VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM ENTSCHICHTEN VON DRUCKSCHABLONENMETHOD AND DEVICE FOR COATING PRINTING STENCILS
TECHNISCHES GEBIETTECHNICAL AREA
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren sowie eine Vorrichtung zum Entschichten von Druck- schabIonen.The present invention relates to a method and an apparatus for decoating printing stencils.
HINTERGRUND DER ERFINDUNGBACKGROUND OF THE INVENTION
Der Schablonen- bzw. Siebdruck, insbesondere für das Bedrucken von Textilien, ist ein gewerblicher Zweig, der in den letzten Jahren unter einem immer grösser werdenden Kostendruck arbeitet. Für die Durchführung von Siebdruckverfahren werden überwiegend Schablonen (Flachdruck- bzw, Rotationsdruckschablonen) aus Nickel verwendet, welche ausgesprochen teuer sind. Diese sind wiederum mit einem geeigneten Photolack beschichtet, welcher im Hinblick auf den gewünschten Druck ein entsprechendes Muster aufweist. Der Photolacküberzug auf der siebartigen Schablone definiert damit gewissermassen die Druckform. Nach variablen aber endlichen Durchlaufzeiten, müssen die Schablonen aber ausgetauscht werden, weil sie verschleissbedingt nicht mehr in der gewünschten Qualität (z.B. hohem Auflösungsvermögen) zu arbeiten vermögen. Infolge der ausgesprochen hohen Anschaffungskosten für eine Druckschablone ist man nun in den vergangenen Jahren dazu übergegangen die verbrauchte aber teure Schablone nicht einfach zu verwerfen (d.h. zu entsorgen) , sondern für ihre Wiederverwendung zu rezyklieren. Dies geschieht gemäss dem Stand der Technik im Rahmen eines aufwendigen Verfahrens, in dessen Verlauf der Photolack mit Hilfe eines geeigneten Lösungsmittels sowie allfälligen weiteren mechanischen Mittel entfernt wird. Dabei ist zu beachten, dass die zu rezyklierende, empfindliche Druckschablone ohne die geringste Beschädigung zurückerhalten wird.
Gemäss dem Stand der Technik wird damit die Photolackschicht mit Lösungsmittel chemisch aufgelöst und die Schablone solange mit weiterem organischen Lösungsmittel besprüht und gespült, bis die Schablone tatsächlich in ihrem nativen Zustand, d.h. vollständig vom Photolack befreit vorliegt.Stencil or screen printing, especially for printing on textiles, is a commercial branch that has been working under increasing cost pressure in recent years. For the implementation of screen printing processes, stencils (planographic or rotary printing stencils) made of nickel are mainly used, which are extremely expensive. These are in turn coated with a suitable photoresist, which has a corresponding pattern with regard to the desired print. The photoresist coating on the screen-like template thus defines the printing form to a certain extent. After variable but finite throughput times, the stencils have to be replaced because they are no longer able to work in the desired quality (eg high resolution) due to wear. As a result of the extremely high purchase costs for a printing stencil, in the past few years it has been decided not to simply discard the used but expensive stencil (ie to dispose of it), but to recycle it for reuse. According to the prior art, this takes place in the context of a complex process in the course of which the photoresist is removed with the aid of a suitable solvent and any other mechanical means. It should be noted that the sensitive printing stencil to be recycled will be returned without the slightest damage. In accordance with the prior art, the photoresist layer is thus chemically dissolved with solvent and the stencil is sprayed and rinsed with further organic solvent until the stencil is actually in its native state, ie completely freed from the photoresist.
