WO2004080978A1

WO2004080978A1 - アミド化合物およびこれを含有する殺菌組成物

Info

Publication number: WO2004080978A1
Application number: PCT/JP2004/003037
Authority: WO
Inventors: Takashi Komori; Hiroshi Sakaguchi
Original assignee: Sumitomo Chemical Company, Limited
Priority date: 2003-03-11
Filing date: 2004-03-09
Publication date: 2004-09-23

Description

明細書

アミド化合物およびこれを含有する殺菌組成物技術分野

本発明はァミン部分に 6員の含窒素芳香族環を有するアミド化合物およびこれを含有する殺菌剤組成物に関する。背景技術

従来より、植物病害防除効力を有する種々の化合物が開発され、多数の化合物が殺菌剤組成物の有効成分として実用に供されているが、その防除効力は十分ではない場合がある。発明の開示

本発明は、アミド化合物 (1)

[式中、 Ai— AS A³— A⁴は、 N— CH=CH— N、 N— CH = N— CH、または CH— N=CH_Nを表し、

X¹ は OR⁴基を表し、 Y¹ は水素原子を表すか、あるいは X¹ と Y' とが一緒になつて = N〇R⁵基を表し、

R¹ は水素原子、ハロゲン原子または C 1—C 3アルキル基を表し、 R² は水素原子、ハロゲン原子または C 1—C 3アルキル基を表すか、あるいは R¹ と R² とが一緒になつて、トリメチレン基、テトラメチレン基または CH=CH— CH=CH 基を表し、

R³ は C 1 _C 3アルキル基または C 3 _C 4アルキニル基を表し、

R は水素原子、 C 1一 C 3アルキル基または C 3— C 4アルキニル基を表し、 R⁵ は C 1—C 3アルキル基または C 3— C 4アルキニル基を表す。〕

で示されるアミド化合物（以下、本発明化合物と記す。）を提供する。

更に本発明は、アミド化合物（ 1 _ 1)

[式中、 X Y¹, R R²及び; ³は前記と同じ意味を表す。] 、アミド化合物 (1 - 2)

[式中、 X Y¹, R R²及び R³は前記と同じ意味を表す。] 、アミド化合物（1 _ 3)

[式中、 X Y' R R²及び R³は前記と同じ意味を表す。] 、アミド化合物（1一 4)

[式中、 A¹— A²=A³— A⁴ R¹ , R² R³及び R⁴は前記と同じ意味を表す。] 、およびアミド化合物（1— 5 )

[式中、 A' - A²=A³- A⁴, R^l R² R³及び R⁵は前記と同じ意味を表す。] を提供する。

また、本発明化合物を有効成分として含有する殺菌剤組成物及び本発明化合物の有効量を植物または土壌に処理することを特徴とする植物病害防除方法を提供する。本発明において、

R¹ で表されるハロゲン原子としては、例えば塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子があげられ、 C 1—C 3アルキル基としては、メチル基、ェチル基、プロピル基、ィソプロピル基があげられ、

R² で表されるハロゲン原子としては、例えば塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子があげられ、 C 1一 C 3アルキル基としてはメチル基、ェチル基、プロピル基、イソプロピル基があげられ、

R³で表される C 1—C 3アルキル基としては、メチル基、ェチル基、プロピル基、イソプロピル基があげられ、 C 3—C 4アルキニル基としては 2—プロピニル基、 1ーメチルー 2—プロピニル基、 2—ブチェル基、 3—プチニル基があげられ、 R で表される C 1—C 3アルキル基としては、メチル基、ェチル基、プロピル基、イソプロピル基があげられ、 C 3— C 4アルキニル基としては、 2—プロピエル基、 1ーメチルー 2—プロピニル基、 2—プチ二ル基、 3—プチニル基があげられ、 R⁵で表される C 1—C 3アルキル基としては、メチル基、ェチル基、プロピル基、イソプロピル基があげられ、 C 3— C 4アルキニル基としては、 2—プロピニル基、 1ーメチルー 2—プロピニル基、 2—プチニル基、 3—プチニル基があげられる。本発明の態様としては、例えば以下の化合物があげられる。

式（1) において、 A¹— A²=A³— A⁴が N_CH=CH— Nであるアミド化合物；式 (1) において、 A¹— A²=A³— A⁴が N_CH = N— CHであるアミド化合物；式（1) において、 A¹— A²=A³— A⁴が CH— N=CH— Nであるアミド化合物；式（1) において、 X¹が OR⁴基であり、 Y¹が水素原子であるアミド化合物；式（1) において、 X¹が〇R⁴基であり、 Y¹が水素原子であり、 R⁴が水素原子であるアミド化合物；

式（1) において、 X¹が OR⁴基であり、 Y¹ が水素原子であり、 R⁴が C I— C 3アルキル基であるアミド化合物；

式（1) において、 X¹ が OR⁴基であり、 Y¹が水素原子であり、 R⁴が C3— C 4アルキニル基であるアミド化合物；

式（1) において、 X¹が OR⁴基であり、 Y¹ が水素原子であり、 R⁴が C3— C 4アルキニル基であるアミド化合物；

式（1) において、 X¹ と Y¹が一緒になつて = NOR⁵基であるアミド化合物；式（1) において、 X¹ と Y¹ がー緒になって =NOR⁵基であり、 R⁵が C I— C

3アルキル基であるアミド化合物；

式 (1) において、 R¹が水素原子であるアミド化合物；

式 (1) において、 R¹がハロゲン原子であるアミド化合物；

式 (1) において、 R¹が塩素原子であるアミド化合物；

式 (1) において、 R¹が C 1一 C 3アルキル基であるアミド化合物

式 (1) において、 R¹がメチル基であるアミド化合物；

式 (1) において、 R²が水素原子であるアミド化合物；

式 (1) において、 R²がハロゲン原子であるアミド化合物；

式 (1) において、 R²が塩素原子であるアミド化合物；式（1) において、 R が C 1—C 3アルキル基であるアミド化合物；

式（1) において、 R²がメチル基であるアミド化合物；

式（1) において、 R¹ と R² とが一緒になつてトリメチレン基であるアミド化合物；

式（1) において、 R¹ と R² とが一緒になつてテトラメチレン基であるアミド化合物；

式（1) において、 R¹ と R² とが一緒になつて CH=CH—CH=CH基であるアミド化合物；

式（1) において、 R³が C 1—C 3アルキル基であるアミド化合物；

式（1) において、 R³がメチル基であるアミド化合物；

式（1) において、 R³がェチル基であるアミド化合物；

式（1) において、 R³が C 3 _C 4アルキニル基であるアミド化合物；式（1) において、 R³が 2—プロピニル基であるアミド化合物；

式（1) において、 X¹が OR⁴基であり、 Y¹が水素原子であり、 R⁴が水素原子であるアミド化合物；

式 (1) において、 X¹が OR⁴基であり Y¹ が水素原子であり、 R⁴が C 1一 C 3アルキル基であるアミド化合物；

式（1) において、 X【が OR⁴基であり Y¹が水素原子であり、 R がメチル基であるアミド化合物；

式 (1) において、 X¹が OR⁴基であり Υ'が水素原子であり、 R⁴が C 3— C 4アルキニル基であるアミド化合物；

式（1) において、 X¹が OR⁴基であり Υ¹ が水素原子であり. R⁴が、 2—プ Π ピニル基であるアミド化合物；

式（1) において、 X¹ と Y¹ とが一緒になつて :NOR⁵基であり、 R⁵が C 1― C 3アルキル基であるアミド化合物；

式（1) において、 X¹ と Y¹ とが一緒になつて :NOR⁵基であり、 R⁵がメチル基であるアミド化合物；

式（1) において、 X¹ と Y¹ とが一緒になつて :N〇R⁵基であり、 R⁵がェチル基であるアミド化合物；

式（1) において、 X¹ と Y¹ とが一緒になつて :NOR⁵基であり、 R⁵が C 3一

C 4アルキニル基であるアミド化合物；

式（1) において、 X¹ と Y¹ とが一緒になつて :NOR⁵基であり、 R⁵が 2—プロビニル基であるアミド化合物；

式（1) において、 R¹ がハロゲン原子であり、 R² が水素原子であるアミド化合物；

式（1) において、 R¹が塩素原子であり、 R²が水素原子であるアミド化合物；式（1) において、 R¹ が臭素原子であり、 R²が水素原子であるアミド化合物；式（1) において、 R¹ が C 1—C 3アルキル基であり、 R² が水素原子であるァミド化合物；

式（1) において、 R¹がメチル基であり、 R²が水素原子であるアミド化合物；式（1) において、 R¹がェチル基であり、 R²が水素原子であるアミド化合物；式（1) において、 R³が C 1一 C 3アルキル基であり、 X¹が OR⁴基であり、 Y ¹が水素原子であり、 R⁴が C3—C4アルキニル基であるアミド化合物；式（1) において、 R³がメチル基であり、 X¹が OR⁴基であり、 Y¹が永素原子であり、 R⁴が C 3— C 4アルキニル基であるアミド化合物；

式（1) において、 R¹ が C 1—C 3アルキル基であり、 R³ が C 1—C3アルキル基であり、 X¹が OR⁴基であり、 Y¹が水素原子であり、 R⁴が C 3— C 4アルキニル基であるアミド化合物；

式 (1) において、 R¹ が C 1 _ C 3アルキル基であり、 R³ がメチル基であり、 X¹が OR⁴基であり、 Y¹が水素原子であり、 R⁴が C 3— C 4アルキニル基であるアミド化合物；

式（1) において、 R¹ がハロゲン原子であり、 R³ が C 1—C 3アルキル基であり、 X¹ が OR ⁴基であり、 Y¹が水素原子であり、 R'¹が C 3— C 4アルキニル基であるアミド化合物；

式（1) において、 R¹がハロゲン原子であり、 R³がメチル基であり、 X¹が OR ⁴基であり、 Y¹が水素原子であり、 R⁴が C 3— C 4アルキニル基であるアミド化合物；

式 (1) において.. R¹ が C 1 _ C 3アルキル基であり、 R² が水素原子であり-. R³がメチル基であり、 X¹ が OR⁴基であり、 Y¹ が水素原子であり、 R⁴が C3 一 C 4アルキニル基であるアミド化合物；

式 (1) において、 R¹がメチル基であり、 R²が水素原子であり、 R がメチル基であり、 X¹が OR⁴基であり、 Y¹ が水素原子であり、 R⁴が C 3—C4アルキニル基であるアミド化合物；

式（1) において、 R¹がェチル基であり、 R²が水素原子であり、 R³がメチル基であり、 X¹が OR⁴基であり、 Y¹が水素原子であり、 R⁴が C3— C4アルキニル基であるアミド化合物；

式（1) において、 R¹がハロゲン原子であり、 R²が水素原子であり、 R³がメチル基であり、 X¹が OR⁴基であり、 Y¹が水素原子であり、 R⁴が C3— C4アルキニル基であるアミド化合物；

式（1) において、 R¹ が塩素原子であり、 R²が水素原子であり、 R³がメチル基であり、 X¹が OR⁴基であり、 Y¹ が水素原子であり、 R⁴が C 3— C4アルキニル基であるアミド化合物；式（1) において、 R¹が臭素原子であり、 R²が水素原子であり、 R³がメチル基であり、 X¹ が OR⁴基であり、 Y¹が水素原子であり、 R⁴が C3— C4アルキニル基であるアミド化合物；

式（1 1) において、 R¹が水素原子であるアミド化合物；

式（1 1) において、 R¹がハロゲン原子であるアミド化合物；

式（1 1) において、 R¹が塩素原子であるアミド化合物；

式（1一 1) において、 R¹が C 1 -C 3アルキル基であるアミド化合物；式（1一 1) において、 R¹がメチル基であるアミド化合物；

式（1一 1) において、 R²が水素原子であるアミド化合物；

式（1一 1) において、 R²がハロゲン原子であるアミド化合物；

式（1一 1) において、 R²が塩素原子であるアミド化合物；

式（1一 1) において、 R²が C 1 _C 3アルキル基であるアミド化合物；式 (1 - 1) にねい—し、 R²がメチル基であるアミド化合物；

式（1一 1) において、 R¹ と R² とが一緒になつてトリメチレン基であるアミド化合物；

式（1— 1) において、 R¹ と R² とが一緒になつてテトラメチレン基であるアミド化合物；

式（1— 1) において、 R¹ と R² とがー緒になつて CH=CH— CH=C H基でアミド化合物

式（1— 1) において、 R³が C 1一 C 3アルキル基であるアミド化合物；式（1一 1) において、 R³がメチル基であるアミド化合物；

式（1一 1) において、 R³がェチル基であるアミド化合物；

式（1一 1) において、 R³が C 3 _C 4アルキニル基であるアミド化合物；式（1— 1) において、 R³が 2—プロピニル基であるアミド化合物；

式（1一 1) において、 X¹

原子であるアミド化合物；

式（1— 1) において、 X¹が OR⁴基であり、 Y¹が水素原子であり、 R⁴力一 C 3アルキル基であるアミド化合物；式（1— 1) において、 X¹ が〇R⁴基であり、 Y¹ が水素原子であり、 R⁴がメチル基であるアミド化合物；

