WO1997025722A2 - Kondensor-monochromator-anordnung für röntgenstrahlung - Google Patents

Kondensor-monochromator-anordnung für röntgenstrahlung Download PDF

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WO1997025722A2
WO1997025722A2 PCT/DE1997/000033 DE9700033W WO9725722A2 WO 1997025722 A2 WO1997025722 A2 WO 1997025722A2 DE 9700033 W DE9700033 W DE 9700033W WO 9725722 A2 WO9725722 A2 WO 9725722A2
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    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21KTECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K1/00Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
    • G21K1/06Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diffraction, refraction or reflection, e.g. monochromators
    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21KTECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K7/00Gamma- or X-ray microscopes

Definitions

  • the invention relates to a condenser-monochromator arrangement for X-rays according to the features in the preamble of claim 1.
  • X-ray microscopy done in the wavelength range of about 0.2 - 5 nm.
  • X-ray microscopes have been developed that operate on brilliant X-ray sources. These x-ray sources include electron storage rings, the deflecting magnets and undulators of which are sources of intense x-rays; there are no other X-ray sources of comparable brilliance. Until now, only the X-rays generated by deflection magnets have been used for transmission X-ray microscopes.
  • Microzone plates are rotationally symmetrical transmission circle gratings with decreasing lattice constants, typically have a diameter of up to 0.1 mm and a few hundred zones.
  • the numerical aperture of a zone plate is generally determined by the diffraction angle at which the outer and thus the finest zones are perpendicular
  • the condenser is smaller than that of the microscope objective, so there is a partially coherent image and the linear transformation between object intensity and image intensity is lost for the important high spatial frequencies that determine the resolution of the microscope
  • ring-shaped zone plates have been used as condensers for X-ray radiation. They focus the X-ray radiation on the object to be examined with the X-ray microscope.
  • the size of such a “condenser zone plate” is adapted to the beam diameter, which typically extends up to the end of the beam tube of a deflection magnet of an electron storage device Is 1 cm Condenser zone plate is ring-shaped, it collects about Vt of the radiation lying in this beam diameter.
  • a zone plate Since the focal length of a zone plate is reciprocal to the wavelength used, such a condenser zone plate together with a small so-called monochromator pinhole, which is located in the object plane around the object, also acts as a linear monochromator (Optics Communication 12, pp. 160-163, 1974, "Soft X-Ray Imaging Zone Plates with Large Zone Numbers for Microscopic and Spectroscopic Applications "(Niemann, Rudolph, Schmahl). Only a narrow spectral range of the incident polychromatic radiation from an electron storage ring is included in the
  • the relationship only applies if the image of the source - the so-called "critical illumination" - is not larger than the diameter d of the pinhole.
  • R is at least as large as the number of zones n on the microzone plate of the X-ray microscope, then it is chromatic aberration of the microzone plate is negligible and it only slightly deteriorates the quality of the X-ray image.
  • a condenser zone plate is always not used too small a diameter D, so that the permitted diameter d of the monochromator pinhole is larger than the image of the Source is.
  • Image scale with which the source is imaged in the object plane and the diameter of the illuminated object area decreases (in practice to a few ⁇ m diameter), which is disadvantageous. Only by other measures - for example, by making parallel movements of the condenser and monochromator pinhole - can it be ensured that a larger object area is illuminated homogeneously. In addition, the monochromator diaphragm and the condenser zone plate must remain precisely adjusted to one another during the movement.
  • Condenser zone plates are usually used in the first diffraction order, in which all previously implemented
  • Condenser zone plates have their highest diffraction efficiency. It is also difficult for another reason explained below to achieve the previously required adaptation of the numerical aperture of the condenser zone plate to that of the microzone plate without new difficulties.
  • the condenser zone plate In order to implement the adaptation, the condenser zone plate must have the same fine zones on the outside as the microzone plate itself.
  • the brightest built microzone plates now have zone widths of only 19 nm (corresponding to 38 nm period of the zone structures). So far, zone plates with such fine zone structures can only be used with methods of
  • Electron beam lithography in which the zones are generated one after the other. Holographic methods, which produce the pattern of a zone plate in one step “in parallel” and thus in a short time, are ruled out because a suitably short-wave UV holography does not exist. Accordingly, condenser zone plates with an adapted numerical aperture could only be used with methods of Electron beam lithography, which can be called a serial and therefore slow process, are produced. However, such condenser zone plates typically have many 10,000 zones because of their necessarily large diameter. The writing times with an electron beam lithography system are then in the order of weeks, which is unrealistic for practical reasons, which is why condenser zone plates have not yet been produced using methods of electron beam lithography.
  • Advantageous monochromator arrangement which delivers as much as possible all X-ray light made available by the beam tube in an annular hollow-cone aperture with a large aperture angle to the object.
  • Zone width of only 10 nm. This increases the apertures of the micro-zone plates and, accordingly, the numerical apertures of the condensers necessary to ensure incoherent object lighting, and the difficulties already mentioned are further increased.
  • Electron storage rings are under construction worldwide and some have been completed, which provide X-rays from undulators. These undulators provide approximately 10 to 100 times higher X-ray flux that can be fully used for X-ray microscopy.
  • the X-ray radiation is much better colimized, typically the beam at the end of a beam tube at the location of a microscope is only 1 - 2 mm in diameter and the "large" condenser zone plates previously used and whose aperture has not been adapted can no longer be fully illuminated Sufficiently monochromatize radiation, then either arrangements with the disadvantages discussed above - smaller condenser zone plates with shorter focal lengths and correspondingly smaller monochromator pin diaphragms - would have to be used, or large condenser zone plates have to be illuminated off-axis, ie in a peripheral area.
  • the invention is based on the finding that an incoherent image recording is obtained if an object to be imaged successively differs from one another during the exposure time of an image
  • a condenser-monochromator arrangement which consists of an off-axis zone plate, a plane mirror, a monochromator pinhole on the optical axis and a mechanical holder for the off-axis zone plate and the plane mirror.
  • the holder can be rotated around the optical axis of the microscope.
  • This rotation creates lighting from different directions.
  • the condenser-monochromator arrangement contains only a single diffractive optical element and this contains coarser and thus a lower total number of diffractive structures than in previously used optical elements, so that these can be exposed with the aid of electron beam lithography in significantly shorter times.
  • the illumination aperture of the condenser-monochromator arrangement can be set variably without the need to use a second diffractive optical element.
  • 1 shows a condenser monochromator consisting of an off-axis transmission zone plate and a downstream plane mirror.
  • Transmission zone plate an upstream and a downstream plane mirror.
  • FIG. 3 shows a condenser monochromator consisting of an off-axis transmission zone plate and two upstream plane mirrors.
  • Transmission zone plate and an upstream plane mirror are identical to Transmission zone plate and an upstream plane mirror.
  • FIG. 5 shows a condenser monochromator consisting of a condenser zone plate and two upstream plane mirrors.
  • FIG. 6 shows a condenser monochromator consisting of an off-axis reflection zone plate and a downstream plane mirror.
  • FIG. 7a shows a condenser monochromator consisting of a reflection plan grating and a downstream focusing mirror.
  • FIG. 7b shows a condenser monochromator consisting of a transmission plan grating and a downstream focusing mirror.
  • Fig. 8 shows a condenser monochromator consisting of an off-axis reflection zone plate and an upstream plane mirror.
  • Fig. 9 shows a condenser monochromator consisting of an off-axis reflection zone plate, an upstream and a downstream plane mirror.
  • FIG. 10 shows a condenser monochromator consisting of an off-axis reflection zone plate and two upstream plane mirrors.
  • Fig. 11 shows a condenser monochromator consisting of an off-axis transmission zone plate and two downstream plane mirrors.
  • Fig. 12. shows a condenser monochromator consisting of an off-axis transmission zone plate and three downstream plane mirrors.
  • Fig. 13 shows a condenser monochromator that has an off-axis
  • Transmission zone plate consisting of two segments of different focal points and two pairs of plane mirrors.
  • Fig. 14 shows a condenser monochromator that contains an off-axis transmission zone plate consisting of two segments of different focal points and two pairs of plane mirrors.
  • Fig. 15 shows a condenser monochromator consisting of a focuser with a ring focus and a downstream concave mirror.
  • Fig. 16 shows a condenser monochromator consisting of a focuser with a ring focus and two downstream concave mirrors.
  • the incident x-ray radiation 1 strikes a diffractive and at the same time imaging optical element 7 and is focused by it and diffracted in the direction of a plane mirror 2.
  • the plane mirror 2 stands a few cm in front of the focal point of the x-ray radiation and reflects it into the monochromator aperture 11 on the object 4, which is located on the optical axis 6 of the x-ray microscope 5.
  • the plane mirror 2 is grazing incidence with a few degrees of incidence so that total reflection occurs
  • the plane mirror 2 (Matter has a refractive index that is less than one for soft X-rays) and high reflectivity is achieved.
  • the surface quality of the plane mirror 2 does not have to be particularly demanding with regard to the angular tangent error (an angular tangent error of better than 10 arcseconds is sufficient), since the plane mirror 2 is only a few cm in front of the object 4 to be illuminated. As a result, the angular tangent error can only slightly expand the illuminated image field by scattering. Since the plane mirror 2 is relatively close to the focal point of the X-rays and the beam cross-section is already small here, the plane mirror 2 advantageously only needs to be a few cm long.
  • the two optical elements 2, 7 described form with the monochromator pinhole 11 a condenser-monochromator arrangement.
  • the optical elements 2, 7 are rotatably supported about the optical axis 6 of the X-ray microscope 5.
  • They can be fastened in a mechanical holder, not shown here.
  • the holder has an axis of rotation coinciding with the optical axis 6, about which it can rotate together with the optical elements 2, 7.
  • the optical axis 6 of the X-ray microscope 5 is aligned in the direction of propagation of the incident X-ray radiation 1.
  • the entire structure is located in a vacuum chamber due to the high absorption of the soft X-rays used.
  • the diffractive and imaging optical element 7 can be an off-axis zone plate.
  • An off-axis zone plate is understood here to mean a zone plate which consists only of a small, asymmetrical and there is a contiguous zone area located far from the center of the zone plate. For this reason, the structures within this zone area are generally not rotationally symmetrical.
  • the zone area is so large that it can capture an X-ray beam with a cross-sectional area of a few mm 2. It can be used in transmission as an off-axis transmission zone plate 7 according to FIG. 1, or in reflection as an off-axis reflection zone plate 3 according to FIG. 6 . Since an off-axis zone plate deflects the X-rays laterally, the plane mirror 2 is absolutely necessary in order to reflect the X-rays back onto the optical axis 6.
