WO2006062102A1 - 光触媒機能および熱線反射機能を有するガラス部材、ならびに、それを用いた複層ガラス - Google Patents

光触媒機能および熱線反射機能を有するガラス部材、ならびに、それを用いた複層ガラス Download PDF

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WO2006062102A1
WO2006062102A1 PCT/JP2005/022378 JP2005022378W WO2006062102A1 WO 2006062102 A1 WO2006062102 A1 WO 2006062102A1 JP 2005022378 W JP2005022378 W JP 2005022378W WO 2006062102 A1 WO2006062102 A1 WO 2006062102A1
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WO
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layer
glass
thickness
glass member
oxide
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Application number
PCT/JP2005/022378
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English (en)
French (fr)
Inventor
Yoshifumi Kijima
Toshiaki Anzaki
Daisuke Inaoka
Hiromasa Wada
Original Assignee
Nippon Sheet Glass Company, Limited
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Publication date
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
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    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • B01J35/39—
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/70—Properties of coatings
    • C03C2217/71—Photocatalytic coatings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
    • C03C2218/365—Coating different sides of a glass substrate

Definitions

  • the present invention relates to a glass member in which a heat ray reflective layer is formed on one surface of a glass substrate, and a photocatalytic layer is formed on the other surface, and a multilayer glass using the same.
  • a photocatalyst such as anatase type titanium dioxide has been known to exhibit anti-soiling effect that decomposes organic substances by ultraviolet irradiation, antibacterial activity and hydrophilicity, etc. Recently, visible light has a catalytic function.
  • the photocatalytic ability to exert A photocatalytic layer for imparting such photocatalytic ability to a substrate such as glass is disposed on the surface of the substrate, and the method of forming the photocatalytic layer is generally a vacuum film formation method such as sputtering or vapor deposition, or a vacuum deposition method.
  • the membrane method is widely adopted.
  • Patent Document 1 discloses that when forming a medium comprising a photocatalyst composition on the surface of a glass substrate, the glass substrate, the medium, and the medium are prevented in order to prevent the medium function from being degraded by the alkali that dissolves by the glass force. And a method of forming an underlayer between them. For example, use of zirconium oxide, particularly amorphous zirconium oxide, has been proposed as the underlayer.
  • Patent Document 2 discloses that zirconium oxide is used as an underlayer formed between a base material and a photocatalyst layer, and titanium oxide is used as the photocatalyst layer.
  • Patent Document 3 a metal oxide layer containing zirconium oxide or the like is interposed between the base and the photocatalyst layer, and the acid from the photocatalyst layer to the base is formed by the metal oxide layer.
  • Methods have been disclosed for suppressing the diffusion of elements.
  • Patent Document 4 similarly discloses a method of providing a zirconium oxide layer between a substrate and a titanium oxide layer.
  • Patent Document 5 discloses that zirconium oxide having a monoclinic crystal system is used as an underlayer, and titanium oxide having an anatase crystal system is used as a photocatalyst layer. There is.
  • Patent Documents 6 and 7 disclose the relationship between the thickness of the underlayer and the photocatalyst layer and the optical properties.
  • Patent Document 6 discloses tin oxide (SnO 2) and an acid as the underlayer.
  • Patent Document 7 discloses a technique of providing a high temperature stable cubic or orthorhombic acid zirconium oxide layer between a base material and a titanium oxide layer, and further, it is used in automobiles and the like. In the case, the thickness of the titanium oxide layer should be such that the opposite side can be seen!
  • a glass member having a heat ray reflective layer laminated on the surface of a glass substrate and a photocatalytic layer laminated on the other surface is used as a multilayer glass (Patent Document 8).
  • the multi-layered glass is usually a glass having two glass plates on the outdoor side and the indoor side, both of which are disposed to allow a space between the two via a spacer.
  • the glass member as described above is disposed, for example, as an outdoor side glass plate such that the photocatalyst layer is on the outermost layer of the multilayer glass and the inner side of the heat ray reflective multilayer glass.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-227167
  • Patent Document 2 Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-66878
  • Patent Document 3 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-312830
  • Patent Document 4 Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2001-205094
  • Patent Document 5 International Publication WO 03Z53577 Brochure
  • Patent Document 6 Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2000-51369
  • Patent Document 7 International Publication WO 02Z40417 Brochure
  • Patent Document 8 International Publication WO 02Z62716 Pamphlet
  • the photocatalytic function may not be sufficiently exhibited. Furthermore, the photocatalytic layer If not, there is a problem that the reflectance of the finally obtained glass member becomes large or interference color appears, as the function as a photocatalyst layer is not fully exhibited. For these reasons, it has been difficult to achieve both the photocatalytic function and the preferred reflectance and color tone for a glass member having a photocatalytic layer laminated thereon.
  • the double glazing using the glass member provided with the heat ray reflection layer as described above has a high reflectance on the outdoor side (photocatalyst layer side), so the reflected color tone on the outdoor side is colorless or slightly bluish Or, it was difficult to make a blue-green or greenish multi-layer glass.
  • the photocatalytic layer has high photocatalytic activity, and low reflectance and colorless or thin blue color on the side of the photocatalytic layer.
  • the purpose is to provide a glass member exhibiting a blue-green or green reflection tone, as well as a double glazing.
  • the first glass member of the present invention is a glass member in which a heat ray reflective layer is laminated on one surface of a glass substrate and a photocatalytic layer is laminated on the other surface.
  • the glass substrate and the heat ray reflective layer are in a state where the heat ray reflective layer is laminated on one surface of the glass substrate and the photocatalyst layer is not laminated on the other surface (hereinafter referred to as
  • the reflection chromaticity (a *, b *) of the other surface of the glass substrate is in the range of ⁇ 4 ⁇ a * ⁇ 2 and 5 ⁇ b * ⁇ 0, And the visible light reflectance of the other surface of the glass substrate is 10% or less, and the other surface of the glass substrate includes a peeling prevention layer, a crystalline underlayer and a photocatalytic layer.
  • the thickness of the crystalline underlayer is 2 ⁇ ⁇ !
  • the thickness of the photocatalyst layer is 2 ⁇ ⁇ !
  • the anti-stripping layer is at least one material selected from the group consisting of an oxide, an oxynitride and a nitride containing at least one of silicon and tin. I assume.
  • the second glass member of the present invention is a glass member in which a heat ray reflective layer is laminated on one surface of a glass substrate and a photocatalytic layer is laminated on the other surface, and the above glass substrate
  • the heat ray reflective layer has a reflection chromaticity (a *, b *) of the other surface of the single-plate glass substrate in the range of ⁇ 15 ⁇ a * ⁇ 2 and ⁇ 10 ⁇ b * ⁇ 10, And the above of the glass substrate It is a combination in which the visible light reflectance of the other surface is 13% or less, the thickness of the crystalline underlayer is in the range of 2 nm to 28 nm, and the thickness of the photocatalyst layer is 2 ⁇ !
  • the anti-stripping layer is characterized by containing at least one substance selected from the group consisting of an oxide containing at least one of silicon and tin, an oxynitride and a nitride.
  • the multilayer glass of the present invention has two glass plates, and the two glass plates have a spacer between them so that a space is formed between the opposing surfaces of the two glass plates.
  • the glass member of the present invention when the heat ray reflective layer is laminated on the glass substrate, specifically, the reflection chromaticity (a *, b *) of the other surface of the single-plate characteristic black glass substrate Even if the visible light reflectance of the other surface of the glass substrate is within 10% in the range of -4 ⁇ a * ⁇ 2 and 5 ⁇ b * ⁇ 0, the reflection is low. Rate and a colorless or pale blue reflective color tone can be realized, and furthermore, excellent photocatalytic activity can be obtained.
  • the characteristic of the single plate is “the reflection chromaticity (a *, b *) of the other surface of the glass substrate is in the range of ⁇ 15 ⁇ a * ⁇ 2 and ⁇ 10 ⁇ b * ⁇ 10, and Even when the visible light reflectance of the other surface of the glass substrate is 13% or less, low reflectance and blue-green or green reflection tone can be realized, and further, excellent photocatalytic activity can be obtained. You can get it. For this reason, according to the multilayer glass using the glass member of the present invention, it is possible to achieve both high photocatalytic activity and excellent reflectance and reflection color tone on the photocatalyst layer side. It is also suitable for large area double glazing for buildings, which is superior in appearance and in terms of appearance.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of a glass member of the present invention.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of the multilayer glass of the present invention.
  • FIG. 3 shows the case where the thickness of the photocatalyst layer is changed in the embodiment of the present invention. It is a graph which shows the relationship between the said thickness and the reflectance of a multilayer glass.
  • FIG. 4 is a graph showing the relationship between the thickness and the reflectance of the multilayer glass when the thickness of the crystalline underlayer is changed in another embodiment of the present invention.
  • FIG. 5 is a graph showing the reflection chromaticity of the multilayer glass when the thickness of the photocatalyst layer is changed in still another embodiment of the present invention.
  • FIG. 6 is a graph showing the reflection chromaticity of the multilayer glass when the thickness of the photocatalyst layer is changed in still another embodiment of the present invention.
  • FIG. 7 is a graph showing the reflection chromaticity of the multilayer glass when the thickness of the crystalline underlayer is changed in still another embodiment of the present invention.
  • FIG. 8 is a graph showing the reflection chromaticity of the multilayer glass when the thickness of the crystalline base layer is changed in still another embodiment of the present invention.
  • FIG. 9 is a graph showing the relationship between the thickness and the reflectance of the multilayer glass when the thickness of the photocatalyst layer is changed in still another embodiment of the present invention.
  • FIG. 10 is a graph showing the relationship between the thickness and the reflectance of the multilayer glass when the thickness of the crystalline underlayer is changed in yet another embodiment of the present invention.
  • FIG. 11 is a graph showing the reflection chromaticity of the multilayer glass when the thickness of the photocatalyst layer is changed in still another embodiment of the present invention.
  • FIG. 12 is a graph showing the reflection chromaticity of the multilayer glass when the thickness of the photocatalyst layer is changed in still another embodiment of the present invention.
  • FIG. 13 is a graph showing the reflection chromaticity of the multilayer glass when the thickness of the crystalline underlayer is changed in yet another embodiment of the present invention.
  • FIG. 14 is a graph showing the reflection chromaticity of the multilayer glass when the thickness of the crystalline underlayer is changed in still another embodiment of the present invention.
  • the glass member of the present invention is not limited in any way by the shape, size, etc. of these.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of the glass member of the present invention.
  • Glass member 30 is a glass
  • the heat ray reflective layer 14 is laminated on one surface of the substrate 10, and the peeling prevention layer 1, the crystalline base layer 2 and the photocatalyst layer 3 are laminated in this order on the other surface.
  • “crystalline” in the present invention means, for example, that when a cross section of the laminated layer is observed with a transmission electron microscope or the like, a checkered pattern or an electron beam diffraction image is observed.
  • the reflected chromaticity (a *, b *) of the other surface of the glass substrate 10 is The combination is in the range of 4 ⁇ a * ⁇ 2 and 5 ⁇ b * ⁇ 0, and the visible light reflectance of the other surface of the glass substrate 10 is within 10%.
  • the thickness of the crystalline underlayer 2 is 2 ⁇ !
  • the thickness of the photocatalyst layer 3 is in the range of 2 nm to 20 nm, and the anti-stripping layer 1 is selected from the group consisting of oxides, oxynitrides and nitrides containing at least one of silicon and tin. Including at least one.
  • the thickness of the crystalline base layer 2 is in the range of 2 nm to 28 nm
  • the thickness of the photocatalyst layer 3 is in the range of 2 nm to 14 nm
  • the peeling prevention layer 1 is an oxide containing at least one of silicon and tin. And at least one selected from the group consisting of oxynitride and nitride.
  • the present inventors have achieved the following findings as a result of earnest research, and reached the present invention.
  • the inventors of the present invention observed the cross-sectional structure of the photocatalyst layer having the same thickness and showing the photocatalytic activity and the one not having the photocatalytic activity with an electron microscope.
  • the crystal structure is an interfacial force with the substrate and the photocatalyst layer formed clearly and continuously to the surface of the photocatalyst layer has remarkable photocatalytic activity, it is near the interface with the substrate
  • the photocatalyst layer in which an amorphous (amorphous) layer (hereinafter referred to as “dead layer”) is formed does not have sufficient photocatalytic activity. Therefore, we found that the formation of a dead layer can be suppressed by forming a crystalline base layer on the substrate to promote crystal growth of the photocatalyst layer and forming the photocatalyst layer on the surface of the substrate. .
