JP2007041576A - 光学機能フィルムの製造方法、光学機能フィルム、偏光板、光学素子および画像表示装置 - Google Patents

光学機能フィルムの製造方法、光学機能フィルム、偏光板、光学素子および画像表示装置 Download PDF

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Abstract

【課題】 外観不良を生じさせることなく光学機能フィルムを製造することを一の課題とする。
【解決手段】 熱可塑性樹脂からなる基材フィルム上に樹脂溶液を塗工する塗工工程と、塗工された樹脂を固定化して樹脂層を形成する固定化工程とを備えた光学機能フィルムの製造方法において、前記塗工工程の前段に、基材フィルムを加熱した状態で延伸する延伸工程を備えたことを特徴とする。
【選択図】 なし

Description

本発明は、光学機能フィルムの製造方法および光学機能フィルム、該光学機能フィルムを備えた偏光板および光学素子、並びに画像表示装置に関する。
近年、ＴＶやパソコンといったＯＡ機器の表示装置として、薄型軽量で且つ消費電力の少ない液晶表示装置が多用される傾向にある。該液晶表示装置は、液晶層や偏光板の他にも、光学補償層、ハードコート層、反射防止層、位相差層などの種々の光学機能層が積層されることによって構成される。したがって、これらの光学機能層は、各層の目的に適った機能を発揮することのみならず、その前提として、画像表示装置の表示画像に悪影響を及ぼさないものであることが求められている。
しかしながら、これらの光学機能層として使用するための光学機能フィルムを製造した際、該光学機能フィルムに極めて微細な縞模様のムラや点状のムラなどの外観不良が発生する場合がある。
本発明は、このような従来の問題点に鑑み、外観不良を生じさせることなく光学機能フィルムを製造することを一の課題とする。
また、本発明は、優れた画像表示特性を有する画像表示装置を提供することを他の課題とする。
光学機能フィルムは、一般に、基材フィルム上に樹脂溶液を塗工する塗工工程と、塗工された樹脂を固定化して樹脂層を形成する固定化工程とを経て製造されることが多いが、本発明者らが鋭意研究したところ、基材フィルム上に樹脂溶液を塗工する前に予め基材フィルムを加熱延伸しておくことにより、上述のような外観不良の低減を図りうることを見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、熱可塑性樹脂からなる基材フィルム上に樹脂溶液を塗工する塗工工程と、塗工された樹脂を固定化して樹脂層を形成する固定化工程とを備えた光学機能フィルムの製造方法において、前記塗工工程の前段に、基材フィルムを加熱した状態で延伸する延伸工程を備えたことを特徴とするものである。
尚、本発明において延伸倍率とは、延伸される基材フィルムにおける延伸前の延伸方向長さに対する延伸後の延伸方向長さの比をいう。
また、本発明の光学機能フィルムは、上述のような光学機能フィルムの製造方法によって製造されたものであり、本発明の偏光板は該光学機能フィルムと偏光子とが積層されてなり、本発明の光学素子および画像表示装置は、該光学機能フィルムが積層されてなるものである。
本発明に係る光学機能フィルムの製造方法によれば、樹脂溶液の塗工に先立って基材フィルムを加熱延伸する工程を備えたことにより、基材フィルム上の微細な凹凸が平滑化され、延いてはその上に積層される樹脂層も平滑となるため、外観不良の極めて少ない光学機能フィルムを製造することができる。また、本発明に係る画像表示装置は、このような外観不良の極めて少ない光学機能フィルムを用いたものであるため、画像表示特性が極めて優れたものとなる。
以下、本発明に係る光学機能フィルムの製造方法について説明する。
本発明に係る光学機能フィルムの製造方法は、熱可塑性樹脂からなる基材フィルム上に樹脂溶液を塗工する塗工工程と、塗工された樹脂を固定化して樹脂層を形成する固定化工程とを備えた光学機能フィルムの製造方法において、前記塗工工程の前段に、基材フィルムを加熱した状態で延伸する延伸工程を備えたことを特徴とするものである。
基材フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等のセルロース系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー等の透明ポリマーからなるフィルムを挙げることができる。
また、ポリスチレン、アクリロニトリル−スチレン共重合体等のスチレン系ポリマー、ポリエチレン、ポリプロピレン、環状ないしノルボルネン構造を有するポリオレフィン、エチレン−プロピレン共重合体等のオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー等の透明ポリマーからなるフィルムも挙げることができる。
さらにイミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマーや前記ポリマーのブレンド物等の透明ポリマーからなるフィルムなども挙げることができる。特に光学的に複屈折の少ないものが好適に用いられる。
尚、基材フィルムとしては、偏光特性や耐久性などの点より、トリアセチルセルロース等のセルロース系ポリマーが好ましく、特にトリアセチルセルロースフィルムが好適である。
また、基材フィルムとしては、特開２００１−３４３５２９号公報（ＷＯ ０１／３７００７）に記載のポリマーフィルム、例えば、側鎖に置換および／または非置換イミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換および／または非置換フェニルならびにニトリル基を有する熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物を挙げることができる。具体例としては、イソブチレンとＮ−メチルマレイミドからなる交互共重合体とアクリロニトリル−スチレン共重合体とを含有する樹脂組成物のフィルムを挙げることができる。
また、前記基材フィルムとしては、好ましくは、特開２００５−３１４５３４号公報に記載の下記構造式（１）で表されるグルタル酸無水物単位を含有するアクリル樹脂（Ａ）を主成分として含むアクリル樹脂フィルムが用いられる。下記構造式（１）で表されるグルタル酸無水物単位を含有することにより、耐熱性が向上し得る。下記構造式（１）中、Ｒ1、Ｒ2は、同一または相異なる水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を表し、好ましくは水素原子またはメチル基であり、より好ましくはメチル基である。
Figure 2007041576
上記アクリル樹脂（Ａ）中、上記構造式（１）で表されるグルタル酸無水物単位の含有割合は、好ましくは２０〜４０重量％、より好ましくは２５〜３５重量％である。
上記アクリル樹脂（Ａ）は、上記構造式（１）で表されるグルタル酸無水物単位の他に、任意の適切なモノマー単位を１種または２種以上含んでいても良い。このようなモノマー単位として、好ましくは、ビニルカルボン酸アルキルエステル単位が挙げられる。上記アクリル樹脂（Ａ）中、ビニルカルボン酸アルキルエステル単位の含有割合は、好ましくは６０〜８０重量％、より好ましくは６５〜７５重量％である。
