TWM643961U - 用於患者之無人看管式治療裝置 - Google Patents
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- Accommodation For Nursing Or Treatment Tables (AREA)
Abstract
本新型提供一種無人看管的治療裝置，可以增加治療的可再現性和安全性，因為某一區域的過度/不足治療的機會顯著降低。在另一個方面，在與被治療組織保持適當距離或接觸方面，不平坦或崎嶇區域的無人看管的治療可能是具有挑戰性的，主要是在傾向於因患者而異的區域(例如，面部區域)。經由嵌入在黏附在皮膚上的可撓性襯墊中的主動元件系統輸送能量，提供了一種可能的解決方案。該無人看管的治療裝置可以包括輸送多種能量，以改善視覺外觀。
Description
新型本創作是關於通過主動元件對患者進行治療的設備，這些主動元件通過在治療過程中無需操縱主動元件即可對治療區域進行均勻治療的方式輸送電磁能及/或次級能量(secondary energy)。
本申請是現在待決的美國申請17/518,243的部分延續案，該美國申請是現在待決的2021年5月3日提交的國際申請號PCT/IB2021/00300的部分延續案，該國際申請要求2020年5月4日提交的美國臨時申請號63/019,619的優先權，所有這些申請以引用的方式併入此文中。
皮膚隨著時間的推移而老化，主要是由於暴露在紫外線下，這一過程稱為光老化。每天暴露在紫外線下會逐漸導致皮膚厚度減少，皮膚中的基本構建蛋白(basic building protein)(膠原
蛋白和彈性蛋白)的含量減少。第三種主要皮膚成分的含量(即透明質酸的含量)也減少了。這些變化更快地出現在身體的可見部位，尤其是面部。有幾種技術用於面部非侵入性皮膚回春(skin rejuvenation)，例如，雷射、高強度聚焦超音波和射頻。預計超音波和射頻場也會導致真皮中的透明質酸水平增加。
在過去為醫療和美容目的向患者體內輸送各種形式的電磁能已經廣泛使用。這些用於改善視覺外觀的普通手術包括但決不限於皮膚回春、去皺、除皺、緊膚提膚、脂肪團和脂肪減少、色素損傷治療、去除紋身、軟組織凝固和消融、血管損傷減少、面部提升、肌肉收縮和肌肉強化、暫時緩解疼痛、肌肉痙攣、局部循環增加等。
除了熱療法的許多無可爭議的優勢外，這些手術還帶來了某些限制和相關風險。其中之一是可再現結果的能力有限，因為這些結果高度依賴于應用的治療技術和操作者的能力。此外，如果治療進行不當，則燒傷和不良事件的風險會增加。
如果經由操作者手的手動運動(最常見的手術)控制能量輸送，則很難確保均勻的能量分佈。某些斑點很容易過度治療或治療不足。由於這個原因，出現了包含掃描或其他能夠進行無人看管(unattended)的皮膚輸送的機制的裝置。這些裝置通常在不與治療區域直接接觸的情況下輸送能量，並且僅在有限的明確的區域上輸送能量，而沒有明顯的不均勻性。當治療不平坦或崎嶇的區域時，在治療組織和能量產生器之間保持相同的距離或保持必要的組
織接觸可能是具有挑戰性的。因此，在這種因患者而異的特定區域(例如，面部)上使用通常可用的裝置實際上是不可能的。
除了因附接於崎嶇區域和必須適應不同患者的形狀而導致的併發症之外，面部無人看管的施用還因其對燒傷和其他副作用的防護需求增加而具有特殊性。雖然面部比身體其他部位更容易癒合，但也更容易暴露，導致對治療停工期的要求更高。面部手術的另一個重要方面是面部擁有最重要的人類感官，其功能在治療過程中不得受到損害。最重要的是，在整個治療過程中必須確保眼睛安全。
當前的美容市場提供傳統的手動控制的射頻或光裝置，能夠將面部組織加熱至40攝氏度(℃)至100℃範圍內的目標溫度，或者提供無人看管的LED面罩，其操作基於光效應(光療)而非熱效應。這些面罩主要供家庭使用，不會對患者造成燒傷、過熱或過度治療的風險。由於輸送的能量和達到的溫度如此之低，使得熱組織損傷的風險最小化，並且不需要均勻的治療，因此單個患者的面部形狀的可變性對於這些面罩來說不存在任何問題。此外，由於低溫，對於這種裝置來說，保持單個二極體和患者皮膚之間的預定距離並不重要，並且面罩的形狀只是人臉的非常近似的表示。但是面罩的使用受到低能量和最小甚至沒有熱效應的極大限制，因此被認為是日常使用的預防工具，而不是具有即時效應的在位(in-office)皮膚回春方法。
如今，美容市場認為有必要通過將電磁能輸送至表
皮、真皮、皮下組織或脂肪組織而進行的加熱治療與提供肌肉收縮或肌肉刺激的次級能量相結合，以改善患者的視覺外觀。然而，沒有一種實際的裝置適合於治療像面部這樣不平坦的崎嶇區域。此外，市售裝置通常是在整個治療過程中需要由醫療專業人員操作的手持裝置。
因此，有必要改進提供一種以上治療能量(例如，電磁能和電流)的醫療裝置，使得可以經由不同的主動元件或相同的主動元件(例如，電極)輸送這兩種能量。此外，該裝置的塗藥器或襯墊需要附接到患者身上，允許對患者進行無人看管的治療，並且塗藥器或襯墊需要由可撓性(flexible)材料製成，允許與患者的身體部位的不平坦治療區域充分接觸。
為了在保證安全性的同時，對患者不平坦的崎嶇區域(例如，面部區域)進行明確的無人看管治療，本新型提出經由單個或多個主動元件進行微創至無創電磁能輸送的裝置。
患者可以包括皮膚和身體部位，其中，身體部位可指身體區域。
改善患者的視覺外觀的預期效應可以包括37.5℃至55℃範圍內的組織(例如，皮膚)加熱、50℃至70℃溫度下的組織凝固(coagulation)或55℃至130℃溫度下的組織消融(ablation)，具體取決於患者。不同的患者和皮膚狀況可能需要不同的治療方法，
較高的溫度允許用較少的療程獲得更好的結果，但需要較長的癒合時間，而較低的溫度能夠在沒有停工期的情況下進行治療，但在更多的療程內效果有限。加熱的另一種效果可能導致脂肪細胞數量的減少。
另一種預期效應可能是肌肉收縮引起的肌肉刺激(例如，加強或調節)，以改善患者的視覺外觀。
本新型提出一種接觸式或非接觸式治療裝置。
對於接觸式治療，所提出的裝置包括至少一個位於主單元內的電磁能產生器，該電磁能產生器生成電磁能，該電磁能經由至少一個附接到皮膚的主動元件輸送至治療區域。至少一個主動元件可以嵌入由可撓性材料製成的襯墊中，該襯墊適用於崎嶇表面的形狀。襯墊的下側可以包括黏合層，允許主動元件黏附到治療區域並保持必要的組織接觸。此外，該裝置可以採用能夠基於來自至少一個感測器的測量值來調整一個或多個治療參數的安全系統，例如，能夠測量與被治療組織的接觸品質的熱感測器或阻抗測量感測器。
對於非接觸式治療，所提出的裝置和方法包括位於主單元內的至少一個電磁能產生器，該電磁能產生器生成電磁能，該電磁能經由位於距待治療組織預定距離處的至少一個主動元件輸送至治療區域。可以在整個治療之前、整個治療過程中或治療後監測至少一個主動元件距治療區域的距離。此外，該裝置可以採用能夠基於來自至少一個感測器(例如，一個或多個距離感測器)的測量值
來調整一個或多個治療參數的安全系統。可以通過單個或多個靜態主動元件或者通過在整個治療區域內移動單個或多個主動元件來輸送能量，例如，經由內置的自動移動系統，例如，整合掃描儀(integrated scanner)。治療區域可以通過雷射瞄準器來設置，操作者可以在治療前標記要治療的區域。
主動元件可以通過其整個表面輸送能量，或當主動部分包括由預定尺寸的點形成的矩陣時，通過所謂的點陣排列(fractional arrangement)輸送能量。這些點可以與非活動(因此未治療)區域分開，允許組織更快的癒合。點表面可以佔主動元件面積的1%到99%。
電磁能可主要由雷射器、雷射二極體模組、LED、閃光燈或白熾燈泡生成，或由射頻產生器生成，用於促使加熱患者。此外，不加熱患者的聲能或電能或電磁能可以與初級電磁能同時、交替或重疊輸送。
此外，可以通過加熱流體、磁場、超音波或加熱元件(例如，電阻絲或熱電冷卻器(TEC))對患者進行加熱。
主動元件可以同時(在同一時間)、接續(successively)或重疊輸送一種以上的能量。例如，主動元件可以輸送射頻能量，隨後輸送電能(電流)。在另一示例中，主動元件可以同時輸送射頻能量和電能。
此外，該裝置可以被配置為通過至少一個主動元件輸送電磁場，同時(在同一時間)通過不同元件輸送例如電能。
所提出的裝置可以提供組織加熱、肌肉收縮或加熱和肌肉收縮的組合。
在一個方面，所提出的裝置可以提供三種不同類型的能量。例如，射頻能量、電流和磁場；射頻能量、電流和壓力脈衝；射頻能量、磁場和壓力脈衝；或者由所提出的裝置提供的能量的任何其他可能的組合。
因此，所提出的裝置可以改善視覺外觀，包括但決不限於不均勻的崎嶇區域的適當的皮膚回春、去皺、緊膚提膚、脂肪團和脂肪減少、色素損傷治療、除皺、去除紋身、軟組織凝固和消融、血管損傷減少、暫時緩解疼痛、肌肉痙攣、局部循環增加等，而不會對患者身體的重要部位(例如，神經或內臟)造成進一步傷害。所提出的方法和裝置可以導致脂肪組織減少，例如，通過脂肪細胞脂解或凋亡。
此外，所提出的裝置可以改善視覺外觀，例如，經由通過電流或電磁能引起的肌肉收縮(電肌肉收縮)的肌肉強化或肌肉調節以及經由彈性生成及/或膠原蛋白新生及/或疼痛緩解及/或肌肉痙攣及/或通過射頻能量的加熱增加局部循環，來進行組織再生。
或者，所提出的裝置可用於術後治療，例如，在吸脂後，例如，用於治療及/或癒合手術造成的傷口。
1,100:裝置
2:主單元
3:互連塊
4,420:襯墊
4.1:T形襯墊
4.2:第一香蕉形襯墊
4.21a,4.21b,4.31a,4.31b:端點
4.22,4.32:中點
4.3:馬蹄形襯墊
4.4:第二香蕉形襯墊
4p,13p:凸起
5:電源
6:初級電磁產生器
7:中性電極
8:人機介面
9:次級產生器
10:超音波發射器
11:控制單元
12:記憶體
13,413A~413G,424,E1,E2,E3,E4:主動元件
13a,13c:主動元件/邊緣主動元件/底部邊緣主動元件
13d,13f:主動元件/邊緣主動元件/上部邊緣主動元件
13b,13e,13g,13h,13i,13j:主動元件/中間主動元件
13k,13l,13m:主動元件/邊緣主動元件
13n1,13o1,13p1:第一行主動元件/主動元件
13n2,13o2,13p2:第二行主動元件/主動元件
13q1,13q2:左邊緣主動元件
13r1,13r2:中間主動元件
13s1,13s2:右邊緣主動元件
14:開關電路
15:熱感測器
16:緊急停止按鈕
17:指示器
18:瞄準光束
19:輸送頭
21:臂
22:距離感測器
40,430:黏合層
41a,41b:導電引線
42:可撓性基板(可撓性基板層)
43:槽(襯墊槽)
44,450:黏貼物
45:黏貼物槽
131a:虛線框/上側
131b:虛線框/下側
301:下頜骨基部
332:水平軸
333:軸
334:垂直軸
401,402,421:基板
403:孔
410:覆蓋層
422:導電引線
423-1~423-N:介電層
425:孔連接
440:釋放器
451,452:層
500:可撓性基板(基板)
501:中心部分
502,502a,502b,502’,502”:片段
503,503c:槽
503a,503b:對稱部分
503’:穿孔間隙
504:近端
505:遠端
506,508:導電引線
507:連接部分
520:第一假想線
530:第二假想線
800:電極
801:框架
802:柵格線
802a:第一柵格線
802b:第二柵格線
803:孔/開口/切口
804:中心
805:電極/點
806:基部
807:基礎導線
808:突起/徑向導線
820:圓/假想圓
1101:電磁波
1102:電磁脈衝
1103,1105:電磁包絡
1104:暫停時間
1111:次級能量脈衝
1112:次級能量包絡
1112a:第一三角形包絡
1112b:第二矩形包絡
1113:次級能量脈衝暫停時間
1114:包絡暫停時間
R1,R2,R3:解剖區域
t0:開始時間
t1:結束時間/時間
dedge,dmid,dintr,dvert:距離
ws:寬度
圖1示出了用於接觸式治療的裝置的方塊圖。
圖2為用於接觸式治療的裝置的圖示。
圖3A表示襯墊形狀和佈局(layout)。
圖3B表示襯墊形狀和佈局。
圖3C表示用於治療前額的一種可能的襯墊形狀和佈局。
圖3D表示用於面頰治療的一種可能的襯墊形狀和佈局。
圖3E表示用於面頰治療的一種可能的襯墊形狀和佈局。
圖3F表示用於治療前額一種可能的襯墊形狀和佈局。
圖4A表示用於接觸式治療的襯墊的側視圖(side view)。
圖4B表示用於接觸式治療的襯墊的側視圖。
圖4C表示用於接觸式治療的襯墊的側視圖。
圖4D表示用於接觸式治療的襯墊的側視圖。
圖4E表示一種可能的襯墊結構的橫截面。
圖5A表示襯墊的一種變型的俯視圖。
圖5B表示基板中的狹縫的一種可能佈置的詳圖。
圖6示出了通過切換多個主動元件進行能量輸送的一種變型。
圖7示出了用於非接觸式治療的裝置的方塊圖。
圖8為用於非接觸式治療的裝置的圖示。
圖9A為框架柵格電極的圖示。
圖9B為另一種框架柵格電極的圖示。
圖9C為具有細化導線的框架柵格電極的圖示。
圖9D為無框架柵格電極的圖示。
圖9E為具有開口的電極的圖示。
圖9F為電極的一個可能圖示。
圖9G為電極的另一圖示。
圖9H為電極的另一圖示。
圖9I示出了框架柵格電極的細節。
圖10為前額襯墊治療的圖示。
圖11A示出了電磁能的連續模式(continual mode)。
圖11B示出了電磁能的脈衝模式。
圖11C示出了次級能量的脈衝模式。
圖11D示出了建立能量包絡(envelope)的可能能量調變(modulation)。
所提出的方法和裝置可用於刺激及/或治療組織，包括但不限於皮膚、表皮、真皮、皮下組織或肌肉。所提出的設備被設計用於對組織的一個或多個區域進行最低限度甚至無創治療，以通過經由單個或多個主動元件的電磁能輸送來實現對不平坦的粗糙區域(例如，面部區域)的明確的無人看管的治療，而不會對患者身體的重要部位(例如，神經或內臟)造成進一步的傷害。
此外，所提出的方法和裝置可用於刺激身體部位或身體區域，例如，頭部、頸部、乳脂、腰部贅肉、軀幹、背部、腹部、臀部、大腿、小腿、腿、手臂、前臂、手、手指或體腔(例如，陰道、
肛門、口腔、內耳等)。
所提出的方法和裝置可以包括若干改善視覺外觀的方案(protocol)，其可以在控制單元中預編程(例如，CPU中央處理單元，可以包括可撓性電路(flex circuit)或印刷電路板，並且可以包括用於控制裝置的微處理器或記憶體)。
預期效應可以包括在37.5℃至55℃範圍內或在38℃至53℃範圍內或在39℃至52℃範圍內或在40℃至50℃範圍內或41℃至45℃範圍內的組織(例如，皮膚表面)加熱(熱療)、在50℃至70℃範圍內或在51℃至65℃範圍內或在52℃至62℃範圍內或在53℃至60℃範圍內的溫度下的組織凝固、或在55℃至130℃範圍內或在58℃至120℃範圍內或在60℃至110℃範圍內或在60℃至100℃範圍內的溫度下的組織消融。該裝置可以通過接觸式或非接觸式方法操作。對於接觸式治療，皮膚的目標溫度通常可以在37.5℃到95℃的範圍內，或者在38℃到90℃的範圍內，或者在39℃到85℃的範圍內，或者在40℃到80℃的範圍內，而對於非接觸式治療，皮膚的目標溫度可以在37.5℃到130℃的範圍內，或者在38℃到120℃的範圍內，或者在39℃至110℃的範圍內，或者在40℃至100℃的範圍內。在37.5℃至130℃的範圍內或在38℃至120℃的範圍內或在39℃至110℃的範圍內或在40℃至100℃的範圍內的溫度可能會刺激成纖維細胞(fibroblast)並形成結締組織(connective tissue)，例如，膠原蛋白(collagen)、彈性蛋白(elastin)、透明質酸(hyaluronic acid)等。根據目標溫度，觸發受控組織損傷，啟動生
理修復過程，並形成新組織。在37.5℃至130℃的範圍內或在38℃至120℃的範圍內或在39℃至110℃的範圍內或在40℃至100℃的範圍內的溫度可進一步導致脂肪組織的變化。在由高溫引起的細胞凋亡過程中，脂肪細胞分裂成凋亡體(apoptotic body)，並經由吞噬作用的過程進一步移除。在稱為壞死的過程中，脂肪細胞因高溫而破裂，其內容物被釋放到細胞外基質中。這兩個過程都可以減少脂肪層，能夠重塑面部。從面部去除脂肪可能是有益的，例如，在頦下(submentum)或臉頰之類的區域。
另一種預期效應可以包括組織再生，例如，通過電能或電磁能引起的肌肉收縮強化肌肉，這不會對患者加熱，或通過壓力按摩放鬆肌肉。根據本描述，經由電能的肌肉收縮和通過電磁場的組織(例如，皮膚)加熱的組合效果可以導致視覺外觀的顯著改善。
圖1和圖2一起討論。圖1示出了用於接觸式治療的裝置1的方塊圖。圖2是用於接觸式治療的裝置1的圖示。用於接觸式治療的裝置1可以包括兩個主要模組：主單元2和襯墊4。此外，裝置1可以包括互連塊(interconnecting block)3或中性電極(neutral electrode)7。然而，互連塊3的組件可以在主單元2中實現。
主單元2可以包括一個或多個產生器：初級電磁產生器6，其可以優選地輸送在10千赫(kHz)至300吉赫(GHz)或300kHz至10GHz或400kHz至6GHz的範圍內，或在100kHz至550百萬赫(MHz)或250kHz至500MHz或350kHz至100MHz或
400kHz至80MHz的範圍內的射頻能量；次級產生器9，其可以額外輸送不對患者加熱的電磁能，或者輸送在1赫茲(Hz)至10MHz或5Hz至5MHz的範圍內或在10Hz至1MHz的範圍內或在20Hz至1kHz的範圍內或在40Hz至500Hz的範圍內或在50Hz至300Hz的範圍內的電流；及/或超音波發射器10，其可以進一步輸送頻率在20kHz至25GHz或20kHz至1GHz或50kHz至250MHz或100kHz至100MHz的範圍內的聲能。此外，超音波能量的頻率可以在20kHz至80MHz或50kHz至50MHz或150kHz至20MHz的範圍內。
射頻能量的輸出功率可小於或等於450瓦(W)、300W、250W或220W。此外，初級電磁產生器6(例如，射頻產生器)的輸出上的射頻能量可以在0.1W至400W的範圍內，或者在0.5W至300W的範圍內，或者在1W至200W的範圍內，或者在10W至150W的範圍內。射頻能量可以在6.78MHz、13.56MHz、27.12MHz、40.68MHz、433.92MHz、915MHz、2.45GHz和5.8GHz的ISM頻帶內或附近施加。
初級電磁產生器6也可以提供一種以上不同參數的射頻能量。作為一個非限制性示例，初級電磁產生器可以生成頻率在100kHz至550MHz、250kHz至500MHz、350kHz至100MHz或400kHz至80MHz範圍內的一個射頻能量和頻率在400kHz至300GHz、500kHz至30GHz、600kHz至10GHz或650kHz至6GHz範圍內的第二射頻能量。
此外，可以通過加熱流體對患者進行加熱。在一個方
面，流體可以在主單元2內部的熱產生器中加熱，並且可以通過流體導管耦接到襯墊4，該流體導管可以具有封閉環路(closed loop)的形式。當加熱的流體例如經由泵、風扇或其他流體輸送系統通過襯墊4中的主動元件被輸送到患者時，散發其熱量，然後流體被帶回到熱產生器，在該熱產生器處，再次加熱。流體可以具有液體(例如，水或油)或氣體(例如，空氣、氮氣、二氧化碳、一氧化碳或現有技術中已知的其他合適的氣體)的形式。流體可以被加熱到37.5℃到100℃範圍內、38℃到64℃範圍內或40℃到57℃範圍內的溫度。在一個方面，被加熱的流體可以是電磁加熱能量的補充加熱能量，反之亦然。
在一個方面，可以由加熱元件提供加熱，例如，電阻絲(resistance wire)或熱電冷卻器(thermoelectric cooler,TEC)，其可以連接至初級電磁產生器6或次級產生器9。在這個方面，主動元件可以是加熱元件。加熱元件的表面溫度可以在37.5℃到68℃的範圍內，在38℃到62℃的範圍內，或者在39℃到50℃的範圍內。
主單元2還可以包括顯示器、按鈕、鍵盤、觸控板、觸控面板或其他控制部件表示的人機介面8，使操作員能夠檢查和調整治療和其他裝置參數。例如，可以獨立地設置每個產生器(初級電磁產生器6、次級產生器9和超音波發射器10)的功率、治療時間或其他治療參數。人機介面8可以連接到控制單元11(例如，CPU)。位於主單元2中的電源5可以包括變壓器、一次性電池、可充電電
池、電源插頭或標準電源線。電源5的輸出功率可以在10W至600W的範圍內，或者在50W至500W的範圍內，或者在80W至450W的範圍內。
此外，人機介面8還可顯示有關應用的治療類型、剩餘治療時間和主要治療參數的信息。
互連塊3可以用作主單元2和襯墊4之間的通信通道。該互連塊可以由包含指示器17和用於治療控制的機構的簡單裝置來表示。指示器17可以通過顯示器、LED、聲音信號、振動或其他能夠向操作者及/或患者提供適當通知的形式來實現。指示器17可以指示實際的患者溫度、接觸信息或其他感測器測量值以及主動元件之間的切換過程的狀態、與被治療組織的接觸質量、實際治療參數、正在進行的治療等。指示器17可以被配置為在可疑治療行為的情況下警告操作者，例如，溫度超出範圍、與被治療組織的不適當接觸、參數自動調整等。互連塊3可以用作對熱敏感的患者的額外安全特徵。可以包含緊急停止按鈕16，以便患者可以在治療期間的任何時候立即停止治療。開關電路14可以負責在主動元件之間切換，或者負責調節來自初級電磁產生器6、次級產生器9或超音波發射器10的能量輸送。主動元件13之間的切換速率可以取決於輸送的能量、脈衝長度等，及/或開關電路14和控制單元11(例如，CPU)的速度。開關電路14可以包括繼電器開關、電晶體(雙極、PNP、NPN、FET、JFET、MOSFET)閘流器、二極體、光開關、光電開關或光機開關或現有技術中已知的任何其他合適的開關。與控制單
元11(例如，CPU)連接的開關電路可以控制在至少一個主動元件13上由初級電磁產生器6生成的初級電磁能和由次級產生器9生成的次級能量之間的切換。
此外，互連塊3可以包含初級電磁產生器6、次級產生器9或超音波發射器10，或僅包含其中一個或其任意組合。
在一個非限制性方面，主單元2可以包括初級電磁產生器6，互連塊3可以包括次級產生器9，超音波發射器10可能根本不存在。
