RU2012156045A - Вакуумнодуговой испаритель для генерирования катодной плазмы - Google Patents

Вакуумнодуговой испаритель для генерирования катодной плазмы Download PDF

Info

Publication number
RU2012156045A
RU2012156045A RU2012156045/02A RU2012156045A RU2012156045A RU 2012156045 A RU2012156045 A RU 2012156045A RU 2012156045/02 A RU2012156045/02 A RU 2012156045/02A RU 2012156045 A RU2012156045 A RU 2012156045A RU 2012156045 A RU2012156045 A RU 2012156045A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
cathode
ferromagnetic
housing
electromagnetic coil
casing
Prior art date
Application number
RU2012156045/02A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2536126C2 (ru
Inventor
Владимир Васильевич Васильев
Владимир Евгениевич СТРЕЛЬНИЦКИЙ
Original Assignee
Национальный Научный Центр "Харьковский Физико-Технический Институт" (Ннц Хфти)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Национальный Научный Центр "Харьковский Физико-Технический Институт" (Ннц Хфти) filed Critical Национальный Научный Центр "Харьковский Физико-Технический Институт" (Ннц Хфти)
Publication of RU2012156045A publication Critical patent/RU2012156045A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2536126C2 publication Critical patent/RU2536126C2/ru

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/32Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
    • C23C14/325Electric arc evaporation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J27/00Ion beam tubes
    • H01J27/02Ion sources; Ion guns
    • H01J27/08Ion sources; Ion guns using arc discharge
    • H01J27/14Other arc discharge ion sources using an applied magnetic field
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32055Arc discharge

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)

Abstract

1. Вакуумнодуговой испаритель для генерирования катодной плазмы, содержащий: анод, корпус в виде отрезка трубы, выполненный из немагнитного металла, закрытый с внешнего торца, электромагнитную катушку, охватывающую корпус, цилиндрический катод с торцевой испаряемой поверхностью, прикрепленный к держателю, который введен внутрь корпуса сквозь осевое отверстие в его внешнем торце с использованием вакуумного уплотнения, ферромагнитную втулку, которая охватывает держатель катода, ферромагнитное кольцо с диаметром отверстия большим чем диаметр катода, размещенное вблизи его торцовой испаряемой поверхности соосно с ним, электроразрядное поджигающее устройство, закрепленное вблизи боковой поверхности катода, отличающийся тем, что он включает два дополнительных кольцевых ферромагнитных элемента, соосных с держателем катода, один из которых охватывает корпус у внешнего торца электромагнитной катушки на корпусе, а второй охватывает ферромагнитную втулку или держатель катода, при этом электромагнитная катушка на корпусе охвачена ферромагнитным экраном в виде отрезка трубы, анод расположен вне вышеупомянутого корпуса, электроизолирован от него и охвачен отдельной электромагнитной катушкой, торцевая испаряемая поверхность катода находится вблизи плоскости внутреннего открытого торца корпуса, держатель катода вместе с катодом выполнен подвижным вдоль оси испарителя, при условии, что ферромагнитная втулка не меняет своего положения.2. Вакуумнодуговой испаритель по п.1, отличающийся тем, что вышеуказанные дополнительные ферромагнитные кольцевые элементы выполнены в виде двух коаксиально расположенных к�

Claims (5)