上記ビニルカルボン酸アルキルエステル単位としては、例えば、下記一般式（２）で表される単位が挙げられる。下記一般式（２）中、Ｒ3は水素原子または炭素数１〜５の脂肪族もしくは脂環式炭化水素、Ｒ4は炭素数１〜５の脂肪族炭化水素を表す。
Figure 2007041576
上記アクリル樹脂（Ａ）の重量平均分子量は、好ましくは８００００〜１５００００である。
前記基材フィルム中の上記アクリル樹脂（Ａ）の含有割合は、好ましくは６０〜９０重量％である。
さらに、前記基材フィルム中には、上述したような各種樹脂以外に、任意の適切な成分が１種または２種以上含まれていても良い。このような成分としては、本発明の目的を損なわない範囲で任意の適切な成分を採用し得る。例えば、上述した樹脂以外の樹脂、紫外線吸収剤、酸化防止剤、滑剤、可塑剤、離型剤、着色防止剤、難燃剤、核剤、帯電防止剤、顔料、着色剤などが挙げられる。
基材フィルムの厚さは、適宜に決定しうるが、一般には強度や取扱性等の作業性、薄層性などの点より１０〜５００μｍ程度であり、２０〜３００μｍが好ましく、３０〜２００μｍがより好ましい。
また、前記延伸工程における基材フィルムの延伸倍率は、基材フィルムがトリアセチルセルロースなどのセルロース系ポリマーである場合、１．００１〜１．２倍の範囲内であることが好ましく、１．０８〜１．１６倍の範囲内であることがより好ましい。また、基材がノルボルネン構造を有するオレフィン系ポリマーである場合、１．００１〜４倍の範囲内であることが好ましく、２〜３倍の範囲内であることがより好ましい。更に、基材フィルムがアクリル系ポリマーである場合、１．００１〜４倍の範囲内であることが好ましく、２〜３倍の範囲内であることがより好ましい。
基材フィルムを延伸する方法としては、例えば、熱可塑性高分子フィルムを長手方向に一軸延伸する自由端縦延伸、フィルムの長手方向を固定した状態で幅方向に延伸する固定端横延伸、フィルムを長手方向に移動させつつ幅方向に延伸するテンター延伸などが挙げられる。
テンター延伸とは、例えば基材フィルムの巻かれたロールから別のロールへ基材フィルムを移送させつつ、そのロール間に配された延伸装置により基材フィルムを幅方向に延伸するものである。具体的には、延伸装置に備えられた一対の把持部材によって基材フィルムの幅方向両端をそれぞれ把持し、該一対の把持部材の間隔を徐々に広げながら該把持部材を基材の移送方向へ移動させ、延伸前の把持部材の間隔に対する延伸後の把持部材の間隔の比率が所定の拡大比率となった後、基材フィルムを解放することにより、基材フィルムを所定の延伸倍率にまで延伸するものである。
前記延伸工程における基材フィルムの加熱温度は、８０〜３００℃が好ましく、１００〜２００℃がより好ましく、１２０〜１８０℃が特に好ましい。また、該加熱温度を、該基材フィルムを構成する樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）を基準として表すと、Ｔｇ−３０℃〜Ｔｇ＋６０℃であることが好ましく、Ｔｇ−１０℃〜Ｔｇ＋４０℃であることがより好ましく、Ｔｇ＋０℃〜Ｔｇ＋２５℃であることが更に好ましい。このような温度に加熱すると上記のような熱可塑性樹脂からなる基材フィルムが軟化するため、軟化した基材フィルムを延伸することによって基材フィルムの微細な凹凸を平滑化することができる。
特に、延伸倍率を１．０５〜１．１５の範囲とすることにより、該基材フィルムの表面凹凸の高低差が例えば０．２μｍ以下となり、外観不良を顕著に低減させることができる。
また、前記延伸工程においては、基材フィルムを最大延伸倍率まで一旦延伸した後に、該延伸とは逆方向にフィルムを緩和（収縮）させることもできる。延伸工程において緩和（収縮）を行うと、ボーイング現象による配向軸のずれを抑制し、基材フィルム面内の位相差（Δｎｄ）、基材フィルム厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）および配向軸の精度をより一層向上させることができる。
緩和率（緩和率＝緩和後の基材フィルム幅／緩和前の基材フィルム幅）は、０．８５〜０．９９９倍が好ましく、０．９８〜０．９９８倍がより好ましく、０．９９０〜０．９９５倍が更に好ましい。
尚、前記延伸工程において、基材フィルムを最大延伸倍率にまで一旦延伸した後に緩和を行う場合には、本発明における延伸倍率（最終延伸倍率）は、延伸前の基材フィルム幅に対する緩和後の基材フィルム幅、即ち、
（延伸倍率＝緩和後の基材フィルム幅／延伸前の基材フィルム幅）
として求められるものである。言い換えると、延伸倍率（最終延伸倍率）は、最大延伸倍率と緩和率との積として得られる。
また、光学機能フィルムとして位相差フィルムを製造する場合には、前記固定化工程によって樹脂層を形成した後、該基材フィルムをさらに延伸することも可能である。延伸倍率は、該位相差フィルムの用途に応じ、屈折率が所望の値となるように調整すればよい。
基材フィルムに塗布する樹脂材料としては、例えば、耐熱性、耐薬品性及び透明性に優れ、剛性にも富むことから、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミド−イミド或いはポリエステル-イミド等のポリマーを挙げることができる。これらのポリマーは、いずれか一種類を単独で使用してもよいし、例えば、ポリエーテルケトンとポリアミドとの混合物のように、異なる官能基を持つ２種以上の混合物として使用してもよい。このようなポリマーの中でも、高透明性、高配向性及び高延伸性であることから、ポリイミドが特に好ましい。
前記ポリマーの分子量は、特に制限されないが、例えば重量平均分子量(Ｍｗ)が１,０００〜１,０００,０００の範囲であることが好ましく、より好ましくは２,０００〜５００,０００の範囲である。
前記ポリイミドとしては、例えば、面内配向性が高く、有機溶剤に可溶なポリイミドが好ましい。具体的には、例えば、特表２０００−５１１２９６号公報に開示された、９,９-ビス(アミノアリール)フルオレンと芳香族テトラカルボン酸二無水物との縮合重合生成物を含み、下記式（３）に示す繰り返し単位を１つ以上含むポリマーが使用できる。
Figure 2007041576
前記式（３）中、Ｒ3〜Ｒ6は、水素、ハロゲン、フェニル基、１〜４個のハロゲン原子又は炭素数１〜１０のアルキル基で置換されたフェニル基、及び炭素数１〜１０のアルキル基からなる群からそれぞれ独立に選択される少なくとも一種類の置換基である。好ましくはＲ3〜Ｒ6は、ハロゲン、フェニル基、１〜４個のハロゲン原子又は炭素数１〜１０のアルキル基で置換されたフェニル基、及び炭素数１〜１０のアルキル基からなる群からそれぞれ独立に選択される少なくとも一種類の置換基である。
前記式（３）中、Ｚは、例えば、炭素数６〜２０の４価芳香族基であり、好ましくは、ピロメリット基、多環式芳香族基、多環式芳香族基の誘導体、又は、下記式（４）で表される基である。
Figure 2007041576
前記式(４)中、Z’は、例えば、共有結合、C(R7) 2基、CO基、O原子、S原子、SO2基、Si(C2H5)2基、又は、NR8基であり、複数の場合、それぞれ同一であるか又は異なる。
