。
[0023] 基材フィルムを延伸する方法としては、例えば、熱可塑性高分子フィルムを長手方 向に一軸延伸する自由端縦延伸、フィルムの長手方向を固定した状態で幅方向に 延伸する固定端横延伸、フィルムを長手方向に移動させつつ幅方向に延伸するテン ター延伸などが挙げられる。
テンター延伸とは、例えば基材フィルムの巻かれたロールから別のロールへ基材フ イルムを移送させつつ、そのロール間に配された延伸装置により基材フィルムを幅方 向に延伸するものである。具体的には、延伸装置に備えられた一対の把持部材によ つて基材フィルムの幅方向両端をそれぞれ把持し、該一対の把持部材の間隔を徐々 に広げながら該把持部材を基材の移送方向へ移動させ、延伸前の把持部材の間隔 に対する延伸後の把持部材の間隔の比率が所定の拡大比率となった後、基材フィ ルムを解放することにより、基材フィルムを所定の延伸倍率にまで延伸するものであ る。
[0024] 前記延伸工程における基材フィルムの加熱温度は、 80〜300でカ 子ましく、 100 〜200°Cがより好ましぐ 120〜180°Cが特に好ましい。また、該加熱温度を、該基材 フィルムを構成する榭脂のガラス転移温度 (Tg)を基準として表すと、 Tg— 30°C〜T g + 60°Cであることが好ましぐ Tg—10°C〜Tg+40°Cであることがより好ましぐ Tg + 0°C〜Tg + 25°Cであることが更に好ましい。このような温度に加熱すると上記のよ うな熱可塑性榭脂からなる基材フィルムが軟ィ匕するため、軟ィ匕した基材フィルムを延 伸することによって基材フィルムの微細な凹凸を平滑ィ匕することができる。
特に、延伸倍率を 1. 05〜： L 15の範囲とすることにより、該基材フィルムの表面凹 凸の高低差が例えば 0. 以下となり、外観不良を顕著に低減させることができる
[0025] また、前記延伸工程においては、基材フィルムを最大延伸倍率まで一旦延伸した 後に、該延伸とは逆方向にフィルムを緩和（収縮)させることもできる。延伸工程にお いて緩和（収縮)を行うと、ボーイング現象による配向軸のずれを抑制し、基材フィル ム面内の位相差（ Δ nd)、基材フィルム厚み方向の位相差 (Rth)および配向軸の精 度をより一層向上させることができる。
緩和率 (緩和率 =緩和後の基材フィルム幅 Z緩和前の基材フィルム幅）は、 0. 85 〜0. 999倍力 S好ましく、 0. 98〜0. 998倍力 り好ましく、 0. 990〜0. 995倍力 S更 に好ましい。
尚、前記延伸工程において、基材フィルムを最大延伸倍率にまで一旦延伸した後 に緩和を行う場合には、本発明における延伸倍率 (最終延伸倍率)は、延伸前の基 材フィルム幅に対する緩和後の基材フィルム幅、即ち、
(延伸倍率 =緩和後の基材フィルム幅 Z延伸前の基材フィルム幅）
として求められるものである。言い換えると、延伸倍率 (最終延伸倍率）は、最大延伸 倍率と緩和率との積として得られる。
[0026] また、光学機能フィルムとして位相差フィルムを製造する場合には、前記固定化工 程によって榭脂層を形成した後、該基材フィルムをさらに延伸することも可能である。 延伸倍率は、該位相差フィルムの用途に応じ、屈折率が所望の値となるように調整 すればよい。
[0027] 基材フィルムに塗布する榭脂材料としては、例えば、耐熱性、耐薬品性及び透明 性に優れ、剛性にも富むことから、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケ トン、ポリアミド—イミド或いはポリエステル-イミド等のポリマーを挙げることができる。 これらのポリマーは、いずれか一種類を単独で使用してもよいし、例えば、ポリエーテ ルケトンとポリアミドとの混合物のように、異なる官能基を持つ 2種以上の混合物として 使用してもよい。このようなポリマーの中でも、高透明性、高配向性及び高延伸性で あることから、ポリイミドが特に好ましい。
[0028] 前記ポリマーの分子量は、特に制限されないが、例えば重量平均分子量 (Mw)が 1 ,000〜 1,000,000の範囲であること力 S好ましく、より好ましくは 2,000〜500,000の 範囲である。
[0029] 前記ポリイミドとしては、例えば、面内配向性が高ぐ有機溶剤に可溶なポリイミドが 好ましい。具体的には、例えば、 日本国特表 2000— 511296号公報に開示された、 9,9-ビス (アミノアリール)フルオレンと芳香族テトラカルボン酸二無水物との縮合重合 生成物を含み、下記式（3)に示す繰り返し単位を 1つ以上含むポリマーが使用できる
[0030] [化 3]
Figure imgf000009_0001
前記式（3)中、 R3〜R6は、水素、ハロゲン、フエ-ル基、 1〜4個のハロゲン原子又 は炭素数 1〜10のアルキル基で置換されたフエ-ル基、及び炭素数 1〜10のアルキ ル基力 なる群力 それぞれ独立に選択される少なくとも一種類の置換基である。好 ましくは R3〜R6は、ハロゲン、フエ-ル基、 1〜4個のハロゲン原子又は炭素数 1〜1 0のアルキル基で置換されたフ -ル基、及び炭素数 1〜10のアルキル基力もなる 群カゝらそれぞれ独立に選択される少なくとも一種類の置換基である。
[0032] 前記式（3)中、 Zは、例えば、炭素数 6〜20の 4価芳香族基であり、好ましくは、ピロ メリット基、多環式芳香族基、多環式芳香族基の誘導体、又は、下記式 (4)で表され る基である。
[0033] [化 4]
Figure imgf000010_0001
[0034] 前記式 (4)中、 Z'は、例えば、共有結合、 C(R7)基、 CO基、 0原子、 S原子、 SO基、
2 2
Si(C H )基、又は、 NR8基であり、複数の場合、それぞれ同一であるか又は異なる。
2 5 2
また、 wは、 1〜： L0までの整数を表す。 R7は、それぞれ独立に、水素又は C(R9)であ
3 る。 R8は、水素、炭素数 1〜20のアルキル基、又は炭素数 6〜20のァリール基であり 、複数の場合、それぞれ同一であるか又は異なる。 R9は、それぞれ独立に、水素、フ ッ素、又は塩素である。
