WO2006004064A1 - 走査型プローブ顕微鏡システム - Google Patents

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WO2006004064A1
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substrate
hollow probe
hollow
microscope system
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PCT/JP2005/012249
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Tatsuya Hattori
Pu Qian
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Honda Motor Co Ltd
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Honda Motor Co Ltd
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
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    • Y10S977/873Tip holder

Definitions

  • the present invention relates to a microscope system using a scanning probe microscope (SPM) such as a scanning tunneling microscope (STM) and an atomic force microscope (AFM),
  • SPM scanning probe microscope
  • STM scanning tunneling microscope
  • AFM atomic force microscope
  • the present invention relates to a scanning probe microscope system that can automatically process a plurality of samples.
  • a scanning tunneling microscope is a device that applies a bias voltage between a probe and a sample and uses a tunneling current generated there. Since the magnitude of the tunneling current is inversely proportional to the distance between the probe and the sample, for example, if the sample is scanned while adjusting the distance so that the tunneling current is constant, the displacement hysteresis force will show the fine shape of the sample surface. It can be recognized. Since it is possible to observe the atomic arrangement and structure of the surface on the atomic scale with a scanning tunneling microscope, it has been used for the evaluation of semiconductor devices and the observation of biomolecules. In order to observe with a scanning tunneling microscope, it is necessary to set up the microscope in a measurable state or to replace a deteriorated probe. Not suitable for processing. For this reason, it is only used for research, and has become industrially used! /!
  • Patent Document 1 discloses means for heating and vaporizing and decomposing an observation point of an observation sample with the tip of a probe fixed to one end of a cantilever, and a probe.
  • a scanning probe microscope having a gas conduit that communicates from the opening at the tip to the opening at the other end of the cantilever through the probe and the cantilever, and a gas chromatograph that receives the gas from the opening at the other end of the cantilever via a gas conduit
  • a gas chromatographic scanning probe microscope comprising a tomograph mass spectrometer is described.
  • Patent Document 2 US Pat. No. 5,166,520 (Patent Document 2) describes a probe for a probe microscope that has a tapered and hollow shape and is used for scanning the surface of a sample in various technical fields.
  • the hollow probe is provided at the free end of the cantilever, for example.
  • the cavity probe cavity is filled with a metal, semiconductor, electrolyte, etc. selected in consideration of the interaction with the sample surface, and the filler is connected to a conductive wire extending in the longitudinal direction in the cantilever. .
  • the apex of the hollow probe opens with a predetermined diameter, and the filling of the hollow probe leaks.
  • the hollow probe force can be leaked only by the packing previously placed in the cavity, and it cannot be used while continuously supplying a desired sample.
  • Patent Document 3 discloses a hollow probe for detecting a tunnel current, a filler filled in the probe and made of a material different from the probe material, A scanning tunneling microscope including a heater arranged near the probe is described. In order to draw a fine pattern with the scanning tunneling microscope described in Patent Document 3, the probe is moved to the position where the atoms are attached by the function of the scanning tunneling microscope, and the dissimilar material injected into the probe is heated to the heater. To melt or soften and adhere to the sample surface.
  • Patent Document 3 it is written that “dissimilar materials are selectively melted or softened” filled in the probe, but even if multiple materials are filled in the probe, only one of them is filled. It seems to be very difficult to selectively melt or soften. Therefore, in practice, it is necessary to refill the probe with a material in order to draw a pattern with a plurality of materials, which is very complicated.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-254886
  • Patent Document 2 US Patent No. 5,166,520
  • Patent Document 3 Japanese Patent Laid-Open No. 7-49352
  • an object of the present invention is to provide a scanning probe microscope system that can automatically process a plurality of samples.
  • the present inventors have used a hollow probe as a probe of a scanning probe microscope, and placed a sample on a substrate from a tube connected to the rear end thereof through the hollow probe. It was discovered that when a hollow probe was cleaned by supplying and Z or sucking, and supplying a cleaning solution or the like from the tube and cleaning the hollow probe, it was possible to process a plurality of samples in succession. .
  • the scanning probe microscope system of the present invention is connected to a substrate, a support table for the substrate, a hollow probe supported on the support table, and a rear end of the hollow probe.
  • a tube and a cleaning device for the hollow probe, the sample passes through the tube and the hollow probe, and the substrate and the cleaning device are moved by the support base, respectively. It is characterized by facing the probe.
  • a substrate for regeneration of the hollow probe is provided on the support base, and that the discharge is performed from the hollow probe to the substrate for regeneration. It is preferable that the sample is supplied to the substrate through the tube and the hollow probe, and the sample placed in the substrate is sucked and passes through the tube and the hollow probe. It is preferable that the substrate or the cleaning device face the hollow probe by rotating the support base. It is preferable that a multi-way cock is connected to the rear end of the tube, and a sample supplied to or sucked from the substrate is switched by the multi-way cock.
  • the tip of the hollow probe is preferably polished by at least one of electrolytic polishing, electrolytic grinding, chemical polishing and mechanical polishing.
  • the hollow probe is preferably an injection needle.
  • the scanning probe microscope system of the present invention it is possible to automatically pray a plurality of types of samples or draw a desired pattern using a plurality of types of materials.
  • the hollow probe can be washed while attached to the cantilever, so sample contamination does not occur even after continuous use. It is also preferable to use a scanning probe microscope system. In this case, since the hollow probe can be regenerated with the cantilever mounted, there is no possibility that the observation becomes impossible due to deterioration of the air probe.
  • a scanning probe microscope system that can automatically process a plurality of types of samples observes a plurality of components separated by chromatography, etc., and determines the three-dimensional structure and Z or absolute configuration of each component. It is suitable for.
  • the sample can be observed immediately after feeding, the reaction of multiple species can be traced.
  • the scanning probe microscope system of the present invention that can easily realize these analyzes is very useful in the chemical and pharmaceutical fields.
  • the hollow probe can be scanned according to the program while continuously supplying the substrate processing material, so that it can be used as a nano-kapen.
  • FIG. 1 is a perspective view showing an example of a scanning probe microscope system of the present invention.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of a hollow probe supported by a cantilever.
  • FIG. 3 Schematic illustration of how to use the scanning probe microscope system.
  • (A) shows how the sample is fed into one of the substrate depressions, and (b) approaches the bottom of the depression.
  • (C) shows how the hollow probe is cleaned,
  • (d) shows how the sample is supplied to another recess, and
  • (e) shows the state from the hollow probe to the substrate for regeneration. The state of discharging is shown.
  • FIG. 4 is a perspective view showing another example of the scanning probe microscope system of the present invention.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view showing a tube filled with a sample, an incompatible liquid, and a cleaning liquid.
  • FIG. 6 is a perspective view showing still another example of the scanning probe microscope system of the present invention.
  • FIG. 7 is a cross-sectional view showing another example of a hollow probe supported by a cantilever.
  • FIG. 8 is a perspective view showing still another example of the scanning probe microscope system of the present invention.
  • FIG. 9 is a perspective view showing an example of a scanning probe microscope system connected to an analyzer.
  • FIG. 10 is a tunneling micrograph of a graphite plate.
  • FIG. 11 is a tunneling micrograph of polyaniline wire.