控制單元11(例如，CPU)控制初級電磁產生器6，以使初級電磁能以連續模式(continual mode,CM)或脈衝模式輸送到至少一個主動元件，其通量(fluence)在10mJ/cm2至50kJ/cm2的範圍內或在100mJ/cm2至10kJ/cm2的範圍內或在0.5J/cm2至1kJ/cm2的範圍內。電磁能可以主要由雷射器、雷射二極體模組、LED、閃光燈或白熾燈泡生成，或者由射頻產生器生成，用於促使對患者進行加熱。CM模式可以在0.05秒至60分鐘的範圍內或0.1秒至45分鐘的範圍內或0.2秒至30分鐘的範圍內的時間間隔內操作。在脈衝模式下操作的能量輸送的脈衝持續時間可以在0.1毫秒(ms)至10秒(s)的範圍內，或者在0.2ms至7s的範圍內，或者在0.5ms至5s的範圍內。在脈衝模式下，初級電磁產生器6可以由控制單元11(例如，CPU)以單次模式或重複模式操作。重複模式的頻率可以在0.05至10000Hz的範圍內，或者在0.1至5000Hz的範圍內，或者在0.3至2000Hz的範圍內，或者在0.5至1000Hz的範圍內。或
者，重複模式的頻率可以在0.1kHz至200MHz的範圍內，或者在0.5kHz至150MHz的範圍內，或者在0.8kHz至100MHz的範圍內，或者在1kHz至80MHz的範圍內。單次模式可以意味著僅生成特定參數(例如，強度、持續時間等)的一個電磁脈衝，用於輸送到單個治療區域。重複模式可以意味著生成電磁脈衝，其可以具有特定的參數(例如，強度、持續時間等)，具有上述頻率的重複率，用於輸送到單個治療區域。控制單元(例如，CPU)11可以提供治療控制，例如，穩定治療參數，包括治療時間、功率、工作週期(duty cycle)、調節多個主動元件之間切換的時間段、裝置1的溫度以及初級電磁產生器6和次級產生器9或超音波發射器10的溫度。控制單元11(例如，CPU)可以驅動並提供來自開關電路14的信息。控制單元11(例如，CPU)也可以接收和提供來自位於襯墊4上或襯墊4中或裝置1中任何地方的感測器的信息。控制單元(例如，CPU)11可以包括可撓性電路或印刷電路板，並且可以包括用於控制該裝置的微處理器或記憶體。
圖11A示出了連續模式下電磁能的輸送。電磁波1101(例如，正弦射頻波)從開始時間t0開始以連續的電磁包絡(envelope)1103(例如，射頻包絡)連續輸送。圖11B示出了脈衝模式下電磁能的輸送。(例如，正弦射頻波)在電磁脈衝1102(例如，射頻脈衝)中輸送電磁波1101。電磁脈衝1102可產生至少一個電磁包絡1105(例如，射頻包絡)，其在圖11B中描繪為矩形電磁包絡。電磁包絡(1103、1105)可以具有各種形狀，例如，圓形、半圓形、
正弦形、矩形、三角形、梯形或多邊形。
電磁波1101(例如，射頻波)可以在一個電磁脈衝(電磁脈衝1102或電磁包絡1103)內進行振幅(amplitude)或頻率調變，或在不同的電磁脈衝內進行不同的調變。例如，第一電磁脈衝可以具有矩形包絡，第一電磁脈衝之後的第二電磁脈衝可以具有正弦包絡。兩個連續電磁脈衝1102之間的暫停時間1104可以在1微秒(μs)到1s的範圍內，在500μs到500ms的範圍內，在1ms到450ms的範圍內，或者在100ms到450ms的範圍內。暫停時間1104是裝置沒有提供電磁波的時間。
控制單元(例如，CPU)11可以控制次級產生器9，以使次級能量(例如，電流或磁場)以連續模式(CM)或脈衝模式輸送到至少一個主動元件，在至少一個主動元件的表面上具有10mJ/cm2至50kJ/cm2範圍內或100mJ/cm2至10kJ/cm2範圍內或0.5J/cm2至1kJ/cm2範圍內的通量。將次級能量施加到患者的治療區域可能導致患者的肌肉收縮。CM模式可以在0.05秒至60分鐘範圍內或0.1秒至45分鐘範圍內或0.2秒至30分鐘範圍內的時間間隔內操作。在脈衝狀態下操作的次級能量的輸送的脈衝持續時間可以在0.1μs至10s的範圍內或者在0.2μs至1s的範圍內或者在0.5μs至500ms的範圍內，或者在0.5至10s的範圍內，或者在1至8s的範圍內，或者在1.5至5s的範圍內，或者在2至3s的範圍內。脈衝狀態下的次級產生器9可以由控制單元11(例如，CPU)以單次模式或者重複模式操作。重複模式的頻率可以在0.1至12000Hz的範圍內，或者在0.1至
8000Hz的範圍內，或者在0.1至5000Hz的範圍內，或者在0.5至1000Hz的範圍內。
圖11C示出了脈衝模式下次級能量的輸送。在次級能量脈衝1111(例如，雙相矩形電流脈衝(biphasic rectangular electric current pulse))中輸送次級能量，從開始時間t0到結束時間t1連續提供這些脈衝，生成次級能量包絡1112(例如，電流包絡)。一個可能的次級能量脈衝1111(例如，電脈衝)在圖11C的虛線橢圓中突出顯示。次級能量脈衝1111可以一個接一個地均勻輸送，或者在次級能量脈衝1111之間具有次級能量脈衝暫停時間1113，如圖11C所示。次級能量脈衝暫停時間1113表示在兩個連續的次級能量脈衝1111之間沒有輸送/生成次級能量的時間。次級能量脈衝1111的占空比和次級能量脈衝暫停時間1113可以在0.1%至99%的範圍內，在0.5%至50%的範圍內，在0.7%至33%的範圍內，在1%至17%的範圍內，或者在1.5%至10%的範圍內。在一個方面，次級能量脈衝暫停時間1113可以在80μs至100ms的範圍內，或者在160μs至50ms的範圍內，或者在250μs至10ms的範圍內，或者在0.5ms至7ms的範圍內。
次級產生器9生成的次級能量(例如，電流脈衝或磁場脈衝)(因此，次級產生器9也可以稱為電流產生器)可以與初級電磁產生器6生成的電磁能(例如，射頻波)相同的方式進行頻率或振幅調變，產生不同形狀的次級能量包絡(例如，電流包絡)，如圖11D所示。例如，第一三角形包絡1112a包括一系列次級能量脈衝1111，
這些次級能量脈衝進行振幅調變，使得每個連續的次級能量脈衝具有比前一個更高的振幅。第二矩形包絡1112b包括具有相同振幅的一系列次級能量脈衝1111。從圖11D中可以看出，連續的第一三角形包絡1112a和第二矩形包絡1112b可以被包絡暫停時間1114分開，包絡暫停時間1114是沒有生成/輸送次級能量脈衝並且沒有建立包絡的時間。在一個方面，包絡暫停時間1114比次級能量脈衝暫停時間1113長。在另一個方面，包絡暫停時間1114至少具有次級能量脈衝1111加上次級能量脈衝暫停時間1113的長度。在一個方面，次級能量可以在一個次級能量包絡1112內調變，並且包絡對於整個治療可以是相同的，例如，可以通過治療僅輸送梯形包絡。在另一個方面，對於在治療期間輸送的不同次級能量包絡1112，可以不同地調變次級能量，例如，可以首先輸送增加的包絡，其次可以輸送矩形包絡，然後可以輸送減少的三角形包絡，其中，包絡由包絡暫停時間1114分開。次級能量包絡1112可以具有正弦、三角形、圓錐形、矩形、梯形或多邊形的形狀。
次級能量(例如，電流或磁場)也可以在次級能量包絡1112內進行頻率調變，這可以導致患者體內的治療反應增加或減少。例如，可以調變電流或磁場，使得次級能量脈衝1111的頻率增加，這可以引起肌肉收縮的強度增加。然後，次級能量脈衝1111的頻率可以是恆定的，導致相同強度的肌肉收縮，然後次級能量脈衝1111的頻率可以降低，引起肌肉收縮強度降低。相同的原理可以用於初級電磁能，從而產生例如一系列增加的、恆定的和減小的電磁
能振幅或者一系列增加的、恆定的和減小的電磁波頻率，這兩者都可以引起對患者組織的增加的、恆定的和減小的加熱。
或者，也可僅使用一個產生器來生成一種類型的能量/信號，以及使用一個或多個轉換器將能量/信號轉換成其他一種或多種類型的能量/信號。例如，初級電磁產生器可以生成射頻信號，該射頻信號被轉換器(例如，被轉換電路)轉換成電流。
所提出的裝置可以是多通道裝置，允許控制單元(例如，CPU)11同時控制一個以上治療區域的治療。
或者，互連塊3可能不是裝置1的一部分，控制單元(例如，CPU)11、開關電路14、指示器17和緊急停止按鈕16可能是主單元2或襯墊4的一部分。此外，控制單元(例如，CPU)11、開關電路14、指示器17和緊急停止按鈕16中的一些可以是主單元2的一部分，並且其中的一些可以是襯墊4的一部分，例如，控制單元(例如，CPU)11、開關電路14和緊急停止按鈕16可以是主單元2的一部分，並且指示器17可以是襯墊4的一部分。
襯墊4表示治療期間可能與患者皮膚接觸的裝置部分。襯墊4可以由可撓性基板(substrate)材料製成，例如，聚合物基(polymer至based)材料、聚醯亞胺(polyimide,PI)膜、聚四氟乙烯(polytetrafluoroethylene,PTFE，例如，Teflon®)、環氧樹脂(epoxy)、聚對苯二甲酸乙二醇酯(polyethylene terephthalate,PET)、聚醯胺(polyamide)或聚乙烯(polyethylene,PE)泡沫，在下側具有額外的黏合層，例如，可以
是抑菌的、無刺激性的或水溶性的低過敏性黏合凝膠(水凝膠)或膠帶。基板(substrate)也可以是矽基(silicone至based)基板。基板也可以由織物製成，例如，無紡織物。黏合層對於頻率為500kHz的電流的阻抗可以在1至150Ω的範圍內或者在5至130Ω的範圍內或者在10至100Ω的範圍內，並且對於頻率為100Hz或更低的電流的阻抗是對於頻率為500kHz的電流的阻抗的三倍或更多。黏合水凝膠可以由包含水、多元醇、聚乙烯吡咯烷酮、多異氰酸酯成分、多元醇成分的聚合物基質或混合物製成，或者在主鏈中具有二苯基甲烷結構。此外，導電黏合劑可以增加金屬填料，例如，銀、金、銅、鋁、鉑或鈦或石墨，這些填料構成黏合劑的1至90%或2至80%或5至70%。黏合層可以被“ST-gel®”或“Tensive®”導電黏合劑凝膠覆蓋，該凝膠被施加到身體上，以降低其阻抗，從而有利於電擊的輸送。
黏合層(例如，水凝膠)可以覆蓋面向患者的身體區域的襯墊的整個表面。水凝膠層的厚度可以在0.1至3毫米(mm)的範圍內或者在0.3至2mm的範圍內或者在0.4至1.8mm的範圍內或者在0.5至1.5mm的範圍內。
襯墊4下方的黏合層可能是指黏合層位於面向患者的襯墊表面和患者身體之間。黏合層可以具有比襯墊4下的患者皮膚的阻抗高1.1倍、2倍、4倍或高達10倍的阻抗。皮膚阻抗的定義可以是，當內部電流通量路徑保持恆定時，該皮膚阻抗是在與表皮接觸的兩個等電位面之間測量的總阻抗的一部分，與電極面積成反
比。適用于該定義的數據將方便地記錄為單位面積的導納(admittance)，以便於應用於其他幾何形狀。黏合層的阻抗可以通過與用於測量皮膚阻抗相同的實驗裝置來設定。黏合層的阻抗可以比皮膚的阻抗高1.1至20倍或1.2至15倍或1.3至10倍。
對於輸送給患者的不同類型的能量，黏合層的阻抗可以具有不同的值，例如，對於射頻和電流輸送，阻抗可以不同。在輸送電流的情況下(例如，在電療期間)，水凝膠的阻抗可以在100至2000歐姆的範圍內，或者在150至1800歐姆的範圍內，或者在200至1500歐姆的範圍內，或者在300至1200歐姆的範圍內。在一個方面，黏合層(例如，水凝膠)對於1kHz的交流電流的阻抗可以在100至5000歐姆、或200至4500歐姆、或500至4000歐姆、或1000至3000歐姆、或1200至2800歐姆、或1500至2500歐姆的範圍內。在另一個方面，黏合層(例如，水凝膠)對於10Hz的交流電流的阻抗可以在2000至4000歐姆、或2300至3700歐姆、或2500至3500歐姆的範圍內。
黏合層在3.2MHz射頻下的電導率可以在20至200毫西門子/公尺(mS/m)範圍內或在50至140mS/m範圍內或在60至120mS/m範圍內或在70至100mS/m範圍內。
或者，黏合層可以由多個元件組成，其中，一些元件可以具有合適的物理特性(本文稱為黏合元件)，例如，合適的黏合性及/或導電性及/或阻抗性及/或冷卻性等；並且一些元件可以具有營養特性(本文稱為營養元件(nourishing element))，例如，可以
包含營養物、及/或維生素、及/或礦物質、及/或具有營養效果的有機及/或無機物質，這些物質可以在治療期間被輸送到患者的皮膚。黏合元件與營養元件的體積比可以在1：1至20：1，或2：1至10：1，或3：1至5：1，或5：1至50：1，或10：1至40：1，或15：1的範圍內。在一個方面，黏合層組合物可以包含作為黏合元件的水凝膠和作為營養元件的透明質酸。在另一個方面，黏合層組合物可以包含作為黏合元件的水凝膠以及作為營養元件的一種或多種維生素。在另一個方面，黏合層組合物可以包含作為黏合元件的水凝膠和作為營養元件的一種或多種礦物質。
在一個方面，營養元件可以在治療過程中自行持續釋放。在另一個方面，營養元件可以由於治療能量(例如，熱、射頻、光、電流、磁場或超音波)的輸送而釋放，治療能量可以穿過營養元件並因此導致其釋放到患者的皮膚。
包含黏合層的襯墊可以被配置為一次性使用(一次性)。
或者，襯墊可以不含黏合層，可以至少包括基板和主動元件(例如，電極)。
在一個方面，在治療開始時，可以在施加襯墊之前，將黏合層(例如，水凝膠)從外部施加于患者表面。然後將襯墊耦接到黏合層。在另一個方面，覆蓋層(例如，薄箔)可以插入在黏合層和襯墊之間。該箔可以在一側或兩側是黏性的，並提供襯墊與患者身體的耦接。在這種情況下，由於覆蓋層保證了襯墊的衛生安全，
所以可以多次使用相同的襯墊。
在另一個方面，在施加襯墊之前，可以在患者表面施加某種其他物質的層，並將襯墊耦接至該層。這可以是活性物質層、冷卻層(例如，冷卻凝膠)、部分黏合層或任何其他非黏合層。在一個方面，活性物質層可以包括例如透明質酸、一種或多種維生素、一種或多種礦物質或其任意組合。來自活性物質層的活性物質可以具有施加於患者的溶液形式(例如，凝膠或乳膏)，或者可以耦接到覆蓋層(例如，薄箔)，該覆蓋層然後附接到患者的皮膚。由於在整個治療過程襯墊提供的至少一種能量(例如，射頻能量、或熱、或電流或磁場等)，活性物質可以持續釋放到皮膚中。在另一個方面，活性物質可以在治療開始時、期間的某個時間或結束時釋放到皮膚中，以便從視覺上改善皮膚。
在襯墊4的頂側也可以具有黏貼物。頂側是與下側(可以沉積黏合層的側邊)相對的一側，或者換句話說，頂側是在治療過程中襯墊的背離患者的側邊。黏貼物可以具有底側和頂側，其中，黏貼物的底側可以包括黏接層，而黏貼物的頂側可以包括非黏接層(例如，聚醯亞胺(PI)膜、PTFE(例如，Teflon®)、環氧樹脂、聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚醯胺或PE泡沫、PE膜或PVC泡沫)。因此，黏貼物可以由兩層製成(頂部非黏接層和底部黏接層)。黏貼物覆蓋襯墊的頂側，並且還可以覆蓋位於襯墊頂側的一些感測器(例如，熱感測器)。
黏貼物可以具有與襯墊4相同的形狀，或可以在襯墊
上具有額外的重疊，例如，延伸超出襯墊4的形狀。黏貼物可以黏結到襯墊上，使得黏貼物的底側的黏接層面向襯墊4的頂側。背離襯墊4的黏貼物的頂側可以由非黏合層製成。具有額外重疊的黏貼物的線性尺寸可以超過襯墊的相應尺寸，在0.1至10公分(cm)的範圍內，或者在0.1至7cm的範圍內，或者在0.2至5cm的範圍內，或者在0.2至3cm的範圍內，或者在0.3至1cm的範圍內。黏貼物的面積(具有重疊)可能比襯墊的面積大0.5%到50%、1%到40%、1.5%到33%、2%到25%、3%到20%或5%到15%。這種重疊也可以包括黏合層，並且可以用於形成襯墊與患者的額外的和更合適的接觸。黏貼物的厚度可以在0.05至3mm的範圍內，或者在0.1至2mm的範圍內，或者在0.5至1.5mm的範圍內。黏貼物的頂側可以具有易於識別襯墊的印刷銘文，例如，製造商的品牌或者提出的治療身體區域。
在一個方面，面向患者的身體區域的襯墊的下側的黏合層(例如，水凝膠)可以覆蓋襯墊的整個表面，甚至覆蓋襯墊的表面，並至少部分覆蓋黏接層的重疊。在另一個方面，黏合層的下側及/或黏貼物的重疊(這兩個部分都面向患者)可以被內襯(liner)覆蓋，可以在治療之前移除該內襯。內襯保護黏合層及/或黏貼物的重疊，因此當移除內襯時，確保了對患者的身體區域的適當黏附。
或者，襯墊4可以包括至少一個吸入口，例如，與主動元件相鄰的小空腔或狹縫，或者主動元件可嵌入空腔內。吸入口可以經由連接管連接到泵上，該泵可以是主單元2的一部分。當吸
入口與皮膚接觸時，從吸入口吸入的空氣流向連接管和泵，皮膚可能被輕微吸入吸入口。因此，通過施加真空，可以提供襯墊4的黏附力。此外，襯墊4可以包括黏合層和吸入口，用於更強的黏附組合。
除真空(負壓)外，泵還可以通過將流體泵送到吸入口來提供正壓。正壓是高於大氣壓的壓力，負壓或真空低於大氣壓。大氣壓是治療期間房間內的空氣壓力。
可以將壓力(正壓或負壓)以脈衝形式施加於治療區域，提供按摩治療。可以由一個或多個改變對患者軟組織的壓力值的吸入口提供按摩治療，這意味著吸入口對患者組織施加不同的壓力。此外，吸入口可以在軟組織中產生壓力梯度，而不接觸皮膚。這種壓力梯度可以針對軟組織層、皮膚表面下及/或不同的軟組織結構。
按摩通過電磁能、電能或不加熱患者的電磁能加速和改善治療，改善血液及/或淋巴循環、血管性水腫、紅斑效果，加速脂肪去除，加速新陳代謝，加速彈性生成及/或膠原蛋白新生。
每個吸入口可以通過抽吸機構、氣流或氣體流、液體流、吸入口內包括的物體(例如，按摩物體、壓力感測器等)提供的壓力及/或以其他方式提供壓力。
施加在患者組織上的壓力值是指提供按摩效果的吸入口在治療及/或鄰接患者組織結構上施加正、負及/或連續變化的正、負壓力，及/或在患者組織表面下產生壓力梯度。
可以施加為改善體液流動(例如，淋巴引流)及/或放鬆表面軟組織層中的組織而進行的按摩，其壓力低於深層軟組織層的按摩壓力。與大氣壓相比，這種正壓或負壓可以在10Pa至30000Pa的範圍內，或者在100Pa至20000Pa的範圍內，或者在0.5kPa至19kPa的範圍內，或者在1kPa至15kPa的範圍內。
為改善體液流動及/或放鬆深層軟組織層中的組織而進行的按摩可採用更高的壓力。這種正壓或負壓可以在12kPa到400kPa或15kPa到300kPa或20kPa到200kPa的範圍內。施加壓力過高的不適感可用于根據單個患者的反饋設定壓力閾值。
負壓可刺激體液流動及/或深層軟組織層(軟組織中0.5cm至無限制深度)及/或患者表面附近軟組織層(0.1mm至0.5cm)的鬆弛。為了增加按摩的效果，可以在正壓治療之後使用負壓治療。
改變一個襯墊4中患者軟組織上的壓力值的吸入口數量可以在1至100之間或1至80之間或1至40之間或1至10之間。
吸入口的尺寸及/或形狀可以根據治療區域而有所不同。一個吸入口可以覆蓋患者表面上0.1mm2到1cm2之間或者0.1mm2到50mm2之間或者0.1mm2到40mm2之間或者0.1mm2到20mm2之間的區域。另一吸入口可以覆蓋患者表面上1cm2至1m2之間或1cm2至100cm2之間或1cm2至50cm2之間或1cm2至40cm2之間的區域。
多個吸入口可同時工作，或以1ms至10s之間的間隔
或10ms至5s之間的間隔或0.5s至2s之間的間隔切換。
用於提供按摩效果的吸入口可以根據一個或多個治療方案中包含的一個或多個預定按摩模式進行引導。按摩模式可以由操作者及/或控制單元(例如，CPU)根據患者的狀況來選擇。例如，患有淋巴水腫的患者可能需要與患有癒合的腿部潰瘍的患者不同水平的壓縮模式和施加的壓力。
可優選地在靜脈中淋巴流及/或血流的正方向上逐漸施加由一個或多個吸入口施加的壓力。根據特定的治療方案，可以在與普通淋巴流相反或不同的方向上逐漸施加壓力。治療期間施加的壓力值可以根據治療方案而變化。
單個吸入口之間可能出現壓力梯度。所描述的梯度的示例不限於該方法及/或裝置。在至少兩個先前的和連續的吸入口之間的壓力梯度的設置可以是：0%，即由吸入口施加的壓力是相同的(例如，襯墊的所有吸入口中的壓力是相同的)；1%，即前一個和後一吸入口之間施加的壓力以1%的梯度降低及/或增加(例如，第一吸入口中的壓力為5kPa，後一吸入口中的壓力為4.95kPa)；2%，即壓力以2%的梯度降低或增加。兩個吸入口之間的壓力梯度可以在0%到100%的範圍內，其中，100%意味著一個吸入口不活動及/或不對患者的軟組織施加任何壓力。
控制前一吸入口和後一吸入口之間的壓力梯度施加
的治療方案可以在0.1%至95%的範圍內，或在0.1%至70%的範圍內，或在1%至50%的範圍內。
吸入口還可以包括由活塞驅動的衝擊按摩對象、通過進/出口閥(inlet/outlet valve)從間隙容積中填充或吸出液體或空氣來操作的按摩對象或由產生電場、磁場或電磁場的元件驅動的按摩對象。此外，可以通過多個按摩對象的衝擊來提供按摩。多個按摩對象可以具有相同或不同的尺寸、形狀、重量，或者可以由相同或不同的材料製成。按摩對象可以通過空氣或液體流動(通過閥)或通過電場、磁場或電磁場加速。按摩對象的軌跡可以是隨機的、圓形的、線性的及/或按摩對象可以圍繞一個或多個軸旋轉，及/或可以在間隙容積中進行其他類型的移動。
按摩單元還可以包括面向患者一側的薄膜，該薄膜可以通過電、磁、電磁場或改變腔室壁和薄膜之間的間隙容積的壓力值來加速。該膜可以作為按摩對象。
在治療過程中，可方便地使用襯墊與黏合層的和襯墊與吸入口的組合。在這種情況下，在治療期間使用的至少一個襯墊可以包括黏合層，並且在治療期間使用的至少另外一個襯墊可以包括吸入口。例如，具有黏合層的襯墊可適用於治療更不平坦的區域，例如，眼周(periorbital)區域，而具有吸入口的襯墊可適用於治療更平滑的區域，例如，臉頰。
該裝置的優點在於，可以通過黏合層或吸入口或兩者的組合來提供襯墊的附接，無需任何額外的夾緊系統，該夾緊系統
需要在治療過程中將襯墊固定在治療區域，例如，帶或毛氈，該夾緊系統可能會導致患者不適。
在一個方面，吸入口可以提供加熱流體，以促使加熱患者(例如，熱空氣)，其可替代初級電磁能(例如，射頻能量)或作為初級電磁能的補充能量提供。
在另一個方面，可以通過至少一個緊固機構(例如，帶子或毛氈)將可撓性襯墊4緊固至面部，該緊固機構可以由彈性材料製成，因此可以根據個人面部進行調節。在這種情況下，可能不具有黏合層或吸入口的可撓性襯墊被放置在患者的治療區域上，然後用帶子或毛氈固定其位置，以避免襯墊偏離治療區域。或者，帶可以由面罩代替，例如，覆蓋面部5%至100%或30%至99%或40%至95%或50%至90%的彈性面罩，並且可以用於將可撓性襯墊固定在治療區域上。在另一個方面，面罩可以是剛性的或半剛性的。面罩可以包含一個連接部分，該連接部分包括導電引線，然後將導電引線分配到特定的襯墊。此外，可以使用具有黏合層或吸入口的襯墊和緊固帶、毛氈或面罩的組合，以確保襯墊牢固地附接到治療區域上。
此外，緊固機構可以具有可安裝在患者的身體部位的織物或衣服(garment)形式。在使用該裝置時，主動元件或襯墊4的表面沿著該衣服的內表面放置，而主動元件或襯墊4的相對表面與患者的皮膚接觸，優選地通過皮膚至主動元件水凝膠介面。
可以通過鉤環緊固件、按鈕、帶扣、螺柱、皮帶或繩