[0035] 前記多環式芳香族基としては、例えば、ナフタレン、フルオレン、ベンゾフルオレン 又はアントラセン力も誘導される 4価の基を挙げることができる。また、前記多環式芳 香族基の置換誘導体としては、例えば、炭素数 1〜10のアルキル基、そのフッ素ィ匕 誘導体、及び Fや C1等のハロゲン力 なる群力 選択される少なくとも一つの基で置 換された前記多環式芳香族基を挙げることができる。
[0036] この他にも、例えば、日本国特表平 8— 511812号公報に記載された、繰り返し単 位が下記一般式 (5)又は (6)で示されるホモポリマーや、繰り返し単位が下記一般式（ 7)で示されるポリイミド等を挙げることができる。尚、下記式 (7)のポリイミドは、下記式 ( 5)のホモポリマーの好まし 、態様である。
[0037] [化 5]
Figure imgf000010_0002
[0038] [ィ匕 6]
Figure imgf000011_0001
[0040] 前記一般式 (5)〜(7)中、 G及び G'は、例えば、共有結合、 CH基、 C(CH )基、 C(C
2 3 2
F )基、 C(CX )基 (ここで、 Xは、ハロゲンである。 ), CO基、 0原子、 S原子、 SO基、 Si(
3 2 3 2 2
CH CH )基、及び、 N(CH )基力 なる群から、それぞれ独立して選択される基を表し
2 3 2 3
、それぞれ同一でも異なってもよい。
[0041] 前記式 (5)及び式 (7)中、 Lは、置換基であり、 d及び eは、その置換数を表す。 Lは、 例えば、ハロゲン、炭素数 1〜3のアルキル基、炭素数 1〜3のハロゲン化アルキル基 、フエ-ル基、又は、置換フエニル基であり、複数の場合、それぞれ同一であるか又 は異なる。前記置換フエ-ル基としては、例えば、ハロゲン、炭素数 1〜3のアルキル 基、及び炭素数 1〜3のハロゲンィ匕アルキル基力もなる群力も選択される少なくとも一 種類の置換基を有する置換フエ二ル基を挙げることができる。また、前記ハロゲンとし ては、例えば、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素を挙げることができる。 dは、 0〜2までの 整数であり、 eは、 0〜3までの整数である。
[0042] 前記式 (5)〜(7)中、 Qは置換基であり、 fはその置換数を表す。 Qとしては、例えば、 水素、ハロゲン、アルキル基、置換アルキル基、ニトロ基、シァノ基、チォアルキル基 、アルコキシ基、ァリール基、置換ァリール基、アルキルエステル基、及び置換アルキ ルエステル基力 なる群力 選択される原子又は基であって、 Qが複数の場合、それ ぞれ同一であるか又は異なる。前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素及 びヨウ素を挙げることができる。前記置換アルキル基としては、例えば、ハロゲン化ァ ルキル基を挙げることができる。
また前記置換ァリール基としては、例えば、ハロゲンィ匕ァリール基を挙げることがで きる。 fは、 0〜4までの整数であり、 g及び hは、それぞれ 0〜3及び 1〜3までの整数で ある。また、 g及び hは、 1より大きいことが好ましい。
[0043] 前記式 (6)中、 R1Q及び R11は、水素、ハロゲン、フエ-ル基、置換フエ-ル基、アルキ ル基、及び置換アルキル基からなる群から、それぞれ独立に選択される基である。 その中でも、 R1Q及び R11は、それぞれ独立に、ハロゲンィ匕アルキル基であることが好 ましい。
[0044] 前記式 (7)中、 M1及び M2は、同一であるか又は異なり、例えば、ハロゲン、炭素数 1 〜3のアルキル基、炭素数 1〜3のハロゲン化アルキル基、フエ-ル基、又は、置換フ 工-ル基である。
前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素を挙げることができる また、前記置換フエニル基としては、例えば、ハロゲン、炭素数 1〜3のアルキル基 、及び炭素数 1〜3のハロゲンィ匕アルキル基力 なる群力 選択される少なくとも一種 類の置換基を有する置換フエ二ル基を挙げることができる。
[0045] 前記式 (5)に示すポリイミドの具体例としては、例えば、下記式 (8)で表されるもの等 を挙げることができる。
[0046]
Figure imgf000012_0001
[0047] さらに、前記ポリイミドとしては、例えば、前述のような骨格 (繰り返し単位)以外の酸 二無水物ゃジァミンを、適宜共重合させたコポリマーを挙げることができる。
[0048] 前記酸二無水物としては、例えば、芳香族テトラカルボン酸二無水物を挙げること ができる。 前記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ピロメリット酸二無水物、 ベンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、複 素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物、 2,2 '—置換ビフエ-ルテトラカルボン酸二 無水物等を挙げることができる。
[0049] 前記ピロメリット酸二無水物としては、例えば、ピロメリット酸二無水物、 3,6-ジフエ- ルピロメリット酸二無水物、 3,6-ビス (トリフルォロメチル)ピロメリット酸二無水物、 3,6-ジ ブロモピロメリット酸二無水物、 3,6-ジクロロピロメリット酸二無水物等を挙げることがで きる。前記べンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、 3,3',4,4'-ベン ゾフエノンテトラカルボン酸二無水物、 2,3, 3',4'-ベンゾフエノンテトラカルボン酸二無 水物、 2,2',3,3'-ベンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物等を挙げることができる。前 記ナフタレンテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、 2,3,6,7-ナフタレン-テトラ カルボン酸二無水物、 1,2,5, 6-ナフタレン-テトラカルボン酸二無水物、 2,6-ジクロロ- ナフタレン- 1,4,5,8-テトラカルボン酸二無水物等を挙げることができる。前記複素環 式芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、チォフェン- 2,3,4,5-テトラカル ボン酸二無水物、ピラジン- 2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物、ピリジン- 2,3,5,6-テト ラカルボン酸二無水物等を挙げることができる。