Obwohl diese Verfahren durchaus dazu geeignet ist die verbrauchten, mit Photolack beschichteten Druckschablonen wieder in ihren ursprünglichen Zustand zu bringen, sind sie in bezug auf ihre ökologische Bilanz völlig unbefriedigend. Nicht nur fallen vergleichsweise grosse Mengen an verbrauchtem Lösungsmittel - enthaltend den aufgelösten Photolack- an, welche wiederum teuer entsorgt werden muss, auch verfahrenstechnisch ist das Verfahren insofern umständlich, als es mit einem permanenten Zufluss von neuem Lösungsmittel arbeiten muss, welche in ihrem unverbrauchten Zustand die Photolackschicht chemisch auflöst. Dadurch ist kaum ein geschlossener Kreislauf möglich, sondern in der Regel nur ein Durchflussverfahren. Letztlich ist ein Verfahren, welches keinen geschlossenen Kreislauf umfasst auch finanziell unbefriedigend, da permanent neues Lösungsmittel angeschafft und entsorgt werden muss.Although this method is quite suitable for bringing the used printing stencils coated with photoresist back to their original state, they are completely unsatisfactory in terms of their ecological balance. Not only do comparatively large amounts of used solvent - containing the dissolved photoresist - accumulate, which in turn has to be disposed of at great expense, the process is also cumbersome in terms of process technology, in that it has to work with a permanent inflow of new solvent, which in its unused state Chemically dissolves the photoresist layer. This means that a closed circuit is hardly possible, but usually only a flow-through method. Ultimately, a process that does not include a closed cycle is also financially unsatisfactory because new solvents have to be procured and disposed of permanently.
DARSTELLUNG DER ERFINDUNGPRESENTATION OF THE INVENTION
Es war daher Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Entschichtungsverfahren bereitzustellen, welches die oben genannten Nachteile und Probleme zumindest teilweise vermeidet.It was therefore an object of the present invention to provide a stripping process which at least partially avoids the disadvantages and problems mentioned above.
Ein weiteres Ziel der vorliegenden Erfindung bestand in der Bereitstellung einer Vorrichtung zur Durchführung eines ökologischen Entschichtungsverfahrens .Another object of the present invention was to provide an apparatus for performing an ecological stripping process.
Diese Aufgaben werden gemäss dem Oberbegriff der unabhängigen Ansprüche 1 und 14 gelöst. Weitere bevorzugte Ausführungsformen sind Gegenstand der abhängigen Ansprüche .
Anstatt, wie im Stand der Technik, die Photolackschicht auf der zu rezyklierenden Druckschablone mit einem Lösungsmittel vollständig aufzulösen, wird beim er- findungsgemässen Verfahren die besagte Photolackschicht lediglich „aufgeweicht" . Unter dem Begriff „aufgeweicht" wird verstanden, dass die zu entfernende Photolackschicht mittels eines geeigneten Lösungsmittels nicht chemisch aufgelöst wird und so in Lösung geht, sondern erfindungsgemäss nur soweit und solange geschwächt wird, dass eine teilweise bzw. im wesentlichen weitgehende Lockerung zwischen dem besagten Photolack und dem Schablonensubstrat, d.h. der Schablonenoberfläche stattfindet .These tasks are solved according to the preamble of independent claims 1 and 14. Further preferred embodiments are the subject of the dependent claims. Instead of, as in the prior art, completely dissolving the photoresist layer on the printing stencil to be recycled with a solvent, in the method according to the invention said photoresist layer is merely “softened”. The term “softened” means that the photoresist layer to be removed means of a suitable solvent is not chemically dissolved and thus goes into solution, but is weakened according to the invention only to the extent and as long as a partial or substantially extensive loosening takes place between said photoresist and the stencil substrate, ie the stencil surface.
Die eher in schleimig-aufgeweichter Form noch leicht anhaftende Photolackschicht wird anschliessend von der Schablonenunterlage mittels eines Hochdruck-Wasserstrahls, quasi mechanisch entfernt. Um die Entfernung der Photolackschicht noch leichter zu gestalten und um den abgelösten Photolack in einer leicht entsorgbaren Form zu erhalten wird vorgängig die aufgeweichte Photolackschicht mittels Wasser gespült. Damit wird einerseits die Photo- lackschicht wieder verhärtet bzw. ausgehärtet und lässt sich durch den Hochdruck-Wasserstrahl entfernen und bequem abfiltrieren. Andererseits ist die Verhärtung bzw. die Wiederaushärtung nicht mit einer Wiederanbindung des Photolacks an das Schablonensubstrat verbunden.The photoresist layer, which is rather slightly adherent in a slimy, softened form, is then mechanically removed from the stencil base using a high-pressure water jet. In order to make the removal of the photoresist layer even easier and to maintain the detached photoresist in an easily disposable form, the softened photoresist layer is rinsed with water beforehand. On the one hand, the photoresist layer is hardened or cured again and can be removed and conveniently filtered off using the high-pressure water jet. On the other hand, the hardening or the re-hardening is not associated with a reconnection of the photoresist to the stencil substrate.