  • the mechanical holder with the optical elements 7, 2 (FIG. 1) is rotated exactly one revolution about the optical axis 6, then the illumination cone, which is incident obliquely on the object 4, describes 8 a hollow cone, which is the effective
  • the opening angle 10 of this hollow cone can be set via the reflection angle 9 of the plane mirror 2.
  • the distance between the plane mirror 2 and the optical axis 6 and the position of the off-axis transmission zone plate 7 (or the off-axis reflection zone plate 3 in FIG. 6) along the optical axis 6 must be readjusted so that the focus is exactly again lies on the optical axis 6 in object 4.
  • the position of the axis of rotation of the holder must remain stable down to a few ⁇ m, which can be achieved with spindle ball bearings or play-free ball guides.
  • the off-axis zone plate 7, 3 only has to generate an image of the X-ray source of a suitable size in the object plane and spectrally split the X-ray radiation. Because undulators have very small source sizes - they are significantly smaller than the source sizes in the deflection magnets used up to now -, a small scale scale and thus an off-axis zone plate 7.3 with typically at least twice the focal length than that of the condenser zone plates mentioned in the introduction can be used to so-called the object
  • An off-axis transmission zone plate 7 for X-rays with a wavelength of 2.4 nm has e.g. Germanium zones 50 nm wide and 300 nm high
  • An off-axis reflection zone plate 3 which is equivalent in terms of its optical properties and is used at angles of incidence of a few degrees, on the other hand, has zone widths which are about 10 to 50 times larger and at the same time significantly lower zone height. Therefore, the off-axis reflection zone plate 3 is technological n
  • an off-axis reflection zone plate 3 can be located on a stable, solid substrate. Because of the extremely oblique incidence of the X-rays, this substrate is thermally resilient and coolable
  • both the off-axis transmission zone plate 7 and the off-axis reflection zone plate 3 can be arranged in different ways, which is shown by way of example in FIGS. 2, 3 and 9-14
  • the incident x-ray radiation 1 is first deflected with a plane mirror 2 from its original direction towards an off-axis zone plate 7.3
  • Reflection zone plate 3 inserted.
  • the arrangement of both plane mirrors 2 and the off-axis zone plate 7.3 is rotated one revolution around the optical axis 6 during the exposure time for an X-ray image.
  • the illumination cone 8 incident obliquely on the object describes a hollow cone, which is the effective aperture of the illumination
  • the desired aperture adjustment takes place with the second plane mirror 2 arranged in the beam path behind the off-axis zone plate 7, 3, by suitably setting the reflection angle 9 22 PC17DE97 / 00033
  • the incident x-ray radiation 1 is first directed from its original direction with a plane mirror 2 and strikes a second plane mirror 2. From there it reaches an off-axis transmission zone plate 7 or, according to FIG off-axis
  • the off-axis zone plate 7.3 focuses the X-ray light into the object 4.
  • the described arrangement of the two plane mirrors 2 and the off-axis zone plate 7.3 is turned by one turn during the exposure time of the X-ray microscope 5 with the aid of a mechanical holder (not shown) the optical axis 6 rotated
  • the illumination cone 8, which falls obliquely onto the object 4, describes a hollow cone that determines the effective aperture of the illumination.
  • the desired aperture adjustment is carried out with a second plane mirror 2 arranged in the beam path just before the off-axis zone plate 7. 3, by suitably setting the reflection angle 9
  • the 4 shows a condenser-monochromator arrangement with an off-axis transmission zone plate 7 and an upstream plane mirror 2.
  • the off-axis transmission zone plate 7 focuses the X-ray light obliquely back to the object 4 on the optical axis 6.
  • the off-axis transmission zone plate 7 and the upstream plane mirror 2 are rotated one revolution around the optical axis 6 during the exposure time of the X-ray microscope 5.
  • the illumination cone 8, which falls obliquely onto the object, describes a hollow cone that determines the effective aperture of the illumination. However, with this arrangement, a flexible aperture adjustment is no longer possible
  • FIG. 5 shows an exemplary embodiment in which an annular condenser zone plate 14 described in the introduction is used as the diffractive element.
  • annular condenser zone plate 14 described in the introduction is used as the diffractive element.
  • the condenser zone plate 14 therefore does not need to be rotated.
  • the illumination cone 8 incident obliquely on the object 4 describes one
  • FIG. 6 shows a condenser-monochromator arrangement, in which the incident x-ray radiation 1 strikes an off-axis reflection zone plate 3, which diffracts and at the same time focuses the x-ray radiation 1 in reflection.
  • the plane mirror 2 directs the diffracted x-ray radiation onto the
  • FIG. 7a shows an exemplary embodiment in which a reflection plan grating 15a with variable line density is used as the diffractive element.
  • the line density of the reflection plan grating 15a varies in such a way that the X-ray radiation after diffraction at the reflection plan grating 15a has the same beam divergence as before the reflection plan grating 15a.
  • This technique is generally known and is already being used. According to the invention, there is also a focusing beam in the further beam path
  • the focusing mirror 16 focuses the X-ray radiation on the object 4, a hollow cone determining the aperture of the illumination being formed by the rotation
  • a transmission plan grating 15b is used as the diffractive optical element instead of the reflection plan grating 15a.
  • the transmission plan grating 15b diffracts the incident X-ray radiation 1 in transmission and maintains its parallelism even after the diffraction. Only the focusing one
  • the off-axis reflection zone plate 3 focuses the X-ray light obliquely back to the object 4 on the optical axis 6.
  • the off-axis reflection zone plate 3 and the upstream plane mirror 2 is rotated one revolution around the optical axis 6 during the exposure time of the X-ray microscope 5.
  • the illuminating cone 8, which falls obliquely onto the object, describes a hollow cone, which is the effective one
  • Light sources e.g. when illuminated with lasers.
  • Corresponding systems are referred to as systems with "dynamic coherent aperture". They embody the special case of strongly oblique and rotating lighting. For these it is known in the visible spectral range that the transfer function is significantly increased at high spatial frequencies compared to almost incoherent illumination with a condenser of circular pupil, so that an improved contrast transmission is achieved.
  • monochromatic laser radiation it is of course sufficient to deflect the steel only by means of mirrors, i.e. in FIG. 6 and in FIGS. 8-10, the monochromatizing properties of the off-axis reflection zone plate 3 can be dispensed with and these can be replaced by a focusing mirror.
  • the off-axis transmission zone plate 7 can then be replaced in FIG. 1-4 by a lens which is used in a section far from the center of the lens.
  • Fig.1 1 the e.g. Plane mirror 2 shown in FIG. 1 replaced by two successive individual plane mirrors 2. Both planar mirrors 2 deflect the X-rays in the same direction. However, it is also possible for the two plane mirrors 2 to deflect the X-rays in the opposite direction.
  • An arrangement with two successive plane mirrors 2 rotating about the optical axis 6 (as also shown in FIG. 3 and FIG. 10) always causes the image of the x-ray radiation source despite the rotating off-axis transmission zone plate 7 and the rotating plane mirror 2 is not rotated. This has the advantages discussed below
  • a condenser monochromator consisting of an off-axis transmission zone plate 7 and three downstream plane mirrors 17, 18, 19 is shown.
  • the off-axis transmission zone plate 7 and the plane mirror 19 can remain spatially fixed. This arrangement has the advantage that the image of the x-ray source generated by the off-axis transmission zone plate 7 is twice as large
  • Reflection on the rotating mirrors 17, 18 is not rotated.
  • an electron beam undulator used as the X-ray radiation source, it generally has a strongly elliptical source region, of which the off-axis transmission zone plate 7 produces an image.
  • the direction of dispersion of the off-axis transmission zone plate 7 can now be set so that it falls in the direction of the small axis of the ellipse.
  • the only slightly curved zones of the off-axis transmission zone plate 7 run essentially "parallel" to the large ellipse axis of the image.
  • FIG. 13 shows a condenser-monochromator arrangement with two off-axis transmission zone plate segments 20a, 20b and with two pairs downstream and oppositely deflecting plane mirror 2 shown.
  • the X-rays are captured by two off-axis transmission zone plate segments 20a, 20b of the same focal length.
  • the structure of the off-axis transmission zone plate segments 20a, 20b is identical, but rotated by 180 ° relative to one another, so that the two associated foci lie opposite one another, symmetrical to the optical axis 6.
  • the beams are reflected back onto the optical axis 6 with a pair of plane mirrors , so that the two focal points overlap in object 4.
  • This type of lighting is strictly mirror-symmetrical and leads to different imaging properties than that
  • Single sideband imaging with one-sided and extreme bright field oblique lighting.
  • this type of illumination can be used to operate dark field microscopy with a further increase in the illumination angle in the object plane.
  • Complementary diffracted rays are then always present in the image plane, which can interfere with one another. This is a necessary requirement if the limit resolution is to be achieved in the dark field.
  • FIG. 14 A condenser-monochromator arrangement is shown with an off-axis transmission zone plate 7 and with two pairs of plane mirrors 2, each deflecting in the same direction.
  • Transmission zone plate 7 like that according to FIG. 13, is composed of two segments 20a, 20b, which have the same focal length but with focal points opposite one another with respect to the optical axis 6. Because of the radiation-deflecting plane mirror 2, however, the otherwise separate focal points overlap in a focal point in object 4.
  • the basic mode of operation is the same as already described under FIG. 13.
  • the following mirror system consists of one or two concave concave mirrors 12 connected in series. It is placed at a suitable distance behind the
  • Focuser 13 and arranged in front of the ring focus. As a result, a point-like focus on the optical axis 6 is obtained instead of a ring focus. If a small pinhole 11 is placed around this “focal point”, the arrangement of the focuser 13, the hollow cone mirror 12 and the pinhole 11 acts as a monochromator. The aperture is adjusted by a suitable choice of the deflection angle of the hollow cone mirror system
  • Fig. 16 shows a condenser-monochromator arrangement with a focuser 13 with ring focus and two downstream hollow cone mirrors 12.
  • the advantage of a system with two hollow cone mirrors 12 is that in such a system the so-called "kink surface" of the radiation deflection is almost perpendicular to lies on the optical axis 6 (the kinked surface is the surface on which the reflected rays elongated in the beam direction and the reflected rays elongated to the rear intersect).
  • the aberrations which occur when the system is tilted - that is, for example, in the case of incorrect adjustment - are lower in optical systems than in systems whose kink surface runs almost parallel to the optical axis 6.
  • the latter is the case when using a system with only one concave cone mirror 12, for which the reflecting surface and the kinked surface have to match and which has to be adjusted much more precisely.
  • the apertures of all previously available microzone plates for brightfield, phase contrast and darkfield microscopy can be adapted.
  • the aperture of a ring pupil is obtained by rotating an oblique illumination through 360 °, the angle of the oblique illumination using a plane mirror
  • the plane mirror 2 can be set over a wide range.
  • the plane mirror 2 is very small, typically a few cm long and therefore inexpensive. A beam expansion is not necessary for operation on well-collimated beams from undulators.
  • the wavelength can be changed over a wide range.
  • the condenser-monochromator arrangement contains an off-axis zone plate 7.3 with zone widths which are significantly larger than that of the available micro zone plates which are used as an X-ray objective.
  • the wavelength can be changed over a wide range.
  • a ring pupil can also be generated by a focuser 13, a hollow cone mirror 12 then being used to focus the radiation onto the optical axis 6.