  • FIG. 12 is another tunneling micrograph of polyaniline wire.
  • FIG. 1 shows an example of a scanning probe microscope system of the present invention.
  • the system shown in Figure 1 The support base 1 has a rotating shaft 11, the substrate device 2 placed on the support base 1, the hollow probe 3 vertically supported on the support base 1 on the support base 1, and the hollow probe 3 includes a supply tube 4 communicating with 3, a cleaning container 5 provided on the support 1, and a recycling substrate 6.
  • the support base 1 includes a rotating shaft 11 and a top plate 12 attached to the upper end of the rotating shaft 11 so as to rotate while maintaining horizontal.
  • the support 1 is rotated by a predetermined angle in response to a command from a driving device (not shown) of the scanning probe microscope system.
  • the substrate device 2 includes a plate-like substrate 21 having a plurality of depressions 211 and a stage 22 that supports the substrate 21. Samples S to be measured are placed in the recesses 211, respectively.
  • the substrate 21 is electrically conductive and is preferably discharged from the hollow probe 3 with the sample S inserted.
  • the substrate 21 is preferably made of carbon graphite, silicone, mica, molybdenum disulfide, quartz, glass, platinum, gold, silver, copper, nickel or the like.
  • the stage 22 incorporates a piezoelectric element (not shown) and finely moves the substrate 21 in a three-dimensional direction. The movement of the substrate 21 can be controlled on the order of nanometers.
  • the stage 22 is fixed to the top plate 12 by screws or the like.
  • the wiring 221 of the stage 22 is connected to the system driving device through a hole 121 provided in the top plate 12.
  • the hollow probe 3 is attached near the free end of the cantilever 33.
  • the fixed end of the cantilever 3 3 is attached to the lower end of the cantilever moving device 30.
  • the cantilever 33 is preferably moved by a motor along two axes, that is, a horizontal axis passing through the center of the top plate 12 and an axis perpendicular thereto.
  • the hollow probe 3 can be moved between the recesses 211, and the hollow probe 3 and the sample S can be brought close to each other. Further, when the cleaning container 5 and the recycling substrate 6 are moved under the cantilever 33 by the rotation of the support base 1, the hollow probe 3 can be brought close to them.
  • the hollow probe 3 is sandwiched between electrodes 35. Therefore, the electrode 35 is in contact with the side surface of the hollow probe 3 so that the hollow probe 3 can be energized.
  • the cantilever 33 has a probe hole 330. About half of the upper side of the probe hole 330 is a large diameter part, and a cylindrical fitting member 34 is fitted therein. It is preferable that the fitting member 34 is made of silicon isoelectric force.
  • the hollow probe 3 is fitted in the center of the fitting member 34 and passes through the probe hole 330.
  • the hollow probe 3 is preferably polished by at least one of electrolytic polishing, electrolytic grinding, chemical polishing and mechanical polishing.
  • the hollow probe 3 polished by at least one of them has a protrusion, and can generate a tunnel current with the substrate 21 separated by about 1 nm by applying a voltage.
  • the inner diameter of the hollow probe 3 is preferably about 0.01 to 0.1 mm, and the outer diameter is preferably about 0.1 to lmm.
  • a commercially available injection needle obtained by electropolishing is suitable as the hollow probe 3.
  • the rear end portion 32 of the hollow probe 3 is fitted to the front end portion 41 of the supply tube 4.
  • the rear end 42 of the supply tube 4 is connected to the multiway cock 43.
  • the multi-way cock 43 has one entrance on one end side and a plurality of entrances on the other end side. By rotating one end side (or the other end side) of the multi-way cock 43, one inlet / outlet is connected to multiple outlets V / shift in the multi-way cock 43. When connected, the state can be switched. As long as the sample S can be switched without being contaminated, the structure of the multi-way cock 43 is not particularly limited.
  • a three-way cock or a hold may be used, but in the case of a hold, it is preferable that the inside can be cleaned each time the sample S is switched.
  • the rear end 42 of the supply tube 4 is connected to one end side, and a plurality of tubes 45 are connected to the other end side.
  • the multi-way cock 43 is switched by a command from the system drive.
  • the cleaning container 5 has a waste liquid outlet 51, and a waste liquid tube 52 is attached to the waste liquid outlet 51.
  • a valve (not shown) provided at the waste liquid outlet 51 opens to discharge the waste liquid.
  • the reproduction substrate 6 is attached on a table 61 fixed to the top plate 12.
  • the recycling substrate 6 has a material strength with conductivity.
  • a ground wire 62 is attached to the reproduction substrate 6.
  • the material of the substrate for reproduction 6 may be the same as that of the substrate 21 or may be different.
  • each stream (S, S, ... enters a separate tube 45 and is
  • the substrate 21 is moved by the stage 22, and the distance from the hollow probe 3 is finely adjusted.
  • a bias voltage is applied from the electrode 35 to the hollow probe 3 by setting the distance d between the tip 31 of the hollow probe 3 and the bottom of the hollow 211 to several degrees (for example, 1), the distance between the hollow probe 3 and the substrate 21 is reduced.
  • Tunnel current flows through A bias current is applied while scanning the substrate 21 in the plane direction by the stage 22, the value of the generated tunnel current is measured, and the height of the substrate 21 is controlled so that the current value is always constant. From the displacement history of the substrate 21, an image of the surface of the sample S is obtained.
  • the hollow probe 3 is raised by the cantilever moving device 30, and the support base 1 is rotated so that the hollow probe 3 faces the cleaning container 5.
  • the cleaning solution W is supplied from the supply tube 4.
  • the cleaning solution W flowing out of the hollow probe 3 through the supply tube 4 enters the cleaning container 5 (FIG. 3 (c)).
  • the valve is closed and the cleaning solution W is stored in the cleaning container 5, and the hollow probe 3 is immersed in the cleaning solution W by the cantilever moving device 30. You may do it.
  • the outer surface of the hollow probe 3 can be cleaned by immersing the hollow probe 3 in the cleaning liquid W.
  • Both cantilevers 33 are moved so that the hollow probe 3 faces the unused depression 211 '.
  • the fraction S separated by the chromatograph has remained in front of the multi-way cock 43.
  • the scanning probe microscope system shown in FIG. 4 is substantially the same as the example shown in FIG. 1 except that a two-way cock 46 is connected to the rear end of the supply tube 4, and only the differences will be described below. To do.
  • the supply tube 4 has a first sample S, an incompatible liquid U, a cleaning liquid W, an incompatible liquid U, and a second sample in the tube 45 in order from the hollow probe 3 side. S, non
  • Incompatible liquid U is the first and second sample S, S
  • the hollow probe 3 is raised by the lever moving device 30 and the support base 1 is rotated so that the hollow probe 3 faces the cleaning container 5.
  • the two-way cock 46 is opened, the incompatible liquid U cleaning liquid W and the incompatible liquid U flow from the supply tube 4 in this order and enter the cleaning container 5.
  • the inner surface of the supply tube 4 and the hollow probe 3 is cleaned by the cleaning liquid W.
  • the position of the hollow probe 3 is adjusted by the cantilever moving device 30, and the hollow probe 3 is made to face the unused recess 211 ′. In this state, open the two-way cock 46 and supply the second sample S.