Der Vorteil des erfindungsgemässen Verfahrens liegt insbesondere darin, dass es einerseits in einem Tank angefüllt mit einem Aufweichungsmittel durchgeführt werden kann, wobei dieses nicht ständig ausgetauscht werden muss. Vielmehr wird das Verfahren in einem im wesentlichen geschlossenen Kreislauf durchgeführt, so dass kein umfassender und permanenter Entsorgungsaufwand bezüglich des Lösungsmittels betrieben werden muss, wie gemäss dem Stand der Technik. Stattdessen kann das Aufweichungsmittel immer wieder verwendet werden. Andererseits kann der in fester Form mit dem Hochdruck-Wasserstrahl zum Abplatzen gebrachte
Photolackfilm mittels Filter im Ablösemitteltank abgetrennt und vergleichsweise bequem entsorgt werden.The advantage of the method according to the invention is, in particular, that on the one hand it can be carried out in a tank filled with a softening agent, which does not have to be constantly replaced. Rather, the method is carried out in an essentially closed circuit, so that no extensive and permanent disposal effort with regard to the solvent has to be carried out, as in the prior art. Instead, the softening agent can be used again and again. On the other hand, it can flake off in solid form with the high-pressure water jet Photoresist film can be separated using a filter in the solvent tank and can be disposed of relatively easily.
KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN Weitere Vorteile und Anwendungen der Erfindung ergeben sich aus der nun folgenden Beschreibung anhand der Figuren.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Further advantages and applications of the invention result from the following description with reference to the figures.
Figur 1 zeigt eine Seitenansicht einer Aufweichungsanlage. Diese umfasst ein Doppelwandsystem (obere Innenwanne (6) und isolierte Unterwanne (5)) sowie eine Heizung (4) im unteren Anlagenteil (5), eine Pumpvorrichtung (2) im mittleren Anlagenteil, eine Niveauüberwachung (3), ein Auflagerohr (9) auf welchem die zu entschichtende Schablone aufgelegt wird sowie eine Absaugvorrichtung (1) für die beheizbare Aufweichungsflüssigkeit im oberen Anlagenteil .Figure 1 shows a side view of a softening system. This includes a double wall system (upper inner tub (6) and insulated lower tub (5)) as well as a heater (4) in the lower part of the system (5), a pump device (2) in the middle part of the system, level monitoring (3), a support tube (9) on which the template to be decoated is placed and a suction device (1) for the heatable softening liquid in the upper part of the system.
Figur 2 zeigt die Vorderansicht einer Aufweichungsanlage, mit einem Antriebsmotor (7) , einem Überlauf (8) , einem Filterkorb (10) , einer verstellbaren Zylinderauflage (11) und einer aufgelegten Schablone (12), welche zu entschichten ist.Figure 2 shows the front view of a softening system, with a drive motor (7), an overflow (8), a filter basket (10), an adjustable cylinder support (11) and a template (12) which is to be stripped.
Figur 3 zeigt die Seitenansicht auf eine Hochdruckanlage, umfassend ein Anlagengehäuse (1'), ein Wassertank (2')/ ein Filtergehäuse (3'), eine Schlittenführung (4') und eine rotierbare Auflage (5') oberhalb einer Wanne zur Bestückung mit einer zylindrischen Druckschablone.Figure 3 shows a side view of a high-pressure system, comprising a system housing (1 '), a water tank (2') / a filter housing (3 '), a slide guide (4') and a rotatable support (5 ') above a tub for loading with a cylindrical printing template.
Figur 4 zeigt wiederum die Vorderansicht auf eine Hochdruckanlage, umfassend einen Antriebsmotor (7'), eine verstellbare Wasserstrahldüse (8'), eine Hochdruck- Pumpvorrichtung (6'), eine rotierbare Auflage (5') oberhalb einer Wanne zur Bestückung mit einer zylindrischen Druckschablone (12) .