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Abstract

Es werden lichtstarke Kondensor-Monochromator-Anordnungen beschrieben, die für eine quasimonochromatische Objektbeleuchtung und inkohärente Bildaufzeichnung in Röntgenmikroskopen (5) sorgen und die sich besonders für gut kollimierte Strahlen aus Undulatoren an Elektronenspeicherringen eignen. Die Kondensor-Monochromator-Anordnungen enthalten als beugende optische Elemente eine off-axis Zonenplatte in Transmission (7) oder in Reflexion. Eine Monochromatorlochblende (11) befindet sich in der Objektebene. Die Beleuchtungsapertur der Kondensor-Monochromator-Anordnung kann mit einfachen Planspiegeln (2) variabel eingestellt werden. Die off-axis Zonenplatte (7) und mindestens ein Planspiegel (2) werden während der Belichtung eines röntgenmikroskopischen Bildes um die optische Achse (6) des Röntgenmikroskops (5) gedreht. Außerdem wird eine raumfeste Lösung angegeben, die einen Fokussator mit Ringfokus und ein nachfolgendes System aus einem oder zwei Hohlkegelspiegeln enthält.

Description

Kondensor-Monochromator-Anordnung für Röntgenstrahlung
Die Erfindung betrifft eine Kondensor-Monochromator-Anordnung für Röntgenstrahlung entsprechend den Merkmalen im Oberbegriff des Anspruchs 1.
In den letzten Jahren wurden erhebliche Fortschritte in der
Röntgenmikroskopie im Wellenlängenbereich von etwa 0.2 - 5 nm gemacht. Es wurden Röntgenmikroskope entwickelt, die an brillanten Röntgenquellen betrieben werden. Zu diesen Röntgenquellen zählen Elektronenspeicherringe, deren Ablenkmagneten und Undulatoren Quellorte intensiver Röntgenstrahlung sind; andere Röntgenquellen vergleichbarer Brillanz gibt es bislang nicht. Für Transmissions- Röntgenmikroskope wurde bislang nur die von Ablenkmagneten erzeugte Röntgenstrahlung genutzt.
Als hochauflösende Objektive in Röntgenmikroskopen kommen heutzutage nur Mikrozonenplatten zum Einsatz. Mikrozonenplatten sind rotationssymmetrische Transmissionskreisgitter mit nach außen hin abnehmender Gitterkonstanten, haben typischerweise bis zu 0.1 mm Durchmesser und einige hundert Zonen. Die numerische Apertur einer Zonenplatte ist ganz allgemein durch den Beugungswinkel bestimmt, unter dem die äußeren und damit feinsten Zonen senkrecht einfallende
Röntgenstrahlen beugen. Die erzielbare räumliche Auflösung einer Zonenplatte ist durch ihre numerische Apertur bestimmt. Die numerische Apertur der benutzten Röntgenobjektive konnte in den letzten Jahren wesentlich erhöht werden, so daß deren Auflösung sich verbesserte. Dieser Trend zu höherer Auflösung wird sich fortsetzen. Generell wird für Röntgenmikroskope, die Zonenplatten als Röntgenobjektive benutzen, eine hohlkegelformige Objektbeleuchtung benotigt Andernfalls wurde sich dem Bild auch in seinem Zentrum die Strahlung aus der 0 und der 1 Beugungsordnung der Kondensorzonenplatte uberiagern Das liegt daran, daß der überwiegende
Anteil der Strahlung, die parallel oder fast parallel zur optischen Achse auf das Objekt fallt, dieses und die folgende Mikrozonenplatte (das beugende Röntgenobjektiv) ungebeugt durchdringt und sich als allgemeiner diffuser Untergrund in Geradeausrichtung, also im Zentrum des Bildfeldes bemerkbar macht Aus diesem Grunde benutzen alle
Transmissions-Rontgenmikroskope ringförmige Kondensoren und der nutzbare, nicht diffus überstrahlte Bereich des Bildfeldes wird um so großer, je großer der innere, strahlungsfreie Raumwmkelbereich des Kondensors ist
Aus der Theorie der Mikroskopie ist bekannt, daß die numeπsche Apertur des beleuchtenden Kondensors eines Durchlichtmikroskopes stets in etwa angepaßt sein sollte an die numensche Apertur des Mikroskopobjektives, um von inkohärent strahlenden Lichtquellen auch eine inkohärente Objektbeleuchtung und damit eine nahezu lineare Beziehung zwischen Objektintensitat und Bildintensitat zu erhalten Ist die Apertur des
Kondensors dagegen geringer als die des Mikroskopobjektivs, so liegt eine teilkoharente Abbildung vor und die lineare Transformation zwischen Objektintensitat und Bildintensitat geht für die wichtigen, die Auflosung des Mikroskopes bestimmenden hohen Raumfrequenzen verloren
Als Kondensoren für Röntgenstrahlung werden bislang „großflächige" ringförmige Zonenplatten benutzt Sie fokussieren die Röntgenstrahlung auf das mit dem Röntgenmikroskop zu untersuchende Objekt Eine solche „Kondensorzonenplatte" ist in ihrer Große angepaßt an den Strahldurchmesser, der am Ende des Strahlrohres eines Ablenkmagneten eines Elektronenspeichernngs typisch bis zu 1 cm betragt Da die Kondensorzonenplatte ringförmig ist, fängt sie etwa Vt der in diesem Strahldurchmesser liegenden Strahlung auf. Da die Brennweite einer Zonenplatte reziprok zur benutzten Wellenlänge ist, wirkt eine solche Kondensorzonenplatte zusammen mit einer kleinen sogenannten Monochromatorlochblende, die in der Objektebene um das Objekt gelegen ist, gleichzeitig als Linearmonochromator (Optics Communication 12, S.160-163, 1974, „Soft X-Ray Imaging Zone Plates with Large Zone Numbers for Microscopic and Spectroscopic Applications", Niemann, Rudolph, Schmahl). Nur ein enger Spektralbereich der einfallenden polychromatischen Strahlung eines Elektronenspeicherrings wird in die
Lochblende fokussiert und zur Beleuchtung des Objektes genutzt.
Die spektrale Auflösung eines solchen Linearmonochromators beträgt R = D/2d, wenn D und d die Durchmesser von Kondensorzonenplatte und Monochromatorlochblende sind und wenn die Kondensorzonenplatte das Quellgebiet der Röntgenstrahlung stark verkleinert abbildet. Allerdings gilt die Beziehung nur, wenn das Bild der Quelle - es handelt sich um die sogenannte „kritische Beleuchtung" - nicht größer ist als der Durchmesser d der Lochblende. Ist R mindestens so groß wie die Zonenzahl n der Mikrozonenplatte des Röntgenmikroskopes, so ist die chromatische Aberration der Mikrozonenplatte vernachlässigbar und sie verschlechtert die Qualität der Röntgenabbildung nur unwesentlich. Um dieser Anforderung an die spektrale Auflösung R zu genügen, wird stets eine Kondensorzonenplatte nicht zu kleinen Durchmessers D benutzt, so daß der erlaubte Durchmesser d der Monochromatorlochblende größer als das Bild der Quelle ist.
Da der Standort eines Röntgenmikroskopes aus praktischen Gründen nie nahe an den Quellort der Röntgenstrahlung eines Elektronenspeicherringes gebracht werden kann und die Entfernung typischerweise bei mindestens 15 m liegt, kann auch die vom Strahl ausgeleuchtete Fläche bestimmte Werte nicht unterschreiten. Damit sollte auch der Durchmesser D einer möglichst viel Röntgenstrahlung auffangenden Kondensorzonenplatte diese Werte nicht unterschreiten. Wird nun für diese Einsatzbedingungen die numerische Apertur der Kondensorzonenplatte erhöht, so verringert sich zwangsläufig die Brennweite der Kondensorzonenplatte. Damit verringert sich der
Abbildungsmaßstab, mit dem die Quelle in die Objektebene abgebildet wird und es sinkt der Durchmesser des beleuchteten Objektgebietes ( in der Praxis auf wenige μm Durchmesser), was nachteilig ist. Nur durch andere Maßnahmen - etwa durch rastemde parallele Bewegungen von Kondensor und Monochromatorlochblende - kann dann sichergestellt werden, daß ein größeres Objektgebiet homogen ausgeleuchtet wird. Dazu kommt, daß während der Bewegung Monochromatorblende und Kondensorzonenplatte genau zueinander justiert bleiben müssen.
Kondensorzonenplatten werden üblicherweise in der ersten Beugungsordnung benutzt, in der alle bislang realisierten
Kondensorzonenplatten ihren höchsten Beugungswirkungsgrad besitzen. Dabei ist es auch aus einem weiteren, im folgenden erläuterten Grunde schwierig, die zuvor geforderte Anpassung der numerischen Apertur der Kondensorzonenplatte an die der Mikrozonenplatte ohne neue Schwierigkeiten zu erreichen. Um die Anpassung zu verwirklichen, muß die Kondensorzonenplatte außen dieselben feinen Zonen besitzen wie die Mikrozonenplatte selbst. Die lichtstärksten gebauten Mikrozonenplatten besitzen inzwischen Zonenbreiten von nur noch 19 nm (entsprechend 38 nm Periode der Zonenstrukturen). Zonenplatten mit solch feinen Zonenstrukturen können bislang nur mit Methoden der