  • the do-layer is a layer in which the characteristics of amorphous (amorphous) strongly appear, and when the photocatalyst layer in which the dead layer exists is irradiated with the electron beam, the electron beam diffraction image is observed as a halo pattern, and the dead layer is dead.
  • a photocatalyst layer substantially free of layers is irradiated with an electron beam, electron diffraction spots are observed.
  • the photocatalyst layer reacts with anions such as chloride ion, for example, by reacting with alkali ions such as sodium present in the glass substrate to form a water-soluble salt. Since there is a risk of peeling with the underlayer and defects occur, there is a problem with durability.
  • the "defect" refers to, for example, a spot-like or streak-like discolored portion or exfoliated portion produced by the generation of the water-soluble salt.
  • the present inventors have conceived of the present invention from the following additional findings. That is, according to the present invention, by forming the photocatalyst layer through the underlayer that promotes the growth of the crystal particles of the photocatalyst, the appearance of the dead layer is suppressed, and further between the base and the underlayer, By providing the peeling prevention layer, it is possible to suppress the peeling of the glass substrate force and the occurrence of defects. In addition, by setting the thickness of the crystalline base layer and the thickness of the photocatalyst layer in the above-mentioned range, it is possible to realize low reflectance, colorless or pale blue, or blue-green or green reflected color tone (reflection unevenness and Uneven color tone).
  • the exfoliation preventing layer, the crystalline base layer and the photocatalyst layer are provided on one surface of the glass substrate, for example, the glass member provided with only the heat ray reflective layer on one surface is used. It is possible to obtain a double glazing with improved solar heat gain compared to the double glazing used.
  • the glass substrate and the heat ray reflective layer are the reflection chromaticity (a *, b *) of the other surface of the single-plate glass substrate.
  • the combination is in the range of 4 ⁇ a * ⁇ 2 and 5 ⁇ b * ⁇ 0, and the visible light reflectance of the other surface of the glass substrate is within 10%.
  • the thickness of the crystalline underlayer is 2 nm
  • the thickness of the photocatalyst layer is in the range of 2 nm to 20 nm.
  • the visible light reflectance on the photocatalyst layer side is within 20% and on the photocatalyst layer side.
  • the reflection chromaticity (a *, b *) can be adjusted to ⁇ 5, a * ⁇ 0, ⁇ 12 ⁇ b ⁇ 0, and can provide excellent visible light reflectance and reflection chromaticity.
  • the thickness of the crystalline underlayer is 3 ⁇ ⁇ ! In the range of ⁇ 20 nm, the thickness of the photocatalyst layer is 3 ⁇ ! It is preferable to set it in -12 nm. By setting the thicknesses of the both in such a range, the visible light reflectance of the photocatalyst layer side is within 17.5% and the photocatalyst layer side of the multilayer glass of the present invention described later. It is possible to adjust the reflection chromaticity (a *, b *) of 1 to 5 ⁇ a * ⁇ 0, 1 8 ⁇ b * ⁇ 0, and it is further excellent in both the visible light reflectance and the reflection chromaticity. Can provide
  • the glass substrate and the heat ray reflective layer are formed of the reflection chromaticity (a *, b) of the other surface of the single plate glass substrate.
  • *) Is a combination in the range of -15 ⁇ a * ⁇ -2 and -10 ⁇ b * ⁇ 10, and the visible light reflectance of the other surface of the glass substrate is within 13%.
  • the thickness of the crystalline base layer is in the range of 2 nm to 28 nm, and the thickness of the photocatalyst layer is in the range of 2 nm to 14 nm.
  • the double-layer glass described later using the glass member of the present invention has a visible light reflectance of 20% or less on the photocatalyst layer side, and a photocatalyst.
  • the reflection chromaticity (a *, b *) on the layer side can be adjusted to -12, a *, -2,-, -10, b *, 5, and it is possible to have excellent visible light reflectance and reflection chromaticity. Can be provided.
  • the thickness of the crystalline underlayer is 3 ⁇ ! It is preferable to set the thickness of the photocatalyst layer in the range of 3 nm to 8 nm. By setting the thicknesses of the both in such a range, the visible light reflectance on the photocatalyst layer side is further within 17.5% and on the photocatalyst layer side in the multilayer glass of the present invention described later. Adjustment of the reflection chromaticity (a *, b *) to -9 a *--3.7,-10-b * 4 and further excellent in both visible light reflectance and reflection chromaticity Can provide
  • the thickness of the peeling prevention layer is not particularly limited, but is preferably 2 nm to 200 nm, more preferably 5 ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ! ⁇ LOOnm. If the thickness of the peeling prevention layer is 2 nm or more, for example, the effect of suppressing layer peeling and the occurrence of defects is sufficiently obtained, and if 5 nm or more, generation of a water soluble salt by blocking of water is further enhanced. (Eg, completely) can be suppressed.
  • the thickness of the peeling prevention layer is 200 nm or less, for example, the effect of suppressing delamination and the occurrence of defects and the economic viewpoint are further improved, and the delamination and defects even in the case of 100 nm or less.
  • the effect of suppressing the occurrence is sufficiently obtained.
  • the peeling prevention layer In the case where a layer whose refractive index is largely different from that of the glass substrate is selected as the peeling prevention layer, for example, it is preferable to make the thickness of the peeling prevention layer as small as possible in order to suppress a change in chromaticity.
  • the glass substrate is not particularly limited, and a conventionally known glass substrate can be used, and the thickness thereof is not particularly limited, but usually 3 nm! It is ⁇ 12m m.
  • the term "glass substrate” in the present invention refers to a substrate made of resin such as polycarbonate in place of a glass substrate as long as the single-plate properties satisfy the above range, in addition to general glass substrates. Can also be used.
  • the anti-peeling layer in the present invention contains at least one of an oxide containing at least one of silicon and tin, an oxynitride, and a nitride, and specifically, silicon oxide, an acid, and the like.
  • examples thereof include silicon nitride, silicon nitride, tin oxide, tin oxynitride, tin nitride and the like, and among them, it is preferable to contain silicon oxide.
  • These substances are preferably amorphous. In addition, any of these substances may be used alone, or two or more of them may be used in combination.
  • the tin alteration layer or the amorphous tin oxide layer formed on the contact surface between the glass substrate and the tin bath at the time of production of the substrate is peeled off.
  • It can also be a protective layer.
  • the anti-peeling layer has a function of blocking ions and water molecules having a small ion diameter such as chlorine ions and preventing them from reaching the external force glass substrate. Therefore, by providing the anti-peeling layer on a glass substrate, the generation of water-soluble salts by the ions and water molecules is prevented, and crystals are dissolved by dissolution of the water-soluble salts. It is possible to suppress the peeling off of the glass substrate force.
  • the crystalline underlayer in the present invention preferably contains, for example, at least one of a crystalline metal oxide and a metal oxide nitride.
  • the metal oxide include zirconium oxide
  • examples of the metal oxynitride include zirconium oxynitride.
  • the crystalline underlayer includes zirconium oxide and zirconium oxynitride. It is preferable to include at least one.
  • the crystal system of these metal substances is preferably monoclinic, and these substances may be used alone or in combination of two or more.
  • the crystalline underlayer may further contain a slight amount of nitrogen, tin, carbon or the like.
  • the photocatalyst layer in the present invention preferably contains, for example, at least one of a metal oxide and a metal oxynitride.
  • the metal oxide include titanium oxide and titanium oxycarbide (TiO 2 C), and examples of the metal oxynitride include titanium oxynitride and any one of them may be used. And two or more may be used in combination.
  • the photocatalyst layer preferably contains at least one of titanium oxide and titanium oxynitride.
  • the crystal system of these metal substances is not particularly limited, but is preferably anatase type (tetragonal system).
  • the photocatalytic layer may further contain trace amounts of nitrogen, tin and carbon.
  • the photocatalytic layer can also promote the generation of carriers by doping the metal inside, thereby improving the photocatalytic effect.
  • the metal Zn, Mo, and Fe are preferable because they have a high photocatalytic activity improvement effect.
  • the content of the metal in the photocatalyst layer is preferably 0.1% to 1% by mass, and more preferably 0.2% to 0.5% by mass.
  • the content of Fe in the photocatalyst layer is preferably 0.5% by mass. If the addition amount of the metal is equal to or more than the lower limit, the effect of the doping can be sufficiently exhibited.
  • the addition amount is equal to or less than the upper limit, for example, the crystal structure of the photocatalyst is disturbed or recombined by It is possible to sufficiently avoid the possibility that the formation of the photocatalytic activity of the photocatalytic layer is reduced.
  • the crystalline underlayer and the photocatalytic layer are In particular, at least one of a crystalline metal oxide and a metal oxynitride is preferable, and in particular, at least one of the oxygen interatomic distances in the crystal forming the underlayer is the photocatalyst. It is preferable to approximate to one of the oxygen interatomic distance in the crystal constituting the layer.
  • the preferred underlayer ie, the monoclinic acid-zirconium layer
  • the interplanar spacing of the (111) oriented plane is, for example, 0.20-0. 30 nm, and the interplanar spacing of the (-111) oriented plane is, for example, 0.30-0. 34 nm.
  • the anatase type titanium oxide layer as a preferable photocatalyst layer has a (101) plane as an electron beam diffraction image obtained by electron beam irradiation from a direction (normal direction) perpendicular to the layer cross section. There is a diffraction image from.
  • the surface separation of the (101) oriented surface is, for example, 0.33 to 0.37 mm.
  • strain is generated in the crystal and the oxygen position of the crystal plane is shifted, and the position of the oxide that forms the crystalline underlayer with oxygen. The influence on the rapid crystal growth of the photocatalyst layer due to the decrease in the integrity of the catalyst can be sufficiently avoided.
  • examples of the heat ray reflective layer include low radiative films.
  • the low radiation film is not particularly limited, but a multi-layer laminate in which dielectrics, silver, dielectrics, silver and dielectrics are laminated in this order by a known film forming method such as sputtering method (substrate Z first Dielectric layer Z first silver layer Z second dielectric layer Z second silver layer Z third dielectric layer) and the like are preferable.
  • the dielectric for example, titanium oxide, zinc oxide, tin oxide, niobium oxide, tantalum oxide, silicon nitride, silicon oxynitride and the like can be used.
  • the thickness of the heat ray reflective layer is not particularly limited, but preferably ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ !
  • the reflection chromaticity and the visible light reflectance of the single plate can be appropriately set by those skilled in the art depending on, for example, the thickness, the material, the layer structure, and the like of the heat ray reflective layer.
  • the method for producing the glass member of the present invention is not particularly limited !, for example, the following methods may be mentioned. First, a peeling prevention layer is formed on one surface of a glass substrate, subsequently, a crystalline base layer is formed on the surface of the peeling prevention layer, and then a photocatalytic layer is formed on the surface of the crystalline base layer. On the other hand, a heat ray reflective layer is formed on the other surface of the glass substrate.
  • a conventionally known method can be used, and examples thereof include a sputtering method, a vacuum evaporation method and the like.
  • Examples of the method for forming the crystalline base layer include conventionally known methods such as liquid phase method (sol gel method, liquid phase deposition method, etc.), vapor phase method (sputtering method, vacuum evaporation method, CVD method, etc.) Can be used.
  • liquid phase method sol gel method, liquid phase deposition method, etc.
  • vapor phase method sputtering method, vacuum evaporation method, CVD method, etc.
  • the method of forming the photocatalyst layer is also not particularly limited, and the same method as the crystalline underlayer can be used, and in particular, the gas phase method is preferably used.
  • the method of forming the heat ray reflective layer is not particularly limited, and a conventionally known method may be mentioned.
  • a conventionally known method can be used, and examples thereof include a sputtering method and the like.
  • the thickness of the glass substrate, the peeling prevention layer, the crystalline base layer, the photocatalyst layer and the heat ray reflective layer of the present invention can be adjusted by a conventionally known method.
  • an example of the multilayer glass of the present invention will be described with reference to FIG.
  • the multi-layer glass of the present invention is not limited in any configuration except for the use of the glass member of the present invention.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of the multilayer glass of the present invention, and the same reference numerals as in FIG. 1 denote the same parts in FIG.
  • the glass plate 20 and the glass member 30 are disposed via the spacer 40 so that a gap is formed between the opposing surfaces of the two, and the glass member 30 has the photocatalyst layer 3 thereof.
  • the outermost layer of the multilayer glass 50 is disposed.
  • the heat ray reflective layer 24 is a low radiation film made of dielectric 5aZ silver 6aZ dielectric 5bZ silver 6bZ dielectric 5c, but is not limited thereto.