  • the sample S S will be indented without causing contamination.
  • the first reagent S is supplied to the recess 211 and observed with a microscope, and then the hollow probe 3 is washed.
  • First A second reagent S having reactivity with one reagent S is supplied to the same recess 211 as the reagent S;
  • FIG. 6 shows still another example of the scanning probe microscope system of the present invention.
  • the scanning probe microscope system shown in FIG. 6 includes a slide table 7 having a rectangular top plate 71, a cleaning container 5, a substrate device 2 and a regeneration substrate 6 fixed on the slide table 7.
  • the cleaning container 5, the substrate device 2, and the recycling substrate 6 are arranged in this order in the longitudinal direction of the top plate 71!
  • the slide base 7 includes a top plate 71 and a pair of legs 72 and 72 that support the top plate 71.
  • the legs 72 and 72 are plate-shaped, and the lower ends of the legs 72 and 72 are fitted into rails (not shown).
  • the slide table 7 moves horizontally in the longitudinal direction in response to a command from the drive device.
  • the substrate device 2 is fixed to the top plate 71.
  • the stage 22 of the substrate apparatus 2 finely moves the substrate 21 on the horizontal plane (xy plane). By the fine movement of the stage 22, the relative position of the hollow probe 3 with respect to the substrate 21 changes.
  • the movement of the stage 22 is programmed so that the trajectory of the hollow probe 3 with respect to the substrate 21 has a desired pattern!
  • the hollow probe 3 is vertically attached near the free end of the cantilever 33, and the cantilever 33 is attached to the lower end of the vertical fine movement device 36.
  • the vertical fine movement device 36 has a built-in piezoelectric element, and finely moves the cantilever 33 in the vertical direction (z-axis direction) in response to a command from the system drive device force.
  • the hollow probe 3 attached to the cantilever 33 is also finely moved by the same amount.
  • the vertical fine movement device 36 is attached to the cantilever moving device 30.
  • the cantilever moving device 30 is driven by a motor.
  • the vertical fine movement device 36 and the force cantilever 33 attached thereto are moved relatively large in the vertical direction by the cantilever moving device 30.
  • the hollow probe 3 attached to the cantilever 33 is finely moved in the nanometer order by the vertical fine movement device 36 in the vertical direction, and moved in the millimeter or centimeter order in the vertical direction by the cantilever moving device 30.
  • the hollow probe 3 has a large diameter portion 3a and a small diameter portion 3b extending downward from the large diameter portion 3a. And power will be.
  • the small diameter portion 3b is fixed to the probe hole 330 of the cantilever 33 with an adhesive A.
  • a plate electrode 350 is placed on the cantilever 33, and a hole provided in the plate electrode 350 is engaged with the probe hole 330.
  • the lower end of the large diameter portion 3a is in contact with the upper surface of the plate electrode 350, and the hollow probe 3 can be energized.
  • the distal end portion 41 of the supply tube 4 is fitted into the large diameter portion 3 a of the hollow probe 3, and the rear end 42 is connected to the multi-way cock 43.
  • a plurality of tubes 45 are connected to the multi-way side of the multi-way cock 43, and each tube 45 is filled with a material M, M ...
  • the cantilever moving device 30 is operated to bring the hollow probe 3 closer to the substrate 21.
  • the multi-way cock 43 is opened, and the substrate 21 and the hollow probe 3 are discharged while the first material M flows out of the hollow probe 3. Are respectively scanned. Substrate by scanning
  • Figure 21 shows the pattern with the first material, M force.
  • the slide table 7 is powered so that the cleaning container 5 comes directly under the hollow probe 3, and the hollow probe 3 is cleaned using the cleaning container 5 and the cleaning liquid. After that, when the slide table 7 is driven in the reverse direction so that the substrate 21 comes directly under the hollow probe 3, the material M and the material M are mixed.
  • FIG. 8 shows still another example of the scanning probe microscope system of the present invention.
  • the example shown in FIG. 7 is almost the same as the example shown in FIG. 1, except that a plurality of small substrates 8, a cleaning container 5, and a recycling substrate 6 are concentrically fixed on the support base 1. Only the differences will be explained below.
  • Each small substrate 8 has a recess 81.
  • Each small substrate 8, cleaning container 5 and recycling substrate 6 are respectively fitted in recesses 121 provided on the top plate 12, and the support base 1 rotates. But it ’s not slippery.
  • the support base 1 rotates by motor drive, and moves up and down in the order of millimeter order or centimeter by the expansion and contraction of the rotating shaft 11. Since the cantilever 33 is connected to the lower end of the three-dimensional fine movement device 37, the cantilever 33 and the hollow probe 3 attached thereto move in the three-dimensional direction on the nanometer order.
  • the hollow probe 3 After the hollow probe 3 is made to face one of the small substrates 8 by rotation and expansion / contraction of the rotating shaft 11, the third order so that the distance between the hollow probe 3 and the bottom of the recess 81 is several nanometers. These are brought close by the original fine movement device 37.
  • the sample S is supplied from the hollow probe 3 to the hollow 81, and the hollow probe 3 is energized from the plate electrode 350, and the hollow probe 3 is scanned by the three-dimensional fine movement device 37 while measuring the generated tunnel current.
  • the rotating shaft 11 In order to switch the sample S, or to clean or regenerate the hollow probe 3, the rotating shaft 11 is rotated so that the hollow probe 3 faces the cleaning container 5 or the regeneration substrate 6.
  • the hollow probe 3 moves in the nanometer order during the microscopic observation, and the support 1 is at least millimeters when the sample S is switched or the hollow probe 3 is washed or regenerated. It moves in order.
  • FIG. 9 shows an example of a scanning probe microscope system connected to the analyzer 90.
  • the scanning probe microscope system shown in FIG. 9 is almost the same as the example shown in FIG. 1 except that the analyzer 90 is connected to the plurality of entrances and exits of the multi-way cock 43, and only the differences will be described below. .
  • the tube 45 connected to the analyzer 90 is used to suck the sample S placed in the recess 211 by the analyzer 90. Sample S is supplied from the other tubes.
  • Specific examples of the analyzer 90 include a mass spectrometer, a chromatograph device, an infrared absorption spectrum device, and a visible ultraviolet absorption spectrum device.
  • the sample S is supplied from the hollow probe 3 to one of the recesses 211, and the substrate 21 is finely moved by the stage 22, so that the sample S placed in one of the recesses 211 Scan the surface.
  • the hollow probe 3 is stopped at the position to be examined in the sample S, the multiway cock 43 is switched, and the analyzer 90 is operated.
  • the analyzer 90 is operated.
  • the inside of the analyzer 90 is depressurized while the hollow probe 3 is connected to the analyzer 90, a part p of the sample S passes through the tube 4 and the analyzer
  • the hollow probe 3 and the tube 4 are cleaned by sucking the cleaning liquid W contained in the cleaning container 5.
  • the present invention is not limited to this.
  • the microscope used in the system of the present invention may be any type of microscope that scans while relatively driving the probe and the sample. That is, in addition to the scanning tunneling microscope system, a scanning probe microscope system using a scanning atomic force microscope, a scanning near-field microscope, a scanning electrochemical microscope, and the like is also within the scope of the present invention.