前記 2,2'-置換ビフエ-ルテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、 2,2'-ジブ口 モ- 4,4',5,5'-ビフエ-ルテトラカルボン酸二無水物、 2,2'-ジクロロ- 4,4', 5,5'-ビフエ- ルテトラカルボン酸二無水物、 2,2'-ビス (トリフルォロメチル) -4,4', 5,5'-ビフエ-ルテト ラカルボン酸二無水物等を挙げることができる。
[0050] また、前記芳香族テトラカルボン酸二無水物のその他の例としては、 3,3',4,4'-ビフ ェ -ルテトラカルボン酸二無水物、ビス (2, 3-ジカルボキシフエ-ル)メタン二無水物、 ビス (2, 5,6-トリフルォロ- 3,4-ジカルボキシフエ-ル)メタン二無水物、 2,2-ビス (3,4-ジ カルボキシフエ-ル) -1,1, 1,3,3,3-へキサフルォロプロパン二無水物、 4,4'-(3,4-ジカ ルボキシフエ-ル) -2,2-ジフエ-ルプロパン二無水物、ビス (3, 4-ジカルボキシフエ- ル)エーテル二無水物、 4,4しォキシジフタル酸二無水物、ビス (3, 4-ジカルボキシフエ -ル)スルホン酸二無水物 (3,3',4,4'-ジフエ-ルスルホンテトラカルボン酸二無水物)、 4,4'- [4,4しイソプロピリデン-ジ (p-フエ-レンォキシ)]ビス (フタル酸無水物)、 Ν,Ν- (3, 4-ジカルボキシフエ-ル)- N-メチルァミン二無水物、ビス (3, 4-ジカルボキシフエ-ル） ジェチルシラン二無水物等を挙げることができる。
[0051] これらの中でも、前記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、 2,2'-置換ビフエ二 ルテトラカルボン酸二無水物が好ましぐより好ましくは、 2,2'_ビス (トリハロメチル) -4,4 ',5,5'-ビフエ-ルテトラカルボン酸二無水物であり、さらに好ましくは、 2,2'-ビス (トリフ ルォロメチル) -4,4',5,5しビフエ-ルテトラカルボン酸二無水物である。
[0052] 前記ジァミンとしては、例えば、芳香族ジァミンを挙げることができ、具体例としては 、ベンゼンジァミン、ジァミノべンゾフエノン、ナフタレンジァミン、複素環式芳香族ジ ァミン、及びその他の芳香族ジァミンを挙げることができる。
[0053] 前記ベンゼンジァミンとしては、例えば、 o-,m-及び P-フエ-レンジァミン、 2,4-ジァ ミノトルエン、 1,4-ジァミノ- 2-メトキシベンゼン、 1,4-ジァミノ- 2-フエニルベンゼン及び 1,3-ジァミノ- 4-クロ口ベンゼンのようなベンゼンジァミンから成る群から選択されるジ アミン等を挙げることができる。前記ジァミノべンゾフエノンの例としては、 2,2しジァミノ ベンゾフエノン、及び 3,3'-ジァミノべンゾフエノン等を挙げることができる。前記ナフタ レンジァミンとしては、例えば、 1,8-ジァミノナフタレン、及び 1,5-ジァミノナフタレン等 を挙げることができる。前記複素環式芳香族ジァミンの例としては、 2,6-ジァミノピリジ ン、 2,4-ジァミノピリジン、及び 2,4-ジァミノ- S-トリアジン等を挙げることができる。
[0054] また、前記芳香族ジァミンとしては、これらの他に、 4,4'-ジアミノビフエ-ル、 4,4'-ジ アミノジフエ-ルメタン、 4,4し (9-フルォレニリデン)-ジァ-リン、 2,2'-ビス (トリフルォロ メチル )- 4,4'-ジアミノビフエニル、 3,3'-ジクロロ- 4,4'-ジアミノジフエ二ルメタン、 2,2し ジクロロ— 4,4'—ジアミノビフエ-ル、 2,2',5,5'—テトラクロ口べンジジン、 2,2—ビス (4—ァミノ フエノキシフエ-ノレ)プロパン、 2,2-ビス (4-ァミノフエ-ノレ)プロパン、 2,2-ビス (4-ァミノ フエ二ル)- 1,1,1,3,3,3-へキサフルォロプロパン、 4,4'-ジアミノジフエ二ルエーテル、 3, 4'-ジアミノジフエ-ルエーテル、 1,3-ビス (3-アミノフエノキシ)ベンゼン、 1,3-ビス (4-ァ ミノフエノキシ)ベンゼン、 1,4-ビス (4-アミノフエノキシ)ベンゼン、 4,4'-ビス (4-ァミノフエ ノキシ)ビフエ-ル、 4,4'-ビス (3-アミノフエノキシ)ビフエ-ル、 2,2-ビス [4- (4-ァミノフエ ノキシ)フエ-ル]プロパン、 2,2-ビス [4- (4-アミノフエノキシ)フエ-ル) 1,1, 1 ,3,3,3-へ キサフルォロプロパン、 4,4'-ジアミノジフエ二ルチオエーテル、 4,4'-ジアミノジフエ二 ルスルホン等を挙げることができる。
[0055] 前記榭脂材料であるポリエーテルケトンとしては、例えば、 日本国特開 2001— 491 10号公報に記載された、下記一般式 (9)で表されるポリアリールエーテルケトンを挙 げることができる。
[0056] [化 9]
Figure imgf000015_0001
[0057] 前記式 (9)中、 Xは、置換基を表し、 qは、その置換数を表す。 Xは、例えば、ハロゲ ン原子、低級アルキル基、ハロゲン化アルキル基、低級アルコキシ基、又は、ハロゲ ン化アルコキシ基であり、 Xが複数の場合、それぞれ同一であっても異なっていても よい。