式（1— 1) において、 X¹ が OR⁴基であり、 Y¹ が水素原子であり、 R⁴が C3 一 C 4アルキニル基であるアミド化合物；

式（1— 1) において、 X¹が OR⁴基であり、 Y¹が水素原子であり、 R⁴が 2— プロピニル基であるアミド化合物；

式（1— 1) において、 X¹ と Y¹ とが一緒になつて =N〇R⁵基であり、 R⁵が C 1—C 3アルキル基であるアミド化合物；

式（1— 1) において、 X¹ と Y¹ とが一緒になつて =N〇R⁵基であり、 R⁵がメチル基であるアミド化合物；

式（1— 1) において、 X¹ と Y¹ とが一緒になつて =N〇R⁵基であり、 R⁵がェチル基であるアミド化合物；

式 (1-1) において、 X¹ と Y〖とが一緒になつて = N〇R⁵基であり、 R⁵が C 3— C 4アルキニル基であるアミド化合物；

式（1— 1) において、 X¹ と Y¹ とが一緒になつて =NOR⁵基であり、 R⁵が 2 —プロピニル基であるアミド化合物；

式 (1- 1) において、 R¹ がハロゲン原子であり、 R² が水素原子であるアミド化合物；

式（1— 1) において、 R¹ が塩素原子であり、 R² が水素原子であるアミド化合物；

式（1一 1) において、 R¹ が臭素原子であり、 R² が水素原子であるアミド化合物；

式 (1- 1) において、 R¹ が C 1— C 3アルキル基であり、 R² が水素原子であるアミド化合物；

式 (1- 1) において、 R¹ がメチル基であり、 R² が水素原子であるアミド化合物；

式 (1- 1) において、 R¹ がェチル基であり、 R² が水素原子であるアミド化合物；

式（1— 1)において、 R³が C 1一 C 3アルキル基であり、 X¹が OR⁴基であり、 Y¹が水素原子であり、 R⁴が C 3—C 4アルキニル基であるアミド化合物；式（1— 1) において、 R³がメチル基であり、 X¹ が OR⁴基であり、 Y¹が水素原子であり、 R⁴が C 3— C 4アルキニル基であるアミド化合物；

式（1— 1) において、 R¹ が C 1—C 3アルキル基であり、 R³ が C I— C3ァルキル基であり、 X¹ が OR⁴基であり、 Y¹が水素原子であり、 R⁴が C3-C4 アルキニル基であるアミド化合物；

式（1— 1) において、 R¹ が C 1一 C 3アルキル基であり、 R³ がメチル基であり、 X¹が OR⁴基であり、 Y¹が水素原子であり、 R⁴が C3— C4アルキニル基であるアミド化合物；

式（1— 1) において、 R¹ がハロゲン原子であり、： R³ が C 1一 C3アルキル基であり、 X¹が OR⁴基であり、 Y¹ が水素原子であり、 R⁴が C3— C4アルキニル基であるアミド化合物；

式（1— 1) において、 R¹ がハロゲン原子であり、 R³ がメチル基であり、 X¹ が OR⁴基であり、 Y¹が水素原子であり、 R⁴が C 3— C 4アルキニル基であるァミド化合物；

式（1— 1) において、 R¹ が C 1一 C 3アルキル基であり、 R² が水素原子であり、 R³がメチル基であり、 X¹ が OR⁴基であり、 Y¹が水素原子であり、 R⁴が C 3 -C4アルキニル基であるアミド化合物；

式（1 _ 1) において、 R' がメチル基であり、 R²が水素原子であり、 R³がメチル基であり、 X¹が OR⁴基であり、 Y¹が水素原子であり、 R⁴が C 3— C4アルキニル基であるアミド化合物；

式（1— 1) において、 R¹がェチル基であり、 R²が水素原子であり、 R³がメチル基であり、 X¹ が OR⁴基であり、 Y¹が水素原子であり、 R が C3— C4アルキニル基であるアミド化合物；

式 (1 - 1) において、 R¹ がハロゲン原子であり、 R² が水素原子であり、 R³ がメチル基であり、 X¹が OR⁴基であり、 Y¹が水素原子であり、 R⁴が C3— C 4アルキニル基であるアミド化合物；

式（1— 1) において、 R¹ が塩素原子であり、 R²が水素原子であり R³がメチル基であり、 X¹が OR⁴基であり、 Y¹が水素原子であり、 R⁴が C3— C4アルキニル基であるアミド化合物；

式 (1- 1) において、 R¹ が臭素原子であり、 R²が水素原子であり、 R³がメチル基であり、 X¹が OR⁴基であり、 Y¹ が水素原子であり、 R⁴が C 3— C4アルキニル基であるアミド化合物；

式（1— 2) において、 R¹ が水素原子であるアミド化合物；

式（1— 2) において、 R¹ がハロゲン原子であるアミド化合物；式 (1一 2) において、 R¹が塩素原子であるアミド化合物；

式 (1 -2) において、 R¹ が C 1—C 3アルキル基であるアミド化合物；式 (1一 2) において、 R¹がメチル基であるアミド化合物；

式 (1一 2) において、 R²が水素原子であるアミド化合物；

式 (1 -2) において、 R²がハロゲン原子であるアミド化合物；

式 (1一 2) において、 R²が塩素原子であるアミド化合物；

式 (1一 2) において、 R²が C 1一 C 3アルキル基であるアミド化合物；式 (1 -2) において、 R²がメチル基であるアミド化合物；

式 (1一 2) において、 R¹ と R² とが一緒になつてトリメチレン基であるアミド化合物；

式 (1 -2) において、 R¹ と R² とが一緒になつてテトラメチレン基であるアミド化合物；

式 (1-2) において、 R¹ R² とが一緒になつて CH=CH— CH=CH基であるアミド化合物；

式 (1-2) において、 R³が C 1一 C 3アルキル基であるアミド化合物；式 (1-2) において、 R³がメチル基であるアミド化合物；

式 (1 -2) において、 R³がェチル基であるアミド化合物；

式 (1 -2) において、 R³が C 3— C 4アルキニル基であるアミド化合物；式 (1-2) において、 R³が 2 _プロピニル基であるアミド化合物 ;

式 (1 -2) において、 X¹ が OR⁴基であり、 Y¹ が水素原子であり、 R⁴が水素原子であるアミド化合物；

式（1— 2) において、 X¹が OR⁴基であり、 Y¹ が水素原子であり、 R⁴が C 1 一 C 3アルキル基であるアミド化合物；

式 (1 -2) において、 X¹が OR⁴基であり、 Y¹ が水素原子であり、 R⁴がメチル基であるアミド化合物；

式 (1 -2) において、 X¹ が OR⁴基であり、 Y¹ が水素原子であり、 R が C 3 -C4アルキニル基である 7ミド化合物；

式 (1-2) において、 X¹ が OR⁴基であり、 Y¹ が水素原子であり、 R⁴が 2— プロピニル基であるアミド化合物；

式（1— 2) において、 X¹ と Y¹ とが一緒になつて =N〇R⁵基であり、 R⁵力 1 -C 3アルキル基であるアミド化合物；

式（1— 2) において、 X〖と Υ¹ とが一緒になつて =N〇R⁵基であり、 R⁵がメチル基であるアミド化合物；

式（1— 2) において、 X¹ と Y¹ とが一緒になつて = N〇R⁵基であり、 R⁵がェチル基であるアミド化合物；

式（1— 2) において、 X¹ と Y¹ とが一緒になつて = NOR⁵基であり、 R⁵が C 3— C4アルキニル基であるアミド化合物；

式（1— 2) において、 X¹ と Y¹ とが一緒になつて =NOR⁵基であり、 R⁵が 2 —プロピニル基であるアミド化合物；

式（1— 2) において、 R¹ がハロゲン原子であり、 R² が水素原子であるアミド化合物；

式（1— 2) において、 R¹ が塩素原子であり、 R² が水素原子であるアミド化合物；

式（1— 2) において、 R¹ が臭素原子であり、 R² が水素原子であるアミド化合物；

式（1— 2) において、 R¹ が C 1一 C 3アルキル基であり、 R² が水素原子であるアミド化合物；

式 (1-2) において、 R¹ がメチル基であり、 R² が水素原子であるアミド化合物；

式（1— 2) において、 R¹ がェチル基であり、 R² が水素原子であるアミド化合物；

式（1— 2)において、 R³が C 1一 C 3アルキル基であり、 X¹ が OR⁴基であり、 Y¹が水素原子であり、 R⁴が C 3—C 4アルキニル基であるアミド化合物；式 (1 -2) において、 R³がメチル基であり、 X¹が OR⁴基であり、 Y¹が水素原子であり、 R⁴が C 3—C 4アルキニル基であるアミド化合物；

式 (1-2) において、 R¹ が C 1 _ C 3アルキル基であり、 R³ が C I— C3ァルキル基であり、 X¹ が OR⁴基であり Y¹が水素原子であり、 R⁴が C3— C4 アルキニル基であるアミド化合物；

式 (1-2) において、 R¹ が C 1 -C 3アルキル基であり、 R³ がメチル基であり、 X¹が OR⁴基であり、 Y¹ が水素原子であり、 R⁴が C 3— C4アルキニル基であるアミド化合物；

式 (1-2) において、 R¹ がハロゲン原子であり、 R³ が C 1—C 3アルキル基であり、 X¹ が OR⁴基であり、 Y¹が水素原子であり、 R⁴が C 3— C 4アルキニル基であるアミド化合物；

式（1— 2) において、 R¹ がハロゲン原子であり、 R³ がメチル基であり、 X¹ が OR⁴基であり、 Y¹が水素原子であり、 R⁴が C 3— C 4アルキニル基であるァミド化合物；

式（1— 2) において、 R¹ が C 1一 C 3アルキル基であり、 R² が水素原子であり、 R³がメチル基であり、 X¹ 力 SOR⁴基であり、 Y¹ が水素原子であり、 R⁴が C 3— C 4アルキニル基であるアミド化合物；

式（1— 2) において、 R¹ がメチル基であり、 R²が水素原子であり、 R³がメチル基であり、 X¹が OR⁴基であり、 Y¹ が水素原子であり、 R⁴が C3— C4アルキニル基であるアミド化合物；

式（1— 2) において、 R¹がェチル基であり、 R²が水素原子であり、 R³がメチル基であり、 X¹ が OR⁴基であり、 Y¹ が水素原子であり、 R⁴が C 3— C4アルキニル基であるアミド化合物；

式（1— 2) において、 R¹ がハロゲン原子であり、 R² が水素原子であり、 R³ がメチル基であり、 X¹が OR⁴基であり、 Y¹が水素原子であり、 R⁴が C 3— C 4アルキニル基であるアミド化合物；

式（1— 2) において、 R¹が塩素原子であり、 R²が水素原子であり、 R³がメチル基であり、 X¹が OR⁴基であり、 Y¹ が水素原子であり、 R⁴が C3—C4アルキニル基であるアミド化合物；

式（1— 2) において、 R¹が臭素原子であり、 R²が水素原子であり、 R³がメチル基であり、 X¹が OR⁴基であり、 Y¹ が水素原子であり、 R が C 3 - C 4アルキニル基であるアミド化合物；

式 (1— 3) に .つい、 R¹

式 (1 - 3) に .おいて、 R¹

式 (1一 3) において、 R¹

式 (1一 3) に -おいて、 R¹

式 (1一 3) において、 R¹

式 (1一 3) に -おいて、 R²

式 (1一 3) において、 R²

式 (1一 3) に -おいて、 R²

式 (1一 3) に：おいて、 R² C 3アルキル基であるアミド化合物式 (1一 3) において、 R²

式 (1一 3) に -おいて、 R¹

化合物；

式 (1一 3) において、 RR¹¹ と R² とが一緒になつてテトラメチレン基であるアミド化合物，

式 (1一 3) に：おいて、 RR¹¹ と R² とが一緒になつて CH=CH— CH=CH基であるアミド化合物；

式（1一 3) において、 R³が C 1—C 3アルキル基であるアミド化合物； ' 式（1一 3) において、 R³がメチル基であるアミド化合物；

式（1一 3) において、 R³がェチル基であるアミド化合物；

式（1一 3) において、 R³が C 3— C 4アルキニル基であるアミド化合物；式（1一 3) において、 R³が 2—プロピニル基であるァミド化合物；

式（1一 3) において、 X¹が OR⁴基であり、 Y¹が水素原子であり、 R⁴が水素原子であるアミド化合物；

式（1— 3) において、 X¹が OR⁴基であり、 Y¹が水素原子であり、 R⁴が C 1 一 C 3アルキル基であるアミド化合物；

式 (1-3) において、 X'が OR⁴基であり、 Y¹ が水素原子であり、 R⁴がメチル基であるアミド化合物；

式 (1-3) において、 X¹が OR⁴基であり、 Y¹が水素原子であり、 R⁴が C 3 -C4アルキニル基であるァミド化合物；

式 (1-3) において、 X¹が OR⁴基であり、 Y¹が水素原子であり、 R⁴が 2— プロピエル基であるアミド化合物；

式 (1-3) において、 X¹ と Υΐ とが一緒になつて = N〇R⁵基であり、 R⁵が C 1—C 3アルキル基であるアミド化合物；

式 (1-3) において、 X¹ と Y¹ とが一緒になつて NOR⁵基であり、 R⁵がメチル基であるアミド化合物；

式（1— 3) において X¹ と Y¹ とが一緒になつて = NOR⁵基であり R⁵がェチル基であるアミド化合物；

式 (1-3) において、 X¹ と Y¹ とが一緒になつて = NOR⁵基であり、 R⁵が C 3-C4アルキニル基であるァミド化合物；

式 (1-3) において、 X¹ と Y¹ とが一緒になつて = NOR⁵基であり、 R⁵が 2 一プロピエル基であるアミド化合物；

式 (1-3) において、 R¹ がハロゲン原子であり、 R² が水素原子であるアミド化合物；

式（1— 3) において、 R¹ が塩素原子であり、 R² が水素原子であるアミド化合物；

式（1— 3) において、 R¹ が臭素原子であり、 R² が水素原子であるアミド化合物；

式（1— 3) において、 R¹ が C 1 _ C 3アルキル基であり、 R² が水素原子であるアミド化合物；

式（1— 3) において、 R¹ がメチル基であり、 R² が水素原子であるアミド化合物；式（1一 3) において、 R¹ がェチル基であり、 R² が水素原子であるアミド化合物； '