  • FIG. 10 shows a tunneling micrograph of the graphite plate.
  • the observed atomic image had a different force from that observed using a general probe for scanning tunneling microscopes (a non-hollow probe with platinum, tungsten, etc.).
  • Polyaline (emeraldine base, manufactured by Sigma-Aldrich) tetrahydrofuran solution (concentration 0.01 mgZmL) is supplied from hollow probe 3 to hollow 211 while sweeping hollow probe 3, and then the polyaline solution is supplied. Was stopped and the tunnel microscope was observed as it was.
  • Figure 11 shows a tunneling micrograph of a polyarylene solution. Polyarrin adsorbs on the graphite plate and Z or Were deposited, and conductive polymer lines were formed. The width of the conductive polymer wire was about 50 ° and the height was about 10 °. After observation with a microscope, the hollow probe 3 was immersed in the tetrahydrofuran contained in the cleaning container 5 and pulled up.
  • the hollow probe 3 was swept in the recess 211 in the same manner as in Example 1 except that the polya-phosphorus solution having a concentration of 0.001 mgZmL was supplied to the hollow probe 3 used and washed in Example 1. After completion of the sweep, observation with a tunnel microscope was performed as it was.
  • Figure 12 shows a tunneling micrograph of a polyarin solution. Even when a polyaline solution having a low concentration of 0.001 mg / mL was used, polyaline was adsorbed and Z or deposited on the black shipboard, and conductive polymer lines were formed. The width of the conductive polymer line was about 20 nm and the height was about 5 nm.
  • the support 1 is rotated so that the hollow probe 3 faces the reproduction substrate 6, and the distance between the tip of the hollow probe 3 and the reproduction substrate 6 is about 1 In contrast, a voltage of 3 to 10 V was applied to the hollow probe 3 for 10 seconds.
  • a clear image of the molecular array could be seen as before degradation.

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Abstract

 複数の試料を自動的に処理し得る走査型プローブ顕微鏡システムを提供する。  中空探針3と、中空探針3の後端32に接続されたチューブ4と、中空探針3の下に設けられた支持台1と、支持台1に固定された基板2及び中空探針3の洗浄器5とを具備する走査型プローブ顕微鏡システムであって、試料Sがチューブ4及び中空探針3を通過し、基板2及び洗浄器5は支持台1によって動かされて、それぞれ中空探針3と対向する走査型プローブ顕微鏡システム。

Description

明 細 書
走査型プローブ顕微鏡システム 技術分野
[0001] 本発明は走査型トンネル顕微鏡 (STM: Scanning Tunneling Microscope)、原子間 力顕微鏡(AFM : Atomic Force Microscope)等の走査型プローブ顕微鏡(SPM : Scan ning Probe Microscope)を使用した顕微鏡システムに関し、特に複数の試料を自動 的に処理できる走査型プローブ顕微鏡システムに関する。
背景技術
[0002] 走査型トンネル顕微鏡 (STM)は、探針と試料との間にバイアス電圧を印加し、そこ に発生するトンネル電流を利用する装置である。トンネル電流の大きさは探針と試料 との距離に反比例するので、例えばトンネル電流が一定となるようにこれらの距離を 調節しながら試料を走査すると、その変位履歴力 試料表面の微細な形状を認識す ることができる。走査型トンネル顕微鏡により原子スケールで表面の原子配列や構造 を観察できるので、半導体デバイスの評価や、生体分子の観察等に使用されてきて いる。しカゝし走査型トンネル顕微鏡を用いて観察をするには、顕微鏡を測定可能な状 態にセッティングしたり、劣化した探針を取り替えたりする非常に煩雑な作業を要する ため、多数のサンプルを処理するのに適していない。このため研究用に使用されるに 留まっており、産業的に繁用されるには至って!/、な!/、。
[0003] 特開 2003-254886号 (特許文献 1)には、カンチレバーの一端側に固定されたプロ ーブの先端で観察試料の観察点を加熱して気化及び分解する手段、並びにプロ一 ブ先端の開口からプローブ内及びカンチレバー内を通ってカンチレバーの他端側の 開口まで連通するガス導路を備えた走査プローブ顕微鏡と、ガス導管を介して上記 カンチレバー他端側開口からのガスを受け入れるガスクロマトグラフ質量分析器とか ら成るガスクロマトグラフ走査プローブ顕微鏡が記載されて 、る。このガスクロマトダラ フ走査プローブ顕微鏡を使用すると、観察試料を気化させ、得られたガスを採取して 試料の組成を分析することができる。しカゝし一度分析を行うとプローブが汚染された 状態になるので、プローブを取り外して洗浄しなければならない。このため複数の試 料の分析を自動的に行うことはできな 、。