また、wは、１〜１０までの整数を表す。R7は、それぞれ独立に、水素又はC(R9)3である。R8は、水素、炭素数１〜２０のアルキル基、又は炭素数６〜２０のアリール基であり、複数の場合、それぞれ同一であるか又は異なる。R9は、それぞれ独立に、水素、フッ素、又は塩素である。
前記多環式芳香族基としては、例えば、ナフタレン、フルオレン、ベンゾフルオレン又はアントラセンから誘導される４価の基を挙げることができる。また、前記多環式芳香族基の置換誘導体としては、例えば、炭素数１〜１０のアルキル基、そのフッ素化誘導体、及びFやCl等のハロゲンからなる群から選択される少なくとも一つの基で置換された前記多環式芳香族基を挙げることができる。
この他にも、例えば、特表平８−５１１８１２号公報に記載された、繰り返し単位が下記一般式(５)又は(６)で示されるホモポリマーや、繰り返し単位が下記一般式(７)で示されるポリイミド等を挙げることができる。尚、下記式(７)のポリイミドは、下記式(５)のホモポリマーの好ましい態様である。
Figure 2007041576
Figure 2007041576
Figure 2007041576
前記一般式(５)〜(７)中、G及びG’は、例えば、共有結合、CH2基、C(CH3)2基、C(CF3)2基、C(CX3)2基(ここで、Xは、ハロゲンである。)、CO基、O原子、S原子、SO2基、Si(CH2CH3)2基、及び、N(CH3)基からなる群から、それぞれ独立して選択される基を表し、それぞれ同一でも異なってもよい。
前記式(５)及び式(７)中、Lは、置換基であり、d及びeは、その置換数を表す。Lは、例えば、ハロゲン、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のハロゲン化アルキル基、フェニル基、又は、置換フェニル基であり、複数の場合、それぞれ同一であるか又は異なる。前記置換フェニル基としては、例えば、ハロゲン、炭素数１〜３のアルキル基、及び炭素数１〜３のハロゲン化アルキル基からなる群から選択される少なくとも一種類の置換基を有する置換フェニル基を挙げることができる。また、前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素を挙げることができる。dは、０〜２までの整数であり、eは、０〜３までの整数である。
前記式(５)〜(７)中、Qは置換基であり、fはその置換数を表す。Qとしては、例えば、水素、ハロゲン、アルキル基、置換アルキル基、ニトロ基、シアノ基、チオアルキル基、アルコキシ基、アリール基、置換アリール基、アルキルエステル基、及び置換アルキルエステル基からなる群から選択される原子又は基であって、Qが複数の場合、それぞれ同一であるか又は異なる。前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素を挙げることができる。前記置換アルキル基としては、例えば、ハロゲン化アルキル基を挙げることができる。
また前記置換アリール基としては、例えば、ハロゲン化アリール基を挙げることができる。fは、０〜４までの整数であり、g及びhは、それぞれ０〜３及び１〜３までの整数である。また、g及びhは、１より大きいことが好ましい。
前記式(６)中、R10及びR11は、水素、ハロゲン、フェニル基、置換フェニル基、アルキル基、及び置換アルキル基からなる群から、それぞれ独立に選択される基である。
その中でも、R10及びR11は、それぞれ独立に、ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
前記式(７)中、M1及びM2は、同一であるか又は異なり、例えば、ハロゲン、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のハロゲン化アルキル基、フェニル基、又は、置換フェニル基である。
前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素を挙げることができる。
また、前記置換フェニル基としては、例えば、ハロゲン、炭素数１〜３のアルキル基、及び炭素数１〜３のハロゲン化アルキル基からなる群から選択される少なくとも一種類の置換基を有する置換フェニル基を挙げることができる。
前記式(５)に示すポリイミドの具体例としては、例えば、下記式(８)で表されるもの等を挙げることができる。
Figure 2007041576
さらに、前記ポリイミドとしては、例えば、前述のような骨格(繰り返し単位)以外の酸二無水物やジアミンを、適宜共重合させたコポリマーを挙げることができる。
前記酸二無水物としては、例えば、芳香族テトラカルボン酸二無水物を挙げることができる。
前記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ピロメリット酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物、2,2'−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等を挙げることができる。
前記ピロメリット酸二無水物としては、例えば、ピロメリット酸二無水物、3,6-ジフェニルピロメリット酸二無水物、3,6-ビス(トリフルオロメチル)ピロメリット酸二無水物、3,6-ジブロモピロメリット酸二無水物、3,6-ジクロロピロメリット酸二無水物等を挙げることができる。前記ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、3,3',4,4'-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,3,3',4'-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2',3,3'-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物等を挙げることができる。前記ナフタレンテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、2,3,6,7-ナフタレン-テトラカルボン酸二無水物、1,2,5,6-ナフタレン-テトラカルボン酸二無水物、2,6-ジクロロ-ナフタレン-1,4,5,8-テトラカルボン酸二無水物等を挙げることができる。前記複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、チオフェン-2,3,4,5-テトラカルボン酸二無水物、ピラジン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物、ピリジン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物等を挙げることができる。
前記2,2'-置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、2,2'-ジブロモ-4,4',5,5'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2'-ジクロロ-4,4',5,5'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2'-ビス(トリフルオロメチル)-4,4',5,5'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等を挙げることができる。
