WO2006129481A1 - 強化容器を有するガス精製装置 - Google Patents

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    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
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    • B01D53/0407—Constructional details of adsorbing systems
    • B01D53/0446—Means for feeding or distributing gases

Definitions

  • the present invention relates to a gas purifier, and more particularly to a perfluorinated gas purifier for purifying tallying gas such as halogen gas and ozone gas.
  • a cleaning gas such as fluorine gas or halogen gas such as fluorine or chlorine, or ozone gas is flowed into the semiconductor manufacturing apparatus to clean the semiconductor manufacturing apparatus, so that metal particles and other contaminants adhered to the apparatus. It is done to clean up.
  • gases especially fluorine gas (F) and ozone, have a strong oxidizing action, especially when they contain moisture,
  • a purifier for removing gaseous metal contaminants and moisture has been developed.
  • a purification apparatus is filled with an adsorbent such as high silica zeolite to adsorb and purify contaminated metal particles and the like to produce clean halogen gas (Patent Document 1).
  • an adsorbent such as high silica zeolite to adsorb and purify contaminated metal particles and the like to produce clean halogen gas
  • Patent Document 1 Although stainless steel is known as a material constituting the container of the refining apparatus, a tapping gas such as fluorine gas is not preferable because it can corrode the stainless steel container and cause metal contamination.
  • Patent Document 1 Special Table 2003- 530287 Specification
  • cleaning gas such as fluorine gas is very reactive, and especially when moisture is attached to the piping system, metal pipes corrode to produce contaminants such as metal particles.
  • the purification equipment In order to remove gaseous metal contaminants and moisture, the purification equipment should be filled with an adsorbent such as high silica zeolite to adsorb and purify gaseous contaminated metal particles to produce clean halogen gas, etc. Is effective (Patent Document 1), and contamination of the reaction chamber of the semiconductor manufacturing equipment can be further prevented by configuring the refining device with fluorine-based resin.
  • fluorine-based resin is halogen gas, ozone gas, especially fluorine gas. It is slightly permeable to water, and the nitrogen gas leaks to the outside through the wall of the refining equipment, contaminates the work environment such as clean rooms, corrodes surrounding metals, and causes health problems. That.
  • an object of the present invention is to provide an excellent gas purification apparatus free from environmental pollution.
  • the gas purification apparatus of the present invention includes a cylindrical body made of fluorine resin, an end plate made of fluorine resin integrally provided at both ends of the body, and a raw material gas penetrating the both end plates.
  • a gas purification apparatus comprising a gas inlet member and a purified gas outlet member made of fluorine resin having an inlet and a purified gas outlet, and containing a gas purification material in a space surrounded by the body and both end plates.
  • the gas purification apparatus characterized by airtightly providing a corrosion-resistant metal mantle around the body portion prevents leakage of halogen gas or ozone gas and solves the problem of environmental pollution.
  • the corrosion-resistant metal forming the jacket here is preferably made of stainless steel. More preferably, a space is formed between the cylindrical body and the end plate and the corrosion-resistant metal sheath, and an adsorbent capable of trapping the halogen gas is accommodated therein.
  • the gas purifying apparatus has a cylindrical body made of fluororesin, an end plate made of fluororesin integrally provided at both ends of the body, and a raw material gas inlet penetrating the both end plates.
  • the gas inlet member made of fluorine resin having the purified gas outlet and the purified gas outlet member, and other members that directly contact the gas to be purified such as halogen gas are all made of fluorine resin. Examples of such a fluorine resin include thermoplastic fluorine resins that melt upon heating.
  • tetrafluoroethylene / perfluoroalkyl butyl ether copolymer PFA
  • FEP tetra Fluoropolymerized Tylene Hexafluoropropylene Copolymer
  • EPE Tetrafluorinated Tylene Perfluoroalkyl Bulle Ether Copolymer
  • EPE Hexafluoropropylene Copolymer
  • Patent Document 1 proposes an aluminosilicate zeolite, particularly a silicate zeolite having a high silica Z alumina ratio.
  • zeolite having a silica Z alumina ratio of 10 or more is considered to be sufficiently stable.
  • one type of zeolite having a high silica Z-alumina ratio used for removing trace moisture is UOP's AW-300 type molecular sieve, which is available on the market. For details, see the same document.