[0004] 米国特許 5,166,520号 (特許文献 2)には、先細で中空の形状を有し、色々な技術 分野で試料表面のスキャンに用いられらるプローブ顕微鏡用の探針が記載されてい る。中空探針は例えばカンチレバーの自由端部に設けられる。中空探針のキヤビティ には試料表面との相互作用を考慮して選択された金属、半導体、電解液等が充填さ れ、充填物はカンチレバー内に長手方向に延在する導電線に接続される。中空探 針の頂点は予め決められた直径で開口しており、中空探針の充填物はリークする。し かし、中空探針力もリークさせ得るのは予めキヤビティ内に入れた充填物だけであり、 所望の試料を連続的に供給しながら使用することはできない。
[0005] 走査型トンネル顕微鏡を用いると、探針を原子スケールで位置決めし、微細なパタ ーンを描くこともできる。特開平 7-49352号 (特許文献 3)には、トンネル電流を検出す る中空構造の探針と、前記探針の中に充填され、探針材料とは異なる材質の充填材 料と、前記探針近傍に配置された加熱ヒータとを備えてなる走査型トンネル顕微鏡が 記載されている。特許文献 3に記載の走査型トンネル顕微鏡によって微細パターンを 描くには、走査型トンネル顕微鏡の機能によって原子を付着させた 、位置までを探 針を移動させ、探針に注入した異種材料を加熱ヒータによって融解又は軟ィヒして試 料表面に付着させる。しかしこの顕微鏡によって連続的に試料に付着できるのは、予 め充填した材料分だけであり、複数の材料で描くパターンには不向きである。特許文 献 3には、探針に充填した「異種材料を選択的に融解あるいは軟化させる」と書かれ ているが、複数の材料を探針に充填しておいたとしても、そのうちの一種のみを選択 的に融解又は軟ィ匕させるのは、非常に難しいと思われる。このため実際には、複数の 材料でパターンを描くために探針に材料を充填し直したりしなければならず、非常に 煩雑である。
[0006] 特許文献 1:特開 2003-254886号公報
特許文献 2:米国特許 5, 166,520号公報
特許文献 3:特開平 7-49352号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題 [0007] したがって、本発明の目的は、複数の試料を自動的に処理し得る走査型プローブ 顕微鏡システムを提供することである。
課題を解決するための手段
[0008] 上記目的に鑑み鋭意研究の結果、本発明者らは、走査型プローブ顕微鏡の探針と して中空探針を使用し、その後端に接続したチューブから中空探針を通じて基板に 試料を供給及び Z又は吸引するようにすると共に、チューブから洗浄液等を供給及 び Z又は吸引することによって中空探針を洗浄すると、複数の試料を連続して処理 できることを発見し、本発明に想到した。
[0009] すなわち、本発明の走査型プローブ顕微鏡システムは、基板と、前記基板の支持 台と、前記支持台の上に支持された中空探針と、前記中空探針の後端に接続された チューブと、前記中空探針の洗浄器とを具備し、前記試料が前記チューブ及び前記 中空探針を通過し、前記基板及び前記洗浄器は前記支持台によって動かされて、そ れぞれ前記中空探針と対向することを特徴とする。
[0010] 前記中空探針の再生用の基板が前記支持台上に設けられており、前記中空探針 から前記再生用基板に放電されるのが好ましい。前記チューブ及び前記中空探針を 通過して前記試料が前記基板に供給されるカゝ、前記基板に入れられた試料が吸引 されて前記チューブ及び前記中空探針を通過するのが好ましい。前記支持台が回 転することにより、前記基板又は前記洗浄器が前記中空探針と対向するのが好まし い。前記チューブの後端に多方コックが接続されており、前記基板に供給又は前記 基板から吸引される試料が前記多方コックによって切り替えられるのが好ましい。
[0011] 前記中空探針の先端は電解研磨、電解研削、化学研磨及び機械研磨のうち少なく とも一つの方法によって研磨されているのが好ましい。前記中空探針は注射針であ るのが好ましい。
発明の効果
[0012] 本発明の走査型プローブ顕微鏡システムにより、複数種のサンプルを自動的に分 祈したり、複数種の材料を使って所望のパターンを描いたりすることができる。中空探 針はカンチレバーに装着した状態で洗浄可能であるので、連続使用してもサンプル のコンタミネーシヨンが起こらな 、。また好まし 、走査型プローブ顕微鏡システムにお いては、中空探針の再生もカンチレバーに装着した状態で行うことができるので、中 空探針の劣化によって観察不能になったりするおそれも無い。
[0013] 複数種のサンプルを自動的に処理し得る走査型プローブ顕微鏡システムは、クロ マトグラフィ一等によって分離した複数の成分をそれぞれ観察し、各成分の立体構造 及び Z又は絶対配置を決定するのに好適である。またサンプルを供給した後で即座 に観察できるので、複数の化学種の反応を追跡できる。これらの分析を簡単に実現 し得る本発明の走査型プローブ顕微鏡システムは、化学や製薬の分野で非常に有 用である。さらに、基板加工用の材料を連続的に供給しながら、中空探針をプロダラ ム通り走査することにより、ナノカ卩ェペンとして使用することもできる。
図面の簡単な説明
[0014] [図 1]本発明の走査型プローブ顕微鏡システムの一例を示す斜視図である。
[図 2]カンチレバーに支持された中空探針の一例を示す断面図である。
[図 3]走査型プローブ顕微鏡システムの使用方法を概略的に示す図であり、 (a)は基 板の窪みの一つに試料を供給する様子を示し、 (b)は窪みの底に接近させた中空探 針を示し、 (c)は中空探針を洗浄する様子を示し、 (d)は別の窪みに試料を供給する 様子を示し、 (e)は中空探針から再生用基板に放電する様子を示す。
[図 4]本発明の走査型プローブ顕微鏡システムの別の例を示す斜視図である。
[図 5]試料、非相溶性液及び洗浄液を充填したチューブを示す断面図である。
[図 6]本発明の走査型プローブ顕微鏡システムのさらに別の例を示す斜視図である。
[図 7]カンチレバーに支持された中空探針の別の例を示す断面図である。
[図 8]本発明の走査型プローブ顕微鏡システムのさらに別の例を示す斜視図である。
[図 9]分析装置に接続した走査型プローブ顕微鏡システムの例を示す斜視図である
[図 10]グラフアイト板のトンネル顕微鏡写真である。
[図 11]ポリア二リン線のトンネル顕微鏡写真である。
[図 12]ポリア二リン線の別のトンネル顕微鏡写真である。
発明を実施するための最良の形態
[0015] 図 1は、本発明の走査型プローブ顕微鏡システムの一例を示す。図 1に示すシステ ムは回転軸 11を有する支持台 1と、支持台 1に載置された基板装置 2と、支持台 1の 上に、支持台 1に垂直に支持された中空探針 3と、中空探針 3に連通する供給チュー ブ 4と、支持台 1上に設けられた洗浄容器 5及び再生用基板 6とを具備する。
[0016] 支持台 1は回転軸 11と、回転軸 11の上端に水平を維持したまま回転するように取り 付けられた天板 12とからなる。支持台 1は走査型プローブ顕微鏡システムの駆動装 置(図示せず)からの命令によって所定の角度だけ回転する。
[0017] 基板装置 2は、複数の窪み 211を有する板状の基板 21と、基板 21を支持するステー ジ 22とからなる。窪み 211には、それぞれ測定すべき試料 Sが入れられる。基板 21は 導電性を有し、試料 Sを入れた状態で中空探針 3から放電されるのが好ましい。基板 21はカーボングラファイト、シリコーン、雲母、二硫化モリブデン、石英、ガラス、白金、 金、銀、銅、ニッケル等力 なるが好ましい。ステージ 22は圧電素子(図示せず)を内 蔵しており、基板 21を三次元方向に微動させる。基板 21の動きはナノメートルオーダ 一で制御可能である。ステージ 22はネジ止め等によって天板 12に固定されている。ス テージ 22の配線 221は天板 12に設けられた穴部 121を通って、システム駆動装置に接 続されている。