[0058] 前記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、臭素原子、塩素原子及びヨウ素 原子があげられ、これらの中でも、フッ素原子が好ましい。前記低級アルキル基として は、例えば、炭素数 1〜6の直鎖又は分岐鎖を有する低級アルキル基が好ましぐよ り好ましくは炭素数 1〜4の直鎖又は分岐鎖のアルキル基である。具体的には、メチ ル基、ェチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、 sec-ブチル 基、及び、 tert-ブチル基が好ましぐ特に好ましくは、メチル基及びェチル基である。 前記ハロゲンィ匕アルキル基としては、例えば、トリフルォロメチル基等の前記低級ァ ルキル基のハロゲンィ匕物を挙げることができる。前記低級アルコキシ基としては、例え ば、炭素数 1〜6の直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基が好ましぐより好ましくは炭素数 1〜4の直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基である。具体的には、メトキシ基、エトキシ基 、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、 sec-ブトキシ基、及び 、 tert-ブトキシ基力 さらに好ましぐ特に好ましくはメトキシ基及びエトキシ基である。 前記ハロゲンィ匕アルコキシ基としては、例えば、トリフルォロメトキシ基等の前記低級 アルコキシ基のハロゲン化物を挙げることができる。
[0059] 前記式 (9)中、 qは、 0〜4までの整数である。前記式 (9)においては、 q = 0であり、か つ、ベンゼン環の両端に結合したカルボ-ル基とエーテルの酸素原子とが互いにパ ラ位に存在することが好ま 、。
[0060] また、前記式 (9)中、 R1は、下記式 (10)で表される基であり、 mは、 0又は 1の整数で ある。
[0061] [化 10]
Figure imgf000016_0001
[0062] 前記式 (10)中、 X'は置換基を表し、例えば、前記式 (9)における Xと同様である。前 記式 (10)において、 X'が複数の場合、それぞれ同一であるか又は異なる。 q'は、前 記 X'の置換数を表し、 0〜4までの整数であって、 q' =0が好ましい。また、 pは、 0又 は 1の整数である。
[0063] 前記式 (10)中、 R2は、 2価の芳香族基を表す。この 2価の芳香族基としては、例え ば、 0-、 m-もしくは p-フエ-レン基、又は、ナフタレン、ビフエ-ル、アントラセン、。-、 m-もしくは p-テルフエ-ル、フエナントレン、ジベンゾフラン、ビフエ-ルエーテル、も しくは、ビフヱ-ルスルホン力も誘導される 2価の基等を挙げることができる。これらの 2価の芳香族基において、芳香族に直接結合している水素力 ハロゲン原子、低級 アルキル基又は低級アルコキシ基で置換されてもよい。これらの中でも、前記 R2とし ては、下記式 (11)〜(17)力もなる群力も選択される芳香族基が好ましい。
[0064] [化 11]
Figure imgf000017_0001
Figure imgf000017_0002
Figure imgf000017_0003
[0065] 前記式 (9)中、前記 R1としては、下記式 (18)で表される基が好ましぐ下記式 (18)に おいて、 R2及び pは前記式 (10)と同義である。
[0066] [化 12]
Figure imgf000017_0004
[0067] さらに、前記式 (9)中、 nは重合度を表し、例えば、 2〜5,000の範囲であり、好ましく は、 5〜500の範囲である。また、その重合は、同じ構造の繰り返し単位力もなるもの であってもよぐ異なる構造の繰り返し単位力もなるものであってもよい。後者の場合 には、繰り返し単位の重合形態は、ブロック重合であってもよいし、ランダム重合でも よい。
[0068] さらに、前記式 (9)で示されるポリアリールエーテルケトンの末端は、 P-テトラフルォ 口べンゾィレン基側がフッ素であり、ォキシアルキレン基側が水素原子であることが好 ましぐこのようなポリアリールエーテルケトンは、例えば、下記一般式 (19)で表すこと 力 Sできる。尚、下記式において、 nは前記式 (9)と同様の重合度を表す。
[0069] [化 13]
Figure imgf000018_0001
[0070] 前記式 (9)で示されるポリアリールエーテルケトンの具体例としては、下記式 (20)〜( 23)で表されるもの等があげられ、下記各式において、 nは、前記式 (9)と同様の重合 度を表す。
[0071] [化 14]
[0072]
[0073]
[0074]
Figure imgf000018_0002
[0075] また、これらの他に、前記榭脂材料であるポリアミド又はポリエステルとしては、例え ば、 日本国特表平 10— 508048号公報に記載されるポリアミドやポリエステルがあげ られ、それらの繰り返し単位は、例えば、下記一般式 (24)で表すことができる。
[0076] [化 18]
Figure imgf000019_0001
[0077] 前記式 (24)中、 Yは、 0又は NHである。また、 Eは、例えば、共有結合、 Cアルキレ
2 ン基、ハロゲン化 Cァノレキレン基、 CH基、 C(CX )基 (ここで、 Xはハロゲン又は水素
2 2 3 2
である。 ), CO基、 0原子、 S原子、 SO基、 Si(R)基、及び、 N(R)基力 なる群力 選ば
2 2
れる少なくとも一種類の基であり、それぞれ同一でもよいし異なってもよい。前記 Eに おいて、 Rは、炭素数 1〜3のアルキル基及び炭素数 1〜3のハロゲン化アルキル基 の少なくとも一種類であり、カルボニル官能基又は Y基に対してメタ位又はパラ位に ある。
[0078] また、前記 (24)中、 A及び A'は、置換基であり、 t及び zは、それぞれの置換数を表 す。また、 pは、 0〜3までの整数であり、 qは、 1〜3までの整数であり、 rは、 0〜3まで の整数である。
[0079] 前記 Aは、例えば、水素、ハロゲン、炭素数 1〜3のアルキル基、炭素数 1〜3のハロ ゲン化アルキル基、 OR (ここで、 Rは、前記定義のものである。）で表されるアルコキシ 基、ァリール基、ハロゲンィ匕等による置換ァリール基、炭素数 1〜9のアルコキシカル ボ-ル基、炭素数 1〜9のアルキルカルボ-ルォキシ基、炭素数 1〜12のァリールォ キシカルボ-ル基、炭素数 1〜12のァリールカルボ-ルォキシ基及びその置換誘導 体、炭素数 1〜12のァリール力ルバモイル基、並びに、炭素数 1〜12のァリールカル ボニルァミノ基及びその置換誘導体からなる群から選択され、複数の場合、それぞれ 同一であるか又は異なる。前記 A，は、例えば、ハロゲン、炭素数 1〜3のアルキル基 、炭素数 1〜3のハロゲン化アルキル基、フエ-ル基及び置換フエ-ル基からなる群 から選択され、複数の場合、それぞれ同一であるか又は異なる。前記置換フエ-ル 基のフエ-ル環上の置換基としては、例えば、ハロゲン、炭素数 1〜3のアルキル基、 炭素数 1〜3のハロゲンィ匕アルキル基及びこれらの組み合わせを挙げることができる 。前記 tは、 0〜4までの整数であり、前記 zは、 0〜3までの整数である。 [0080] 前記式 (24)で表されるポリアミド又はポリエステルの繰り返し単位の中でも、下記一 般式 (25)で表されるものが好まし 、。