また、前記芳香族テトラカルボン酸二無水物のその他の例としては、3,3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(2,5,6-トリフルオロ-3,4-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン二無水物、4,4'-(3,4-ジカルボキシフェニル)-2,2-ジフェニルプロパン二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、4,4'-オキシジフタル酸二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)スルホン酸二無水物(3,3',4,4'-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物)、4,4'-［4,4'-イソプロピリデン-ジ(p-フェニレンオキシ)］ビス(フタル酸無水物)、N,N-(3,4-ジカルボキシフェニル)-N-メチルアミン二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)ジエチルシラン二無水物等を挙げることができる。
これらの中でも、前記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、2,2'-置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物が好ましく、より好ましくは、2,2'-ビス(トリハロメチル)-4,4',5,5'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物であり、さらに好ましくは、2,2'-ビス(トリフルオロメチル)-4,4',5,5'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物である。
前記ジアミンとしては、例えば、芳香族ジアミンを挙げることができ、具体例としては、ベンゼンジアミン、ジアミノベンゾフェノン、ナフタレンジアミン、複素環式芳香族ジアミン、及びその他の芳香族ジアミンを挙げることができる。
前記ベンゼンジアミンとしては、例えば、o-,m-及びp-フェニレンジアミン、2,4-ジアミノトルエン、1,4-ジアミノ-2-メトキシベンゼン、1,4-ジアミノ-2-フェニルベンゼン及び1,3-ジアミノ-4-クロロベンゼンのようなベンゼンジアミンから成る群から選択されるジアミン等を挙げることができる。前記ジアミノベンゾフェノンの例としては、2,2'-ジアミノベンゾフェノン、及び3,3'-ジアミノベンゾフェノン等を挙げることができる。前記ナフタレンジアミンとしては、例えば、1,8-ジアミノナフタレン、及び1,5-ジアミノナフタレン等を挙げることができる。前記複素環式芳香族ジアミンの例としては、2,6-ジアミノピリジン、2,4-ジアミノピリジン、及び2,4-ジアミノ-S-トリアジン等を挙げることができる。
また、前記芳香族ジアミンとしては、これらの他に、4,4'-ジアミノビフェニル、4,4'-ジアミノジフェニルメタン、4,4'-(9-フルオレニリデン)-ジアニリン、2,2'-ビス(トリフルオロメチル)-4,4'-ジアミノビフェニル、3,3'-ジクロロ-4,4'-ジアミノジフェニルメタン、2,2'-ジクロロ-4,4'-ジアミノビフェニル、2,2',5,5'-テトラクロロベンジジン、2,2-ビス(4-アミノフェノキシフェニル)プロパン、2,2-ビス(4-アミノフェニル)プロパン、2,2-ビス(4-アミノフェニル)-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン、4,4'-ジアミノジフェニルエーテル、3,4'-ジアミノジフェニルエーテル、1,3-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4'-ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4'-ビス(3-アミノフェノキシ)ビフェニル、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル)−1,1,1,3,3,3-へキサフルオロプロパン、4,4'-ジアミノジフェニルチオエーテル、4,4'-ジアミノジフェニルスルホン等を挙げることができる。
前記樹脂材料であるポリエーテルケトンとしては、例えば、特開２００１−４９１１０号公報に記載された、下記一般式(９)で表されるポリアリールエーテルケトンを挙げることができる。
Figure 2007041576
前記式(９)中、Xは、置換基を表し、qは、その置換数を表す。Xは、例えば、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン化アルキル基、低級アルコキシ基、又は、ハロゲン化アルコキシ基であり、Ｘが複数の場合、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
前記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、臭素原子、塩素原子及びヨウ素原子があげられ、これらの中でも、フッ素原子が好ましい。前記低級アルキル基としては、例えば、炭素数１〜６の直鎖又は分岐鎖を有する低級アルキル基が好ましく、より好ましくは炭素数１〜４の直鎖又は分岐鎖のアルキル基である。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、及び、tert-ブチル基が好ましく、特に好ましくは、メチル基及びエチル基である。前記ハロゲン化アルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基等の前記低級アルキル基のハロゲン化物を挙げることができる。前記低級アルコキシ基としては、例えば、炭素数１〜６の直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基が好ましく、より好ましくは炭素数１〜４の直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基である。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、sec-ブトキシ基、及び、tert-ブトキシ基が、さらに好ましく、特に好ましくはメトキシ基及びエトキシ基である。前記ハロゲン化アルコキシ基としては、例えば、トリフルオロメトキシ基等の前記低級アルコキシ基のハロゲン化物を挙げることができる。
前記式(９)中、qは、０〜４までの整数である。前記式(９)においては、q＝０であり、かつ、ベンゼン環の両端に結合したカルボニル基とエーテルの酸素原子とが互いにパラ位に存在することが好ましい。