  • the outer shell made of corrosion-resistant metal, particularly stainless steel, which is disposed around the container including the cylindrical body and the end plate, has a lower resistance to halogen gas than that of fluorine resin. It has excellent barrier properties against There may be a space between the fluorine resin container and the corrosion-resistant metal jacket to hold the minute halogen gas that leaks out, but use an adsorbent that absorbs and holds the halogen gas. It is preferable to do.
  • the adsorbent is granular white leopard GOC (trade name, manufactured by Nippon Enbiguchi Chemical Co., Ltd.), because there is no risk of powder generation due to activated carbon consumption due to the combination of activated carbon and ceramic for ozone adsorption. It is commercially available.
  • granular white birch XRC (trade name, manufactured by Nippon Environmental Chemical Co., Ltd.), which has higher soot removal efficiency than ordinary activated carbon, is now on the market! RU
  • the refining device further includes a sealing plate that is in contact with the one end plate on the outlet member side, and a lock nut that engages with an outer peripheral portion of the sealing plate and has an internal screw.
  • the outer sleeve has an annular end at one end and an outer screw at the other end, and the inner screw of the lock nut is screwed to the outer screw of the outer jacket via the sealing plate. Thereby, the outer jacket is sealed.
  • the outer peripheral surface of the sealing plate is in contact with the inner surface of the mantle, and the upstream end plate and the annular portion, the downstream end plate and the sealing plate, and the outer periphery of the sealing plate And a seal ring is inserted between the inner surface of the outer jacket and Assembling of the mantle and the sealing plate is facilitated, and a high sealing effect can be achieved.
  • FIG. 1 illustrates a gas purification apparatus 1 for halogen gas or ozone gas according to a preferred embodiment of the present invention.
  • the gas purification apparatus 1 is filled with purified material particles 2 such as zeolite to remove gas-like metal particles to be purified such as halogen gas.
  • the gas refining device 1 is made of a fluorocarbon resin such as PFA, and has a cylindrical body 3 and substantially disc-shaped end plates 5 and 7 provided at both ends of the body, and these end plates.
  • the gas inlet member 9 and the gas outlet member 11 are formed integrally with each other, and the end plate force penetrates these members to form an inlet passage 16 and an outlet passage 17, respectively.
  • the joints 13 and 15 between the body 3 and the end plates 5 and 7 are heat-sealed to form an airtight container.
  • a small cylinder 23 made of fluorine resin such as PFA having a trapezoidal portion provided with a large number of through holes 19 is arranged in the gas inlet member 9, and is fused or screwed to the inner wall of the inlet passage 16 of the inlet member 9. It is bound. This is because the small cylinder 23 enables the introduction of the raw material gas to be purified, such as a norologene gas, while suppressing the adsorbent 2 inside the barrel 3 from falling off. Similarly, a cylinder 27 made of fluorine resin such as PFA having a large number of through holes 25 on the downstream side is connected to the inner end of the outlet member 11 by screw bonding or fusion, and the upstream end of the cylinder 27 is closed. Has been.
  • the upstream small porous cylinder 23 is relatively coarse and has pores, but the downstream porous cylinder 27 has fine particles and pores that do not allow fine powder of purified material to pass through.
  • the inner cylinder 29 is inserted with a smaller number of pores inside the porous cylinder 27 and a filter such as PTFE or a filtration membrane 30 attached to the outside. It prevents fine powder of fine wood (and metal particles adsorbed on it, moisture and other contaminants).
  • the details of the inner cylinder 29 are as follows.
  • a large number of small ribs 32 extend in the circumferential direction to form a small groove 34 therebetween, and the top surface of the small ribs 32 is a filtration membrane 30. Is supported.
  • the inner cylinder 29 is formed with three openings 36 extending in the axial direction and penetrating the cylinder.
  • Reference numeral 38 denotes a reinforcing rib extending in the axial direction.
  • the gas refinement of the present invention filled with the purification material 2 is used. In order to maintain the cleanliness of the manufacturing apparatus 1 until it is actually installed on the site, caps or stoppers are provided on the gas inlet member and outlet member.
  • a cylindrical mantle 31 having a corrosion-resistant metal force such as stainless steel is attached around the body 3 and the end plates 5 and 7.
  • An upstream end of the mantle 31 is an annular end plate 33 having a central opening, and an outer screw 35 is provided on a peripheral portion on the downstream side of the mantle.
  • a similar metal material sealing plate 37 is provided on the downstream side, and a similar metal material lock nut 41 having an inner screw 39 is disposed on the outer periphery of the sealing plate 37, and the inner and outer screws 35, 39.