Figur 5 zeigt eine schematische Seitenansicht einer Hochdruckanlage, fokussiert in Bezug auf die Düsen- einstellung des Hochdruckwasserstrahls (10') zur aufliegenden Rotations-Druckschablone (12) . Die Schablone (12) liegt auf einem Trägerrohr (5') auf und die Düse (8') ist derart ajustiert, dass der Wasserstrahl unterhalb der Rohr- mittelpunktsachse auf die Druckschablone (12) auftrifft.FIG. 4 again shows the front view of a high-pressure system, comprising a drive motor (7 '), an adjustable water jet nozzle (8'), a high-pressure pump device (6 '), a rotatable support (5') above a trough for fitting with a cylindrical one Printing template (12). FIG. 5 shows a schematic side view of a high-pressure system, focused in relation to the nozzle setting of the high-pressure water jet (10 ') to the rotating printing stencil (12). The template (12) rests on a carrier tube (5 ') and the nozzle (8') is adjusted in such a way that the water jet strikes the pressure template (12) below the tube center axis.
Figur 6 zeigt eine schematische Draufsicht auf eine Hochdruckanlage in Bezug auf die Düseneinstellung des Hochdruckwasserstrahls (10') zur aufliegenden Druckschablone (12). Durch eine geeignete Einstellung der Düse (8') zur Schablonenoberfläche wird eine Vorwärtsbewegung der Schablone (12) axial verhindert.FIG. 6 shows a schematic plan view of a high-pressure system in relation to the nozzle setting of the high-pressure water jet (10 ') for the printing stencil (12) lying thereon. Appropriate adjustment of the nozzle (8 ') to the stencil surface axially prevents the stencil (12) from moving forward.
WEGE ZUR AUSFUHRUNG DER ERFINDUNG Das erfindungsgemässe Verfahren zum Entschich- ten von Druckschablonen, umfasst bzw. besteht aus a) einem Aufweichungsschritt, wobei der auf der Druckschablone haftende Photolack in einem Aufweichungsbad geschwächt d.h. seine Bindungskraft zur Druckschablone gelockert wird, und b) einem Aushärtungsschritt, wobei die Druckschablone mit dem darauf befindlichen aufgeweichten bzw. teilweise abgelösten Photolack mit Wasser gespült wird, so dass der aufgeweichte Photolack zwar wieder ausgehärtet aber nicht wieder an die Schablone befestigt wird, und schliesslich c) einem Entfernungsschritt, wobei der ausgehärtete aber im wesentlichen gelockerte Photolack von der Schablone durch einen Hochdruckwasserstrahl entfernt wird, ohne dass die Schablonenoberfläche beschädigt wird.WAYS OF IMPLEMENTING THE INVENTION The process according to the invention for decoating printing stencils comprises or consists of a) a softening step, the photoresist adhering to the printing stencil being weakened in a softening bath, i.e. its binding power to the printing stencil is loosened, and b) a hardening step, the printing stencil with the softened or partially detached photoresist located thereon being rinsed with water, so that the softened photoresist is hardened again but not reattached to the stencil, and finally c) a removal step, wherein the cured but essentially loosened photoresist is removed from the stencil by a high pressure water jet without the stencil surface being damaged.
Grundsätzlich kann erfindungsgemäss jedes chemisches Lösungsmittel bzw. Lösungsmittelgemisch als Aufweichungsmittel verwendet werden, welches die Photolack-
schicht nicht chemisch auflöst, sondern lediglich aufweicht. Bevorzugt wird dabei ein wässriges Milieu verwendet, insbesondere weil dies den strengen Brandschutzvor- schriften einfacher Genüge leistet. Ganz besonders bevorzugt wird ein saures Aufweichungsbad zur Durchführung des erfindungsgemässen Verfahrens verwendet, wobei der pH vorzugsweise zwischen 1 und 4, ganz besonders bevorzugt bei etwa 3 liegt und sowohl durch organische wie auch anorganische Säuren bewirkt werden kann. Bevorzugt wird aber eine HC1-Lösung verwendet und bevorzugt umfassen die Kohlenwasserstoffe eine Mischung aus Glycolen in Wasser. Ganz besonders bevorzugt enthält das Aufweichungsbad eine Mischung von etwa 50-75 Gew.-% Butylglycol, Methylglycol und Ethyl- englycolmonoethylether (Ethylglycol) , etwa 2 bis- 20, vorzugsweise von etwa 5 Gew.-% HC1, sowie 10-25 Gew.-% WasserIn principle, according to the invention, any chemical solvent or solvent mixture which softens the photoresist layer does not dissolve chemically, but only softens. An aqueous environment is preferably used, in particular because this meets the strict fire protection regulations in a simple manner. An acidic softening bath is very particularly preferably used to carry out the process according to the invention, the pH preferably being between 1 and 4, very particularly preferably around 3 and being able to be brought about by both organic and inorganic acids. However, an HC1 solution is preferably used and the hydrocarbons preferably comprise a mixture of glycols in water. The softening bath very particularly preferably contains a mixture of about 50-75% by weight of butylglycol, methylglycol and ethylenglycolmonoethylether (ethylglycol), about 2 to 20, preferably of about 5% by weight of HCl, and 10-25% by weight. -% Water
Ein optimales Aufweichungsmittel zur Durchführung des erfindungsgemässen Verfahrens ist ein Gemisch mit der Markenbezeichnung „Easy Stripp LP 237" der Firma Prelit in CH-5608 Stetten.An optimal softening agent for carrying out the method according to the invention is a mixture with the brand name "Easy Stripp LP 237" from Prelit in CH-5608 Stetten.