[0081] [化 19]
Figure imgf000020_0001
[0082] 前記式 (25)中、 A、 A'及び Yは、前記式 (24)で定義したものであり、 vは 0〜3の整数 、好ましくは、 0〜2の整数である。 X及び yは、それぞれ 0又は 1である力 共に 0であ ることはない。
[0083] また、ポリエステルとしては、繰り返し単位が下記一般式 (26X27)で表されるもので あってもよい。
[0084] [化 20]
Figure imgf000020_0002
Figure imgf000020_0003
[0085] 前記式 (26X27)中、 X及び Yは、置換基である。該 Xは、水素、塩素及び臭素からな る群から選択される。また、該 Yは、下記式 (28)ズ29)ズ30)ズ 31)からなる群力も選択さ れる。
[0086] [化 21] CH3 CF3
一 C一 (28) - C- (29)
CH3 CF3
(30) ¾ )
[0087] 更に、ポリエステルとしては、前記一般式 (26)ズ27)で表されるポリエステルを組み 合わせたコポリマーであってもよ!/ヽ。
[0088] 前記榭脂材料を溶解させる溶剤としては、前記榭脂材料を溶解でき、且つ基材フィ ルムを極度には浸食しな 、ものであればよぐ使用する榭脂材料及び基材フィルムに 応じ適宜選択することができる。具体的には、例えば、クロ口ホルム、ジクロロメタン、 四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロ口エタン、トリクロロエチレン、テトラクロロェチ レン、クロ口ベンゼン、。-ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、フエノール、 パラクロロフエノール等のフエノール類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼ ン、 1,2-ジメトキシベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、酢酸ェチル、 t-ブチ ノレアノレコーノレ、グリセリン、エチレングリコーノレ、トリエチレングリコール、エチレングリ コールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコ ール、ジプロピレングリコール、 2-メチル -2,4-ペンタンジオール、ェチルセルソルブ 、ブチルセルソルブ、 2-ピロリドン、 N-メチル -2-ピロリドン、ピリジン、トリェチルァミン 、ジメチルホルムアミド、ジメチルァセトアミド、ァセトニトリル、ブチ口-トリル、メチルイ ソブチルケトン、メチルエーテルケトン、シクロペンタノン、二硫ィ匕炭素等を用いること ができる。
上記溶剤の中では、メチルイソプチルケトンが榭脂組成物の溶解製に優れ、且つ 基材フィルムを浸食することがな 、ので特に好まし 、。
これら溶剤は、 1種又は 2種以上を適宜に組み合わせて使用することができる。
[0089] 前記榭脂溶液には、必要に応じて適宜、添加剤を添加することができる。添加剤と しては、特に限定はないが、紫外線吸収剤、劣化防止剤 (例えば、酸化防止剤、過 酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性剤、酸捕獲剤、ァミン)、可塑剤、帯電 防止剤等のほか、支持体であるプラスチック基板との密着性を確保するためなどの、 任意の目的を満たす添加剤が使用できる。配合部数は、位相差板の特性を損なわ ない範囲が好ましい。
[0090] 榭脂溶液の塗工方法は特に制限されず、例えばスピンコート法、ロールコート法、 フローコート法、プリントコート法、ディップコート法、流延成膜法、バーコート法、ダラ ビア印刷法等が挙げられる。榭脂溶液は、基材フィルムに直接塗布されてもよぐ他 の 1又は 2以上の層を介して塗布されてもよい。
[0091] 塗工膜の固定ィ匕方法については特に限定はなぐ使用する高分子榭脂の種類や その配合部数、また基材フィルムの材質によって適宜決定できる。
固定ィ匕方法の一例として乾燥方法が挙げられ、より具体的には、自然乾燥や加熱 乾燥 (例えば、 40°C〜350°Cに加熱）が挙げられる。該乾燥工程は、条件を変えて 二段階で行ってもよい。
[0092] また、紫外線などの光で硬化する光重合性の官能基をもった榭脂を用いた場合に は、加熱処理を行うことによってある程度溶剤を揮発させた後、可視光又は紫外光を 照射することによって塗工膜を固定ィ匕することができる。
[0093] 前記固定化された塗工膜の厚みは、通常 0. 2〜50 /z mとし、好ましくは 1〜30 mとする。厚みが 1〜30 /ζ πιの場合は、塗布や乾燥時のムラを防止でき、外観不良 をさらに低減することができる。
[0094] 本発明の偏光板は、上述のようにして作製された光学機能フィルムと偏光素子とが 積層されたものであり、その他の構成については特に制限はない。位相差フィルムと 偏光素子とは、直接貼り合わされてもよぐ他の部材を介して積層されてもよい。 偏光素子としては特に制限されず、従来公知の方法により、各種フィルムに、ヨウ素 や二色性染料等の二色性物質を吸着させて染色し、延伸、架橋、乾燥することによ つて調製したもの等が使用できる。中でも、自然光を入射させると直線偏光を透過す るフィルムが好ましぐ光透過率や偏光度に優れるものが好ましい。前記二色性物質 を吸着させる各種フィルムとしては、例えば、ポリビュルアルコール（PVA)系フィルム 、部分ホルマール化 PVA系フィルム、エチレン '酢酸ビニル共重合体系部分ケン化 フィルム、セルロース系フィルム等の親水性高分子フィルム等が挙げられ、これらの 他にも、例えば、 PVAの脱水処理物やポリ塩ィ匕ビュルを塩酸処理等したポリ塩ィ匕ビ 二ル系配向フィルムなども使用できる。これらの中でも、好ましくは PVA系フィルムで ある。また、前記偏光素子の厚みは、通常、 1〜80 /ζ πιの範囲である力 この範囲に は限定されない。
