Formstabile Flachoptik und Verfahren zur Herstellung
Die Erfindung betrifft eine formstabile Flachoptik mit hoher Präzision und ein Verfahren zu deren Herstellung.
Die Flachoptik weist auf einer Seite einer Träger-Substratplatte ein steuerbares optisches Flachelement oder eine optische Maske auf. In der Regel ist die Träger- Substratplatte aus Glas oder aus transparentem Kunststoff ausgeführt.
Die optischen Masken sind in der Regel rechteckig und durch eine zylindrische oder sphärische Strukturierung gekennzeichnet. Zylindrische Masken sind insbesondere Lentikulare, beispielsweise mit einer Vielzahl aneinander liegender paralleler Lentikel in Form von Zylinderlinsen. Eine zylindrische optische Maske kann ebenso eine zylindrische Fresnel-Linse oder eine Prismenmaske oder dergleichen sein. Sphärische optische Masken sind beispielgebend sphärische Fresnel-Linsen.
Ein steuerbares optisches Flachelement ist durch eine Vielzahl aktiver oder passiver optischer Subelemente gekennzeichnet, welche im Allgemeinen matrix- oder linienförmig angeordnet sind. In einfachen Ausführungen ist ein optisches Flachelement ein Shutter mit seinen matrixförmig angeordneten steuerbaren Öffnungen oder ein transmissives Display mit seiner Anordnung von Pixeln. Die Gruppe umfasst ebenso weitere Anordnungen optischer Subelemente wie etwa LEDs, OLEDs, Mirror-Devices oder Phasenmodulatoren.
Die Flachoptik hat in der Regel die Größe eines Bildschirms beziehungsweise eines Displays. Die optische Maske auf der Träger-Substratplatte ist dünnschichtig, mit einer Dicke in einer Größenordnung von wenigen Zehntel Millimetern. Vorzugsweise liegt die Dicke der Maske im Bereich unter 300 Mikrometern. Strukturierte Oberflächen für optische Anwendungen erfordern neben einer hohen Formgenauigkeit auch Rauheitswerte im Bereich weniger Nanometer.
Für eine Anwendung insbesondere in komplexen optischen Systemen, wie zum Beispiel in autostereoskopischen Displays, werden hohe Anforderungen an die
optischen Masken gestellt. Bei autostereoskopischen Displays ist es erforderlich, die rechten und linken Ansichten der Bildinformationen durch ein optisches Abbildungssystem räumlich zu trennen. Um eine Bildinformation stereoskopisch betrachten zu können, müssen die für das linke/rechte Auge der Betrachter bestimmten linken/rechten Bildinhalte dem linken/rechten Auge möglichst ohne Übersprechen auf das andere Auge zugeführt werden.
Die entsprechenden Mittel dafür werden auch als Bildtrenneinrichtung bezeichnet und beispielsweise durch eine Beleuchtungs-Matrix und eine Fokussierungs-Matrix realisiert. Diese und weitere wesentliche Elemente von autostereoskopischen Displays sind hierbei durch Lentikulare realisiert beziehungsweise mit Lentikularen kombiniert, so dass Lentikulare sehr wichtige Bauelemente darstellen.
Die Lentikulare sind in der Regel sehr fein strukturiert und weisen einen sehr kleinen Pitch auf. Oftmals ist zur Erreichung der optischen Ziele die Linsengröße, also der Pitch der Lentikel, an den Pitch einer Bildmatrix oder eines Shutters gekoppelt.
Sind beispielsweise einem Lentikel des Lentikulars nur wenige Pixelspalten der Bildmatrix zugeordnet, so folgen hieraus aufgrund der stetig abnehmenden Pixelgröße der Bildmatrix mehrere wichtige Aufgabenstellungen. Mit der zunehmenden Verkleinerung der Pixel als Bezugsgröße ergibt sich die Gefahr, dass die Grenzen der optischen Machbarkeit, jedoch zumindest die Grenzen einer kostengünstigen und prozeßsicheren Fertigung der Lentikulare erreicht werden.