索、磁性導向鎖定系統或夾緊帶來緊固衣服，用於將衣服固定在患者的身體部位或其周圍，並且衣服可以由適應患者身體或肢體形狀的可撓性材料或織物製成。襯墊4可以以相同的方式配置為緊固到衣服的內表面。該衣服優選地由透氣材料製成。這種材料的非限制性示例是軟氯丁橡膠、尼龍、聚氨酯、聚酯、聚醯胺、聚丙烯、矽樹脂、棉花或任何其它柔軟且有彈性的材料。所有命名的材料都可以用作織造、非織造、一次性織物或層壓結構(laminated structure)。
衣服和襯墊可為模組化系統，這意味著裝置(襯墊、衣服)及/或系統的模組或元件與其餘模組或元件分開獨立設計，同時相互兼容。
可以將襯墊4設計為附接到衣服上或與衣服接觸，從而在靜止或固定狀態下由衣服攜帶，使襯墊設置在衣服的固定位置。該衣服確保襯墊正確附接或放置在患者皮膚上。在該裝置的使用中，不與衣服接觸的一個或多個主動元件的表面與患者的皮膚接觸，優選地通過用作襯墊至皮膚介面的水凝膠層。因此，包含在襯墊中的主動元件與患者的皮膚接觸。
由幫助患者的技術人員或臨床醫生確定襯墊在患者的身體部位的最佳位置，從而確定攜帶具有主動元件的襯墊的衣服。
此外，衣服可以包含一個以上的襯墊，或患者可以在一次治療期間穿著一件以上包含一個或多個襯墊的衣服。
襯墊4包含至少一個能夠從初級電磁產生器6或次級
產生器9或超音波發射器10輸送能量的主動元件13。在各個方面，主動元件是電極、光學元件、聲窗(acoustic window)、超音波發射器、線圈、流體導管、加熱元件或本領域已知的其他能量輸送元件。電極可以是射頻(RF)電極。RF電極可以是塗有絕緣(例如，介電質)材料的介電質電極。RF電極可以是單極(monopolar)、雙極(bipolar)、單一極(unipolar)或多極(multipolar)的。雙極佈置可以由在活動(active)和返回(return)功能之間交替的電極組成，並且在治療期間電極下方的熱梯度幾乎相同。雙極電極可以形成圓形或橢圓形，其中，電極彼此同心。然而，也可以使用一組雙極電極系統。也可以使用單極電極或一個或多個多極電極。或者，該系統可以使用單極電極，其中，所謂的返回電極(或中性電極或地電極或接地電極)具有比所謂的主動電極更大的面積。因此，主動電極下方的熱梯度高於返回電極下方的熱梯度。主動電極可以是襯墊的一部分，並且具有較大表面積的無源電極可以位於距離襯墊至少5cm、10cm或20cm處。中性電極可以用作無源電極。中性電極可以在患者身體的與襯墊附接的一側相反的一側。也可以可選地使用單極電極。在單極能量輸送期間，有一個電極，沒有中性電極，並且在單個電極周圍的全向場中發射大RF場。可以使用電容及/或電阻電極。射頻能量可以在RF電極的表面上或被治療組織(例如，皮膚)的表面上提供0.001瓦/平方公分(W/cm2)至1500W/cm2或0.01W/cm2至1000W/cm2或0.5W/cm2至500W/cm2或0.5W/cm2至100W/cm2或1W/cm2至50W/cm2範圍內的能量通量。RF電極表
面上的能量通量可以根據RF電極的尺寸和其能量輸出值來計算。被治療組織表面上的能量通量可以從RF電極正下方的被治療組織的尺寸和其由RF電極提供的能量輸入值來計算。此外，位於襯墊4中的RF電極可以用作超音波能量的聲窗。
主動元件13可以從次級產生器9以電流或磁場的形式提供次級能量。通過向患者身體的治療區域施加次級能量，可以實現肌肉纖維刺激(例如，肌肉收縮)，從而增加肌肉張力、肌肉強化、恢復肌肉感覺、放鬆肌肉組織及/或拉伸肌肉組織。
用於模擬肌肉的主動元件13(例如，線圈)提供的磁場在主動元件(例如，線圈)的表面上可以在0.01特斯拉(T)至7T的範圍內，或在0.015T至4T的範圍內，或在0.02T至1T的範圍內，或在0.05T至0.5T的範圍內。磁通量密度導數(derivative)的最大值可以在1特斯拉/秒(T/s)至800千特斯拉/秒(kT/s)的範圍內，或者在40T/s至320kT/s的範圍內，或者在80T/s至250kT/s的範圍內，或者在100T/s至250kT/s的範圍內，或者在250T/s至180kT/s的範圍內，或者在500T/s至100kT/s的範圍內，或者在1kT/s至650kT/s的範圍內。磁通密度導數的值可對應於組織內的感應電流。磁場的脈衝持續時間可以在3μs至10ms的範圍內，或者可替代地在3μs至3ms的範圍內，或者可替代在3μs至1ms的範圍內。主動元件13(例如，線圈)可以提供頻率在1Hz至1200kHz的範圍內或者在2Hz至600Hz的範圍內或者在3Hz至250Hz的範圍內或者在4Hz至150Hz的範圍內或者在4Hz至65Hz的範圍內的磁場脈衝。
用於生成磁場的主動元件13(例如，線圈)的電感可以在1nH至500mH的範圍內，或在10nH至50mH的範圍內，或在50nH至10mH的範圍內，或在500nH至1mH的範圍內，或在1μH至500μH的範圍內。或者，用於生成磁場的主動元件(例如，線圈)的電感可以在1nH至100μH的範圍內，或者在5nH至50μH的範圍內，或者在10nH至25μH的範圍內，或者在45nH至20μH的範圍內。
在主動元件13(例如，電療電極或簡稱為電極，也可以是上述射頻電極)輸送的次級能量為次級產生器9生成的電流的情況下，所提出的裝置可以提供電療。電療的主要效果是：止痛、肌肉鬆弛、離子電滲療法、抗水腫效果或引起肌肉纖維收縮的肌肉刺激。這些效果中的每一個都可以通過一種或多種類型的電療來實現：賈法尼電流(galvanic current)、脈衝直流電和交流電。
賈法尼電流(或“連續的”)是可以具有恆定電流的電流及/或電流的絕對值在任何時刻都高於0。可能主要用於離子電滲療法，或利用其營養刺激(充血)效應。在本新型中，該電流通常可以由賈法尼間歇電流代替。此外，電流分量可能約為95%，但由於最初連續強度的中斷，頻率可能達到5至12kHz或5至10kHz或5至9kHz或5至8kHz。
脈衝直流電(DC)具有可變的強度，但只有一個極性。基本脈衝形狀可以變化。包括例如一種極性的雙動態(diadynamic)、矩形、三角形和指數脈衝。根據使用的頻率和強度，可以具有刺激、滋養(tropic)、止痛、肌肉鬆弛、離子電滲療法、
至少部分肌肉收縮和抗水腫效果及/或其他效果。
交流電(AC或雙相)，其中，基本脈衝形狀可以變化，即矩形、三角形、正弦諧波、指數及/或其他形狀及/或上述形狀的組合。可以是交替、對稱(對稱交流電)及/或非對稱的。在接觸電療中使用交流電意味著在電極下的組織上的應力低得多。對於這些類型的電流，涉及皮膚電阻的電容分量，並且由於此，患者對這些電流的耐受性很好。
AC療法可分為五種亞型：低週波治療器(transcutaneous electrical nerve stimulation,TENS)、經典(四極)干擾、兩極干擾、等平面干擾和偶極矢量場。還存在一些特定的電療能量變量和週期的模組性、能量的形狀等。
由於干擾電療，可以在500Hz至12kHz或500Hz至8kHz或500Hz至6kHz的範圍內通過中頻刺激不同的神經和組織結構，產生具有刺激神經和組織的頻率的脈衝包絡，例如，交感神經(0.1至5Hz)、副交感神經(10至150Hz)、運動神經(10至50Hz)、平滑肌(0.1至10Hz)、傳感神經(sensor nerve)(90至100Hz)、傷害感受纖維(nociceptive fiber)(90至150Hz)。
電療可以提供頻率在0.1Hz至12kHz或0.1Hz至8kHz或0.1Hz至6kHz的範圍內的電流刺激。
在射頻治療期間及/或作為射頻治療的一部分，通過電療進行的肌肉纖維刺激可能很重要。肌肉刺激增加了血液流動和淋巴循環。可以改善被治療細胞的去除及/或防止熱點的產生。此
外，鄰近組織的內部按摩刺激改善了組織的均勻性和所輸送的能量的分散。通過電療進行的肌肉纖維刺激可以引起肌肉收縮，這可以通過肌肉緊致和強化來改善患者的視覺外觀。另一個有益效果是例如在用射頻治療去除脂肪的過程中。射頻治療可以改變脂肪組織的結構。肌肉纖維刺激可以提供內部按摩，這對於肥胖患者可能比傳統按摩更有效。
肌肉刺激可以通過例如間歇直流電、交流電(例如，中頻電流、俄式電流和TENS電流)、作為多重刺激方法的法拉第電流及/或其他方式提供。
電流頻率可以在0.1Hz至1500Hz或0.1Hz至1000Hz或0.1Hz至500Hz或0.1Hz至300Hz的範圍內。
電流包絡的頻率通常在0.1Hz至500Hz或0.1Hz至250Hz或0.1Hz至150Hz或0.1Hz至140Hz的範圍內。此外，電流包絡可以具有在每秒0.01至100、或每秒0.05至50、或每秒0.07至30、或每秒0.1至20、或每秒0.2至6的範圍內的包絡重複頻率(ERF)。
可以通過組合方式提供電刺激，其中，可以實現具有各種效果的各種治療。作為一個說明性的示例，具有電刺激的電磁能可以以電流脈衝序列的形式給藥，其中，第一電刺激序列可以實現與第二或其他連續刺激序列不同的效果。因此，在由電磁能產生器提供的電磁能提供的連續或脈衝射頻熱加熱期間，治療可以提供肌肉纖維刺激或肌肉收縮，然後放鬆。
可以通過單極、單一極、雙極或多極模式提供電刺激。
以雙極、多極模式(兩個以上電極之間的電流流動)操作及/或提供給至少一個電療電極的電療電極之間的電壓絕對值可以在0.8伏特(V)和10千伏(kV)之間的範圍內；或者在1V和1kV之間的範圍內；或者在1V和300V之間的範圍內，或者在1V和100V之間的範圍內，或者在10V和80V之間的範圍內，或者在20V和60V之間的範圍內，或者在30V和50V之間的範圍內。
用於非賈法尼電流的電療的電流密度可以在0.1毫安培/平方公分(mA/cm2)和150mA/cm2之間的範圍內，或在0.1mA/cm2和100mA/cm2之間的範圍內，或在0.1mA/cm2和50mA/cm2之間的範圍內，或在0.1mA/cm2和20mA/cm2之間的範圍內；賈法尼電流可以優選地在0.05mA/cm2和3mA/cm2之間的範圍內，或者在0.1mA/cm2和1mA/cm2之間的範圍內，或者在0.01mA/cm2和0.5mA/cm2之間的範圍內。可以在向患者提供電療的電極表面上計算電流密度。在一個方面，用於非賈法尼電流的電療的電流密度可以在0.1mA/cm2和200mA/cm2之間的範圍內，或者在0.5mA/cm2和150mA/cm2之間的範圍內，或者在1mA/cm2和120mA/cm2之間的範圍內，或者在5mA/cm2和100mA/cm2之間的範圍內。
在脈衝電流(例如，脈衝模式)的情況下，一個脈衝中的電流可以在0.5毫安培(mA)至150mA的範圍內，在1mA至100mA的範圍內，在5mA至75mA的範圍內，或在10mA至55mA
的範圍內。一個電流脈衝的持續時間可以優選地在1至500μs的範圍內，在10至350μs的範圍內，在20至200μs的範圍內，在35至150μs的範圍內，或者在50至100μs的範圍內。
在電療過程中，例如，雙極電療，可以使用兩個或多個電極。如果在雙極模式期間一組電極中至少一個電極的極性具有非零值，則該組電極必須包括至少一個具有相反極性值的電極。這兩個電極極性的絕對值可能相等，也可能不相等。在雙極電刺激模式中，刺激信號穿過具有相反極性的電極之間的組織。
以雙極模式操作的兩個電極之間的距離可以在0.1mm至4cm的範圍內，或在0.2mm至3cm的範圍內，或在0.5mm至2cm的範圍內，或在1mm至1cm的範圍內，或在2mm至7mm的範圍內，或在0.1cm至40cm的範圍內，或在1cm至30cm的範圍內，或者在1cm和20cm之間的範圍內，其中，該距離是在雙極模式下操作的兩個電極的兩個最近點之間的距離。
在單極電療模式期間，可以通過改變一個電極的極性來激發動作電位(action potential)，改變神經纖維及/或神經肌肉斑中的極化，從而誘發刺激信號。
在電療期間，可以使用雙極或單極電療模式中的一種，或可以組合雙極或單極電療模式。
超音波發射器可以提供聚焦或散焦的超音波能量。超音波能量可以通過聲窗輸送到組織。主動元件13的表面上的超音波能量的輸出功率可以小於或等於20W或15W或10W或5W。超音波
能量可以在主動元件13的表面上或被治療組織(例如，皮膚)的表面上提供能量通量，在0.001W/cm2至250W/cm2範圍內，或在0.005W/cm2至50W/cm2範圍內，或在0.01W/cm2至25W/cm2範圍內，或在0.05W/cm2至20W/cm2範圍內。超音波能量的治療深度可以在0.1mm至100mm或0.2mm至50mm或0.25mm至25mm或0.3mm至15mm的範圍內。在5mm的深度處，超音波能量可以提供在0.01W/cm2至20W/cm2或0.05W/cm2至15W/cm2範圍內的能量通量。超音波波束可以具有在0.1至20或2至15至4至10範圍內的束非均勻性比率(beam non至uniformity ratio)(RBN)。此外，超音波波束可以具有低於15或低於10的束非均勻性比率。超音波波束可以是發散的、會聚的及/或准直的。超音波能量可以通過聲窗輸送到組織。電極可能用作聲窗。此外，超音波發射器10可以是主動元件13的一部分，因此超音波發射器10可以是襯墊4的一部分。
在一個方面，超音波可為患者提供加熱，可以使用超音波發射器10代替初級電磁產生器6，初級電磁產生器6可能不存在於裝置中。在另一個方面，超音波可以向初級電磁產生器6生成的能量提供補充熱能。
至少一些主動元件13可以同時(在同一時間)接續或以重疊方式或其任意組合方式從初級電磁產生器6或次級產生器9或超音波發射器10輸送能量。例如，主動元件13(例如，電極)能夠依次輸送射頻能量和電流，這意味著首先主動元件13可以提供由初級電磁產生器6生成的初級電磁能，隨後主動元件13可以提供由次
級產生器9生成的次級能量。因此，主動元件13可以例如向患者的組織施加射頻能量，然後同一主動元件13可以向患者的組織施加例如電流。在一個方面，初級電磁產生器可以生成射頻能量和電流。
在一個方面，所提出的裝置1可僅提供一種治療能量，例如，僅提供電流，以引起肌肉刺激，或僅提供射頻能量，以引起組織加熱。
主動元件(例如，電極或線圈)可以冷卻。冷卻構件可以通過任何已知的機制提供冷卻，包括例如水冷、噴射冷卻劑、主動固體冷卻元件(例如，熱電冷卻器)的存在或氣流冷卻。可以在主動元件向患者提供能量期間、之前或之後，提供主動元件(例如，電極或線圈)的冷卻。冷卻元件的溫度可以在-80℃到36℃的範圍內，在-70℃到35℃的範圍內，在-60℃到34℃的範圍內，在-20℃到30℃的範圍內，在0℃到27℃的範圍內，在5℃到25℃的範圍內。
襯墊4還可以包括熱感測器15，可以在治療期間進行溫度控制，向控制單元(例如，CPU)11提供反饋，能夠調整每個主動元件的治療參數，並向操作者提供信息。熱感測器15可以是接觸式感測器、非接觸式感測器(例如，紅外溫度感測器)或侵入式感測器(例如，熱電偶(thermocouple))，用於皮膚深層(例如，表皮、真皮或皮下組織)的精確溫度測量。控制單元(例如，CPU)11也可以使用演算法來計算最深處或最高處的溫度。溫度反饋系統可以控制溫度，並基於設定或預設的限制，以人類可感知的形式警告操作者，例如，在人機介面8上或經由指示器17。在極限溫度條件下，
該裝置可以被配置為調整一個或多個治療參數，例如，輸出功率、開關模式、脈衝長度等，或者停止治療。人類可感知的警報可以是人機介面8或指示器17上顯示的聲音、警報消息，或者是互連塊3或襯墊4的任何部分的顏色變化。
襯墊可以包括至少一個肌電圖(EMG)傳感電極，其被配置為監測、記錄或評估骨骼肌響應於輸送能量(例如，電流)而產生的電活動(例如，抽搐或收縮)。設置在襯墊上的至少一個EMG感測電極可以與主動元件(例如，用於治療的電極)電絕緣。當電或神經活化肌肉細胞時，肌電圖儀檢測由這些細胞生成的電勢。可以分析這些信號，以檢測異常、活化水平或募集順序，或者分析患者運動的生物力學。EMG可以是表面EMG或肌內EMG中的一種。表面EMG可以通過一對電極或更複雜的多電極陣列來記錄。EMG記錄顯示兩個獨立電極之間的電位差(電壓差)。或者，主動元件(例如，電極)可以用於EMG，例如，當主動元件不活動時(例如，不向患者提供/輸送任何類型的能量/信號)，該主動元件可以用於EMG檢測/記錄。肌內EMG可以由一個(單極)或多個針電極記錄。這可以是插入到肌肉中的細導線，以表面電極作為參考；或者可以是相互參考的插入肌肉中的更多細金屬絲。靜止的肌肉組織通常是無電活動的。在由輸送的能量(例如，電流)引起的電活動之後，動作電位開始出現。隨著肌肉收縮強度的增加，越來越多的肌肉纖維產生動作電位。當肌肉完全收縮時，應出現一組不同速率和振幅的無序動作電位(完整的募集和干擾模式)。
襯墊還可以包括至少一個電容感測器，用於測量襯墊與患者的適當接觸。電容感測器可以連接到至少兩個互補金屬氧化物半導體(CMOS)積體電路(IC)芯片、專用積體電路(ASIC)控制器和可以是控制單元一部分的數位信號處理器(DSP)。電容感測器可以基於與空氣不同的介電特性來檢測和測量皮膚，因此，當襯墊從患者身上脫離時，信號的變化可以被檢測到並由控制單元進一步處理。電容感測器可以被配置在表面電容或投影電容(projected capacitance)配置中。為了獲得更好的接觸信息和更高的安全性，單個襯墊可以包括3至30個或4至20個或5至18個或6至16個或7至14個電容感測器。
記憶體12可以包括例如關於襯墊4的類型和形狀、其剩餘壽命或已使用襯墊進行治療的時間的信息。記憶體還可以提供關於襯墊製造商的信息或關於患者身體上的指定使用區域的信息。記憶體可以包括RFID、MRAM、電阻器或接腳。
對於單極射頻系統，中性電極7可確保患者體內適當的射頻能量分佈。在每次治療之前，中性電極7附接到患者的皮膚上，使得能量可以分佈在主動元件13(例如，電極)和中性電極7之間。在一些雙極或多極射頻系統中，不需要使用中性電極，因為射頻能量分佈在多個主動元件13(例如，電極)之間。中性電極7表示裝置1的可選塊，因為可以整合任何類型的射頻系統。在一個方面，中性電極7可以是襯墊4的一部分。
此外，裝置1可以包括一個或多個感測器。感測器可
以提供關於至少一個物理量的信息，並且其測量可以導致反饋，該反饋可以由人機介面8或指示器17顯示。一個或多個感測器可以用於感測輸送的電磁能、皮膚的阻抗、皮膚的電阻、被治療的皮膚的溫度、未治療的皮膚的溫度、至少一層皮膚的溫度、裝置的含水量、輸送或反射能量的相位角、主動元件13的位置、互連塊3的位置、冷卻介質的溫度、初級電磁產生器6和次級產生器9以及超音波發射器10的溫度或者與皮膚的接觸。感測器可以是熱、聲、振動、電、磁、流量、位置、光學、成像、壓力、力、能量通量、阻抗、電流、霍爾或接近感測器。感測器可以是電容位移感測器、聲學接近感測器、陀螺儀、加速計、磁力計、紅外線攝影機或熱成像攝影機。感測器可以是侵入式或非接觸式的。感測器可以位於襯墊4上或襯墊4中、主單元2中、互連塊3中，或者可以是熱感測器15的一部分。一個感測器可以測量多個物理量。例如，感測器可以包括陀螺儀、加速度計及/或磁力計的組合。此外，感測器可以測量被治療的皮膚或未治療的皮膚的一個或多個物理量。
電阻感測器可以測量皮膚電阻，因為不同患者的皮膚電阻可能不同，濕度和汗液可能影響電阻，從而影響皮膚在能量場中的行為。基於測量的皮膚電阻，也可以計算皮膚阻抗。
來自一個或多個感測器的信息可用於在模型上生成路徑，例如，在人機介面8的顯示器上顯示的人體模型。該路徑可以示出已經治療的組織、當前治療的組織、待治療的組織或未治療的組織的表面或體積。模型可以顯示治療組織的溫度圖，提供關於
已經治療的組織或未治療的組織的信息。
感測器可以提供骨骼、發炎組織或關節的位置信息。由於可能造成疼痛的治療，這種類型的組織可能不是電磁能的目標。骨骼、關節或發炎組織可以由任何類型的感測器檢測，例如，成像感測器(超音波感測器、IR感測器)、阻抗感測器等。檢測到這些組織類型的存在可能會導致一般人類可感知的信號或中斷生成電磁能。可以通過組織阻抗的變化或通過分析反射的電磁能來檢測骨骼。
在一個方面，主動元件13可以用作上述感測器。例如，主動元件13(例如，電極)可以在提供射頻能量之前、期間或之後測量阻抗。此外，主動元件13(例如，電極)可以在電流刺激期間測量通過患者的電壓或電流。基於這些信息，可以確定襯墊4或主動元件13(例如，電極)與患者的正確接觸。
至少一個治療部分上的患者皮膚可以在選定持續時間內預冷卻至選定溫度，預冷卻的選定溫度和持續時間足以將皮膚冷卻至低於正常體溫的至少一個選定溫度。皮膚可以被冷卻到至少選定的溫度，冷卻到低於治療部分的至少一個深度的深度，使得至少一個治療部分基本上被冷卻的皮膚包圍。在施加能量期間，冷卻可以繼續，並且施加能量的持續時間可以大於治療部分的熱鬆弛時間。冷卻可以通過任何已知的機制來提供，包括水冷卻、噴射冷卻劑、主動固體冷卻元件(例如，熱電冷卻器)的存在或氣流冷卻。冷卻元件可以充當光學元件。或者，冷卻元件可以是間隔件。可以在
用電磁能治療期間、之前或之後提供冷卻。治療前的冷卻也可以為突然的熱衝擊提供環境，而治療後的冷卻可以在熱衝擊後提供更快的再生。冷卻劑的溫度可以在-200℃到36℃的範圍內。在治療期間冷卻元件的溫度可以在-80℃到36℃或-70℃到35℃或-60℃到34℃或-20℃到30℃或0℃到27℃或5℃到25℃的範圍內。此外，在襯墊不與患者皮膚接觸的情況下，可以利用低溫噴霧冷卻、氣流或其他非接觸冷卻技術。除了或代替上述冷卻技術之一，也可以利用皮膚表面上的冷卻凝膠。
圖3A和圖3B示出了接觸式治療裝置使用的襯墊4的不同形狀和佈局。襯墊4包括至少一個主動元件13(例如，電極)，並且可以以各種形狀和佈局獲得，使得可以覆蓋各種不同的治療區域並適應個體患者的需要，例如，環形、半圓形、橢圓形、長方形、正方形、矩形、梯形、多邊形或無形狀(沒有規則的形式或形狀)。襯墊4的形狀和佈局可成形為覆蓋眼周區域、前額(包括皺眉線)、頜線、口周區域(包括木偶紋、口周線，即所謂的吸煙線、鼻唇溝、嘴唇和下巴)、臉頰或頦下等中的一個或多個的至少一部分。襯墊4的形狀和主動元件13(例如，電極)的分佈、尺寸和數量可以根據被治療的區域而不同，例如，襯墊4內的主動元件13可以是一行、兩行、三行、四行或多行。具有主動元件13的襯墊4可以佈置成各種形狀，例如，成直線，其中，至少兩個主動元件13的中心位於一條直線上，而主動元件13的任何額外中心可以位於襯墊4內部的相同或不同的直線上。
此外，襯墊4可用於治療至少部分頸部、胸部脂肪、腰間贅肉、軀幹、背部、腹部、臀部、大腿、小腿、腿部、手臂、前臂、手、手指或體腔(例如，陰道、肛門、口腔、內耳等)。