Elektronenstrahllithographie, in der die Zonen nacheinander erzeugt werden, hergestellt werden. Holographische Methoden, die das Muster einer Zonenplatte in einem Schritt „parallel" und damit in kurzer Zeit erzeugen, scheiden aus, da eine geeignet kurzwellige UV-Holographie nicht existiert. Dementsprechend könnten auch Kondensorzonenplatten mit angepaßter numerischer Apertur nur mit Methoden der Elektronenstrahllithographie, welches als serielles und damit langsames Verfahren zu bezeichnen ist, hergestellt werden. Solche Kondensorzonenplatten haben aber wegen ihres notwendigerweise großen Durchmessers typischerweise viele 10 000 Zonen. Die Schreibzeiten mit einem Elektronenstrahllithographiesystem liegen dann in der für die Praxis unrealistischen Größenordnung von Wochen, weshalb Kondensorzonenplatten mit Methoden der Elektronenstrahllithographie bislang nicht hergestellt wurden.
Für die Dunkelfeld-Röntgenmikroskopie sind sogar noch lichtstärkere Kondensor-Monochromator-Anordnungen nötig (sofern nicht ein sehr präzise zu justierender absorbierender Ring in der hinteren Fokalebene des Mikroobjektivs plaziert wird). Die Perioden der Zonenstrukturen geeigneter Kondensorzonenplatten müßten dafür weniger als 38 nm betragen.
Für die Phasenkontrast-Röntgenmikroskopie ist eine Kondensor-
Monochromator-Anordnung von Vorteil, die möglichst alles vom Strahlrohr zur Verfügung gestellte Röntgenlicht in eine ringförmige Hohlkegel-Apertur großen Aperturwinkels zum Objekt liefert.
Um die Auflösung der Röntgenmikroskope zu erhöhen, wird gegenwärtig daran gearbeitet Mikrozonenplatten zu entwickeln, die eine kleinste
Zonenbreite von nur noch 10 nm besitzen. Damit steigen die Aperturen der Mikrozonenplatten und dementsprechend die nötigen numerischen Aperturen der Kondensoren, um eine inkohärente Objektbeleuchtung sicherzustellen, und die bereits erwähnten Schwierigkeiten vergrößern sich weiter.
Es sind weltweit Elektronenspeicherringe im Bau und z.T. fertiggestellt, die Röntgenstrahlung aus Undulatoren zur Verfügung stellen. Diese Undulatoren liefern einen etwa 10 bis 100 mal höheren Röntgenstrahlungsfluß, der für die Röntgenmikroskopie voll genutzt werden kann. Außerdem ist die Röntgenstrahlung viel besser koliimiert, typischerweise hat der Strahl am Ende eines Strahlrohres am Standort eines Mikroskopes nur 1 - 2 mm Durchmesser und die bislang genutzten und in ihrer Apertur nicht angepaßten „großen" Kondensorzonenplatten können nicht mehr voll ausgeleuchtet werden. Damit Kondensorzonenplatten die Strahlung ausreichend monochromatisieren, müßten dann entweder Anordnungen mit den bereits oben diskutierten Nachteilen - kleinere Kondensorzonenplatten mit kürzeren Brennweiten und entsprechend kleinere Monochromatorlochblenden - benutzt werden, oder große Kondensorzonenplatten müssen außeraxial, d.h. in einem Randgebiet, beleuchtet werden. Solche außeraxialen Anordnungen beleuchten aber das Objekt schräg, was zu einer unsymmetrischen optischen Übertragungsfunktion des Mikroskops führt und die damit erzeugten Abbildungen sind nur schwer auswertbar. Ein anderer Weg, der bereits vorgeschlagen wurde, besteht darin, den Strahl mit einer zusätzlichen Zonenplatte vor dem Kondensor geeignet aufzuweiten. Dies hat aber den Nachteil, daß an diesem zusätzlichen beugenden Element ein weiterer Lichtverlust auftritt - der Beugungswirkungsgrad von Zonenplatten liegt im Bereich von nur 10 % bis 20% - und zudem sind dann insgesamt drei Zonenplatten im Mikroskop vorhanden, die wegen der Wellenlängenabhängigkeit ihrer Brennweiten viel schwieriger exakt aufeinander einjustiert werden können als zwei Zonenplatten. Zudem kann die Anpassung der Aperturen auch in den beiden zuletzt genannten Fällen nachteiligerweise nur durch eine Anpassung der kleinsten Zonenbreiten der Kondensorzonenplatte an die der Mikrozonenplatte erreicht werden.
Es ist die Aufgabe der Erfindung, für eine quasimonochromatische Objektbeleuchtung in einem Röntgenmikroskop und eine inkohärente Bildaufzeichnung eine Kondensor-Monochromator-Anordnung anzugeben, die eine ringförmige Beleuchtungspupille besitzt, nur ein einziges beugendes optisches Element enthält, das in angemessener Zeit hergestellt werden kann, und die auch bei einem engen Strahlenbündel mit wenigen Millimetern Durchmesser optimal genutzt werden kann.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die im Kennzeichen des Anspruchs 1 angegebenen Merkmale gelöst. Zudem wird die Aufgabe auch durch die in den Kennzeichen der Ansprüche 5, 9 und 11 angegebenen Merkmale gelöst. Vorteilhafte Ausgestaltungen und Weiterbildungen der Erfindung ergeben sich aus den Unteransprüchen.
Die Erfindung geht von der Erkenntnis aus, daß eine inkohärente Bildaufzeichnung erhalten wird, wenn ein abzubildendes Objekt während der Belichtungszeit eines Bildes sukzessive aus unterschiedlichen
Richtungen beleuchtet wird. Es wird eine Kondensor-Monochromator- Anordnung genutzt, die aus einer off-axis Zonenplatte, einem Planspiegel, einer Monochromatorlochblende auf der optischen Achse und einem mechanischen Halter für die off-axis Zonenplatte und den Planspiegel besteht. Der Halter ist um die optische Achse des Mikroskopes drehbar.
Durch diese Drehung wird eine Beleuchtung aus verschiedenen Richtungen erzeugt.
Die Kondensor-Monochromator-Anordnung enthält nur ein einziges beugendes optisches Element und dieses enthält gröbere und damit eine insgesamt geringere Anzahl beugender Strukturen als in bisher genutzten optischen Elementen, so daß sich diese mit Hilfe der Elektronenstrahllithographie in deutlich kürzeren Zeiten belichten lassen. Außerdem kann die Beleuchtungsapertur der Kondensor- Monochromator- Anordnung variabel eingestellt werden, ohne daß ein zweites beugendes optisches Element benutzt werden muß. Der nutzbare Bereich des
Bildfeldes ist vergrößert, da die Beleuchtung nur aus einen sehr „dünnwandigen Hohlkegelmantel" besteht. Im folgenden werden schematisch dargestellte Ausführungsbeispiele der Erfindung anhand der Zeichnung näher erläutert.
Fig.1 zeigt einen Kondensor-Monochromator bestehend aus einer off-axis Transmissionszonenplatte und einem nachgeordneten Planspiegel.
Fig.2 zeigt einen Kondensor-Monochromator bestehend aus einer off-axis
Transmissionszonenplatte, einem vorgeschaltetem und einem nachgeordnetem Planspiegel.
Fig.3 zeigt einen Kondensor-Monochromator bestehend aus einer off-axis Transmissionszonenplatte und zwei vorgeschalteten Planspiegeln.
Fig.4 zeigt einen Kondensor-Monochromator bestehend aus einer off-axis
Transmissionszonenplatte und einem vorgeschalteten Planspiegel.
Fig.5 zeigt einen Kondensor-Monochromator bestehend aus einer Kondensorzonenplatte und zwei vorgeschalteten Planspiegeln.
Fig.6 zeigt einen Kondensor-Monochromator bestehend aus einer off-axis Reflexionszonenplatte und einem nachgeordneten Planspiegel.
Fig.7a zeigt einen Kondensor-Monochromator bestehend aus einem Reflexionsplangitter und einem nachgeordneten fokussierenden Spiegel.
Fig.7b zeigt einen Kondensor-Monochromator bestehend aus einem Transmissionsplangitter und einem nachgeordneten fokussierenden Spiegel.
Fig.8 zeigt einen Kondensor-Monochromator bestehend aus einer off-axis Reflexionszonenplatte und einem vorgeschalteten Planspiegel. Fig.9 zeigt einen Kondensor-Monochromator bestehend aus einer off-axis Reflexionszonenplatte, einem vorgeschalteten und einem nachgeordneten Planspiegel.
Fig.10 zeigt einen Kondensor-Monochromator bestehend aus einer off- axis Reflexionszonenplatte und zwei vorgeschalteten Planspiegeln.
Fig.11. zeigt einen Kondensor-Monochromator bestehend aus einer off- axis Transmissionszonenplatte und zwei nachgeschalteten Planspiegeln.
Fig.12. zeigt einen Kondensor-Monochromator bestehend aus einer off- axis Transmissionszonenplatte und drei nachgeschalteten Planspiegeln.
Fig.13 zeigt einen Kondensor-Monochromator, der eine off-axis
Transmissionszonenplatte aus zwei Segmenten unterschiedlicher Brennpunkte und zwei Paare Planspiegel enthält.
Fig.14. zeigt einen Kondensor-Monochromator, der eine off-axis Transmissionszonenplatte aus zwei Segmenten unterschiedlicher Brennpunkte und zwei Paare Planspiegel enthält.