  • a fluorine resin seal ring 43 is provided between the end plate 5 and the annular end plate 33, and a seal ring 45 is provided between the end plate 7 and the sealing plate 37. Seal rings 47 are respectively provided between the inner surfaces of the outer ends of the mantles.
  • a gap 49 is formed between the outer peripheral surface of the body portion 3 and the end plates 5 and 7 and the inner surface of the outer cannula 31.
  • This space preferably has adsorptivity to purified gas. Store the adsorbent.
  • a fluorine gas (F) containing a halogen gas such as moisture, fine metal powder, or a gaseous metal component is introduced into the raw material gas inlet 16, and is made of an all-fluorine resin.
  • the halogen gas from which fine powder has been removed passes through the porous 25 provided in the cylinder 27, and further passes through a filtration membrane 30 such as PTFE attached to the outside of the inner cylinder, and then goes out to the gas outlet passage 17 as a purified gas flow. come.
  • the purified gas is led to a semiconductor manufacturing apparatus through appropriate piping.
  • FIG. 1 is a sectional view of a gas purification apparatus for halogen gas or ozone gas according to a preferred embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 This is an enlarged view of the inner cylinder shown in FIG. 1, and the filtration membrane below the center line is omitted for easy viewing.
  • FIG. 3 is a sectional view taken along line AA ′ of FIG.

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Abstract

【課題】ガス状汚染金属粒子等を吸着精製し清浄なハロゲンガス等を製造するガス精製装置をフッ素系樹脂で構成する場合、フッ素系樹脂はハロゲンガスやオゾンガス対してわずかに透過性であり、ハロゲンガスが精製装置の容器壁を通して外部に漏洩してクリーンルーム等の作業環境を汚染し、周囲の金属を腐食させ、また健康障害等の原因となる。 【解決手段】フッ素樹脂製の胴部と、該胴部の両端に一体に設けたフッ素樹脂製の端板と、前記両端板をそれぞれ貫通する原料ガス入口及び精製ガス出口とを有するフッ素樹脂製のガス入口部材及び精製ガス出口部材とよりなり、前記胴部と両端板により囲まれた空間内にガス精製材を収容したガス精製装置において、前記胴部の周りに、耐蝕金属製外套を気密的に設けて精製ガスの漏洩を防止する。

Description

明 細 書
強化容器を有するガス精製装置
技術分野
[0001] 本発明は、ガス精製装置に関し、より詳しくは、ハロゲンガス、オゾンガス等のタリー ユングガスを精製するための全フッ素製ガス精製装置に関する。
背景技術
