WO2003086959A3 - Transferverfahren zur herstellung mikrostrukturierter substrate - Google Patents

Transferverfahren zur herstellung mikrostrukturierter substrate Download PDF

Info

Publication number
WO2003086959A3
WO2003086959A3 PCT/EP2003/003990 EP0303990W WO03086959A3 WO 2003086959 A3 WO2003086959 A3 WO 2003086959A3 EP 0303990 W EP0303990 W EP 0303990W WO 03086959 A3 WO03086959 A3 WO 03086959A3
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
coating composition
production
transfer method
stamp device
substrate
Prior art date
Application number
PCT/EP2003/003990
Other languages
English (en)
French (fr)
Other versions
WO2003086959A2 (de
Inventor
Andreas Gier
Martin Mennig
Peter W Oliveira
Helmut Schmidt
Original Assignee
Inst Neue Mat Gemein Gmbh
Andreas Gier
Martin Mennig
Peter W Oliveira
Helmut Schmidt
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Inst Neue Mat Gemein Gmbh, Andreas Gier, Martin Mennig, Peter W Oliveira, Helmut Schmidt filed Critical Inst Neue Mat Gemein Gmbh
Publication of WO2003086959A2 publication Critical patent/WO2003086959A2/de
Publication of WO2003086959A3 publication Critical patent/WO2003086959A3/de

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)

Abstract

Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines mit einer Mikrostruktur versehenen Substrats über ein Transferverfahren beschrieben, bei dem man eine Prägevorrichtung in eine Beschichtungszusammensetzung eindrückt, die Prägevorrichtung aus der Beschichtungszusammensetzung entfernt, wobei Beschichtungszusammensetzung in den vertieften Stellen der Prägevorrichtung verbleibt, die Prägevorrichtung aufdas Substrat aufdrückt, die mit der Prägevorrichtung auf das Substrat übertragene Beschichtungszusammensetzung härtet und die Prägevorrichtung entfernt, wobei die Beschichtungszusammensetzung ein organisch modifiziertes anorganisches Polykondensat oder dessen Vorstufen und nanoskalige anorganische Feststoffteilchen umfasst.Die nach diesem Verfahren erhältlichen, mit einer Mikrostruktur versehenen Substrate eignen sich insbesondere für optische oder mikromechanische Anwendungen.
PCT/EP2003/003990 2002-04-17 2003-04-16 Transferverfahren zur herstellung mikrostrukturierter substrate WO2003086959A2 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10217089.4 2002-04-17
DE2002117089 DE10217089A1 (de) 2002-04-17 2002-04-17 Transferverfahren zur Herstellung mikrostrukturierter Substrate

Publications (2)

Publication Number Publication Date
WO2003086959A2 WO2003086959A2 (de) 2003-10-23
WO2003086959A3 true WO2003086959A3 (de) 2004-02-05

Family

ID=28685143

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/EP2003/003990 WO2003086959A2 (de) 2002-04-17 2003-04-16 Transferverfahren zur herstellung mikrostrukturierter substrate

Country Status (2)

Country Link
DE (1) DE10217089A1 (de)
WO (1) WO2003086959A2 (de)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3821069B2 (ja) 2002-08-01 2006-09-13 株式会社日立製作所 転写パターンによる構造体の形成方法
WO2005005541A1 (ja) * 2003-07-10 2005-01-20 Asahi Organic Chemicals Industry Co., Ltd. フェノール樹脂組成物
DE10344777B4 (de) * 2003-09-26 2006-04-27 Infineon Technologies Ag Stempelvorrichtung für Softlithografie und Verfahren zu deren Herstellung
AT413058B (de) * 2003-12-02 2005-10-15 Schalkhammer Thomas Optischer sensor mit nanopartikel transfer sowie verfahren zur identifizierung von molekülen und objekten
CN100380139C (zh) * 2005-12-31 2008-04-09 北京大学 制备抗反射薄膜的生物模板法
WO2008106245A2 (en) * 2007-02-12 2008-09-04 Dow Corning Corporation Method of forming soft lithographic molds with fluorine modified elastomers
CN101878276B (zh) 2007-11-29 2013-08-07 Lg化学株式会社 具有增强的耐磨性和指纹痕迹可除去性的涂料组合物和涂膜
TWI485452B (zh) * 2012-10-31 2015-05-21 Compal Electronics Inc 複合導光板的製造方法
KR102233597B1 (ko) * 2013-06-19 2021-03-30 에베 그룹 에. 탈너 게엠베하 엠보싱 리소그래피용 엠보싱 화합물
DE102014113854A1 (de) 2014-09-24 2016-03-24 Ev Group E. Thallner Gmbh Verfahren zur Herstellung eines optischen Glaselements