襯墊4可以具有矩形、橢圓形、正方形、梯形形式或凸多邊形或凹多邊形形式，其中，襯墊4可以具有凸多邊形或凹多邊形結構的至少兩種不同內角。此外，襯墊4可以至少部分地形成圓錐截面(也稱為圓錐曲線)的形狀，例如，圓形、橢圓形、抛物線或雙曲線。襯墊4可以至少部分地具有一個、兩個、三個、四個、五個或更多個弧，曲率k在0.002至10毫米分之一(mm-1)的範圍內或在0.004至5mm-1的範圍內或在0.005至3mm-1的範圍內或在0.006至2mm-1的範圍內。襯墊4可以具有至少一個、兩個、三個、四個、五個或更多個曲率為k的弧，或者可以具有凸多邊形或凹多邊形結構的至少兩個不同的內角，並且可以適用於治療下巴、臉頰、頦下區域(例如，第一香蕉形襯墊4.2)，用於治療下頜線、口周區域、木偶紋和鼻唇溝(例如，第二香蕉形襯墊4.4)，用於治療眼周區域(例如，馬蹄形襯墊4.3)或面部和頸部的其他區域。第一香蕉形襯墊4.2或第二香蕉形襯墊4.4可以具有凸凹形狀，這意味著一側是凸的，而相對側是凹的，從上面看佔據襯墊4的總周長的至少5%至50%或10%至60%或15%至70%或20%至90%，其中，第一香蕉形襯墊4.2的端點4.21a和4.21b之間的最短距離(圖3A中的虛線)比第一香蕉形襯墊4.2的端點4.21a或4.21b和中點4.22之間的最短距離(圖3A中第一香蕉形襯墊4.2中的實線)長。從上面看到的馬蹄
形襯墊4.3可以具有凸凹形狀，該凸凹形狀佔據其總周長的至少15%至50%或20%至60%或25%至70%或30%至90%，其中，馬蹄形襯墊4.3的端點4.31a和4.31b之間的最短距離(圖3B中的虛線)等於或短於馬蹄形襯墊4.3的端點4.31a或4.31b與中點4.32之間的最短距離(圖3B中馬蹄形襯墊4.3中的實線)。當從上面看時，如果最長的可能的中心曲線(其可以是凸的或凹的，並且其在給定點處的垂線與襯墊在其每個點處的周界邊緣具有等距離(圖3A中第一香蕉形襯墊4.2中的虛線))，與襯墊4的圓周相交，則該點是襯墊的端點，例如，端點4.21a或4.21b。中點(例如，中點4.22)作為中心曲線的中點，其中，中心曲線的總長度由兩個端點(例如，端點4.21a和端點4.21b)決定，因此從端點4.21a到中點4.22的中心曲線的長度(圖3A中第一香蕉形襯墊4.2中的虛線)與從端點4.21b到中點4.22的長度相同。中心曲線的總長度可以在0.1至30cm的範圍內，或者在0.5至25cm的範圍內，或者在1至20cm的範圍內。
此外，中心曲線可以至少部分為圓形、橢圓形、抛物線形、雙曲線形、指數形、凸形或凹形曲線，使得連接襯墊4的端點和中心曲線的中點的直線與中心曲線的中點的切線形成角度α。角度α可以在0.1°至179°的範圍內，或者在0.2°至170°的範圍內，或者在0.5°至160°的範圍內，或者在1°至150°的範圍內。
襯墊4的形狀具有至少兩個曲率為k的凹弧，或具有至少兩個多邊形結構的凹內角，可以適合於治療前額，例如，圖3A中的T形襯墊4.1。T形襯墊4.1的特徵還在於主動元件13的佈置，其
中，至少兩個主動元件13的中心位於一條直線上，而至少一個主動元件13的中心位於不同的線上。
用於治療前額的襯墊4的另一種可能的非限制性配置如圖3C所示。在該非限制性示例中，前額襯墊(用於治療前額的襯墊4)可以包含兩行主動元件13(例如，電極)：主動元件13a~13f，如圖3C所示，其中，一行中的主動元件13a~13f可以至少部分地被槽43分開，以使襯墊4具有更好的可撓性。第一行主動元件包括圖3C中虛線框131a所示的主動元件(例如，電極)：主動元件13d、13e和13f。第二行主動元件(例如，電極)包括圖3C中虛線框131b所示的主動元件：主動元件13a、13b、13c。虛線框131a和131b分別僅用於第一和第二行主動元件(例如，電極)的可視化。這種襯墊4可以具有這樣的形狀，該形狀具有曲率為k的在14至36範圍內或在18至32範圍內或在20至30範圍內或在22至28範圍內的凸弧及/或凹弧的總數。另外，襯墊4可以具有在2至20範圍內或者在5至17範圍內或者在7至15範圍內或者在9至13範圍內的多個凹內角，或者襯墊4可以具有在2至20範圍內或者在5至17範圍內或者在10至16範圍內或者在11至15範圍內的多個凸內角。
圖3C還示出了襯墊4的頂側的黏貼物44。頂側是與下側相對的一側(黏合層或主動元件可以沉積在襯墊4的基板上的一側)，或者換句話說，頂側是襯墊4在治療期間背離患者的一側。黏貼物44可以具有底側和頂側，其中，黏貼物44的底側可以包括黏接層，黏貼物44的頂側可以包括非黏接層(例如，聚醯亞胺(PI)膜、
PTFE(例如，Teflon®)、環氧樹脂、聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚醯胺或PE泡沫)。
如圖3C所示，黏貼物44可以具有與襯墊4相同或相似的形狀，在襯墊4上有額外的重疊。重疊在圖3C中用陰影表示。黏貼物44可以黏結到襯墊4上，使得黏貼物44的底側的黏接層面向襯墊4的頂側。黏貼物的重疊可以超過襯墊4，超過的部分在0.1至10cm的範圍內，或者在0.1至7cm的範圍內，或者在0.2至5cm的範圍內，或者在0.2至3cm的範圍內，或者在0.3至1cm的範圍內。該重疊也可以包括黏合層，並且可以用於形成襯墊4與患者的額外的和更合適的接觸。在另一個方面，黏貼物可以具有不同於襯墊的形狀或尺寸。
前額襯墊(用於治療前額的襯墊4)可以包括邊緣主動元件(例如，電極)13a、13c、13d和13f以及中間主動元件(例如，電極)13b和13e，如圖3C所示。前額襯墊4可以分成具有主動元件(例如，電極)13d、13e和13f的上側131a和具有主動元件(例如，電極)13a、13b和13c的下側131b以及具有主動元件(例如，電極)13a和13f的左側和具有主動元件(例如，電極)13c和13d的右側。圖3C中描繪的前額襯墊4中的邊緣主動元件(例如，電極)13a、13c、13d和13f可以具有在1到10cm2的範圍內或在2到6.5cm2的範圍內或在2.3到6cm2的範圍內或在2.5到5.5cm2的範圍內的表面積，這對於所有的邊緣主動元件可以是相同的。圖3C中的中間主動元件(例如，電極)13b和13e可以具有與邊緣主動元件(例如，電極)
相同的表面積，或者可以具有比邊緣主動元件(例如，電極)更大的表面積，其中，中間主動元件(例如，電極)的表面積可以在1至20cm2的範圍內，或者在2至15cm2的範圍內，或者在3至12cm2的範圍內，或者在4至10cm2的範圍內。在一個方面，每個主動元件(例如，電極)可以具有不同的表面積。前額襯墊上的一個中間主動元件(例如，電極)的表面積與一個邊緣主動元件(例如，電極)的表面積之比可以在0.8至2.5的範圍內，或者在1至2.3的範圍內，或者在1.1至2.2的範圍內。
圖3C中的底部邊緣主動元件(例如，電極)13a和13c或圖3C中的上部邊緣主動元件(例如，電極)13d和13f的最近點之間的距離dedge可以在2至8cm範圍內或在3至7cm範圍內或在4至6cm範圍內或在4.5至5.5cm範圍內。上邊緣主動元件(例如，電極)之間的距離dedge和下邊緣主動元件(例如，電極)之間的距離dedge可以相同。
一側(左、中、右)的上主動元件(例如，電極)和下主動元件(例如，電極)最近點之間的距離dvert，例如，在圖3C中的主動元件13a和13f之間的距離，主動元件13b和13e之間的距離，或者主動元件13c和13d之間的距離，可以在0.5到20mm的範圍內，或者在1到10mm的範圍內，或者在1.5到6mm的範圍內，或者在2到5mm的範圍內。距離dvert對於左、中和右主動元件可以是相同的。
優化這種距離(dedge和dvert)，以減輕邊緣效應(例如，防止在邊緣附近產生熱點)或洩漏電流，並在治療期間有效治療
例如額肌(Frontalis muscle)或降眉間肌(Procerus muscle)。圖3C中的邊緣主動元件(例如，電極)13a、13c、13d和13f用於治療額肌及/或皺眉肌(Corrugator supercilii)，而圖3C中的中間主動元件(例如，電極)13b和13e用於治療降眉間肌。
圖3C中的前額襯墊(用於治療前額的襯墊4)也示出了襯墊4的底部中間部分的可能佈置，包括底部中間主動元件(例如，電極)13b。襯墊4可以包括在底部中間部分的凸起4p及/或凹陷。此外，主動元件13b可以被設計成接近橢圓形或矩形的形狀，在主動元件13b的底部中間具有凸起13p及/或凹陷，使用襯墊的凸起4p及/或凹陷複製襯墊4的形狀。該凸起4p及/或凹陷可以用作將襯墊4正確耦合到患者的前額區域的焦點，其中，凸起4p及/或凹陷應該與患者鼻子的中間(例如，降眉間肌的中間)對齊，同時襯墊4的底部邊緣應該稍微耦合到患者的眉毛上。
用於治療左臉頰的襯墊4的一種可能的非限制性配置如圖3D所示。在該非限制性示例中，中間主動元件(例如，電極)：主動元件13g、13h，13i和13j可以在基板上分開，並且兩個相鄰的中間主動元件(例如，電極)的最近點之間的距離dmid可以在0.5到5mm的範圍內，或者在0.8到3mm的範圍內，或者在1到2.5mm的範圍內，或者在1.2到2.3mm的範圍內。圖3D中描繪的左頰襯墊(用於治療左頰的襯墊4)可被設計成耦合到患者，使得襯墊4的底部對齊並且稍微在由圖3D中的下頜骨基部301的左部分的上方。圖3D中的中間主動元件(例如，電極)13g、13h、13i和13j可以具有在1
至15cm2範圍內或在2至8cm2範圍內或在2.5至6cm2範圍內或在3至5cm2範圍內的表面積。邊緣主動元件(例如，電極)13k、13l和13m可以具有在1至20cm2範圍內或者在2至10cm2範圍內或者在2.5至8cm2範圍內或者在3.5至7cm2範圍內的表面積。圖3D中的邊緣主動元件(例如，電極)(主動元件13k、13l或13m之一)的表面積與中間主動元件(例如，電極)(主動元件13g、13h、13i或13j之一)的表面積之比可以在0.5至3的範圍內或者在0.8至2.5的範圍內或者在1至2的範圍內或者在1至1.8的範圍內。
圖3D中的中間主動元件(例如，電極)13g、13h、13i和13j最佳地被配置為減輕邊緣效應(例如，防止在邊緣附近產生熱點)或洩漏電流，並治療例如頰肌(Buccinator muscle)、笑肌(Risorius muscle)、顴肌(Zygomaticus muscle)及/或嚼肌(Masseter muscle)。圖3D中的中間主動元件(例如，電極)13g、13h、13i和13j最佳地被配置為治療例如頸闊肌(Platysma muscle)、下降肌(Depressor muscle)及/或上唇肌(Lavator labii superioris muscle)。中間主動元件(例如，電極)的數量可以在1至10的範圍內，在1至8的範圍內，在2至6的範圍內，或者在2至4的範圍內。邊緣主動元件(例如，電極)的數量可以在1至10的範圍內，在1至7的範圍內，在1至6的範圍內，或者在2至5的範圍內。
用於治療右臉頰的襯墊4可與圖3D所示的左臉頰襯墊4對稱佈置。
在一個方面，臉頰襯墊4可以是對稱的，如圖3E所
示。這種對稱的頰頰襯墊可用于左頰或右頰治療。對稱是沿著軸333(圖3E中的虛線)。第一行主動元件(例如，電極)13n1、13o1和13p1在軸333上方，對稱的第二行主動元件(例如，電極)13n2、13o2和13p2在軸333下方。因此，對稱的頰襯墊可以具有成對的主動元件(例如，電極)，例如，主動元件13n1和主動元件13n2、主動元件13o1和主動元件13o2，或者主動元件13p1和主動元件13p2，其中，每對中的主動元件(例如，電極)具有關於軸333對稱的相同形狀。對於每個主動元件(例如，電極)，主動元件(例如，電極)的面積可以相同或不同。在一個方面，所有主動元件(例如，電極)13n1~13p2可以具有相同的表面積，其中，一個主動元件(例如，電極)的表面積在1至15平方公分(cm2)的範圍內，在2至8cm2的範圍內，在2.5至6cm2的範圍內，或者在3至5cm2的範圍內。在另一個方面，對於每個主動元件(例如，電極)，主動元件(例如，電極)13n1~13p2的表面積可以不同，或者一對主動元件(例如，主動元件13n1和13n2對)可以具有相同的表面積，該表面積不同于其他成對主動元件(例如，主動元件13p1和13p2對)的表面積，其中，一個主動元件(例如，電極)的表面積可以在1至20cm2的範圍內，在2至10cm2的範圍內，在2.5至8cm2的範圍內，在3.5至7cm2的範圍內。
圖3E中所示的主動元件間距離dintr是相鄰主動元件(例如，電極)的兩個最近點之間的距離，例如，主動元件13o1和主動元件13p1。主動元件間距離dintr可以在0.5至5mm的範圍內、在
0.8至4mm的範圍內、在1至3.3mm的範圍內、或在1.2至2.8mm的範圍內。圖3E中的主動元件(例如，電極)13n1~13p2最佳地被配置為減輕邊緣效應(例如，防止在邊緣附近產生熱點)或洩漏電流，並治療例如頰肌、笑肌、顴肌、嚼肌、上唇肌。
可用於治療前額的襯墊4的另一種可能的非限制性配置如圖3F所示。襯墊4可以具有一對左邊緣主動元件(例如，電極)13q1和13q2以及一對右邊緣主動元件(例如，電極)13s1和13s2。左邊緣主動元件(例如，電極)13q1和13q2可以沿著至少一個軸對稱，例如，圖3F中的水平軸332。右邊緣主動元件(例如，電極)13s1和13s2可以沿著至少一個軸對稱，例如，圖3F中的水平軸332。襯墊4可以具有一對中間主動元件(例如，電極)13r1和13r2，其可以沿著水平軸332對稱，或者可以沿著水平軸332不對稱，但是可以沿著垂直軸334對稱。事實上，襯墊4上的主動元件(例如，電極)的整個佈局可以沿著至少一個軸對稱，例如，圖3F中的垂直軸334。
主動元件(例如，電極)可以具有相同或不同的表面積，或成對主動元件(例如，左邊緣主動元件13q1和13q2)可以具有相同的表面積，其可以不同於另一對主動元件(例如，中間主動元件13r1和13r2)的表面積。主動元件(例如，電極)的表面積在1至10cm2的範圍內或在2至6.5cm2的範圍內或在2.3至6cm2的範圍內或在2.5至5.5cm2的範圍內。主動元件(例如，電極)可以具有如上所述的其間的距離dedge和dvert，該距離被優化，以減輕邊緣效應(例
如，防止在邊緣附近產生熱點)或洩漏電流，並且在治療期間有效地治療例如額肌或降眉間肌。一些主動元件(例如，電極)也可以至少部分地被襯墊的槽43(襯墊槽43)分開，例如，主動元件13r2和13s2，用於襯墊4與患者的更好耦合。
圖3C~3F所示的襯墊的所有非限制性示例還示出了襯墊4頂側的黏貼物44。黏貼物可以具有與襯墊4相同或相似的形狀，在襯墊4上具有額外的重疊。重疊在圖3C~3F中用陰影表示。黏貼物的重疊可以超過襯墊4，在0.1至10cm的範圍內，或者在0.1至7cm的範圍內，或者在0.2至5cm的範圍內，或者在0.2至3cm的範圍內，或者在0.3至1cm的範圍內。在一個方面，黏貼物的重疊還可以具有靠近襯墊槽43的黏貼物槽45(參見例如圖3E和3F)，從而允許黏貼物44的重疊更好地黏附到身體部位的不平坦區域。
適於治療頦下區域的治療襯墊可以覆蓋頦下區域和部分頸部。在一個方面，這種頦下襯墊可以包括僅向頦下(頦下三角和下頜下三角)輸送適於提供收縮(例如，電流)的能量的主動元件(例如，電極)以及輸送適於加熱(例如，射頻)頦下三角及/或頸部(例如，頸動脈三角、肌肉三角)的能量的其它主動元件(例如，電極)。襯墊的這種佈局可適用於雙下巴的治療，其中，熱量在襯墊下均勻分佈，並且僅向位於舌骨上方的一些頦下肌肉(例如，二腹肌(digastric muscle)、下頜舌骨肌(mylohyoid muscle)及/或莖突舌骨肌(stylohyoid muscle))提供收縮。在一個方面，頦下襯墊可以是對稱的。
襯墊可以具有不同尺寸，表面積在0.1至150cm2或0.2至125cm2或0.5至100cm2的範圍內或在1至50cm2的範圍內或在10至50cm2的範圍內或在15至47cm2的範圍內或的範圍內18至45cm2的範圍內。襯墊可以佔據面部的大約1至99%或1至80%或1至60%或1至50%。單個襯墊4內的主動元件13(例如，電極)的數量範圍從1到100或從1到80或從1到60或從2到20或從3到10或從4到9。襯墊4的至少一部分的厚度可以在0.01至15mm的範圍內或者在0.02至10mm的範圍內或者在0.05至7mm的範圍內或者在0.1至2mm1的範圍內。
在一個方面，襯墊4可以包括提供一種或多種治療(例如，射頻能量和電流)的一個主動元件13(例如，電極)，而多個此類襯墊可用於在一次治療期間治療同一區域。例如，不是使用可用於治療前額的具有六個主動元件13(例如，電極)的一個襯墊4，而是將六個襯墊4用於相同的治療，每個襯墊4具有一個主動元件13(例如，電極)。在另一個方面，襯墊4可以包括提供一種類型的治療/能量的一個主動元件13(例如，電極)，並且在一次治療期間，提供相同或不同治療/能量的多個襯墊4可以用於治療相同的區域。例如，不是使用具有提供射頻能量和電流的一個主動元件13(例如，電極)的襯墊4，而是使用兩個襯墊4，一個襯墊4具有提供射頻能量的主動元件13(例如，電極)，另一個襯墊4具有提供電流的主動元件13(例如，電極)。
或者，可僅使用一個或多個主動元件13(例如，電極)
本身，而不是具有基板和主動元件13的襯墊4。在一個方面，提供一種或多種治療(例如，射頻能量和電流)的主動元件13(例如，電極)可以用於治療患者的身體部位。在另一個方面，在一次治療期間，多個主動元件13(例如，電極)可以用於治療同一身體部位。例如，不是使用具有可用於治療前額的六個主動元件13(例如，電極)的一個襯墊4，而是使用六個單獨的主動元件13(例如，電極)用於相同的治療。在另一個方面，主動元件13(例如，電極)可以提供一種類型的治療/能量，並且提供相同或不同治療/能量的多個主動元件13(例如，電極)可以用於在一次治療期間治療相同的區域。例如，不是使用具有至少一個提供射頻能量和電流的主動元件13(例如，電極)的襯墊4，而是使用至少兩個單獨的主動元件(例如，電極)，至少一個主動元件13(例如，電極)提供射頻能量，至少一個主動元件13(例如，電極)提供電流。
在一個方面，主動元件13(例如，電極或線圈)可以至少部分相互重疊。例如，電極可以至少部分位於襯墊4中的線圈下方或上方。
此外，當襯墊4附著到患者皮膚表面時，襯墊4的形狀至少部分複製了帽狀腱膜(galea aponeurotica)、降眉間肌、提上唇鼻翼肌(levatar labii superioris alaeque nasi)、鼻翼(nasalis)、上唇提肌(lavator labii superioris)、小顴肌(zygomaticus minor)、大顴肌(zygomaticus major)、口提肌(levator angulis oris)、瞼肌(risorius,platysma)、降口角肌
(depressor anguli oris)、降下唇肌(depressor labii inferioris)、枕額肌(occipitofrontalis)(前腹)、旋眉肌(currugator supercilii)、眼輪匝肌(orbicularis oculi)、頰肌、嚼肌、口輪匝肌(orbicularis oris)或笑肌。
襯墊4的特徵在於至少一個前述方面或多個前述方面的組合或所有前述方面的組合。
主殼體內的初級電磁產生器6或次級產生器9可生成電磁能或次級能量(例如，電流)，該電磁能或次級能量可以經由導線分別輸送至至少一個附接到皮膚上的主動元件13(例如，電極)。主動元件13可以通過其整個表面或者通過所謂的部分佈置來輸送能量。主動元件13可以是單極、單一極、雙極或多極射頻系統中的主動電極。在單極射頻系統中，在主動電極(主動元件13)和具有大得多的表面積的中性電極7之間輸送能量。由於主動電極和中性電極的表面面積之間的相互距離和差異，能量集中在主動電極下面，使其能夠加熱治療區域。在單極射頻系統中，可以以在100kHz至550MHz範圍內或200kHz至300MHz範圍內或250kHz至100MHz範圍內或300kHz至50MHz範圍內或350kHz至14MHz範圍內的頻率輸送能量。在單極、雙極或多極射頻系統中，不需要中性電極7。在雙極和多極射頻系統中，分別在具有相似表面積的兩個和多個主動電極之間輸送能量。這些電極之間的距離決定了能量穿透的深度。在單極射頻系統中，僅包含單個主動電極，並且能量被輸送到主動電極周圍的組織和環境。一個襯墊4中的兩個最近的
主動元件13(例如，電極的最近相鄰側)之間的距離可以在0.1至100mm的範圍內，或者在0.3至70mm的範圍內，或者在0.5至60mm的範圍內，或者在0.7至30mm的範圍內，或者在1至10mm的範圍內，或者在1至5mm的範圍內。電極的兩個最近相鄰側之間的距離可以表示相鄰電極的兩個最近點之間的距離。
主動元件13(例如，電極)的最近點與襯墊4的最近邊緣之間的距離可以在0.1至10mm範圍內或在0.5至5mm範圍內或在1至4mm範圍內或在1至3mm範圍內。
圖4A~D表示被配置用於接觸式治療的襯墊4的可能配置的側視圖。襯墊4可以由可撓性基板材料製成，例如，聚醯亞胺(PI)膜、PTFE(例如，Teflon®)、PET、環氧樹脂或PE泡沫，在下側具有額外的黏合層40。襯墊可以具有不同的形狀，以允許操作者根據要治療的區域進行選擇。主動元件13(例如，電極)可以具有環形、半圓形、橢圓形、長方形、正方形、矩形、梯形或多邊形形狀的圓周，其表面積在0.1至70cm2或0.5至50cm2或1至25cm2或1至10cm2或2至9.5cm2或2.5至9cm2的範圍內。用於主動元件(例如，電極)的材料可以是銅、鋁、鉛或任何其他可以沉積或整合在襯墊4中的導電介質。此外，主動元件13(例如，電極)可以由銀、金或石墨製成。襯墊4中的電極可以通過生物相容性油墨印刷，例如，銀油墨、石墨油墨或不同導電材料的油墨組合。
在某些方面，主動元件13(例如，電極)也可以是可撓性的。襯墊4、可撓性基板或主動元件13(例如，電極)的剛度可以
在肖氏(shore)OO10至肖氏D80的範圍內，在肖氏OO30至肖氏A100的範圍內，在肖氏A10至肖氏A80的範圍內，或在肖氏A20至A70的範圍內。在另一個方面，襯墊4可以由具有剛性主動元件13(例如，電極)的可撓性基板製成，或者一些主動元件13(例如，電極)可以是剛性的，一些主動元件可以是具有上述肖氏範圍的可撓性的(例如，RF電極可以是剛性的，用於電療的電極可以是可撓性的，反之亦然)。
在一個方面，適用於一次治療(例如，射頻)的主動元件13(例如，電極)可以具有與適用於第二次治療(例如，電流)的主動元件13(例如，電極)不同的形狀和表面積。例如，射頻電極可以具有比電療電極更大的表面積。