In einer bevorzugten Ausführungsform weist das Aufweichungsbad enthaltend ein geeignetes Aufweichungsmittel eine Temperatur von zwischen 40-100°C, vorzugsweise von 60-80°C, und ganz besonders bevorzugt von etwa 70°C auf. Der Schritt a) , d.h. der Aufweichungsvorgang wird vorzugsweise während etwa 5 bis 40 Minuten, bevorzugt zwischen 10- 20 Minuten durchgeführt.In a preferred embodiment, the softening bath containing a suitable softening agent has a temperature of between 40-100 ° C., preferably of 60-80 ° C., and very particularly preferably of about 70 ° C. Step a), i.e. the softening process is preferably carried out for about 5 to 40 minutes, preferably between 10 and 20 minutes.
Die Druckschablone kann während dem Aufweich- ungsschritt statisch bleiben, oder aber sie kann in Bewegung gehalten werden, bei Rotationsschablonen beispielsweise in einer Rotationsbewegung, so dass die Aufweichung gleich- massig erfolgt.The printing stencil can remain static during the softening step, or else it can be kept in motion, for example in the case of rotating stencils in a rotational movement, so that the softening takes place uniformly.
Bei der Durchführung des Aushärtungsschritts c) wird Wasser vorzugsweise einer Temperatur von 20 bis 40°C verwendet. Nach einer einmaligen Spülung ist die Photolack-
schicht soweit ausgehärtet, dass sie von einem Wasserstrahl hohen Drucks entfernt werden kann und die festen Lackteile durch einen geeigneten Filter abgetrennt werden können. Durch den Aufweichungsvorgang a) ist allerdings die ursprünglich feste Bindung zwischen der besagten Photolackschicht und dem darunter liegenden Schablonensubstrat irreversibel geschwächt und wird folglich durch den Aushärtungsschritt b) nicht wieder in den ursprünglichen Zustand von vor Schritt a) gebracht.When curing step c) is carried out, water is preferably used at a temperature of 20 to 40 ° C. After a single rinse, the photoresist layer hardened to such an extent that it can be removed by a high pressure water jet and the solid paint parts can be separated off by a suitable filter. However, the originally firm bond between said photoresist layer and the stencil substrate underneath is irreversibly weakened by the softening process a) and consequently is not brought back to the original state from before step a) by the curing step b).