式（1— 3)において、 R³が C 1— C 3アルキル基であり、 X¹が OR⁴基であり、 Y¹が水素原子であり、 R⁴が C 3— C4アルキニル基であるアミド化合物；式（1— 3) において、 R³がメチル基であり、 X¹が OR⁴基であり、 Y¹が水素原子であり、 R⁴が C 3 _C 4アルキニル基であるアミド化合物；

式（1— 3) において、 R¹ が C 1一 C 3アルキル基であり、 R³ が C 1—C3ァルキル基であり、 X¹が OR⁴基であり、 Y¹が水素原子であり、 R⁴が C3— C4 アルキニル基であるアミド化合物；

式（1— 3) において、 R¹ が C 1—C 3アルキル基であり、 R³ がメチル基であり、 X¹が〇R⁴基であり、 Y¹が水素原子であり、 R⁴が C 3— C4アルキニル基であるアミド化合物；

式 (1 -3) において、 R¹ がハロゲン原子であり、 R³ が C 1—C 3アルキル基であり、 X¹が OR⁴基であり、 Y' が水素原子であり、 R⁴が C 3— C 4アルキニル基であるアミド化合物；

式 (1 -3) において、 R¹ がハロゲン原子であり、 R³ がメチル基であり、 X' が OR⁴基であり、 Y¹が水素原子であり、 R⁴が C 3—C4アルキニル基であるァミド化合物；

式 (1 -3) において、 R¹ が C 1一 C 3アルキル基であり、 R² が水素原子であり、 R³がメチル基であり、 X¹ が OR⁴基であり、 Y¹ が水素原子であり、 R⁴が

C 3—C4アルキニル基であるアミド化合物；

式（1— 3) において、 R¹がメチル基であり、 R²が水素原子であり、 R³がメチル基であり、 X¹ が OR⁴基であり、 Y¹ が水素原子であり、 R⁴が C3— C4アルキニル基であるアミド化合物；

式（1— 3) において、 R¹がェチル基であり、 R²が水素原子であり、 R³がメチル基であり、 X¹ が OR⁴基であり、 Y¹ が水素原子であり、 R⁴が C 3—C4アルキニル基であるアミド化合物；

式 (1 - 3) において、 R¹ がハロゲン原子であり、 R² が水素原子であり、 R³ がメチル基であり、 X¹が OR⁴基であり、 Y¹が水素原子であり、 R⁴が C3— C 4アルキニル基であるアミド化合物；

式（1— 3) において、 R¹が塩素原子であり、 R²が水素原子であり、 R³がメチル基であり、 X¹が OR⁴基であり、 Y¹が水素原子であり、 R⁴が C 3— C4アルキニル基であるアミド化合物；

式（1— 3) において、 R¹が臭素原子であり、 R²が水素原子であり、 R³がメチル基であり、 X¹が OR⁴基であり、 Y¹ が水素原子であり、 R⁴が C 3— C4アルキニル基であるアミド化合物；

式 (1一 4) において、 R¹が水素原子であるアミド化合物；

式 (1一 4) において、 R¹がハロゲン原子であるアミド化合物；

式 (1一 4) において、 R¹が塩素原子であるアミド化合物；

式 (1 - 4) において、 R¹が C 1一 C 3アルキル基であるアミド化合物；式 (1一 4) において、 R¹がメチル基であるアミド化合物；

式 (1一 4) において、 R²が水素原子であるアミド化合物；

式 (1一 4) において、 R²がハロゲン原子であるアミド化合物；

式 (1— 4) において、 R²が塩素原子であるアミド化合物；

式 (1一 4) において、 R²が C 1 -C 3アルキル基であるアミド化合物；式 (1一 4) において、 R²がメチル基であるアミド化合物；

式 (1 - 4) において、 R¹ と R² とが一緒になつてトリメチレン基であるアミド化合物；

式 (1一 4) において、 R¹ と R ² とが一緒になつてテトラメチレン基であるアミド化合物；

式 (1一 4) において、 R¹ と R² とがー緖になってじ11=(：«[—（《[=( 11基であるアミド化合物；

式 (1— 4) において、 R³が C 1一 C 3アルキル基であるアミド化合物；式 (1— 4) において、 R³がメチル基であるアミド化合物；

式 (1 - 4) において、 R³がェチル基であるアミド化合物；

式 (1— 4) において、 R³が C 3— C 4アルキニル基であるアミド化合物；式 (1 - 4) において、 R³が 2—プロピエル基であるアミド化合物；

式 (1 - 4) において、 R¹ がハロゲン原子であり、 R² が水素原子であるアミド化合物；

式 (1一 4) において、 R¹ が塩素原子であり、 R² が水素原子であるアミド化合

M

式 (1 - 4) において、 R¹ が臭素原子であり、 R² が水素原子であるアミド化合

Mm

式 (1 - 4) において、 R¹ が C 1一 C 3アルキル基であり、 R² が水素原子であがメチル基であり、 R² が水素原子であるアミド化合がェチル基であり、 R² が水素原子であるアミド化合物

式 (1- 5) に：おいて、 R¹ が水素原子であるアミド化合物；

式 (1一 5) に：おいて、 R¹が八ロゲン原子であるアミド化合物；

式 (1一 5) において、 R¹ が塩素原子であるアミド化合物；

式 (1一 5) において、 R¹が C 1一 C 3アルキル基であるアミド化合物；式 (1- 5) に :·¾)いこ、 R〖がメチル基であるアミド化合物；

式 (1一 5) に：おいて、 R²が水素原子であるアミド化合物；

式 (1 - 5) に：おいて、 R²がハロゲン原子であるアミド化合物；

式 (1一 5) に：おいて、 R²が塩素原子であるアミド化合物；

式 (1一 5) に：-l いこ、 R²が C 1 -C 3アルキル基であるアミド化合物；式 (1- 5) に：おいて、 R²がメチル基であるアミド化合物；

式 (1- 5) において、 R¹ と R² とが一緒になつてトリメチレ '基であるアミ化合物；

式 (1一 5) に：おいて、 R¹ と R² とが一緒になつてテトラメチレ 'ン基であるァド化合物

式 (1一 5) に：おいて、 R¹ と R² とが一緒になつて CH=CH— CH=CH基あるアミド化合物；

式（1— 5) において、 R³が C 1—C 3アルキル基であるアミド化合物；式（1— 5) において、 R³がメチル基であるアミド化合物；

式（1— 5) において、 R³がェチル基であるアミド化合物；

式 (1-5) において、 R³が C 3 _C 4アルキニル基であるアミド化合物；式（1一 5) において、 R³が 2 _プロピエル基であるアミド化合物；

式（1— 5) において、 R' がハロゲン原子であり、 R² が水素原子であるアミド化合物；式（1— 5) において、 R¹ が塩素原子であり、 R² が水素原子であるアミド化合物；

式（1— 5) において、 R¹ が臭素原子であり、 R² が水素原子であるアミド化合物；

式（1— 5) において、 R¹ が C 1—C 3アルキル基であり、 R² が水素原子であるアミド化合物；

式（1— 5) において、 R¹ がメチル基であり、 R² が水素原子であるアミド化合物；

式（1— 5) において、 R¹ がェチル基であり、 R² が水素原子であるアミド化合物が挙げられる。本発明化合物の製造法について説明する。

本発明化合物は、例えば以下の製造法 1〜 3により製造することができる。

製造法 1

アミド化合物 (1) うち、化合物（1一 a) は、化合物 (2) と化合物 (3) とを塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。

(2) (3) (1-a

〔式中、 X卜¹ は OR⁴- ¹基を表し、 Υ'— ¹ は水素原子を表すか、

あるいは X¹— ¹ とず-¹ とが一緒になつて、 =NOR⁵基を表し、

R⁴"¹ は C 1— C 3アルキル基または C 3— C4アルキニル基を表し、 A¹— A²=A ³— A⁴、 R R²、 R³、 R⁵ は前記と同じ意味を表す。〕

該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。

反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、 t e r t一ブチルメチルエーテル等のエーテル類、へキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロ口ベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸プチル、酢酸ェチル等のェステル類、ァセトニトリル等の二トリル類、 N, N—ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。反応に用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、トリェチルァミン、ジイソプロピルェチルァミン、 1 , 8—ジァザビシクロ〔5 , 4， 0〕ゥンデック—7—ェン、 1 , 5—ジァザビシクロ〔4 , 3 , 0〕ノン _ 5—ェン等の第 3級ァミン類及びピリジン、 4ージメチルァミノピリジン等の含窒素芳香族化合物類があげられる。

化合物（2 ) 1モルに対して、化合物（3 ) が通常 1〜 3モルの割合であり、塩基が通常 1〜 1 0モルの割合である。

該反応の反応温度は通常一 2 0〜 1 0 0 °Cの範囲であり、反応時間は通常 0 . 1 〜2 4時間の範囲である。

反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（1一 a ) を単離することができる。単離された化合物（1— a ) は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。製造法 2

アミド化合物 ( 1 ) は、化合物 ( 4 ) と化合物 ( 5 ) とを、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。

〔式中、 L¹ は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表し、 A¹— A²=A³— A⁴、 R¹ , R²、 R³、 X Y¹ は前記と同じ意味を表す。〕

該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。

反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルェ一テル、 t e r t—ブチルメチルェ一テル等のェ一テル類、へキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロ口ベンゼン等のハロゲン'化炭化水素類、酢酸プチル、酢酸ェチル等のェステル類、ァセトニトリル等の二トリル類、 N， N—ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。

反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアル力リ金属炭酸塩及び水素化ナトリゥム等のアル力リ金属水素化物類があげられる。化合物（4) 1モルに対して、化合物（5) が通常 1〜2モルの割合であり、塩基が通常 1〜 2モルの割合である。

該反応の反応温度は通常一 20〜100°Cの範囲であり、反応時間は通常 0. 1

〜 24時間の範囲である。

反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、アミド化合物（1) を単離することができる。単離されたアミド化合物（1) は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。製造法 3

アミド化合物 (1) は、化合物 (6) と化合物 (3) とを、脱水縮合剤の存在下で反応させることにより製造することができる。

( 6-a ) (3) (1)

〔式中、 A¹— A²=A³_A⁴ R R²、 R³、 X Y¹ は前記と同じ意味を表す。〕該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。

反応に用いられる溶媒としては、例えば N， N—ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、ピリジン、キノリン等の含窒素芳香族化合物及びこれらの混合物があげられる

反応に用いられる脱水縮合剤としては、 1一ェチル _3_ (3—ジメチルァミノプロピル）カルポジイミド塩酸塩、 1, 3—ジシクロへキシルカルポジイミド等のカルポジイミド類があげられる。

化合物 (6-a) 1モルに対して、化合物 ( 3 )が通常 1〜 3モルの割合であり、脱水縮合剤が通常 1〜 5モルの割合である。

該反応の反応温度は、通常 0〜 140 °Cの範囲であり、反応時間は通常 1〜 24 時間の範囲である。

反応終了後は、反応混合物を濾過した後、濾液を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、アミド化合物 (1) を単離することができる。単離されたアミド化合物（1) は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。次に、本発明化合物の製造中間体の製造法について説明する。

中間体製造法 1

〔式中、 R⁶ はメチル基またはェチル基を表し、 Ms はメタンスルホ二ル基を表し、 R¹, R²、 R⁴— ¹ は前記と同じ意味をあらわす。〕

化合物（12) は化合物 (1 1) と水素化ホウ素ナトリウムとを反応させることにより製造することができる。

該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。

反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類、テトラヒドロフラン等のエーテル類、水及びこれらの混合物があげられる。化合物（11) 1モルに対して、水素化ホウ素ナトリゥムが通常 0. 25〜2モルの割合である。

該反応の反応温度は、通常一 20〜50°Cの範囲であり、反応時間は通常瞬時〜 24時間の範囲である。

反応終了後は、反応混合物を濃縮し、水を加えて有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（12) を単離することができる。単離された化合物（12) は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。化合物（13) は、化合物（12) と塩ィ匕メタンスルホニルとを、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。

反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコ一ルジメチルエーテル、 t e r t一ブチルメチルエーテル等のエーテル類、へキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロ口ベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、 N， N—ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。

反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、トリェチルァミン、ジイソプロピルェチルァミン、 1， 8—ジァザビシクロ〔5 , 4， 0〕ゥンデックー 7—ェン、 1 , 5—ジァザビシクロ〔4， 3， 0〕ノン— 5—ェン等の第 3級ァミン類及びピリジン、 4—ジメチルアミノビリジン等の含窒素芳香族化合物類があげられる。

化合物（1 2 ) 1モルに対して、塩化メタンスルホニルが通常 1〜 3モルの割合であり、塩基が通常 1〜： L 0モルの割合である。

該反応の反応温度は、通常一 2 0〜1 0 O t:の範囲であり、反応時間は通常 1〜 2 4時間の範囲である。

反応終了後は、例えば下記の方法で後処理操作を行うことにより化合物 ( 1 3 ) を単離することができる。 '

( i ) 反応混合物を有機溶媒にて抽出し、有機層を乾燥、濃縮する方法。

( i i ) 反応混合物を濾過し、濾液を濃縮する方法。

単離された化合物（1 3 ) は- クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。化合物 ( 1 5 ) は、化合物 ( 1 3 ) と化合物 ( 1 4 ) とを反応させることにより製造することができる。

該反応は、溶媒の存在下または非存在下で行われる。

反応に用いられる溶媒としては、例えば 1， 4—ジォキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、 t e r t一ブチルメチルエーテル等のエーテル類、へキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロ口ベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、ァセト二トリル等の二トリル類、 N， N—ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジェチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。

化合物（1 3 ) 1モルに対して、化合物（1 4 ) が通常 1モル〜過剰量である。該反応の反応温度は、通常 5 0 °C〜1 5 0 °Cの範囲であり、反応時間は通常 1〜 2 4時間の範囲である。

反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物（15) を単離することができる。単離された化合物（15) は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。化合物（16) は、化合物（15) を塩基の存在下、水と反応させることにより製造する事ができる。