  • Such a multilayer glass 50 is usually disposed so that the surface on which the glass member 30 is disposed (specifically, the surface of the photocatalyst layer 3) is on the outdoor side and the other glass plate 20 is on the indoor side. Used.
  • door side glass plate there is no particular limitation on the other glass plate (hereinafter referred to as “indoor side glass plate”) different from the glass member of the present invention in addition to the multi-layer glass of the present invention, as described above.
  • the thickness of the glass plate is not particularly limited, and is the same as described above.
  • the spacers are also not particularly limited, and conventionally known ones can be used.
  • the gap between the glass member and the indoor side glass plate via the spacer may be hollow or may be sealed with any material.
  • the distance of the space between the glass member and the indoor-side glass plate is not particularly limited, but is preferably 6 mn! It is ⁇ 18 mm.
  • the method for producing the multilayer glass having the glass member of the present invention is not particularly limited, and a conventionally known method can be used.
  • the glass member shown in FIG. 1 was produced by the following method, and the double-layered glass shown in FIG. 2 was produced using this.
  • the heat ray reflective layer 24 was formed on one surface of a glass substrate 10 (10 cm in length, 10 cm in width, 3 mm in thickness).
  • the optical characteristics of a single plate composed of the glass substrate 10 and the heat ray reflective layer 24 are the reflection chromaticity (a *, b *)-4 ⁇ a * ⁇ 2 and -5 ⁇ of the glass substrate side.
  • the dielectric 5a is set so that the range of b * ⁇ 0 and the visible light reflectance on the side of the glass substrate is within 10%.
  • a low radiation film (Low-E film; thickness: 16 nm) which is a configuration of Z silver 6aZ dielectric 5bZ silver 6bZ dielectric 5c was formed.
  • the specific configuration of the heat ray reflective layer 24 is as follows.
  • Each layer of the heat ray reflective layer 24 was formed by the following method.
  • the titanium oxide layer and the zinc oxide layer were formed by reactive sputtering using a metal target of titanium and zinc and using a mixed gas of argon gas and oxygen gas as a discharge gas.
  • the silicon nitride layer was formed by reactive sputtering using a Si target and using a mixed gas of argon gas and nitrogen gas as a discharge gas.
  • the silver layer was formed by sputtering using a silver target and argon gas as a discharge gas.
  • a direct current pulse power source was used as the discharge power source.
  • optical characteristics of a single plate composed of the glass substrate 10 and the heat ray reflective layer 24 were as follows as a result of measurement.
  • An amorphous silicon oxide (SiO 2) layer is formed on the other surface of the glass substrate 10 as a peeling prevention layer 1 by reactive sputtering, and then a crystalline base is formed on the surface of the peeling prevention layer 1.
  • a monoclinic acid zirconium (ZrO 2) layer is formed by reactive sputtering.
  • a glass member 30 was manufactured by forming an anatase-type titanium oxide (TiO 2) layer as a photocatalyst layer 3 on the surface of the crystalline base layer 2 by a sputtering method.
  • TiO 2 anatase-type titanium oxide
  • the obtained glass member 30 and the indoor-side glass plate 20 (3 mm in thickness) are disposed via a spacer (12 mm in thickness) so as to create a space between the opposing surfaces of both, A laminated glass 50 was produced. (Change in thickness of photocatalyst layer)
  • the thickness of the photocatalyst layer is changed at 2 nm pitch, and the thickness of the peeling prevention layer 1 (SiO layer) is 10 nm.
  • the thickness of the crystalline underlayer 2 (ZrO layer) was set to 5 nm by the method described above.
  • a multilayer glass was produced.
  • the thickness of the crystalline underlayer is changed at 2 nm pitch, and the thickness of the peeling prevention layer 1 (SiO layer) is 1
  • the thickness of Onm and photocatalyst layer 3 (TiO layer) is set to 5 nm
  • a multilayer glass was produced.
  • the visible light reflectance (R%) on the photocatalyst layer 3 side of each double glazing 50 obtained as described above was measured according to JIS R3106. These results are shown in FIGS. 3 and 4.
  • FIG. 3 is a graph showing the relationship between the thickness of the photocatalyst layer 3 and the visible light reflectance
  • FIG. 4 is a graph showing the relationship between the thickness of the crystalline underlayer 2 and the visible light reflectance.
  • the visible light reflectance (R%) is preferably 20% or less, more preferably 17.5% or less.
  • the change in the reflection chromaticity (a *, b *) of the photocatalyst layer 3 was measured for the multilayer glass obtained as described above.
  • the measurement of the reflection chromaticity was calculated based on JIS Z8729 using the spectrum from which the spectrophotometer power was also obtained.
  • FIGS. 5 and 6 are graphs showing the reflection chromaticities (a *, b *) of the multilayer glass in which the thickness of the photocatalyst layer is changed
  • FIG. 5 is a graph showing the visible chromaticity based on the results of FIG.
  • the range in which the light reflectance is 20% or less is surrounded by a square
  • FIG. 6 is a square in which the range in which the visible light reflectance is 17.5% or less is squared based on the results of FIG.
  • FIGS. 5 and 6 are graphs showing the reflection chromaticities (a *, b *) of the multilayer glass in which the thickness of the photocatalyst layer is changed
  • FIG. 5 is a graph showing the visible chromaticity based on the results of FIG.
  • the range in which the light reflectance is 20% or less is surrounded by a square
  • FIG. 6 is a square in which the range in which the visible light reflectance is 17.5% or less is squared based on the results of FIG.
  • FIG. 7 and 8 are graphs showing the reflection chromaticities (a *, b *) of the multilayer glass in which the thickness of the crystalline base layer is changed, and FIG. 7 is based on the results of FIG. The range in which the visible light reflectance is 20% or less is surrounded by a square, and FIG. 8 is a diagram in which the range in which the visible light reflectance is 17.5% or less is surrounded by a square based on the result of FIG. There is. (Measurement of photocatalytic activity)
  • the photocatalytic activity of the double glazing obtained as described above was evaluated by the following method. First, using a black lamp (center wavelength: 365 nm) as a light source, the contact angle ( ⁇ ) of water after UV irradiation was performed for 60 minutes under the conditions of illuminance lmWZ cm 2 was measured. Specifically, after UV irradiation is performed on the photocatalyst layer side of the multilayer glass under the conditions described above, the multilayer glass is placed on a horizontal base so that the surface of the photocatalyst layer becomes horizontal, and the light is emitted. Water 0.4: z L was dropped onto the surface of the catalyst layer.
  • the contact angle of the water droplet on the surface is measured using a contact angle measuring device (CA-150 manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.), and the contact angle ( ⁇ ) shows a result of 15 degrees or less and 20 degrees or less.
  • the thickness of the crystalline underlayer 2 and the thickness of the photocatalyst layer 3 were determined for each of the multilayer glasses.
  • reflection chromaticity 5 ⁇ a * ⁇ 0, and 1 12 ⁇ b * ⁇ 0 is a range where the reflection color is light blue
  • reflection chromaticity 5 ⁇ a * ⁇ 0, 1 8 ⁇ b * ⁇ 0 is a range in which the color becomes blue lighter than the reflection color.
  • the thickness of the crystalline underlayer 2 is 2 ⁇ ! ⁇ 28 m m
  • the thickness of the photocatalyst layer 3 2 ⁇ ⁇ ! By setting the thickness to -20 nm, it has been found that a double glazing that achieves both excellent photocatalytic activity and visible light reflectance and reflection chromaticity is achieved. Further, by setting the thickness of the crystalline base layer 2 to 3 nm to 20 nm and the thickness of the photocatalyst layer 3 to 3 nm to 12 nm, the photocatalytic activity and visible light reflectance more excellent, and colorless or light blue reflection chromaticity The It was a force that could be achieved.
  • a glass member 30 having the same configuration as that of FIG. 1 is manufactured by the same method as that of Example 1 except that the specific film configuration of the heat ray reflective layer 24 is changed, and using this, the same as FIG. A double layer glass 50 was produced.
  • the heat ray reflective layer 24 was formed on one surface of the glass substrate 10 in the same manner as in Example 1.
  • the optical characteristics of a single plate consisting of the glass substrate 10 and the heat ray reflection layer 24 are as follows: the reflection chromaticity (a *, b *) of the glass substrate side is -15 ⁇ a * ⁇ -2 and -10 ⁇ b * ⁇ 10
  • the visible light reflectance on the side of the glass substrate is set to 13% or less, and the film thickness of the low emissivity film is 148 nm.
  • the specific configuration of the heat ray reflective layer 24 is as follows.
  • the optical characteristics of a single plate composed of the glass substrate 10 and the heat ray reflective layer 24 were as follows.
  • Example 1 the thickness of the photocatalyst layer and the crystalline underlayer is changed to produce a multilayer glass, and the visible light reflectance and reflection of the photocatalyst layer 3 in the same manner as in Example 1. The chromaticity was measured. Further, the photocatalytic activity was measured by the same method as in Example 1.
  • FIG. 9 is a graph showing the relationship between the thickness of the photocatalyst layer 3 and the visible light reflectance
  • FIG. 10 is a graph showing the relationship between the thickness of the crystalline underlayer 2 and the visible light reflectance.
  • FIG. 11 and FIG. 12 are graphs showing the reflection chromaticity (a *, b *) of the multilayer glass in which the thickness of the photocatalyst layer is changed, and FIG. 11 is a visible light based on the result of FIG.
  • the range in which the reflectance shows 20% or less is surrounded by a square
  • FIG. 12 the range in which the visible light reflectance shows 17.5% or less is surrounded by a square based on the result of FIG.
  • FIG. 13 and 14 are graphs showing the reflection chromaticities (a *, b *) of the multilayer glass in which the thickness of the crystalline base layer is changed, and FIG. 13 is based on the results of FIG.
  • the visible light reflectance of 20% or less is surrounded by a square, and FIG. 14 is the square of the visible light reflectance of 17.5% or less based on the result of FIG. .
  • the reflection color tone of the multi-layer glass in this embodiment is particularly preferably in the range of bluish green to green, and is preferably 12 to 20 * b * 5.
  • the preferred range of the reflection chromaticity is -9 a * 3.17 10 b * 4.
  • the thickness of the crystalline underlayer 2 is 2 ⁇ ! ⁇ 28 m m
  • a double-glazed glass having both the rate and the reflection chromaticity can be obtained.
  • the photocatalytic activity, the visible light reflectance and the blue-green or green reflection color tone can be further improved. It turned out that it could be realized.
  • a double-glazed glass 50 was produced in the same manner as in Example 1 except that the thicknesses of the peeling prevention layer 1, the crystalline base layer 2 and the photocatalyst layer 3 were 10 nm, 5 nm and 5 nm, respectively. Then, the chromaticity (transmission chromaticity) of the transmitted light, the reflection chromaticity (the photocatalytic layer 3 side and the indoor side glass plate 20 side), the visible light transmittance, the visible light reflectance, the solar radiation transmission in this double-layered glass. The rate and solar heat gain rate were measured. The visible light reflectance, the transmission chromaticity, and the reflection chromaticity were measured by the same method as in Example 1. The visible light transmittance and the solar radiation transmittance were measured based on JIS R3106, and the solar heat gain rate was calculated based on JIS R3106 using a spectrum measured by a spectrophotometer.
  • a double-glazed glass was manufactured and measured in the same manner as in Example 3 except that the thickness of each of the peeling prevention layer 1, the crystalline base layer 2 and the photocatalyst layer 3 was 10 nm.
  • a multilayer glass was manufactured in the same manner as in Example 1 except that only the heat ray reflective layer was laminated on the glass substrate without forming the peeling prevention layer, the crystalline base layer and the photocatalyst layer, the above Example The same measurement as in 5 was performed.
  • Example 3 -2.80 3.25 -1.07-3.78 -0.21 71.1
  • Each heat ray reflective layer shown in Table 4 below was laminated on a glass substrate. Then, in the same manner as in Example 3, except that the thicknesses of the peeling prevention layer 1, the crystalline base layer 2 and the photocatalyst layer 3 were 10 nm, 10 nm and 5 nm, respectively, It measured.
  • Each heat ray reflective layer is formed by forming a first dielectric layer, a first silver layer, a second dielectric layer, a second silver layer, and a third dielectric layer on the surface of a glass substrate. is there.
  • Table 4 below shows the material of the layer constituting the heat ray reflective layer
  • Table 5 below shows the film thickness of the layer constituting the heat ray reflective layer
  • Table 6 below shows the optical film thickness of the dielectric layer and the silver layer at a wavelength of 530 nm.