Fig.15 zeigt einen Kondensor-Monochromator bestehend aus einem Fokussator mit Ringfokus und einem nachgeschalteten Hohlkegelspiegel.
Fig.16 zeigt einen Kondensor-Monochromator bestehend aus einem Fokussator mit Ringfokus und zwei nachgeschalteten Hohlkegelspiegeln.
In Fig.1 ist eine Kondensor-Monochromator-Anordnungen dargestellt, die zwei optische Elemente enthält. Die einfallende Röntgenstrahlung 1 trifft auf ein beugendes und zugleich abbildendes optisches Element 7 und wird von diesem fokussiert und in Richtung eines Planspiegels 2 gebeugt. Der Planspiegel 2 steht einige cm vor dem Fokalpunkt der Röntgenstrahlung und spiegelt diese in die Monochromatorlochblende 11 auf das Objekt 4, das sich auf der optischen Achse 6 des Röntgenmikroskops 5 befindet. Der Planspiegel 2 steht unter streifendem Einfall mit wenigen Grad Einfallswinkel, so daß Totalreflexion auftritt
(Materie hat für weiche Röntgenstrahlung einen Brechungsindex, der kleiner als eins ist) und eine hohe Reflektivität erzielt wird. An die Oberflächenqualität des Planspiegels 2 muß hinsichtlich des Wnkeltangentenfehlers keine besonders hohe Anforderung gestellt werden (ein Winkeltangentenfehler von besser als 10 Bogensekunden ist ausreichend), da der Planspiegel 2 sich nur wenige cm vor dem zu beleuchtenden Objekt 4 befindet. Dadurch kann der Winkeltangentenfehler das ausgeleuchtete Bildfeld durch Zerstreuung nur unbedeutend aufweiten. Da der Planspiegel 2 relativ nahe am Fokalpunkt der Röntgenstrahlung liegt und der Strahlquerschnitt hier bereits klein ist, braucht der Planspiegel 2 günstigerweise nur wenige cm lang zu sein.
Zusammen als Einheit bilden die beiden beschriebenen optischen Elemente 2,7 mit der Monochromatorlochblende 11 eine Kondensor- Monochromator-Anordnung. Die optischen Elemente 2,7 sind drehbar um die optische Achse 6 des Röntgenmikroskops 5 gelagert. Hierzu können sie in einer hier nicht dargestellten mechanischen Halterung befestigt sein. Die Halterung besitzt eine mit der optischen Achse 6 zusammenfallende Drehachse, um die sie sich zusammen mit den optischen Elementen 2,7 drehen kann. Die optische Achse 6 des Röntgenmikroskops 5 ist in Ausbreitungsrichtung der einfallenden Röntgenstrahlung 1 ausgerichtet.
Der gesamte Aufbau befindet sich wegen der hohen Absorption der benutzten weichen Röntgenstrahlung in einer Vakuumkammer.
Das beugende und abbildende optische Element 7 kann eine off-axis Zonenplatte sein. Unter einer off-axis Zonenplatte wird hier eine Zonenplatte verstanden, die nur aus einem kleinen, unsymmetrisch und fern zur Zonenplattenmitte liegenden, zusammenhängenden Zonenbereich besteht. Deswegen sind die Strukturen innerhalb dieses Zonenbereichs im allgemeinen nicht rotationssymmetrisch. Der Zonenbereich ist dabei so groß, daß er einen Röntgenstrahl von einigen mm2 Querschnittsfläche auffangen kann.. Sie kann in Transmission als off- axis Transmissionszonenplatte 7 gemäß Fig.1 , oder in Reflexion als off- axis Reflexionszonenplatte 3 gemäß Fig.6 eingesetzt werden. Da eine off- axis Zonenplatte die Röntgenstrahlung seitlich auslenkt, ist der Planspiegel 2 zwingend notwendig, um die Röntgenstrahlung auf die optischen Achse 6 zurückzuspiegeln.
Wird nun während der Belichtung eines mikroskopischen Bildes, die typischerweise wenige Sekunden beträgt, die mechanische Halterung mit den optischen Elementen 7,2 (Fig.1) genau eine Umdrehung um die optische Achse 6 gedreht, so beschreibt der schräg auf das Objekt 4 einfallende Beleuchtungskegel 8 einen Hohlkegel, der die wirksame
Apertur der Beleuchtung bestimmt. Der Öffnungswinkel 10 dieses Hohlkegels kann über den Reflexionswinkel 9 des Planspiegels 2 eingestellt werden. Dazu muß auch der Abstand des Planspiegels 2 von der optischen Achse 6 und die Lage der off-axis Transmissionszonenplatte 7 (bzw. der off-axis Reflexionszonenplatte 3 in Fig.6) entlang der optischen Achse 6 neu justiert werden, damit der Fokus genau wieder auf der optischen Achse 6 im Objekt 4 liegt. Die Lage der Drehachse der Halterung muß bis auf wenige μm stabil bleiben, was mit Spindelkugellagern oder spielfreien Kugelführungen erreicht werden kann.
Da die Aperturanpassung mit dem Planspiegel 2 vorgenommen wird, sind hinsichtlich der Stärke der Strahlablenkung durch Beugung an der off-axis Zonenplatte 7,3 keine besonderen Anforderungen zu stellen. Die off-axis Zonenplatte 7,3 muß nur ein Bild der Röntgenstrahlungsquelle in geeigneter Größe in der Objektebene erzeugen und die Röntgenstrahlung spektral zerlegen. Da Undulatoren sehr kleine Quellgrößen besitzen - sie sind deutlich kleiner als die Quellgrößen in den bislang benutzten Ablenkmagneten - , kann ein geringer Verklemerungsmaßstab und damit eine off-axis Zonenplatte 7,3 mit typisch mindestens zwei mal größerer Brennweite als die der in der Einleitung genannten Kondensorzonenplatten benutzt werden, um das Objekt in sogenannter
„kritischer Beleuchtung" zu beleuchten Dies hat zur Folge, daß nicht nur eine unter streifendem Einfall benutzte off-axis ftef/ex/onszonenplatte 3 (Fig 6, ebenso auch Fig.8 -10), die von vorn herein gröbere Zonen besitzt, verwendet werden kann, sondern daß bereits eine off-axis Transm/ss/onszonenplatte 7 (Fιg.1, ebenso auch Fιg.2-4,11-14) genügt, die gröbere und damit weniger Zonen besitzt als die oben diskutierte Kondensorzonenplatte, die dem Stand der Technik entsprechend in einer Kondensor-Monochromator-Anordnung nur als einziges optisches Element (stets in Transmission) zur quasimonochromatischen Beleuchtung genutzt wird. Zudem ist die zu strukturierende Fläche für Anwendungen an
Undulatoren wegen des besser gebündelten Strahls typischerweise 10 mal geringer als bei der in der Einleitung beschnebenen Kondensorzonenplatte für die Strahlung aus Ablenkmagneten. Dazu kommt, daß die Zonenbreiten einer off-axis Zonenplatte 7,3 nahezu konstant sind, so daß sie vorteilhafterweise über ihre gesamte Fläche eine nahezu einheitlich hohe Dispersion besitzen
Wie bereits erwähnt, sind prinzipiell Anordnungen mit off-axis Transmissions- und Reflexionszonenplatten nutzbar. Eine off-axis Transmissionszonenplatte 7 für eine Röntgenstrahlung mit 2.4 nm Wellenlänge besitzt z.B. 50 nm breite und 300 nm hohe Germaniumzonen
- was zur Zeit technologisch herstellbar ist. Eine in ihren optischen Eigenschaften äquivalente off-axis Reflexionszonenplatte 3, die bei Einfallswinkeln von wenigen Grad benutzt wird, besitzt dagegen etwa 10 bis 50 mal größere Zonenbreiten bei gleichzeitig deutlich geringerer Zonenhόhe. Daher ist die off-axis Reflexionszonen platte 3 technologisch n
viel einfacher zu realisieren als die äquivalente off-axis Transmissionszonenplatte 7
Im Unterschied zu einer off-axis Transmissionszonenplatte 7, die freitragend mit feinen Stutzstrukturen oder auf einer sehr dünnen Stutzfolie hergestellt ist, kann sich eine off-axis Reflexionszonenplatte 3 auf einem stabilen festen Substrat befinden Wegen des extrem schrägen Einfalls der Röntgenstrahlung ist dieses Substrat thermisch belastbar und kuhlbar
Auch mit mehreren Planspiegeln 2 kann sowohl die off-axis Transmissionszonenplatte 7 als auch die off-axis Reflexionszonenplatte 3 in unterschiedlicher Weise angeordnet werden, was beispielhaft in den Fig 2, 3 und 9-14 dargestellt ist
So wird gemäß Fig 2 und auch gemäß Fig 9 die einfallende Röntgenstrahlung 1 zuerst mit einem Planspiegel 2 aus ihrer ursprünglichen Richtung zu einer off-axis Zonenplatte 7,3 hin abgelenkt
Hinter der off-axis Zonenplatte 7,3 wird mit einem zweiten Planspiegel 2 die gebeugte und konvergierende Strahlung in Richtung zur optischen Achse 6 gespiegelt, wobei durch diesen zweiten Planspiegel 2 die Apertur der Beleuchtung eingestellt werden kann Gemäß Fig 2 wird eine off-axis Transmissionszonenplatte 7 und gemäß Fig 9 eine off-axis
Reflexionszonenplatte 3 eingesetzt Die Anordnung beider Planspiegel 2 und der off-axis Zonenplatte 7,3 wird wahrend der Belichtungszeit für ein Rontgenbild eine Umdrehung um die optische Achse 6 gedreht Der schräg auf das Objekt einfallende Beleuchtungskegel 8 beschreibt einen Hohlkegel, der die wirksame Apertur der Beleuchtung bestimmt Die gewünschte Aperturanpassung geschieht mit dem zweiten im Strahlengang hinter der off-axis Zonenplatte 7,3 angeordneten Planspiegel 2, indem der Reflexionswinkel 9 geeignet eingestellt wird 22 PC17DE97/00033