該反応は、通常水及び有機溶媒の存在下で行われる。

反応に用いられる有機溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類、テトラヒドロフラン、 1, 4—ジォキサン等のエーテル類及びこれらの混合物があげられる。

反応に用いられる塩基としては、例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化力リゥム等のアル力リ金属水酸化物類があげられる。

化合物 (15) 1モルに対して、塩基が通常 1〜 20モルの割合である。

該反応の反応温度は、通常 0〜100 の範囲であり、反応時間は通常 0. 5〜 24時間の範囲である。

反応終了後は、反応混合物に酸（例えば塩酸等の無機酸）を混合して酸性にした後、有機溶媒抽出し、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（1 6)を単離することができる。単離された化合物（16)は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。化合物（2) は. 化合物 (16) と塩化チォエルとを反応させることにより製造することができる。

該反応は、溶媒の存在下または非存在下で行われる。

反応に用いられる溶媒としては、例えばクロ口ベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族化合物類及びこれらの混合物があげられる。化合物（16) 1モルに対して、塩化チォニルが通常 1モル〜過剰量の割合である。

該反応の反応温度は、通常 20〜100°Cの範囲であり、反応時間は通常 0. 5 〜24時間の範囲である。

反応終了後は、反応混合物を濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物 (2) を単離することができる。単離された化合物（2) は、蒸留等によりさらに精製することができる。中間体製造法 2

(12) (17)

〔式中、 R R²、 R⁶は前記と同じ意味を表す。〕

化合物（17) は、中間体製造法 1の（工程 1— 4) に準ずる方法で、化合物（1 5) の代わりに化合物（12) を用いて反応させることにより製造することができる。中間体製造法 3

H₂N-OR⁵

(11) (23)

〔式中、 R

化合物 (23) は、化合物 (11) と化合物 (22) とを反応させることにより製造することができる。

化合物（22) で表される化合物は、例えばその塩酸塩及び硫酸塩等の塩として存在する場合には、その塩を反応に用いることもできる。

該反応は、通常溶媒の存在下、塩基の存在下または非存在下で行われる。

反応に用いられる溶媒としては、例えば 1, 4一ジォキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、 t e r t一ブチルメチルエーテル等のエーテル類、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類、ァセ卜二トリル等の二トリル類、 N, N—ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、水及びこれらの混合物があげられる。

反応に用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等のアルカリ金属炭酸塩、トリェチルァミン、ジイソプロピルェチルァミン、 1, 8—ジァザビシクロ〔5, 4， 0〕ゥンデック一 7—ェン、 1， 5—ジァザビシクロ〔4， 3, 0〕ノン一 5—ェン等の第 3級ァミン類及びピリジン、 4ージメチルァミノピリジン等の含窒素芳香族化合物類があげられる。

化合物（11) 1モルに対して、化合物（22)が通常 1〜 5モルの割合であり、塩基が通常触媒量〜 10モルの割合である。

該反応の反応温度は、通常 0〜 120 ^DCの範囲であり、反応時間は通常 1〜 24 時間の範囲である。

反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を必要により酸性水（例えば希塩酸）で洗浄し、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（2 3)を単離することができる。単離された化合物（23)は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することができる。化合物 (24) は、中間体製造法 1の (工程 1—4) に準ずる方法で、化合物 (1 5) の代わりに化合物（23) を用いて反応させることにより製造することができる。

化合物 (2-b) は、中間体製造法 1の (工程 1一 5) に準ずる方法で、化合物 (16) の代わりに化合物 (24) を用いて反応させることにより製造することができる。中間体製造法 4

(8)

〔式中、 R³— ¹ は水素原子、メチル基、ェチル基、プロピル基またはイソプロピル基を表す。〕

化合物（8) は、 2, 3—ジクロロピラジンと化合物（7) とを、パラジウム化合物の存在下、反応させることにより製造することができる。

該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。

反応に用いられる溶媒としては、例えばエチレンダリコールジメチルエーテル、 t e r t一ブチルメチルエーテル等のエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、水及びこれらの混合物があげられる。

反応に用いられるパラジウム化合物としては、例えば酢酸パラジウム、テトラキストリフエニルホスフィンパラジウム、 {1, 1 ' -ビス（ジフエニルホスフイノ）フエ口セン } ジクロロパラジウム一塩化メチレン錯体及びビス（トリフエニルホスフィン）パラジウムジクロライド等があげられる。

2, 3—ジクロロビラジン 1モルに対して、化合物（7) が通常 0. 5〜1モルの割合であり、パラジウム化合物が通常 0. 01〜 0. 1モルの割合である。

該反応の反応温度は、通常 50° (〜 120°Cの範囲であり、反応時間は通常 0. 5〜 24時間の範囲である。

該反応は、必要に応じて塩基及び Z又は相関移動触媒の存在下で行うこともできる。この場合の塩基としては、例えば酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等のアルカリ金属酢酸塩類、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、リン酸三カリウム等のアルカリ金属リン酸塩があげられ、相関移動触媒としては、テトラプチルアンモニゥムブロミド、ベンジルトリェチルアンモニゥムブロミド等の第 4級ァンモニゥム塩があげられる。

反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物 (8) を単離することができる。単離された化合物（8) は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。中間体製造法 5

(8-a) (19) (20) (3-a)

〔式中、 R⁷ は C 1—C3アルキル基、 C 3— C4アルキニル基またはベンジル基を表し、 L² は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。〕

化合物（19) は、例えば化合物（8— a) と化合物（18) とを、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。

該反応は通常溶媒の存在下で行われる。

反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコ一ルジメチルエーテル、 t e r t一ブチルメチルエーテル等のエーテル類、へキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロ口ベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸プチル、酢酸ェチル等のェステル類、ァセトニトリル等の二トリル類、 N, N—ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。

反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアル力リ金属炭酸塩類があげられる。

化合物（8— a) 1モルに対して、化合物（18) が通常 1〜2モルの割合であり、塩基が通常 1〜 2モルの割合である。

該反応の反応温度は、通常 0〜100°Cの範囲であり、反応時間は通常 0. 5〜 24時間での範囲である。

反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の通常の後処理操作を行うことにより化合物（19) を単離することができる。単離された化合物 (19) は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。化合物 (20) は、化合物 (19) とアジ化ナトリゥムとを反応させることにより製造することができる。

該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。

反応に用いられる溶媒としては、たとえば N， N—ジメチルホルムアミド等の酸ァミド類があげられる。

化合物 (19) に対して、アジ化ナトリゥムが通常 1〜 10モルの割合である。該反応の反応温度は、通常 50〜 140 °Cの範囲であり、反応時間は通常 1〜 2 4時間の範囲である。

反応終了後は、例えば下記の方法で後処理操作を行うことにより化合物 (20) を単離することができる。

(i) 反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する方法。

(i i) 反応混合物を濾過し、濾液を濃縮する方法。

単離された化合物（20) は、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。化合物（3— a) は、化合物（20) を塩化第一スズとを反応させることにより製造できる。

該反応は通常塩酸の存在下、溶媒の存在下または非存在下で行われる。

反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類、水及びこれらの混合物があげられる。

化合物（2 0 ) 1モルに対して、塩化第一スズが通常 1〜5モルの割合である。該反応の反応温度は、通常 2 0〜1 0 0 °Cの範囲であり、反応時間は通常 1〜2 4 時間の範囲である。

反応終了後は、反応混合物と、例えば炭酸水素ナトリウム水溶液、水酸化ナトリゥム水溶液等とを混合して有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（3— a ) を単離することができる。単離された化合物（3— a ) は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することができる。

( 6 ) (32) (4-a)

〔式中、 R R²、 X、 Yは前記と同じ意味を表す。〕

化合物（3 2 ) は、化合物（3 1 ) を、パラジウム炭素存在下、水素雰囲気下で反応させることにより製造することができる。

該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。

反応に用いられる溶媒としては、メタノール、エタノール等のアルコール類、テトラヒドロフラン等のエーテル類、酢酸ェチル等のエステル類、トルエン等の芳香族炭化水素類、水及びこれらの混合物があげられる。化合物（31) 1モルに対して、パラジウム炭素が通常 0. 001〜0. 1モルの割合である。

該反応の反応温度は、通常 20〜100°Cの範囲であり、反応時間は通常 1〜2 4時間の範囲である。

反応終了後は、反応混合物に必要に応じて有機溶媒を加え、濾過して、濾液を減圧下濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（32) を単離することができる。単離された化合物（32) は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することができる。化合物（4一 a) は、製造法 3に準ずる方法で、化合物（3) の代わりに化合物 (32) を用いて反応させることにより製造することができる。中間体製造法 7

(45) (46) (3-b) 〔式中、 R⁸ 、 R⁹ はメチル基、ェチル基またはプロピル基を表し、 R³、 L¹ は前記と同じ意味を表す。〕

化合物（3 9 ) は、化合物（3 7 ) と化合物（3 8 ) とを、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。

該反応は、 .通常溶媒の存在下で行われる。

反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルェ一テル、 t e r t—プチルメチルエーテル等のェ一テル類、へキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロ口ベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸プチル、酢酸ェチル等のェステル類、ァセトニトリル等の二トリル類、 N, N—ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。

反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアル力リ金属炭酸塩類、水素化ナトリゥム等のアル力リ金属水素化物類があげられる。化合物（3 7 ) 1モルに対して、化合物（3 8 ) 化合物が通常 1〜2モルの割合であり、塩基が通常 1〜 2モルの割合である。

該反応の反応温度は、通常 0〜1 0 0 °Cの範囲であり、反応時間は通常 0 . 5〜 2 4時間の範囲である。

反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（3 9 ) を単離することができる。単離された化合物（3 9 ) は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することができる。化合物 ( 4 1 ) は、化合物 ( 3 9 ) と化合物 ( 4 0 ) とを、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。

該反応は、溶媒の存在下または非存在下で行われる。

反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン等のエーテル類、トルェン、キシレン等の芳香族炭化水素類及びこれらの混合物が用いられる。

化合物（3 9 ) 1モルに対して、化合物（4 0 ) が通常 1モル〜過剰量の割合であり、塩基が通常 1〜 3モルの割合である。

該反応の反応温度は、通常 5 0〜1 5 0 °Cの範囲であり、反応時間は通常 0 . 5 〜2 4時間の範囲である。

反応終了後は、反応混合物に酢酸水溶液等の希酸を加えて酸性とした後、有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（4 1 )を単離することができる。単離された化合物（4 1 )は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することができる。化合物（4 3 ) は、化合物（4 1 ) と化合物（4 2 ) とを反応させることにより製造することができる。

該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。

反応に用いられる溶媒としては、例えばトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、 N， N—ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、無水酢酸等の酸無水物類及ぴこれらの混合物があげられる。

化合物（4 1 ) 1モルに対して、化合物（4 2 ) が通常 1モル〜過剰量の割合である。

該反応の反応温度は、通常 5 0〜1 5 0 °Cの範囲であり、反応時間は通常 0 . 5 〜 2 4時間の範囲である。

反応終了後は、反応混合物を濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物 ( 4 3 ) を単離することができる。化合物（4 3 ) は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。化合物（4 4 ) は、化合物 ( 4 3 ) とホルムアミジンの塩酸塩及び酢酸塩等の塩とを反応させることにより製造することができる。

反応に用いられる溶媒としては、例えばトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、 N， N—ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、メタノール、エタノール等のアルコ一ル類及びこれらの混合物があげられる。

反応に用いられる塩基としては例えば炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等のアル力リ金属炭酸塩、水酸化ナトリウム、水酸化力リゥム等のアル力リ金属水酸化物類.。ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム t e r t—ブトキシド等のアル力リ金属アルコキシド類があげられる。

化合物 ( 4 3 ) 1モルに対して、ホルムアミジンまたはその塩が通常 1〜 3モルの割合であり、塩基が通常触媒量〜 5モルの割合である。

該反応の反応温度は、通常 2 0〜1 0 0 の範囲であり、反応時間は通常 0 . 5 〜2 4時間の範囲である。

反応終了後は、反応混合物を濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物 ( 4 4 ) を単離することができる。単離された化合物（4 4 ) は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。化合物（4 5 ) は、化合物（4 4 ) を塩基の存在下、水と反応させることにより製造することができる。

該反応は通常水及び有機溶媒の存在下で行われる。

反応に用いられる有機溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類、 1, 4—ジォキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類及びこれらの混合物があげられる。

反化合物（44) 1モルに対して、塩基が通常 1〜20モルの割合である。該反応の反応温度は、通常 0〜100°Cの範囲であり、反応時間は通常 0. 5〜 24時間の範囲である。

反応終了後は、反応混合物に塩酸等の酸を加えて酸性とした後、有機溶媒抽出し、乾燥、濃縮する等の後処理操作により、化合物（45) を単離することができる。化合物（45) は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することができる。化合物 (46) は、化合物 (45) とジフエニルホスホリルアジドとを、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。

該反応は 1 , 1—ジメチルエタノール存在下で行われる。

反応に用いられる塩基としては、例えばトリェチルァミン等の第 3級アミン類が上げられる。

化合物 (45) 1モルに対して、ジフエニルホスホリルァジドが通常 1〜 3モルの割合であり、塩基が通常 1〜3モルの割合である。

該反応の反応温度は、通常 50〜10 Ot:の範囲であり、反応時間は通常 0. 5 〜 24時間の範囲である。

反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物 (46) を単離することができる。単離された化合物 (46) は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。化合物（3— b) は、化合物 (46) を酸の存在下、水と反応させることにより製造することができる。

該反応は、通常水及び酸を溶媒として行われる。

反応に用いられる酸としては、例えば塩酸等の無機酸類、酢酸、トリフルォロ酢酸等の有機酸類及びこれらの混合物があげられる。

該反応の反応温度は、通常 50〜100°Cの範囲であり、反応時間は通常 0. 5 〜24時間の範囲である。

反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（3— b) を単離することができる。単離された化合物（3— b) は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。中間体製造法 8