Im anschliessenden Entfernungsschritt c) wird letztendlich mit einem mechanischen und gleichzeitig ökologischen Mittel, d.h. mit einem Wasserstrahl die unerwünschte Photolackschicht entfernt. Der Wasserstrahldruck beträgt dabei vorzugsweise zwischen 100-220 bar, vorzugsweise etwa 190 bar. Das für den Entfernungsschritt c) verwendete Wasser kann für die Durchführung des Schritts c) immer wieder neu verwendet werden womit ein geschlossener Kreislauf vorliegt. Der Kreislauf sollte einen pH-Wert von zwischen etwa 8 bis 12 aufweisen. Bevorzugt wird ein pH-Wert von etwa 10 eingestellt, um so eine entfettende Wirkung zu erzielen, bzw. um die Oberflächenspannung auf ein Minimum zu reduzieren. Zweck des alkalischen Milieus ist die optimale Entfettung der Druckschablone um so optimale Voraussetzungen für die Re-Applikation eines neuen Photolacks auf die erfindungsgemäss behandelte Schablone zu erzielen. Der bevorzugte pH-Wert von etwa 9-10 wird beispielsweise dadurch erreicht, dass in die Tankfüllung enthaltend 150 Liter Wasser Natriumhydroxid (NaOH) beimischt.In the subsequent removal step c), a mechanical and ecological means, i.e. remove the unwanted photoresist layer with a water jet. The water jet pressure is preferably between 100-220 bar, preferably about 190 bar. The water used for the removal step c) can be used again and again for the implementation of step c), which results in a closed cycle. The circuit should have a pH of between about 8 to 12. A pH of about 10 is preferably set in order to achieve a degreasing effect or to reduce the surface tension to a minimum. The purpose of the alkaline environment is the optimal degreasing of the printing stencil in order to achieve optimal conditions for the re-application of a new photoresist on the stencil treated according to the invention. The preferred pH of about 9-10 is achieved, for example, by adding sodium hydroxide (NaOH) to the tank filling containing 150 liters of water.
Gegebenenfalls kann anschliessend die erhaltene native Druckschablone noch einmal mit Wasser gespült und über einem Warmluftgebläse getrocknet werden.If necessary, the native printing template obtained can then be rinsed again with water and dried over a warm air blower.
Das erfindungsgemässe Verfahren kann grundsätzlich für alle Arten von Druckschablonen durchgeführt werden. Dazu gehören insbesondere die Flachschablonen sowie die Rotationsschablonen, welche eine zylindrische Form aufweisen. In einer ganz besonders bevorzugten Ausführungsform
wird das erfindungsgemässe Verfahren für die Entschichtung von zylindrischen Schablonen, d.h. von Rotationschablonen durchgeführt .The method according to the invention can in principle be carried out for all types of printing stencils. These include in particular the flat stencils and the rotary stencils, which have a cylindrical shape. In a very particularly preferred embodiment the inventive method for stripping cylindrical stencils, ie rotary stencils.
Bei der Entschichtung von Rotationschablonen liegt die zylindrische Schablone (12) vorzugsweise auf einem konzentrischen, rotierbaren Rohr (5'), beispielsweise aus rauhem PVC, auf. Um zu verhindern, dass der Hochdruck- Wasserstrahl nicht die Schablone verbiegt oder anderweitig beschädigt muss der Aufprallpunkt (siehe Figur 5) des Hochdruck-Wasserstrahls (10') (aus der Hochdruckdüse (8')) auf die Schablonenoberfläche (12) unterhalb (vorzugsweise um etwa 10 mm) der Rohrmittelachse, auf welchem die Schablone aufliegt eingestellt werden. So wird sichergestellt dass der Hochdruck-Wasserstrahl nicht von der Schablonenoberfläche abprallt und auch keinen Wasserfilm auf der Rohroberfläche bildet, sondern die Photolackschicht unterwandert und definitiv ablöst.When stripping rotary templates, the cylindrical template (12) preferably lies on a concentric, rotatable tube (5 '), for example made of rough PVC. In order to prevent the high-pressure water jet from bending or otherwise damaging the impact point (see FIG. 5) of the high-pressure water jet (10 ') (from the high-pressure nozzle (8')) onto the template surface (12) below (preferably about 10 mm) of the pipe center axis, on which the template rests. This ensures that the high-pressure water jet does not bounce off the stencil surface and does not form a water film on the pipe surface, but undermines and definitely detaches the photoresist layer.
Ausserdem wird eine gleichmässige Entfernung der Photolackschicht angestrebt, so dass in einer bevorzugten Ausführungsform einerseits das Rohr auf welchem die Ro- tationsschablone aufliegt rotiert, vorzugsweise mit einer Geschwindigkeit von etwa 10 bis 50, noch bevorzugter von zwischen 20 und 30 Umdrehungen pro Minute rotiert, andererseits wird die Wasserstrahlachse (3) (zur Normalen) etwa um 3 % seitwärts geneigt (siehe Figur 6), um so eine Vorwärtsbewegung der zu reinigenden Schablone zu verhindern.In addition, a uniform removal of the photoresist layer is sought, so that in a preferred embodiment, on the one hand, the tube on which the rotary template rests rotates, preferably rotates at a speed of about 10 to 50, more preferably between 20 and 30 revolutions per minute, and on the other hand the water jet axis (3) (to the normal) is inclined about 3% sideways (see Figure 6) in order to prevent the stencil to be cleaned from moving forward.
