TWM648195U - 打漿裝置 - Google Patents
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Abstract
一種打漿裝置,適用於攪拌一原料,並包含一基殼、一上蓋,及一攪拌單元。該基殼包括一下外壁、一下內壁,及數個形成於該下內壁並用於過濾該原料的下濾孔。該上蓋與該基殼配合界定出一容室。該上蓋包括一可蓋合於該下外壁上方的上外壁、一可蓋合於該下內壁上方的上內壁,及數個形成於該上內壁的上濾孔。該攪拌單元包括一可繞其軸線轉動地設置於該容室的轉軸,及數個間隔設置於該轉軸上並可配合該轉軸的轉動樞擺拍打該原料的拍打件。本新型藉由每一該拍打件樞接於該轉軸上並可相對於該轉軸樞擺拍打該原料,該原料可被均勻攪拌。
Description
本新型是有關於一種攪拌設備,特別是指一種打漿裝置。
在現今社會,每天都產生大量的廚餘和果菜雜,這些廢棄物如果未經妥善處理,將對環境造成嚴重的污染。事實上,填埋廢棄物的方法會釋放出大量的甲烷氣體,進一步加劇全球氣候變遷,對人類生存環境造成極大威脅。因此,尋找一種有效的處理方法將廚餘或果菜雜轉化為有用的資源,是目前環境保護的迫切需求,也是人類生存所必需的。
打漿技術是一種將廚餘或果菜雜使用打漿設備打碎成較小的顆粒,進一步利用細菌發酵產生沼氣的方法。打漿技術可以提高沼氣產生效率,減少填埋場所的佔用空間,同時減少有機垃圾的排放,從而有助於減少對環境的影響。透過這種方式,廚餘或果菜雜可以被資源化,轉化成有價值的能源,同時減少對環境的負擔。此外,打漿還可以提高沼氣產生的穩定性和質量,確保沼氣的產量和品質,提高能源的利用效率。
如果能夠提供一種可將廚餘和果菜雜等廢棄物進行分離、碎化及除去水分的打漿設備,將對人類生活環境改善有很大助益。
因此,本新型之目的,即在提供一種能夠克服先前技術的至少一個缺點的打漿裝置。
於是,本新型打漿裝置,適用於攪拌一原料,並包含一基殼、一上蓋,及一攪拌單元。
該基殼包括一下外壁、一位於該下外壁內側的下內壁,及數個形成於該下內壁並用於過濾該原料的下濾孔。
該上蓋可掀開地蓋合在該基殼上並與該基殼配合界定出一容室,該上蓋包括一可蓋合於該下外壁上方的上外壁、一可蓋合於該下內壁上方的上內壁,及數個形成於該上內壁的上濾孔,該等上濾孔用於過濾該原料。
該攪拌單元包括一可繞其軸線轉動地設置於該容室的轉軸,及數個間隔設置於該轉軸上並可配合該轉軸的轉動樞擺拍打該原料的拍打件。
本新型之功效在於:藉由該轉軸可轉動地設置於該容室,每一該拍打件樞接於該轉軸上並可相對於該轉軸樞擺拍打該原料,大量的該原料可被均勻攪拌,又透過該等上濾孔與該等下濾孔的設計,大量的該原料可在被攪拌時同時被過濾。
參閱圖1、圖2與圖3,本新型打漿裝置的一實施例,適用於攪拌一原料(圖未示)。該原料例如但不限於漿化處理過的廚餘、果菜等,將經過該打漿裝置的均勻攪拌與一多餘汁液(圖未示)的過濾,形成適合餵食豬隻的一漿體(圖未示)。該打漿裝置包含一基殼1、一上蓋2、一攪拌單元3、一導出道4,及一輸送單元5。
該基殼1包括一呈U形半圓弧體的下外壁11、一位於該下外壁11中間部位上方並與該下外壁11間隔設置的下內壁12、數個形成於該下內壁12並用於過濾該原料的下濾孔13、一呈倒U形的半圓弧體並螺接蓋合於該下外壁11右側的固定壁14、一設置於該固定壁14頂部並用於供該原料輸入的入料口15,及一設置於該下外壁11左側底部並用於供該漿體輸出的出漿口16。