[0095] 本発明の偏光板の具体例としては、上述のようにして作製された本発明に係る光学 機能フィルム (例えば、位相差フィルム）、偏光子、および透明保護フィルムが積層さ れてなるものを挙げることができる。
[0096] また、前記透明保護フィルムは、例えば、該透明保護フィルムの少なくとも一方の面 に、ハードコート処理、反射防止処理、ステイツキング防止や拡散、アンチグレア等を 目的とする表面処理が施されたものであってもよい。前記ハードコート処理とは、偏光 板表面の傷付き防止等を目的とし、例えば、前記透明保護フィルムの表面に、硬化 型榭脂から構成される、硬度や滑り性に優れた硬化被膜を形成する処理である。前 記硬化型榭脂としては、例えば、シリコーン系、ウレタン系、アクリル系、エポキシ系等 の紫外線硬化型榭脂等が使用でき、前記処理は、従来公知の方法によって行うこと ができる。前記ステイツキング防止とは、隣接する層との密着防止を目的とするもので ある。前記反射防止処理とは、偏光板表面での外光の反射防止を目的とし、従来公 知の反射防止層等の形成により行うことができる。前記アンチグレア処理は、偏光板 表面において外光が反射することによる、偏光板透過光の視認妨害を防止すること を目的とし、例えば、従来公知の方法によって、前記透明保護フィルムの表面に、微 細な凹凸構造を形成することによって行うことができる。
[0097] 位相差フィルムと偏光板 (又は偏光子）との積層方法については特に限定されず、 従来公知の方法によって行うことができる。一般には、粘着剤や接着剤等が使用でき 、その種類は、位相差フィルムの材質等によって適宜決定できる。前記接着剤として は、例えば、アクリル系、ビュルアルコール系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリウレ タン系、ポリエーテル系等のポリマー製感圧接着剤や、ゴム系感圧接着剤が挙げら れる。また、グルタルアルデヒド、メラミン、シユウ酸等のビュルアルコール系ポリマー の水溶性架橋剤等から構成される接着剤等も使用できる。これらの接着剤や粘着剤 としては、例えば、温度や熱の影響によっても剥がれ難ぐ光透過率や偏光度にも優 れるものが好ましい。具体的には、前記偏光素子が PVA系フィルムの場合、例えば、 接着処理の安定性等の点から、 PVA系接着剤が好ましい。これらの接着剤や粘着 剤は、例えば、偏光素子や透明保護フィルムの表面に塗布してもよいし、前記接着 剤や粘着剤から構成されたテープやシートのような層を前記表面に配置してもよい。
[0098] 本発明の画像表示装置は、画像表示装置の表示画面に、前記光学機能フィルム が配されてなるものである。画像表示装置としては、透過型や反射型の液晶表示装 置、及び有機エレクトロルミネセンス装置などの任意の画像表示装置を採用すること ができる。
[0099] 液晶表示装置としては、特に限定されず、例えば、ッイステツドネマチック (TN)モ ードの液晶セル、垂直配向（VA)モードの液晶セル、又はインプレーンスイッチング（ IPS)モードの液晶セルなどを用いた液晶表示装置を使用できる。中でも、垂直配向 (VA)モードの液晶セルは、前記光学機能フィルムとの組合せにおける相性が良ぐ 画像表示特性に優れた液晶表示装置となる。
[0100] 具体的には、垂直配向（VA)モードの液晶セルは、液晶層を構成する液晶分子と して、負の誘電率異方性を有するネマチック液晶が採用されており、基板に垂直配 向膜を形成することによって、電圧無印加時には該液晶分子が基板面に垂直に配 向した状態となっている。そして、このような電圧無印加状態において、第一の偏光 板を通過した直線偏光の光を一方の基板面カゝら液晶層に入射させると、該入射光は 垂直偏光している前記液晶分子の長軸方向に沿って進むこととなる。液晶分子の長 軸方向には複屈折が生じないため、該入射光は偏光方位を変えずに進み、前記第 一の偏光板と直交する偏光軸を有する第二の偏光板で吸収される。これにより、電圧 無印加時においては暗状態の表示が得られることとなる。基板間に電圧が印加され ると、前記液晶分子は、その長軸が基板面と平行となるように配向する。このような電 圧印加状態において、液晶分子は、該液晶層に入射した光に対して複屈折性を示 し、これにより、入射光の偏光状態は該液晶分子の傾きに応じて変化する。例えば、 所定の最大電圧印加時において液晶層を通過する光の偏光方位が 90° 回転した 直線偏光となる場合には、該入射光は第二の偏光板をも通過するため、該表示装置 は明状態の表示が得られることとなる。
[0101] 斯かる構成の VAモード液晶表示装置は、コントラストが高いという点で優れた画像 表示特性を有して 、るが、厚み方向の屈折率が面方向の屈折率よりも大きくなるよう な光学特性 (nx=nyく nz)を有しており、表示状態の視野角依存を生じるという問題 がある。斯カる視野角依存性を光学補償によって低減するためには、厚み方向に屈 折率の小さ 、光学特性 (nx =ny> nz)を有する光学補償層が必要となる。
[0102] 一方、本発明に係る光学機能フィルムとしては、特に、厚み方向に屈折率の小さい 光学特性 (nx=ny>nz)を有する光学補償層を提供する場合に極めて好適である。 具体的には、基材フィルムを加熱した状態で延伸する延伸工程と、該基材フィルム 上に上述したようなポリイミドを含有する榭脂溶液を塗工する塗工工程と、塗工された ポリイミドを固定ィ匕してポリイミド層を形成する固定ィ匕工程とを行うことにより、厚み方 向に屈折率の小さい光学特性 (nx=ny>nz)を有する光学補償層を備えた光学機 能フィルムを得ることができる。即ち、基材フィルム上にポリイミド層を固定ィ匕するだけ で、その後の延伸工程を経ることなぐ厚み方向に屈折率の小さい光学特性 (nx=n y>nz)を有し、しカゝもスジムラのない外観特性に優れた光学機能フィルムを得ること ができる。
従って、斯カゝる構成の光学機能フィルムは、前記 VAモードの液晶セルとの組合せ により液晶表示装置の光学的等方化を実現し、視野角特性および外観特性に優れ た画像表示装置を提供することが可能となる。