主動元件13(例如，電極)的厚度可以在1μm至500μm的範圍內、2μm至400μm的範圍內、3μm至300μm的範圍內或5μm至100μm的範圍內。在另一個方面，電極厚度可以在0.2mm至10mm的範圍內、0.4mm至8mm的範圍內或0.5mm至5mm的範圍內。
在一個方面，主動元件13(例如，電極)可以具有夾層結構，其中，多種導電材料逐漸沉積在彼此上，例如，銅-鎳-金結構。例如，銅可以沉積在基板上，厚度在5至100μm的範圍內或15至55μm的範圍內或25至45μm的範圍內。鎳可以沉積在銅上，厚度在0.1至15μm的範圍內或0.5至8μm的範圍內或1至6μm的範圍內。金可以沉積在鎳上，厚度在25至200nm的範圍內或50至
100nm的範圍內或60至90nm的範圍內。這種夾層結構可以通過例如ENIG製程製成。
在另一個方面，主動元件13(例如，電極)可以由銅製成，並覆蓋有另一導電層，例如，銀或氯化銀油墨、碳糊或通過導電膠與銅連接的鋁段。在另一個方面，電極可以例如通過銀油墨、氯化銀油墨或碳糊印刷，電極厚度在1至100μm的範圍內或在5至55μm的範圍內或在8至45μm的範圍內。
主動元件13(例如，電極)的形狀可以具有凸弧或凹弧，其總數在1至12或2至10或3至9或4至8的範圍內。此外，主動元件(例如，電極)可以具有多個凹內角，在1至7範圍內或者在1至6範圍內或者在1至5範圍內或者在2至4範圍內，或者主動元件(例如，電極)可以具有多個凸內角，在1至10範圍內或者在1至9範圍內或者在3至7範圍內。圖3C中描繪了凸凹主動元件13(例如，電極)的可能佈置。
主動元件13(例如，提供射頻能量及/或電流的電極)可以是具有全活性表面的全面積電極。這意味著面向患者的電極的整個表面由沉積或整合在襯墊4中的導電材料製成，如上所述。
在一個方面，面向患者的電極(由導電材料製成)可以具有例如一個或多個孔、切口及/或突起，其被配置為例如提高電極及/或襯墊的可撓性，及/或減少邊緣效應，及/或提高輸送的能量密度的均勻性，及/或提高所提供的治療的均勻性。孔可以是電極主體中的開口。切口可以是沿著電極邊界的電極主體中的開口。可以通
過水平投影的視圖來限定電極主體中的開口，其示出了電極的俯視圖。可以用空氣、介電材料、絕緣材料、襯墊的基板、空氣或水凝膠填充開口，例如，孔、切口及/或突起外部的區域。因此，與常規電極相比，通過破壞表面區域(即，沒有孔或切口的電極)，將電極分段。一個電極的兩個或多個孔或切口可以是不對稱的。一個或多個孔和切口可以具有例如矩形或圓形形狀。孔及/或切口可以具有規則的、不規則的、對稱的及/或非對稱的形狀。當電極包括兩個或多個孔或切口時，孔或切口可以具有相同的對稱點及/或對稱線。位於電極的兩個不同孔及/或切口的邊界上的兩個最近點之間的距離可以在1μm至10mm或10μm至8mm或20μm至5mm或50μm至3mm或100μm至2mm的範圍內。
具有一個或多個開口(例如，孔及/或切口)及/或突起的主動元件(例如，電極)可以由導電材料框定，框架內部可以具有導電材料和開口的組合。如圖9A~9C和9I所示，框架801可以從面向患者的一側產生電極800的最大圓周。框架801可以具有環形、半圓形、橢圓形、長方形、正方形、矩形、梯形或多邊形的形狀。框架801的內部可以具有如圖9A和9B所示的帶有孔803的柵格線802的結構。框架801和柵格線802由導電材料製成，並且是電極800的一部分。框架801的厚度可以與柵格線802的厚度相同，或者框架801的厚度可以比柵格線802厚，在1%至2000%的範圍內，或者在10%至1000%的範圍內，或者在20%至500%的範圍內，或者在50%至200%的範圍內。此外，框架801可以比柵格線802薄，在0.01倍
至20倍的範圍內，或者在0.1倍至10倍的範圍內，或者在0.2倍至5倍的範圍內，或者在0.5倍至2倍的範圍內。
如圖9A~9C和圖9I所示，框架801的厚度可以在0.1至5mm的範圍內，在0.5至2.3mm的範圍內，在0.6至1.9mm的範圍內，或在0.8至1.6mm的範圍內。如圖9A~9I所示，柵格線802的厚度可以在0.01至2.3mm的範圍內，在0.05至1.1mm的範圍內，在0.1至0.8mm的範圍內，或者在0.2至0.6mm的範圍內。框架801和柵格線802的厚度在圖9I中示出，圖9I是具有框架801、柵格線802和孔803的電極800的放大圖。也可以設計電極，使得電極的導電材料從電極800的中心804開始變薄，如圖9C所示。在從中心804朝向框架801的方向上，相鄰柵格線802之間的變薄步長(thinning step)可以在0.1倍至10倍的範圍內，或者在0.2倍至5倍的範圍內，或者在0.5倍至2倍的範圍內，其中，框架801具有最細的導電材料線。
在第一方面，電極800(包括框架801和柵格線802)和所述電極800的框架801內的所有孔803的總面積可以在1至15cm2的範圍內或在2至8cm2的範圍內或在2.5至6cm2的範圍內或在3至5cm2的範圍內。
在第二方面，電極800(包括框架801和柵格線802)和所述電極800的框架801內的所有孔803的總面積可以在1至20cm2的範圍內，或在2至10cm2的範圍內，或在2.5至8cm2的範圍內，或在3.5至7cm2的範圍內。
在第三方面，電極800(包括框架801和柵格線802)和所述電極800的框架801內的所有孔803的總面積可以在1至10cm2的範圍內，或在2至6.5cm2的範圍內，或在2.3至6cm2的範圍內，或在2.5至5.5cm2的範圍內。
在第四方面，電極800(包括框架801和柵格線802)和所述電極800的框架801內的所有孔803的總面積可以在1至20cm2範圍內，或在2至15cm2範圍內，或在3至12cm2範圍內，或在4至10cm2範圍內。
電極800的導電材料(即框架801和柵格線802)的面積與電極800的框架801內的所有孔的總面積之比率可以在1%至50%的範圍內，或在2%至45%的範圍內，或在5%至40%的範圍內，或在8%至35%的範圍內，或在10%至33%的範圍內。此外，該比率可以在1%至20%的範圍內，或者在10%至40%的範圍內，或者在33%至67%的範圍內，或者在50%至70%的範圍內，或者在66%至100%的範圍內。
或者，電極800可以不框定，例如，其可以具有柵格形式，沒有由開口803形成的邊界，如圖9D所示。導電材料與電極的切口及/或孔的比率可以在1%至50%的範圍內，或者在2%至45%的範圍內，或者在5%至40%的範圍內，或者在8%至35%的範圍內，或者在10%至33%的範圍內。此外，導電材料與電極開口的比率可以在1%至20%的範圍內，或者在10%至40%的範圍內，或者在33%至67%的範圍內，或者在50%至70%的範圍內，或者在66%至100%
的範圍內。這種柵格電極可能非常有利。該電極可以更靈活，可以確保與患者更適當的接觸，並且可以具有比全面積電極更好的自冷卻特性。
參考圖9E，兩條最接近的平行柵格線第一柵格線802a和第二柵格線802b之間的距離可以由至少一個圓820表示，該圓820可假想地內接于孔及/或切口803中，並位於兩條最接近的平行柵格線第一柵格線802a和第二柵格線802b之間，至少有一個切點位於第一柵格線802a上，至少有一個切點位於第二柵格線802b上，因此其直徑等於兩條最接近的平行柵格線802a和802b之間的距離。至少一個假想圓820的直徑可以在0.001至10mm或0.005mm至9mm、或0.01mm至8mm、或0.05mm至7mm、或0.1mm至6mm、或0.2mm至5mm、或0.3mm至5mm、或0.5mm至5mm的範圍內。
參考圖9F，在一個方面，電極800可以具有由切口803分開的徑向導線808形式的多個突起，其中，多個徑向導線808從電極805的一點突出。多條徑向導線808在電極的點805附近合併，並且在電極805的點周圍共同產生全導電表面810。從點805突出的徑向導線808可以具有相同的長度，也可以具有不同的長度。此外，從點805突出的一些徑向導線808可以具有相同的長度，而一些可以具有不同的長度。
參考圖9G，在另一個方面，電極800可以具有限定形狀的基部806和由切口803分開的突起(徑向導線)808。基部806可以具有環形、半圓形、橢圓形、長方形、正方形、矩形、梯形或多
邊形的形狀。基部806可以連接到導電引線。
參考圖9H，在又一個方面，電極800可以具有基礎導線807和由切口803分開的多個突起(徑向導線)808。如圖9H所示，基礎導線807連接到所有徑向導線808。基礎導線也可以連接到導電引線。從基礎導線807引出的徑向導線808可以具有相同的長度及/或可以具有不同的長度。
兩個最接近的突起808之間的距離可以被圖示為至少一個圓(類似於圖9E中的圓820)，該圓可假想地內接于孔及/或切口803中，並位於兩個最接近的突起808之間，至少有一個切點位於第一突起上，至少有一個切點位於第二突起上，因此其直徑等於兩個最接近的突起之間的距離。至少一個圓的直徑可以在0.001至10mm或0.005mm至9mm、或0.01mm至8mm、或0.05mm至7mm、或0.1mm至6mm、或0.2mm至5mm、或0.3mm至5mm、或0.5mm至5mm的範圍內。
突起808或切口803可以具有對稱、不對稱、不規則及/或規則的形狀。各個徑向導線的尺寸、形狀及/或對稱性在電極上可以相同及/或不同。例如，每個突起808可以具有相同的形狀、相同的尺寸、相同的方向及/或對稱性。突起808的特徵在於突起的厚度和長度，其中，長度比厚度大2至100倍，或4至80倍，或5至70倍。突起的厚度可以在1μm至5mm的範圍內，或者在20μm至4mm的範圍內，或者在50μm至3mm的範圍內，或者在100μm至2.5mm的範圍內，或者在120μm至2mm的範圍內，或者在150μm
至1.5mm的範圍內，或者在200μm至1mm的範圍內。突起的長度可以在在0.05至50mm的範圍內，或者在0.1至30mm的範圍內，或者在0.5至20mm的範圍內。一個電極可以包括的突起的數量可以在1至1000，或者5至500，或者10至300，或者15至250，或者20至240的範圍內。
具有突起808的電極800的表面積可以在0.1至10cm2的範圍內或在0.3至9.5cm2的範圍內或在0.4至9cm2的範圍內或在0.5至8.5cm2的範圍內。
此外，圖9F~H中所示的所有可能的電極佈置可以由導電框架801框定，例如，如圖9A所示，其中，框架801也是電極的一部分。
不考慮平行切口，一個電極中的孔及/或切口的總數可以在5至250、10至200、15至170、20至150、300至1500、400至1400、500至1300或600至1200的範圍內。
在一個方面，在一個或多個主動元件具有柵格狀電極形式的情況下(圖9A~9D)，一個或多個柵格狀電極的能量密度可以被計算為主動元件的柵格線802及/或框架801的能通量，並且可以在0.001W/cm2至1500W/cm2或0.01W/cm2至1000W/cm2或0.5W/cm2至500W/cm2或0.5W/cm2至200W/cm2或0.5W/cm2至100W/cm2或1W/cm2至70W/cm2的範圍內。
在另一個方面，在一個或多個主動元件為具有開口及/或突起的電極形式的情況下(圖9F~9H)，一個或多個突起電極的能
量密度可以被計算為主動元件的基部806或基礎導線807和突起808的能通量，並且可以在0.001W/cm2至1500W/cm2或0.01W/cm2至1000W/cm2或0.5W/cm2至500W/cm2或0.5W/cm2至200W/cm2或0.5W/cm2至100W/cm2或1W/cm2至70W/cm2的範圍內。
如圖4A和4B所示，主動元件13(例如，電極)可以部分嵌入可撓性基板層42(可撓性基板42)或黏合層40內，或嵌入可撓性基板層42和黏合層40的界面內。主動元件13(例如，電極)可以由多個導電引線41a(圖4A)獨立供應和控制，或者可以經由單個導電引線41b(圖4B)導電互連和供應/控制。多個導電引線41a可以經由可撓性基板層42中的自由空間(例如，孔)連接到主動元件13(例如，電極)。自由空間(例如，孔)可以具有使得每個導電引線41a可以緊密配合到可撓性基板層42中的尺寸，例如，導電引線41a可以被可撓性基板層42封裝。此外，自由空間(例如，孔)本身可以被金屬化，並且用作相應的導電引線41a和主動元件13(例如，電極)之間的連接。如圖4A所示，主動元件13(例如，電極)也可以沉積在可撓性基板42的下側，並且可以在沒有耦接到可撓性基板層42的側面上被黏合層40覆蓋。
在另一個方面，可以將主動元件13(例如，電極)嵌入可撓性基板42中，使基板401的下側和主動元件413A~413D的下側在一個平面內，如圖4C所示。為了清楚起見，可撓性基板42在圖4C中用陰影表示。可撓性基板層42可以沒有用於導電引線41a的自
由空間，因為導電引線可以直接耦接到主動元件(例如，電極)的頂側，如圖4C中的主動元件413A和413B所示。或者，可撓性基板可以具有用於將導電引線41a耦接到主動元件(例如，電極)的自由空間(例如，孔或金屬化孔)，主動元件可以比基板薄，如圖4C中的主動元件413C和413D所示。
襯墊4中主動元件(例如，電極)的另一種可能佈置如圖4D所示。在第一方面，主動元件413E可以沉積在基板402的頂側上，使得主動元件413E的下側沉積在基板402的頂側上，在基板402的頂側上產生主動元件413E和可撓性基板層42的界面。在第二方面，主動元件413F可以從基板402的頂側嵌入可撓性基板層42中，使得主動元件(例如，電極)的頂側和基板402的頂側位於一個平面中。在這種情況下，主動元件413F的厚度小於可撓性基板層42的厚度。在第三方面，類似於主動元件413E，主動元件413G可以沉積在表面402的頂側，但是更為重要的是，主動元件413G從基板的頂側部分嵌入可撓性基板層42中。在所有這些情況下(主動元件413E~413G)，可撓性基板層42穿孔，允許黏合層40通過穿孔403與主動元件413E~413G耦接。
或者，主動元件(例如，電極)可以完全嵌入基板中，並從其頂側或下側突出。因此，主動元件(例如，電極)的厚度可以大於基板的厚度。
此外，上述襯墊4結構的組合也是可能的，例如，一個主動元件(例如，第一電極)沉積在襯墊4的下側，另一個主動元件
(例如，第二電極)嵌入襯墊4中。
在單個導電引線連接的情況下，主動元件13(例如，電極)可以部分嵌入可撓性基板42或黏合層40內部或可撓性基板層42和黏合層40的界面中，主動元件13(例如，電極)可以經由單個導電引線41b連接，該單個導電引線可以位於可撓性基板42中或可撓性基板42和黏合層40的界面處，如圖4B所示。單個導電引線41b可以在遠離患者的方向離開襯墊4的側面或頂側。在這兩種情況下，導電引線41a或41b都不與治療區域接觸。
此外，主動元件13(例如，電極)可以部分嵌入可撓性基板42內，並且黏合層40可以圍繞主動元件13，使得主動元件13的表面可以至少部分與治療區域的表面直接接觸。
此外，襯墊4的頂側可以由覆蓋層410保護，為了簡單起見，僅在圖4C中示出。
在一個方面，從頂部到底部的所有層可以被配置為如圖4E所示，其中，底部是指治療過程中面向患者的部分。層451是黏貼物450的頂部不黏接部分。層452是黏貼物的底部黏接部分(例如，醫用泡沫膠帶)，其將黏貼物450附接到襯墊420的(例如，基於PET的)基板421及/或將黏貼物450附接到患者。在基板421的底部，可以有導電引線422，其通過相同或不同介電特性的N個介電層423-1至423-N(其中，N是非負整數)與主動元件(例如，電極)424分開。主動元件424(例如，電極)可以通過介電層中的孔連接425與導電引線422連接，在圖4E中用陰影表示。主動元件424(例如，
電極)、導電引線422和孔連接425可以由相同的生物相容性材料印刷，例如，銀油墨、氯化銀油墨、石墨油墨或不同導電材料的油墨組合，或者可以由任何其他已知的導電材料沉積技術(例如，微影(lithography))製成。黏合層(例如，水凝膠)430可以沉積在主動元件424(例如，電極)的底部，並且可以被在將襯墊附接到患者之前移除的釋放器440覆蓋。
在其他方面，各層可能不同，可以在圖4E所示的襯墊420結構中移除或添加更多層。例如，如上所述，黏合層430(和釋放器440)可以不是襯墊420的一部分，而是在將襯墊420耦合到患者身上之前，黏合層430可以直接施加到患者皮膚上。在另一個方面，黏貼物450可以不呈現在襯墊420上。在另一個方面，基板421及/或介電層423-1~423-N可以不是襯墊420的一部分。此外，在一個方面，只有具有導電引線422的主動元件424可以是襯墊420的一部分。這些方面可以組合在一起。
襯墊4可以包括可撓性基板500(基板500)，其可以包括可以至少部分地相互獨立移動的中心部分501和一個或多個片段502，如圖5A所示。可撓性基板的厚度可以在1至500μm的範圍內，或者在1至350μm的範圍內，或者在1至200μm的範圍內，或者在5至100μm的範圍內，或者在10至75μm的範圍內，或者在15至65μm的範圍內。片段的中心部分可以包括熱感測器15。襯墊4上的片段的數量可以在1至100的範圍內，或者在1至80的範圍內，或者在1至60的範圍內，或者在2至20的範圍內，或者在3至10的範
圍內，或者在4至9的範圍內，其中，每個片段可以包括至少一個主動元件13(例如，電極)。相鄰片段可以至少部分地被槽503分開。
通常在單個非分段基板上製作傳統治療襯墊，在某些情況下，該基板包括可撓性金屬材料或聚合材料，其上沉積有一層金屬材料。
如圖5A所示，與常規使用的傳統襯墊相比，所提出的分段襯墊4更具可撓性，可以提供與患者更大的接觸量。襯墊4的基板500被分成中心部分501和多個連接的片段502。多個片段502可以至少部分地彼此獨立地移動。各個片段502可以通過例如一個或多個槽503或相鄰片段502之間的其他開放區域至少部分地彼此物理分離。多個片段502可以通過包括一個或多個導電引線506的中心部分501物理耦接在一起。在一個方面，中心部分501還可以包括一個或多個主動元件13(例如，電極)。在另一個方面，每個主動元件13(例如，電極)可以部分沉積在中心部分501中，部分沉積在相應的片段502中。在另一個方面，一些主動元件(例如，電極)可以沉積在中心部分上，一些主動元件(例如，電極)可以至少部分地沉積在片段上。
如圖5A所示，槽503可從靠近導電引線508並位於相鄰片段502之間的襯墊4的基板500的中心部分501延伸至基板500的邊緣。提供襯墊4的多個片段502以至少部分地彼此獨立移動可有助於襯墊4符合患者身體的曲線或輪廓。與襯墊4形成為單個非分段的基板相比，如圖5A所示的分段襯墊4可以提供襯墊4部分與患者身
體接觸的更大面積或總面積的更大百分比。此外，片段502可以包括圖5A所示的穿孔間隙503’，這也使襯墊4更好地符合患者身體的曲線或輪廓。
片段502及/或槽503的形狀和位置可以設置在與圖5A所示不同的配置中。例如，片段502可以包括圓形或方形端部，或者具有與圖示不同的尺寸比。槽503可以是彎曲的、正方形的、三角形的、橢圓形的、多邊形的，或者可以包括在一個片段502和中心部分501之間延伸的凹入部分。槽503也可以是上述形狀的組合，例如，三角形槽與彎曲端的組合，如圖5B所示，表示兩個相鄰片段502’和502”之間的一種可能的槽佈置的細節。槽可以很薄或很寬，其中，槽ts的寬度可以在一個示例中如下示出：首先，第一假想線520穿過槽的中心，第一假想線520為假想的曲線或直線，使得將槽分別分成兩個對稱部分503a和503b。然後，由第二假想線530給出寬度，第二假想線垂直於第一假想線520，並且將連接面向槽503的相鄰片段502a和502b的邊緣，並且其中，第二假想線530距離槽503c的起點至少1mm。如圖5B所示，槽503c的起點是槽503中最靠近襯墊4的基板500的中心部分501的點。第一假想線520在圖5B中由虛線表示，第二假想線530在圖5B中由虛線表示。槽的寬度wS可以在100μm至10mm的範圍內，或者在500μm至8mm的範圍內，或者在600μm至7mm的範圍內，或者在800μm至5mm的範圍內。
基板500的每個片段502可以在一部分或全部片段
502上包括主動元件13(例如，電極)。
中心部分501可以具有近端504和遠端505，其中，中心部分501的近端504可以穿過或可以連接至連接部份(connecting part)507。中心部分501在圖5A中虛線圓的區域中連接到連接部分507。連接部分507可以包括用於圖5A中的每個主動元件13(例如，電極)13a~13f的導電引線508或者包括在襯墊4中的熱感測器15，其中，連接部分507的所有導電引線508在襯墊4的中心部分501的近端504進入襯墊4。導電引線508主要由中心部分501引導，直到導電引線到達相應的片段及其主動元件或感測器，因此在中心部分501的遠端505可能沒有導電引線，如圖5A所示。導電引線506可以在基板500的頂側(例如，背離患者的一側)引導，並且可以被覆蓋層(例如，通過合成聚合物，例如，聚醯亞胺)覆蓋。在一個方面，襯墊4的下側(面向患者身體區域的一側)也可以至少部分地被覆蓋層覆蓋，主要是在襯墊4耦接到連接部分507(圖5A中的虛線圓)的區域，避開主動元件13；提高襯墊4的這一部分的機械強度以及其它利益。覆蓋層(例如，聚醯亞胺膜或泡沫)的厚度可以在5至50μm範圍內或在7至35μm範圍內或在10至30μm範圍內。在另一個方面，導電引線506可以在基板500的底側(例如，面向患者的一側)引出，並且可以被介電層覆蓋，以防止導電引線506與患者接觸(例如，聚醯亞胺膜或泡沫的覆蓋層)。
連接部分507可以是可撓性或部分彈性的。連接部分可以由可撓性PCB製成，覆蓋層作為隔離層位於連接部分507的頂
側及/或底側。
在一個方面，連接部分507可以印刷在基板上，基板由與襯墊的基板500相同的材料製成，可以印刷在基板500的下側(例如，通過金屬油墨)，並由覆蓋層覆蓋，因此不會與患者接觸。
連接部分可以在其末端具有連接器，該連接器可以是剛性的。連接器可以是USBA型、USBB型、USBC型、USBMicroB型、DC電源線、AC電源線、電腦電源線、火線、RJ11、光纖連接器、USB3.0、迷你顯示器、接腳連接器、SMA、DVI、BNC、IDE、PS/2、RCA、顯示器端口、PSU、SATA、mSATA、DB9、RJ45、RS232或本領域已知的任何其他連接器中的一種。接腳連接器的接腳數量可以在5到60的範圍內或在10到44的範圍內或15到36的範圍內或在20到34的範圍內。或者，可以在可撓性PCB上製造連接器，其下面連接有加強件，用於加強連接器以防止平面外變形。加強件可以由非導電材料製成，包括但不限於塑膠或玻璃纖維。加強件的厚度可以在0.1至5mm的範圍內，或者在0.5至2mm的範圍內，或者在1至1.5mm的範圍內。可撓性PCB連接器可以包括多個觸點，在5至60的範圍內或者在10至44的範圍內或者在15至36的範圍內或者在20至3的範圍內。