  • the film thickness shown in Table 5 below is a physical film thickness obtained by measuring the cross section of the layer using a transmission electron microscope (manufactured by Topcon Corporation: transmission electron microscope EM002B), and the optical film shown in Table 6 below
  • the film thickness is a value obtained by multiplying the physical film thickness by the refractive index at 530 nm.
  • Refractive index is a spectroscopic ellipsometer (US First dielectric layer First silver layer Second dielectric layer Second silver layer Third dielectric layer
  • Sample 9 Zinc oxide, silver oxide, niobium oxide, silicon nitride, silicon nitride, silicon nitride, silicon nitride, silicon nitride
  • Zinc oxide Oxidation sub IS Zinc oxide Silver oxidation
  • Sample 1 Silver oxide, niobium oxide, silicon nitride, silicon nitride, zinc oxide, silver oxide, niobium oxide, silicon nitride
  • Test sample 1 Zinc oxide Silver Titanium oxide Zinc oxide Silicon nitride Oxide iS Silicon nitride Zinc oxide Silver Titanium oxide Zinc oxide Silicon nitride
  • the second abductor layer The second silver layer The second dielectric layer The second silver sheet The second attractive layer
  • Table 7 The measurement results of the reflection chromaticity on the glass surface side of the single plate, the transmission chromaticity of the multilayer glass, and the reflection chromaticity on the indoor side and the outdoor side of the multilayer glass are shown in Table 7 below.
  • Table 8 below shows the results of measurement of the visible light reflectance on the glass surface side of the single plate, the visible light transmittance of the multilayer glass, and the visible light reflectance on the indoor side and the outdoor side of the multilayer glass.
  • Visible light reflectance (%) Visible light selectivity (%) Visible light reflectance (%) Visible light reflectance (%) Visible light reflectance (%)
  • the glass member of the present invention low reflectance and colorless or pale blue, blue-green or green reflected color tone can be realized, and furthermore, excellent photocatalytic activity can be obtained. Can. For this reason, according to the multilayer glass using the glass member of the present invention, it is possible to achieve both high photocatalytic activity and excellent reflectance and reflection color tone on the photocatalyst layer side. Therefore, it is suitable for a large-area double glazing for buildings which is excellent in the photocatalytic function and which emphasizes exhilaration etc. in terms of appearance.

Abstract

　高い光触媒活性を有し、かつ、光触媒層側において低い反射率および無色もしくは薄い青色、または、青緑もしくは緑色の反射色調を有する、光触媒層および熱線反射層付きガラス部材を提供する。本発明は、一方の表面に熱線反射層が形成されたガラス基板の他方の表面に、酸化珪素等の剥離防止層、酸化ジルコニウム等の結晶性下地層および酸化チタン等の光触媒層を積層することによって、ガラス部材を製造する。ここで、熱線反射層を、前記ガラス基板の前記他方の表面の反射色度（ａ*，ｂ*）が－４≦ａ*≦２および－５≦ｂ*≦０、かつ、可視光反射率が１０％以内となるように形成し、前記結晶性下地膜層の厚みを２ｎｍ～２８ｎｍ、前記光触媒層の厚みを２ｎｍ～２０ｎｍとすれば、無色もしくは薄い青色の反射色調を有する前記ガラス部材を製造できる。また、前記反射色度（ａ*，ｂ*）を－１５≦ａ*≦－２および－１０≦ｂ*≦１０、かつ、可視光反射率を１３％以内として、前記結晶性下地膜層の厚みを２ｎｍ～２８ｎｍとし、かつ、前記光触媒層の厚みを２ｎｍ～１４ｎｍとすれば、青緑もしくは緑色の反射色調を有する前記ガラス部材を製造できる。

Description

明 細 書
光触媒機能および熱線反射機能を有するガラス部材、ならびに、それを 用いた複層ガラス
技術分野
[0001] 本発明は、ガラス基板の一方の表面に熱線反射層、他方の表面に光触媒層がそ れぞれ積層されたガラス部材およびそれを用いた複層ガラスに関する。
背景技術
[0002] アナターゼ型酸ィ匕チタン等の光触媒は、紫外線照射によって有機物を分解する防 汚効果や、抗菌性および親水性等を発揮することが知られており、最近では、可視 光によって触媒機能を発揮する光触媒能も注目されて ヽる。このような光触媒能をガ ラス等の基材に付与すベぐ光触媒層が前記基材表面に配置されており、その形成 方法としては、一般に、スパッタリングや蒸着等の真空成膜法や減圧成膜法が広く採 用されている。
[0003] このように、ガラス等の基材表面に光触媒層を形成するにあたり、前記基材と前記 光触媒層との間に下地層を配置する方法が提案されている (特許文献 1〜7)。
[0004] 特許文献 1には、ガラス基板の表面に光触媒組成物からなる媒体を形成する際、ガ ラス力 溶出するアルカリによって前記媒体機能が低下することを防ぐため、ガラス基 板と前記媒体との間に下地層を形成する方法が開示されている。そして、前記下地 層として、例えば、酸ィ匕ジルコニウム、特に非晶質酸化ジルコニウムの使用が提案さ れている。特許文献 2には、基材と光触媒層との間に形成する下地層として酸化ジル コニゥム、前記光触媒層として酸化チタンをそれぞれ使用することが開示されている 。また、特許文献 3には、基材と光触媒層との間に、酸化ジルコニウム等を含む金属 酸化物層を介在させ、この金属酸ィヒ物層により、前記光触媒層から前記基材への酸 素の拡散を抑制する方法が開示されている。また、特許文献 4にも、同様に、基材と 酸化チタン層との間に、酸ィ匕ジルコニウム層を設ける方法が開示されている。さらに、 特許文献 5には、下地層として、結晶系が単斜晶である酸ィ匕ジルコニウム、光触媒層 として、結晶系がアナターゼ型である酸ィ匕チタンをそれぞれ用いることが開示されて いる。
[0005] また、特許文献 6および 7には、下地層および光触媒層の厚みと、光学特性との関 係が開示されている。特許文献 6には、前記下地層として、酸化錫（SnO )および酸
2 化ジルコニウム (ZrO )を含む厚み 10nm以下の層、ならびに、前記光触媒層として
2
、酸化チタン (TiO )を含む厚み 20nm以下の層があげられており、さら〖こ、形成され
2
るガラス部材に透明性を持たせるには、前記両者の層厚をそれぞれ薄くする必要が あることが記載されている。特許文献 7には、基材と酸化チタン層との間に、高温安定 型の立方晶系または斜方晶系の酸ィ匕ジルコニウム層を設ける技術が開示され、さら に、自動車等に使用する場合、前記酸ィ匕チタン層の厚みは、反対側が見通せる程度 でなければならな!/、ことが記載されて 、る。
[0006] 一方、ガラス基板の表面に熱線反射層を積層し、他方の表面に光触媒層を積層し たガラス部材を、複層ガラスに使用することも報告されている（特許文献 8)。複層ガラ スは、通常、屋外側と屋内側の 2枚のガラス板を有し、両者が、スぺーサーを介して、 両者間に空間ができるように配置されたガラスである。そして、前述のようなガラス部 材は、例えば、屋外側ガラス板として、光触媒層が複層ガラスの最外層、熱線反射層 力 複層ガラスの内部側となるように配置されて 、る。
特許文献 1：特開平 9 227167号公報
特許文献 2：特開平 10— 66878号公報
特許文献 3：特開 2000 - 312830号公報
特許文献 4：特開 2001— 205094号公報
特許文献 5：国際公開 WO 03Z53577号パンフレット
特許文献 6：特開 2000 - 513695号公報
特許文献 7 :国際公開 WO 02Z40417号パンフレット
特許文献 8 :国際公開 WO 02Z62716号パンフレット
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0007] し力しながら、まず、特許文献 1〜4および 6に開示された方法によって光触媒層を 形成すると、光触媒機能が十分に発揮されないおそれがある。さらに、光触媒層を厚 くしなければ、光触媒層としての機能が十分に発揮されないだけでなぐ最終的に得 られるガラス部材の反射率が大きくなつたり、干渉色が現れるという問題がある。この ような理由によって、光触媒層を積層したガラス部材については、光触媒機能と、好 ましい反射率および色調とを両立させることが困難であった。
[0008] また、前述のような熱線反射層を設けたガラス部材を用いた複層ガラスは、屋外側 ( 光触媒層側)の反射率が高くなるため、室外側の反射色調が無色もしくは若干青み 、または、青緑もしくは緑色を帯びた複層ガラスとすることが困難であった。
[0009] そこで、本発明は、熱線反射層および光触媒層を有する場合であっても、前記光 触媒層が高い光触媒活性を有し、かつ、光触媒層側において低い反射率および無 色もしくは薄い青色、または、青緑もしくは緑色の反射色調を示すガラス部材、ならび に、複層ガラスの提供を目的とする。
課題を解決するための手段
[0010] 前記目的を達成するために、本発明の第 1のガラス部材は、ガラス基板の一方の表 面に熱線反射層が積層され、他方の表面に光触媒層が積層されたガラス部材であ つて、前記ガラス基板と前記熱線反射層は、前記ガラス基板の一方の表面に前記熱 線反射層が積層され、他方の表面に前記光触媒層が積層されていない状態 (以下、
