UA101443C2 - Анодный УЗЕЛ вакуумно-дугового ИСТОЧНИКа катодной ПЛАЗМЫ - Google Patents

Анодный УЗЕЛ вакуумно-дугового ИСТОЧНИКа катодной ПЛАЗМЫ

Info

Publication number
UA101443C2
UA101443C2 UAA201114090A UAA201114090A UA101443C2 UA 101443 C2 UA101443 C2 UA 101443C2 UA A201114090 A UAA201114090 A UA A201114090A UA A201114090 A UAA201114090 A UA A201114090A UA 101443 C2 UA101443 C2 UA 101443C2
Authority
UA
Ukraine
Prior art keywords
anode
magnetic field
coil
electromagnetic
magnet
Prior art date
Application number
UAA201114090A
Other languages
English (en)
Ukrainian (uk)
Inventor
Владимир Васильевич Васильев
Владимир Евгеньевич Стрельницкий
Original Assignee
Национальный Научный Центр "Харьковский Физико-Технический Институт"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Национальный Научный Центр "Харьковский Физико-Технический Институт" filed Critical Национальный Научный Центр "Харьковский Физико-Технический Институт"
Priority to UAA201114090A priority Critical patent/UA101443C2/ru
Priority to RU2013130658/07A priority patent/RU2539881C1/ru
Priority to PCT/UA2012/000042 priority patent/WO2013081569A1/ru
Priority to US14/232,944 priority patent/US20140291149A1/en
Priority to EP12852663.9A priority patent/EP2787795A4/en
Publication of UA101443C2 publication Critical patent/UA101443C2/ru

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/48—Generating plasma using an arc
    • H05H1/50—Generating plasma using an arc and using applied magnetic fields, e.g. for focusing or rotating the arc
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32055—Arc discharge
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431—Constructional details of the reactor
    • H01J37/3266—Magnetic control means
    • H01J37/32669—Particular magnets or magnet arrangements for controlling the discharge
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J27/00—Ion beam tubes
    • H01J27/02—Ion sources; Ion guns
    • H01J27/08—Ion sources; Ion guns using arc discharge
    • H01J27/14—Other arc discharge ion sources using an applied magnetic field

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
UAA201114090A 2011-11-29 2011-11-29 Анодный УЗЕЛ вакуумно-дугового ИСТОЧНИКа катодной ПЛАЗМЫ UA101443C2 (ru)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
UAA201114090A UA101443C2 (ru) 2011-11-29 2011-11-29 Анодный УЗЕЛ вакуумно-дугового ИСТОЧНИКа катодной ПЛАЗМЫ
RU2013130658/07A RU2539881C1 (ru) 2011-11-29 2012-04-11 Анодный узел вакуумно-дугового источника катодной плазмы
PCT/UA2012/000042 WO2013081569A1 (ru) 2011-11-29 2012-04-11 Анодный узел вакуумно-дугового источника катодной плазмы
US14/232,944 US20140291149A1 (en) 2011-11-29 2012-04-11 Anode assembly of a vacuum-arc cathode plasma source
EP12852663.9A EP2787795A4 (en) 2011-11-29 2012-04-11 ANODE ASSEMBLY OF A PLASMA SOURCE WITH VACUUM BOW CATHODE

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
UAA201114090A UA101443C2 (ru) 2011-11-29 2011-11-29 Анодный УЗЕЛ вакуумно-дугового ИСТОЧНИКа катодной ПЛАЗМЫ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
UA101443C2 true UA101443C2 (ru) 2013-03-25

Family

ID=48535873

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
UAA201114090A UA101443C2 (ru) 2011-11-29 2011-11-29 Анодный УЗЕЛ вакуумно-дугового ИСТОЧНИКа катодной ПЛАЗМЫ

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20140291149A1 (ru)
EP (1) EP2787795A4 (ru)
RU (1) RU2539881C1 (ru)
UA (1) UA101443C2 (ru)
WO (1) WO2013081569A1 (ru)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH715878A1 (de) 2019-02-26 2020-08-31 Oerlikon Surface Solutions Ag Pfaeffikon Magnetanordnung für eine Plasmaquelle zur Durchführung von Plasmabehandlungen.