[0018] 中空探針 3は、カンチレバー 33の自由端付近に取り付けられている。カンチレバー 3 3の固定端はカンチレバー移動装置 30の下端に取り付けられている。カンチレバー 33 は、モータによって二軸方向すなわち天板 12の中心を通る水平軸と、それに垂直な 軸に沿って動くのが好ましい。カンチレバー移動装置 30により、各窪み 211の間で中 空探針 3を移動させたり、中空探針 3と試料 Sとを接近させたりすることができる。また 洗浄容器 5や再生用基板 6が支持台 1の回転によってカンチレバー 33の下に移動し た際に、中空探針 3をこれらに接近させることができる。
[0019] 図 1及び 2に示すように、中空探針 3は電極 35に挟まれている。このため中空探針 3 の側面に電極 35が接触しており、中空探針 3は通電可能になっている。図 2に示すよ うに、カンチレバー 33は探針穴 330を有している。探針穴 330の上側の約半分程度は 径大部となっており、円柱状の勘合部材 34が嵌められている。勘合部材 34はシリコー ン等力 なるのが好ましい。中空探針 3は勘合部材 34の中心に嵌められており、探針 穴 330を貫通している。 [0020] 中空探針 3は電解研磨、電解研削、化学研磨及び機械研磨のうち少なくとも一つ の方法によって研磨されているのが好ましい。これらのうち少なくとも一つにより研磨 された中空探針 3は突起を有しており、電圧の印加により lnm程度離れた基板 21との 間にトンネル電流を発生させ得る。試料 Sの濃度、粘度等にも拠るが、中空探針 3の 内径は 0.01〜0.1 mm程度であるのが好ましぐ外径は 0.1〜lmm程度であるのが好ま しい。市販の注射針を電解研磨したものは、中空探針 3として好適である。
[0021] 中空探針 3の後端部 32は、供給チューブ 4の先端部 41に嵌められている。供給チュ ーブ 4の後端 42は多方コック 43に接続されている。多方コック 43は一端側に一つの出 入口を有し、他端側に複数の出入口を有している。多方コック 43の一端側(又は他端 側)を回転させることにより、多方コック 43の内部で一つの出入口が複数の出入口の V、ずれかに連結して 、る状態か、 V、ずれにも連結して 、な 、状態かの切り替えをす ることができる。試料 Sを汚染することなく切り替え可能である限り、多方コック 43の構 造は特に限定されない。例えば三方コックでも良いし、マ-ホールドでも良いが、マ- ホールドの場合は、試料 Sの切り替え毎に内部を洗浄できるようになつているのが好ま しい。供給チューブ 4の後端 42は一端側に接続されており、他端側には複数のチュ ーブ 45が接続されている。多方コック 43はシステム駆動装置からの命令によって、切 り替えられる。
[0022] 洗浄容器 5は廃液出口 51を有しており、廃液出口 51には廃液チューブ 52が取り付 けられている。中空探針 3から洗浄容器 5に入れられた洗浄液の液面が所定の高さ になると、廃液出口 51に設けられた弁(図示せず)が開いて廃液を排出する。
[0023] 再生用基板 6は、天板 12に固定された台 61の上に取り付けられている。再生用基 板 6は導電性を有する材質力 なる。再生用基板 6には、アース線 62が取り付けられ ている。再生用基板 6の材質は基板 21と同じでも良いし、異なっても良い。
[0024] 図 1に示す走査型プローブ顕微鏡システムを用いると、液体クロマトグラフィー、ガ スクロマトグラフィー、イオンクロマトグラフィー及びゲルパーミエーシヨンクロマトグラフ ィ一等によって分離された成分を効率よく観察することができる。液体クロマトグラフィ 一を例にとって、このシステムを用いた顕微鏡観察を説明する。図 3(a)に示すように、 カンチレバー移動装置 30を駆動させてカンチレバー 33を動かし、中空探針 3を基板 2 1の窪み 211の一つに対向させる。液体クロマトグラフィーによって分離された流分の うち、所定の大きさ以上のピークを示すもの Sは、供給チューブ 4及び中空探針 3を
1
通って窪み 211に入る。所定の大きさ以上のピークを示す流分が複数ある場合、各流 分 (S 、 S、 · · は別のチューブ 45に入り、システム駆動装置の命令によって多方コッ
2 3
ク 43が切り替わるまで、多方コック 43の手前、つまり液体クロマトグラフィー側に留まる
[0025] 図 3(b)に示すように、ステージ 22によって基板 21を動かし、中空探針 3との距離を 微調整する。中空探針 3の先端 31と窪み 211の底との距離 dを数應 (例えば 1應)にし て電極 35から中空探針 3にバイアス電圧を印加すると、中空探針 3と基板 21との間に トンネル電流が流れる。ステージ 22によって平面方向に基板 21を走査しながらバイァ ス電流を印加し、発生したトンネル電流の値を測定し、常に一定の電流値になるよう に基板 21の高さを制御する。基板 21の変位履歴から、試料 Sの表面の画像が得られ る。
[0026] 顕微鏡観察の後、カンチレバー移動装置 30によって中空探針 3を上げ、中空探針 3が洗浄容器 5に対向するように支持台 1を回転させる。カンチレバー移動装置 30に よって中空探針 3の位置を調節した後、供給チューブ 4から洗浄液 Wを流す。供給チ ユーブ 4を通って中空探針 3から流出した洗浄液 Wは、洗浄容器 5に入る(図 3(c) )。 弁を開けた状態で中空探針 3及び供給チューブ 4の内面を十分に洗浄した後、弁を 閉じて洗浄液 Wを洗浄容器 5に溜め、カンチレバー移動装置 30によって洗浄液 Wに 中空探針 3を浸漬しても良い。洗浄液 Wに中空探針 3を浸漬することにより、中空探 針 3の外面を洗浄できる。中空探針 3及び供給チューブ 4を十分に洗浄すると、別の 試料の供給及び顕微鏡観察を行える状態になる。
[0027] 次の試料 Sを顕微鏡観察するには、図 3(d)に示すように、支持台 1を回転させると
2
共にカンチレバー 33を動かし、未使用の窪み 211'に中空探針 3を対向させる。クロマ トグラフィ一によつて分離された流分 Sは多方コック 43の手前に留まっているので、多
2
方コック 43を切り替えて、供給チューブ 4に Sの入ったチューブ 45を連結させる。多方
2
コック 43の切り替えにより、チューブ 45内に留まっていた流分 Sは供給チューブ 4を通
2
つて未使用の窪み 211'に入る。流分 Sの顕微鏡観察も上述のように行うことができる。 [0028] 顕微鏡観察を繰り返し行ううちに中空探針 3は磨耗するので、研磨する必要が生じ る。中空探針 3を研磨するには、支持台 1を回転させて中空探針 3を再生用基板 6に 対向させ、中空探針 3から再生用基板 6に放電する。放電により中空探針 3の先端が 粗くなり、突起が生じる。突起が生じることによって、そこからトンネル電流を発生可能 になる。中空探針 3の先端 31と再生用基板 6との距離を 0.1 5 にして、— 10 10 Vの電圧を印加するのが好ましい。 10 100回の顕微鏡観察毎に研磨を行うように、 予めプログラムしておくのが好ましい。
[0029] 図 4に示す走査型プローブ顕微鏡システムは、供給チューブ 4の後端に二方コック 46が接続されている以外、図 1に示す例とほぼ同じであるので、相違点のみ以下に 説明する。供給チューブ 4には、図 5に示すように、チューブ 45内には中空探針 3側 から順に第一の試料 S、非相溶性液 U、洗浄液 W、非相溶性液 U、第二の試料 S、非