Die Herstellung eines Lentikulars mit Lentikeln in der Größe weniger Bildschirmpixel ist sehr schwierig, so dass ein Lentikular mit Lentikeln gleich einem Bildschirmpixel mit den derzeitig verfügbaren Bildschirmauflösungen in der Regel bereits an die Grenze der Technik gestoßen sein wird.
Die genannten dünnschichtigen und fein strukturierten Masken müssen eine höchste Qualität aufweisen. Eine mangelhafte optische Maske verursacht beispielsweise einen permanent auf dem Display sichtbaren Pixelfehler. Jede Fehlstelle, wie sie beispielgebend durch einen Lufteinschluss verursacht wird, kann nur mehr in den seltensten Fällen in Nacharbeit behoben werden und führt somit zu Ausschuss.
Wie eingangs erwähnt sind die optischen Masken sehr dünnschichtig und weisen vorzugsweise eine Dicke unterhalb von 300 Mikrometern auf. Hieraus sind die entsprechend kleinen Toleranzen ableitbar und die hohen Anforderungen an die Form- und Maßgenauigkeit ersichtlich.
Form- und maßgenaue optische Masken hoher optischer Qualität werden beispielgebend gemäß dem Verfahren zur Replikation fein strukturierter optischer Masken nach DE10 2004 043 385 des Anmelder geschaffen. Dieses Verfahren und die zugehörige Einrichtung erlauben eine prozeßsichere Replikation der Masken mit hoher Formgenauigkeit und Qualitätsrate.
Für eine hochgradige Qualität der optischen Abbildung werden neben der Maßgenauigkeit an die optische Masken auch hohe Forderungen an die Formstabilität gestellt.
Insbesondere in der Ausbreitungsrichtung des Lichts ist für eine optische Maske eine hohe Maßgenauigkeit zu weiteren optischen Systemen sehr wichtig. Hierzu muss die optische Maske zu anderen optischen Systemen einen definierten Abstand aufweisen, welcher über die ganze Fläche hinreichend konstant ist.
Auch hieraus sind die entsprechend kleinen Toleranzen ableitbar. In einer beispielgebenden Anordnung kann eine transmissive oder selbst leuchtende Bildmatrix in der Brennebene eines Lentikulars angeordnet sein. Hieraus ist ersichtlich, dass die Genauigkeit des Abstandes zwischen der Bildmatrix und des Lentikulars die Qualität der resultierenden optischen Abbildung wesentlich und nachhaltig beeinflusst.
Die Flachoptik verliert durch eine Verwerfung oder Durchbiegung die gewünschte Formgenauigkeit. Infolgedessen ist der Abstand in Lichtrichtung zu weiteren optischen Systemen nicht mehr in der erforderlichen Weise konstant, so dass eine gewünschte hohe Qualität der optischen Abbildung nicht mehr erreicht werden kann.
In einer ersten nahe liegenden Lösung zur Erhöhung der Formstabilität wird die
Dicke der Träger-Substratplatte erhöht. Überraschend hat sich gezeigt, dass auch
bei einem Verhältnis der optischen Maske zur Träger-Substratplatte in der Größenordnung von 1 zu 20 die Gefahr einer Verwerfung der Träger- Substratplatte nicht wünschenswert kompensiert.
In einer nächsten fachgemäßen Ausführung ist die Qualität der Träger-Substratplatte erhöht. Hierzu wird in einer ersten Ausführung insbesondere großen Wert auf die spannungsarme Herstellung der Substratplatte gelegt. Weitere Möglichkeiten zur Vermeidung des Verwerfens bestehen darin, eine Träger-Substratplatte mit einer höheren Steifigkeit zu verwenden.
Ferner ist es denkbar, die Platte in eine Spannvorrichtung unter Zugspannung einzuspannen, wodurch sich jedoch der konstruktive Aufwand erhöht. In der Regel ist allerdings die Raumkapazität in komplexen optischen Systemen beschränkt.