Ein weiterer Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist eine Anordnung zur Entschichtung von zylindrischen Druckschablonen (Rotationsdruckschablonen) , welche a) eine Anlage zum Aufweichen der Photolackschicht, umfassend ein isoliertes Doppelwandsystem (obere Innenwanne (6) und isolierte Unterwanne (5) ) bestückt mit einer Heizung (4) im unteren Anlagenteil, sowie eine Innenwanne im oberen Anlagenteil (6), eine Pumpvorrichtung (2)
und eine Absaugvorrichtung (1) für die beheizte Löseflüssigkeit, wobei die behandelnde Schablone (12) auf einem Rohr (9) aufliegt, sowie b) eine Hochdruckanlage umfassend ein freiliegendes, rotierbares Rohr (5'), vorzugsweise einem PVC- Trägerrohr mit rauher Oberfläche, oberhalb einer Wanne, zur Bestückung mit einer zylindrischen Druckschablone (12), eine verstellbare Wasserstrahldüse (8'), eine Hochdruck- Pumpvorrichtung (3') mit einem Filtersieb und einer Filtermatte, einen Schlitten (4') und gegebenenfalls ein Zählwerk, aufweist.Another object of the present invention is an arrangement for stripping cylindrical printing stencils (rotary printing stencils), which a) a system for softening the photoresist layer, comprising an insulated double wall system (upper inner tub (6) and insulated lower tub (5)) equipped with a heater ( 4) in the lower part of the plant, as well as an inner tub in the upper part of the plant (6), a pump device (2) and a suction device (1) for the heated solvent liquid, the treatment template (12) resting on a tube (9), and b) a high-pressure system comprising an exposed, rotatable tube (5 '), preferably a PVC carrier tube with a rough surface , above a tub, for equipping with a cylindrical pressure stencil (12), an adjustable water jet nozzle (8 '), a high-pressure pump device (3') with a filter screen and a filter mat, a slide (4 ') and optionally a counter .
Im folgenden soll die vorliegende Erfindung anhand eines Beispiels verdeutlicht werden, wobei dieses nicht als den Schutzbereich der Anmeldung beschränkend ausgelegt werden darf .In the following, the present invention will be illustrated using an example, which should not be interpreted as limiting the scope of the application.
Beispielexample
Verfahren zum Entschichten einer RotationsdruckschabloneProcess for decoating a rotary printing stencil
a) In einer Aufweichungsanlage gemäss der Figuren 1 und 2, wird eine gängige Rotationsschablone (12) mit einem abgenutzten aber noch fest gebundenen Photolack eingebracht. Im unteren Teil dieser Aufweichungsanlage befindet sich ein Tank (5), der mit etwa 200 1 eines Aufweichungsmittels angefüllt ist. Das besagte Aufweichungsbad weist eine Temperatur von etwa 70°C auf und enthält eine Mischung aus etwa 35 Gew.-% Butylglycol, 20 Gew.-% Methyl- glycol, 15 Gew.-% Ethylenglycolmonoethylether , sowie 5 Gew.-% HC1 und 25 Gew.-% Wasser.a) In a softening system according to Figures 1 and 2, a common rotation template (12) with a worn but still firmly bonded photoresist is introduced. In the lower part of this softening system there is a tank (5) which is filled with approximately 200 l of a softening agent. The said softening bath has a temperature of approximately 70 ° C. and contains a mixture of approximately 35% by weight butyl glycol, 20% by weight methyl glycol, 15% by weight ethylene glycol monoethyl ether, and 5% by weight HC1 and 25 % By weight of water.