1. Вакуумнодуговой испаритель для генерирования катодной плазмы, содержащий: анод, корпус в виде отрезка трубы, выполненный из немагнитного металла, закрытый с внешнего торца, электромагнитную катушку, охватывающую корпус, цилиндрический катод с торцевой испаряемой поверхностью, прикрепленный к держателю, который введен внутрь корпуса сквозь осевое отверстие в его внешнем торце с использованием вакуумного уплотнения, ферромагнитную втулку, которая охватывает держатель катода, ферромагнитное кольцо с диаметром отверстия большим чем диаметр катода, размещенное вблизи его торцовой испаряемой поверхности соосно с ним, электроразрядное поджигающее устройство, закрепленное вблизи боковой поверхности катода, отличающийся тем, что он включает два дополнительных кольцевых ферромагнитных элемента, соосных с держателем катода, один из которых охватывает корпус у внешнего торца электромагнитной катушки на корпусе, а второй охватывает ферромагнитную втулку или держатель катода, при этом электромагнитная катушка на корпусе охвачена ферромагнитным экраном в виде отрезка трубы, анод расположен вне вышеупомянутого корпуса, электроизолирован от него и охвачен отдельной электромагнитной катушкой, торцевая испаряемая поверхность катода находится вблизи плоскости внутреннего открытого торца корпуса, держатель катода вместе с катодом выполнен подвижным вдоль оси испарителя, при условии, что ферромагнитная втулка не меняет своего положения.
2. Вакуумнодуговой испаритель по п.1, отличающийся тем, что вышеуказанные дополнительные ферромагнитные кольцевые элементы выполнены в виде двух коаксиально расположенных колец, одно из которых охватывает корпус и примыкает к ферромагнитному экрану у внешнего торца электромагнитной катушки на корпусе, а второе кольцо размещено внутри корпуса и охватывает ферромагнитную втулку.
3. Вакуумнодуговой испаритель по п.1, отличающийся тем, что одним из вышеупомянутых дополнительных кольцевых элементов является внешний фланец корпуса, выполненный из ферромагнитного металла, а вторым кольцевым элементом является выполненный из ферромагнитного металла, торец корпуса в виде крышки, с отверстием для держателя катода, которая примыкает к внешнему фланцу корпуса и к ферромагнитной втулке.
4. Вакуумнодуговой испаритель по одному из пп.1-3, отличающийся тем, что длина вышеупомянутой ферромагнитной втулки не меньше величины, которая составляет половину длины электромагнитной катушки, охватывающей корпус, плюс толщина вышеупомянутого дополнительного кольцевого ферромагнитного элемента, который охватывает корпус.
5. Вакуумнодуговой испаритель по п.4, отличающийся тем, что корпус выполнен с водоохлаждаемой боковой поверхностью, которая имеет тепловой контакт с охватывающей его электромагнитной катушкой.
RU2012156045/02A 2011-04-08 2012-02-29 Вакуумнодуговой испаритель для генерирования катодной плазмы RU2536126C2 (ru)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
UAA201104301 2011-04-08
UAA201104301A UA101678C2 (ru) 2011-04-08 2011-04-08 ВАКУУМНОДУГОВОЙ испаритель для генерирования катодной ПЛАЗМЫ
PCT/UA2012/000020 WO2012138311A1 (ru) 2011-04-08 2012-02-29 Вакуумнодуговой испаритель для генерирования катодной плазмы

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2012156045A true RU2012156045A (ru) 2014-09-10
RU2536126C2 RU2536126C2 (ru) 2014-12-20

Family

ID=46969459

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2012156045/02A RU2536126C2 (ru) 2011-04-08 2012-02-29 Вакуумнодуговой испаритель для генерирования катодной плазмы

Country Status (3)

Country Link
RU (1) RU2536126C2 (ru)
UA (1) UA101678C2 (ru)
WO (1) WO2012138311A1 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109778128A (zh) * 2017-11-15 2019-05-21 佳能特机株式会社 溅射装置

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104595139A (zh) * 2015-01-23 2015-05-06 哈尔滨工业大学 一种圆柱型会切磁场推力器
CN107795446B (zh) * 2017-09-21 2020-01-24 北京机械设备研究所 一种大功率电推进器用电极的冷却装置及冷却方法
CA3077570A1 (en) 2017-10-03 2019-05-02 Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfaffikon Arc source with confined magnetic field
CN108317062A (zh) * 2017-12-22 2018-07-24 兰州空间技术物理研究所 一种混合推力器
CN109441747B (zh) * 2018-11-02 2020-08-14 北京航空航天大学 一种电推进发动机点火方式
UA127223C2 (uk) * 2020-09-25 2023-06-14 Національний Науковий Центр "Харківський Фізико-Технічний Інститут" Спосіб створення вакуумно-дугової катодної плазми
CN113438792B (zh) * 2021-06-18 2022-09-30 北京京仪自动化装备技术股份有限公司 一种智能可控等离子火焰装置

