JP5121002B2 - 光触媒機能および熱線反射機能を有するガラス部材、ならびに、それを用いた複層ガラス - Google Patents
光触媒機能および熱線反射機能を有するガラス部材、ならびに、それを用いた複層ガラス Download PDFInfo
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Description
ガラス基板10(長さ10cm、幅10cm、厚み3mm)の一方の表面に、熱線反射層24を形成した。熱線反射層24としては、ガラス基板10と熱線反射層24とからなる単板の光学特性が、ガラス基板側の反射色度(a*,b*)−4≦a*≦2および−5≦b*≦0の範囲、かつ、前記ガラス基板側の可視光反射率が10%以内となるように、誘電体5a/銀6a/誘電体5b/銀6b/誘電体5cの構成である低放射性膜(Low−E膜;厚み161nm)を形成した。
ガラス基板/酸化亜鉛(16.1nm)/銀(9.7nm)/酸化チタン(2.6nm)/酸化亜鉛(23.3nm)/窒化珪素(10.2nm)/酸化亜鉛(12.7nm)/窒化珪素(9.4nm)/酸化亜鉛(22.3nm)/銀(12.0nm)/酸化チタン(2.6nm)/酸化亜鉛(29.9nm)/窒化珪素(10.4nm)
ガラス基板10側の反射色度(a*,b*)=(−0.21,−3.63)
ガラス基板10側の可視光反射率5.6%
熱線反射層24側の反射色度(a*,b*)=(−3.81,3.54)
熱線反射層24側の可視光反射率4.4%
光触媒層の厚みを2nmピッチで変化させ、剥離防止層1(SiO2層)の厚みを10nm、結晶性下地層2(ZrO2層)の厚みを5nmに設定した以外は、前述の方法によって複層ガラスを作製した。
結晶性下地層の厚みを2nmピッチで変化させ、剥離防止層1(SiO2層)の厚みを10nm、光触媒層3(TiO2層)の厚みを5nmに設定した以外は、前述の方法によって複層ガラスを作製した。
前述のようにして得られた各複層ガラス50について、光触媒層3側の可視光反射率(R%)を、JIS R3106に基づき測定した。これらの結果を図3および図4に示す。図3は、光触媒層3の厚みと可視光反射率との関係を示すグラフであり、図4は、結晶性下地層2の厚みと可視光反射率との関係を示すグラフである。その結果、可視光反射率は、光触媒層3および結晶性下地層2の厚みが、それぞれ40〜60nmの際に高くなり、この範囲をはずれると可視光反射率が低下することがわかった。なお、可視光反射率(R%)は、20%以内が好ましく、より好ましくは17.5%以下である。
前述のようにして得られた複層ガラスについて、光触媒層3側の反射色度(a*,b*)変化を測定した。反射色度の測定は、分光光度計から得られたスペクトルを用いて、JIS Z8729に基づき算出した。
前述のようにして得られた複層ガラスに50について、以下の方法により光触媒活性の評価を行った。まず、光源としてブラックランプ(中心波長365nm)を使用し、照度1mW/cm2の条件で、60分のUV照射を施した後における水の接触角(θ)を測定した。具体的には、前述の条件で、複層ガラスの光触媒層側にUV照射を行った後、光触媒層の表面が水平となるように、前記複層ガラスを水平台の上に置き、前記光触媒層表面に水0.4μLを滴下した。そして、前記表面上の水滴の接触角を接触角測定装置(協和界面科学株式会社製CA−150)を用いて測定し、接触角(θ)が15度以下、20度以下の結果を示した複層ガラスについて、結晶性下地層2および光触媒層3の厚みをそれぞれ決定した。
実施例1と同様の方法で、ガラス基板10の一方の表面に、熱線反射層24を形成した。ガラス基板10と熱線反射層24とからなる単板の光学特性は、ガラス基板側の反射色度(a*,b*)が−15≦a*≦−2および−10≦b*≦10の範囲、かつ、前記ガラス基板側の可視光反射率が13%以内となるように設定し、低放射性膜の膜厚は148nmとした。
ガラス基板/酸化亜鉛(17.2nm)/銀(7.7nm)/酸化チタン(3.4nm)/酸化亜鉛(20.4nm)/窒化珪素(8.1nm)/酸化亜鉛(16.4nm)/窒化珪素(12.3nm)/酸化亜鉛(21.9nm)/銀(11.3nm)/酸化チタン(2.9nm)/酸化亜鉛(20.2nm)/窒化珪素(8.6nm)
ガラス基板10側の反射色度(a*,b*)=(−7.69,7.12)
ガラス基板10側の可視光反射率9.0%
熱線反射層24側の反射色度(a*,b*)=(−11.2,18.6)
熱線反射層24側の可視光反射率8.9%