「単板」ということがある）において、前記ガラス基板の前記他方の表面の反射色度 (a *, b*)がー 4≤a*≤2および 5≤b*≤0の範囲であり、かつ、前記ガラス基板の前記 他方の表面の可視光反射率が 10%以内となる組合せであり、前記ガラス基板の前 記他方の表面には、剥離防止層、結晶性下地層および光触媒層がこの順序で積層 され、前記結晶性下地層の厚みが、 2ηπ！〜 28nmの範囲であり、前記光触媒層の厚 みが、 2ηπ！〜 20nmの範囲であり、前記剥離防止層が、珪素および錫の少なくとも一 方を含む酸ィ匕物、酸窒化物ならびに窒化物からなる群力 選択された少なくとも一つ の物質を含むことを特徴とする。
[0011] また、本発明の第 2のガラス部材は、ガラス基板の一方の表面に熱線反射層が積 層され、他方の表面に光触媒層が積層されたガラス部材であって、前記ガラス基板と 前記熱線反射層は、単板の前記ガラス基板の前記他方の表面の反射色度 (a*, b*) が— 15≤a*≤— 2および— 10≤b*≤10の範囲であり、かつ、前記ガラス基板の前記 他方の表面の可視光反射率が 13%以内となる組合せであり、前記結晶性下地層の 厚みが、 2nm〜28nmの範囲であり、前記光触媒層の厚みが、 2ηπ！〜 14nmの範囲 であり、前記剥離防止層が、珪素および錫の少なくとも一方を含む酸化物、酸窒化 物ならびに窒化物からなる群力 選択された少なくとも一つの物質を含むことを特徴 とする。
[0012] また、本発明の複層ガラスは、 2枚のガラス板を有し、前記 2枚のガラス板が、前記 両者の対向面の間に空間ができるように、スぺーサーを介して配置された複層ガラス であって、少なくとも一方のガラス板力 本発明のガラス部材であり、前記ガラス部材 の光触媒層が、前記複層ガラスの最外層となるように配置されていることを特徴とする 発明の効果
[0013] 本発明のガラス部材によれば、熱線反射層をガラス基板に積層した場合、具体的 に、単板の特性カ^ガラス基板の他方の表面の反射色度 (a*, b*)が— 4≤a*≤2およ び 5≤b*≤0の範囲、かつ、前記ガラス基板の前記他方の表面の可視光反射率が 10%以内」となる場合であっても、低い反射率と、無色もしくは薄い青色の反射色調 とを実現でき、さらに、優れた光触媒活性を得ることができる。また、単板の特性が「ガ ラス基板の前記他方の表面の反射色度 (a*, b*)が— 15≤a*≤— 2および— 10≤b* ≤ 10の範囲、かつ、前記ガラス基板の前記他方の表面の可視光反射率が 13%以 内」となる場合であっても、低い反射率と、青緑もしくは緑色の反射色調とを実現でき 、さらに、優れた光触媒活性を得ることができる。このため、本発明のガラス部材を用 いた複層ガラスによれば、高い光触媒活性と、光触媒層側における優れた反射率お よび反射色調とを両立することが可能となるため、例えば、光触媒機能に優れ、かつ 、外観の点において、爽快感等を重視した大面積の建築用複層ガラスにも好適であ る。
図面の簡単な説明
[0014] [図 1]図 1は、本発明のガラス部材の一例を示す断面図である。
[図 2]図 2は、本発明の複層ガラスの一例を示す断面図である。
[図 3]図 3は、本発明の実施例において、光触媒層の厚みを変化させた場合における 、前記厚みと複層ガラスの反射率との関係を示すグラフである。
[図 4]図 4は、本発明の他の実施例において、結晶性下地層の厚みを変化させた場 合における、前記厚みと複層ガラスの反射率との関係を示すグラフである。
[図 5]図 5は、本発明のさらにその他の実施例において、光触媒層の厚みを変化させ た場合における、複層ガラスの反射色度を示すグラフである。
[図 6]図 6は、本発明のさらにその他の実施例において、光触媒層の厚みを変化させ た場合における、複層ガラスの反射色度を示すグラフである。
[図 7]図 7は、本発明のさらにその他の実施例において、結晶性下地層の厚みを変化 させた場合における、複層ガラスの反射色度を示すグラフである。
[図 8]図 8は、本発明のさらにその他の実施例において、結晶性下地層の厚みを変化 させた場合における、複層ガラスの反射色度を示すグラフである。
[図 9]図 9は、本発明のさらにその他の実施例において、光触媒層の厚みを変化させ た場合における、前記厚みと複層ガラスの反射率との関係を示すグラフである。
[図 10]図 10は、本発明のさらにその他の実施例において、結晶性下地層の厚みを 変化させた場合における、前記厚みと複層ガラスの反射率との関係を示すグラフであ る。
[図 11]図 11は、本発明のさらにその他の実施例において、光触媒層の厚みを変化さ せた場合における、複層ガラスの反射色度を示すグラフである。
[図 12]図 12は、本発明のさらにその他の実施例において、光触媒層の厚みを変化さ せた場合における、複層ガラスの反射色度を示すグラフである。
[図 13]図 13は、本発明のさらにその他の実施例において、結晶性下地層の厚みを 変化させた場合における、複層ガラスの反射色度を示すグラフである。
[図 14]図 14は、本発明のさらにその他の実施例において、結晶性下地層の厚みを 変化させた場合における、複層ガラスの反射色度を示すグラフである。
発明を実施するための最良の形態
[0015] 本発明のガラス部材の一例について、図 1を用いて説明する。なお、本発明のガラ ス部材は、これらの形状や大きさ等には何ら制限されない。
[0016] 図 1は、本発明のガラス部材の一例を示す断面図である。ガラス部材 30は、ガラス 基板 10の一方の表面に、熱線反射層 14が積層され、他方の表面に、剥離防止層 1 、結晶性下地層 2および光触媒層 3が、この順序で積層されている。なお、本発明に おける「結晶性」とは、例えば、積層した層の断面を透過型電子顕微鏡等で観察した 際に、格子縞または電子線回折像がみられることを意味する。
[0017] 本発明の第 1のガラス部材の場合、ガラス基板 10の一方の表面に熱線反射層 14 を積層した際に、ガラス基板 10の他方表面の反射色度 (a*, b*)が— 4≤a*≤2および 5≤b*≤0の範囲であり、かつ、ガラス基板 10の前記他方表面の可視光反射率が 10%以内となる組合せである。この場合の、結晶性下地層 2の厚みは、 2ηπ！〜 28η mの範囲、光触媒層 3の厚みは、 2nm〜20nmの範囲であり、剥離防止層 1は、珪素 および錫の少なくとも一方を含む酸化物、酸窒化物ならびに窒化物からなる群から 選択された少なくとも一つを含んで 、る。
[0018] また、本発明の第 2のガラス部材の場合、ガラス基板 10の一方の表面に熱線反射 層 14を積層した際に、ガラス基板 10の他方表面の反射色度 (a*, b*)が— 15≤a*≤ — 2および— 10≤b*≤10の範囲であり、かつ、前記ガラス基板の前記他方の表面の 可視光反射率が 13%以内となる組合せである。この場合の、結晶性下地層 2の厚み は、 2nm〜28nmの範囲、光触媒層 3の厚みは、 2nm〜14nmの範囲であり、剥離 防止層 1は、珪素および錫の少なくとも一方を含む酸化物、酸窒化物ならびに窒化 物からなる群力 選択された少なくとも一つを含んでいる。
[0019] 本発明者らは、鋭意研究の結果、以下のような知見を得て、本発明に至った。本発 明者らは、同じ厚みの光触媒層であって、光触媒活性を示すものと光触媒活性を有 しないものについて、それぞれの断面構造を電子顕微鏡により観察した結果、光触 媒活性は、光触媒層の結晶性に依存していることを見出した。具体的には、その結 晶構造が、基材との界面力 光触媒層の表面まで明確に連続して形成されている光 触媒層は、顕著な光触媒活性を有するが、基材との界面付近において結晶構造が 認められず、非晶質 (アモルファス)層（以下、「デッドレイヤー」という）が形成されて いる光触媒層は、十分な光触媒活性を有しないことが判明した。そこで、基板上に、 光触媒層の結晶成長を促進させるための結晶性下地層を形成し、その表面に光触 媒層を形成することで、デッドレイヤーの形成を抑制できるとの知見を得た。なお、デ ッドレイヤーとは、非晶質 (アモルファス）の特徴が強く現れた層であり、デッドレイヤ 一が存在する光触媒層に電子線を照射した場合、電子線回折像がハローパターンと なって観測され、デッドレイヤーが実質的に存在しない光触媒層に電子線を照射し た場合、電子線回折スポットが観測される。
[0020] し力しながら、光触媒層にお！/、て前述のようなデットレイヤーが存在しな！、場合でも 、結晶性下地層との界面力 光触媒層の表面まで連続的に結晶構造が形成されるこ とによって、例えば、イオン半径が小さいイオン (塩素イオン等)や水分子が、前記結 晶構造 (柱状グレイン構造)の隙間を通り、前記光触媒層表面カゝらガラス基板方向へ 拡散するおそれがある。このような拡散分子がガラス基板に到達すると、例えば、塩 素イオン等の陰イオンがガラス基板中に存在するナトリウム等のアルカリイオンと反応 して水溶性の塩を生成することにより、光触媒層が下地層とともに剥離するおそれが あり、欠点が発生するため、耐久性に問題がある。ここで、前記「欠点」とは、例えば、 前記水溶性塩の発生により生じる斑点状または筋状の変色部分や剥離部分を称す る。
[0021] そこで、本発明者らは、さらなる以下の知見から、本発明に想到した。すなわち、本 発明によれば、光触媒の結晶粒子の成長を助長する下地層を介して、光触媒層を 成膜することによって、デッドレイヤーの出現を抑制し、基材と下地層と間に、さらに、 前記剥離防止層を設けることによって、ガラス基板力 の層剥離や欠点の発生を抑 制する。また、結晶性下地層の厚みと光触媒層の厚みを前述の範囲に設定すること で、低反射率、無色もしくは薄い青色、または、青緑もしくは緑色の反射色調をも実 現できる (反射ムラや色調ムラの抑制)。なお、本発明のガラス部材は、ガラス基板の 一方の表面に剥離防止層、結晶性下地層および光触媒層を設けているため、例え ば、一方の表面に熱線反射層のみを設けたガラス部材を使用した複層ガラスと比較 して、 日射熱取得率が向上した複層ガラスを得ることができる。
[0022] 本発明の第 1のガラス部材は、前述のように、前記ガラス基板と前記熱線反射層は 、単板の前記ガラス基板の前記他方の表面の反射色度 (a*, b*)がー 4≤a*≤2およ び 5≤b*≤0の範囲であり、かつ、前記ガラス基板の前記他方の表面の可視光反 射率が 10%以内となる組合せである。この場合、前記結晶性下地層の厚みが 2nm 〜28nmの範囲であり、かつ、前記光触媒層の厚みが 2nm〜20nmの範囲である。 前記両者の厚みをこのような範囲に設定することにより、本発明のガラス部材を使用 した後述の複層ガラスにおいて、光触媒層側の可視光反射率を 20%以内、かつ、光 触媒層側の反射色度 (a*, b*)を— 5く a*< 0、—12く b*く 0に調整でき、可視光反射 率および反射色度の双方に優れたものを提供できる。
[0023] 本発明の第 1のガラス部材は、さらに、前記結晶性下地層の厚みを 3ηπ！〜 20nm の範囲、前記光触媒層の厚みを 3ηπ！〜 12nmの範囲とすることが好ましい。前記両 者の厚みをこのような範囲に設定することにより、後述する本発明の複層ガラスにお いて、さらに、光触媒層側の可視光反射率を 17. 5%以内、かつ、光触媒層側の反 射色度 (a*, b*)を一 5< a*< 0、 一 8<b*< 0に調整でき、より一層可視光反射率およ び反射色度の双方に優れたものを提供できる。
[0024] また、本発明の第 2のガラス部材は、前述のように、前記ガラス基板と前記熱線反射 層は、単板の前記ガラス基板の前記他方の表面の反射色度 (a*, b*)が— 15≤a*≤ — 2および— 10≤b*≤10の範囲であり、かつ、前記ガラス基板の前記他方の表面の 可視光反射率が 13%以内となる組合せである。この場合には、前記結晶性下地層 の厚みが 2nm〜28nmの範囲であり、かつ、前記光触媒層の厚みが 2nm〜14nm の範囲である。前記両者の厚みをこのような範囲に設定することにより、本発明のガラ ス部材を使用した後述の複層ガラスにぉ 、て、光触媒層側の可視光反射率を 20% 以内、かつ、光触媒層側の反射色度 (a*, b*)を— 12く a*く— 2、— 10く b*く 5に調 整でき、可視光反射率および反射色度の双方に優れたものを提供できる。