(58) (4-b)

〔式中、 B nはベンジル基を表し、 L²は塩素原子または臭素原子を表し、 R R ²、 R⁸、 R⁹ , X Y¹ は前記と同じ意味を表す。〕化合物（57) は、中間体製造法 1の（工程 7— 1) 〜（工程 7— 7) に準ずる方法で、化合物（38) の代わりに化合物（50) を用いて反応させることにより製造することができる。

化合物（58) は、化合物（57) と水素とをパラジウム炭素の存在下で反応させることにより製造することができる。

該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。

反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類、テトラヒドロフラン等のエーテル類、酢酸ェチル等のエステル類、トルエン等の芳香族炭化水素類、水及びこれらの混合物があげられる。

化合物（57) 1モルに対して、パラジウム炭素が通常 0. 001〜0. 1モルの割合である。

該反応の反応温度は、通常 20〜 100 °Cの範囲であり、反応時間は通常 1〜 2 4時間の範囲である。

反応終了後は、反応混合物に必要に応じて有機溶媒を加え、濾過して、濾液を減圧下濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（58) を単離することができる。単離された化合物（58) は、クロマトグラフィ一再結晶等によりさらに精製することができる。化合物（4一 b) は、製造法 3に準ずる方法で、化合物（3) の代わりに化合物 ( 58) を用いて反応させることにより製造することができる。中間体製造法 9

(72) (3-c) 〔式中、 R⁶、 R³、 L ¹ は前記と同じ意味を表す。〕

化合物（6 9 ) は、化合物（6 7 ) と化合物（6 8 ) とを、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。

該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。

反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコ一ルジメチルエーテル、 t e r t一ブチルメチルエーテル等のェ一テル類、へキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロ口ベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸プチル、酢酸ェチル等のェステル類、ァセトニトリル等の二トリル類、 N， N—ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。

反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、水素化ナトリウム、水素化力リゥム等のアル力リ金属水素化物類があげられる。

化合物 ( 6 7 ) 1モルに対して、化合物 ( 6 8 )が通常 1〜 2モルの割合であり、塩基が通常 1〜 2モルの割合である。

該反応の反応温度は、通常 0〜1 0 0 の範囲であり、反応時間は通常 0 . 5〜 2 4時間の範囲である。

反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物 ( 6 9 ) を単離することができる。単離された化合物（6 9 ) は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。化合物 ( 7 1 ) は、化合物 ( 6 9 ) と化合物 ( 7 0 ) とを、塩基の存在下で反応させることにより製造させることができる。

該反応は、溶媒の存在下または非存在下で行われる。

反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルェ一テル、 t e r t一ブチルメチルエーテル等のエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロ口ベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、 N, N—ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。

反応に用いられる塩基としては、例えば水素化カリウム、水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム t e r t—ブトキシド等のアル力リ金属アルコキシド等があげられる。

化合物（6 9 ) 1モルに対して、化合物（7 0 ) が通常 1モル〜過剰量の割合であり、塩基が通常 1〜 5モルの割合である。該反応の反応温度は、通常一 2 0〜 1 0 0 °Cの範囲であり、反応時間は通常 1〜 2 4時間の範囲である。

反応終了後は、反応混合物に希塩酸等の酸を加えて酸性とした後、有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（7 1 ) を単離することができる。単離された化合物（7 1 ) は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる化合物（7 2 ) は、化合物（7 1 ) とメチル化剤とを、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。

該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。

反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロ口べンゼン等のハ口ゲン化炭化水素類、 N, N—ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。

反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシゥム等の炭酸塩類、水素化ナトリゥム等のアル力 U金属水素化物類があげられる。反応に用いられるメチル化剤としては、例えばヨウ化メチル、硫酸ジメチルがあげられる。

化合物 ( 7 1 ) 1モルに対して、メチル化剤が通常 1〜 2モルの割合であり、塩基が通常 1〜 2モルの割合である。

該反応の反応温度は通常 0〜 1 0 0 °Cの範囲であり、反応時間は 0 . 5〜 2 4 時間の範囲である。

反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（7 2 ) を単離することができる。単離された化合物（7 2 ) は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。化合物（3 _ c ) は、化合物（7 2 ) とホルムアミジンまたはその塩酸塩、酢酸塩等の塩とを反応させることにより製造することができる。

反応に用いられる溶媒としては、例えばトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、 N, N—ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、メタノール、エタノール等のアルコール類及びこれらの混合物があげられる。

反応に用いられる塩基としては、例えば酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等のアルカリ金属酢酸塩類、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム t e r t一ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド類があげられる。

化合物（7 2 ) 1モルに対して、ホルムアミジンまたはその塩が通常 1〜 3モルの割合であり、塩基が触媒量〜 3モルの割合である。

該反応の反応温度は、通常 2 0〜1 0 0 °Cの範囲であり、反応時間は通常 0 . 5 〜2 4時間の範囲である。

反応終了後は、反応混合物を濃縮し、濾過する等の後処理操作を行うことにより、化合物（3— c ) を単離することができる。単離された化合物（3— c ) は、クロマトグラフィ一、再結晶等によりさらに精製することもできる。中間体製造法 1 0

(87) (4-c)

〔式中、 B nはベンジル基を表し、 L ²、 R R²、 R⁶、 X Y¹ は前記と同じ意味を表す。〕化合物（86) は、中間体製造法 9の（工程 9一 1) 〜（工程 9一 4) に準ずる方法で、化合物（68) の代わりに化合物（82) を用いて反応させることにより製造することができる。

化合物（87) は、化合物（86) と水素とをパラジウム炭素の存在下で反応させることにより製造することができる。

該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。

反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類、テトラヒドロフラン等のェ一テル類、酢酸ェチル等のエステル類、トルエン等の芳香族炭化水素類、水及びこれらの混合物があげられる。

化合物（26) 1モルに対して、パラジウム炭素が通常 0. 001〜0. 1モルの割合である。

反応終了後は、反応混合物に必要に応じて有機溶媒を加え、濾過して、濾液を減圧下濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物 (87) を単離することができる。単離された化合物 (87) は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。化合物（4一 c) は、製造法 3に準ずる方法で、化合物 (3) の代わりに化合物 (87) を用いて反応させることにより製造することができる。次に、本発明化合物の具体例を以下に示す。

アミド化合物 (1) において、 A¹— A²=A³_A⁴が N— CH=CH— Nであり、 X¹が OR⁴基であり、 Y¹が水素原子である化合物 (A)

〔式中の R¹ R²、 R³、 R⁴は、表 1に記載の置換基である。〕；

アミド化合物 (1) において、 A¹— A²=A³— A⁴が N— CH = N— CHであり、 X 1が OR⁴基であり、 Y¹ が水素原子である化合物（B)

〔式中の R R²、 R³、 R⁴は、表 1に記載の置換基である。〕；

アミド化合物（1) において、 A¹— A²=A³— A⁴が CH— N=CH— Nであり、 X ¹が〇R⁴基であり、 Y¹が水素原子であるアミド化合物（C)

(C)

(表 1の続き)

(表 1の続き)

(表 1の続き)

(表 1の続さ)

(表 1の続き)

(表 1の続き)

アミド化合物（1) において、 A¹— A²=A³— A⁴が N_CH=CH— Nであり、 X¹ と Y¹が一緒になつて =NOR⁵基である化合物（D)

〔式中の R¹ R²、 R³、 R ⁵ は、表 2に記載の置換基である。〕；

アミド化合物 (1) において、 A¹— A²=A³_A⁴が N—CH = N— CHであり、 X

¹ と Y¹がー緖になって =NOR⁵基である化合物（E)

{^E)

〔式中の R^l、 R²、 R³、 R ⁵ は、表 2に記載の置換基である。〕；

アミド化合物 (1) において、 A¹— A²=A³_A⁴が CH_N=CH— Nであり、 X ¹ と Y¹がー緖になつて = NOR⁵基である化合物 (F)

の R R²、 R³、 R ⁵は、表 2に記載の置換基である。〕；表 2

(表 2の続さ)

(表 2の続き)

(表 2の続き)

(表 2の続き)

本発明化合物が防除効力を有する植物病害としては、例えば藻菌類による植物病害があげられ、具体的には例えば次の病害があげられる。

蔬菜類.. ダイコンのべと病 (Peronospora brassicae) , ホウレンソゥのべと病 (Peronospora spinaciae)、タノコのベと）丙 (Peronospora tabacina)> ゥリ類のベと炳 (Pseudoperonospora cubensis) > フドウのベと炳 (Plasmopara vi t icol > リンゴ、イチゴ、ャクヨウニンジンの疫病 (Phytophthora cactorum), トマト、キユウリの灰色疫病 (Phytophora capsici)、パイナップルの疫病 (Phytophthora cinnamomi)、ジャガイモ、トマ卜の疫病 (Phytophthora infestans), タバコ、ソラマメ、ネ干の疫病 (Phytophthora nicotianae var. nicotianae), ホウレンソゥの立枯病 (Pythium sp.)、キユウリ苗立枯病 (Pythium aphanidermatum), コムギ褐色雪腐病（Pythium sp. )、タバコ苗立枯病（Pythium debaryanum)、ダイズの Pythium rot (Pythium aphani derma turn, P. debaryanum, P. irregulare, P. myriotylum, P. ultimum)。

本発明化合物を有効成分として含有する殺菌剤組成物は、本発明化合物と担体 (carrier) とを含有する。担体は本発明化合物に対して不活性であり、該殺菌剤組成物の施用形態等に応じて適宜選択される。該殺菌剤組成物は、必要に応じて界面活性剤等の製剤用補助剤を更に含有していてもよい。該殺菌剤組成物は、乳剤、水和剤、顆粒水和剤、フロアブル剤、粉剤、粒剤等の製剤形態を含む。該殺菌剤組成物は、本発明化合物を通常 0 . 1〜9 0重量％含有する。

製剤化の際に用いられる固体担体としては、例えばカオリンクレ一、アツ夕パルジャィトクレ一、ベントナイト、モンモリロナイト、酸性白土、パイロフィライト、タルク、珪藻土、方解石等の鉱物、トウモロコシ穂軸粉、クルミ殻粉等の天然有機物、尿素等の合成有機物、炭酸カルシウム、硫酸アンモニゥム等の塩類、合成含水酸化珪素等の合成無機物等からなる微粉末あるいは粒状物等があげられ、液体担体としては、例えばキシレン、アルキルベンゼン、メチルナフタレン等の芳香族炭化水素類、 2—プロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコ一ル、セロソルブ等のアルコール類、アセトン、シクロへキサノン、イソホロン等のケトン類、ダイズ油、綿実油等の植物油、石油系脂肪族炭化水素類、エステル類、ジメチルスルホキシド、ァセトニトリル、水があげられる。

界面活性剤としては、例えばアルキル硫酸エステル塩、アルキルァリ一ルスルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリォキシェチレンアルキルァリールエーテルリン酸エステル塩、リグニンスルホン酸塩、ナフタレンスルホネー卜ホルムァルデヒド重縮合物等の陰イオン界面活性剤及びポリオキシエチレンアルキルァリ

—ルェ一テル、ポリォキシエチレンアルキルポリォキシプロピレンプロックコポリマ—、ソルビ夕ン脂肪酸エステル等の非ィォン界面活性剤があげられる。

その他の製剤用補助剤としては、例えばポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等の水溶性高分子、アラビアガム、アルギン酸及びその塩、 C M C (力ルポキシメチルセルロース）、ザンサンガム等の多糖類、アルミニウムマグネシウムシリケート、アルミナゾル等の無機物防腐剤、着色剤、 P A P (酸性リン酸イソプ口ピル)、 B H T等の安定化剤があげられる。

本発明の殺菌剤組成物は、例えば植物体に処理することにより当該植物を植物病害から保護するために用いられ、また、土壌に処理することにより当該土壌に生育する植物を植物病害から保護するために用いられる。

本発明の殺菌剤組成物を植物体に茎葉処理することにより用いる場合または土壌に処理することにより用いる場合、その処理量は、防除対象植物である作物等の種類、防除対象病害の種類、防除対象病害の発生程度、製剤形態、処理時期、気象条件等によって変化させ得るが、 1 0 0 0 0 m² あたり本発明化合物として通常 1

〜5 0 0 0 g、好ましくは 5〜： L 0 0 0 gである。

乳剤、水和剤、フロアブル剤等は、通常水で希釈して散布することにより処理する。この場合、本発明化合物の濃度は通常 0 . 0 0 0 1〜3重量％、好ましくは 0 .