[0002] 半導体の製造工程では、半導体製造装置のクリーニングのためにフッ素や塩素等 のハロゲンガスやオゾンガス等のクリーニングガスを半導体製造装置内に流して、装 置に付着した金属粒子その他の汚染物質を浄ィ匕することが行われている。これらの ガス、特にフッ素ガス (F )やオゾンは酸化作用が強ぐ特に水分を含有すると配管金
2
属を腐食し、あるいは汚染金属粒子を発生させ、半導体の金属汚染を生じるので半 導体の製造の障害となる。半導体製造装置へのガス供給配管系では、クリーニング ガスに対する耐食性を向上させるために、配管の金属成分の選択又は配合、あるい は配管内の表面処理による反応性の低減が進められている。しかしながら、これらの 管理された金属配管を使用してもウェハ上での金属粒子による汚染については充分 に解決されていない。
[0003] この対策として、ガス状金属汚染物や水分を除去するための精製剤が開発されて いる。例えば高シリカゼォライト等の吸着剤を精製装置に充填して汚染金属粒子等 を吸着精製し清浄なハロゲンガス等を製造している (特許文献 1)。なお、精製装置の 容器を構成する素材としてステンレス鋼が知られて ヽるが、フッ素ガス等のタリーニン グガスはステンレス容器を腐食して金属汚染の原因となり得るので好ましくない。
[0004] また、ガス状金属系の汚染源を防止するために、配管の内面をフッ素系榭脂で被 覆したり、あるいは精製装置の全体を PFAのようなフッ素系榭脂により構成する対策 が行われている。この対策は半導体の製造装置の汚染対策として有効である。
[0005] 特許文献 1：特表 2003— 530287号明細書
発明の開示
発明が解決しょうとする課題 [0006] 上記のように、フッ素ガス等のクリーニングガスは非常に反応性が高ぐ特に配管系 に水分が付着していると、金属配管の腐食により金属粒子等の汚染物を生じ反応室 を汚染するので、ガス状金属汚染物や水分を除去するために、高シリカゼォライト等 の吸着剤を精製装置に充填して、ガス状汚染金属粒子等を吸着精製し清浄なハロ ゲンガス等を製造することが有効であり (特許文献 1)、精製装置をフッ素系榭脂で構 成することによりさらに半導体製造装置の反応室の汚染が防止できるが、フッ素系榭 脂はハロゲンガスやオゾンガス、特にフッ素ガスに対してわずかに透過性があり、ノヽ ロゲンガスが精製装置の容器壁を通して外部に漏洩してクリーンルーム等の作業環 境を汚染し、周囲の金属を腐食させ、また健康障害等の原因となる。
[0007] このような状況に鑑み、本発明は環境汚染のない優れたガス精製装置を提供する ことを目的とする。
課題を解決するための手段
[0008] 本発明のガス精製装置は、フッ素榭脂製の円筒状胴部と、該胴部の両端に一体に 設けたフッ素榭脂製の端板と、前記両端板をそれぞれ貫通する原料ガス入口及び精 製ガス出口とを有するフッ素榭脂製のガス入口部材及び精製ガス出口部材とよりなり 、前記胴部と両端板により囲まれた空間内にガス精製材を収容したガス精製装置に おいて、前記胴部の周りに、耐蝕金属製外套を気密的に設けたことを特徴とするガス 精製装置により、ハロゲンガス又はオゾンガスの漏洩を防ぎ、環境汚染の問題を解決 する。
[0009] ここに外套を形成する耐食金属は好ましくはステンレス鋼製である。さらに好ましく は円筒状胴部及び端板と耐食性金属製外套の間には空間を形成し、そこにハロゲ ンガスを捕捉できる吸着剤を収納する。
[0010] ガス精製装置の好ましくはフッ素榭脂製の円筒状の胴部と、該胴部の両端に一体 に設けたフッ素榭脂製の端板と、前記両端板をそれぞれ貫通する原料ガス入口及び 精製ガス出口とを有するフッ素榭脂製のガス入口部材及び精製ガス出口部材、その 他ハロゲンガス等の精製すべきガスに直接触れる部材はすべてフッ素榭脂で形成さ れる。このようなフッ素榭脂としては、加熱により溶融する熱可塑性フッ素榭脂で、例 えば四フッ化工チレン パーフルォロアルキルビュルエーテル共重合体（PFA)、四 フッ化工チレン一六フッ化プロピレン共重合体（FEP)、四フッ化工チレン パーフル ォロアルキルビュルエーテル共重合体一六フッ化プロピレン共重合体（EPE)等であ り、フッ素榭脂同士で互いに融着が可能なものを指す。
[0011] 円筒状胴部と該胴部の両端に一体に融着された端板とにより形成される全フッ素 榭脂製容器の吸着剤収納部には水分や金属粉末を吸着してハロゲンガスを精製す る吸着剤粒子が収納される。例えば特許文献 1にはアルミノ珪酸塩ゼオライト、特に シリカ Zアルミナ比が高いケィ酸塩ゼオライトが提案されており、本発明でもシリカ Z アルミナ比が 10以上のゼォライトは十分安定であると考えられる。例えば微量水分除 去に使用される高シリカ Zアルミナ比を有するゼォライトの一つの型として、巿場で入 手可能である UOP社の AW— 300型分子篩が公知である。詳しくは同文献を参照さ れたい。