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Gemäß Fig 3 und auch gemäß Fig 10 wird die einfallende Röntgenstrahlung 1 zuerst mit einem Planspiegel 2 aus ihrer ursprünglichen Richtung gelenkt und trifft auf einen zweiten Planspiegel 2 Von dort gelangt sie gemäß Fig 3 auf eine off-axis Transmissionszonenplatte 7 bzw gemäß Fig 10 auf eine off-axis
Reflexionszonenplatte 3 Die off-axis Zonenplatte 7,3 fokussiert das Röntgenlicht in das Objekt 4 Die beschriebene Anordnung der beiden Planspiegel 2 und der off-axis Zonenplatte 7,3 wird mit Hilfe einer nicht dargestellten mechanischen Halterung wahrend der Belichtungszeit des Röntgenmikroskopes 5 eine Umdrehung um die optische Achse 6 gedreht
Der schräg auf das Objekt 4 einfallende Beleuchtungskegel 8 beschreibt einen Hohlkegel, der die wirksame Apertur der Beleuchtung bestimmt Die gewünschte Aperturanpassung geschieht mit zweiten im Strahlengang kurz vor der off-axis Zonenplatte 7,3 angeordneten Planspiegel 2, indem der Reflexionswinkel 9 geeignet eingestellt wird
Fig 4 zeigt eine Kondensor-Monochromator-Anordnung mit einer off-axis Transmissionszonenplatte 7 und einem vorgeschalteten Planspiegel 2 Die off-axis Transmissionszonenplatte 7 fokussiert das Röntgenlicht schräg zurück zum Objekt 4 auf die optische Achse 6 Die off-axis Transmissionszonenplatte 7 und der vorgeschaltete Planspiegel 2 werden wahrend der Belichtungszeit des Röntgenmikroskopes 5 eine Umdrehung um die optische Achse 6 gedreht Der schräg auf das Objekt einfallende Beleuchtungskegel 8 beschreibt einen Hohlkegel, der die wirksame Apertur der Beleuchtung bestimmt Allerdings ist mit dieser Anordnung keine flexible Aperturanpassung mehr möglich
In Fig 5 ist ein Ausführungsbeispiel dargestellt, in dem als beugendes Element eine in der Einleitung beschriebene ringförmige Kondensorzonenplatte 14 genutzt wird Im Strahlengang davor befinden sich zur Strahlablenkung zwei Planspiegel 2, die wahrend der Belichtungszeit eines rontgenmikroskopischen Bildes mittels einer drehbaren mechanischen Halterung einmal um die optische Achse 6 gedreht werden, so daß das abgelenkte Strahlenbundel die gesamte ringförmige Kondensorzonenplatte 14 einmal überstreicht Die Kondensorzonenplatte 14 braucht daher nicht gedreht zu werden Der schräg auf das Objekt 4 einfallende Beleuchtungskegel 8 beschreibt einen
Hohlkegel, der die wirksame Apertur der Beleuchtung bestimmt
In Fig 6 ist eine Kondensor-Monochromator-Anordnung dargestellt, bei der die einfallende Röntgenstrahlung 1 auf eine off-axis Reflexionszonenplatte 3 trifft, die die Röntgenstrahlung 1 in Reflexion beugt und zugleich fokussiert Der Planspiegel 2 lenkt die gebeugte Röntgenstrahlung auf das
Objekt 4 Dabei drehen sich die off-axis Reflexionszonenplatte 3 und der Planspiegel um die optische Achse 6 Unter der Beschreibung der Fig 1 ist die Funktionsweise bereits detailliert dargelegt
In Fig 7a ist ein Ausführungsbeispiel dargestellt, in der als beugendes Element ein Reflexionsplangitter 15a mit variabler Liniendichte genutzt wird Die Liniendichte des Reflexionsplangitters 15a variiert derart, daß die Röntgenstrahlung nach Beugung am Reflexionsplangitter 15a dieselbe Strahldivergenz besitzt wie vor dem Reflexionsplangitter 15a Diese Technik ist allgemein bekannt und wird bereits genutzt Erfindungsgemaß befindet sich zusätzlich aber im weiteren Strahlengang ein fokussierender
Spiegel 16 und wird zusammen mit dem Reflexionsplangitter 15 um die optische Achse 6 gedreht Der fokussierende Spiegel 16 fokussiert die Röntgenstrahlung auf das Objekt 4, wobei durch die Rotation ein die Apertur der Beleuchtung bestimmender Hohlkegel gebildet wird
Es ist natürlich auch möglich, anstelle des Reflexionsplangitters 15 - bei
Verwendung geeignet kurzwelliger Röntgenstrahlung - einen Kristall unter Braggreflexion einzusetzen Die Fig.7b unterscheidet sich von Fig.7a nur dadurch, daß als beugendes optisches Element ein Transmissionsplangitter 15b anstelle des Reflexionsplangitters 15a eingesetzt ist. Das Transmissionsplangitter 15b beugt die einfallende Röntgenstrahlung 1 in Transmission und behält deren Parallelität auch nach der Beugung bei. Erst der fokussierende
Spiegel 16, der zusammen mit dem Transmissionsplangitter um die optische Achse 6 rotiert, fokussiert die Röntgenstrahlung auf das Objekt 4.
Fig.8 zeigt eine Kondensor-Monochromator-Anordnung mit einer off-axis Reflexionszonenplatte 3 und einem vorgeschalteten Planspiegel 2. Die off- axis Reflexionszonenplatte 3 fokussiert das Röntgenlicht schräg zurück zum Objekt 4 auf die optische Achse 6. Die off-axis Reflexionszonenplatte 3 und der vorgeschaltete Planspiegel 2 werden während der Belichtungszeit des Röntgenmikroskopes 5 eine Umdrehung um die optische Achse 6 gedreht. Der schräg auf das Objekt einfallende Beleuchtungskegel 8 beschreibt einen Hohlkegel, der die wirksame
Apertur der Beleuchtung bestimmt. Allerdings ist mit dieser Anordnung keine flexible Aperturanpassung mehr möglich.
Bei Verwendung geeignet kurzwelliger Röntgenstrahlung ist es natürlich auch möglich, anstelle des Planspiegels 2 in Fig.8 einen Kristall unter Braggreflexion einzusetzen.
Ebenso kann bei Verwendung geeignet kurzwelliger Röntgenstrahlung anstelle der off-axis Reflexionszonenplatte 3 in Fig.8 ein gekrümmter Kristall in der sogenannten „Rowlandanordnung" und unter Ausnutzung der Braggreflexion eingesetzt werden.
Die Kondensor-Monochromator-Anordnungen gemäß Fig.9 und Fig.10 mit jeweils zwei Planspiegeln 2 und einer off-axis Reflexionszonenplatte 3, die um die optische Achse 6 rotieren, sind der Analogie wegen bereits im Text zu Fig.2 und. Fig.3 beschrieben. Es soll noch erwähnt werden, daß sich diese bislang gefundenen Lösungen mit Transmissions- und Reflexionszonenplatten 7,3 auch für Strahlung längerer Wellenlängen, etwa für UV- Strahlung und sichtbare Strahlung eignen. Insbesondere kann mit diesen rotierenden Optiken eine Objektbeleuchtung für inkohärente Bildaufzeichnung auch mit kohärenten
Lichtquellen, z.B. bei Beleuchtung mit Lasern, erzeugt werden. Entsprechende Systeme werden als Systeme mit "dynamischer kohärenter Apertur" bezeichnet. Sie verkörpern dazu den Spezialfall stark schräger und rotierender Beleuchtung. Für diese ist im sichtbaren Spektralbereich bekannt, daß die Übertragungsfunktion bei hohen Raumfrequenzen deutlich angehoben wird gegenüber nahezu inkohärenter Beleuchtung mit einem Kondensor kreisförmiger Pupille, so daß eine verbesserte Kontrastübertagung erreicht wird. Bei Verwendung monochromatischer Laserstrahlung reicht es natürlich, die Stahlablenkung nur durch Spiegel vorzunehmen, d.h. in Fig.6 und in Fig.8-10 kann auf die monochromatisierenden Eigenschaften der off-axis Reflexionszonenplatte 3 verzichtet werden und diese durch einen fokussierenden Spiegel ersetzt werden. Aus demselben Grund kann dann in Fig.1-4 die off-axis Transmissionszonenplatte 7 durch eine Linse ersetzt werden, die in einem Teilstück weit ab von der Linsenmitte benutzt wird.
In Fig.1 1 ist der z.B. in Fig.1 gezeigte Planspiegel 2 durch zwei aufeinanderfolgende einzelne Planspiegel 2 ersetzt. Dabei lenken beide Planspiegel 2 die Röntgenstrahlung in dieselbe Richtung ab. Es ist aber auch möglich, daß die beiden Planspiegel 2 die Röntgenstrahlung entgegengesetzt gerichtet ablenken. Eine Anordnung mit zwei aufeinanderfolgenden um die optische Achse 6 rotierenden Planspiegeln 2 (wie sie auch in Fig.3 und Fig.10 dargestellt sind) bewirkt in jedem Fall, daß das Bild der Röntgenstrahlungsquelle trotz rotierender off-axis Transmissionszonenplatte 7 und der rotierenden Planspiegel 2 nicht gedreht wird. Dies hat die weiter unten noch diskutierten Vorteile bei
Anwendungen mit elliptischen Strahlungsquellen und es kann die Genauigkeitsanforderungen an das Spiel der Drehachse der Spiegel- und Zonenplattenhalterung reduzieren.