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1997033737A1 (en) * 1996-03-15 1997-09-18 President And Fellows Of Harvard College Method of forming articles and patterning surfaces via capillary micromolding
US5817242A (en) * 1995-08-04 1998-10-06 International Business Machines Corporation Stamp for a lithographic process
DE10001135A1 (de) * 2000-01-13 2001-07-19 Inst Neue Mat Gemein Gmbh Verfahren zur Herstellung eines mikrostrukturierten Oberflächenreliefs durch Prägen thixotroper Schichten

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5817242A (en) * 1995-08-04 1998-10-06 International Business Machines Corporation Stamp for a lithographic process
WO1997033737A1 (en) * 1996-03-15 1997-09-18 President And Fellows Of Harvard College Method of forming articles and patterning surfaces via capillary micromolding
DE10001135A1 (de) * 2000-01-13 2001-07-19 Inst Neue Mat Gemein Gmbh Verfahren zur Herstellung eines mikrostrukturierten Oberflächenreliefs durch Prägen thixotroper Schichten

Also Published As

Publication number Publication date
DE10217089A1 (de) 2003-10-30
WO2003086959A2 (de) 2003-10-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
AU2001240506A1 (en) Method for producing a microstructured surface relief by embossing thixotropic layers
ATE451717T1 (de) Herstellungsverfahren
ATE544093T1 (de) Imprintmethode zur herstellung einer reliefschicht und deren nutzung als ätzmaske
WO2003087935A3 (de) Nanoimprint-resist
WO2003086959A3 (de) Transferverfahren zur herstellung mikrostrukturierter substrate
EP1785770A3 (de) Stempel für Mikro/Nano Imprint-Lithographie mit diamantähnlichen Kohlenstoff, sowie Verfahren zu seiner Herstellung
DK1241930T3 (da) Klæbende mikrostruktur og fremgangsmåde til fremstilling af samme
WO2004101177A3 (de) Verfahren zur beschichtung von substraten mit kohlenstoffbasiertem material
WO2008017472A3 (de) Verfahren zum herstellen einer porösen, keramischen oberflächenschicht
AU4963799A (en) Method of making optical replicas by stamping in photoresist and replicas formedthereby
WO2005121892A3 (en) Apparatus, system and method to vary dimensions of a substrate during nano-scale manufacturing
WO2010064185A3 (en) Electronic devices having plastic substrates
WO2009083146A3 (de) Verfahren zum erzeugen einer mikrostruktur
TW200709859A (en) Method for patterning coatings
AU2002327444A1 (en) Method for forming microstructures on a substrate using a mold
TW200737157A (en) Imprinting method and imprinting apparatus
TW200626476A (en) System and method for display device with activated desiccant
WO1999003684A8 (en) The production of microstructures for use in assays
ATE443605T1 (de) Strukturierung von hydrogelen
BRPI0607154A2 (pt) processo para a fabricação de artigos descontìnuos dotados de microestruturas
DK1595001T3 (da) Fremgangsmåde til overtrækning af en overflade
WO2009154571A8 (en) A method of making an imprint on a polymer structure
WO2007025628A8 (de) Verfahren zur strukturierung von oberflächen von substraten
WO2006132672A3 (en) A method of nanopatterning, a cured resist film use therein, and an article including the resist film
TW200743906A (en) Roller module for microstructure thin film imprint

Legal Events

Date Code Title Description
AK Designated states

Kind code of ref document: A2

Designated state(s): JP US

AL Designated countries for regional patents

Kind code of ref document: A2

Designated state(s): AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HU IE IT LU MC NL PT RO SE SI SK TR

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application
122 Ep: pct application non-entry in european phase
NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: JP

WWW Wipo information: withdrawn in national office

Country of ref document: JP