また、前記式(９)中、R1は、下記式(１０)で表される基であり、mは、０又は１の整数である。
Figure 2007041576
前記式(１０)中、X’は置換基を表し、例えば、前記式(９)におけるXと同様である。前記式(１０)において、X’が複数の場合、それぞれ同一であるか又は異なる。q’は、前記X’の置換数を表し、０〜４までの整数であって、q’＝０が好ましい。また、pは、０又は１の整数である。
前記式(１０)中、R2は、２価の芳香族基を表す。この2価の芳香族基としては、例えば、o-、m-もしくはp-フェニレン基、又は、ナフタレン、ビフェニル、アントラセン、o-、m-もしくはp-テルフェニル、フェナントレン、ジベンゾフラン、ビフェニルエーテル、もしくは、ビフェニルスルホンから誘導される2価の基等を挙げることができる。これらの２価の芳香族基において、芳香族に直接結合している水素が、ハロゲン原子、低級アルキル基又は低級アルコキシ基で置換されてもよい。これらの中でも、前記R2としては、下記式(１１)〜(１７)からなる群から選択される芳香族基が好ましい。
Figure 2007041576
前記式(９)中、前記R1としては、下記式(１８)で表される基が好ましく、下記式(１８)において、R2及びpは前記式(１０)と同義である。
Figure 2007041576
さらに、前記式(９)中、nは重合度を表し、例えば、２〜５,０００の範囲であり、好ましくは、５〜５００の範囲である。また、その重合は、同じ構造の繰り返し単位からなるものであってもよく、異なる構造の繰り返し単位からなるものであってもよい。後者の場合には、繰り返し単位の重合形態は、ブロック重合であってもよいし、ランダム重合でもよい。
さらに、前記式(９)で示されるポリアリールエーテルケトンの末端は、p-テトラフルオロベンゾイレン基側がフッ素であり、オキシアルキレン基側が水素原子であることが好ましく、このようなポリアリールエーテルケトンは、例えば、下記一般式(１９)で表すことができる。尚、下記式において、nは前記式(９)と同様の重合度を表す。
Figure 2007041576
前記式(９)で示されるポリアリールエーテルケトンの具体例としては、下記式(２０)〜(２３)で表されるもの等があげられ、下記各式において、nは、前記式(９)と同様の重合度を表す。
Figure 2007041576
Figure 2007041576
Figure 2007041576
Figure 2007041576
また、これらの他に、前記樹脂材料であるポリアミド又はポリエステルとしては、例えば、特表平１０−５０８０４８号公報に記載されるポリアミドやポリエステルがあげられ、それらの繰り返し単位は、例えば、下記一般式(２４)で表すことができる。
Figure 2007041576
前記式(２４)中、Yは、O又はNHである。また、Eは、例えば、共有結合、C2アルキレン基、ハロゲン化C2アルキレン基、CH2基、C(CX3)2基(ここで、Xはハロゲン又は水素である。)、CO基、O原子、S原子、SO2基、Si(R)2基、及び、N(R)基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の基であり、それぞれ同一でもよいし異なってもよい。前記Eにおいて、Rは、炭素数１〜３のアルキル基及び炭素数１〜３のハロゲン化アルキル基の少なくとも一種類であり、カルボニル官能基又はY基に対してメタ位又はパラ位にある。
また、前記(２４)中、A及びA’は、置換基であり、t及びzは、それぞれの置換数を表す。また、pは、０〜３までの整数であり、qは、１〜３までの整数であり、rは、０〜３までの整数である。
前記Aは、例えば、水素、ハロゲン、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のハロゲン化アルキル基、OR(ここで、Rは、前記定義のものである。)で表されるアルコキシ基、アリール基、ハロゲン化等による置換アリール基、炭素数１〜９のアルコキシカルボニル基、炭素数１〜９のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数１〜１２のアリールオキシカルボニル基、炭素数１〜１２のアリールカルボニルオキシ基及びその置換誘導体、炭素数１〜１２のアリールカルバモイル基、並びに、炭素数１〜１２のアリールカルボニルアミノ基及びその置換誘導体からなる群から選択され、複数の場合、それぞれ同一であるか又は異なる。前記Ａ’は、例えば、ハロゲン、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のハロゲン化アルキル基、フェニル基及び置換フェニル基からなる群から選択され、複数の場合、それぞれ同一であるか又は異なる。前記置換フェニル基のフェニル環上の置換基としては、例えば、ハロゲン、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のハロゲン化アルキル基及びこれらの組み合わせを挙げることができる。前記tは、０〜４までの整数であり、前記zは、０〜３までの整数である。
前記式(２４)で表されるポリアミド又はポリエステルの繰り返し単位の中でも、下記一般式(２５)で表されるものが好ましい。
Figure 2007041576
前記式(２５)中、A、A’及びYは、前記式(２４)で定義したものであり、vは０〜３の整数、好ましくは、０〜２の整数である。x及びyは、それぞれ０又は１であるが、共に０であることはない。
また、ポリエステルとしては、繰り返し単位が下記一般式(２６)(２７)で表されるものであってもよい。
Figure 2007041576
前記式(２６)(２７)中、X及びYは、置換基である。該Xは、水素、塩素及び臭素からなる群から選択される。また、該Yは、下記式(２８),(２９),(３０),(３１)からなる群から選択される。
Figure 2007041576
更に、ポリエステルとしては、前記一般式(２６),(２７)で表されるポリエステルを組み合わせたコポリマーであってもよい。
前記樹脂材料を溶解させる溶剤としては、前記樹脂材料を溶解でき、且つ基材フィルムを極度には浸食しないものであればよく、使用する樹脂材料及び基材フィルムに応じ適宜選択することができる。具体的には、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、o-ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、フェノール、パラクロロフェノール等のフェノール類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、１,２-ジメトキシベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、酢酸エチル、t-ブチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、２-メチル-２,４-ペンタンジオール、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ、２-ピロリドン、N-メチル-２-ピロリドン、ピリジン、トリエチルアミン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、アセトニトリル、ブチロニトリル、メチルイソブチルケトン、メチルエーテルケトン、シクロペンタノン、二硫化炭素等を用いることができる。