[0025] また、本発明の第 2のガラス部材は、さらに、前記結晶性下地層の厚みを 3ηπ！〜 1 8nmの範囲、前記光触媒層の厚みを 3nm〜8nmの範囲とすることが好ましい。前記 両者の厚みをこのような範囲に設定することにより、後述する本発明の複層ガラスに おいて、さらに、光触媒層側の可視光反射率を 17. 5%以内、かつ、光触媒層側の 反射色度 (a*, b*)を— 9く a*く— 3. 7、— 10く b*く 4に調整でき、より一層可視光反 射率および反射色度の双方に優れたものを提供できる。
[0026] なお、可視光反射率は、 JIS R3106に基づいて、反射色度は、 JIS Z8729に基 づいて、それぞれ測定することができる。 [0027] 本発明のガラス部材において、前記剥離防止層の厚みは、特に制限されないが、 好ましくは 2nm〜200nmであり、より好ましくは 5ηπ！〜 lOOnmである。前記剥離防 止層の厚みが 2nm以上であれば、例えば、層剥離や欠点発生の抑制効果が十分に 得られ、 5nm以上であれば、さらに、水分の遮断による水溶性塩の発生をより一層（ 例えば、完全に)抑制することができる。また、剥離防止層の厚みが 200nm以下であ れば、例えば、層剥離および欠点発生の抑制効果と経済的観点との両面でさらに優 れたものとなり、 lOOnm以下の場合でも、層剥離および欠点発生の抑制効果は十分 に得られる。前記剥離防止層として、ガラス基板と屈折率がほぼ等しい二酸化珪素を 含む層を形成する場合、前記範囲内で厚みを変化させても色度は殆ど変化しない。 前記剥離防止層として、屈折率がガラス基板と大きく異なるものを選択する場合は、 例えば、色度の変化を抑制するため、前記剥離防止層の厚みをできるだけ小さくす ることが好ましい。
[0028] 本発明のガラス部材において、前記ガラス基板としては、特に制限されず、従来公 知のガラス基板が使用でき、その厚みは、特に制限されないが、通常、 3mn！〜 12m mである。なお、本発明における「ガラス基板」とは、一般的なガラス製基板の他に、 単板の性質が前述の範囲を満たす限りにおいて、ガラス製基板に代えて、ポリカー ボネート等の榭脂製基板を用いることもできる。
[0029] 本発明における剥離防止層は、前述のように、珪素および錫の少なくとも一方を含 む酸化物、酸窒化物、窒化物の少なくとも 1つを含み、具体的には、酸化珪素、酸窒 化珪素、窒化珪素、酸化錫、酸窒化錫、窒化錫等があげられ、中でも酸化珪素を含 むことが好ましい。これらの物質は、非晶質あることが好ましい。また、これらの物質は 、いずれか一種類でもよいし、二種類以上を併用してもよい。前記ガラス基板として、 フロートガラス法により製造した基板を使用する場合は、前記基板の製造時にガラス 基板と錫浴との接触面に形成される錫変質層や非晶質酸化錫層を、前記剥離防止 層とすることもできる。前記剥離防止層は、前述のように、塩素イオンのようにイオン半 径の小さいイオンや水分子を遮断し、これらが、外部力 ガラス基板に到達することを 防ぐ機能を有する。従って、ガラス基板上に前記剥離防止層を設けることにより、前 記イオンや水分子による水溶性塩の発生を防ぎ、前記水溶性塩の溶解によって結晶 性下地層がガラス基板力 剥離することを抑制できる。
[0030] 本発明における結晶性下地層は、例えば、結晶性の金属酸化物および金属酸窒 化物の少なくとも一方を含むことが好ましい。前記金属酸化物としては、例えば、酸 化ジルコニウム、前記金属酸窒化物としては、例えば、酸窒化ジルコニウムがそれぞ れあげられ、特に、結晶性下地層は、酸ィ匕ジルコニウムおよび酸窒化ジルコニウムの 少なくとも一方を含むことが好ましい。これらの金属物質の結晶系は、単斜晶型であ ることが好ましぐまた、これらの物質は、いずれか一種類でもよいし二種類以上を併 用してもよい。前記結晶性下地層は、さらに、微量の窒素、錫、炭素等を含んでもよ い。
[0031] 本発明における光触媒層は、例えば、金属酸化物および金属酸窒化物の少なくと も一方を含むことが好ましい。前記前記金属酸化物としては、例えば、酸化チタン、 酸炭化チタン (TiO C )等、前記金属酸窒化物としては、例えば、酸窒化チタンがそ れぞれあげられ、いずれか一種類でもよいし、二種類以上を併用してもよい。特に、 光触媒層は、酸ィ匕チタンおよび酸窒化チタンの少なくとも一方を含むことが好ましい 。また、これらの金属物質の結晶系は、特に制限されないが、アナターゼ型 (正方晶 系）であることが好ましい。また、前記光触媒層は、さらに、微量の窒素、錫および炭 素を含んでもよい。
[0032] また、前記光触媒層は、内部に金属をドープすることで、キャリアの発生を促進し、 光触媒効果を向上することもできる。前記金属としては、光触媒活性向上効果が高 いことから、 Zn、 Mo、 Feが好ましい。前記金属として Znおよび Moを用いる場合、前 記光触媒層における前記金属の含有量は、好ましくは 0. 1〜1質量％であり、より好 ましくは 0. 2〜0. 5質量％である。前記金属として Feを用いる場合、前記光触媒層 における Feの含有量は、 0. 001-0. 5質量％であることが好ましい。前記金属の添 加量が、前記下限以上であれば、ドープによる効果を十分に発揮でき、前記上限以 下であれば、例えば、金属の存在によって、光触媒の結晶構造の乱れや再結合中 心の生成が起こり、光触媒層の光触媒活性が低下するおそれを、十分に回避するこ とがでさる。
[0033] また、本発明のガラス部材において、前記結晶性下地層および前記光触媒層は、 ともに、結晶性の金属酸ィ匕物および金属酸窒化物の少なくとも一方力 構成されるこ とが好ましぐ特に、前記下地層を構成する結晶中の酸素原子間距離の少なくとも 1 つが、前記光触媒層を構成する結晶中の酸素原子間距離の 1つと近似していること が好ましい。この条件を満たすように、前記結晶性下地層と前記光触媒層とを組み合 わせると、前記結晶性下地層表面に前記光触媒層を形成した場合、酸素原子を共 通部分として、連続的に結晶性の光触媒層を成長させることが容易となるために、前 記デッドレイヤーの形成が抑制されると考えられる。酸素原子の間隔に注目すると、 例えば、単斜晶酸ィ匕ジルコニウムとアナターゼ型酸ィ匕チタンとは、ある部分で近似（9 0〜110%の範囲）して 、るため、前記結晶性下地層の材料として単斜晶酸ィ匕ジルコ -ゥムを選択すれば、その表面にアナターゼ型酸ィ匕チタンの結晶が形成され易いと 考えられる。前記結晶性下地層としては、単斜晶酸ィ匕ジルコニウムの他に、例えば、 微量の窒素、錫、炭素等が添加された酸ィ匕ジルコニウムや酸窒化ジルコニウムが好 ましく使用でき、また、前記光触媒層としては、アナターゼ型酸化チタンの他に、例え ば、微量の窒素、錫、炭素等が添加された酸ィ匕チタンや酸窒化チタンが好ましく使用 できる。
[0034] 前述のように好ましい下地層である単斜晶酸ィ匕ジルコニウム層は、層断面に対する 直交方向（法線方向）からの電子線照射により得られる電子線回折像として、 (111) 面または（一 111)面力もの回折像が存在する。また、（111)配向面の面間隔は、例 えば、 0. 26〜0. 30nmであり、（— 111)配向面の面間隔は、例えば、 0. 30〜0. 3 4nmである。この範囲内の面間隔の酸化ジルコニウムであれば、例えば、結晶中に 歪みが発生して結晶面の酸素位置がずれ、光触媒層を構成する酸化物 (酸化チタン 等)の酸素との位置の整合性が低くなることによる、光触媒層の迅速な結晶成長への 影響を、十分に回避することができる。
[0035] 前述のように好ましい光触媒層としてアナターゼ型酸ィ匕チタン層は、層断面に対す る直交方向（法線方向）からの電子線照射により得られる電子線回折像として、 (101 )面からの回折像が存在する。（101)配向面の面間隔は、例えば、 0. 33〜0. 37η mである。この範囲内の面間隔の酸ィ匕チタンであれば、例えば、結晶中に歪みが発 生して結晶面の酸素位置がずれ、結晶性下地層を構成する酸ィヒ物の酸素との位置 の整合性が低くなることによる、光触媒層の迅速な結晶成長への影響を、十分に回 避することができる。
[0036] 本発明において前記熱線反射層としては、例えば、低放射性膜が挙げられる。前 記低放射性膜としては、特に制限されないが、スパッタ法等の公知の成膜方法により 、誘電体、銀、誘電体、銀および誘電体の順序で積層された多層積層体 (基板 Z第 一の誘電体層 Z第一の銀層 Z第二の誘電体層 Z第二の銀層 Z第三の誘電体層か らなる構成)等が好ましい。前記誘電体としては、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、酸 化錫、酸化ニオブ、酸ィ匕タンタル、窒化珪素、酸窒化珪素等を使用できる。また、前 記熱線反射層の厚みは、特に制限されないが、好ましくは Ι ΙΟηπ！〜 230nmであり、 より好ましくは 125ηπ！〜 200nmである。なお、前記単板の反射色度および可視光反 射率は、当業者であれば、例えば、前記熱線反射層の厚み、材料および層構造等 によって適宜設定できる。
[0037] 本発明のガラス部材の製造方法は、特に制限されな!、が、例えば、以下のような方 法が挙げられる。まず、ガラス基板の一方の表面に剥離防止層を形成し、続いて、前 記剥離防止層表面に結晶性下地層を形成し、その後、前記結晶性下地層表面に光 触媒層を形成する。一方、前記ガラス基板の他方の表面に熱線反射層を形成する。
[0038] 剥離防止層の形成方法としては、従来公知の方法を使用でき、例えば、スパッタリ ング法、真空蒸着法等の方法が挙げられる。
[0039] 結晶性下地層の形成方法としては、例えば、液相法 (ゾルゲル法、液相析出法等） 、気相法 (スパッタリング法、真空蒸着法、 CVD法等)等、従来公知の方法が使用で きる。これらの方法を用いることによって、前記結晶性下地層による光触媒層の結晶 性向上効果が得られるが、特に、優れた結晶成長効果が得られることから、気相法が 好ましい。また、光触媒層の形成方法も特に制限されず、前記結晶性下地層と同様 の方法を使用でき、特に、気相法を用いることが好ましい。
[0040] 熱線反射層の形成方法としては、特に制限されず、従来公知の方法があげられる。
従来公知の方法を使用でき、例えば、スパッタリング法等の方法が挙げられる。
[0041] なお、本発明のガラス基板、剥離防止層、結晶性下地層、光触媒層および熱線反 射層の厚みは、それぞれ従来公知の方法で調整できる。 [0042] 次に、本発明の複層ガラスの一例について、図 2を用いて説明する。なお、本発明 の複層ガラスは、本発明のガラス部材を使用すればよぐそれ以外の構成は何ら制 限されない。
[0043] 図 2は、本発明の複層ガラスの一例を示す断面図であり、図 1と同一部分には同一 符号を付している。複層ガラス 50は、ガラス板 20とガラス部材 30とが、両者の対向面 の間に空隙ができるようにスぺーサー 40を介して配置されており、ガラス部材 30は、 その光触媒層 3が、複層ガラス 50の一方の最外層となるように配置されている。同図 において、熱線反射層 24は、誘電体 5aZ銀 6aZ誘電体 5bZ銀 6bZ誘電体 5cから なる低放射性膜であるが、これには限定されない。このような複層ガラス 50は、通常、 ガラス部材 30が配置された面 (具体的には、光触媒層 3の面）が屋外側、他方のガラ ス板 20が屋内側となるように配置して使用される。
[0044] 本発明の複層ガラスにぉ 、て、本発明のガラス部材とは異なる他方のガラス板 (以 下、「屋内側ガラス板」ともいう）としては、特に制限されず、前述と同様のガラス板を 使用でき、その厚みも、特に制限されず前述と同様である。前記スぺーサーも、特に 制限されず、従来公知のものを使用できる。また、スぺーサーを介したガラス部材と 屋内側ガラス板との間隙は、中空のままでもよいし、何等かの材料を封入してもよい。
[0045] 本発明の複層ガラスにぉ 、て、前記ガラス部材と前記屋内側ガラス板との間の空間 の距離は、特に制限されないが、好ましくは 6mn！〜 18mmである。
[0046] 本発明のガラス部材を有する複層ガラスの製造方法は、特に制限されず、従来公 知の方法を使用できる。
実施例 1
[0047] 以下の方法によって、図 1に示すガラス部材を作製し、これを用いて図 2に示す複 層ガラスを製造した。
[0048] (複層ガラスの製造方法）