剥離防止層、結晶性下地層および光触媒層を形成せずに、熱線反射層のみをガラス基板に積層した以外は、前記実施例1と同様にして複層ガラスを製造し、前記実施例5と同様の測定を行った。
Claims (16)
- 2枚のガラス板を有し、前記2枚のガラス板が、前記両者の対向面の間に空間ができるように、スペーサーを介して配置された複層ガラスであって、
少なくとも一方のガラス板が、ガラス基板の一方の表面に熱線反射層が積層され、他方の表面に光触媒層が積層されたガラス部材であり、
前記ガラス部材において、前記ガラス基板と前記熱線反射層は、前記ガラス基板の一方の表面に前記熱線反射層が積層され、他方の表面に前記光触媒層が積層されていない状態において、前記ガラス基板の前記他方の表面の反射色度(a*,b*)が−15≦a*≦−2および−10≦b*≦10の範囲であり、かつ、前記ガラス基板の前記他方の表面の可視光反射率が13%以内となる組合せであり、
前記ガラス基板の前記他方の表面には、剥離防止層、結晶性下地層および光触媒層がこの順序で積層され、
前記剥離防止層が、珪素および錫の少なくとも一方を含む酸化物、酸窒化物ならびに窒化物からなる群から選択された少なくとも一つの物質を含み、
前記ガラス部材の光触媒層が、前記複層ガラスの最外層となるように配置されており、
前記熱線反射層が、誘電体、銀、誘電体、銀および誘電体の順序で積層された多層積層体(第1の誘電体層/第1の銀層/第2の誘電体層/第2の銀層/第3の誘電体層)であり、
前記第2の誘電体層が、2層の窒化珪素層と、酸化チタン層または酸化ニオブ層と、3層の酸化亜鉛または錫でドープされた酸化亜鉛から形成される誘電体層を含み、
前記第2の誘電体層において、酸化チタン層または酸化ニオブ層;第1の酸化亜鉛または錫でドープされた酸化亜鉛から形成される誘電体層;前記窒化珪素層;第2の酸化亜鉛または錫でドープされた酸化亜鉛から形成される誘電体層;前記窒化珪素層;第3の酸化亜鉛または錫でドープされた酸化亜鉛から形成される誘電体層;の順に配置され、
前記結晶性下地層の厚みが、3nm〜18nmの範囲であり、前記光触媒層の厚みが、3nm〜8nmの範囲であり、
前記複層ガラスの光触媒層側の可視光反射率が17.5%以内、かつ、光触媒層側の反射色度(a*,b*)が−9<a*<−3.7、−10<b*<4の範囲であり、
前記結晶性下地層が、酸化ジルコニウムを含み、
前記光触媒層が、酸化チタンを含む
ことを特徴とする複層ガラス。 - 前記剥離防止層が、珪素および錫の少なくとも一方を含む非晶質酸化物、非晶質酸窒化物ならびに非晶質窒化物からなる群から選択された少なくとも一つの物質を含む、請求項1記載の複層ガラス。
- 前記剥離防止層が、酸化珪素を含む、請求項1記載の複層ガラス。
- 前記剥離防止層が、酸化珪素からなる、請求項3記載の複層ガラス。
- 前記結晶性下地層が、金属酸窒化物をさらに含む、請求項1〜4のいずれかに記載の複層ガラス。
- 前記結晶性下地層が、酸窒化ジルコニウムをさらに含む、請求項5記載の複層ガラス。
- 前記酸化ジルコニウムが、単斜晶酸化ジルコニウムである、請求項1〜6のいずれかに記載の複層ガラス。
- 前記光触媒層が、金属酸窒化物をさらに含む、請求項1〜7のいずれかに記載の複層ガラス。
- 前記光触媒層が、結晶性金属酸化物および結晶性金属酸窒化物の少なくとも一方を含む、請求項8記載の複層ガラス。
- 前記光触媒層が、酸窒化チタンをさらに含む、請求項8または9に記載の複層ガラス。
- 前記酸化チタンが、アナターゼ型酸化チタンである、請求項10記載の複層ガラス。
- 前記光触媒層が、酸化チタンからなる請求項1〜7のいずれかに記載の複層ガラス。
- 前記第1の銀層と、前記第2の誘電体層の酸化チタン層または酸化ニオブ層とが、直接接するように配置されている請求項1〜12のいずれかに記載の複層ガラス。
- 前記第3の酸化亜鉛または錫でドープされた酸化亜鉛から形成される誘電体層と、前記第2の銀層とが、直接接するように配置されている請求項1〜13のいずれかに記載の複層ガラス。
- 前記第3の誘電体層が、窒化珪素層を含み、前記窒化珪素層が、前記第3の誘電体層の最外層となるように配置される請求項1〜14のいずれかに記載の複層ガラス。
- 前記第3の誘電体層が、酸化チタン層または酸化ニオブ層;酸化亜鉛または錫でドープされた酸化亜鉛から形成される誘電体層;前記窒化珪素層の順に配置され、前記酸化チタン層または酸化ニオブ層が、前記第2の銀層と、直接接するように配置されている請求項15に記載の複層ガラス。
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