RU2012156045A - Вакуумнодуговой испаритель для генерирования катодной плазмы - Google Patents
Вакуумнодуговой испаритель для генерирования катодной плазмы Download PDFInfo
- Publication number
- RU2012156045A RU2012156045A RU2012156045/02A RU2012156045A RU2012156045A RU 2012156045 A RU2012156045 A RU 2012156045A RU 2012156045/02 A RU2012156045/02 A RU 2012156045/02A RU 2012156045 A RU2012156045 A RU 2012156045A RU 2012156045 A RU2012156045 A RU 2012156045A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- cathode
- ferromagnetic
- housing
- electromagnetic coil
- casing
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
- C23C14/325—Electric arc evaporation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J27/00—Ion beam tubes
- H01J27/02—Ion sources; Ion guns
- H01J27/08—Ion sources; Ion guns using arc discharge
- H01J27/14—Other arc discharge ion sources using an applied magnetic field
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32055—Arc discharge
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
Abstract
1. Вакуумнодуговой испаритель для генерирования катодной плазмы, содержащий: анод, корпус в виде отрезка трубы, выполненный из немагнитного металла, закрытый с внешнего торца, электромагнитную катушку, охватывающую корпус, цилиндрический катод с торцевой испаряемой поверхностью, прикрепленный к держателю, который введен внутрь корпуса сквозь осевое отверстие в его внешнем торце с использованием вакуумного уплотнения, ферромагнитную втулку, которая охватывает держатель катода, ферромагнитное кольцо с диаметром отверстия большим чем диаметр катода, размещенное вблизи его торцовой испаряемой поверхности соосно с ним, электроразрядное поджигающее устройство, закрепленное вблизи боковой поверхности катода, отличающийся тем, что он включает два дополнительных кольцевых ферромагнитных элемента, соосных с держателем катода, один из которых охватывает корпус у внешнего торца электромагнитной катушки на корпусе, а второй охватывает ферромагнитную втулку или держатель катода, при этом электромагнитная катушка на корпусе охвачена ферромагнитным экраном в виде отрезка трубы, анод расположен вне вышеупомянутого корпуса, электроизолирован от него и охвачен отдельной электромагнитной катушкой, торцевая испаряемая поверхность катода находится вблизи плоскости внутреннего открытого торца корпуса, держатель катода вместе с катодом выполнен подвижным вдоль оси испарителя, при условии, что ферромагнитная втулка не меняет своего положения.2. Вакуумнодуговой испаритель по п.1, отличающийся тем, что вышеуказанные дополнительные ферромагнитные кольцевые элементы выполнены в виде двух коаксиально расположенных к�
Claims (5)
1. Вакуумнодуговой испаритель для генерирования катодной плазмы, содержащий: анод, корпус в виде отрезка трубы, выполненный из немагнитного металла, закрытый с внешнего торца, электромагнитную катушку, охватывающую корпус, цилиндрический катод с торцевой испаряемой поверхностью, прикрепленный к держателю, который введен внутрь корпуса сквозь осевое отверстие в его внешнем торце с использованием вакуумного уплотнения, ферромагнитную втулку, которая охватывает держатель катода, ферромагнитное кольцо с диаметром отверстия большим чем диаметр катода, размещенное вблизи его торцовой испаряемой поверхности соосно с ним, электроразрядное поджигающее устройство, закрепленное вблизи боковой поверхности катода, отличающийся тем, что он включает два дополнительных кольцевых ферромагнитных элемента, соосных с держателем катода, один из которых охватывает корпус у внешнего торца электромагнитной катушки на корпусе, а второй охватывает ферромагнитную втулку или держатель катода, при этом электромагнитная катушка на корпусе охвачена ферромагнитным экраном в виде отрезка трубы, анод расположен вне вышеупомянутого корпуса, электроизолирован от него и охвачен отдельной электромагнитной катушкой, торцевая испаряемая поверхность катода находится вблизи плоскости внутреннего открытого торца корпуса, держатель катода вместе с катодом выполнен подвижным вдоль оси испарителя, при условии, что ферромагнитная втулка не меняет своего положения.