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH657242A5 (de) * 1982-03-22 1986-08-15 Axenov Ivan I Lichtbogen-plasmaquelle und lichtbogenanlage mit einer solchen lichtbogen-plasmaquelle zur plasmabehandlung der oberflaeche von werkstuecken.
US5518597A (en) * 1995-03-28 1996-05-21 Minnesota Mining And Manufacturing Company Cathodic arc coating apparatus and method
US7014738B2 (en) * 1997-10-24 2006-03-21 Filplas Vacuum Technology Pte Ltd. Enhanced macroparticle filter and cathode arc source
US6929727B2 (en) * 1999-04-12 2005-08-16 G & H Technologies, Llc Rectangular cathodic arc source and method of steering an arc spot
RU2156555C1 (ru) * 1999-05-18 2000-09-20 Государственное унитарное предприятие "Всероссийский электротехнический институт им. В.И. Ленина" Способ получения и ускорения плазмы и ускоритель плазмы с замкнутым дрейфом электронов для его осуществления
US6706157B2 (en) * 2001-09-12 2004-03-16 Transarc Ltd. Vacuum arc plasma gun deposition system
US6756596B2 (en) * 2002-04-10 2004-06-29 Paul E. Sathrum Filtered ion source
RU2306366C1 (ru) * 2006-04-24 2007-09-20 Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Белгородский государственный университет" Вакуумное электродуговое устройство
JP5063143B2 (ja) * 2007-03-02 2012-10-31 株式会社リケン アーク式蒸発源
CN105632859B (zh) * 2007-04-17 2018-03-30 欧瑞康梅塔普拉斯有限责任公司 真空电弧蒸发源及带有真空电弧蒸发源的电弧蒸发室
CN101851747B (zh) * 2009-03-30 2012-08-29 核工业西南物理研究院 强流金属离子源

Also Published As

Publication number Publication date
EP2787795A4 (en) 2015-07-08
WO2013081569A1 (ru) 2013-06-06
RU2539881C1 (ru) 2015-01-27
EP2787795A1 (en) 2014-10-08
RU2013130658A (ru) 2015-01-10
US20140291149A1 (en) 2014-10-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
UA97584C2 (ru) СПОСОБ ТРАНСПОРТИРОВКИ Вакуумно-дуговой Катодной ПЛАЗМЫ С фильтрованием От макрочастиц И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ
US8618702B2 (en) Vibration energy generator
AR098225A1 (es) Disposición de recubrimiento al vacío y tratamiento con plasma, y método de recubrimiento de un sustrato
WO2012112537A3 (en) Methods, apparatus, and system for mass spectrometry
WO2013188307A3 (en) Haptic electromagnetic actuator
IN2014DN10811A (ru)
CN205124106U (zh) 一种紧凑型d-d中子发生器
CN103959032B (zh) 电离-真空测量单元
EP2503678A3 (en) Power storage device of vibration type power generation equipped with inner columnar and outer annular magnetic motion block
CN105407621A (zh) 一种紧凑型d-d中子发生器
JP2014527685A5 (ja) 磁気的閉じ込め及びファラデーシールド付き誘導結合型プラズマシステム並びに磁気的閉じ込め及びファラデーシールドを提供する方法
WO2013019129A3 (en) Ion source
MX338006B (es) Aparato pulsador y metodo de operacion.
RU2012156045A (ru) Вакуумнодуговой испаритель для генерирования катодной плазмы
JP2012094515A5 (ru)
MY170814A (en) Magnetron electrode for plasma processing
UA101443C2 (ru) Анодный УЗЕЛ вакуумно-дугового ИСТОЧНИКа катодной ПЛАЗМЫ
TWI456082B (zh) 磁控式電漿濺鍍機
CN203761670U (zh) 一种中子发生器
JP2012112947A5 (ru)
US20130195679A1 (en) Ion pump system
WO2012025924A3 (en) Energy efficient lamp
WO2011025143A3 (ko) 플라즈마 발생용 마이크로웨이브 안테나
CN100447934C (zh) 真空阴极弧直管过滤器
RU2011136514A (ru) Способ транспортировки с фильтрованием от макрочастиц вакуумно-дуговой катодной плазмы и устройство для его осуществления