在一個方面，襯墊4、連接部分507和連接器均可以是塗藥器的一部分。
互連塊3或主單元2可以包括一個或多個插座，該插座被配置為經由與襯墊4所在的一側相對的側的連接器連接該連接部
分，其中，一個或多個插座被配置為連接任意襯墊及/或塗藥器。或者，互連塊或主單元可以包括多個插座，每個插座被配置為連接用於特定治療區域的一個特定襯墊及/或塗藥器。插座可以被配置為使得將自動確定當前連接的襯墊及/或塗藥器。可以從襯墊的記憶體中讀出關於連接的襯墊及/或塗藥器的信息。或者，記憶體可以是連接器的一部分。在連接之後，連接器可以與控制單元11(例如，CPU)鏈接。控制單元11(例如，CPU)可以在檢測到插座中的襯墊之後經由人機介面8向使用者提供一個或多個預定的治療方案。例如，如果僅連接了前額襯墊，則系統可以自動檢測該特定襯墊，並且僅建議對患者前額的治療，而不允許使用者設置對患者其他身體部位的治療。此外，連接器可以包括用於將連接器鎖定在插座中的切口、凹槽、槽、孔及/或凹口。插座還可以包括防止連接器在插座中意外連接的防護器。
在一個方面，連接器可以包括指示襯墊及/或塗藥器指定治療的身體部位的符號。
此外，可以在主單元2和連接部分之間使用輔助連接；或者在互連塊3和連接部分之間使用，以便延伸主單元3和襯墊4之間或者互連塊3和襯墊4之間的連接。
平均襯墊厚度可以在10μm至2000μm的範圍內，或在50μm至1000μm的範圍內，或在80μm至300μm的範圍內，或在100μm至200μm的範圍內。
以點陣排列配置的設備可以具有主動元件13(例如，
電極)，包括由限定尺寸的活性點形成的矩陣。這些點被允許更快組織癒合的非活性(因此未治療)區域分開。包含活性點的表面可以占整個主動元件面積(活性和非活性面積)的1至99%或2至90%或3至80%或4至75%。活性點可以在組織接觸側具有不穿透組織的鈍端，其中，表面接觸組織的表面積可以在500μm2至250000μm2的範圍內或在1000μm2至200000μm2的範圍內或在200μm2至180000μm2的範圍內或在5000μm2至160000μm2的範圍內。鈍端可以具有至少0.05mm的曲率半徑。一個活性點的接觸組織的表面的直徑可以在25μm至1500μm的範圍內，或者在50μm至1000μm的範圍內，或者在80μm至800μm的範圍內，或者在100μm至600μm的範圍內。
此外，該裝置可以採用安全系統，包括熱感測器和能夠根據測量值調節治療參數的電路。根據主動元件13(例如，電極)的數量和分佈，可以將一個或多個熱感測器整合到襯墊4上，以從不同點收集數據，從而確保加熱的均勻性。可以直接從治療區域或從主動元件13(例如，電極)收集數據。如果檢測到不均勻加熱或過熱，該裝置可以通知操作者，同時調整治療參數，以避免燒傷患者。可以調整一個或多個主動元件(例如，電極)的治療參數。主要治療參數是調節多個主動元件13(例如，電極)之間切換的功率、占空比和時間段。如果溫度上升到安全閾值以上，治療可以自動停止。
此外，可以結合阻抗測量，以監控適當的主動元件13(例如，電極)與皮膚的接觸。如果阻抗值在允許的限度之外，則
治療可以自動中止，並且可以通知操作者潛在的接觸問題。在這種情況下，主動元件(例如，電極)本身可以充當阻抗感測器。在治療之前、期間或之後，可以通過襯墊的一個或多個主動元件(例如，電極)來測量阻抗。
在一個方面，電壓脈衝及/或電流脈衝及/或相移的測量可用於監控電流治療的過程。作為一個非限制性示例，電流脈衝可以具有矩形形狀，並且對應的測量電壓脈衝可以具有取決於通過患者的電流量的形狀。因此，可以基於電壓脈衝的測量來確定主動元件13(例如，電極)與患者的正確接觸。
控制單元11(例如，CPU)可以包含到襯墊4本身，或者可以形成與襯墊4導電連接的獨立部件。除了控制機構之外，控制單元11(例如，CPU)還可以包含主要指示器(例如，正在進行的治療、實際溫度和與皮膚接觸的活性元件)。
圖6示出了接觸式治療裝置的一些輸送方法。
可以在單個襯墊4內的多個主動元件13(例如，電極)之間切換，以使多個主動元件13同時、接續或以重疊方法或其任意組合方式輸送能量。例如，在兩個主動元件的情況下：在同時方法中，在時間間隔例如1至20s期間同時使用這兩個主動元件(例如，電極)。在接續方法中，在第一時間間隔例如1s至10s期間使用第一主動元件(例如，第一電極)。然後，停止第一主動元件，並且在隨後的時間間隔中，例如，從10s到20s，立即使用第二主動元件(例如，第二電極)。可以重複該接續步驟。在重疊方法中，在例如1至
10s的時間間隔期間使用第一主動元件(例如，第一電極)，並且在例如1至10s的第二重疊時間間隔期間使用第二主動元件(例如，第二電極)，其中，在第二時間間隔期間，第一主動元件和第二主動元件重疊，例如，總重疊方法時間為0.1至9.9s。主動元件13(例如，電極)可以按照操作者經由人機介面8設定的預定切換順序或隨機依次輸送能量。圖6中的模式I表示由位於襯墊4內的不相鄰的主動元件13(例如，電極)形成的對/組之間的切換。每對/每組主動元件13(例如，電極)在預定的時間段內輸送能量(圖6中的深灰色元件，在模式I的主動元件E1和E3中)，而剩餘的主動元件13對/組(例如，電極)在能量輸送方面保持不活動(圖6中的淺灰色元件，在模式I的主動元件E2和E4中)。在預定的時間段之後，能量由另一對/組的主動元件13(例如，電極)輸送，並且初始的主動元件(例如，電極)變得不活動。這由圖6中的箭頭表示。成對/成組的主動元件13(例如，電極)之間的切換可以持續，直到在整個治療區域達到目標溫度或者所有主動元件13(例如，電極)輸送預定能量。圖6中的模式II表示襯墊4內的所有主動元件13(例如，電極)在主動元件(例如，電極)輸送能量時的開狀態和主動元件不輸送能量時的關狀態之間的切換。開和關狀態的持續時間可以根據預定義的設置及/或由感測器(例如，熱感測器)提供的信息而變化。圖6中的模式III示出了襯墊4內的各個主動元件13(例如，電極)的依次切換。每個主動元件13(例如，電極)在預定時間段內輸送能量，直到在整個治療區域達到目標溫度，或者所有主動元件13(例如，電極)輸送預定能量。這種依次切換可
以順時針或逆時針順序執行。圖6中的模式IV表示之字形切換順序，在此期間，優選地，不相鄰的主動元件13(例如，電極)依次輸送能量，直到襯墊4內的所有主動元件13(例如，電極)都已經打開。每個主動元件13(例如，電極)在預定時間段內輸送能量，直到在整個治療區域達到目標溫度，或者所有主動元件(例如，電極)輸送預定能量。
控制單元(例如，CPU)可以被配置為控制刺激裝置，並通過至少一種改善視覺外觀的治療方案提供治療。治療方案是初級電磁能和次級能量的一組參數，確保期望的治療效果。每個襯墊可以由控制單元(例如，CPU)控制，以提供相同或可替代地不同的方案。成對區域或需要對稱效果的區域可以通過相同的治療方案進行治療。每個方案可以包括一個或幾個部分或步驟。
作為一個非限制性示例：在如圖6中的模式III和IV所示通過主動元件(例如，電極)逐一施加射頻能量的情況下，一個主動元件(例如，電極)將射頻能量輸送到患者組織的時間可以在1ms到10s的範圍內，或者在10ms到5s的範圍內，或者在50ms到2s的範圍內，或者在100ms到1500ms的範圍內。兩個連續的元件可以以接續或重疊的方法打開和關閉。此外，由兩個連續的主動元件(例如，電極)進行的射頻能量的輸送可以被無射頻刺激或低射頻刺激的時間分開，使得兩個連續的主動元件(例如，電極)中沒有一個提供導致治療組織加熱的射頻能量。無射頻刺激或低射頻刺激的時間可以在1μs至1000ms的範圍內，或在500μs至500ms的範圍內，或在
1ms至300ms的範圍內，或在10ms至250ms的範圍內。
在使用一個以上襯墊進行治療的情況下，提供射頻治療的主動元件(例如，電極)的順序切換可以在每個襯墊內獨立於其他襯墊而提供，或者主動元件(例如，電極)可以通過所有襯墊依次輸送能量。
以三個獨立襯墊為例，每個襯墊具有兩個主動元件(例如，電極)：
第一步：射頻能量可以由第一襯墊中的主動元件E1提供，其中，關閉其它主動元件。
第二步：打開第一襯墊的主動元件E2，關閉其餘的主動元件。
第三步：打開第二襯墊的主動元件E1，關閉其餘的主動元件。
第四步：打開第二襯墊的主動元件E2，關閉其餘的主動元件。
第五步：打開第三襯墊的主動元件E1，關閉其餘的主動元件。
第六步：打開第三襯墊的主動元件E2，關閉其餘的主動元件。
另一個非限制性示例可以是：
第一步：射頻能量可以由第一襯墊中的主動元件E1提供，其中，關閉其它主動元件。
第二步：打開第二襯墊的主動元件E1，關閉其餘的主動元件。
第三步：打開第三襯墊的主動元件E1，關閉其餘的主動元件。
第四步：打開第一襯墊的主動元件E2，關閉其餘的主動元件。
第五步：打開第二襯墊的主動元件E2，關閉其餘的主動元件。
第六步：打開第三襯墊的主動元件E1，關閉其餘的主動元件。
在襯墊治療成對區域(例如，臉頰、大腿或臀部)時，如果需要對稱效果，成對襯墊可同時由相同方案(protocol)驅動。
一個襯墊輸送射頻能量用於加熱患者和電流引起肌肉收縮的治療方案示例如下。該方案可以包括第一部分，其中，可以治療一個襯墊中的電極，使得電極提供在遞增振幅調變(遞增包絡)之後是恆定振幅(矩形包絡)之後是遞減振幅調變(遞減包絡)的包絡中調變的電流脈衝，所有這三個包絡可以一起產生梯形振幅調變(梯形包絡)。梯形包絡可以持續1到10秒或1.5到7秒或2到5秒。遞增、矩形或遞減包絡可以持續0.1至5秒或0.1至4秒或0.1至3秒。遞增和遞減包絡可以持續相同的時間，從而產生對稱的梯形包絡。或者，電流可以被調變成正弦包絡或矩形包絡或三角形包絡。引起肌肉收縮的各個包絡可以通過無電流刺激或低電流刺激的時間來分開，從而不實現肌肉收縮，或者通過引起組織加熱的射頻能量來分開。在這段沒有肌肉收縮的時間內，可以提供通過吸入口的壓力按摩，這可以引起肌肉鬆弛。可以對第一部分進行預編程，使得襯墊的不同位置上的電極可以及時切換，以提供交流脈衝，其中，襯墊中的一些其他電極可以不提供任何交流脈衝，而僅提供引起組織加熱的RF脈衝。襯墊中的所有電極可以確保在方案部分或方案期間提供(由控制單元11控制的開關電路14切換，以提供)用於加熱組織的RF脈衝，而在方案部分或方案期間，只有有限數量的電極可以提供(由開關電路14切換，以提供)用於肌肉收縮的交流電。該裝置可以被配置為使得第一部分持續1至5分鐘。
第二部分可以在第一部分之後。可以對第二部分進行預編程，使得在襯墊的不同位置上與第一部分中使用的電極不同的電極可以及時切換，以提供交流脈衝，其中，襯墊中的一些其他電極(與第一部分中使用的電極相同或不同的電極)可以不提供任何交流脈衝，而僅提供引起組織加熱的RF脈衝。
第三部分可以在第二部分之後。可以對第三部分進行預編程，使得在襯墊的不同位置上與第二部分中使用的電極不同的電極可以及時切換，以提供交流脈衝，其中，襯墊中的一些其他電極(與第二部分中使用的電極相同或不同的電極)可以不提供任何交流脈衝，而僅提供引起組織加熱的RF脈衝。
三個獨立襯墊的治療方案示例如下，例如，一個襯墊用於治療前額(前額襯墊)，兩個襯墊用於治療左臉頰和右臉頰(左臉頰襯墊和右臉頰襯墊)，輸送用於加熱患者的射頻能量和引起肌肉收縮的電流：第一襯墊(例如，用於治療前額的襯墊)可以具有六個主動元件，例如，電極E1~E6；第二襯墊(例如，用於治療左臉頰的襯墊)可以包括七個主動元件，例如，電極E7~E13；並且第三襯墊(例如，用於治療右臉頰的襯墊)可以包括七個主動元件，例如，電極E14~E20。一些電極可以被配置為提供射頻能量，一些電極可以被配置為提供射頻能量和電流。
射頻能量可以是單極射頻能量，其頻率在100kHz至550MHz的範圍內，或在250kHz至500MHz的範圍內，或在350kHz至100MHz的範圍內，或在350kHz至14MHz的範圍內。射
頻能量可以用矩形包絡輸送，該矩形包絡可以持續200至3000ms或250至2000ms或300至1800ms或350至1500ms。或者，射頻包絡(以下稱為RF包絡)可以被調變成正弦包絡或三角形包絡或梯形包絡。
電流可以是雙極(雙相)矩形AC TENS電流，其頻率在10Hz至10kHz的範圍內，或在25Hz至1kHz的範圍內，或在50Hz至500Hz的範圍內，或在100Hz至300Hz的範圍內，其被調變成梯形包絡，可以持續1至10秒或1.5至7秒或2至5秒。梯形包絡的遞增、矩形或遞減包絡可以持續0.1至5秒或0.1至4秒或0.1至3秒。遞增和遞減包絡可以具有相同的持續時間，從而產生對稱的梯形包絡(對稱梯形包絡)。或者，電流包絡(以下稱為EC包絡)可以被調變成正弦包絡或矩形包絡或三角形包絡。
該方案可以具有包括部分的循環。一個循環中的方案部分的數量可以與用於治療的所有襯墊中所用電極的總數相同，也可以不同。每個襯墊的部分數量可以在1至100、1至80、1至60、2至20、3至10或4至9的範圍內。每個循環的部分數量可以在1至100、1至80、1至60、2至40、3至35或4至30的範圍內。每個方案部分可以在前一個方案部分之後，例如，第二部分在第一部分之後。每個方案部分可以持續200至3000ms，或250至2000ms，或300至1800ms，或350至1500ms。該循環可以每次治療重複30至300次，或50至250次，或80至220次，或100至200次。或者，該循環可以每次治療重複150至600次，或190至550次，或200至520次，
或210至500次。在一個方面，治療方案可以重複相同的循環。在另一個方面，治療方案可以重複不同的循環，其中，循環可以在部分的數量、及/或部分的持續時間、及/或活化及/或去活化電極的順序、及/或為RF及/或EC包絡設置的參數(例如，包絡的形狀、振幅、頻率、持續時間等)、及/或為射頻設置的參數及/或電流參數方面不同。
包括20個部分的循環示例如下：
在第一部分中，電極E2輸送RF包絡。
在第二部分中，電極E7輸送RF包絡。
在第三部分中，電極E14輸送RF包絡。
在第四部分中，電極E5輸送RF包絡。
在第五部分中，電極E8輸送RF包絡。
在整個第一至第五部分中，電極對電極E1~電極E4、電極E3~電極E6、電極E9~電極E10、電極E11~電極E12、電極E16~電極E17和電極對電極E18~電極E19輸送EC包絡，導致第一、第二和第三襯墊下的肌肉收縮，例如，在前額襯墊、左頰襯墊和右頰襯墊下的肌肉收縮。
在第六部分中，電極E15輸送RF包絡。
在第七部分中，電極E13輸送RF包絡。
在第八部分中，電極E20輸送RF包絡。
在第九部分中，電極E1輸送RF包絡。
在第十部分中，電極E3輸送RF包絡。
在整個第六至第十部分中，電極對電極E9~電極E10、電極E11~電極E12、電極E16~電極E17和電極對電極E18~電極E19輸送EC包絡，導致第二和第三襯墊下的肌肉收縮，例如，左頰襯墊和右頰襯墊下的肌肉收縮。
在第十一部分中，電極E6輸送RF包絡。
在第十二部分中，電極E4輸送RF包絡。
在第十三部分中，電極E9輸送RF包絡。
在第十四部分中，電極E16輸送RF包絡。
在第十五部分中，電極E12輸送RF包絡。
在整個第11至第15部分中，沒有電極對輸送EC包絡，引起肌肉鬆弛。
在第十六部分中，電極E19輸送RF包絡。
在第十七部分中，電極E10輸送RF包絡。
在第十八部分中，電極E17輸送RF包絡。
在第十九部分中，電極E11輸送RF包絡。
在第二十部分中，電極E18輸送RF包絡。
在整個第十六至第二十部分中，電極對電極E1~電極E4和電極E3~電極E6輸送EC包絡，導致第一襯墊下的肌肉收縮，例如，前額襯墊下的肌肉收縮。
由控制單元11控制的三個獨立襯墊4的治療方案的另一個示例如下，例如，一個襯墊用於治療前額(前額襯墊)和兩個襯墊用於治療左臉頰和右臉頰(左臉頰襯墊和右臉頰襯墊)，輸送射頻
能量用於加熱患者和引起肌肉收縮的電流：第一襯墊(例如，用於治療前額的襯墊)可以具有六個主動元件，例如，電極E1~E6；第二襯墊(例如，用於治療左臉頰)可以包括六個主動元件，例如，電極E7~E12；並且第三襯墊(例如，用於治療右臉頰)可以包括六個主動元件，例如，電極E13~E18。一些主動元件可以被配置為提供電磁能(例如，射頻能量)或次級能量(例如，電流)，並且一些主動元件可以被配置為提供電磁能和次級能量。或者，每個主動元件可以是一個襯墊4的一部分(因此使用十八個襯墊而不是三個)，或者可以僅使用附接到治療區域的主動元件(例如，沒有襯墊的基板的電極)。每個方案部分可以持續200至3000ms或250至2000ms或300至1800ms或350至1500ms。每個治療/治療方案的循環可重複30至300次，或50至250次，或80至220次，或100至200次。或者，該循環可以每次治療重複150至600次，或190至550次，或200至520次，或210至500次。在一個方面，治療方案可以重複相同的循環。在另一個方面，治療方案可以重複不同的循環，其中，循環可以在部分的數量、及/或部分的持續時間、及/或活化及/或去活化主動元件的順序、及/或為電磁能及/或次級能量設置的參數(例如，包絡的形狀、振幅、頻率、持續時間等)方面不同。
由控制單元11執行的示例性治療方案的循環可以包括以下列表中的一個或多個部分：
在一個部分中，電極E10輸送RF包絡。
在另一部分中，電極E18輸送RF包絡。
在另一部分中，電極E11輸送RF包絡。
在另一部分中，電極E15輸送RF包絡。
在另一部分中，電極E12輸送RF包絡。
在另一部分中，電極E1輸送RF包絡。
在另一部分中，電極E14輸送RF包絡。
在另一部分中，電極E7輸送RF包絡。
在另一部分中，電極E13輸送RF包絡。
在另一部分中，電極E8輸送RF包絡。
在另一部分中，電極E4輸送RF包絡。
在另一部分中，電極E3輸送RF包絡。
在另一部分中，沒有電極輸送RF包絡。
在另一部分中，電極E6輸送RF包絡。
在另一部分中，電極E5輸送RF包絡。
在另一部分中，電極E16輸送RF包絡。
在另一部分中，電極E9輸送RF包絡。
在另一部分中，電極E17輸送RF包絡。
在另一部分中，電極E2輸送RF包絡。
該部分可按特定順序一個接一個排列，其中，每個部分可以在循環中包含一次或多次。在一個方面，一些部分可能不包括在循環中(例如，當沒有電極輸送RF包絡時的部分)。每個方案部分可以持續200至3000ms或250至2000ms或300至1800ms或350至1500ms，並且循環的一些部分可以持續時間t1，一些部分可以持續時間t2，其中，時間t2高於時間t1。此外，一些部分可能持續
時間t3，時間t3高於時間t1和時間t2。例如，可以排列這些部分，使得前一電極之後的電極來自與前一電極不同的襯墊。
該循環還可以包括通過第一襯墊的電極對(例如，電極E3~電極E5和電極E4~電極E6)輸送電流(例如，一個或多個EC包絡)，持續一行中的一個或多個部分的持續時間，例如，一行中的一至七個部分、二至六個部分、三至五個部分或四至五個部分，引起第一襯墊下的肌肉收縮，例如，前額襯墊下的肌肉收縮。因此，電流可以由第一襯墊的電極對(例如，電極E3~電極E5和電極E4~電極E6)輸送，持續時間為200ms至21s、250ms至12s、900ms至9s、1.4s至7.5s。
該循環還可以包括通過第一、第二和第三襯墊的電極對(例如，電極E3~電極E5、電極E4~E6、電極E9~E11、電極E10~E12、電極E15~E17和電極E16~E18)輸送電流(例如，一個或多個EC包絡)，持續一行中的一個或多個部分的持續時間，例如，一行中的一至七個部分、二至六個部分、三至五個部分或四至五個部分，引起第一、第二和第三襯墊下的肌肉收縮，例如，前額襯墊和左右頰襯墊下的肌肉收縮。因此，電流可以由第一、第二和第三襯墊的電極對(例如，電極E3~電極E5、電極E4~電極E6、電極E9~電極E11、電極E10~電極E12、電極E15~電極E17和電極E16~電極E18)輸送，持續時間為200ms至21s、250ms至12s、900ms至9s、1.4s至7.5s。
該循環還可以包括通過第二和第三襯墊的電極對(例如，電極E9~電極E11、電極E10~電極E12、電極E15~電極E17和
電極E16~電極E18)輸送電流(例如，一個或多個EC包絡)，持續一行中的一個或多個部分的持續時間，例如，一行中的一至七個部分、二至六個部分、三至五個部分或四至五個部分，引起第二和第三襯墊下的肌肉收縮，例如，左頰和右頰襯墊下的肌肉收縮。因此，電流可以由第二和第三襯墊的電極對(例如，電極E9~電極E11、電極E10~電極E12、電極E15~電極E17和電極E16~電極E18)輸送，持續時間為200ms至21s、250ms至12s、900ms至9s、1.4s至7.5s。
在循環的一些部分中，沒有電極對輸送EC包絡，引起肌肉鬆弛。
可以對治療方案進行預編程，使得治療期間使用的每個電極可以在每個循環輸送一次RF包絡，一些電極對(例如，電極E1~電極E4)可以在每個循環輸送兩次EC包絡。或者，每個電極可以每個循環輸送RF包絡2至10次，或2至8次，或2至5次；並且一些電極對可以每個循環輸送EC包絡1至10次，或1至8次，或1至5次。
在一個方面，可以對治療方案進行預編程，使得每個部分僅一個電極輸送RF包絡。在另一個方面，2至20個、或2至15個、或2至10個、或2至5個、或2至3個電極在每個部分中同時輸送RF包絡，其中，RF包絡可以相同或不同，並且其中，輸送RF包絡的電極可以來自不同的襯墊。在另一個方面，在至少一個部分期間可以不輸送RF包絡。
可以對治療方案進行預編程，使得在單次治療期間，每個電極輸送RF包絡25至300次，或50至250次，或80至200次，或100至180次，在每次輸送RF包絡之間有RF暫停時間。RF暫停時
間(在兩次連續輸送RF包絡之間，電極未向患者提供射頻能量的時間)可能在0.5至20s、1至15s、1.5至12s或2至10s的範圍內。
在一個方面，射頻能量可以由控制單元(例如，CPU)控制，以便在每個電極上提供恆定的加熱射頻功率(constant heating radiofrequency power,CHRP)，這意味著每個電極為患者提供均勻加熱。可以基於電極的尺寸及/或其在襯墊中的位置及/或其在患者身體區域上的位置，在治療方案中為每個特定襯墊中的每個特定電極預編程CHRP設置。在另一個方面，射頻功率可以由控制單元基於來自至少一個熱感測器的反饋來控制，該熱感測器測量被治療的身體區域的溫度及/或提供射頻能量的電極的溫度，使得當達到期望的溫度時，控制電極，以將溫度保持在該期望的水平。電極下身體區域的典型治療溫度在37.5℃至55℃的範圍內，或者在38℃至53℃的範圍內，或者在39℃至52℃的範圍內，或者在40℃至50℃的範圍內，或者在41℃至45℃的範圍內。