2. Вакуумнодуговой испаритель по п.1, отличающийся тем, что вышеуказанные дополнительные ферромагнитные кольцевые элементы выполнены в виде двух коаксиально расположенных колец, одно из которых охватывает корпус и примыкает к ферромагнитному экрану у внешнего торца электромагнитной катушки на корпусе, а второе кольцо размещено внутри корпуса и охватывает ферромагнитную втулку.
3. Вакуумнодуговой испаритель по п.1, отличающийся тем, что одним из вышеупомянутых дополнительных кольцевых элементов является внешний фланец корпуса, выполненный из ферромагнитного металла, а вторым кольцевым элементом является выполненный из ферромагнитного металла, торец корпуса в виде крышки, с отверстием для держателя катода, которая примыкает к внешнему фланцу корпуса и к ферромагнитной втулке.
4. Вакуумнодуговой испаритель по одному из пп.1-3, отличающийся тем, что длина вышеупомянутой ферромагнитной втулки не меньше величины, которая составляет половину длины электромагнитной катушки, охватывающей корпус, плюс толщина вышеупомянутого дополнительного кольцевого ферромагнитного элемента, который охватывает корпус.
5. Вакуумнодуговой испаритель по п.4, отличающийся тем, что корпус выполнен с водоохлаждаемой боковой поверхностью, которая имеет тепловой контакт с охватывающей его электромагнитной катушкой.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
UAA201104301 | 2011-04-08 | ||
UAA201104301A UA101678C2 (ru) | 2011-04-08 | 2011-04-08 | ВАКУУМНОДУГОВОЙ испаритель для генерирования катодной ПЛАЗМЫ |
PCT/UA2012/000020 WO2012138311A1 (ru) | 2011-04-08 | 2012-02-29 | Вакуумнодуговой испаритель для генерирования катодной плазмы |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2012156045A true RU2012156045A (ru) | 2014-09-10 |
RU2536126C2 RU2536126C2 (ru) | 2014-12-20 |
Family
ID=46969459
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2012156045/02A RU2536126C2 (ru) | 2011-04-08 | 2012-02-29 | Вакуумнодуговой испаритель для генерирования катодной плазмы |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2536126C2 (ru) |
UA (1) | UA101678C2 (ru) |
WO (1) | WO2012138311A1 (ru) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109778128A (zh) * | 2017-11-15 | 2019-05-21 | 佳能特机株式会社 | 溅射装置 |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104595139A (zh) * | 2015-01-23 | 2015-05-06 | 哈尔滨工业大学 | 一种圆柱型会切磁场推力器 |
CN107795446B (zh) * | 2017-09-21 | 2020-01-24 | 北京机械设备研究所 | 一种大功率电推进器用电极的冷却装置及冷却方法 |
CA3077570A1 (en) | 2017-10-03 | 2019-05-02 | Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfaffikon | Arc source with confined magnetic field |
CN108317062A (zh) * | 2017-12-22 | 2018-07-24 | 兰州空间技术物理研究所 | 一种混合推力器 |
CN109441747B (zh) * | 2018-11-02 | 2020-08-14 | 北京航空航天大学 | 一种电推进发动机点火方式 |
UA127223C2 (uk) * | 2020-09-25 | 2023-06-14 | Національний Науковий Центр "Харківський Фізико-Технічний Інститут" | Спосіб створення вакуумно-дугової катодної плазми |
CN113438792B (zh) * | 2021-06-18 | 2022-09-30 | 北京京仪自动化装备技术股份有限公司 | 一种智能可控等离子火焰装置 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB9006073D0 (en) * | 1990-03-17 | 1990-05-16 | D G Teer Coating Services Limi | Magnetron sputter ion plating |
UA10775A (ru) * | 1996-04-19 | 1996-12-25 | Валерій Федорович Семенюк | СПОСОБ ВАКУУМнО-ДУГОВОГО НАНЕСЕННЯ ПОКРЫТИЙ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО осуществления |
DE19725930C2 (de) * | 1997-06-16 | 2002-07-18 | Eberhard Moll Gmbh Dr | Verfahren und Anlage zum Behandeln von Substraten mittels Ionen aus einer Niedervoltbogenentladung |