Die Rotationsschablone (12) wird auf einem Kunststoffröhr (9) aufgestülpt, taucht halbseitig in das Bad (6) ein und wird während etwa 20 Minuten durch langsame aber permanente Rotation im Bad aufgeweicht. b) Anschliessend wird die Schablone mit der aufgeweichten Photolackschicht aus der Aufweichungsanlage herausgenommen und durch einmaliges Spülen mit Wasser
(25°C) gereinigt, so dass die weiche Photolackschicht wieder aushärtet. c) Im dritten Schritt wird die vorbehandelte Rotationsschablone in eine Hochdruckanlage gemäss den Figuren 3 und 4, wiederum auf ein rotierendes Kunststoffröhr (5') gestülpt und, je nach der Länge der Schablone, während etwa 20 Minuten mit einem Hochdruckwasserstrahl (von ungefähr 25°C) gesprüht. Das Hochdruckspülwasser weist einen pH von 10 auf. Die Photolackschicht auf der Schablone platzt auf diese Weise ab und wird so im Rahmen dieses Verfahrens- Schritts c) entfernt. Um zu verhindern, dass der Hochdruck- Wasserstrahl (10') nicht die Schablone (12) verbiegt oder anderweitig beschädigt, wird der Auf rallpunkt (siehe Figur 5) des Hochdruck-Wasserstrahls (10') (aus der Düse (8')) auf die Schablonenoberfläche (12) vorzugsweise etwa 10 mm unterhalb der Rohrmittelachse, auf welchem die Schablone aufliegt eingestellt. So wird sichergestellt dass der Hochdruck-Wasserstrahl nicht von der Schablonenoberfläche abprallt und auch keinen Wasserfilm auf der Rohroberfläche bildet, sondern die Photolackschicht unterwandert und definitiv ablöst. Die Photolackschicht wird in Form von Lack- bruchstücken in die Abguss-Wanne der Hochdruckanlage gespült, wo es im unteren Teil herausfiltriert wird. Nach etwa 20 Minuten ist der Hochdruck-Entfernngsschritt beendet und die völlig saubere Schablone kann aus dem Kunststoff- rohr entfernt werden.The rotary template (12) is put on a plastic tube (9), dips into the bath (6) on one side and is softened by slow but permanent rotation in the bath for about 20 minutes. b) The template with the softened photoresist layer is then removed from the softening system and by rinsing once with water (25 ° C) cleaned so that the soft photoresist layer hardens again. c) In the third step, the pretreated rotary template is placed in a high-pressure system according to FIGS. 3 and 4, again on a rotating plastic tube (5 ') and, depending on the length of the template, for about 20 minutes with a high-pressure water jet (of approximately 25 ° C) sprayed. The high pressure rinse water has a pH of 10. The photoresist layer on the stencil flakes off in this way and is removed in the course of this method step c). In order to prevent the high-pressure water jet (10 ') from bending or otherwise damaging the template (12), the impact point (see FIG. 5) of the high-pressure water jet (10') (from the nozzle (8 ')) on the template surface (12) preferably about 10 mm below the pipe center axis on which the template rests. This ensures that the high-pressure water jet does not bounce off the stencil surface and does not form a water film on the pipe surface, but undermines and definitely detaches the photoresist layer. The photoresist layer is rinsed in the form of fragments of lacquer into the pouring basin of the high-pressure system, where it is filtered out in the lower part. After about 20 minutes, the high-pressure removal step is complete and the completely clean template can be removed from the plastic tube.
Die so erhaltene Schablone wird auf diese Weise in ihrem nativen Zustand, d.h. völlig unversehrt und von der Photolackschicht befreit erhalten. Sie kann nunmehr wiederverwendet werden, indem ein neuer Photolack für eine neuen Durchlauf in einem Druckverfahren appliziert wird.The template thus obtained is thus in its native state, i.e. preserved completely intact and freed from the photoresist layer. It can now be reused by applying a new photoresist for a new run in a printing process.
Während in der vorliegenden Anmeldung bevorzugte Ausführungen der Erfindung beschrieben sind, ist klar darauf hinzuweisen, dass die Erfindung nicht auf diese be-
schränkt ist und in auch anderer Weise innerhalb des Um- fangs der folgenden Ansprüche ausgeführt werden kann.
While preferred embodiments of the invention are described in the present application, it should be clearly pointed out that the invention is not limited to these is limited and can be carried out in other ways within the scope of the following claims.