1 2 相溶性液 u、洗浄液 Wが入れられている。非相溶性液 Uは第一及び第二の試料 S , S
1 と殆んど混ざり合わない。洗浄液 Wは各試料 S , Sに対して大きな溶解性を有してお
2 1 2
り、洗浄液 Wが通過すると、供給チューブ 4の内面に付着していた各試料 S , Sは除
1 2 去される。
[0030] 第一の試料 Sを窪み 211に入れて顕微鏡観察した後、二方コック 46を閉じ、カンチ
1
レバー移動装置 30により中空探針 3を上昇させ、支持台 1を回転させて中空探針 3を 洗浄容器 5に対向させる。二方コック 46を開くと、供給チューブ 4から非相溶性液 U 洗浄液 W及び非相溶性液 Uがこの順に流れ、洗浄容器 5に入る。洗浄液 Wにより、供 給チューブ 4及び中空探針 3の内面が洗浄される。
[0031] 第二の試料 Sが流出し始めた直後に二方コック 46を閉じ、支持台 1を回転させた上
2
でカンチレバー移動装置 30によって中空探針 3の位置を調節し、未使用の窪み 211 ' に中空探針 3を対向させる。この状態で二方コック 46を開き、第二の試料 Sを供給す
2 る。このように、供給チューブ 4に試料 S , S、非相溶性液 U及び洗浄液 Wを上述の順
1 2
番で入れておくと、コンタミネーシヨンを起こすことなく試料 S Sをそれぞれ窪み 211
1 2
211'に供給し、顕微鏡観察を行うことができる。
[0032] 図 1及び 4に示す走査型プローブ顕微鏡システムの別の使用例を説明する。まず 窪み 211に第一の試薬 Sを供給して顕微鏡観察した後、中空探針 3を洗浄する。第 一の試薬 Sに対して反応性を有する第二の試薬 Sを試薬 Sと同じ窪み 211に供給し、
1 2 1
中空探針 3により顕微鏡観察する。中空探針 3を基板 21に接近させて試薬 Sを供給
2 すると、供給した後即座に試薬 Sと試薬 Sとの反応を観察することができる。
1 2
[0033] 図 6は、本発明の走査型プローブ顕微鏡システムのさらに別の例を示す。図 6に示 す走査型プローブ顕微鏡システムは、長方形の天板 71を有するスライド台 7と、スライ ド台 7上に固定された洗浄容器 5、基板装置 2及び再生用基板 6とを具備する。洗浄 容器 5、基板装置 2及び再生用基板 6は天板 71の長手方向にこの順で並べられて!/ヽ る。
[0034] スライド台 7は天板 71と、天板 71を支持する一対の脚 72, 72からなる。脚 72, 72は板 状であり、脚 72, 72の下端はそれぞれレール(図示せず)に嵌められている。スライド 台 7は、駆動装置からの命令によって長手方向に水平移動する。
[0035] 基板装置 2は天板 71に固定されている。基板装置 2のステージ 22は、基板 21を水平 面 (xy平面)で微動させる。ステージ 22の微動により、基板 21に対する中空探針 3の 相対的な位置が変化する。基板 21に対する中空探針 3の軌跡が所望のパターンに なるように、ステージ 22の動きはプログラムされて!/、る。
[0036] 中空探針 3はカンチレバー 33の自由端付近に垂直に取り付けられており、カンチレ バー 33は垂直微動装置 36の下端に取り付けられている。垂直微動装置 36は圧電素 子を内蔵しており、システム駆動装置力 の命令によってカンチレバー 33を垂直方向 (z軸方向)に微動させる。カンチレバー 33が微動すると、カンチレバー 33に取り付け られた中空探針 3も同じだけ微動する。
[0037] 垂直微動装置 36はカンチレバー移動装置 30に取り付けられている。カンチレバー 移動装置 30は、モータによって駆動する。垂直微動装置 36とそれに取り付けられた力 ンチレバー 33はカンチレバー移動装置 30によって垂直方向に比較的大きく動く。つ まりカンチレバー 33に取り付けられた中空探針 3は、垂直微動装置 36によって垂直方 向にナノメートルオーダーで微動し、カンチレバー移動装置 30によって垂直方向にミ リメートルオーダー又はセンチメートルオーダーで動くようになつているのが好ましい
[0038] 図 7に示すように、中空探針 3は径大部 3aと、径大部 3aから下に延在する径小部 3b と力もなる。径小部 3bはカンチレバー 33の探針穴 330に接着剤 Aによって固定されて いる。カンチレバー 33の上に板状電極 350が載置されており、板状電極 350に設けら れた穴が探針穴 330に係合して 、る。径大部 3aの下端は板状電極 350の上面に接触 しており、中空探針 3は通電可能である。
[0039] 供給チューブ 4の先端部 41は中空探針 3の径大部 3aに嵌められており、後端 42は 多方コック 43に接続されている。多方コック 43の多方側には複数のチューブ 45が接 続されており、各チューブ 45にはパターンを描くための材料 M、 M · · ·がそれぞれ充
1 2
填されている。多方コック 43の切り替えにより、複数のチューブ 45のうちの一つが供給 チューブ 4に連結する。
[0040] 中空探針 3が基板 21の上にある状態で、カンチレバー移動装置 30を作動させ、中 空探針 3を基板 21に接近させる。ステージ 22及び垂直微動装置 36によって基板 21を 中空探針 3に対して位置決めした後で多方コック 43を開き、中空探針 3から第一の材 料 Mを流出させながら基板 21及び中空探針 3をそれぞれ走査する。走査により基板
1
21に第一の材料 M力もなるパターンが描かれる。
1
[0041] 中空探針 3に供給する材料 Mを材料 Mに切り替える前に、中空探針 3の洗浄を行
1 2
う。具体的にはスライド台 7を動力して洗浄容器 5が中空探針 3の直下に来るようにし 、洗浄容器 5及び洗浄液を使用して中空探針 3を洗浄する。その後、スライド台 7を逆 に動力して基板 21が中空探針 3の直下に来るようにすると、材料 Mと材料 Mとが混ざ
1 2 り合うことなくパターンを描くことができる。
[0042] 中空探針 3が磨耗した時は、再生用基板 6が中空探針 3の直下に来るようにスライド 台 7を動かし、中空探針 3から再生用基板 6に放電して中空探針 3を再生する。この システムを使用することにより、複数の材料 M、 M · · 'からなるナノメートルスケールの
1 2
パターンを描くことができる。
[0043] 図 8は、本発明の走査型プローブ顕微鏡システムのさらに別の例を示す。図 7に示 す例は、複数の小基板 8と、洗浄容器 5と、再生用基板 6とが支持台 1上に同心円状 に固定されている以外、図 1に示す例とほぼ同じであるので、相違点のみ以下に説 明する。各小基板 8はそれぞれ窪み 81を有する。各小基板 8、洗浄容器 5及び再生 用基板 6は天板 12に設けられた窪み 121にそれぞれ嵌められており、支持台 1が回転 しても滑らな 、ようになって 、る。
[0044] 支持台 1はモータ駆動で回転するほか、回転軸 11の伸縮によってミリメートルォー ダー又はセンチメートルオーダーで上下に動く。カンチレバー 33は三次元微動装置 3 7の下端に接続されているので、カンチレバー 33とそれに取り付けられた中空探針 3と は三次元方向にナノメートルオーダーで動く。
[0045] 回転軸 11の回転及び伸縮によって小基板 8の一つに中空探針 3を対向させた後、 中空探針 3と窪み 81の底との距離が数ナノメートルになるように、三次元微動装置 37 によってこれらを接近させる。中空探針 3から窪み 81に試料 Sを供給し、板状電極 350 から中空探針 3に通電し、発生するトンネル電流を測定しながら三次元微動装置 37 によって中空探針 3を走査する。試料 Sの切り替え、又は中空探針 3の洗浄若しくは 再生を行うには、回転軸 11を回転させて洗浄容器 5又は再生用基板 6に中空探針 3 を対向させる。図 8に示す走査型プローブ顕微鏡システムにおいては、顕微鏡観察 中は中空探針 3がナノメートルオーダーで動き、試料 Sの切り替え又は中空探針 3の 洗浄若しくは再生の際には支持台 1がミリメートル以上のオーダーで動く。