該上蓋2可掀開地蓋合於該下外壁11上並與該基殼1共同界定出一用於容置、攪拌與過濾該原料的容室21。該上蓋2包括一呈倒U形半圓弧體並可蓋合於該下外壁11上的上外壁22、一間隔設置於該上外壁22內側並可與該下內壁12蓋合的上內壁23、數個形成於該上內壁23鄰進該下內壁12的兩側並用於過濾該原料的上濾孔24,及三個設置於該上外壁22並可外接水源用以沖洗該容室21的清洗道25。該容室21具有一由該上內壁23、該下內壁12、該固定壁14,及該下外壁11右側共同界定而成的攪拌區211、一界定於該上內壁23與該上外壁22間,及該下內壁12與該下外壁11間,並位於該攪拌區211外側的集液區212,及一位於該攪拌區211左側下方並由該上蓋2左側與該基殼1左側共同界定出的出漿區213。
該攪拌單元3包括一可繞其軸線轉動地設置於該容室21的轉軸31、數個間隔設置於該轉軸31上的樞接部32、數個分別樞接於該等樞接部32並可配合該轉軸31的轉動樞擺拍打該原料的拍打件33、一設置於該基殼1右側並連接於該轉軸31右端且用以提供該轉軸31轉動動力的馬達34,及一設置於該基殼1左側並連接於該轉軸31左端且用以支撐該轉軸31的軸承座35。每一該樞接部32具有二沿該轉軸31法線方向突伸並在平行該轉軸31方向上相互間隔的樞接片321,及一平行於該轉軸31且連接該等樞接片321的樞軸322。每一該拍打件33樞接於該等樞接片321間,並可隨著該轉軸31的轉動繞著該樞軸322相對於該轉軸31樞擺。
該導出道4設置於該下外壁11底部,用於將自該集液區212收集的該汁液導出至該基殼1外。被導出的該汁液可集中處理做後續加工利用或是集中做廢液處理。
該輸送單元5包括一個一端(假想線)連接於該入料口15,另一端(圖未示)並自一供料系統輸送該原料至該入料口15的輸入道51,及一個一端連接於該出漿口16並將該漿體送離該出漿區213的輸出道52。該輸出道52可連接下一個加工處理站點。
本新型使用時,該原料經由該輸入道51送達該入料口15,並透過該入料口15送進該攪拌區211。該馬達34帶動該轉軸31轉動並將該原料一邊攪拌一邊向該出漿口16方向(左側)推進。每一該拍打件33隨著該轉軸31轉動到接近該轉軸31上方時,會受其本身的重量與轉動的離心力作用,從貼近該轉軸31上方的一側快速樞擺到另一側(如圖3假想線所示),從而拍打該原料,並繼續下一輪的轉動。該原料在該攪拌區211受到該等拍打件33的拍打攪拌,過程中可能噴濺在該等上濾孔24或該等下濾孔13,並被該等上濾孔24與該等下濾孔13過濾出該汁液,從而流入該集液區212,再經由該導出道4向下導出。過濾後的該漿體被該原料推進到該出漿區213,並從該出漿口16送離該出漿區213,再經由該輸出道52送至下一個加工站點。當整批原料都攪拌、過濾及輸出完畢,外接水源可經由該等清洗道25輸入該容室21,清洗該等上濾孔24、該等下濾孔13、該轉軸31以及該等拍打件33。
綜上所述,本新型打漿裝置,藉由該等上濾孔24及該等下濾孔13的設計,大量的該原料可被過濾出該汁液並生成該漿體,再透過該轉軸31與該等拍打件33的轉動拍打,大量的該原料可被攪拌生成均勻的該漿體,故確實能達成本新型之目的。
惟以上所述者,僅為本新型之實施例而已,當不能以此限定本新型實施之範圍,凡是依本新型申請專利範圍及專利說明書內容所作之簡單的等效變化與修飾,皆仍屬本新型專利涵蓋之範圍內。
1:基殼
11:下外壁
12:下內壁
13:下濾孔
14:固定壁
15:入料口
16:出漿口
2:上蓋
21:容室
211:攪拌區
212:集液區
213:出漿區
22:上外壁
23:上內壁
24:上濾孔
25:清洗道
3:攪拌單元
31:轉軸
32:樞接部
321:樞接片
322:樞軸
33:拍打件
34:馬達
35:軸承座
4:導出道
5:輸送單元
51:輸入道
52:輸出道
本新型之其他的特徵及功效,將於參照圖式的實施方式中清楚地呈現,其中:
圖1是本新型打漿裝置的一實施例的一不完整的立體圖;
圖2是該實施例的一不完整的前視剖視圖;及
圖3是該實施例的一左視剖視圖;
1:基殼
11:下外壁
12:下內壁
13:下濾孔
15:入料口
16:出漿口
2:上蓋
21:容室
211:攪拌區