[0012] 次に円筒状胴部と端板よりなる容器の周りに配置される耐食性金属製、特にステン レス製の外套は、ハロゲンガスに対する耐蝕性がフッ素榭脂に比較して劣る力 ハロ ゲンガスに対する遮断性が優れて 、る。フッ素榭脂製の容器と耐食性金属製の外套 の間には漏出してくる微少なハロゲンガスを保持するために空間であっても良いが、 ハロゲンガス等を吸着保持する性質の吸着剤を使用することが好ましい。このような 吸着剤としては、オゾン吸着用には活性炭とセラミックの複合により活性炭消費に伴 ぅ粉ィ匕のおそれがな 、吸着材が粒状白鷺 GOC (商品名、 日本エンバイ口ケミカル社 製）として市販されている。またハロゲン及びハロゲン化水素の吸着剤としては通常 の活性炭と比べ高 ヽ除去効率を有する粒状白鷺 XRC (商品名、日本エンバイロケミ カル社製）が市販されて！、る。
[0013] より具体的な実施形態において、精製装置は、さらに出口部材側に前記一方の端 板に接する封止板と、前記封止板の外周部に係合すると共に内ねじを有するロック ナットとを含み、前記外套は一端に環状端部を有すると共に他端に外ねじを有し、前 記ロックナットの内ねじは前記封止板を介在して前記外套の外ねじに螺合締着され、 それにより前記外套を封止している。前記封止板の外周面は前記外套の内面に接 触しており、上流側の前記端板と前記環状部、下流側の前記端板と前記封止板、及 び前記封止板の外周と前記外套の内面間にはそれぞれシールリングが挿入されて、 外套と封止板の組立を容易にし、且つ高 、シール効果を達成することができる。 発明を実施するための最良の形態
[0014] 以下、図面を参照して、本発明をより具体的に説明する。
図 1は本発明の好ましい実施例によるハロゲンガスやオゾンガスのためのガス精製 装置 1を例示する。ガス精製装置 1の内部には、ハロゲンガス等の被精製ガスカもガ ス状金属粒子を除去するために、ゼォライト等の精製材粒子 2が充填されている。ガ ス精製装置 1は、いずれもが PFA等のフッ素榭脂製である、円筒状の胴部 3とこの胴 部の両端に設けたほぼ円盤状の端板 5、 7と、これらの端板に一体に成形されている ガス入口部材 9及びガス出口部材 11を有し、端板力 これらの部材を貫通してそれ ぞれ入口通路 16及び出口通路 17が形成されている。胴部 3と端板 5、 7の接合部 13 、 15はそれぞれ熱融着されて気密状態の容器を形成して ヽる。
[0015] ガス入口部材 9には多数の貫通孔 19を設けた台形部を有する PFA等のフッ素榭 脂製の小円筒 23が配置されて入口部材 9の入口通路 16の内壁に融着又はねじ結 合されている。小円筒 23は胴部 3の内部の吸着材 2が脱落するのを抑制しながらノ、 ロゲンガス等の精製すべき原料ガスの導入を可能にするためである。同様に出口部 材 11の内端には下流側に多数の貫通孔 25を有する PFA等のフッ素榭脂製の円筒 27がねじ結合ゃ融着で結合されており、円筒 27の上流端は閉鎖されている。上流 側の多孔小円筒 23は比較的粗 、細孔を有すれば充分であるが、下流側の多孔円 筒 27は精製材の微粉末も通さな 、程度の細カ^、細孔を有する必要がある。好ま ヽ 例では、図示されて!、るように多孔円筒 27の内部にさらに小さ 、細孔を多数設け外 側に PTFE等のフィルタ又はろ過膜 30を卷付け溶着した内側円筒 29を挿入して精 製材の微粉末 (及びそれに吸着された金属粒子や水分その他の汚染物質)を阻止し ている。内側円筒 29の詳細は図 2に示したように、多数の小リブ 32が円周方向に延 びていてそれらの間に小溝 34を形成しており、小リブ 32の頂面はろ過膜 30を支持し ている。図 3に示したように内側円筒 29には軸線方向に延び且つ円筒を貫通する 3 本の開口 36が形成されている。これにより、精製フッ素ガスはろ過膜 30を透過し、小 溝 34により開口 36を経て内部の通路に集められ、次いで出口通路 17に導かれる。 38は軸線方向に延びる補強リブである。なお、精製材 2を充填した本発明のガス精 製装置 1の清浄度を、実際に現場に設置する時まで維持するために、ガス入口部材 及び出口部材にキャップ又は栓体を設ける。