[0046] 図 9は、分析装置 90に接続した走査型プローブ顕微鏡システムの一例を示す。図 9 に示す走査型プローブ顕微鏡システムは、多方コック 43の複数の出入口側に分析装 置 90が接続されている以外、図 1に示す例とほぼ同じであるので、相違点のみ以下 に説明する。分析装置 90に接続されたチューブ 45は、窪み 211に入れられた試料 Sを 分析装置 90によって吸引するのに用いられる。その他のチューブからは試料 Sが供 給されるようになっている。分析装置 90の具体例として質量分析装置、クロマトグラフ 装置、赤外線吸収スペクトル装置及び可視 紫外線吸収スペクトル装置が挙げられ る。
[0047] 多方コック 43を調節して中空探針 3から窪み 211の一つに試料 Sを供給し、ステージ 22によって基板 21を微動させることにより、窪み 211の一つに入れられた試料 Sの表面 をスキャンする。試料 Sのうち精査すべき位置で中空探針 3を停止させ、多方コック 43 を切り替え、分析装置 90を稼動させる。中空探針 3が分析装置 90に接続された状態 で分析装置 90の内部が減圧にされると、試料 Sの一部 pはチューブ 4を通って分析装
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置 90に引き込まれる。分析装置 90に引き込まれるのは、試料 Sのうち中空探針 3にご く近い部分 Pである。このため、このシステムを使用すると、試料 Sの表面を観察した
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上で所望の部分の組成等を簡単に調べることができる。試料 Sの一部 pを分析した後
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は、洗浄容器 5に入れられた洗浄液 Wを吸引することによって中空探針 3及びチュー ブ 4を洗浄する。
[0048] 以上、走査型トンネル顕微鏡システムを例にとって本発明のシステムを説明したが 、本発明はこれに限定されない。本発明のシステムに使用する顕微鏡は、探針と試 料とを相対的に動力しながら走査するタイプの顕微鏡であれば良い。すなわち走査 型トンネル顕微鏡システムの他、走査型原子間力顕微鏡、走査型近接場顕微鏡、走 查型電気化学顕微鏡等を用いた走査型プローブ顕微鏡システムも本発明の範疇で ある。
実施例
[0049] 本発明を以下の実施例によってさらに詳細に説明するが、本発明はそれらに限定 されるものではない。
[0050] 実施例 1
ステンレス管(外径 0.3 mm、内径 0.1 mm、長さ 20 mm)の先端 lmmを塩酸(濃度 1M ) 200 mLに浸漬させ、 15 Vの交流電圧を印加することによって電界研磨し、中空探針 を得た。この中空探針を走査型トンネル顕微鏡(日本電子株式会社製、 JSPM-4200) に装着し、図 1に示す走査型プローブ顕微鏡システムを組立てた。基板 21としては、 内径 3mm、深さ 0.5 mmの窪みを有する高配向性黒鉛板を使用した。洗浄容器 5には テトラヒドロフランを入れた。
[0051] 中空探針 3を基板 21の窪み 211を対向させ、電極 35力 電圧を印加しながらスキヤ ンしたところ、グラフアイトの原子像が観察された。黒鉛板のトンネル顕微鏡写真を図 10に示す。観察された原子像は、走査型トンネル顕微鏡用の一般的な探針(白金、 タングステン等力もなる中空でない探針)を使用して観察した像と相違な力つた。
[0052] ポリア-リン (ェメラルジン塩基、シグマアルドリッチ社製)のテトラヒドロフラン溶液 ( 濃度 0.01 mgZmL)を中空探針 3から窪み 211に供給しながら中空探針 3を掃引した 後、ポリア-リン溶液の供給を停止し、そのままトンネル顕微鏡観察をした。ポリア-リ ン溶液のトンネル顕微鏡写真を図 11に示す。ポリア-リンが黒鉛板に吸着及び Z又 は堆積し、導電性高分子の線が形成していた。導電性高分子線の幅は約 50 應であ り、高さは約 10 應であった。顕微鏡観察後、洗浄容器 5に入れられたテトラヒドロフラ ンに中空探針 3を浸漬し、引き上げた。
[0053] 実施例 2
実施例 1で使用及び洗浄した中空探針 3に、濃度 0.001 mgZmLのポリア-リン溶 液を供給した以外実施例 1と同様にして、窪み 211内で中空探針 3を掃引した。掃引 終了後、そのままトンネル顕微鏡観察を行った。ポリア-リン溶液のトンネル顕微鏡写 真を図 12に示す。 0.001 mg/mLという低濃度のポリア-リン溶液を使用した場合も、 ポリア-リンが黒船板に吸着及び Z又は堆積し、導電性高分子の線が形成して 、た 。導電性高分子線の幅は約 20 nmであり、高さは約 5nmであった。
[0054] 中空探針 3が劣化したので、支持台 1を回転させて中空探針 3を再生用基板 6に対 向させ、中空探針 3の先端と再生用基板 6との距離を約 1應にして中空探針 3に 3〜 10 Vの電圧を 10秒間印加した。中空探針 3を導電性高分子線に再び対向させてトン ネル顕微鏡観察を行ったところ、劣化前と同様に鮮明な分子列の像を見ることができ

Claims

請求の範囲
[1] 基板と、前記基板の支持台と、前記支持台の上に支持された中空探針と、前記中 空探針の上端に接続されたチューブと、前記中空探針の洗浄器とを具備する走査型 プローブ顕微鏡システムであって、試料は前記チューブ及び前記中空探針を通過し
、前記基板及び前記洗浄器は前記支持台によって動かされて、前記中空探針の下 端の下に位置することを特徴とする走査型プローブ顕微鏡システム。
[2] 請求項 1に記載の走査型プローブ顕微鏡システムにお 、て、前記中空探針の再生 用の基板を有し、前記再生用基板は前記支持台上に設けられており、前記中空探 針から前記再生用基板に放電されることを特徴とする走査型プローブ顕微鏡システ ム。
[3] 請求項 1又は 2に記載の走査型プローブ顕微鏡システムにおいて、前記試料は前 記チューブ及び前記中空探針を通過して前記基板に供給されることを特徴とする走 查型プローブ顕微鏡システム。
[4] 請求項 1〜3のいずれかに記載の走査型プローブ顕微鏡システムにおいて、前記 基板に入れられた試料が吸引されて前記チューブ及び前記中空探針を通過するこ とを特徴とする走査型プローブ顕微鏡システム。
[5] 請求項 1〜4のいずれかに記載の走査型プローブ顕微鏡システムにおいて、前記 チューブの後端に多方コックが接続されており、前記基板に供給又は前記基板から 吸引される試料が前記多方コックによって切り替えられることを特徴とする走査型プロ ーブ顕微鏡システム。
[6] 請求項 1〜5のいずれかに記載の走査型プローブ顕微鏡システムにおいて、前記 中空探針の先端が電解研磨、電解研削、化学研磨及び機械研磨のうちの少なくとも 一つの方法によって研磨されることを特徴とする走査型プローブ顕微鏡システム。
[7] 請求項 1〜6のいずれかに記載の走査型プローブ顕微鏡システムにおいて、前記 中空探針が注射針であることを特徴とする走査型プローブ顕微鏡システム。
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