0 0 0 5〜1重量％の範囲である。粉剤、粒剤等は通常希釈することなくそのまま処理する。

また、本発明の殺菌剤組成物は種子消毒等の処理方法で用いることもできる。その方法としては、例えば本発明化合物の濃度が 1〜1 0 0 0 p p mとなるように調製した本発明の殺菌剤組成物に植物の種子を浸漬する方法、植物の種子に本発明化合物の濃度が 1〜1 0 0 0 p p mの本発明の殺菌剤組成物を噴霧もしくは塗沫する方法及び植物の種子に本発明の殺菌剤組成物を粉衣する方法があげられる。

本発明の植物病害防除方法は、通常本発明の殺菌剤組成物の有効量を、病害の発生が予測される植物若しくはその植物が生育する土壌に処理する、及び Zまたは病害の発生が確認された植物若しくはその植物が生育する土壌に処理することにより行われる。

本発明の殺菌剤組成物は通常、農園芸用植物病害防除剤、即ち畑地、水田、果樹園、茶園、牧草地、芝生地等の植物病害を防除するための植物病害防除剤として用いられる。

本発明の殺菌剤組成物剤は他の植物病害防除剤剤、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、除草剤、植物生長調節剤及び/または肥料と共に用いることもできる。

かかる植物病害防除剤の有効成分としては、例えば、クロロタロニル、フルアジナム、ジクロフルアニド、ホセチル— A 1、環状イミド誘導体（キヤブタン、キヤプ夕ホール、フオルぺッ卜等）、ジチォカーバメート誘導体（マンネブ、マンコゼブ、チラム、ジラム、ジネブ、プロピネブ等）、無機もしくは有機の銅誘導体（塩基性硫酸銅、塩基性塩化銅、水酸化銅、ォキシン銅等)、ァシルァラニン誘導体（メタラキシル、フララキシル、才フレース、シプロフラン、ベナラキシル、ォキサジキシル等)、スト口ビルリン系化合物 (クレソキシムメチル、ァゾキシストロビン、トリフロキシストロビン、ピコキシストロピン, ピラクロス卜口ピン、ジモキシストロビン等）、ァニリノピリミジン誘導体 (シプロジニル、ピリメタニル、メパニピリム等）、フエニルピロ一ル誘導体 (フェンピクロニル、フルジォキソニル等）、イミド誘導体 (プロシミドン、ィプロジオン、ビンクロゾリン等）、ベンズイミダゾール誘導体 (カルベンダジム、べノミル、チアベンダゾ一ル、チオファネートメチル等）、ァミン誘導体（フェンプロピモルフ、トリデモルフ、フェンプロビジン、スピロキサミン等）、ァゾ一ル誘導体 (プロピコナゾール、トリアジメノール、プ口クロラズ、ペンコナゾ一ル、テブコナゾ一ル、フルシラゾ一ル、ジニコナゾール、ブロムコナゾール、エポキシコナゾール、ジフエノコナゾ一ル、シプロコナゾール、メトコナゾール、トリフルミゾ一ル、テトラコナゾール、マイクロブ夕ニル、フエンブコナゾール、へキサコナゾール、フルキンコナゾ一ル、トリティコナゾール、ビテル夕ノール、イマザリル、フルトリアホール等）、シモキサニル、ジメトモルフ、ファモキサドン、フエナミドン、ィプロヴァリカルブ、ベンチアバリカルプ、シァゾフアミド、ゾキサミド、エタポキサム、ニコビフェン、フェンへキサミド、キノキシフェン、ジエトフエンカルブ及びァシベンゾラール Sメチルがあげられる。以下、本発明を製造例、製剤例及び試験例等によりさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの例のみに限定されるものではない。

まず、本発明化合物の製造例を示す。

製造例 1

2—ァミノ一 3— (3, 4ージメトキシフエ二ル) ーピラジン 0. 52 gとトリェチルァミン 0。 3 gとをテトラヒドロフラン 2 Omlに溶解し、ここに 2— (2 —プロピニルォキシ） _2— （4—クロ口フエニル）酢酸塩化物 0. 66 gを滴下して、室温で 2時間攪拌した。その後、反応混合物に希塩酸を加え、酢酸ェチルで抽出した。有機層を減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー (展開溶媒；へキサン酢酸ェチル = 1/1) に付し、 N— {3- (3, 4—ジメトキシフェニル）ーピラジン一 2—ィル } - 2 - (2—プロピニルォキシ）一 2— (4—クロロフエニル）ァセトアミド (本発明化合物 1 ) 0. 32 gを得た。

¹ H-NMR (CDC 13 , TMS) δ (ppm) ： 2. 51 ( 1 H, t, J = 2. 4H z)、 3. 92 (3H, s)、 3. 94 (3H, s)、 4. 07 ( 1 H, ddd, J =2. 4H z , 15. S H z ) . 4. 27 ( 1 H, dd, J = 2. 4Hz, 15. 8Hz)、 5. 11 (1 H, s)、 6. 83 ( 1 H, d, J = 8. 3 H z ) > 7. 1 4 (1 H, dd， J = 2. 0Hz, 8. 3Hz), 7. 22 ( 1 H, d, J = 2. 0Hz), 7. 30 - 7. 35 (4H, m)、 8. 36 ( 1 H, d， J = 2. 4Hz), 8. 44 (1H, d, J = 2. 4 H z )、 9. 04 ( 1 H, s)

製造例 2

2 - (2 _プロピニルォキシ) -P-トリル酢酸 408mg、 3 - (3， 4—ジメトキシフエニル) ーピラジン— 2—ィルーアミン 462mg、 1ーェチルー 3— ( 3—ジメチルァミノプロピル）カルポジィミド塩酸塩（以下、 WS Cと記載する。） 422mg及びピリジン 8mlを混合し、 115°Cで 6時間攪拌した。その後、反応混合物に水を加え、酢酸ェチルで抽出した。有機層を 5%塩酸で 2回、飽和重曹水、水ついで飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で濃縮して、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、 N—{3—（3， 4ージメトキシフエニル) ーピラジン— 2—ィル }一 2— (2 _プロピニルォキシ) -2- (p—トリル） —ァセトアミド（本発明化合物 2) 290mgを得た。

Ή-NMR (CDC 1₃, TMS) δ (p pm)： 9. 08 (1 H, b r . s)、 8. 42 (1H, d， J = 2. 4Hz), 8. 36 ( 1 H, d, J = 2. 4Hz), 7. 26 (2H, d， J = 7. 9 Hz), 7. 22 ( 1 H, d, J = 1. 9Hz)ゝ 7. 20 (1H, dd， J = 8. 2Hz、 2. lHz)、 7. 1 5 (2H, d, J = 7. 9Hz)、 6. 87 (1H， d, J = 8. 2 Hz), 5. 10 ( 1 H, s)、 4. 2

3 (1H, d d, J = 1 5. 7Hz, 2. 4Hz)、 4. 03 ( 1 H, dd, J = 15. 7Hz , 2. 4Hz)、 3. 93 (3H， s)、 3. 90 (3H， s)、 2.

48 (1H, t, J = 2. 4Hz)、 2. 34 (3H, s) 製造例 3

2—メトキシ一 2 (p—トリル）酢酸 360mg、 3— (3, 4ージメトキシフェニル) ーピラジン一 2—ィル一アミン 462mg、 WS C 422 mg及びピリジン 8mlを混合し、 1 1 5°Cで 6時間攪拌した。その後、反応混合物に水を加え酢酸ェチルで抽出した。有機層を 5%塩酸で 2回、飽和重曹水、水ついで飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で濃縮して、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、 N- { 3 - (3, 4—ジメトキシフェニル) ーピラジン一 2ーィル } — 2—メトキシ— 2— (p—トリル） —ァセトァミド (本発明化合物 3) 129mgを得た。

'H-NMR (CDC 1₃, TMS) δ (p pm) : 9. 06 ( 1 H, b r. s)、 8. 41 (1H, d, J = 2. 4Hz)、 8. 36 ( 1 H， d, J = 2. 4Hz)ゝ 7. 26 (2H, d, J = 8. lHz)、 7. 21 ( 1 H， d, J = 1. 9Hz), 7. 12〜7. 19 (3H， m)、 6. 83 (1H， d, J = 8. 3Hz), 4. 70 (1 H， s)、 3. 93 (3H, s)、 3. 89 (3H, s)、 3. 37 (3H， s)、 2. 34 (3H， s) 製造例 4

2— （2 _プロピニルォキシ） ― (4—ブロモフエニル）酢酸 538mg、 3— (3, 4—ジメトキシフエ二ル）一ピラジン一 2—ィル一アミン 462mg、 WS C422mg及びピリジン 8m 1を混合し、 115 °Cで 6時間攪拌した。その後、反応混合物に水を加え、酢酸ェチルで抽出した。有機層を 5%塩酸で 2回、飽和重曹水、水ついで飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で濃縮して、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、 N— {3- (3， 4—ジメトキシフエ二ル) ーピラジン一 2—ィル } -2 - (4一ブロモフエニル) -2- (2—プロピニルォキシ） —ァセトアミド (本発明化合物 4) 434 m gを得た。

¹ H-NMR (CDC 13, TMS) δ ( p m)： 9. 03 (1H, b r . s)、 8. 35〜8. 45 (2H， m)、 7. 49 (2H, d, J = 8. 4Hz), 7. 27 (2 H， d, J = 8. 2Hz)、 7. 21 ( 1 H, d, J = 1. 9Hz), 7. 12 (1 H， d d, J = 8. 3Hz, 2. 0Hz), 6. 81 (1H, d, J = 8. 2Hz)、 5. 09 (1H, s)、 4. 27 ( 1 H, d d, J = 15. 6Hz， 2. 4Hz), 4. 07 (1H， dd, J = 15. 6Hz, 2. 4Hz)、 3. 93 (3H， s), 3. 91 (3H， s)、 2. 50 (1H， t, J = 2. 4Hz) 製造例 5

2—メトキシー 2— （4一ブロモフエニル）酢酸 490mg、 3 - (3, 4—ジメトキシフエ二ル）ーピラジン一 2—ィル一アミン 462mg、 WS C422mg 及びピリジン 8mlを混合し、 1 15°Cで 6時間攪拌した。その後、反応混合物に水を加え、酢酸ェチルで抽出した。有機層を 5%塩酸で 2回、飽和重曹水、水ついで飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で濃縮して、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、 N— {3- (3, 4ージメトキシフエニル） —ピラジン一 2—ィル } 一 2— （4—ブロモフエニル）一2— メトキシーアセトアミド（本発明化合物 5) 1 75mgを得た。

'H-NMR (CDC 1 J TMS) δ (ρ pm)： 9. 00 (1Η, b r. s), 8. 43 (1 H, d， J = 2 4Hz)ゝ 8. 35 (1H， d， J = 2. 4Hz), 7. 49 (2H, d, J = 8 4Hz)、 7. 2 7 (2H, d， J = 8. 2Hz)、 7. 21 (1 H, d, J = 1 9Hz)、 7. 07 (1H, d d, J = 8. 4Hz、 2.

H, d， J = 8. 4Hz)、 4. 69 ( 1 H, s)、 3. 9 9 (3H, s)、 3. 40 (3H， s) 製造例 6

2— (2—プロピニルォキシ) 一 (5, 6, 7, 8—テトラヒドロ一ナフタレン —2—ィル）酢酸、 3 - (3, 4—ジメトキシフエ二ル) —ピラジン— 2—ィル一ァミン 462mg、 WS C 422m g及びピリジン 8m 1を混合し、 1 1 5°Cで 1 2. 5時間攪拌した。その後、反応混合物に水を加え、酢酸ェチルで抽出した。有機層を 5%塩酸で 2回、飽和重曹水、水ついで飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で濃縮して、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ一に付し、 N— { 3― (3, 4—ジメトキシフエニル) ーピラジン一 2— ィル } 一 2— (2—プロピニルォキシ） - 2 - (5, 6, 7, 8—テトラヒドローナフタレン一 2—ィル) 一ァセトアミド (本発明化合物 6) 193mgを得た。

Ή-NMR (CDC 1₃, TMS) δ (p pm)： 9. 09 (1H， b r . s)、 8. 41 (1H， d， 3 = 2. 4Hz), 8. 36 ( 1 H， d， J = 2. 4Hz) 7. 20〜7. 25 (2H, m)、 7. 00〜7. 09 (3H， m)、 6. 90 (1 H, d, J = 8. 7Hz)、 5. 05 ( 1 H， s), 4. 23 ( 1 H, d d, J = 1 5. 6Hz, 2. 4Hz), 4. 04 (1H, d d, J = 1 5. 6Hz, 2. 4Hz)、 3. 93 (3H， s)、 3. 91 (3H, s)、 2. 68〜2. 78 (4H, m)、 2. 48 (1H, t， J = 2. 4Hz), 1. 73〜1. 80 (4H， m) 製造例 7

2—メトキシー 2— (3, 4ージクロ口フエニル) 酢酸 470 m g、 3― (3,

4—ジメトキシフエ二ル）ーピラジン一2—ィル一アミン 462mg、 WS C42

2mg及びピリジン 8mlを混合し、 1 15 で 6時間攪拌した。その後、反応混合物に水を加え、酢酸ェチルで抽出した。有機層を 5%塩酸で 2回飽和重曹水水ついで飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で濃縮して、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、 N— {3— (3，

4—ジメトキシフエニル）ーピラジン一 2—ィル } -2- (3, 4—ジクロ口フエニル）一 2—メトキシーアセトアミド (本発明化合物 Ί ) 142mgを得た。

Ή-NMR (CDC 13 , TMS) δ (ρ pm)： 8. 99 (1Η， b r . s)、 8. 44 (1 H, d, J = 2. 4Hz), 8. 36 ( 1 H, d, J = 2. 4Hz)、 7. 51 (1H， d, J = l. 9Hz), 7. 43 ( 1 H， d, J = 8. 2Hz)、 7. 26 (1H， d d, J = 8. 2Hz, 1. 9Hz)、 7. 22 ( 1 H, d， 1 = 2. lHz)、 7. 07 (1H, dd， J = 8. 2Hz, 1. 9Hz), 6. 81 (1H, d， J = 8. 4Hz)、 4. 69 (1H, s)、 3. 94 (3H, s)、 3. 91 (3 H, s)、 3. 42 (3H, s) 製造例 8

2—メトキシ一 2— （ナフタレン一 2—ィル）酢酸 432mg、 3— （3， 4— ジメトキシフエニル）一ピラジン一 2—ィルーアミン 462mg、 WSC422m g及びピリジン 8mlを混合し、 1 15°Cで 6時間攪拌した。その後、反応混合物に水を加え、酢酸ェチルで抽出した。有機層を 5%塩酸で 2回、飽和重曹水、水ついで飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で濃縮して、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、 N— {3- (3, 4— ジメトキシフエニル) —ピラジン一 2—ィル } _ 2—メトキシ一 2 - (ナフ夕レン一 2—ィル) —ァセトアミド（本発明化合物 8) 33 Omgを得た。