[0103] また、前記 nx=ny>nzの光学特性を有する光学補償層を面内一方向に延伸する ことで、 nx>ny>nzの二軸性の光学特性を有する光学補償層とすることができる。 斯カる nx>ny>nzの二軸性の光学特性を有する光学補償層は、クロス-コル状態 の偏光子を斜めから見た場合の偏光子の軸ズレによる光漏れ、を防止するのに好適 である。
実施例
[0104] 以下、実施例を挙げて本発明について更に詳細に説明するが、本発明はこれらの 実施例に限定されるものではない。本実施例において採用した測定方法は、以下の 通りである。
[0105] 〈基材フィルム表面凹凸の測定方法〉
基材フィルム幅方向中央部から、 30mm四方の基材フィルム片をサンプルとして採 取した。該サンプノレについて、基材フィルム幅方向（TD方向）における表面凹凸（ μ m)を、高精度微細形状測定器 (小坂研究所製、 ET4000)にて測定し、その平均値 を表面凹凸 m)とした。
尚、高精度微細形状測定器の測定条件は、以下の通りとした。
走査速度： 0. 5mm, sec
評価間隔：3 /ζ πι
X軸スケール分解能： 0. 01 m
Z方向分解能： 0. lnm (± 3. 2 mレンジ）
触針先端半径: 0. 5 m (ダイァモンド）
[0106] 〈基材フィルム表面凹凸の平均傾斜角の測定方法〉
基材フィルム幅方向（TD方向）端辺より 30mm内側に入った位置から、 30mm四 方の基材フィルム片をサンプルとして採取し、更に、基材フィルムの中央部からも 30 mm四方の基材フィルム片をサンプルとして採取した。それぞれのサンプルにつ!/、て 、基材フィルム幅方向 (TD方向）における表面凹凸の傾斜角を、高精度微細形状測 定器（同上）にてそれぞれ 2箇所ずつ測定し、合計 4箇所で測定された表面凹凸の傾 斜角の平均値を平均傾斜角（で)とした。
尚、測定器の測定条件は、表面凹凸測定時と同じとした。
[0107] 〈榭脂層の厚みの測定方法〉
榭脂溶液塗工後において、基材フィルム幅方向中央部から 30mm四方の光学機 能フィルム片を採取し、ピークバレー法を用いて分光光度計 (オーシャンォプテイクス 社製、 USB2000)にて榭脂層の厚みを測定し、その標準偏差を求めた。
[0108] 〈ガラス転移温度 Tgの測定方法〉
TMA法にて測定した。
[0109] 〈目視判定の基準〉
〇 目視で感知されるスジは皆無で、均一な外観が得られている。 Δ 緩やかなスジムラが僅かながら確認されるものの、実用上問題のない外観が得 られている。
X 目立った強いムラが、所々に認められる。
[0110] (実施例 1)
トリァセチルセルロース製の長尺フィルム（富士写真フィルム社製、 TF— 80UL、膜 厚 80 μ m、幅 1330mm、 Tgl45°C)を基材フィルムとし、該基材フィルムを 145°Cに 加熱するとともに、該基材フィルムの幅方向両端を延伸装置に備えられた一対の把 持部材でそれぞれ把持し、該一対の把持部材を該基材フィルムの長手方向に移動 させるとともに該把持部材の間隔が 1. 1倍 (最大延伸倍率)となるまでその間隔を徐 々に広げていくことにより、該基材フィルムを延伸した。その後、該把持部材の間隔が 1. 09倍 (最終延伸倍率)となるように緩和 (即ち、緩和率 0. 992倍)させた。
一方、メチルイソプチルケトンにポリイミド（下記式（32)、重量平均分子量 Mw= 14 0, 000)を溶解させることにより、ポリイミド濃度が 10重量0 /0で粘度が 200mPa' sec のポリイミド溶液を調製した。
そして、塗布装置としてダイコーターを用い、該ポリイミド溶液を上述のようにして得 られた基材フィルム上に塗布し、 120°Cで 3分間乾燥させることにより、膜厚 3. 0 m の榭脂層を形成した。
得られた光学機能フィルムの外観を目視にて確認したところ、長手方向のスジ (縞 模様）は見られなかった。他の測定結果は表 1に示したとおりである。
[0111] [化 22]
Figure imgf000027_0001
(実施例 2)
基材フィルムとして、トリァセチルセルロース製の長尺フィルム（富士写真フィルム社 製、 TFY— 80UL、膜厚 80 /ζ πι、幅 1330mm)を使用する以外は、実施例 1と同様 にして、光学機能フィルムを作製した。 得られた光学機能フィルムの外観を目視にて確認したところ、スジは見られなかつ た。他の測定結果は表 1に示したとおりである。
[0113] (実施例 3)
基材フィルムとして、トリァセチルセルロース製の長尺フィルム（富士写真フィルム社 製、 TFY— 80UL、膜厚 80 /ζ πι、幅 1475mm)を使用する以外は、実施例 1と同様 にして、光学機能フィルムを作製した。
得られた光学機能フィルムの外観を目視にて確認したところ、スジは見られなかつ た。他の測定結果は表 1に示したとおりである。
[0114] (比較例 1〜3)
実施例 1〜3と同じトリァセチルセルロースフィルムを基材フィルムとし、該基材フィ ルムを延伸することなぐ同様にしてポリイミド溶液を塗布し、乾燥させて光学機能フィ ルムを作製した。
比較例 1〜3で得られた光学機能フィルムを目視にて確認したところ、フィルムの長 手方向に沿ったスジ (縞模様)が生じていることが認められた。他の測定結果は表 1 に示したとおりである。
[0115] (実施例 4)
基材フィルムとして、トリァセチルセルロース製の長尺フィルム（富士写真フィルム社 製、 TD— 80UL、膜厚 80 m、幅 1330mm、 Tgl45°C)を使用し、延伸工程にお ける加熱温度を 163°Cとし、延伸工程における最大延伸倍率を 1. 05倍、緩和率を 0 . 998倍、最終延伸倍率を 1. 05倍とする以外は、実施例 1と同様にして、光学機能 フィルムを作製した。測定結果は表 1に示したとおりである。
[0116] (実施例 5)
延伸工程における最大延伸倍率を 1. 08倍、緩和率を 0. 998倍、最終延伸倍率を 1. 08倍とする以外は、実施例 4と同様にして、光学機能フィルムを作製した。測定結 果は表 1に示したとおりである。
[0117] (実施例 6)
延伸工程における最大延伸倍率を 1. 1倍、緩和率を 0. 998倍、最終延伸倍率を 1 . 1倍とする以外は、実施例 4と同様にして、光学機能フィルムを作製した。測定結果 は表 1に示したとおりである。