Die genannten nahe liegenden oder fachgemäßen Lösungsmöglichkeiten können nicht hinreichend gewährleisten, dass eine Flachoptik formstabil ist und seine gewünschte Form ohne Gefahr eines Durchbiegens oder einer Verwerfung behält.
Unter der Voraussetzung einer maßgenauen optischen Maske kann eine hohe optische Qualität nur erreicht werden, wenn es gelingt, die Durchbiegung und die Verwerfung der gesamten Flachoptik nachhaltig zu vermeiden.
In Verbindung der voran genannten Aufgabenstellungen zur Maß- und Formgenauigkeit optischer Masken soll die genannte dünnschichtige Flachoptik eine hohe Formstabilität insbesondere in der axialen Ausbreitungsrichtung des Lichts aufweisen und somit eine hochgradige Qualität der optischen Abbildung gewährleisten.
Hierzu soll ein Verfahren zur Herstellung der formstabilen Flachoptik geschaffen werden.
Diese Aufgabe wird für das Verfahren durch die kennzeichnenden Merkmale des Hauptanspruchs; sowie für die Flachoptik durch die kennzeichnenden Merkmale des Anspruchs 11 gelöst. Zweckmäßige Ausgestaltungen der Erfindung ergeben sich aus den nachfolgenden Ansprüchen, insbesondere aus einer Kombination der
Verfahrensansprüche und der Ansprüche der Flachoptik, der optischen Maske und des steuerbaren optischen Flachelements.
Eine Flachoptik weist auf einer Seite einer Träger-Substratplatte eine optische Maske oder ein steuerbares optisches Flachelement auf.
Verallgemeinernd wird nachfolgend auf die optische Maske Bezug genommen. Die optische Maske, insbesondere für ein autostereoskopisches Display, ist in der Regel rechteckig und hat eine zylindrische oder sphärische Strukturierung.
Zylindrische Masken sind insbesondere Lentikulare, beispielsweise mit einer Vielzahl aneinander liegender paralleler Lentikel in Form von Zylinderlinsen. Eine zylindrische optische Maske kann ebenso eine zylindrische Fresnel-Linse oder eine Prismenmaske oder dergleichen sein. Sphärische optische Masken sind beispielgebend sphärische Fresnel-Linsen. Die optische Maske kann auch ein holografisches optisches Element HOE oder dergleichen sein.
Die Masken haben in der Regel die Größe eines Bildschirms beziehungsweise eines Displays. Die Maske auf der Träger-Substratplatte ist dünnschichtig mit einer Dicke in der Größenordnung von wenigen Zehnteln Millimetern. Vorzugsweise liegt die Dicke der optischen Maske im Bereich unter 300 Mikrometern.
Der Erfindung liegt der Gedanke zugrunde, die resultierenden Materialspannungen, die zu einer Verwerfung oder Durchbiegung einer Flachoptik führen, durch ein Ausgleichselement zu kompensieren.
Erfindungsgemäß weist die Flachoptik auf der Rückseite der Träger-Substratplatte ein flächenförmiges, mit der Träger-Substratplatte festsitzend verbundenes Ausgleichselement auf.
Das Ausgleichselement ist an der Seite auf der Träger-Substratplatte angebracht, welche der optischen Maske gegenüber liegt. Das Ausgleichselement ist
flächenförmig und überdeckt in Flächenrichtung die optische Maske, beziehungsweise den für die optische Abbildung genutzten Bereich der Maske.
In einer ersten bevorzugten Ausführungsform ist das Ausgleichselement eben, plan, und weist eine unstrukturierte Oberfläche auf. Im Weiteren kann das
Ausgleichselement konvex oder konkav ausgeführt sein und/oder im Sinne einer optischen Maske strukturiert sein.
Das erfindungsgemäße Verfahren dient zur Herstellung der formstabilen Flachoptik. Die Ausführungen des Verfahrens sind durch die Art, wie die die optische Maske und das Ausgleichselement auf die Träger-Substratplatte aufgebracht werden, gekennzeichnet.