¹ H-NMR (CDC 13 , TMS) δ (ρ pm)： 9. 07 ( 1 Η, b r . s)、 8. 42 (1 H, d， J = 2. 4Hz)、 8. 35 (1 H, d, J = 2. 4Hz)、 7. 81〜7. 90 (4H, m)、 7. 46〜7. 53 (3H, m)、 7. 22 (1H， d, J = 1. 9Hz)、 7. 02 (1H, dd， J = 8. 2Hz, 1. 9Hz)、 6. 50 ( 1 H, d, J = 8. 2Hz)、 4. 91 ( 1 H， s), 3. 85 (3H， s )、 3. 74 (3H， s), 3. 46 (3H, s) 製造例 9

2—メトキシ— 2—フエニル酢酸 336mg、 3— (3， 4—ジメトキシフエ二ル）ーピラジン一 2 _ィル一アミン 462mg、 WSC422mg及ぴピリジン 8 mlを混合し、 1 1 5°Cで 6時間攪拌した。その後、反応混合物に水を加え、酢酸ェチルで抽出した。有機層を 5%塩酸で 2回、飽和重曹水、水ついで飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で濃縮して、残渣をシリ力ゲルカラムクロマトグラフィーに付し、 N— {3- (3， 4ージメトキシフエ二ル）ーピラジン一 2—ィル } 一 2—メトキシー 2—フエ二ルーァセトアミド（本発明化合物 9 ) 125m を得た。

¹ H-NMR (CDC 13 , TMS) δ (ρ pm)： 9. 06 (1Η， b r. s)、 8. 42 (1 H, d, J = 2. 4Hz)、 8. 35 ( 1 H, d, 1 = 2. 6Hz), 7. 3 1〜7. 41 (5H, m)、 7. 21 (1H, d， J = 1. 9Hz), 7. 12 (1 H, d d, J = 8. 2Hz, 1. 9Hz)、 6. 81 (1H， d， J = 8. 4Hz)、 4. 73 (1 H, s)、 3. 93 (3H， s)、 3. 88 (3H, s)、 3. 39 (3 H, s) 製造例 10

5_アミノー 4— (3， 4—ジメトキシフエ二ル) ピリミジン 0. 20 gと卜リェチルァミン 0. 20 gとをテトラヒドロフラン 10m lに溶解しここに 2— (2 一プロピニルォキシ) - 2 - (4一クロ口フエニル) 酢酸塩化物 0. 25 gを滴下して、室温で 2時間攪拌した。その後、反応混合物に希塩酸を加え、酢酸ェチルで抽出した。有機層を減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー (展開溶媒；へキサン Z酢酸ェチル =1/1) に付し、 N— {4- (3， 4—ジメトキシフェニル）一ピリミジン一 5—ィル } 一 2— (2—プロピニルォキシ) - 2 - (4- クロ口フエニル) ァセトアミド (本発明化合物 10 ) 0. 225 gを得た。

¹ H-NMR (CDC 1₃, TMS) δ (ppm) ： 2. 53 ( 1 H, t， J = 2. 4H z)、 3. 96 (3H， s)、 3. 98 (3H， s), 4. 01 ( 1 H, d d, J = 2. 4Hz, 15. 8Hz)ヽ 4. 25 ( 1 H, dd， J = 2. 4Hz, 1 5. 8 Hz)、 5. 1 5 (1H, s)、 7. 02 ( 1 H, d, J = 8. 7Hz), 7. 25 (1H, s)、 7. 26 (1H, d， J = 8. 7Hz)ゝ 7. 32-7. 39 (4H, m)、 8. 95 (1H， s) 9. 01 ( 1 H, s)、 9. 64 (1H, s) 製造例 1 1

4—アミノー 5— (3， 4—ジメトキシフエ二ル）ピリミジン 0. 15 gと 2— (2—プロピオニルォキシ） _2_ (4—クロ口フエニル）酢酸 168と^ 3 CO. 18 gとをピリジン 10mlに混合し、 100°Cで 2時間攪拌した。反応混合物に希塩酸を加え、酢酸ェチルで抽出し、有機層を減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー (展開溶媒；へキサン Z酢酸ェチル =1/1) に付し、 N - { 5 - (3, 4ージメトキシフエ二ル) ピリミジン一 4ーィル } 一 2— (2—プロビニルォキシ) -2- (4—クロ口フエニル) ァセトアミド（本発明化合物 1 1) と記す。） 0. 039 gを得た。

¹ H-NMR (CDC 13 , TMS) δ ( p p m)： 2. 49 ( 1 H, t , J = 2. 4 H ζ ) * 91 H， s ) o · 96 (3H, s)、 3. 99 (1H, d d, J = 2. 4Hz, 1 5. 8Hz), 4. 19 (1H, d d， J = 2. 4Hz, 1 5. 8Hz)、 5. 10 (1 H, s)、 6. 86 ( 1 H, d, J = 2. 0 H z )、 6. 9

2 (1 H, d d, J = 2. 0Hz, 8. 3Hz)、 6. 99 (1H， d， J = 8. 3Hz), 7. 27 - 7. 35 (4H， m)、 8. 56 ( 1 H, s)、 9. 0 1 ( 1 H, s)、 9. 1 1 (1H， s) 次に、本発明化合物の製造中間体の製造について参考製造例を示す。

参考製造例 1

4 _クロ口フエニルダリオキシル酸メチル 80. 2 gをメタノール 500m 1に溶解し、 0〜5°Cで水素化ホウ素ナトリウム 3. 8 gを加え、室温で 2時間攪拌した。その後、反応混合物を減圧下濃縮した。残渣に水を加え、酢酸ェチルで抽出した。有機層を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；へキサン Z酢酸ェチル = 5 1〜 2 / 1 )に付し、 2—ヒドロキシ一 2— (4 —クロ口フエニル）酢酸メチル 62. 4 gを得た。

Ή-NMR (CDC 1₃, TMS) δ (p pm) ： 3. 51 (1H， d, J = 5. 3Hz)、 3. 76 (3H, S)、 5. 15 ( 1 H, d, J = 5. 3Hz)、 7. 3 1-7. 38 (4H, m)

2—ヒドロキシ— 2— (4—クロ口フエニル）酢酸メチル 62. 4gとトリェチルァミン 40. 8 gとをテトラヒドロフラン 200m 1に溶解し、 0°Cで塩化メタンスルホニル 42. 8 gを加え、室温で 3時間攪拌した。その後、反応混合物を減圧下濃縮し、残渣に酢酸ェチルを加えて濾過した。濾液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリ力ゲルク口マトグラフィー（展開溶媒；へキサン/酢酸ェチル = 3/1) に付し、 2—メタンスルホニルォキシ— 2— (4—クロ口フエニル）酢酸メチル 7 5. 6 gを得た。

¹ H-NMR (CDC 13 , TMS) (p pm)： 3. 12 (3H， s)、 3. 7 8 (3H, s)、 5. 92 (1H, s 7. 36- 7. 43 (4H, rn)

2—メタンスルホニルォキシ一 2— (4一クロ口フエニル) 酢酸メチル 70 gと 2一プロピニルアルコール 70 gとを混合し、 80°Cで 1. 5時間攪拌した。その後、反応混合物にトルエンを加えて減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルク口マトグラフィ一（展開溶媒；へキサン酢酸ェチル = 10/1)に付し、 2— (2 —プロピニルォキシ） - 2 - (4—クロ口フエニル）酢酸メチルと 2— (2—プロピニルォキシ）一 2— (4—クロ口フエニル) 酢酸 (2—プロピニル) との混合物 64. 6 gを得た。

lH— NMR (CDC 1₃, TMS) δ (ppm) : 2. 50 (1H， t, J = 2. 4Hz)、 3. 12 (3H, s)、 4. 16 ( 1 H， dd, 1 = 2. 4Hz， 16. 2Hz), 4. 30 (1H， dd, J = 2. 4Hz, 16. 2Hz)、 5. 19 (1

¹ H-NMR (CDC 1₃, TMS) δ (ppm) : 2. 47 (1H, t, J = 2. 4Hz)、 2. 51 (1H， t, J = 2. 4Hz), 4. 18 ( 1 H, dd, J = 2. 4Hz, 16. 2Hz)、 4. 31 (1H, dd, J = 2. 4Hz, 16. 2Hz), 4, 67 (1H, d d, J = 2. 4Hz, 15. 4Hz)ゝ 4. 76 (1H， dd， J = 2. 4Hz, 15. 4Hz), 5. 23 (1 H, s)、 7. 33-7. 42 (4 H， m) 上記の 2— (2—プロピニルォキシ) 一 2— (4—クロ口フエニル）酢酸メチルと 2— (2—プロピニルォキシ） - 2 - (4一クロ口フエニル) 酢酸（2—プロピニル）との混合物 64. 6 gをテトラヒドロフラン 800m 1に溶解し、 0°Cで水酸化リチウム水溶液（水酸化リチウム 6. 74 gと水 28 Om 1との混合物）を滴下し、 0°C〜室温で 3時間攪拌した。その後、反応混合物に希塩酸を加え、酢酸ェチルで抽出した。有機層を乾燥し、減圧下濃縮して、生成した結晶をへキサンで洗浄して、 2— (2—プロピニルォキシ）一 2— （4一クロ口フエニル）酢酸 43. 4 gを得た。

¹ H-NMR (CDC 1₃, TMS) δ (ppm) ： 2. 51 ( 1 H， t, J = 2. 4Hz)、 4. 15 (1 H, d d, J = 2. 4Hz, 16. OHz)、 4. 32 (1 H， d d, 1 = 2. 4Hz, 16. OHz)、 5. 20 ( 1 H, s)、 7. 33— 7. 44 (4H, m)、 8. 70 - 9. 50 ( 1 H， b r)

2— (2—プロピニルォキシ）一 2— （4一クロ口フエニル）酢酸 4. 7 gと塩化チォニル 3. O gとをトルエン 5 Omlと混合し、 100°Cで 2時間攪拌した。その後、室温付近まで放冷してから反応混合物を減圧下濃縮して、 2— (2—プロピニルォキシ）一 2— （4—クロ口フエニル）酢酸塩化物 5. O gを得た。

lH - NMR (CDC 1₃, TMS) δ (p pm)： 2. 57 (1H, t , 1 = 2. 0Hz), 4. 28 (1H， dd, J = 2. 0Hz, 16. 2Hz), 4. 36 (1 H, dd, J = 2. 0Hz: 16. 2Hz), 5. 39 (1H, s)、 7. 37-7. 44 (4H, m) 参考製造例 2

2, 3—ジクロロピラジン 1. 6 g、 3, 4—ジメトキシフエ二ルホウ酸 1. 0 g、リン酸三力リゥム n水和物 3. 6 g及びエチレングリコールジメチルエーテル 3 Omlと混合し、窒素雰囲気下で { 1, 1，一ビス (ジフエニルホスフィノ) フエロセン } ジクロロパラジウム一塩ィ匕メチレン錯体 15 Omgを加えて、 80。Cで 4時間攪拌した。その後、反応混合物を室温付近まで放冷してからセラィト濾過し、濾液を減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、 2—クロ口 - 3 - (3, 4—ジメトキシフエ二ル) ピラジン 1. 1 gを得た。

¹ H-NMR (CDC 1₃, TMS) δ (ppm) ： 3. 95 ( 3 H, s)、 3. 96 (3 H, s)、 6. 98 (1H, d， J = 7. 5Hz)、 7. 39 ( 1 H, d， J = 2. 0Hz)、 7. 49 (1H, dd， J = 2. 0Hz, 7. 5 Hz), 8. 29 ( 1 H， d， J = 2. 0Hz)、 8. 56 ( 1 H, d, J = 2. 0Hz)

2—クロ口— 3— (3, 4ージメトキシフエ二ル) ピラジン 2. 0 g及びアジ化ナトリウム 1. 1 gを N， N—ジメチルホルムアミド 15m 1に加え、 1 10°Cで 6 時間攪拌した。その後、反応混合物を室温付近まで放冷してから濾過し、濾液を減圧下濃縮し、 2—アジド— 3— （3， 4—ジメトキシフエニル）ピラジン 1. 8 g を粗生成物として得た。

— NMR (CDC 1₃, TMS) δ (ppm) ： 90 (6H, s)、 7. 25 (1 H, d， J = 8. 7Hz)、 8. 28 ( 1 H, J = 2. lHz)、 8. 44 (1 H， d, J = 4. 4Hz)、 8. 58 ( 1 H, J = 2. 1Hz, 8. 8Hz)、 9. 29 (1H, d， J =4. 4Hz) メタノール 20 m 1及び濃塩酸 20mlの混合物に、上記 2—アジドー 3— (3， 4—ジメトキシフエニル) ピラジン及び塩化第一スズ 7. 6 gを加え、 70 で 7 時間攪拌した。その後、反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸ェチルで抽出した。有機層を乾燥し、減圧下濃縮した。得られた結晶をへキサンで洗浄して、 2—ァミノ— 3― (3， 4ージメトキシフエニル) ピラジン 1. 2 gを得た。

¹ H-NMR (CDC 1₃, TMS) δ (ppm) ： 3. 93 (3H, s)、 3. 94 (3 H, s)、 4. 83 (2H, b r)、 6. 96 ( 1 H, d, J = 8. 3Hz)、 7. 25 - 7. 34 (2H, m), 7. 94 (1H， d， J = 2. 8Hz)、 8. 01 (1 H, d, J = 2. 8Hz) 参考製造例 3

炭酸ジェチル 214 gを約 125°Cにして、金属ナトリウム 6. 3 gを徐々に加えた。混合物が均一となるまで攪拌し、ここに（3， 4ージメトキシフエエル）ァセトフエノン 50. 0 gと炭酸ジェチル 50 gとの混合物を徐々に加え、 14 or: で攪拌した。反応混合物を室温付近まで放冷してから、水と酢酸の混合液（水ノ酢酸 =4/1) を加えて分液し、水層をジェチルエーテルで 2回抽出した。有機層を混合して水で 3回洗浄した。有機層を乾燥し、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、 3— (3, 4—ジメトキシフエ二ル） _ 3—ォキソ一プロピオン酸ェチル 55 gを得た。