[0118] (比較例 4)
延伸工程を採用することなぐ他は実施例 4と同様にして、光学機能フィルムを作製 した。測定結果は表 1に示したとおりである。
[0119] (比較例 5)
延伸工程を採用することなぐ基材フィルムを 163°Cに加熱 (ァニール)処理のみ行 い、他は実施例 4と同様にして、光学機能フィルムを作製した。測定結果は表 1に示 したとおりである。
[0120] (実施例 7)
基材フィルムとして、ォレフィン系ポリマー製の長尺フィルム（日本ゼオン社製、 ZE ONOR、膜厚 80 μ m、幅 1330mm、 Tgl37°C)を使用し、延伸工程における加熱 温度を 155°Cとし、延伸工程における最大延伸倍率を 2. 5倍、緩和率を 0. 995倍、 最終延伸倍率を 2. 49倍とする以外は、実施例 1と同様にして、光学機能フィルムを 作製した。測定結果は表 1に示したとおりである。
[0121] (実施例 8)
延伸工程における最大延伸倍率を 3. 5倍、緩和率を 0. 998倍、最終延伸倍率を 3 . 49倍とする以外は、実施例 7と同様にして、光学機能フィルムを作製した。測定結 果は表 1に示したとおりである。
[0122] (比較例 6)
延伸工程を採用することなぐ他は実施例 7と同様にして、光学機能フィルムを作製 した。測定結果は表 1に示したとおりである。
[0123] [表 1] 実施例及び比較例の試験条件と結果
Figure imgf000030_0001
[0124] 更に、実施例 1と比較例 1についての表面凹凸と傾斜角の実測データを図 1に示し 、実施例 6と比較例 4及び 5についての表面凹凸と傾斜角の実測データを図 2に示し 、実施例 7と比較例 6についての表面凹凸と傾斜角の実測データを図 3に示す。
[0125] 前記表 1に示したように、延伸工程を含む方法によって作成された実施例の光学機 能フィルムは、延伸工程を含まない方法によって作成された比較例の光学機能フィ ルムと比較して、目視評価の高い、即ち、外観の良好なものとなっていることが認めら れる。
また、このような目視評価による結果は、基材フィルムの表面凹凸 m)や表面凹 凸の平均傾斜角（° )、並びに、榭脂厚みの標準偏差の結果とも整合しており、これ らの測定結果力 も裏付けられていることが認められる。
[0126] さらに、実施例 1及び比較例 1で得られた前記表面凹凸と傾斜角度の実測値の対 比を図 1に示す。該図 1によれば、実施例 1の光学機能フィルムにおける表面凹凸お よび傾斜角度のバラツキ力 比較例 1の場合と比べて大幅に低減されていることがよ り一層明確に示されている。
[0127] 同様に、実施例 6、比較例 4及び比較例 5で得られた実測値の対比を図 2に示す。
該図 2によれば、実施例 6の光学機能フィルムにおける表面凹凸および傾斜角度の ノ ラツキ力 比較例 4や 5の場合と比べて大幅に低減されていることがより一層明確 に示されている。
[0128] 同様に、実施例 7及び比較例 6で得られた実測値の対比を図 3に示す。該図 3によ れば、実施例 7の光学機能フィルムにおける表面凹凸および傾斜角度のバラツキが 、比較例 6の場合と比べて大幅に低減されていることがより一層明確に示されている

Claims

請求の範囲
[1] 熱可塑性榭脂からなる基材フィルム上に榭脂溶液を塗工する塗工工程と、塗工さ れた榭脂を固定化して榭脂層を形成する固定ィ匕工程とを備えた光学機能フィルムの 製造方法において、
前記塗工工程の前段に、基材フィルムを加熱した状態で延伸する延伸工程を備え たことを特徴とする光学機能フィルムの製造方法。
[2] 前記延伸工程における基材フィルムの加熱温度力 80〜300°Cであることを特徴 とする請求項 1記載の光学機能フィルムの製造方法。
[3] 前記延伸工程における基材フィルムの加熱温度が、該基材フィルムを構成する榭 脂のガラス転移温度を Tgとした場合に、 Tg— 30°C〜Tg + 60°Cであることを特徴と する請求項 1記載の光学機能フィルムの製造方法。
[4] 前記延伸工程における基材フィルムの延伸倍率力 1. 001-4. 0倍の範囲内で あることを特徴とする請求項 1〜3の何れかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
[5] 前記基材フィルムを構成する熱可塑性榭脂が、ポリエステル系榭脂、ポリカーボネ 一ト系榭脂、セルロース系榭脂及びノルボルネン系榭脂からなる群より選択される何 れカ 1種であることを特徴とする請求項 1〜4の何れかに記載の光学機能フィルムの 製造方法。
[6] 前記榭脂溶液が、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミド イミド、及びポリエステル イミドカ なる群より選択される少なくとも何れ力 1種の榭 脂を含有することを特徴とする請求項 1〜5の何れかに記載の光学機能フィルムの製 造方法。
[7] 前記榭脂層の厚みが 30 μ m以下であることを特徴とする請求項 1〜6の何れかに 記載の光学機能フィルムの製造方法。
[8] 請求項 1〜7の何れか 1項に記載の光学機能フィルムの製造方法によって製造され た光学機能フィルム。
[9] 光学機能フィルムの屈折率特性が、 nx≥ny>nzであることを特徴とする請求項 8 記載の光学機能フィルム。
[10] VAモードの液晶表示装置に使用されることを特徴とする請求項 8又は 9記載の光 学機能フィルム。
[11] 請求項 8〜10の何れかに記載の光学機能フィルムと偏光子とが積層されてなること を特徴とする偏光板。
[12] 請求項 8〜10の何れか〖こ記載の光学機能フィルムが積層されてなることを特徴とす る光学素子。
[13] 請求項 8〜10の何れか〖こ記載の光学機能フィルムを備えたことを特徴とする画像 表示装置。
PCT/JP2006/313213 2005-07-04 2006-07-03 光学機能フィルムの製造方法、光学機能フィルム、偏光板、光学素子および画像表示装置 WO2007004602A1 (ja)

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