WO2001090438A1 (en) * | 2000-05-23 | 2001-11-29 | University Of Virginia Patent Foundation | A process and apparatus for plasma activated deposition in a vacuum |
US20040112736A1 (en) * | 2001-03-27 | 2004-06-17 | Larrinaga Josu Goikoetxea | Arc evaporator with a poweful magnetic guide for targets having a large surface area |
RU2207399C2 (ru) * | 2001-08-07 | 2003-06-27 | Институт проблем машиноведения РАН | Вакуумное дуговое устройство |
JP2005029855A (ja) * | 2003-07-08 | 2005-02-03 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | 真空アーク蒸着装置、真空アーク蒸着法、および磁気記録媒体 |
UA71517A (ru) * | 2003-12-31 | 2004-11-15 | Інститут Технічної Механіки Національної Академії Наук України І Національного Космічного Агентства України | Вакуумно-дуговой испаритель |
RU2339734C2 (ru) * | 2005-12-02 | 2008-11-27 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-исследовательский институт машиностроения" (ФГУП "НИИМаш") | Способ нанесения покрытий и устройство для его осуществления |
RU2392351C2 (ru) * | 2008-08-13 | 2010-06-20 | Государственное образовательное учреждение Высшего профессионального образования "Томский государственный университет" | Способ нанесения антифрикционного износостойкого покрытия на изделие из металла или сплава |
RU2382118C1 (ru) * | 2009-01-28 | 2010-02-20 | Открытое акционерное общество "Национальный институт авиационных технологий" | Вакуумно-дуговой источник плазмы |
UA71517U (en) * | 2012-03-20 | 2012-07-10 | Частное Акционерное Общество "Завод Полупроводников" | Reactor of trichlorosilane synthesis |
-
2011
- 2011-04-08 UA UAA201104301A patent/UA101678C2/ru unknown
-
2012
- 2012-02-29 RU RU2012156045/02A patent/RU2536126C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2012-02-29 WO PCT/UA2012/000020 patent/WO2012138311A1/ru active Application Filing
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109778128A (zh) * | 2017-11-15 | 2019-05-21 | 佳能特机株式会社 | 溅射装置 |
CN109778128B (zh) * | 2017-11-15 | 2022-08-23 | 佳能特机株式会社 | 溅射装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2012138311A1 (ru) | 2012-10-11 |
UA101678C2 (ru) | 2013-04-25 |
RU2536126C2 (ru) | 2014-12-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2012156045A (ru) | Вакуумнодуговой испаритель для генерирования катодной плазмы | |
JP2013533575A5 (ru) | ||
CN103959032B (zh) | 电离-真空测量单元 | |
JP2014525590A5 (ru) | ||
RU2007148542A (ru) | Капсулированный, прочный на сжатие, негерметичный, осесимметричный, высокоэффективный искровой промежуток | |
RU2013103390A (ru) | Электромагнитный клапан | |
EA201600271A1 (ru) | Свеча зажигания плазменного типа для двигателя внутреннего сгорания | |
JP2014052265A (ja) | 渦流探傷用プローブおよび渦流探傷検査装置 | |
JP2018112311A5 (ru) | ||
WO2012085506A3 (en) | Lucent waveguide electromagnetic wave plasma light source | |
IN2014DE02440A (ru) | ||
TWI456082B (zh) | 磁控式電漿濺鍍機 | |
JP2008304361A (ja) | 冷陰極電離真空計 | |
EA201500899A1 (ru) | Магнитный котел | |
JP6129148B2 (ja) | 調理容器検知装置 | |
JP2011133386A (ja) | 冷陰極電離真空計 | |
UA101443C2 (ru) | Анодный УЗЕЛ вакуумно-дугового ИСТОЧНИКа катодной ПЛАЗМЫ | |
JP2012094462A5 (ru) | ||
CN109216151B (en) | Built-in antenna type high-frequency ion source device | |
RU2014110349A (ru) | Ионный двигатель | |
RU2356114C1 (ru) | Запаянная нейтронная трубка | |
RU2011124107A (ru) | Высоковольтный изолятор | |
PL401326A1 (pl) | Młyn magnetyczny | |
JP5006809B2 (ja) | プラズマガン | |
PL401325A1 (pl) | Młyn magnetyczny |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20190301 |