Hierzu werden grundlegend die Schritte des Abformens, des Mouldings, und des Klebens, des Gluings, unterschieden. Moulding ist hier ein Oberbegriff für das Abformen und Aushärten eines Körpers aus einem Fluid. Gluing ist hier ein Oberbegriff für das stoffschlüssige Verbinden von Körpern und umfasst in einer einfachen Ausführung das Kleben, Schweißen oder dergleichen.
In einer ersten Ausführung des Verfahrens wird die optische Maske sowie das Ausgleichselement auf die Träger-Substratplatte sequentiell ausgeformt und ausgehärtet.
Hierzu umfasst das Verfahren in einem ersten Schritt das Mask-Moudling-and- Hardening, wobei die optische Maske aus einem auf einer Seite der Träger- Substratplatte aufgebrachten Fluid ausgehärtet wird. In einem sequentiell nachfolgenden Schritt erfolgt nach dem Aushärten der optischen Maske der Schritt des Compensation-Moulding-and-Hardenings, wobei auf die Rückseite der Träger- Substratplatte aus einem aufgebrachten Fluid das flächenförmige Ausgleichselement ausgehärtet wird. Die ausgehärteten Elemente bleiben mit der Träger-Substratplatte stoffschlüssig festsitzend verbunden.
In den genannten Verfahrensschritten des Mouldings werden die optische Maske und das Ausgleichselement aus einem transparenten Kunststoff oder einem Harz ausgeformt. Zum Moulding der optischen Maske und des Ausgleichselements kann
das Verfahren zur Replikation fein strukturierter optischer Masken nach DE 10 2004 043 385 des Anmelders vorteilhaft eingesetzt werden.
In einer weiteren Ausführung des Verfahrens erfolgt das Moulding-and-Hardening der optischen Maske und des Ausgleichselement parallel.
Hierbei wird auf einer Seite der Träger-Substratplatte aus einem aufgebrachten Fluid die optische Maske und auf der Rückseite der Träger-Substratplatte aus einem aufgebrachten Fluid das flächenförmige Ausgleichselement ausgehärtet. Das Aushärten der Maske und des Ausgleichselements erfolgt zeitgleich oder zeitlich überlappend.
In weiteren bevorzugten Varianten des Verfahrens wird die optische Maske und/oder das Ausgleichselement auf die Träger-Substratplatte aufgebracht und stoffschlüssig verbunden.
In einer Weiterführung des Erfindungsgedankens werden Materialspannungen in der optischen Maske, die zu einer Verwerfung oder Durchbiegung der gesamten Flachoptik führen, durch das Ausgleichselement kompensiert.
Die Materialspannungen in der optischen Maske sind thermisch bedingt oder entstehen durch eine Schrumpfung der Maske im Zuge des Herstellungsverfahrens. Im Allgemeinen ist eine Volumsminderung des Fluids während des Aushärteprozesses beobachtbar. Diese Schrumpfung der optischen Maske führt in Bezug auf die Träger-Substrat-Platte zu resultierenden Materialspannungen. Diese Zugspannung in der optischen Maske bewirkt, dass sich die Flachoptik verwirft oder durchbiegt. Erfindungsgemäß weist das Ausgleichselement in Flächenrichtung wirkende resultierende Materialspannungen auf, welche die analogen resultierenden Spannungen in der optischen Maske kompensieren.
In einer besonders bevorzugten Ausführungsform der Erfindung ist das Ausgleichselement so gestaltet, dass die kompensierende Wirkung des Ausgleichselements erst während der Betriebsphase in einem optischen Gesamtsystem ein Maximum erreicht. Entsprechend der Temperaturverteilung werden vom Ausgleichselement die Materialspannungen in der optischen Maske
während der Betriebsphase maximal kompensiert und die Flachoptik ist über die ganze Fläche innerhalb der gewünschten kleinen Toleranzen plan.