Ή-NMR (CDC 13 , TMS) δ (ρ pm) ： 1. 39 (3Η， t, 1 = 7. 2Ηζ)、 3. 87〜3. 94 (8Η， m)、 4. 36 (2Η， q, J = 7. 2Ηζ)、 6. 89 (1Η, d， J = 8Hz)、 7. 50 ( 1 Η, d, J = 2Hz), 7. 69 (1H， dd， J = 8, 2Hz) 無水酢酸 67 gに 3— （3， 4ージメトキシフエ二ル）一3—ォキソープ口ピオン酸ェチル 55 gとオルトギ酸ェチル 49 gとを加え、 1 20 で 2時間、 14 0°Cで 5時間攪拌した。その後、減圧下濃縮して 2_ (3, 4—ジメトキシフエ二ルペンゾィル） - 3一エトキシアクリル酸ェチル 64 gを粗生成物として得た。

エタノール 50m 1に参考製造例 7で得られた 2— （3， 4—ジメトキシフエ二ルペンゾィル）一 3—エトキシアクリル酸ェチル 10 gとホルムアミジン酢酸塩 4. 1 gとを混合し、ここにナトリウムエトキシド (重量％； 20 %) のエタノール溶液を加えて 50でで 4時間攪拌した。その後、反応混合物を減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、 5—エトキシカルポニル— 4一 (3, 4— ジメトキシフエニル) ピリミジン 4. 7 gを得た。

¹ H-NMR (CDC 13 , TMS) δ (ppm) ： 1. 22 (3H， t , J = 7. 5H z), 3. 95 (6H, s )、 4. 29 (2H， q, J = 7. 5Hz), 6. 93 (1 H， d, J = 8. 3Hz), 7. 20 ( 1 H, dd_: J = 2. 0Hz, 8. 3Hz)、

7. 31 (1H, d， J = 2. 0Hz)ゝ 8 99 (1H, s)ゝ 9. 26 ( 1 H, s) テトラヒドロフラン 20m 1に 5—エトキシカルポニル一 4一（3, 4_ジメトキシフエニル）ピリミジン 2. 6 gと水酸化カリウム水溶液（3 mo 1 / 1) 5m 1とを加え、 4時間加熱還流した。室温付近まで放冷してから反応混合物を希塩酸で酸性にして、酢酸ェチルで抽出した。有機層を乾燥し、減圧下濃縮して 4一 (3, 4—ジメトキシフエ二ル）ピリミジン一 5—カルボン酸 1. 4gを得た。

¹ H-NMR (DMSO— d₆， TMS) δ (ppm)： 3. 79 (3H, s)、 3. 82 (3H, s)、 7. 07 (1H, d， J = 8. 7Hz)、 7. 26 - 7. 33 (2H, m), 8. 96 (1H， s)、 9. 25 (1H， s)

1, 1ージメチルエタノール 2 Om 1に 4一 (3, 4—ジメトキシフエニル) ピリミジン一 5 _カルボン酸 1. 4 gとトリエチルァミン 0. 81 gとジフエニルホスホリルアジド 1. 8 gとを加え、 6時間加熱還流した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸ェチルで抽出した。有機層を減圧下濃縮した。残渣とトリフルォロ酢酸 5m 1と酢酸 2 Om 1と水 5m 1とを混合し、 6 Ot:で 1時間攪拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸ェチルで抽出した。有機層を乾燥し、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、 5—アミノー 4— (3, 4—ジメトキシフエニル）ピリミジン 0. 60 g を得た。

¹ H-NMR (CDC 1₃, TMS) δ (ppm) ： 3. 93 (6H, s)、 4. 10 (2 H， s)、 6. 96 (1H, d, J = 8. 3Hz), 7. 32 ( 1 H， d， J = 2. OHz)、 7. 37 (1H， dd， J = 2. OHz, 8. 3Hz), 8. 20 ( 1 H, s)、 8. 67 (1H， s) 参考製造例 4

水素化ナトリウム（重量％； 60%) 6. 8 gをギ酸ェチル 5 Om 1に混合し、ここに 0°Cで 2— （3, 4—ジメトキシフエニル）ァセトニトリルの N, N—ジメチルホルムアミド溶液（2— (3， 4—ジメトキシフエ二ル) ァセトニトリル 25 gと N, N—ジメチルホルムアミド 30mlとの混合物）を滴下し、室温で 3時間攪拌した。その後、反応混合物に希塩酸を加え、酢酸ェチルで抽出し、有機層を乾燥、濃縮した。得られた結晶をへキサンで洗浄して 2— （3， 4ージメトキシフエニル）一 3—ヒドロキシアクリロニトリル 22 gを得た。

融点： 114°C

N, N—ジメチルホルムアミド 100m 1に、 2 - (3, 4—ジメトキシフエ二ル）一 3—ヒドロキシアクリロニトリル 10 gとヨウ化メチル 4. 5mlと炭酸力リウム 11 gと炭酸セシウム 16 gとを混合し、室温で 4時間攪拌した。その後、反応混合物に希塩酸を加え、酢酸ェチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリゥム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄後、濃縮して 2— (3, 4ージメトキシフエ二ル） —3—メトキシアクリロニトリル 11 gを得た。

2- (3, 4ージメトキシフエ二ル) 一 3—メトキシアクリロニトリル

¹ H-NMR (CDC 1₃, TMS) δ ( p p m)： 3. 89 (3H, s)、 3. 89 (3H, s) 、 3. 98 (3H, s) 6. 86 ( 1 H, d, J = 8. 4Hz)、 6. 93 (1H， s)、 7. 26 ( 1 H, d, J = 2. OHz), 7. 29 ( 1 H， dd， J = 2. OHz, 8. 4 H z ) ホルムアミジン酢酸塩 6. 4 gをエタノール 12 Om 1に混合し、 O :でナトリゥムェトキシドのエタノール溶液（重量％ ; 20%) 31 gを加えた。 0°Cで 5分間攪拌した後、 2— （3, 4—ジメトキシフエエル）一 3—メトキシァクリロニトリル 13 gを加え、室温で 30分間、 65 °Cで 4時間攪拌した。その後、室温付近まで放冷してから反応混合物に水を加え、クロ口ホルムで 3回抽出した。有機層を合わせて水で洗浄し、乾燥、濃縮した。残渣にトルエンを加えて、得られた結晶を冷トルエン、次いで冷へキサンで洗浄し、減圧乾燥して、 4一アミノー 5— (3， 4—ジメトキシフエ二ル）ピリミジン 3. 5 gを得た。

Ή-NMR (CDC 1₃, TMS) δ (p pm)： 3. 91 (3H, s)、 3. 94

(3H， s), 5. 09 (2H， b r)、 6. 91 (1H, s)、 6. 98 (2H, m) 8. 17 (1H, s)、 8. 55 ( 1 H， s) 次に製剤例を示す。なお、部は重量部を表す。

製剤例 1

本発明化合物 1〜 11の 50部、リグニンスルホン酸カルシウム 3部、ラウリル硫酸マグネシウム 2部及び合成含水酸化珪素 45部をよく粉砕混合することにより、水和剤を得る。

製剤例 2

本発明化合物 1〜11の 20部とソルピタントリオレエ—ト 1. 5部とを、ポリビニルアルコール 2部を含む水溶液 28. 5部と混合し、湿式粉砕法で微粉砕した後、この中に、キサンタンガム 0. 05部及びアルミニウムマグネシウムシリケ一ト 0. 1部を含む水溶液 40部を加え、さらにプロピレングリコ一ル 10部を加えて攪拌混合し、フロアブル製剤を得る。

製剤例 3

本発明化合物 1〜 11の 2部、カオリンクレー 88部及びタルク 10部をよく粉碎混合することにより、粉剤を得る。

製剤例 4

本発明化合物 1〜 11の 5部、ポリオキシエチレンスチリルフエニルエーテル 1 4部、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム 6部及びキシレン 75部をよく混合することにより、乳剤を得る。

製剤例 5

本発明化合物 1〜11の 2部、合成含水酸化珪素 1部、リグニンスルホン酸カルシゥム 2部、ベントナイト 30部及びカオリンクレー 65部をよく粉砕混合した後、水を加えてよく練り合せ、造粒乾燥することにより、粒剤を得る。

製剤例 6

本発明化合物 1〜11の 10部；ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフエートアンモニゥム塩 50部を含むホワイトカーボン 35部；及び水 55部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することにより、フロアブル製剤を得る。次に、本発明化合物が植物病害の防除に有用であることを試験例で示す。

なお防除効果は、調査時の供試植物上の病斑の面積を目視観察し、無処理区の病斑の面積と本発明化合物処理区の病斑の面積を比較することにより評価した。試験例 1

プラスチックポットに砂壌土を詰め、トマト（品種:ポンテローザ）を播種し、温室内で 2 0日間生育させた。本発明化合物 1、 2、 3、 4、 5、 6、 7、 8、 1 0および 1 1の各々を製剤例 6に準じてフロアブル製剤とした後、水で本発明化合物の濃度が 5 0 0 p p mとなるような希釈液を調製した。該希釈液を上記のトマト苗の葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、トマト疫病の遊走子嚢の水懸濁液（約 1 0 0 0 0個/ m 1 ) を噴霧（植物 1個体あたり約 2 m 1 の割合）した。その後、このトマト苗を 2 3 °C、相対湿度 9 0 %以上の条件下で一日栽培し、さらに昼間 2 4 °C、夜間 2 0 °Cの温室に移して 4日間栽培した。植物上の病斑面積を調査した。上記本発明化合物 1、 2、 3、 4、 5、 6、 7、 8、 1 0 および 1 1の希釈液を散布した植物上の病斑面積は、無処理区の病斑面積の 1 0 % 以下であった。

試験例 2

プラスチックポットに砂壌土を詰め、ブドウ（品種：ベリー A) を播種し、温室内で 4 0日間生育させた。本発明化合物 1、 2、 3、 4、 5、 6、 7、 1 0および 1 1を製剤例 6に準じてフロアブル製剤とした後、水で本発明化合物の濃度が 2 0 0 p p mとなるような希釈液を調製した。該希釈液を前記のプドウ葉面に充分付着するように茎葉散布した。次いで葉面上の散布液を風乾させた後、プドウべと病の遊走子囊懸濁液を噴霧接種した。接種後 2 3 °C、相対湿度 9 0 %以上の条件下で一日栽培し、その後昼間 2 4 、夜間 2 0 の温室に移して 6日間栽培した。

植物上の病斑面積を目視観察した。植物上の病斑面積を調査した。上記本発明化合物 1、 2、 3、 4、 5、 6、 7、 1 0および 1 1の希釈液を散布した植物上の病斑面積は、無処理区の病斑面積の 1 0 %以下であった。産業上の利用可能性

本発明化合物は優れた植物病害防除効力を有し、本発明化合物の有効量を植物または土壌に処理することにより植物病害を防除することができる。

Claims

の式（1)

[式中、 A¹— A²=A³— A⁴は、 N— CH=CH— N、 N— CH = N— CH、または CH_N=CH— Nを表し、

X¹ は OR⁴基を表し、 Y¹ は水素原子を表すか、あるいは X¹ と Y¹ とが一緒になつて =NOR⁵基を表し、

R¹ は水素原子、ハロゲン原子または C 1—C 3アルキル基を表し、 R² は水素原子、八ロゲン原子または C 1 _C 3アルキル基を表すか、あるいは R¹ と R² とが一緒になつて、トリメチレン基、テトラメチレン基または CH=CH— CH=CH 基を表し、

R³はじ 1一 C 3アルキル基または C 3-C4アルキニル基を表し.,

R⁴は水素原子、 C 1 -C 3アルキル基または C 3 -C4アルキニル基を表し-. R⁵は C 1— C 3アルキル基または C 3-C4アルキニル基を表す。〕

で示されるアミド化合物。

2. 式 (1) において、 A¹— A²=A³— A⁴が N— CH=CH— Nである請求項

1に記載のアミド化合物。

3. 式 (1) において、 A¹— A²= A³— A⁴が N _ C H = N— C Hである請求項 1に記載のアミド化合物。

4. 式（1) において、 A¹— A²=A³— A⁴が CH— N=CH— Nである請求項 1に記載のアミド化合物。

5. 式（1) において、 X¹ が OR⁴基であり、 Y¹ が水素原子である請求項 1 から 4のいずれかに記載のアミド化合物。

6. 式（1) において、 X¹ が OR⁴基であり、 Y¹ が水素原子であり、 R⁴ が水素原子である請求項 1から 4のいずれかに記載のアミド化合物。

7. 式（1) において、 X¹ が OR⁴基であり、 Y' が水素原子であり、 R⁴ が C 1一 C 3アルキル基である請求項 1から 4のいずれかに記載のアミド化合物。

8. 式（1) において、 X¹ が OR⁴基であり、 Y¹ が水素原子であり、 R⁴ が C 3— C 4アルキニル基である請求項 1から 4のいずれかに記載のアミド化合物。

9. 式（1) において、 X¹ と Y¹ がー緖になって = N〇R⁵基である請求項 1 から 4のいずれかに記載のアミド化合物。

10. 式（1) において、 X¹ と Y¹ がー緖になって =N OR⁵ 基であり、 R⁵ が C 1—C 3アルキル基である請求項 1から 4のいずれかに記載のアミド化合物。

1 1. 式（1) において、 R ³が C 1一 C 3アルキル基である請求項 1から 4のいずれかに記載のアミド化合物。

12. 式（1) において、 R ³が C 3— C 4アルキニル基である請求項 1から 4のいずれかに記載のアミド化合物。

13. 請求項 1〜12のいずれかに記載のアミド化合物と担体（carrier) とを含有する殺菌剤組成物。

14. 請求項 1〜 12のいずれかに記載のアミド化合物を植物または土壌に処理することを特徴とする植物病害防除方法。