WO2002061505A1 - Masque, procede de mesure de caracteristique optique, procede de reglage d'un appareil d'exposition, procede d'exposition et procede de fabrication du dispositif - Google Patents

Masque, procede de mesure de caracteristique optique, procede de reglage d'un appareil d'exposition, procede d'exposition et procede de fabrication du dispositif Download PDF

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Abstract

Des premier et second motifs sont projetés de manière séquentielle sur un objet de projection par le biais d'un système optique de projection, tandis que la position de cet objet de projection est modifiée par rapport à l'axe optique du système optique de projection lors d'une étape prédéterminée. La valeur de largeur de ligne correspondant à largeur de ligne de l'image de chaque motif est mesurée à partir de la résistance électrique du motif transféré. Une caractéristique optique du système optique de projection est mesurée selon la corrélation (courbe A) entre la valeur de largeur de ligne correspondant à l'image du premier motif et la position de l'objet de projection par rapport à l'axe optique du système optique de projection et selon la corrélation (courbe B) entre la valeur de largeur de ligne correspondant à l'image du second motif et la position de l'objet de projection par rapport à l'axe optique du système optique de projection.
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