上記溶剤の中では、メチルイソブチルケトンが樹脂組成物の溶解製に優れ、且つ基材フィルムを浸食することがないので特に好ましい。
これら溶剤は、１種又は２種以上を適宜に組み合わせて使用することができる。
前記樹脂溶液には、必要に応じて適宜、添加剤を添加することができる。添加剤としては、特に限定はないが、紫外線吸収剤、劣化防止剤（例えば、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性剤、酸捕獲剤、アミン）、可塑剤、帯電防止剤等のほか、支持体であるプラスチック基板との密着性を確保するためなどの、任意の目的を満たす添加剤が使用できる。配合部数は、位相差板の特性を損なわない範囲が好ましい。
樹脂溶液の塗工方法は特に制限されず、例えばスピンコート法、ロールコート法、フローコート法、プリントコート法、ディップコート法、流延成膜法、バーコート法、グラビア印刷法等が挙げられる。樹脂溶液は、基材フィルムに直接塗布されてもよく、他の１又は２以上の層を介して塗布されてもよい。
塗工膜の固定化方法については特に限定はなく、使用する高分子樹脂の種類やその配合部数、また基材フィルムの材質によって適宜決定できる。
固定化方法の一例として乾燥方法が挙げられ、より具体的には、自然乾燥や加熱乾燥（例えば、４０℃〜３５０℃に加熱）が挙げられる。該乾燥工程は、条件を変えて二段階で行ってもよい
また、紫外線などの光で硬化する光重合性の官能基をもった樹脂を用いた場合には、加熱処理を行うことによってある程度溶剤を揮発させた後、可視光又は紫外光を照射することによって塗工膜を固定化することができる。
前記固定化された塗工膜の厚みは、通常０．２〜５０μｍとし、好ましくは１〜３０μｍとする。厚みが１〜３０μｍの場合は、塗布や乾燥時のムラを防止でき、外観不良をさらに低減することができる。
本発明の偏光板は、上述のようにして作製された光学機能フィルムと偏光素子とが積層されたものであり、その他の構成については特に制限はない。位相差フィルムと偏光素子とは、直接貼り合わされてもよく、他の部材を介して積層されてもよい。
偏光素子としては特に制限されず、従来公知の方法により、各種フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させて染色し、延伸、架橋、乾燥することによって調製したもの等が使用できる。中でも、自然光を入射させると直線偏光を透過するフィルムが好ましく、光透過率や偏光度に優れるものが好ましい。前記二色性物質を吸着させる各種フィルムとしては、例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系フィルム、部分ホルマール化ＰＶＡ系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム、セルロース系フィルム等の親水性高分子フィルム等が挙げられ、これらの他にも、例えば、ＰＶＡの脱水処理物やポリ塩化ビニルを塩酸処理等したポリ塩化ビニル系配向フィルムなども使用できる。これらの中でも、好ましくはＰＶＡ系フィルムである。また、前記偏光素子の厚みは、通常、１〜８０μｍの範囲であるが、この範囲には限定されない。
本発明の偏光板の具体例としては、上述のようにして作製された本発明に係る光学機能フィルム（例えば、位相差フィルム）、偏光子、および透明保護フィルムが積層されてなるものを挙げることができる。
また、前記透明保護フィルムは、例えば、該透明保護フィルムの少なくとも一方の面に、ハードコート処理、反射防止処理、スティッキング防止や拡散、アンチグレア等を目的とする表面処理が施されたものであってもよい。前記ハードコート処理とは、偏光板表面の傷付き防止等を目的とし、例えば、前記透明保護フィルムの表面に、硬化型樹脂から構成される、硬度や滑り性に優れた硬化被膜を形成する処理である。前記硬化型樹脂としては、例えば、シリコーン系、ウレタン系、アクリル系、エポキシ系等の紫外線硬化型樹脂等が使用でき、前記処理は、従来公知の方法によって行うことができる。前記スティッキング防止とは、隣接する層との密着防止を目的とするものである。前記反射防止処理とは、偏光板表面での外光の反射防止を目的とし、従来公知の反射防止層等の形成により行うことができる。前記アンチグレア処理は、偏光板表面において外光が反射することによる、偏光板透過光の視認妨害を防止することを目的とし、例えば、従来公知の方法によって、前記透明保護フィルムの表面に、微細な凹凸構造を形成することによって行うことができる。
位相差フィルムと偏光板（又は偏光子）との積層方法については特に限定されず、従来公知の方法によって行うことができる。一般には、粘着剤や接着剤等が使用でき、その種類は、位相差フィルムの材質等によって適宜決定できる。前記接着剤としては、例えば、アクリル系、ビニルアルコール系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエーテル系等のポリマー製感圧接着剤や、ゴム系感圧接着剤が挙げられる。また、グルタルアルデヒド、メラミン、シュウ酸等のビニルアルコール系ポリマーの水溶性架橋剤等から構成される接着剤等も使用できる。これらの接着剤や粘着剤としては、例えば、温度や熱の影響によっても剥がれ難く、光透過率や偏光度にも優れるものが好ましい。具体的には、前記偏光素子がＰＶＡ系フィルムの場合、例えば、接着処理の安定性等の点から、ＰＶＡ系接着剤が好ましい。これらの接着剤や粘着剤は、例えば、偏光素子や透明保護フィルムの表面に塗布してもよいし、前記接着剤や粘着剤から構成されたテープやシートのような層を前記表面に配置してもよい。
本発明の画像表示装置は、画像表示装置の表示画面に、前記光学機能フィルムが配されてなるものである。画像表示装置としては、透過型や反射型の液晶表示装置、及び有機エレクトロルミネセンス装置などの任意の画像表示装置を採用することができる。
液晶表示装置としては、特に限定されず、例えば、ツイステッドネマチック（ＴＮ）モードの液晶セル、垂直配向（ＶＡ）モードの液晶セル、又はインプレーンスイッチング（ＩＰＳ）モードの液晶セルなどを用いた液晶表示装置を使用できる。中でも、垂直配向（ＶＡ）モードの液晶セルは、前記光学機能フィルムとの組合せにおける相性が良く、画像表示特性に優れた液晶表示装置となる。
具体的には、垂直配向（ＶＡ）モードの液晶セルは、液晶層を構成する液晶分子として、負の誘電率異方性を有するネマチック液晶が採用されており、基板に垂直配向膜を形成することによって、電圧無印加時には該液晶分子が基板面に垂直に配向した状態となっている。そして、このような電圧無印加状態において、第一の偏光板を通過した直線偏光の光を一方の基板面から液晶層に入射させると、該入射光は垂直偏光している前記液晶分子の長軸方向に沿って進むこととなる。液晶分子の長軸方向には複屈折が生じないため、該入射光は偏光方位を変えずに進み、前記第一の偏光板と直交する偏光軸を有する第二の偏光板で吸収される。これにより、電圧無印加時においては暗状態の表示が得られることとなる。基板間に電圧が印加されると、前記液晶分子は、その長軸が基板面と平行となるように配向する。このような電圧印加状態において、液晶分子は、該液晶層に入射した光に対して複屈折性を示し、これにより、入射光の偏光状態は該液晶分子の傾きに応じて変化する。例えば、所定の最大電圧印加時において液晶層を通過する光の偏光方位が９０°回転した直線偏光となる場合には、該入射光は第二の偏光板をも通過するため、該表示装置は明状態の表示が得られることとなる。
