WO2001046724A1 - Systeme pour produire des circuits optiques par gravure dans un materiau semi-conducteur - Google Patents

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doped
etching
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optical circuits
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Hans W. P. Koops
Ivan M. Tiginyanu
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Deutsche Telekom Ag
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Abstract

L'invention concerne un procédé permettant de produire des circuits optiques par gravure électrolytique à guidage de champ de zones nanostructurées dans un matériau semi-conducteur. Selon ce procédé, le matériau semi-conducteur utilisé est dopé de manière conductrice homogène, dans une concentration prédéfinie, de manière que la zone de déplétion non électroconductrice intervenant sur les surfaces obtenues présente, eu égard aux conditions terminales de fabrication spécifiées, une épaisseur moyenne correspondant à exactement la moitié de l'épaisseur voulue de la paroi entre deux canaux.
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