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB9006073D0 (en) * 1990-03-17 1990-05-16 D G Teer Coating Services Limi Magnetron sputter ion plating
UA10775A (ru) * 1996-04-19 1996-12-25 Валерій Федорович Семенюк СПОСОБ ВАКУУМнО-ДУГОВОГО НАНЕСЕННЯ ПОКРЫТИЙ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО осуществления
DE19725930C2 (de) * 1997-06-16 2002-07-18 Eberhard Moll Gmbh Dr Verfahren und Anlage zum Behandeln von Substraten mittels Ionen aus einer Niedervoltbogenentladung
WO2001090438A1 (en) * 2000-05-23 2001-11-29 University Of Virginia Patent Foundation A process and apparatus for plasma activated deposition in a vacuum
US20040112736A1 (en) * 2001-03-27 2004-06-17 Larrinaga Josu Goikoetxea Arc evaporator with a poweful magnetic guide for targets having a large surface area
RU2207399C2 (ru) * 2001-08-07 2003-06-27 Институт проблем машиноведения РАН Вакуумное дуговое устройство
JP2005029855A (ja) * 2003-07-08 2005-02-03 Fuji Electric Device Technology Co Ltd 真空アーク蒸着装置、真空アーク蒸着法、および磁気記録媒体
UA71517A (ru) * 2003-12-31 2004-11-15 Інститут Технічної Механіки Національної Академії Наук України І Національного Космічного Агентства України Вакуумно-дуговой испаритель
RU2339734C2 (ru) * 2005-12-02 2008-11-27 Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-исследовательский институт машиностроения" (ФГУП "НИИМаш") Способ нанесения покрытий и устройство для его осуществления
RU2392351C2 (ru) * 2008-08-13 2010-06-20 Государственное образовательное учреждение Высшего профессионального образования "Томский государственный университет" Способ нанесения антифрикционного износостойкого покрытия на изделие из металла или сплава
RU2382118C1 (ru) * 2009-01-28 2010-02-20 Открытое акционерное общество "Национальный институт авиационных технологий" Вакуумно-дуговой источник плазмы
UA71517U (en) * 2012-03-20 2012-07-10 Частное Акционерное Общество "Завод Полупроводников" Reactor of trichlorosilane synthesis

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109778128A (zh) * 2017-11-15 2019-05-21 佳能特机株式会社 溅射装置
CN109778128B (zh) * 2017-11-15 2022-08-23 佳能特机株式会社 溅射装置

Also Published As

Publication number Publication date
WO2012138311A1 (ru) 2012-10-11
UA101678C2 (ru) 2013-04-25
RU2536126C2 (ru) 2014-12-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2012156045A (ru) Вакуумнодуговой испаритель для генерирования катодной плазмы
JP2013533575A5 (ru)
CN103959032B (zh) 电离-真空测量单元
JP2014525590A5 (ru)
RU2007148542A (ru) Капсулированный, прочный на сжатие, негерметичный, осесимметричный, высокоэффективный искровой промежуток
RU2013103390A (ru) Электромагнитный клапан
EA201600271A1 (ru) Свеча зажигания плазменного типа для двигателя внутреннего сгорания
JP2014052265A (ja) 渦流探傷用プローブおよび渦流探傷検査装置
JP2018112311A5 (ru)
WO2012085506A3 (en) Lucent waveguide electromagnetic wave plasma light source
IN2014DE02440A (ru)
TWI456082B (zh) 磁控式電漿濺鍍機
JP2008304361A (ja) 冷陰極電離真空計
EA201500899A1 (ru) Магнитный котел
JP6129148B2 (ja) 調理容器検知装置
JP2011133386A (ja) 冷陰極電離真空計
UA101443C2 (ru) Анодный УЗЕЛ вакуумно-дугового ИСТОЧНИКа катодной ПЛАЗМЫ
JP2012094462A5 (ru)
CN109216151B (en) Built-in antenna type high-frequency ion source device
RU2014110349A (ru) Ионный двигатель
RU2356114C1 (ru) Запаянная нейтронная трубка
RU2011124107A (ru) Высоковольтный изолятор
PL401326A1 (pl) Młyn magnetyczny
JP5006809B2 (ja) プラズマガン
PL401325A1 (pl) Młyn magnetyczny

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20190301