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23:上內壁
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3:攪拌單元
31:轉軸
32:樞接部
321:樞接片
322:樞軸
33:拍打件
5:輸送單元
51:輸入道
52:輸出道
Claims (10)
- 一種打漿裝置,適用於攪拌一原料,並包含: 一基殼,包括一下外壁、一位於該下外壁內側的下內壁,及數個形成於該下內壁並用於過濾該原料的下濾孔; 一上蓋,可掀開地蓋合在該基殼上並與該基殼配合界定出一容室,該上蓋包括一可蓋合於該下外壁上方的上外壁、一可蓋合於該下內壁上方的上內壁,及數個形成於該上內壁的上濾孔,該等上濾孔用於過濾該原料;及 一攪拌單元,包括一可繞其軸線轉動地設置於該容室的轉軸,及數個間隔設置於該轉軸上並可配合該轉軸的轉動樞擺拍打該原料的拍打件。
- 如請求項1所述的打漿裝置,其中,該攪拌單元還包括數量與該等拍打件對應的樞接部。
- 如請求項2所述的打漿裝置,其中,每一該樞接部具有二沿該轉軸法線方向延伸並在平行該轉軸軸線方向相互間隔的樞接片,及一平行於該轉軸軸線且連接該等樞接片的樞軸,每一該拍打件被該樞軸樞接於該等樞接片間並可繞著該樞軸相對於該轉軸樞擺。
- 如請求項1所述的打漿裝置,其中,該容室具有一由該上內壁與該下內壁共同界定而成並供該原料攪拌的攪拌區,及一界定於該上外壁與該上內壁間和該下外壁與該下內壁間的集液區,該集液區用於收集自該原料過濾的一汁液。
- 如請求項4所述的打漿裝置,還包含一連接於該基殼底部並用於將該汁液自該集液區導出的導出道。
- 如請求項4或5所述的打漿裝置,其中,該基殼還具有一位於一側上方並用於供該原料送入該攪拌區的入料口,及一位於另一側下方且用於供一攪拌後與該汁液分離的漿體送出該攪拌區的出漿口。
- 如請求項6所述的打漿裝置,還包含一連接於該基殼的輸送單元,該輸送單元包括一連接該入料口並用於將該原料送至該入料口的輸入道,及一連接該出漿口並用於將該漿體送離該出漿口的輸出道。
- 如請求項1所述的打漿裝置,其中,該攪拌單元還包括一連接於該轉軸一端且用以提供該轉軸轉動動力的馬達,及一連接於該轉軸另一端且用以支撐該轉軸的軸承座。
- 如請求項1或5所述的打漿裝置,其中,該上蓋還包括一設置於該上外壁並可外接水源用以沖洗該容室並清洗該等上濾孔、該等下濾孔、該轉軸,及該等拍打件的清洗道。
- 如請求項1所述的打漿裝置,其中,該等上濾孔形成於該上內壁鄰近於該下內壁的兩側。
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TW112206217U TWM648195U (zh) | 2023-06-17 | 2023-06-17 | 打漿裝置 |
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TWM648195U true TWM648195U (zh) | 2023-11-11 |
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ID=89721260
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TW112206217U TWM648195U (zh) | 2023-06-17 | 2023-06-17 | 打漿裝置 |
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- 2023-06-17 TW TW112206217U patent/TWM648195U/zh unknown
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