可以對治療方案進行預編程，使得在單次治療期間，通過至少一對電極輸送25至1000次、或50至900次、或100至750次、或120至600次、或150至500次EC包絡，每次輸送EC包絡之間有EC暫停時間。EC暫停時間(電極對在兩次連續輸送EC包絡之間不向患者提供電流的時間)可以在0.5至20s、1至15s、1.5至12s或2至10s的範圍內。或者，電極對可以一個接一個地輸送EC包絡，而沒有EC暫停時間。
可以對治療方案進行預編程，使得在至少一個部分期間，主動元件13(例如，電極)提供1至900個電脈衝、2至700個電
脈衝、10至500個電脈衝、25至400個電脈衝、50至375個電脈衝或100至200個電脈衝。
在另一個方面，在整個治療過程中，可以通過所有電極持續輸送射頻能量，僅可依次輸送EC包絡。
由控制單元11為三個襯墊4執行的提供肌肉收縮的治療方案循環的另一個非限制性示例如下：
該循環可以包括通過第一襯墊的電極對(例如，電極E3~電極E5和電極E4~電極E6)輸送電流(例如，一個或多個EC包絡)，持續一行中的一個或多個部分的持續時間，例如，一行中的一至七個部分、二至六個部分、三至五個部分或四至五個部分，引起第一襯墊下的肌肉收縮，例如，前額襯墊下的肌肉收縮。因此，電流可以由第一襯墊的電極對(例如，電極E3~電極E5和電極E4~電極E6)輸送，持續時間為200ms至21s、250ms至12s、900ms至9s、1.4s至7.5s。
該循環還可以包括通過第一、第二和第三襯墊的電極對(例如，電極E3~電極E5、電極E4~電極E6、電極E9~電極E11、電極E10~電極E12、電極E15~電極E17和電極E16~電極E18)輸送電流(例如，一個或多個EC包絡)，持續一行中的一個或多個部分的持續時間，例如，一行中的一至七個部分、二至六個部分、三至五個部分或四至五個部分，引起第一、第二和第三個襯墊下的肌肉收縮，例如，前額襯墊以及左右頰襯墊下的肌肉收縮。因此，電流可以由第一、第二和第三襯墊的電極對(例如，電極E3~電極E5、電極E4~電極E6、電極E9~電極E11、電極E10~電極E12、電極E15~
電極E17和電極E16~電極E18)輸送，持續時間為200ms至21s、250ms至12s、900ms至9s、1.4s至7.5s。
該循環還可以包括通過第二和第三襯墊的電極對(例如，電極E9~電極E11、電極E10~電極E12、電極E15~電極E17和電極E16~電極E18)輸送電流(例如，一個或多個EC包絡)，持續一行中的一個或多個部分的持續時間，例如，一行中的一至七個部分、二至六個部分、三至五個部分或四至五個部分，引起第二和第三襯墊下的肌肉收縮，例如，左頰和右頰襯墊下的肌肉收縮。因此，電流可以由第二和第三襯墊的電極對(例如，電極E9~電極E11、電極E10~電極E12、電極E15~電極E17和電極E16~電極E18)輸送，持續時間200ms至21s、250ms至12s、900ms至9s、1.4s至7.5s。
在循環的一些部分中，沒有電極對輸送EC包絡，引起肌肉鬆弛。
在一個方面，可以對治療方案進行預編程，使得治療過程中使用的每個主動元件13(例如，電極、線圈、加熱元件、流體導管)可以在每個循環提供一次加熱，一些主動元件13(例如，電極、線圈)可以在每個循環提供一次或多次肌肉收縮。或者，每個主動元件13可以每個循環提供2至10次、2至8次或2至5次加熱，並且一些主動元件13可以每個循環提供1至10次、1至8次或1至5次肌肉收縮。
在一個方面，可以對治療方案進行預編程，使得每個部分僅有一個主動元件13提供加熱(例如，通過射頻能量)。在另一個方面，2至20個、或2至15個、或2至10個、或2至5個、或2至3
個主動元件13同時在每個部分中提供加熱，其中，加熱溫度可以相同或不同。在另一個方面，在至少一個部分期間可以不提供加熱。每個方案部分可以持續200至3000ms或250至2000ms或300至1800ms或350至1500ms，並且循環的一些部分可以持續時間t1，一些部分可以持續時間t2，其中，時間t2高於時間t1。此外，一些部分可以持續時間t3，時間t3高於時間t1和時間t2。
在一個方面，可以對治療方案進行預編程，使得在單次治療期間，由一個或多個主動元件13提供25至300次、或50至250次、或80至200次、或100至180次加熱(例如，通過射頻能量)，每次加熱之間有停頓時間。加熱暫停時間(沒有主動元件13在兩次連續加熱之間為患者提供加熱的時間)可以在20ms至10s、或50ms至5s、或100ms至2s、或250ms至1s的範圍內。
在一個方面，主動元件13可以由控制單元(例如，CPU)控制，以將溫度保持在期望水平。主動元件13下面的身體區域的典型治療溫度在37.5℃到55℃的範圍內，或者在38℃到53℃的範圍內，或者在39℃到52℃的範圍內，或者在40℃到50℃的範圍內，或者在41℃到45℃的範圍內。
可以對治療方案進行預編程，使得在單次治療期間，通過至少一個主動元件13(例如，通過提供電流)或至少一對主動元件13提供25至1000次、或50至900次、或100至750次、或120至600次、或150至500次肌肉收縮，每次肌肉收縮之間具有收縮暫停時間。一次收縮可以持續的持續時間在0.1至15秒的範圍內或在0.5至12秒的範圍內或在1至10秒或2至8秒的範圍內。收縮暫停時間(至
少一個主動元件13或至少一對主動元件13在兩次連續收縮之間不提供肌肉收縮的時間)可以在0.5至20s、或1至15s、或1.5至12s、或2至10s的範圍內。或者，至少一個主動元件13或至少一對主動元件13可以一個接一個地提供收縮，而沒有收縮暫停時間。
可以對治療方案進行預編程，使得在至少一個部分期間，主動元件13(例如，電極或線圈)提供1至900個次級能量脈衝或2至700個次級能量脈衝或10至500個次級能量脈衝或25至400個次級能量脈衝或50至375個次級能量脈衝或100至200個次級能量脈衝。此外，可以對治療方案進行預編程，使得在治療期間，主動元件13(例如，電極或線圈)提供次級能量包絡25至1000次，或50至900次，或100至750次，或120至600次，或150至500次。
在另一個方面，在整個治療過程中，可以通過所有主動元件13持續提供加熱，僅可依次提供收縮，例如，每次肌肉收縮之間具有收縮暫停時間。
在另一個方面，在不向組織提供能量/信號時，治療或循環可以包括至少一個部分。
在一個方面，襯墊可以包括提供一種以上能量的一個或多個主動元件13(例如，電極或線圈)，或者襯墊可以包括提供一種以上能量的更多不同主動元件13(例如，電極和線圈)，例如，射頻能量、電流和磁場或者射頻能量、電流和超音波。或者，襯墊可以被配置為產生多於兩種治療，例如，皮膚加熱(例如，通過射頻能量)、肌肉收縮(例如，通過電流)和組織按摩/放鬆(例如，通過壓力脈衝)。
單次治療可以基於治療期間使用的襯墊的數量持續1至60分鐘，或5至45分鐘，或10至30分鐘，或15至25分鐘，或18至23分鐘。在單次治療中使用的襯墊的數量可以是1、2、3、4、5、6、7、8、9、10或高達100個。可以對該方案進行預編程，使得提供引起肌肉收縮的電流的電極在最多產生一次、兩次、三次、四次或五次收縮後切換，以提供射頻加熱。
在治療方案中，通過控制單元(CPU)組合各個部分，以通過單個襯墊每次治療提供至少60至900次收縮或90至800次收縮或150至700次收縮。
此外，向患者提供電流的各個電極對由控制單元(CPU)控制，以在每次治療提供至少50至1000次收縮或60至900次收縮或90至800次收縮或100至450次收縮。
前額襯墊可以包括電極佈局，使得解剖區域R1和解剖區域R2受到交流電刺激，從而引起肌肉收縮，而解剖區域R3不受交流電刺激，從而引起肌肉收縮，如圖10所示。控制單元(CPU)被配置為提供治療方案，該治療方案通過交變電流僅激勵位於解剖區域R1和R2附近或上方的那些電極；並且僅通過射頻能量激勵解剖區域R3附近或上方的一個/多個電極，如圖10所示。解剖區域R1和R2可以包括額肌，解剖區域R3可以包括降眉間肌的中心。前額襯墊也可以用射頻能量治療皺眉肌或眼輪匝肌。
用於治療臉頰(眼睛下方面部的任一側)的襯墊可以包括電極佈局，使得包括頰肌、嚼肌、顴肌或笑肌的解剖區域受到電流刺激，從而引起肌肉收縮，其中，其他解剖區域僅可以通過射
頻能量加熱。頰襯墊也可用於收縮上唇肌。
相反，襯墊可以被配置為使得靠近眼睛(例如，包含眼輪匝肌的身體部位)或牙齒(例如，包含口輪匝肌的身體部位)的電極佈局不會提供引起肌肉收縮的能量。
用於頦下區或亞頦區治療的襯墊可以包括電極佈局，使得包括下頜舌骨肌或二腹肌的解剖區域受到電流刺激，從而引起肌肉收縮，其中，其他解剖區域僅可以通過射頻能量加熱。在一個方面，頦下襯墊(用於治療頦下的襯墊)可以不向喉結提供電流，但是可以用射頻能量向喉結提供加熱。
治療裝置可以被配置為使得在每個部分或步驟中，阻抗感測器向控制單元(例如，CPU)提供有關襯墊或主動元件(例如，電極)與患者接觸的信息。阻抗可以由主動元件(例如，電極)本身來測量。控制單元(例如，CPU)可以基於預設條件來確定襯墊或主動元件(例如，電極)與患者的接觸是否充分。在充分接觸的情況下，控制單元(例如，CPU)可以允許治療方案繼續。在接觸不適當的情況下，關閉有價值的襯墊或主動元件(例如，電極)，並且治療方案繼續到連續的襯墊或主動元件(例如，電極)，或者治療終止。可以在人機介面8上顯示襯墊或主動元件(例如，電極)的正確接觸的確定。
可以在部分/步驟開始時、部分/步驟期間或部分/步驟結束時進行阻抗測量。阻抗測量及/或適當的接觸評估可以僅在給定部分/步驟的主動電極上確定，或者可以在該部分/步驟期間使用的所有襯墊的所有電極上進行。
在一個方面，在向患者提供治療的同時，可以通過所有主動元件(例如，電極)監測阻抗。該裝置在治療能量(例如，射頻或電流)被輸送給患者的同時，監測主動元件(例如，電極)和患者皮膚之間的阻抗，分析在兩個或多個不同時刻監測到的阻抗，以便確定電極-皮膚接觸面積大小的變化，並且如果監測到的阻抗變化達到預定閾值，則改變輸送給患者的刺激或終止治療。給定時間的阻抗值的變化可以通過該時間的阻抗值和基線阻抗之間的阻抗比來量化，基線阻抗是來自給定主動元件(例如，電極)的阻抗測量歷史的第一阻抗值。
該裝置還可以包括計費系統。計費系統可以基於讀取器和記錄了治療次數的信息介質(例如，卡)。信息介質(例如，卡)可以放入讀取器中，或者可以以非接觸原理工作，然後基於治療期間使用的襯墊的量減去記錄的治療次數的量。新的信息介質(例如，卡)可以包含的記錄的治療次數在1到100的範圍內或者在2到80的範圍內或者在5到50的範圍內或者在10到40的範圍內。當信息介質(例如，卡)不再有記錄的治療次數時，使用者可以訂購新的信息介質(例如，卡)。如果襯墊或塗藥器是一次性的，則信息介質可以是新的襯墊或塗藥器訂單的一部分，並且記錄的治療次數的數量可以等於訂購的襯墊或塗藥器的數量。例如，如果裝置的使用者訂購30個一次性襯墊，則信息介質(例如，也是訂單的一部分的卡)上記錄的治療量也是30。讀取器可以是主單元2、互連塊3或塗藥器的一部分。
圖7和圖8一起討論。圖7示出了用於非接觸式治療的裝置100的方塊圖。圖8是用於非接觸式治療的裝置100的圖示。用於非接觸式治療的裝置100可以包括兩個主要模組：經由固定的或可調的臂21互連的主單元2和輸送頭19。
主單元2可以包括初級電磁產生器6，該初級電磁產生器可以生成一種或多種形式的電磁輻射，其中，電磁輻射可以具有例如非相干光形式或預定波長的相干光(例如，雷射)形式。電磁場可以主要由雷射器、雷射二極體模組、LED、閃光燈或白熾燈泡生成。電磁輻射可以促使可以至少部分地在患者皮膚表面下吸收電磁輻射。施加的輻射的波長可以在100至15000nm的範圍內，或者在200至12000nm的範圍內，或者在300至11000nm的範圍內，或者在400至10600nm的範圍內，或者可以具有上述波長範圍的第二、第三、第四、第五、第六、第七或第八諧波波長的形式。主單元2還可以包括人機介面8，該人機介面由顯示器、按鈕、鍵盤、觸控板、觸控面板或使操作者能夠檢查和調整治療和其他裝置參數的其他控制構件表示。位於主單元中的電源5可以包括變壓器、一次性電池、可充電電池、電源插頭或標準電源線。電源5的輸出功率可以在10W到600W的範圍內，或者在50W到500W的範圍內，或者在80W到450W的範圍內。指示器17可以在人機介面8上獨立地提供關於裝置的當前狀態的額外信息。指示器17可以通過顯示器、LED、聲音信號、振動或其他能夠適當通知的形式來實現。
輸送頭19可以經由臂21與主單元互連，該臂可以形
成主要的光學和電學路徑。臂21可以包括傳輸介質，例如，導線或波導，例如，反射鏡或光纖電纜，用於為輸送頭19供電所需的光或額外電信號的形式的電磁輻射。控制單元(例如，CPU)11控制初級電磁產生器6，該初級電磁產生器可以在電磁產生器的輸出上生成連續的電磁能(CM)或脈衝，其能量密度在0.1pJ/cm2至1000J/cm2範圍內或在0.5pJ/cm2至800J/cm2範圍內或在0.8pJ/cm2至700J/cm2範圍內或在1pJ/cm2至600J/cm2範圍內。CM模式的操作時間間隔可以在0.1秒至24小時的範圍內或在0.2秒至12小時的範圍內或在0.5秒至6小時的範圍內或在1秒至3小時的範圍內。在脈衝狀態下操作的電磁輻射的脈衝持續時間可以在0.1fs至2000ms的範圍內，或者在0.5fs至1500ms的範圍內，或者在1fs至1200ms的範圍內，或者在1fs至1000ms的範圍內。或者，脈衝持續時間可以在0.1fs至1000ns的範圍內，或者在0.5fs至800ns的範圍內，或者在1fs至500ns的範圍內，或者在1fs至300ns的範圍內。或者，脈衝持續時間可以在0.3至5000ps的範圍內或者在1至4000ps的範圍內或者在5至3500ps的範圍內或者在10至3000ps的範圍內。或者可替代地，脈衝持續時間可以在0.05至2000ms的範圍內，或者在0.1至1500ms的範圍內，或者在0.5至1250ms的範圍內，或者在1至1000ms的範圍內。處於脈衝狀態的初級電磁產生器6可以由控制單元(例如，CPU)11以單次模式或者重複模式或者突發模式操作。重複模式或突發模式的頻率可以在0.05至10000Hz的範圍內，或者在0.1至5000Hz的範圍內，或者在0.3至2000Hz的範圍內，或者在0.5至1000Hz的範圍內。或者，重複模式或突發模式的頻率可以在0.1kHz到200MHz的範圍內，或者在0.5kHz到150MHz的範圍
內，或者在0.8kHz到100MHz的範圍內，或者在1kHz到80MHz的範圍內。單次模式可以被配置為生成特定參數(例如，強度、持續時間等)的單個電磁能，用於照射單個治療區域。重複模式可以被配置為生成電磁能，該電磁能可以具有一個或多個特定參數(例如，強度、持續時間等)，具有上述頻率的重複率，用於照射單個治療區域。突發模式可以被配置為在一個序列期間生成多個連續的電磁能，這些電磁能可以具有可變的參數(例如，強度、持續時間、延遲等)，其中，這些序列以上述頻率重複，並且其中，該序列可以包括相同或不同組的連續電磁能。
或者，該裝置可以包含一個以上的初級電磁產生器6，用於生成相同或不同的電磁能，例如，一個初級電磁產生器用於生成消融電磁能，另一個用於生成非消融電磁能。在這種情況下，操作者可以選擇哪些初級電磁產生器可以用於給定的治療，或者臨床醫生可以通過人機介面8選擇所需的治療，並且控制單元(例如，CPU)11將選擇將使用哪些初級電磁產生器。可以同時、接續或以重疊方法操作裝置100的一個或多個初級電磁產生器。例如，在兩個初級電磁產生器的情況下：在同時方法中，在例如1至20皮秒(ps)的時間間隔期間，同時使用兩個初級電磁產生器。在接續方法中，在第一時間間隔期間，例如，從1到10ps，使用第一初級電磁產生器。然後停止第一初級電磁產生器，並且在隨後的時間間隔中，例如，從10到20ps，立即使用第二初級電磁產生器。這種兩個或多個連續步驟的序列可以重複。在重疊方法中，在例如1至10ps的時間
間隔期間使用第一初級電磁產生器，並且在例如2至11ps的第二重疊時間間隔中使用第二初級電磁產生器，其中，在第二時間間隔期間，第一初級電磁產生器和第二初級電磁產生器重疊，例如，總重疊方法時間為2至10ps。在多於兩個初級電磁產生器的情況下，可以由控制單元(例如，CPU)11按照適合於給定治療的順序，以接續或重疊的方法驅動初級電磁產生器的啟動和關閉，例如，首先啟動預熱初級電磁產生器，然後啟動消融初級電磁產生器，然後啟動非消融初級電磁產生器。
輸送頭19中的主動元件13可以具有光學元件形式，可以由一個或多個光學窗口、透鏡、反射鏡、纖維或衍射元件表示。表示主動元件13的光學元件可以連接到或者可以包含輸送頭19內部的初級電磁產生器6。光學元件可以產生一束電磁能，這可以提供能量點，該能量點具有被定義為被一束光照射的組織表面的能量點尺寸。一個光學元件可以提供一個或多個能量點，例如，通過將一個光束分成多個光束。能量點尺寸可以在0.001cm2至1000cm2的範圍內，或者在0.005cm2至700cm2的範圍內，或者在0.01cm2至300cm2的範圍內，或者在0.03cm2至80cm2的範圍內。不同或相同波長的能量點可以重疊或分離。兩條或多條光束可同時或以0.1μs至30秒的時間間隔照射到同一點上。能量點可以由其直徑的至少1%分開，此外，能量點可以彼此緊密跟隨，或者可以分開的間隙的範圍從0.01mm到20mm或從0.05mm到15mm或從0.1mm到10mm。
控制單元(例如，CPU)可進一步負責在主動元件13
之間進行切換，或負責在輸送頭19內移動主動元件13，使得電磁輻射可均勻輸送至用瞄準光束18標記的整個治療區域。主動元件13之間的切換速率可以取決於輸送的能量、脈衝長度等以及控制單元(例如，CPU)或負責切換或移動主動元件13(例如，掃描儀)的其他機構的速度。此外，裝置可以被配置為在多個主動元件13之間切換，使得這些主動元件同時、接續或以重疊方法輸送能量。例如，在兩個主動元件的情況下：在同時方法中，在例如1至20ps的時間間隔期間同時使用兩個主動元件。在接續方法中，在第一時間間隔期間，例如，從1到10ps，使用第一主動元件。然後停止第一主動元件，並且在隨後的時間間隔中，例如，從10到20ps，立即使用第二主動元件。這個接續的步驟可以重複。在重疊方法中，在例如1至10ps的時間間隔期間使用第一主動元件，並且在例如2至11ps的第二重疊時間間隔中使用第二主動元件，其中，在第二時間間隔期間，第一主動元件和第二主動元件重疊，例如，總重疊方法時間為2至10ps。
瞄準光束18對治療組織無臨床影響，可以用作標記待治療區域的工具，以便操作者知道將照射哪個確切區域，控制單元11(例如，CPU)可相應地設置和調整治療參數。可以由單獨的電磁產生器或初級電磁產生器6生成瞄準光束。瞄準光束18可以300至800奈米(nm)範圍內的波長輸送能量，並且可以10毫瓦(mW)的最大功率供應能量。
此外，該襯墊可以包含控制單元11(例如，CPU)驅動的距離感測器22，用於測量從主動元件13到瞄準光束18標記的治療區域內的治療點的距離。測量值可以被控制單元11用作調整一個或
多個治療參數的參數，這些治療參數可以取決於主動元件和治療點之間的距離，例如，能量密度。在主動元件13的每次切換/移動之前，來自距離感測器22的信息可以被提供給控制單元11(例如，CPU)，使得所輸送的能量將在整個治療區域保持相同，而與其形狀或不平坦性無關。
可以在至少一個治療部分將患者皮膚預冷卻至選定溫度並持續選定時間，預冷卻的選定溫度和持續時間優選地足以將皮膚至少冷卻至低於正常體溫的選定溫度。皮膚可以被冷卻到至少選定溫度，冷卻到低於治療部分的至少一個深度的深度，使得至少一個治療部分基本上被冷卻的皮膚包圍。冷卻可以在施加輻射期間繼續，其中，施加輻射的持續時間可以大於治療部分的熱鬆弛時間。冷卻可以通過任何已知的機制來提供，包括水冷卻、噴射冷卻劑、主動固體冷卻元件(例如，熱電冷卻器)的存在或氣流冷卻。冷卻元件可以充當光學元件。或者，間隔件可以用作冷卻元件。可以在用電磁能治療期間、之前或之後提供冷卻。治療前的冷卻也可以為突然的熱衝擊提供環境，而治療後的冷卻可以在熱衝擊後提供更快的再生。冷卻劑的溫度可以在-200℃到36℃的範圍內。在治療期間冷卻元件的溫度可以在-80℃到36℃或-70℃到35℃或-60℃到34℃或-20℃到30℃或0℃到27℃或5℃到25℃的範圍內。此外，在襯墊不與患者皮膚接觸的情況下，可以利用低溫噴霧冷卻、氣流或其他非接觸冷卻技術。除了或代替一種上述冷卻技術，也可以利用皮膚表面上的冷卻凝膠。
此外，裝置100可以包括一個或多個感測器。感測器
可以提供關於至少一個物理量的信息，並且其測量可以導致反饋，該反饋可以由人機介面8或指示器17顯示。一個或多個感測器可以用於感測各種物理量，包括但不限於從皮膚輸送的電磁輻射或反向散射的電磁輻射的能量、皮膚的阻抗、皮膚的電阻、治療皮膚的溫度、未治療皮膚的溫度、至少一層皮膚的溫度、裝置的含水量、輸送或反射的能量的相位角、主動元件13的位置、輸送元件19的位置、冷卻介質的溫度或初級電磁產生器6的溫度。感測器可以是溫度、聲音、振動、電、磁、流量、位置、光學、成像、壓力、力、能量通量、阻抗、電流、霍爾或接近感測器。感測器可以是電容位移感測器、聲學接近感測器、陀螺儀、加速計、磁力計、紅外線攝影機或熱成像相機。感測器可以是侵入式或非接觸式的。該感測器可以位於輸送元件19上或主單元2中，或者可以是距離感測器22的一部分。一個感測器可以測量多個物理量。例如，感測器可以包括陀螺儀、加速度計或磁力計的組合。此外，感測器可以測量治療皮膚或未治療皮膚的一個或多個物理量。
熱感測器測量並監控治療皮膚的溫度。可以由控制單元11(例如，CPU)分析溫度。熱感測器可以是無接觸感測器(例如，紅外溫度感測器)。控制單元11(例如，CPU)還可以使用演算法，以基於皮膚的表面溫度和一個或多個額外參數來計算皮膚表面以下的溫度。溫度反饋系統可以控制溫度，並且基於設定或預設的限制，以人類可感知的形式，例如，在人機介面8上或經由指示器17，警告操作者。在極限溫度條件下，該裝置可以被配置為調整每個主動元件的治療參數，例如，輸出功率、活化冷卻或停止治療。人類可
感知的形式可以是在人機介面8或指示器17上顯示的聲音、警報消息或者裝置100的任何部分的顏色變化。
電阻感測器可以測量皮膚電阻，因為皮膚電阻可能因不同患者而異，濕度(潮濕和汗液)可能會影響電阻，從而影響皮膚在能量場中的行為。基於測量的皮膚電阻，也可以計算皮膚阻抗。