ガラス基板 10 (長さ 10cm、幅 10cm、厚み 3mm)の一方の表面に、熱線反射層 24 を形成した。熱線反射層 24としては、ガラス基板 10と熱線反射層 24とからなる単板 の光学特性が、ガラス基板側の反射色度 (a*, b*)— 4≤a*≤2および— 5≤b*≤0の 範囲、かつ、前記ガラス基板側の可視光反射率が 10%以内となるように、誘電体 5a Z銀 6aZ誘電体 5bZ銀 6bZ誘電体 5cの構成である低放射性膜 (Low— E膜;厚 み 16 lnm)を形成した。
[0049] なお、熱線反射層 24の具体的な構成は、以下のとおりである。
ガラス基板 Z酸ィ匕亜鉛（16. lnm) Z銀（9. 7nm) Z酸ィ匕チタン（2. 6nm) Z酸化亜 鉛（23. 3nm) Z窒化珪素（10. 2nm) Z酸ィ匕亜鉛（12. 7nm) Z窒化珪素（9. 4nm ) Z酸化亜鉛（22. 3nm) Z銀（12. Onm) Z酸ィ匕チタン（2. 6nm) Z酸ィ匕亜鉛（29. 9nm) Z窒化珪素（10. 4nm)
[0050] 熱線反射層 24の各層の形成は、以下の方法により行った。酸化チタン層および酸 化亜鉛層は、それぞれチタンおよび亜鉛の金属ターゲットを用い、アルゴンガスと酸 素ガスとの混合ガスを放電ガスとして用いる反応性スパッタリング法により形成した。 窒化珪素層は、 Siターゲットを用い、アルゴンガスと窒素ガスの混合ガスを放電ガスと して用いる反応性スパッタリング法により形成した。銀層は銀ターゲットを用い、アル ゴンガスを放電ガスとして用いるスパッタリング法により形成した。放電電源として、直 流パルス電源を用いた。
[0051] なお、ガラス基板 10と熱線反射層 24とからなる単板の光学特性は、測定の結果、 以下のとおりであった。
ガラス基板 10側の反射色度 (a*, b*) = (— 0. 21, - 3. 63)
ガラス基板 10側の可視光反射率 5. 6%
熱線反射層 24側の反射色度 (a*, b*) = (— 3. 81, 3. 54)
熱線反射層 24側の可視光反射率 4. 4%
[0052] ガラス基板 10の他方の表面に、剥離防止層 1として、反応性スパッタリング法により 非晶質酸化珪素 (SiO )層を形成し、続いて、剥離防止層 1の表面に、結晶性下地
2
層 2として、反応性スパッタリング法により単斜晶酸ィ匕ジルコニウム (ZrO )層を形成し
2
、さらに、結晶性下地層 2の表面に、光触媒層 3として、スパッタリング法によりアナタ ーゼ型酸化チタン (TiO )層を形成することによって、ガラス部材 30を製造した。
2
[0053] そして、得られたガラス部材 30と屋内側ガラス板 20 (厚み 3mm)とを、両者の対向 面の間に空間ができるようにスぺーサー (厚み 12mm)を介して配置させ、複層ガラス 50を製造した。 [0054] (光触媒層の厚み変化）
光触媒層の厚みを 2nmピッチで変化させ、剥離防止層 1 (SiO層）の厚みを 10nm
2
、結晶性下地層 2 (ZrO層）の厚みを 5nmに設定した以外は、前述の方法によって
2
複層ガラスを作製した。
[0055] (結晶性下地層の厚み変化）
結晶性下地層の厚みを 2nmピッチで変化させ、剥離防止層 1 (SiO層）の厚みを 1
2
Onm、光触媒層 3 (TiO層）の厚みを 5nmに設定した以外は、前述の方法によって
2
複層ガラスを作製した。
[0056] (可視光反射率の測定）
前述のようにして得られた各複層ガラス 50について、光触媒層 3側の可視光反射 率 (R%)を、 JIS R3106に基づき測定した。これらの結果を図 3および図 4に示す。 図 3は、光触媒層 3の厚みと可視光反射率との関係を示すグラフであり、図 4は、結晶 性下地層 2の厚みと可視光反射率との関係を示すグラフである。その結果、可視光 反射率は、光触媒層 3および結晶性下地層 2の厚みが、それぞれ 40〜60nmの際に 高くなり、この範囲をはずれると可視光反射率が低下することがわかった。なお、可視 光反射率 (R%)は、 20%以内が好ましぐより好ましくは 17. 5%以下である。
[0057] (複層ガラスの反射色度の測定）
前述のようにして得られた複層ガラスについて、光触媒層 3側の反射色度 (a*, b*) 変化を測定した。反射色度の測定は、分光光度計力も得られたスペクトルを用いて、 JIS Z8729に基づき算出した。
[0058] 得られた反射色度 (a*, b*)の結果を図 5〜8に示す。図 5および図 6は、光触媒層の 厚みを変化させた複層ガラスの反射色度 (a*, b*)を示すグラフであって、図 5は、前 記図 3の結果に基づき、可視光反射率が 20%以下を示す範囲を四角で囲んでおり 、図 6は、前記図 3の結果に基づき、可視光反射率が 17. 5%以下を示す範囲を四 角で囲んでいる。図 7および図 8は、結晶性下地層の厚みを変化させた複層ガラスの 反射色度 (a*, b*)を示すグラフであって、図 7は、前記図 4の結果に基づき、可視光 反射率が 20%以下を示す範囲を四角で囲んでおり、図 8は、前記図 4の結果に基づ き、可視光反射率が 17. 5%以下を示す範囲を四角で囲んでいる。 [0059] (光触媒活性の測定）
前述のようにして得られた複層ガラスに 50について、以下の方法により光触媒活性 の評価を行った。まず、光源としてブラックランプ（中心波長 365nm)を使用し、照度 lmWZcm2の条件で、 60分の UV照射を施した後における水の接触角（ Θ )を測定し た。具体的には、前述の条件で、複層ガラスの光触媒層側に UV照射を行った後、 光触媒層の表面が水平となるように、前記複層ガラスを水平台の上に置き、前記光 触媒層表面に水 0. 4 ;z Lを滴下した。そして、前記表面上の水滴の接触角を接触角 測定装置 (協和界面科学株式会社製 CA— 150)を用いて測定し、接触角（ Θ )が 1 5度以下、 20度以下の結果を示した複層ガラスについて、結晶性下地層 2および光 触媒層 3の厚みをそれぞれ決定した。
[0060] 以上の測定結果を下記表 1にあわせて示す。なお、下記表 1において反射色度 5< a*< 0、 一 12<b*< 0は、反射色薄い青色となる範囲であり、反射色度 5< a* < 0、 一 8<b*< 0は、反射色より薄い青色となる範囲である。
[0061] [表 1]
Figure imgf000018_0001
[0062] 前記表 1の結果から、本実施例においては、結晶性下地層 2の厚みを 2ηπ！〜 28η m、光触媒層 3の厚みを 2ηπ！〜 20nmとすることで、優れた光触媒活性と可視光反射 率および反射色度とを両立する複層ガラスとなることがわ力つた。さらに、結晶性下地 層 2の厚みを 3nm〜20nm、光触媒層 3の厚みを 3nm〜12nmとすることで、より一 層優れた光触媒活性と可視光反射率および無色もしくは薄い青色の反射色度とを 実現できることがわ力つた。
実施例 2
[0063] 熱線反射層 24の具体的な膜構成を変更した以外は、実施例 1と同様の方法で図 1 と同様の構成のガラス部材 30を製造し、これを用いて図 2と同様の複層ガラス 50を 製造した。
[0064] (複層ガラスの製造方法）
実施例 1と同様の方法で、ガラス基板 10の一方の表面に、熱線反射層 24を形成し た。ガラス基板 10と熱線反射層 24とからなる単板の光学特性は、ガラス基板側の反 射色度 (a*, b*)が— 15≤a*≤— 2および— 10≤b*≤10の範囲、かつ、前記ガラス基 板側の可視光反射率が 13%以内となるように設定し、低放射性膜の膜厚は 148nm とした。
[0065] なお、熱線反射層 24の具体的な構成は、以下のとおりとした。
ガラス基板 Z酸ィ匕亜鉛（17. 2nm)Z銀 (7. 7nm)Z酸ィ匕チタン (3. 4nm)Z酸化亜 鉛（20. 4nm)Z窒化珪素（8. lnm)Z酸ィ匕亜鉛（16. 4nm)Z窒化珪素（12. 3nm )Z酸化亜鉛（21. 9nm)Z銀（11. 3nm)Z酸ィ匕チタン（2. 9nm)Z酸ィ匕亜鉛（20. 2nm)Z窒化珪素（8. 6nm)
[0066] また、ガラス基板 10と熱線反射層 24とからなる単板の光学特性は、測定の結果、 以下のとおりであった。
ガラス基板 10側の反射色度 (a*, b*) = (— 7. 69, 7. 12)
ガラス基板 10側の可視光反射率 9. 0%
熱線反射層 24側の反射色度 (a*, b*) = (— 11. 2, 18. 6)
熱線反射層 24側の可視光反射率 8. 9%
[0067] 実施例 1と同様に、光触媒層、結晶性下地層の厚みを変化させて複層ガラスを製 造し、実施例 1と同様の方法によって光触媒層 3側の可視光反射率および反射色度 を測定した。また、実施例 1と同様の方法によって光触媒活性を測定した。
[0068] 測定した光触媒層 3側の可視光反射率の測定結果を図 9および図 10に示す。図 9 は、光触媒層 3の厚みと可視光反射率との関係を示すグラフであり、図 10は、結晶性 下地層 2の厚みと可視光反射率との関係を示すグラフである。その結果、可視光反 射率は、光触媒層 3および結晶性下地層 2の厚みが、それぞれ 40 60nmの際に高 くなり、この範囲をはずれると可視光反射率が低下することがわかった。なお、可視光 反射率 (R%)は、 20%以内が好ましぐより好ましくは 17. 5%以下である。
[0069] 実施例 1と同様の方法によって測定した光触媒層 3側の反射色度 (a*, b*)の測定 結果を図 11 14に示す。図 11および図 12は、光触媒層の厚みを変化させた複層 ガラスの反射色度 (a*, b*)を示すグラフであって、図 11は、前記図 9の結果に基づき 、可視光反射率が 20%以下を示す範囲を四角で囲んでおり、図 12は、前記図 9の 結果に基づき、可視光反射率が 17. 5%以下を示す範囲を四角で囲んでいる。図 1 3および図 14は、結晶性下地層の厚みを変化させた複層ガラスの反射色度 (a*, b*) を示すグラフであって、図 13は、前記図 10の結果に基づき、可視光反射率が 20% 以下を示す範囲を四角で囲んでおり、図 14は、前記図 10の結果に基づき、可視光 反射率が 17. 5%以下を示す範囲を四角で囲んでいる。
[0070] 以上の測定結果を下記表 2にあわせて示す。なお、本実施例における複層ガラス の反射色調は、青緑から緑色の範囲が好ましぐ特に好ましい反射色度の範囲は、 12く a*く— 2 10く b*く 5であり、さらに好ましい反射色度の範囲は、ー9く a* く一 3. 7 10く b*く 4である。
[0071] [表 2]
Figure imgf000020_0001
前記表 2の結果から、本実施例においては、結晶性下地層 2の厚みを 2ηπ！〜 28η m、光触媒層 3の厚みを 2ηπ！〜 14nmとすることで、優れた光触媒活性と可視光反射 率および反射色度とを両立する複層ガラスが得られることがわ力つた。さらに、結晶 性下地層 2の厚みを 3nm〜18nm、光触媒層 3の厚みを 3nm〜8nmとすることで、よ り一層優れた光触媒活性と可視光反射率および青緑もしくは緑色の反射色調とを実 現できることがわかった。
実施例 3
[0073] 剥離防止層 1、結晶性下地層 2および光触媒層 3の厚みを、それぞれ 10nm、 5nm および 5nmとした以外は、前記実施例 1と同様にして複層ガラス 50を製造した。そし て、この複層ガラスにおける、透過光の色度 (透過色度）、反射色度 (光触媒層 3側お よび屋内側ガラス板 20側)、可視光透過率、可視光反射率、日射透過率および日射 熱取得率を測定した。可視光反射率、透過色度、反射色度は、実施例 1と同様の方 法で測定した。可視光透過率および日射透過率は、 JIS R3106に基づいて測定し、 日射熱取得率は、分光光度計により測定したスペクトルを用いて JIS R3106に基づ いて算出した。
実施例 4
[0074] 剥離防止層 1、結晶性下地層 2および光触媒層 3の厚みを、それぞれ 10nm、 10η mおよび 5nmとした以外は、前記実施例 3と同様にして複層ガラスの製造および測 定を行った。
実施例 5
[0075] 剥離防止層 1、結晶性下地層 2および光触媒層 3の厚みを、それぞれ lOnmとした 以外は、前記実施例 3と同様にして複層ガラスの製造および測定を行った。
[0076] (比較例 1)
剥離防止層、結晶性下地層および光触媒層を形成せずに、熱線反射層のみをガ ラス基板に積層した以外は、前記実施例 1と同様にして複層ガラスを製造し、前記実 施例 5と同様の測定を行った。
[0077] 実施例 3〜5および比較例 1の測定結果を下記表 3に示す。
[0078] [表 3] 透過色度 反射色度 可視光