Die Gestaltung und kompensierende Wirkungsweise des erfindungsgemäßen Ausgleichselements ist in der nachfolgenden Beschreibung der Ausführungsbeispiele weiterführend erläutert.
Aufgabengemäß weist die Flachoptik eine hohe Formstabilität auf. Das erfindungsgemäße Ausgleichselement kompensiert einseitige auf die Träger- Substratplatte wirkende Materialspannungen und verhindert ein Verwerfen oder Durchbiegen der Flachoptik. Somit ist ein hinreichend konstanter Abstand zu weiteren optischen Systemen gewährleistet. Die Qualität der optischen Abbildung ist nachhaltig erhöht.
Weitere Ausführungen werden anhand der beigefügten Figuren näher erläutert.
Die Figuren zeigen
Fig. 1 eine Darstellung der erfindungsgemäßen Flachoptik in einer Seitenansicht;
Fig. 2 eine Schemadarstellung der Wirkungsweise der erfindungsgemäßen Flachoptik als Anwendung in einem autostereoskopischen Display; und
Fig. 3 eine Flachoptik mit einer Fresnel-Linse.
Fig. 1 zeigt in einer Seitenansicht einen Ausschnitt der erfindungsgemäßen Flachoptik. Es weist auf einer Seite einer Träger-Substratplatte TP eine fein strukturierte optische Maske LM auf.
Die optische Maske LM ist hier als Lentikular mit aneinander grenzenden sphärischen Lentikeln in Form von Zylinderlinsen ausgeführt. Auf der Rückseite, in der Darstellung links gezeichnet, weist die Flachoptik ein Ausgleichselement LX auf.
Das Ausgleichselement ist mit der Träger-Substratplatte TP festsitzend verbunden und wurde hier in einem Moulding-Schritt aus einem auf die Platte TP aufgebrachten Fluid abgeformt und ausgehärtet. In Flächenrichtung betrachtet überdeckt das Ausgleichselement die ganze optische Maske LM.
Fig. 2 zeigt eine zu Fig. 1 gleichartiges Flachoptik als Lentikular und ist in diesem Ausführungsbeispiel ein Bestandteil einer Bildtrenneinrichtung für ein autostereoskopisches Display.
Das Lentikular ist in Ausbreitungsrichtung L des Lichts einer Bildmatrix BM nachfolgend angeordnet. Die Bildmatrix BM ist als ein transmissives Display ausgeführt und liegt hier in der Brennebene des Lentikulars.
Die optische Maske LM ist gemäß dem Mask-Moulding-and-Hardening-Schritt aus einem auf einer Seite der Träger-Substratplatte TP aufgebrachten Fluid abgeformt und ausgehärtet.
Sequentiell nachfolgend ist das Ausgleichselement LM gemäß dem Compensation- Moulding-and-Hardening-Schritt auf der Rückseite der Träger-Substratplatte TP aus einem aufgebrachten Fluid ausgehärtet.
Hier ist jeweils eine Volumsminderung des Fluids und eine Schrumpfung der optischen Maske LM beziehungsweise des Ausgleichselements LX während des Aushärtungsprozesses beobachtbar. Im Ausgleichselement LX und in der optischen Maske LM entstehen in Bezug auf die Träger-Substratplatte TP jeweils resultierende Materialspannungen Fx und Fm.
Das Ausgleichselements LX weist eine Dicke dX auf, so dass die resultierenden Materialspannungen Fx im Ausgleichselement LX den resultierenden Materialspannungen Fm der optischen Maske LM in Flächenrichtungen nahezu gleicht. Das Ausgleichselement LX kompensiert somit in einem ersten Schritt die Wirkung dieser Spannungen in der optischen Maske LM .
Ferner kompensiert das Ausgleichselement thermisch bedingte Materialspannungen, die sich mit den oben genannten Spannungen überlagern.
Das optische System mit der Bildmatrix und der Flachoptik weist auf ihren Seiten eine unterschiedliche Temperatur auf.