斯かる構成のＶＡモード液晶表示装置は、コントラストが高いという点で優れた画像表示特性を有しているが、厚み方向の屈折率が面方向の屈折率よりも大きくなるような光学特性（ｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚ）を有しており、表示状態の視野角依存を生じるという問題がある。斯かる視野角依存性を光学補償によって低減するためには、厚み方向に屈折率の小さい光学特性（ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚ）を有する光学補償層が必要となる。
一方、本発明に係る光学機能フィルムとしては、特に、厚み方向に屈折率の小さい光学特性（ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚ）を有する光学補償層を提供する場合に極めて好適である。
具体的には、基材フィルムを加熱した状態で延伸する延伸工程と、該基材フィルム上に上述したようなポリイミドを含有する樹脂溶液を塗工する塗工工程と、塗工されたポリイミドを固定化してポリイミド層を形成する固定化工程とを行うことにより、厚み方向に屈折率の小さい光学特性（ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚ）を有する光学補償層を備えた光学機能フィルムを得ることができる。即ち、基材フィルム上にポリイミド層を固定化するだけで、その後の延伸工程を経ることなく、厚み方向に屈折率の小さい光学特性（ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚ）を有し、しかもスジムラのない外観特性に優れた光学機能フィルムを得ることができる。
従って、斯かる構成の光学機能フィルムは、前記ＶＡモードの液晶セルとの組合せにより液晶表示装置の光学的等方化を実現し、視野角特性および外観特性に優れた画像表示装置を提供することが可能となる。
また、前記ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚの光学特性を有する光学補償層を面内一方向に延伸することで、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの二軸性の光学特性を有する光学補償層とすることができる。斯かるｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの二軸性の光学特性を有する光学補償層は、クロスニコル状態の偏光子を斜めから見た場合の偏光子の軸ズレによる光漏れ、を防止するのに好適である。
以下、実施例を挙げて本発明について更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。本実施例において採用した測定方法は、以下の通りである。
基材フィルム表面凹凸の測定方法
基材フィルム幅方向中央部から、３０ｍｍ四方の基材フィルム片をサンプルとして採取した。該サンプルについて、基材フィルム幅方向（ＴＤ方向）における表面凹凸（μｍ）を、高精度微細形状測定器（小坂研究所製、ＥＴ４０００）にて測定し、その平均値を表面凹凸（μｍ）とした。
尚、高精度微細形状測定器の測定条件は、以下の通りとした。
走査速度：０．５ｍｍ／ｓｅｃ
評価間隔：３μｍ
Ｘ軸スケール分解能：０．０１μｍ
Ｚ方向分解能：０．１ｎｍ（±３．２μｍレンジ）
触針先端半径：０．５μｍ（ダイアモンド）
基材フィルム表面凹凸の平均傾斜角の測定方法
基材フィルム幅方向（ＴＤ方向）端辺より３０ｍｍ内側に入った位置から、３０ｍｍ四方の基材フィルム片をサンプルとして採取し、更に、基材フィルムの中央部からも３０ｍｍ四方の基材フィルム片をサンプルとして採取した。それぞれのサンプルについて、基材フィルム幅方向（ＴＤ方向）における表面凹凸の傾斜角を、高精度微細形状測定器（同上）にてそれぞれ２箇所ずつ測定し、合計４箇所で測定された表面凹凸の傾斜角の平均値を平均傾斜角（℃）とした。
尚、測定器の測定条件は、表面凹凸測定時と同じとした。
樹脂層の厚みの測定方法
樹脂溶液塗工後において、基材フィルム幅方向中央部から３０ｍｍ四方の光学機能フィルム片を採取し、ピークバレー法を用いて分光光度計（オーシャンオプティクス社製、ＵＳＢ２０００）にて樹脂層の厚みを測定し、その標準偏差を求めた。
ガラス転移温度Ｔｇの測定方法
ＴＭＡ法にて測定した。
目視判定の基準
○ 目視で感知されるスジは皆無で、均一な外観が得られている。
△ 緩やかなスジムラが僅かながら確認されるものの、実用上問題のない外観が得られている。
× 目立った強いムラが、所々に認められる。
（実施例１）
トリアセチルセルロース製の長尺フィルム（富士写真フィルム社製、ＴＦ−８０ＵＬ、膜厚８０μｍ、幅１３３０ｍｍ、Ｔｇ１４５℃）を基材フィルムとし、該基材フィルムを１４５℃に加熱するとともに、該基材フィルムの幅方向両端を延伸装置に備えられた一対の把持部材でそれぞれ把持し、該一対の把持部材を該基材フィルムの長手方向に移動させるとともに該把持部材の間隔が１．１倍（最大延伸倍率）となるまでその間隔を徐々に広げていくことにより、該基材フィルムを延伸した。その後、該把持部材の間隔が１．０９倍（最終延伸倍率）となるように緩和（即ち、緩和率０．９９２倍）させた。
一方、メチルイソブチルケトンにポリイミド（下記式（３２）、重量平均分子量Ｍｗ＝１４０，０００）を溶解させることにより、ポリイミド濃度が１０重量％で粘度が２００ｍＰａ・ｓｅｃのポリイミド溶液を調製した。
そして、塗布装置としてダイコーターを用い、該ポリイミド溶液を上述のようにして得られた基材フィルム上に塗布し、１２０℃で３分間乾燥させることにより、膜厚３．０μｍの樹脂層を形成した。
得られた光学機能フィルムの外観を目視にて確認したところ、長手方向のスジ（縞模様）は見られなかった。他の測定結果は表１に示したとおりである。
Figure 2007041576
（実施例２）
基材フィルムとして、トリアセチルセルロース製の長尺フィルム（富士写真フィルム社製、ＴＦＹ−８０ＵＬ、膜厚８０μｍ、幅１３３０ｍｍ）を使用する以外は、実施例１と同様にして、光学機能フィルムを作製した。
得られた光学機能フィルムの外観を目視にて確認したところ、スジは見られなかった。他の測定結果は表１に示したとおりである。
（実施例３）
基材フィルムとして、トリアセチルセルロース製の長尺フィルム（富士写真フィルム社製、ＴＦＹ−８０ＵＬ、膜厚８０μｍ、幅１４７５ｍｍ）を使用する以外は、実施例１と同様にして、光学機能フィルムを作製した。
得られた光学機能フィルムの外観を目視にて確認したところ、スジは見られなかった。他の測定結果は表１に示したとおりである。
（比較例１〜３）