In Fig.12. ist ein Kondensor-Monochromator bestehend aus einer off-axis Transmissionszonenplatte 7 und drei nachgeschalteten Planspiegeln 17,18,19 gezeigt. In dieser Anordnung brauchen sich nur die beiden nachgeschalteten Planspiegel 17,18 um die optische Achse 6 des Röntgenmikroskops 5 zu drehen. Die off-axis Transmissionszonenplatte 7 und der Planspiegel 19 können dabei raumfest bleiben. Diese Anordnung hat den Vorteil, daß das von der off-axis Transmissionszonenplatte 7 erzeugte Bild der Röntgenstrahlungsquelle wegen der zweifachen
Spiegelung an den sich drehenden Spiegeln 17, 18 nicht gedreht ist. Wenn als Röntgenstrahlungsquelle ein Elektronenstrahl-Undulator benutzt wird, so hat dieser im allgemeinen ein stark elliptisches Quellgebiet, von dem die off-axis Transmissionszonenplatte 7 ein Bild erzeugt. Die Dispersionsrichtung der off-axis Transmissionszonenplatte 7 kann nun so gelegt werden, daß diese in Richtung der kleinen Ellipsenachse fällt. Dabei verlaufen die nur leicht gekrümmten Zonen der off-axis Transmissionszonenplatte 7 im wesentlichen "parallel" zur großen Ellipsenachse des Bildes. Da sich das Bild der Röntgenstrahlungsquelle infolge zweifacher Spiegelung an der beiden rotierenden, nachgeschalteten Spiegeln 17,18 nicht dreht, kann daher auf diese Weise ein relativ homogen ausgeleuchtetes "Band" von der Breite des großen Durchmessers der Bildellipse erzeugt werden, dessen Intensität in Dispersionsrichtung nur langsam variiert.
Gleichzeitig ist diese Anordnung relativ unempfindlich gegen
Verkippungen und Translationen der Drehachse der Spiegelanordnung, da zwei sich drehende Planspiegel 2 verwendet werden.
In Fig.13 ist eine Kondensor-Monochromator-Anordnung mit zwei off-axis Transmissionszonenplattensegmenten 20a, 20b und mit zwei Paaren nachgeschalteter und jeweils entgegengesetzt ablenkender Planspiegel 2 gezeigt. Hier wird die Röntgenstrahlung von zwei off-axis Transmissionszonenplattensegmenten 20a, 20b derselben Brennweite eingefangen. Die off-axis Transmissionszonenplattensegmente 20a, 20b sind in ihrer Struktur identisch, aber um 180° gegeneinander gedreht, so daß die beiden zugehörigen Foci sich gegenüber liegen, symmetrisch zur optischen Achse 6. Mit je einem Planspiegelpaar werden die Strahlen zurückgespiegelt auf die optische Achse 6, so daß sich die beiden Brennpunkte im Objekt 4 überlagern. Diese Art der Beleuchtung ist streng spiegelsymmetrisch und führt zu anderen Abbildungseigenschaften als die
"Einseitenbandabbildung" bei einseitiger und extremer Hellfeld- Schrägbeleuchtung. Insbesondere kann mit dieser Art der Beleuchtung bei weiterer Vergrößerung der Beleuchtungswinkels in der Objektebene Dunkelfeldmikroskopie betrieben werden. Es sind dann stets komplementär gebeugte Strahlen in der Bildebene vorhanden, die miteinander interferieren können. Dies ist eine notwendige Voraussetzung, wenn die Grenzauflösung im Dunkelfeld erreicht werden soll.
In Fig.14. ist eine Kondensor-Monochromator-Anordnung mit einer off-axis Transmissionszonenplatte 7 und mit zwei Paaren jeweils gleichgerichtet ablenkender Planspiegeln 2 dargestellt. Die off-axis
Transmissionszonenplatte 7 ist wie die gemäß Fig.13 aus zwei Segmenten 20a, 20b zusammengesetzt, die die gleiche Brennweite besitzen aber mit - bezogen auf die optische Achse 6 - gegenüberliegenden Brennpunkten. Aufgrund der strahlungsumlenkenden Planspiegel 2 überlagern sich aber die sonst getrennten Brennpunkte in einem Brennpunkt im Objekt 4. Die prinzipielle Funktionsweise ist dieselbe wie unter Fig.13 bereits beschrieben.
Schließlich ist es gemäß Fig.15 auch möglich, die Aufgabenstellung erfüllende äquivalente Systeme zur quasimonochromatischen Objektbeleuchtung mit inkohärenter Bildaufzeichnung anzugeben, die während der Belichtungszeit eines Bildes keine Rotation des ganzen Systems um die optische Achse 6 erfordern In diesem Fall wird - wie allgemein in der optischen Mikroskopie üblich - ein Kondensor- Monochromator benutzt, der eine Beleuchtungswelle hoher numerischer Apertur erzeugt Dazu kann ein besonderes beugendes Element mit einem nachgeschalteten Spiegel benutzt werden Das beugende Element ist ein sogenannter Fokussator 13 mit Ringfokus, der statt eines Brennpunktes einen scharf fokussierten Ring konzentrisch zur optischen Achse 6 erzeugt. Solche Fokussatoren 13 lassen sich genauso wie off- axis Zonenplatten 7,3 mit Hilfe der Elektronenstrahllithographie erzeugen
Sie besitzen ganz ähnliche Parameter und Gesetzmäßigkeiten wie die zuvor beschriebenen off-axis Zonenplatten 7 in Transmission, insbesondere brauchen sie nur vergleichbar „grobe" beugende Strukturen zu besitzen wie in den oben beschriebenen Fällen. Ein weiterer Vorteil des Fokussators 13 besteht darin, daß er gut geeignet ist für stark kollimierte
Strahlung Alle Strahlung aus dem zentralen Strahl beugt und fokussiert der Fokussator 13 in einen Ring größeren Durchmessers, der konzentrisch um die optische Achse 6 liegt (Fig.15). Das folgende Spiegelsystem besteht aus einem oder zwei hinteremandergeschalteten Hohlkegelspiegeln 12. Es wird in geeignetem Abstand hinter dem
Fokussator 13 und vor dem Ringfokus angeordnet. Dadurch wird anstelle eines Ringfokus ein punktförmiger Fokus auf der optischen Achse 6 erhalten. Wird um diesen „Brennpunkt" eine kleine Lochblende 11 gelegt, so wirkt die Anordnung aus Fokussator 13, Hohlkegelspiegel 12 und Lochblende 11 als Monochromator. Die Aperturanpassung geschieht über eine geeignete Wahl des Ablenkwinkels des Hohlkegelspiegelsystems
Fig.16 zeigt eine Kondensor-Monochromator-Anordnung mit einem Fokussator 13 mit Ringfokus und zwei nachgeschalteten Hohlkegelspiegeln 12. Der Vorteil eines Systems mit zwei Hohlkegelspiegeln 12 liegt dann, daß in einem solchen System die sogenannte „Knickfläche" der Strahlungsablenkung nahezu senkrecht zur optischen Achse 6 liegt (Die Knickfläche ist diejenige Fläche, auf der sich die in Strahlrichtung verlängerten und die rückwärtig verlängerten reflektierten Strahlen schneiden.). Es ist bekannt, das in optischen Systemen die Aberrationen, die bei Verkippung des Systems - also z.B. bei fehlerhafter Justierung - auftreten, geringer sind als in Systemen, deren Knickfläche fast parallel zur optischen Achse 6 verläuft. Letzteres ist bei Benutzung eines Systems mit nur einem Hohlkegelspiegel 12 der Fall, für den die reflektierende Oberfläche und die Knickfläche übereinstimmen muß und der sehr viel genauer justiert werden muß.
Im folgenden sind die Vorteile der Erfindung nochmals zusammengefaßt.
Es können mit einem einzigen Aufbau die Aperturen aller bislang zur Verfügung stehender Mikrozonenplatten für Hellfeld- , Phasenkontrast- und Dunkelfeldmikroskopie angepaßt werden. Die Apertur einer Ringpupille wird durch Rotation einer Schrägbeleuchtung um 360° erhalten, wobei der Winkel der Schrägbeleuchtung über einen Planspiegel
2 über einen weiten Bereich eingestellt werden kann. Der Planspiegel 2 ist sehr klein, typischerweise wenige cm lang und daher preiswert. Für den Betrieb an gut kollimierten Strahlen aus Undulatoren ist eine Strahlaufweitung nicht nötig. Die Wellenlänge kann in sehr weiten Bereichen verändert werden. Die Kondensor-Monochromator-Anordnung enthält eine off-axis Zonenplatte 7,3 mit Zonenbreiten, die deutlich größer sind als die der zur Verfügung stehenden Mikrozonenplatten, die als Röntgenobjektiv eingesetzt werden. Die Wellenlänge kann in sehr weiten Bereichen verändert werden. Alternativ kann eine Ringpupille auch durch einen Fokussator 13 erzeugt werden, wobei dann ein Hohlkegelspiegel 12 zur Fokussierung der Strahlung auf die optische Achse 6 verwendet wird. Bezugszeichenliste
1 einfallende Röntgenstrahlung
2 Planspiegel
3 off-axis Reflexionszonenplatte 4 Objekt
5 Röntgenmikroskop
6 optische Achse des Röntgenmikroskops
7 off-axis Transmissionszonenplatte
8 schräg einfallender Beleuchtungskegel 9 Reflexionswinkel
10 halber Öffnungswinkel der Hohlkegelbeleuchtung
11 Monochromatorlochblende in der Objektebene
12 Hohlkegelspiegel
13 Fokussator mit Ringfokus 14 ringförmige Kondensorzonenplatte
15a Reflexionsplangitter 15b Transmissionsplangitter
16 fokussierender Spiegel
17 Planspiegel 18 Planspiegel
19 Planspiegel
20a off-axis Zonenplattensegment
20b off-axis Zonenplattensegment