Im autostereoskopischen Display bewirkt die Wärmeabgabe der Bildmatrix, eine unterschiedliche mittlere Temperatur der Seiten der Flachoptik. Die über die Fläche gemittelte Temperatur des Ausgleichselements LX ist höher als jene der optischen Maske LM.
Die angepasste Dicke dX des Ausgleichselements ergibt eine resultierende Materialspannung Fx, welche der resultierenden Materialspannung Fm der optischen Maske LM nahezu gleicht und somit kompensiert.
Der thermische Ausdehnungskoeffizient der Maske und des Ausgleichselements ist in diesem Ausführungsbeispiel gleich, ansonsten müsste dieser sowie weitere kennzeichnende Parameter in die Gestaltung beziehungsweise Dimensionierung des Ausgleichselements einfließen.
Das Ausgleichselement gewährleistet, dass die Flachoptik formstabil ist. Das Verwerfen der Flachoptik verbleibt innerhalb der gewünschten kleinen Toleranzen. Der definierte Abstand der optischen Maske zur Bildmatrix ist hinreichend konstant und gewährleistet eine hochgradige Qualität der optischen Abbildung.
Ist die Bildmatrix, oder ein ähnliches steuerbares optisches Flachelement ebenso auf einer Träger-Substratplatte aufgebracht, so kann auch hier auf der Rückseite der Platte dem Gedanken der Erfindung folgend ein Ausgleichselement angebracht sein. Die Materialspannungen im steuerbaren optischen Flachelement sind durch das erfindungsgemäße Ausgleichselement kompensiert.
Der Werkstoff und insbesondere die Dicke des Ausgleichselements sind auf die thermischen Eigenschaften der Träger-Substratplatte und der Bildmatrix, sowie auf die erwartete Temperaturverteilung im gesamten optischen System abgestimmt. Demgemäß weist die Flachoptik während der Betriebsphase die kleinsten Abweichungen von der gewünschten flächenplanen Form auf.
Hierzu ist in einer besonders bevorzugten Ausführung die außen liegende Oberfläche des Ausgleichselements leicht konvex oder konkav gekrümmt, so dass eine über die Fläche gesehen nichtlineare kompensierende Wirkung des
Ausgleichselements erreicht wird. Vorzugsweise ist ein gekrümmtes
Ausgleichselement eingesetzt, wenn die Bildmatrix komplexe nichtlineare thermische Eigenschaften aufweist und der implizite optische Keilterm des gekrümmten Ausgleichselements vernachlässigt werden kann.
Die optische Maske LM in Fig. 3 ist in diesem Ausführungsbeispiel eine runde sphärische Fresnel-Linse aus Glas. Die Linse ist im Zentrum der rechteckigen Träger-Substratplatte TP aufgeklebt und in der Figur auf der rechten Seite der Träger-Substratplatte TP abgebildet. Das Ausgleichselement LX besteht ebenso aus Glas, überdeckt die Fresnel-Linse und ist auf die Träger-Substratplatte TP geklebt. Zur Vereinfachung der Sichtbarkeit in der Darstellung ist das Ausgleichselement LX von der Träger-Substratplatte TP abgetrennt gezeichnet. Die entsprechenden Pfeile veranschaulichen die wirkliche Position des Elements. Ferner ist die insbesondere die Dicke der optischen Maske und des Ausgleichselements nicht maßstabsgetreu, sondern stark erhöht dargestellt.
Das Ausgleichselement LX ist in dieser einfachen Ausführung ebenfalls rund gewählt. Die Dicke dX des Ausgleichselements LX ist so dimensioniert, dass thermisch bedingte resultierende Materialspannungen Fx im Ausgleichselement LX die resultierenden Materialspannungen Fm in der Fresnel-Linse, kompensieren. Die Temperaturdifferenz entspricht hier den vorberechneten Erwartungswerten der Temperaturverteilung im gewählten optischen Gesamtsystem.