光触媒層側 ガラス板側 透過率 (%)
(屋外側） (屋内側）
a * b * a * b * a * b *
実施例 3 -2.80 3.25 -1.07 —3.78 -2.31 -0.27 71.1 実施例 4 —2.77 3.72 一 1.04 ~5.14 一 2.48 一 1.12 70.0 実施例 5 -2.74 4.74 -0.89 -7.55 -2.68 -2.73 68. ] 比較例 1 -2.77 2.63 -1.36 -1.47 —2.30 1.12 72.1
可視光反射率 (« 日射透過率 (¾) 日射熱取得率 (%)
光触媒層側 ガラス板側 (300〜2500— 夏季 冬季
(屋外側） (屋内側）
実施例 3 12.0 12.6 37.6 41.4 40.9
実施例 4 13.4 13.5 37.0 40.8 40.3
実施例 5 15,8 15.1 35.5 39.2 38.7
比較例 1 10.8 11.8 38.2 42.1 41.7
[0079] 前記表 3の結果より、熱線反射層のみを設けたガラス基板の他方の表面に、さらに 、剥離防止層 1、結晶性下地層 2および光触媒層 3を設けることによって、日射熱取 得率が向上していることがわ力つた。なお、日射熱取得率の値が小さいほど、例えば 、太陽光力 の熱を室内に入れず、夏場での冷房効率が高くなる等の効果が得られ る。
実施例 6
[0080] 下記表 4に示す各熱線反射層を、それぞれガラス基板上に積層した。そして、剥離 防止層 1、結晶性下地層 2および光触媒層 3の厚みを、それぞれ 10nm、 lOnmおよ び 5nmとした以外は、前記実施例 3と同様にして複層ガラスの製造および光学特性 の測定を行った。
[0081] 各熱線反射層は、ガラス基板表面に第一の誘電体層、第一の銀層、第二の誘電体 層、第二の銀層、第三の誘電体層を形成したものである。下記表 4に熱線反射層を 構成する層の材料、下記表 5に熱線反射層を構成する層の膜厚、下記表 6に誘電体 層および銀層の波長 530nmにおける光学膜厚を示す。なお、下記表 5に示す膜厚 は、透過型電子顕微鏡 (株式会社トプコン製：透過電子顕微鏡 EM002B)を用 ヽて層 の断面を測定した物理的な膜厚であり、下記表 6に示す光学膜厚は、物理的な膜厚 に 530nmにおける屈折率を乗じた値である。屈折率は、分光エリプソメーター (米国
Figure imgf000023_0001
第 1誘電体層 第 1銀層 第 2誘電体層 第 2銀層 第 3誘電体層
膜材料 膜材料 瞋材料 膜材料 膜材料
試料 6 錫ドープ 場ト '一プ 錫ドープ
酸化亜 ta 銀 酸化ニオブ 窒化珪素 窒化珪素 酸化亜鉛 銀 酸化ニオブ 窒化珪素
酸化亜飴 酸化亜鉛 酸化亜鉛
試料 7 酸化亜 m 銀 酸化チタン 酸化亜鉛 窒化珪素 酸化亜铅 窒化珪素 酸化亜 is 銀 酸化チタン 酸化亜鉛 窒化珪素
試料 8 酸化亜鉛 銀 酸化チタン 酸化亜鉛 窒化珪素 酸化亜 t& 窒化珪素 酸化亜鉛 鑲 酸化チタン 酸化亜鉛 窒化珪素
錫ドープ 錫ド一プ 錫ドープ
試料 9 酸化亜铅 銀 酸化ニオブ 窒化珪素 窒化珪素 ニオブ 窒化珪素
酸化亜鉛 酸化亜 IS 酸化亜鉛 銀 酸化
酸化亜鉛
錫ドープ
試料 1 0 酸化亜鉛 銀 酸化ニオブ 酸化亜鉛 窒化珪素 酸化亜給 窒化珪素 酸化亜鉛 銀 酸化チタン 窒化珪素
酸化亜鉛
接ド一プ 錫ドープ 錫ドープ
試料 1 1 酸化亜 銀 酸化ニオブ 窒化珪素 窒化珪素 酸化亜鉛 銀 酸化ニオブ 窒化珪素
酸化亜鉛 酸化亜鉛 酸化亜鉛
錫ドープ 鑤ド一プ
試料 1 2 酸化亜铅 銀 酸化チタン 窒化珪素 酸化チタン 窒化珪素 酸化亜鉛 銀 酸化ニオブ 窒化珪素
酸化亜鉛 酸化亜鉛
試科 1 3 酸化亜飴 銀 酸化チタン 酸化亜鉛 窒化珪素 酸化亜 iS 窒化珪素 酸化亜鉛 銀 酸化チタン 酸化亜鉛 窒化珪素
錫ドープ 錫ドープ 錫に一プ
試料 14 酸化亜鉛 銀 酸化ニオブ 窒化珪素 窒化珪素 酸化亜鉛 銀 酸化ニオブ 珪素
酸化亜鉛 酸化亜鉛 酸化亜 IS 窒化
試料 1 5 酸化亜鉛 銀 酸化チタン 酸化亜铅 窒化珪素 酸化亜鉛 窒化珪素 酸化亜鉛 銀 酸化チタン 酸化亜鉛 窒化珪素
試料 1 6 酸化亜铅 銀 酸化チタン 酸化亜鉛 窒化珪素 酸化亜鉛 窒化珪素 酸化亜铅 銀 酸化チタン 酸化亜 is 窒化珪素
錫ドープ 錫ドープ 錫ド一 ~r
試料 1 7 酸化亜鉛 銀 酸化チタン 窒化珪素 窒化珪秦 酸化亜鉛 銀 酸化チタン 窒化珪素
酸化亜鉛 酸化亜鉛 酸化亜鉛
錫ドープ 錫ドープ 錫ドープ
試料 1 8 酸化亜鉛 銀 酸化ニオブ 窒化珪素 窒化珪素 酸化亜鉛 銀 酸化ニオブ 窒化珪素
酸化亜鉛 酸化亜鉛 酸化亜鉛
試料 1 9 酸化亜紛 銀 酸化チタン 黢化亜鉛 窒化珪素 酸化亜铅 窒化珪素 酸化亜飴 銀 酸化チタン 酸化亜鉛 窒化珪素
試料 20 酸化亜鉛 銀 酸化チタン 酸化亜鉛 窒化珪素 酸化亜鉛 窒化珪素 酸化亜鈴 銀 酸化チタン 酸化亜鉛 窒化珪素
J, i。簦都^ j ^¾^¾Tぃ. A. Woollam Co. Inc.: VASE>v5;^. sffi〕〔0840
Figure imgf000024_0001
第 誘罨体層 第 銀層 第 誘電体層 第 銀届 第 誘 S体層
光学唭厚 光学膜厚 光学膜厚 光学胰厚 光学膜厚
試嵙
試料
試料
試料
試转
試料
試科
試料
試料
試鞞
試嵙
試料
試辑
試料
mo フ
[0085] 単板のガラス面側の反射色度、複層ガラスの透過色度ならびに複層ガラスの屋内 側および屋外側の反射色度を測定した結果を下記表 7に示す。また、単板のガラス 面側の可視光反射率、複層ガラスの可視光透過率ならびに複層ガラスの屋内側およ び屋外側の可視光反射率を測定した結果を下記表 8に示す。
[0086] [表 7]
Figure imgf000025_0001
[0087] [表 8] 単板 （ガラス面） 複層ガラス 複層ガラス (屋外面） 複層ガラス (屋内面）
可視光反射率 (％) 可視光趣率 (％) 可視光反射率 (％) 可視光反射率 (％)
9. 3 65. 2 15. 7 16. 5
9. 2 68. 2 15. 9 16. 8
7. 0 69. 8 14. 1 14. 4
8. 3 65. 7 14. 7 1 5. 0
7. 8 67. 7 14. 5 15. 4
7. 3 65. 9 13. 8 15. 0
7. 5 66. 5 14. 1 15. 4
試料 13 7. 3 68. 1 14. 6 15. 7 試料 14 9. 0 65. 3 15. 4 16. 5
1^15 9. 0 68. 0 15. 8 16. 7 試料 16 9. 0 67. 6 1 5. 7 16. 5
1^1 9. 2 65. 2 15. 6 16. 2 試料 1 β 9. 3 65. 2 15. 6 16. 2 試料 19 10. 5 66. 7 17. 0 15. 7 試料 20 10. 0 66. 8 16. 9 16. 8
[0088] 前記表 7および表 8に示した結果から、誘電体層の材料が異なる場合であっても、 単板の反射色度およびガラス面側の可視光反射率の値が前記範囲内である際には 、可視光反射率と反射色度とを両立する複層ガラスが得られることがわ力 た。また、 各誘電体層の光学膜厚をほぼ一定にすれば、誘電体材料の一部を他の誘電体材 料に置換した場合でも、単板の反射色度および可視光反射率には大きな変化は生 じず、前記誘電体材料を置換した場合、例えば、各誘電体層の物理的な膜厚を調整 することによって、同等の光学特性が得られることがわ力つた。
産業上の利用可能性
[0089] このように、本発明のガラス部材によれば、低い反射率と、無色もしくは薄い青色、 または、青緑もしくは緑色の反射色調とを実現でき、さらに、優れた光触媒活性を得 ることができる。このため、本発明のガラス部材を用いた複層ガラスによれば、高い光 触媒活性と、光触媒層側における優れた反射率および反射色調とを両立することが 可能となる。したがって、光触媒機能に優れ、かつ、外観の点において、爽快感等を 重視した大面積の建築用複層ガラスに好適である。

Claims

請求の範囲
[1] ガラス基板の一方の表面に熱線反射層が積層され、他方の表面に光触媒層が積 層されたガラス部材であって、
前記ガラス基板と前記熱線反射層は、前記ガラス基板の一方の表面に前記熱線反 射層が積層され、他方の表面に前記光触媒層が積層されて ヽな 、状態にぉ ヽて、 前記ガラス基板の前記他方の表面の反射色度 (a*, b*)がー 4≤ a*≤ 2および 5≤ b *≤0の範囲であり、かつ、前記ガラス基板の前記他方の表面の可視光反射率が 10 %以内となる組合せであり、
前記ガラス基板の前記他方の表面には、剥離防止層、結晶性下地層および光触 媒層がこの順序で積層され、
前記結晶性下地層の厚みが、 2ηπ！〜 28nmの範囲であり、前記光触媒層の厚み 力 2nm〜20nmの範囲であり、
前記剥離防止層が、珪素および錫の少なくとも一方を含む酸化物、酸窒化物なら びに窒化物力 なる群力 選択された少なくとも一つの物質を含むことを特徴とする ガラス部材。
[2] 前記結晶性下地層の厚みが、 3ηπ！〜 20nmの範囲であり、前記光触媒層の厚み 力 3nm〜 12nmの範囲である請求項 1記載のガラス部材。
[3] ガラス基板の一方の表面に熱線反射層が積層され、他方の表面に光触媒層が積 層されたガラス部材であって、
前記ガラス基板と前記熱線反射層は、前記ガラス基板の一方の表面に前記熱線反 射層が積層され、他方の表面に前記光触媒層が積層されて ヽな 、状態にぉ ヽて、 前記ガラス基板の前記他方の表面の反射色度 (a*, b*)が— 15≤ a*≤— 2および— 1 0≤b*≤10の範囲であり、かつ、前記ガラス基板の前記他方の表面の可視光反射率 力 S 13 %以内となる組合せであり、
前記ガラス基板の前記他方の表面には、剥離防止層、結晶性下地層および光触 媒層がこの順序で積層され、
前記結晶性下地層の厚みが、 2ηπ！〜 28nmの範囲であり、前記光触媒層の厚み 力 2nm〜14nmの範囲であり、 前記剥離防止層が、珪素および錫の少なくとも一方を含む酸化物、酸窒化物なら びに窒化物力 なる群力 選択された少なくとも一つの物質を含むことを特徴とする ガラス部材。
[4] 前記結晶性下地層の厚みが、 3ηπ！〜 18nmの範囲であり、前記光触媒層の厚み 力 3nm〜8nmの範囲である請求項 3記載のガラス部材。
[5] 前記剥離防止層が、珪素および錫の少なくとも一方を含む非晶質酸化物、非晶質 酸窒化物ならびに非晶質窒化物からなる群力 選択された少なくとも一つの物質を 含む、請求項 1または 3記載のガラス部材。
[6] 前記剥離防止層が、酸化珪素を含む、請求項 1または 3記載のガラス部材。
[7] 前記結晶性下地層が、金属酸化物および金属酸窒化物の少なくとも一方を含む、 請求項 1または 3記載のガラス部材。
[8] 前記結晶性下地層が、酸ィ匕ジルコニウムおよび酸窒化ジルコニウムの少なくとも一 方を含む、請求項 7記載のガラス部材。
[9] 前記酸ィ匕ジルコニウム力 単斜晶酸ィ匕ジルコニウムである、請求項 8記載のガラス 部材。
[10] 前記光触媒層が、金属酸化物および金属酸窒化物の少なくとも一方を含む、請求 項 1または 3記載のガラス部材。
[11] 前記光触媒層が、結晶性金属酸ィ匕物および結晶性金属酸窒化物の少なくとも一 方を含む、請求項 10記載のガラス部材。
[12] 前記光触媒層が、酸化チタンおよび酸窒化チタンの少なくとも一方を含む、請求項
10記載のガラス部材。
[13] 前記酸化チタンが、アナターゼ型酸ィ匕チタンである、請求項 12記載のガラス部材。
[14] 前記熱線反射層が、誘電体、銀、誘電体、銀および誘電体の順序で積層された多 層積層体 (誘電体 ZAgZ誘電体 ZAgZ誘電体)である、請求項 1または 3記載のガ ラス部材。
[15] 前記剥離防止層が酸ィ匕珪素を含み、前記結晶性下地層が酸ィ匕ジルコニウムを含 み、前記光触媒層が酸ィ匕チタンを含む、請求項 1または 3記載のガラス部材。
[16] 2枚のガラス板を有し、前記 2枚のガラス板が、前記両者の対向面の間に空間がで きるように、スぺーサーを介して配置された複層ガラスであって、 少なくとも一方のガラス板力 請求項 1または 3のガラス部材であり、前記ガラス部材 の光触媒層が、前記複層ガラスの最外層となるように配置されていることを特徴とする 複層ガラス。
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