Claims

Patentansprüche
1. Kondensor-Monochromator-Anordnung für Röntgenstrahlung zur quasimonochromatischen Beleuchtung und inkohärenten Bildaufzeichnung eines Objekts (4) in einem Röntgenmikroskop (5) mit strahlablenkenden optischen Elementen und mit einer auf der optischen Achse (6) des
Röntgenmikroskops (5) angeordneten Monochromatorlochblende (11), dadurch gekennzeichnet, daß als optische Elemente eine off-axis Zonenplatte (3;7) und mindestens ein Planspiegel (2,17,18) vorgesehen sind, die drehbar um die optische Achse (6) des Röntgenmikroskopes (5) gelagert sind.
2. Kondensor-Monochromator-Anordnung für Röntgenstrahlung nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, daß mindestens ein Planspiegel (2) im Strahlengang vor oder hinter der off-axis Zonenplatte (3;7) angeordnet ist.
3. Kondensor-Monochromator-Anordnung für Röntgenstrahlung nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, daß jeweils ein Planspiegel (2) im
Strahlengang vor und hinter der off-axis Zonenplatte (3;7) angeordnet ist.
4. Kondensor-Monochromator-Anordnung für Röntgenstrahlung nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die off-axis Zonenplatte (3;7) eine Transmissionszonenplatte (7) oder eine Reflexionszonenplatte (3) ist.
5. Kondensor-Monochromator-Anordnung für Röntgenstrahlung zur quasimonochromatischen Beleuchtung und inkohärenten Bildaufzeichnung eines Objekts (4) in einem Röntgenmikroskop (5) mit strahlablenkenden optischen Elementen und mit einer auf der optischen Achse (6) des Röntgenmikroskops (5) angeordneten Monochromatorlochblende (11), dadurch gekennzeichnet, daß als optische Elemente ein Gitter und ein fokussierender Spiegel (16) vorgesehen sind, die drehbar um die optische Achse (6) des Röntgenmikroskopes (5) gelagert sind.
6. Kondensor-Monochromator-Anordnung für Röntgenstrahlung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Gitter ein Reflexionsplangitter (15a) oder ein Transmissionsplangitter (15b) ist.
7. Kondensor-Monochromator-Anordnung für Röntgenstrahlung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Gitter ein Kristall ist, der in Braggreflexion benutzt wird.
8. Kondensor-Monochromator-Anordnung für Röntgenstrahlung nach einem der Ansprüche 5 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß der fokussierende Spiegel (16) ein gekrümmter Kristall ist, der in Rowlandanordnung benutzt wird.
9. Kondensor-Monochromator-Anordnung für Röntgenstrahlung zur quasimonochromatischen Beleuchtung und inkohärenten Bildaufzeichnung eines Objekts (4) in einem Röntgenmikroskop (5) mit strahlablenkenden optischen Elementen und mit einer auf der optischen Achse (6) des Röntgenmikroskops (5) angeordneten Monochromatorlochblende (11), dadurch gekennzeichnet, daß als optische Elemente mindestens ein um die
Achse (6) des Röntgenmikroskops (5) rotierender Planspiegel (2) und eine im Strahlengang vor der Monochromatorlochblende (1 1) angeordnete feststehende Kondensorzonenplatte (14) vorgesehen sind, wobei der Planspiegel (2) die auf ihn einfallende Röntgenstrahlung (1) auf die Kondensorzonenplatte lenkt (14).
10. Kondensor-Monochromator-Anordnung für Röntgenstrahlung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß zwei um die Achse (6) des Röntgenmikroskops (5) rotierende Planspiegel (2) zueinander parallel versetzt angeordnet sind, die die einfallende Röntgenstrahlung (1) parallel versetzt zur optischen Achse (6) auf die Kondensorzonenplatte (14) lenken.
11. Kondensor-Monochromator-Anordnung für Röntgenstrahlung zur quasimonochromatischen Beleuchtung und inkohärenten Bildaufzeichnung eines Objekts (4) in einem Röntgenmikroskop (5) mit strahlablenkenden optischen Elementen und mit einer auf der optischen Achse (6) des Röntgenmikroskops (5) angeordneten Monochromatorlochblende (11), dadurch gekennzeichnet, daß als optische Elemente ein Fokussator (13) mit Ringfokus und mindestens ein im Strahlengang nachgeordneter Hohlkegelspiegel (12) vorgesehen sind.
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Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5326428A (en) 1993-09-03 1994-07-05 Micron Semiconductor, Inc. Method for testing semiconductor circuitry for operability and method of forming apparatus for testing semiconductor circuitry for operability
US6327335B1 (en) * 1999-04-13 2001-12-04 Vanderbilt University Apparatus and method for three-dimensional imaging using a stationary monochromatic x-ray beam
US6259764B1 (en) * 1999-07-16 2001-07-10 Agere Systems Guardian Corp. Zone plates for X-rays
EP1200879B1 (de) * 1999-07-30 2007-06-20 Carl Zeiss SMT AG Steuerung der Beleuchtungsverteilung in der Austrittspupille eines EUV-Beleuchtungssystems
DE19954520A1 (de) * 1999-11-12 2001-05-17 Helmut Fischer Gmbh & Co Vorrichtung zur Führung von Röntgenstrahlen
US20050122509A1 (en) * 2002-07-18 2005-06-09 Leica Microsystems Semiconductor Gmbh Apparatus for wafer inspection
DE10242431A1 (de) * 2002-09-11 2004-03-25 Lutz Dr. Kipp Element zur Fokussierung von elektromagnetischen Strahlen oder Strahlen von Elementarteilchen
US7268945B2 (en) * 2002-10-10 2007-09-11 Xradia, Inc. Short wavelength metrology imaging system
US7170969B1 (en) * 2003-11-07 2007-01-30 Xradia, Inc. X-ray microscope capillary condenser system
US7486984B2 (en) * 2004-05-19 2009-02-03 Mxisystems, Inc. System and method for monochromatic x-ray beam therapy
DE102005056404B4 (de) * 2005-11-23 2013-04-25 Helmholtz-Zentrum Berlin Für Materialien Und Energie Gmbh Röntgenmikroskop mit Kondensor-Monochromator-Anordnung hoher spektraler Auflösung
GB2441557B (en) * 2006-09-11 2010-03-17 Medway Nhs Trust Radiation device or signal
EP2370807A4 (de) 2008-12-01 2015-11-11 Univ North Carolina Systeme und verfahren zur bilderfassung eines objekts mittels mehrstrahlbildgebung aus einem röntgenstrahl mit polychromatischer verteilung
DE112010001478B4 (de) * 2009-07-01 2016-05-04 Rigaku Corp. Verwendung einer Röntgenvorrichtung
US8294989B2 (en) * 2009-07-30 2012-10-23 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Apparatus and method for creating a photonic densely-accumulated ray-point
US10620118B2 (en) * 2012-02-27 2020-04-14 Steris Instrument Management Services, Inc. Systems and methods for identifying optical materials
DE102012013530B3 (de) * 2012-07-05 2013-08-29 Helmholtz-Zentrum Berlin Für Materialien Und Energie Gmbh Vorrichtung zur Messung resonanter inelastischer Röntgenstreuung einer Probe
US10541102B2 (en) * 2016-09-14 2020-01-21 The Boeing Company X-ray back scattering for inspection of part
DE102017105275B4 (de) 2017-03-13 2019-02-14 Focus Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Generierung monochromatischer Strahlung einer Strahlungsquelle mit Linienspektrum
DE102020001448B3 (de) 2020-03-03 2021-04-22 Friedrich Grimm Hybridprisma als Bauelement für optische Systeme

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5361292A (en) * 1993-05-11 1994-11-01 The United States Of America As Represented By The Department Of Energy Condenser for illuminating a ring field

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5199057A (en) * 1989-08-09 1993-03-30 Nikon Corporation Image formation-type soft X-ray microscopic apparatus
US5204887A (en) * 1990-06-01 1993-04-20 Canon Kabushiki Kaisha X-ray microscope
DE4027285A1 (de) * 1990-08-29 1992-03-05 Zeiss Carl Fa Roentgenmikroskop
JPH04353800A (ja) * 1991-05-31 1992-12-08 Olympus Optical Co Ltd 軟x線顕微鏡
US5177774A (en) * 1991-08-23 1993-01-05 Trustees Of Princeton University Reflection soft X-ray microscope and method
JP3167095B2 (ja) * 1995-07-04 2001-05-14 キヤノン株式会社 照明装置とこれを有する露光装置や顕微鏡装置、ならびにデバイス生産方法
US6023496A (en) * 1997-04-30 2000-02-08 Shimadzu Corporation X-ray fluorescence analyzing apparatus
US6028911A (en) * 1998-08-03 2000-02-22 Rigaku Industrial Corporation X-ray analyzing apparatus with enhanced radiation intensity

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5361292A (en) * 1993-05-11 1994-11-01 The United States Of America As Represented By The Department Of Energy Condenser for illuminating a ring field

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
OPTICS COMMUNICATIONS., Bd. 12, Nr. 2, Oktober 1974, AMSTERDAM NL, Seiten 160-163, XP002033651 B. NIEMANN ET AL.: "Soft x-ray imaging zone plates with large zone numbers for microscopic and spectroscopic applications." in der Anmeldung erw{hnt *
OPTIK, Bd. 93, Nr. 3, 1.Mai 1993, Seiten 95-102, XP000364882 SCHMAHL G ET AL: "Z-RAY MICROSCOPY STUDIES" *

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Publication number Publication date
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EP0873565B1 (de) 1999-10-20
WO1997025722A3 (de) 1997-09-04
US6128364A (en) 2000-10-03

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