[0016] 次に、胴部 3と端板 5、 7の周りにはステンレス鋼のような耐食性金属力も成る円筒 形外套 31が取り付けられる。外套 31の上流側は中央開口を有する環状端板 33とな つており、外套の下流側の周部には外ねじ 35が設けられている。下流側には同様な 金属素材の封止板 37が設けられ、この封止板 37の外周部には内ねじ 39を有する同 様な金属素材のロックナット 41が配置され、内外ねじ 35、 39を螺合して締め付けるこ とにより、封止板 37と外套 31を互いに気密固定すると共にこれらの部材を両端板 5、 7に対して締め付けて封止する。封止を助けるために端板 5と環状端板 33の間にフッ 素榭脂製のシールリング 43が、端板 7と封止板 37との間にシールリング 45が、封止 板 37と外套の下流端内面との間にシールリング 47がそれぞれ設けられている。
[0017] 胴部 3及び端板 5、 7との外周面と外套 31の内面との間には隙間 49が形成されて いることが好ましぐこの空間に好ましくは精製ガスに対する吸着性を有する吸着材を 収納する。
[0018] 次に動作を説明するに、ハロゲンガス例えば水分や金属微粉末あるいはガス状金 属成分等を含むフッ素ガス (F )が原料ガス入口 16に導入され、全フッ素榭脂製であ
2
る容器 (胴部 3と端板 5、 7)に収納された高シリカアルミノケィ酸塩吸着材粒子 2と接 触しながら流れて下流側に向けて次第に精製され、このようにして水分や金属微粉 末等を除去されたハロゲンガスは円筒 27に設けた多孔 25を経て、さらに内側円筒の 外側に卷付けた PTFE等のろ過膜 30を通過して精製ガス流としてガス出口通路 17 に出てくる。精製ガスは適宜の配管により半導体製造装置に導かれる。
[0019] 一方、原料ガスが吸着材 2と接触しながら流れると、極少量ではあるがフッ素ガス等 のハロゲンガスの一部はフッ素榭脂製胴部 3及び端板 5、 7を透過して外側に漏出す る力 耐食性金属製の外套 31の内部に封止されるので、外部には漏出しない。また ハロゲンガスを吸着する吸着材を胴部 3、外套 5、 7と外套 31との間に収容しておくこ とにより外套 31の腐食を防ぎ、外套の長期の使用を可能にする。
[0020] 以上のように、本発明によると腐食性ガスの漏出を防止し、クリーンルーム等の周囲 環境を保全し、周囲の金属等の腐食を防止することができる。 図面の簡単な説明
[0021] [図 1]本発明の好ま 、実施例によるハロゲンガスやオゾンガスのためのガス精製装 置の断面図である。
[図 2]図 1に示された内側円筒の拡大図であり、見やすくするために中心線よりも下側 のろ過膜は省略してある。
[図 3]図 2の A— A'から見た断面図である。
符号の説明
[0022] 1 ガス精製装置
2 ガス状金属粒子吸着材
3 胴部
5、 7 端板
9 ガス入口部材
11 ガス出口部材
13、 15 接合部
16 入口通路
17 出口通路
19 孔
23 小円筒
25 多孔
27 円筒
29 内側多孔円筒
30 ろ過膜
31 耐蝕金属製外套
32 小リブ
33 環状部
34 小溝
35 外ねじ 封止板
内ねじ
補強リブ
ロックナツ卜
45、 47 シールリング 隙間

Claims

請求の範囲
[1] フッ素榭脂製の胴部と、該胴部の両端に一体に設けたフッ素榭脂製の端板と、前 記両端板をそれぞれ貫通する原料ガス入口及び精製ガス出口とを有するフッ素榭脂 製のガス入口部材及び精製ガス出口部材とよりなり、前記胴部と両端板により囲まれ た空間内にガス精製材を収容したガス精製装置において、前記胴部の周りに、耐蝕 金属製外套を気密的に設けたことを特徴とする、ガス状金属粒子を含有するガス精 製装置。
[2] 前記外套はステンレス鋼製である請求項 1のガス精製装置。
[3] 前記外套と前記胴部の間に空隙を設け、前記ガスに対する吸着剤を収納した請求 項 1又は 2のガス精製装置。
[4] さらに出口部材側に、前記一方の端板に接する封止板と、前記封止板の外周部に 係合すると共に内ねじを有するロックナットとを含み、前記外套は上流側の一端に環 状端部を有すると共に下流側の他端に外ねじを有し、前記ロックナットの内ねじは前 記封止板を介在して前記外套の外ねじに螺合締着され、それにより前記外套を封止 して 、る請求項 1または 2のガス精製装置。
[5] 前記封止板は前記外套の内面に接触している請求項 4のガス精製装置。
[6] 上流側の前記端板と前記環状部、下流側の前記端板と前記封止板、及び前記封 止板の外周と前記外套の内面間にはそれぞれシールリングが挿入されている請求項
5のガス精製装置。
[7] 原料ガスはガス状金属粒子を含有するハロゲンガス、ハロゲンィ匕水素ガス、又はォ ゾンガスである請求項 1〜6のいずれか一項のガス精製装置。
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