來自一個或多個感測器的信息可用於在方便的模型上生成路徑，例如，在人機介面8的顯示器上顯示的人體模型。該路徑可以示出已經治療的組織、當前治療的組織、待治療的組織或未治療的組織的表面或體積。方便的(convenient)模型可以顯示治療組織的溫度圖，提供關於已經治療的組織或未治療的組織的信息。
感測器可以提供關於骨骼、發炎組織或關節的位置信息。由於疼痛治療的可能性，這種類型的組織可能不是電磁輻射的目標。骨骼、關節或發炎組織可以通過任何類型的感測器(例如，成像感測器(超音波感測器、IR感測器))、阻抗等來檢測。檢測到這些組織類型的存在可能會導致一般人類可感知的信號或中斷生成電磁輻射。例如，可以通過組織阻抗的變化或通過分析反射的電磁輻射來檢測骨骼。
此外，裝置100可以包括緊急停止按鈕16，使得患者可以在治療期間的任何時間立即停止治療。
本新型的一部分可能在於，治療方法包括以下步驟：製備組織；定位所提出的裝置；選擇或設置治療參數；以及施加能量。可以同時執行多個步驟。
製備組織可以包括卸妝或清潔患者皮膚。對於更高的
目標溫度，麻醉劑可以局部使用或注射使用。
定位裝置可以包括根據待治療區域選擇正確的襯墊形狀，並將襯墊或中性電極固定在患者身上，例如，使用黏合層、真空抽吸、帶子或面罩，並在接觸式治療的情況下驗證與待治療組織的正確接觸。在非接觸式治療的情況下，裝置的定位可以包括調整所提出的裝置的瞄準光束，使得該裝置可以測量主動元件與治療區域的距離，並相應地調整治療參數。
選擇或設置治療參數可以包括調整治療時間、功率、占空比、輸送時間和模式(CM或脈衝)、有效點表面密度/尺寸，用於點陣排列和操作模式。選擇操作模式可能意味著選擇同時、接續或重疊方法，或者選擇主動元件或主動元件組的切換順序，或者選擇適當的預編程方案。
能量的施加可以包括以RF能量、電流、超音波能量或具有多色或單色光或其組合的形式的電磁能的形式提供至少一種類型的能量。可以通過所提出的裝置從至少一個主動元件向皮膚中提供能量。可以由控制單元(例如，CPU)根據來自熱感測器和阻抗測量以及在非接觸式治療的情況下來自距離感測器的信息自動輸送和調節能量。可以在裝置顯示器上指示所有自動調整和對治療的潛在影響。在治療過程中，操作者或患者可以隨時中止治療。典型的治療可能持續約1至60分鐘或2至50分鐘或3至40分鐘或5至30分鐘或8至25分鐘或10至20分鐘，這取決於治療區域和位於一個或多個襯墊內的主動元件的大小和數量。使用1個、2個、3個、4個、5個或多達10個襯墊的典型治療可以具有約1至60分鐘或2至50分鐘或3至40分鐘、5至30分鐘或8至25分鐘或10至20分鐘的總持續時間。
使用一個襯墊的典型治療可以具有大約1至30分鐘或2至25分鐘或3至22分鐘、5至20分鐘或5至15分鐘或5至12分鐘的總持續時間。
在一個示例中，向組織施加能量可以包括從嵌入襯墊中的主動元件向患者皮膚提供射頻能量及/或電流及/或超音波能量或其任意組合。在這樣的實施例中，提供射頻能量的主動元件是電容性或電阻性RF電極，並且RF能量可以引起皮膚的加熱、凝固或消融。由RF電極提供電流，可引起肌肉收縮。可以通過聲窗提供超音波能量，並且可以升高深度中的溫度，這可以抑制RF能量的梯度損失，從而可以達到生髮層中的期望溫度。此外，RF電極可以充當超音波能量的聲窗。
或者，向組織施加能量可以包括從主動元件向患者皮膚提供多色或單色光形式的電磁能。在這種情況下，提供電磁能的主動元件可以包括在所提出的裝置中描述的光學元件。光學元件可以由光學窗口、透鏡、反射鏡、光纖或電磁場產生器來表示，例如，LED、雷射器、閃光燈、白熾燈或現有技術中已知的其他光源。多色或單色光形式的電磁能可能需要加熱、凝固或消融治療區域中的皮膚。
在達到所需溫度和治療時間後，治療終止，可移除裝置附件，並對患者皮膚進行清潔。
1:裝置
2:主單元
3:互連塊
4:襯墊
5:電源
6:初級電磁產生器
7:中性電極
8:人機介面
9:次級產生器
10:超音波發射器
11:控制單元
12:記憶體
13:主動元件
14:開關電路
15:熱感測器
16:緊急停止按鈕
17:指示器
Claims (47)
- 一種用於患者之無人看管式治療裝置，包括：一電流產生器，所述電流產生器被配置為生成一脈衝電流；一射頻產生器，所述射頻產生器被配置為生成一射頻能量；一控制單元，所述控制單元被配置為控制所述電流產生器和所述射頻產生器；一襯墊，所述襯墊包括一電極，其中，所述襯墊被配置為附接至一患者的一身體部位；其中，所述襯墊面向所述患者的表面積在0.1平方公分(cm2)至150cm2的範圍內；所述電極耦接至所述電流產生器和所述射頻產生器；所述電極被配置為向所述身體部位施加所述脈衝電流，以引起所述身體部位內的肌肉的電肌肉收縮；所述電極被配置為將所述射頻能量施加到所述患者的所述身體部位，以引起所述身體部位的皮膚的射頻加熱；其中，所述身體部位包括所述患者的面部、頦下或頸部；以及所述無人看管式治療裝置被配置為在治療期間自動地提供所述電肌肉收縮和所述射頻加熱，以改善所述患者的視覺外觀。
- 如請求項1之無人看管式治療裝置，其中，所述脈衝電流具有0.1微秒(μs)至10秒(s)範圍內的脈衝持續時間，及/或0.1赫茲(Hz)至12千赫(kHz)範圍內的頻率，及/或0.5毫安培(mA)至150mA範圍內的強度，及/或0.1毫安培/平方公分(mA/cm2)至50mA/cm2範圍內的電流密度。
- 如請求項2之無人看管式治療裝置，其中，所述脈衝電流的振幅經過調變，使得所述脈衝電流的所述振幅產生一梯形包絡；其中，所述梯形包絡是持續時間在1秒至10秒範圍內的對稱梯形包絡；及/或所述梯形包絡的上升或下降部分的持續時間在0.1秒至5秒的範圍內；及/或所述梯形包絡以0.1Hz至140Hz範圍內的頻率重複。
- 如請求項3之無人看管式治療裝置，其中，所述電極是一對電療電極的一部分；其中，所述一對電療電極之間的距離在0.1毫米(mm)至4公分(cm)的範圍內，及/或所述一對電療電極之間的電壓在1伏特(V)至300V的範圍內，及/或所述脈衝電流穿過所述一對電療電極之間的身體部位，及/或所述脈衝電流是對稱交流電。
- 如請求項1之無人看管式治療裝置，其中，所述射頻能量具有400kHz至80百萬赫(MHz)範圍內的頻率、及/或0.01毫瓦/平方毫米(mW/mm2)至10瓦/平方毫米(W/mm2)範圍內的通量密度、及/或0.1瓦(W)至400W範圍內的輸出功率；及/或其中，以持續時間在0.1ms至10秒範圍內的脈衝提供所述射頻能量；及/或所述身體部位的所述皮膚被所述射頻能量加熱到37.5攝氏度 (℃)到65℃範圍內的溫度。
- 如請求項5之無人看管式治療裝置，其中，所述襯墊被配置為同時提供所述射頻加熱和所述電肌肉收縮，或在治療持續時間的至少一部分內同時提供所述射頻加熱和所述電肌肉收縮，或依序提供所述射頻加熱和所述電肌肉收縮。
- 如請求項1至6中任一項之無人看管式治療裝置，其中，所述襯墊是可撓性的，並且被配置為能夠適應所述患者的所述身體部位；及/或所述襯墊被配置為向額肌、皺眉肌、頰肌、嚼肌、顴肌、頸闊肌、下降肌、上唇肌及/或笑肌提供所述電肌肉收縮。
- 如請求項1至6中任一項之無人看管式治療裝置，其中，更包括位於所述襯墊的下側上的一黏合層，其中，所述襯墊的所述下側被配置為在治療期間面向所述身體部位；其中，所述襯墊和所述電極被配置為經由所述黏合層與所述身體部位耦合；及/或其中，所述襯墊通過所述黏合層固定地附接到所述身體部位。
- 如請求項8之無人看管式治療裝置，其中，所述電極部分地接觸所述黏合層；其中，所述黏合層是導電的；及/或所述黏合層的厚度在0.1mm至3mm的範圍內；及/或所述黏合層包括膠帶或包含水的混合物或包含多元醇成分的混合物。
- 如請求項9之無人看管式治療裝置，其中，所述黏合層的阻抗比所述皮膚的阻抗高1.1倍至20倍，及/或所述黏合層的阻抗在100歐姆至5000歐姆的範圍內，及/或所述黏合層的電導率在20毫西門子/公尺(mS/m)至200mS/m的範圍內，及/或其中，所述黏合層更包括在所述黏合層的體積的5%至70%的範圍內的金屬填料，及/或所述黏合層更包括營養元件，所述營養元件被配置為在治療期間從所述黏合層釋放到所述皮膚。
- 如請求項10之無人看管式治療裝置，其中，所述襯墊更包括一可撓性基板、一導電引線和包含孔的一介電層；其中，所述可撓性基板包括聚合物基材料、矽基材料或織物中的至少一種；所述導電引線耦接到所述可撓性基板的下側；所述可撓性基板的所述下側被配置為在治療期間面向所述身體部位；所述電極沉積在所述介電層上；所述介電層位於所述導電引線和所述電極之間；所述導電引線通過所述介電層中的孔連接到所述電極；以及所述導電引線被配置為耦接所述電極與一連接器。
- 如請求項1至6中任一項之無人看管式治療裝置，其中，更包括位於所述襯墊的頂側的黏貼物，其中，所述黏貼物的尺寸超過所述襯墊的相應尺寸0.1cm至 10cm；及/或所述黏貼物的面積比所述襯墊的面積大1.5%至33%；並且所述黏貼物超出所述襯墊的尺寸的部分包括一黏接層，所述黏接層被配置為提供所述襯墊到所述身體部位的額外固定。
- 如請求項1至6中任一項之無人看管式治療裝置，其中，所述襯墊的厚度在0.1mm至60mm的範圍內；及/或其中，所述襯墊為環形、半圓形、橢圓形、長方形、正方形、矩形或梯形，所述襯墊被配置為覆蓋所述患者的眼周區域、前額、頜線、口周區域、左臉頰或右臉頰、頦下或頸部中的一或多者的至少一部分；及/或其中，所述襯墊具有包括一個或多個曲率的多邊形形狀，所述多邊形具有曲率k在0.002毫米分之一(mm-1)至10mm-1範圍內的弧形。
- 如請求項1至6中任一項之無人看管式治療裝置，其中，所述電極具有0.1cm2至70cm2範圍內的表面積；及/或其中，所述電極包括框架、柵格線和孔；其中，所述框架和所述柵格線由導電材料製成；其中，所述孔包括非導電材料；其中，所述柵格線被所述孔分開；其中，所述框架定義了所述柵格線和所述孔的邊界；其中，所述框架的厚度在0.1mm至5mm的範圍內；及/或其中，所述柵格線的厚度在0.01mm至2.3mm的範圍內；及/或其中，所述孔的寬度在0.05mm至7mm範圍內；及/或 其中，所述框架、所述框架內的所述柵格線和所述框架內的所述孔的總表面積在1cm2至15cm2的範圍內；及/或其中，導電材料與非導電材料的比率在1%至50%的範圍內。
- 如請求項1至6中任一項之無人看管式治療裝置，其中，更包括感測器，所述感測器被配置為獲得指示所述電極和所述身體部位之間的接觸的信息，並將所述信息提供給所述控制單元。
- 如請求項15之無人看管式治療裝置，其中，更包括一使用者介面；以及所述控制單元更包括用於改善所述患者的視覺外觀的一預編程治療方案；其中，所述預編程治療方案被配置為由所述無人看管式治療裝置的使用者經由所述使用者介面選擇；所述預編程治療方案包括多個部分；所述預編程治療方案的所述多個部分的每一者包括所述脈衝電流的一組特定參數；以及其中，所述預編程治療方案的所述多個部分由所述控制單元組合，以在單次治療期間通過所述襯墊引起60至900次收縮；以及其中，所述感測器被配置為在所述預編程治療方案的每個部分中向所述控制單元提供關於所述襯墊或所述電極與所述患者的阻抗的信息。
- 如請求項1至6中任一項之無人看管式治療裝置，其中，更包括帶子、或毛氈、或面罩、或衣服，所述帶子、所 述毛氈、所述面罩、所述衣服被配置為將所述襯墊緊固到所述患者的所述身體部位。
- 如請求項1至6中任一項之無人看管式治療裝置，其中，所述襯墊是多個塗藥器中的一第一塗藥器的一部分，並且其中，所述多個塗藥器中的每一者被配置為在治療期間同時、依次或重疊地治療所述患者的所述身體部位的不同治療區域。
- 如請求項1至6中任一項之無人看管式治療裝置，其中，所述襯墊包括包含所述電極的多個電極；其中，所述多個電極被配置為在治療期間附接到所述患者的所述身體部位；以及其中，所述多個電極包括3至10個電極。
- 如請求項19之無人看管式治療裝置，其中，所述襯墊被配置為附接到所述患者的前額；其中，所述多個電極包括沿著所述襯墊的左邊緣設置的左邊緣電極、沿著所述襯墊的右邊緣設置的右邊緣電極，以及位於所述左邊緣電極和所述右邊緣電極之間的中間電極；其中，所述左邊緣電極和所述右邊緣電極之間的距離在2cm至8cm的範圍內；以及其中，所述電極是所述左邊緣電極或所述右邊緣電極。
- 如請求項19之無人看管式治療裝置，其中，所述襯墊被配置為附接到所述患者的左臉頰或右臉頰；其中，所述多個電極包括第一行電極和第二行電極； 其中，所述第一行電極與所述第二行電極相對於一對稱線對稱；以及其中，所述第一行電極包括所述電極。
- 如請求項18之無人看管式治療裝置，其中，所述塗藥器更包括一連接器及一連接部分及/或一內襯；其中，所述連接部分將所述襯墊與所述連接器耦接；其中，所述連接器被配置為將所述襯墊與所述電流產生器及所述射頻產生器耦接；其中，所述內襯耦接在所述電極和所述襯墊下方；以及其中，所述內襯被配置為在治療之前移除。
- 如請求項1至6中任一項之無人看管式治療裝置，其中，更包括一開關電路，所述開關電路被配置為在將所述電極與所述射頻產生器耦接，以及將所述電極與所述電流產生器耦接之間切換；其中，所述開關電路包括繼電器開關、電晶體、閘流器、二極體、光開關、光電開關或光機開關中的至少一種；以及所述控制單元被配置為控制所述開關電路。
- 如請求項23之無人看管式治療裝置，其中，更包括一互連塊，其中，所述互連塊包括所述射頻產生器及/或所述電流產生器及/或所述開關電路。
- 一種用於患者之無人看管式治療裝置，包括：一電流產生器，所述電流產生器被配置為生成一脈衝電流； 一射頻產生器，所述射頻產生器被配置為生成一射頻能量；一控制單元，所述控制單元被配置為控制所述電流產生器和所述射頻產生器；一襯墊，所述襯墊包括一電極和第一射頻電極，其中，所述襯墊被配置為附接到一患者的一身體部位，並且所述襯墊的面向所述患者的表面積在0.1平方公分(cm2)至150cm2的範圍內；所述電極經由一連接器耦接到所述電流產生器；所述電極被配置為向所述身體部位施加所述脈衝電流，以引起所述身體部位內的肌肉的電肌肉收縮；所述第一射頻電極經由所述連接器耦接到所述射頻產生器；以及所述第一射頻電極被配置為將所述射頻能量施加到所述患者的所述身體部位，以引起所述身體部位的皮膚的射頻加熱；其中，所述身體部位包括患者的面部、頦下或頸部；以及所述無人看管式治療裝置被配置為在治療期間自動地提供所述電肌肉收縮和所述射頻加熱，以改善所述患者的視覺外觀。
- 如請求項25之無人看管式治療裝置，其中，所述脈衝電流具有0.1微秒(μs)至10秒(s)範圍內的脈衝持續時間，及/或0.1赫茲(Hz)至12千赫(kHz)範圍內的頻率，及/或0.5毫安培(mA)至150mA範圍內的強度，及/或0.1毫安培/平方公分(mA/cm2)至50mA/cm2範圍內的電流密度。
- 如請求項26之無人看管式治療裝置，其中，所述脈衝電流的振幅經過調變，使得所述脈衝電流的所述振幅產生一梯形包絡； 其中，所述梯形包絡是持續時間在1秒至10秒範圍內的對稱梯形包絡；及/或所述梯形包絡的上升或下降部分的持續時間在0.1秒至5秒的範圍內；及/或所述梯形包絡以0.1Hz至140Hz範圍內的頻率重複。
- 如請求項27之無人看管式治療裝置，其中，所述電極是一對電療電極的一部分；其中，所述一對電療電極之間的距離在0.1毫米(mm)至4公分(cm)的範圍內，及/或所述一對電療電極之間的電壓在1伏特(V)至300V的範圍內，及/或所述脈衝電流穿過所述一對電療電極之間的身體部位，及/或所述脈衝電流是對稱交流電。
- 如請求項25之無人看管式治療裝置，其中，所述襯墊還包括一第二射頻電極，所述第二射頻電極被配置為提供所述射頻能量；其中，由所述第一射頻電極和所述第二射頻電極接續地提供所述射頻能量；以及由所述第一射頻電極和所述第二射頻電極提供所述射頻能量被一無射頻刺激的時間分開，所述無射頻刺激的時間的持續時間在1微秒至1000毫秒(ms)範圍內。
- 如請求項25至29中任一項之無人看管式治療裝置，其中，所述射頻能量具有400kHz至80MHz範圍內的頻率、及/ 或0.01毫瓦/平方毫米(mW/mm2)至10(W/mm2)範圍內的通量密度、及/或0.1瓦(W)至400W範圍內的輸出功率；及/或其中，以持續時間在0.1毫秒至10秒範圍內的脈衝提供所述射頻能量；及/或所述身體部位的所述皮膚被所述射頻能量加熱到37.5攝氏度(℃)到65℃範圍內的溫度。
- 如請求項30之無人看管式治療裝置，其中，所述襯墊被配置為同時提供所述射頻加熱和所述電肌肉收縮，或在治療持續時間的至少一部分內同時提供所述射頻加熱和所述電肌肉收縮，或依序提供所述射頻加熱和所述電肌肉收縮。
- 如請求項25至29中任一項之無人看管式治療裝置，其中，所述襯墊是可撓性的，並且被配置為能夠適應所述患者的所述身體部位；及/或所述襯墊被配置為向額肌、皺眉肌、頰肌、嚼肌、顴肌、頸闊肌、下降肌、上唇肌及/或笑肌提供所述電肌肉收縮。
- 如請求項25至29中任一項之無人看管式治療裝置，其中，更包括位於所述襯墊的下側上的一黏合層，其中，所述襯墊的所述下側被配置為在治療期間面向所述身體部位；其中，所述襯墊和所述電極被配置為經由所述黏合層與所述身體部位耦合；及/或其中，所述襯墊通過所述黏合層固定地附接到所述身體部位。
- 如請求項33之無人看管式治療裝置，其中，所 述電極部分地接觸所述黏合層；其中，所述黏合層是導電的；及/或所述黏合層的厚度在0.1mm至3mm的範圍內；及/或所述黏合層包括膠帶或包含水的混合物或包含多元醇成分的混合物。
- 如請求項33之無人看管式治療裝置，其中，所述黏合層的阻抗比所述皮膚的阻抗高1.1倍至20倍，及/或所述黏合層的阻抗在100歐姆至5000歐姆的範圍內，及/或所述黏合層的電導率在20毫西門子/公尺(mS/m)至200mS/m的範圍內，及/或其中，所述黏合層更包括在所述黏合層的體積的5%至70%的範圍內的金屬填料，及/或所述黏合層更包括營養元件，所述營養元件被配置為在治療期間從所述黏合層釋放到所述皮膚。
- 如請求項33之無人看管式治療裝置，其中，所述襯墊更包括一可撓性基板、一導電引線和包含孔的一介電層；其中，所述可撓性基板包括聚合物基材料、矽基材料或織物中的至少一種；所述導電引線耦接到所述可撓性基板的下側；所述可撓性基板的所述下側被配置為在治療期間面向所述身體部位；所述電極沉積在所述介電層上；所述介電層位於所述導電引線和所述電極之間； 所述導電引線通過所述介電層中的孔連接到所述電極；以及所述導電引線被配置為耦接所述電極與所述連接器。
- 如請求項25至29中任一項之無人看管式治療裝置，其中，還包括位於所述襯墊的頂側的黏貼物；其中，所述黏貼物的尺寸超過所述襯墊的相應尺寸0.1cm至10cm；及/或所述黏貼物的面積比所述襯墊的面積大1.5%至33%；並且所述黏貼物超出所述襯墊的尺寸的部分包括一黏接層，所述黏接層被配置為提供所述襯墊到所述身體部位的額外固定。
- 如請求項25至29中任一項之無人看管式治療裝置，其中，所述襯墊的厚度在0.1mm至60mm的範圍內；及/或其中，所述襯墊為環形、半圓形、橢圓形、長方形、正方形、矩形或梯形，所述襯墊被配置為覆蓋所述患者的眼周區域、前額、頜線、口周區域、左臉頰或右臉頰、頦下或頸部中的一或多者的至少一部分；及/或其中，所述襯墊具有包括一個或多個曲率的多邊形形狀，所述多邊形具有曲率k在0.002毫米分之一(mm-1)至10mm-1範圍內的弧形。
- 如請求項25至29中任一項之無人看管式治療裝置，其中，所述電極具有0.1cm2至70cm2範圍內的表面積；及/或其中，所述電極包括框架、柵格線和孔；其中，所述框架和所述柵格線由導電材料製成； 其中，所述孔包括非導電材料；其中，所述柵格線被所述孔分開；其中，所述框架定義了所述柵格線和所述孔的邊界；其中，所述框架的厚度在0.1mm至5mm的範圍內；及/或其中，所述柵格線的厚度在0.01mm至2.3mm的範圍內；及/或其中，所述孔的寬度在0.05mm至7mm範圍內；及/或其中，所述框架、所述框架內的所述柵格線和所述框架內的所述孔的總表面積在1cm2至15cm2的範圍內；及/或其中，導電材料與非導電材料的比率在1%至50%的範圍內。
- 如請求項25至29中任一項之無人看管式治療裝置，其中，更包括感測器，所述感測器被配置為獲得指示所述電極和所述身體部位之間的接觸的信息，並將所述信息提供給所述控制單元。
- 如請求項40之無人看管式治療裝置，其中，更包括一使用者介面；以及所述控制單元更包括用於改善所述患者的視覺外觀的一預編程治療方案；其中，所述預編程治療方案被配置為由所述無人看管式治療裝置的使用者經由所述使用者介面選擇；所述預編程治療方案包括多個部分；所述預編程治療方案的所述多個部分的每一者包括所述脈衝電流的一組特定參數；以及其中，所述預編程治療方案的所述多個部分由所述控制單元組 合，以在單次治療期間通過所述襯墊引起60至900次收縮；以及其中，所述感測器被配置為在所述預編程治療方案的每個部分中向所述控制單元提供關於所述襯墊或所述電極與所述患者的阻抗的信息。
- 如請求項25至29中任一項之無人看管式治療裝置，其中，更包括帶子、或毛氈、或面罩、或衣服，所述帶子、所述毛氈、所述面罩、所述衣服被配置為將所述襯墊緊固到所述患者的所述身體部位。
- 如請求項25至29中任一項之無人看管式治療裝置，其中，所述襯墊是多個塗藥器中的一第一塗藥器的一部分，並且其中，所述多個塗藥器中的每一者被配置為在治療期間同時、依次或重疊地治療所述患者的所述身體部位的不同治療區域。
- 如請求項25至29中任一項之無人看管式治療裝置，其中，所述襯墊包括包含所述電極的多個電極；其中，所述多個電極被配置為在治療期間附接到所述患者的所述身體部位；以及其中，所述多個電極包括3至10個電極。
- 如請求項44之無人看管式治療裝置，其中，所述襯墊被配置為附接到所述患者的前額；其中，所述多個電極包括沿著所述襯墊的左邊緣設置的左邊緣電極、沿著所述襯墊的右邊緣設置的右邊緣電極，以及位於所述左邊緣電極和所述右邊緣電極之間的中間電極； 其中，所述左邊緣電極和所述右邊緣電極之間的距離在2cm至8cm的範圍內；以及其中，所述電極是所述左邊緣電極或所述右邊緣電極。
- 如請求項44之無人看管式治療裝置，其中，所述襯墊被配置為附接到所述患者的左臉頰或右臉頰；其中，所述多個電極包括第一行電極和第二行電極；其中，所述第一行電極與所述第二行電極相對於一對稱線對稱；以及其中，所述第一行電極包括所述電極。
- 如請求項43之無人看管式治療裝置，其中，所述塗藥器更包括一連接器及一連接部分及/或一內襯；其中，所述連接部分將所述襯墊與所述連接器耦接；其中，所述連接器被配置為將所述襯墊與所述電流產生器及所述射頻產生器耦接；其中，所述內襯耦接在所述電極和所述襯墊下方；以及其中，所述內襯被配置為在治療之前移除。
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