実施例１〜３と同じトリアセチルセルロースフィルムを基材フィルムとし、該基材フィルムを延伸することなく、同様にしてポリイミド溶液を塗布し、乾燥させて光学機能フィルムを作製した。
比較例１〜３で得られた光学機能フィルムを目視にて確認したところ、フィルムの長手方向に沿ったスジ（縞模様）が生じていることが認められた。他の測定結果は表１に示したとおりである。
（実施例４）
基材フィルムとして、トリアセチルセルロース製の長尺フィルム（富士写真フィルム社製、ＴＤ−８０ＵＬ、膜厚８０μｍ、幅１３３０ｍｍ、Ｔｇ１４５℃）を使用し、延伸工程における加熱温度を１６３℃とし、延伸工程における最大延伸倍率を１．０５倍、緩和率を０．９９８倍、最終延伸倍率を１．０５倍とする以外は、実施例１と同様にして、光学機能フィルムを作製した。測定結果は表１に示したとおりである。
（実施例５）
延伸工程における最大延伸倍率を１．０８倍、緩和率を０．９９８倍、最終延伸倍率を１．０８倍とする以外は、実施例４と同様にして、光学機能フィルムを作製した。測定結果は表１に示したとおりである。
（実施例６）
延伸工程における最大延伸倍率を１．１倍、緩和率を０．９９８倍、最終延伸倍率を１．１倍とする以外は、実施例４と同様にして、光学機能フィルムを作製した。測定結果は表１に示したとおりである。
（比較例４）
延伸工程を採用することなく、他は実施例４と同様にして、光学機能フィルムを作製した。測定結果は表１に示したとおりである。
（比較例５）
延伸工程を採用することなく、基材フィルムを１６３℃に加熱（アニール）処理のみ行い、他は実施例４と同様にして、光学機能フィルムを作製した。測定結果は表１に示したとおりである。
（実施例７）
基材フィルムとして、オレフィン系ポリマー製の長尺フィルム（日本ゼオン社製、ＺＥＯＮＯＲ、膜厚８０μｍ、幅１３３０ｍｍ、Ｔｇ１３７℃）を使用し、延伸工程における加熱温度を１５５℃とし、延伸工程における最大延伸倍率を２．５倍、緩和率を０．９９５倍、最終延伸倍率を２．４９倍とする以外は、実施例１と同様にして、光学機能フィルムを作製した。測定結果は表１に示したとおりである。
（実施例８）
延伸工程における最大延伸倍率を３．５倍、緩和率を０．９９８倍、最終延伸倍率を３．４９倍とする以外は、実施例７と同様にして、光学機能フィルムを作製した。測定結果は表１に示したとおりである。
（比較例６）
延伸工程を採用することなく、他は実施例７と同様にして、光学機能フィルムを作製した。測定結果は表１に示したとおりである。
Figure 2007041576
更に、実施例１と比較例１についての表面凹凸と傾斜角の実測データを図１に示し、実施例６と比較例４及び５についての表面凹凸と傾斜角の実測データを図２に示し、実施例７と比較例６についての表面凹凸と傾斜角の実測データを図３に示す。
前記表１に示したように、延伸工程を含む方法によって作成された実施例の光学機能フィルムは、延伸工程を含まない方法によって作成された比較例の光学機能フィルムと比較して、目視評価の高い、即ち、外観の良好なものとなっていることが認められる。
また、このような目視評価による結果は、基材フィルムの表面凹凸（μｍ）や表面凹凸の平均傾斜角（°）、並びに、樹脂厚みの標準偏差の結果とも整合しており、これらの測定結果からも裏付けられていることが認められる。
さらに、実施例１及び比較例１で得られた前記表面凹凸と傾斜角度の実測値の対比を図１に示す。該図１によれば、実施例１の光学機能フィルムにおける表面凹凸および傾斜角度のバラツキが、比較例１の場合と比べて大幅に低減されていることがより一層明確に示されている。
同様に、実施例６、比較例４及び比較例５で得られた実測値の対比を図２に示す。該図２によれば、実施例６の光学機能フィルムにおける表面凹凸および傾斜角度のバラツキが、比較例４や５の場合と比べて大幅に低減されていることがより一層明確に示されている。
同様に、実施例７及び比較例６で得られた実測値の対比を図３に示す。該図３によれば、実施例７の光学機能フィルムにおける表面凹凸および傾斜角度のバラツキが、比較例６の場合と比べて大幅に低減されていることがより一層明確に示されている。
実施例１及び比較例１で得られた表面凹凸と傾斜角度の実測値の対比を示した図。 実施例６、比較例４及び比較例５で得られた表面凹凸と傾斜角度の実測値の対比を示した図。 実施例７及び比較例６で得られた表面凹凸と傾斜角度の実測値の対比を示した図。

Claims (13)

  1. 熱可塑性樹脂からなる基材フィルム上に樹脂溶液を塗工する塗工工程と、塗工された樹脂を固定化して樹脂層を形成する固定化工程とを備えた光学機能フィルムの製造方法において、
    前記塗工工程の前段に、基材フィルムを加熱した状態で延伸する延伸工程を備えたことを特徴とする光学機能フィルムの製造方法。
  2. 前記延伸工程における基材フィルムの加熱温度が、８０〜３００℃であることを特徴とする請求項１記載の光学機能フィルムの製造方法。
  3. 前記延伸工程における基材フィルムの加熱温度が、該基材フィルムを構成する樹脂のガラス転移温度をＴｇとした場合に、Ｔｇ−３０℃〜Ｔｇ＋６０℃であることを特徴とする請求項１記載の光学機能フィルムの製造方法。
  4. 前記延伸工程における基材フィルムの延伸倍率が、１．００１〜４．０倍の範囲内であることを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
  5. 前記基材フィルムを構成する熱可塑性樹脂が、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、セルロース系樹脂及びノルボルネン系樹脂からなる群より選択される何れか１種であることを特徴とする請求項１〜４の何れかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
  6. 前記樹脂溶液が、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミド−イミド、及びポリエステル−イミドからなる群より選択される少なくとも何れか１種の樹脂を含有することを特徴とする請求項１〜５の何れかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
  7. 前記樹脂層の厚みが３０μｍ以下であることを特徴とする請求項１〜６の何れかに記載の光学機能フィルムの製造方法。
  8. 請求項１〜７の何れか１項に記載の光学機能フィルムの製造方法によって製造された光学機能フィルム。
  9. 光学機能フィルムの屈折率特性が、ｎｘ≧ｎｙ＞ｎｚであることを特徴とする請求項８記載の光学機能フィルム。
  10. ＶＡモードの液晶表示装置に使用されることを特徴とする請求項８又は９記載の光学機能フィルム。
  11. 請求項８〜１０の何れかに記載の光学機能フィルムと偏光子とが積層されてなることを特徴とする偏光板。
  12. 請求項８〜１０の何れかに記載の光学機能フィルムが積層されてなることを特徴とする光学素子。
  13. 請求項８〜１０の何れかに記載の光学機能フィルムを備えたことを特徴とする画像表示装置。
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