TWM564107U - 多流道閥塊 - Google Patents

Abstract

一種多流道閥塊，其包含一閥塊本體，該閥塊本體於相對的兩個側面上分別設有複數個第一流體出入口及第二流體出入口，該閥塊本體於頂面上分別設有複數個第一閥孔及第二閥孔，該閥塊本體內部設有彼此呈平行配置的一第一縱向流道及一第二縱向流道，該閥塊本體內部設有至少一個長橫向流道，且各該長橫向流道係與各該縱向流道呈上下垂直交錯之配置。藉此，本創作可對閥塊達到最佳的空間利用效果，因此，在流道數量相同的條件下，本創作的閥塊可具有更小的尺寸，進而可具有更佳的實用性。

Description

多流道閥塊

本創作係關於一種用於流體控制的閥塊或歧管塊。

按，閥件(valve)是流體的流路控制等應用中相當普遍而常見的部件，舉例而言，請參閱第一圖所示，其係為一典型的氣體純化系統(gas purification system)之管線結構，其中，該管線結構通常係由複數個相互連接的管路1與閥件2如電磁閥所組成，然而，此種習用的流體控制閥件其管路1複雜，且體積龐大較佔空間。

對此，業界有發展出整合式的多流道閥塊或歧管塊，其可有效地縮小管線結構所需的空間，例如中華民國專利第I292019號、I311623號、I481792號、I541463號、I577917號等專利文獻即分別揭示有用於流路控制的閥件或閥塊之技術方案，其中，習知閥塊的內部一般均設置有複數個流道，不同的流道可能有不同的方向(例如縱向與橫向)，閥塊的外表面則分別設置有與各該流道相對應且相連通的流體出入口，此外，有時閥塊的兩個流道之間可能需要選擇性地連通(例如為了改變流體流向或切換流路的開閉狀態，或者是為了將兩種不同的流體混合等等)，此時該閥塊的外表面還會設置有對應且相連通於該兩個流道的閥孔，藉此，俾使該閥孔可供電磁閥結合設置，而使該電磁閥可達到控制、切換該兩個流道之間的連通狀 態的作用，然而，包括上述專利前案在內的現有閥塊其各個流道通常是設置在同一個水平高度位置上，或者僅是將同向(例如同樣是縱向或同樣是橫向)的流道設置在不同的水平高度位置上，如此一來，並無法對閥塊達到最大或最佳的空間利用效果，導致在流道數量相同的條件下，閥塊仍具有較大的尺寸大小，因此，如何針對上述問題加以改進，即為本案創作人欲解決之技術困難點所在。

有鑑於習用閥塊的上述問題，因此本創作之目的在於發展一種可縮小尺寸並提升空間利用率的多流道閥塊。

為達成以上之目的，本創作係提供一種多流道閥塊，其包含：一閥塊本體，該閥塊本體於相對的兩個側面上分別設有複數個第一流體出入口及第二流體出入口，該閥塊本體於頂面上分別設有複數個第一閥孔及第二閥孔，該第一閥孔的數量及位置係與該第一流體出入口的數量及位置相對應，該第二閥孔的數量及位置係與該第二流體出入口的數量及位置相對應，該閥塊本體內部設有彼此呈平行配置的一第一縱向流道及一第二縱向流道，該第一縱向流道係位於各該第一閥孔下方，該第二縱向流道則位於各該第二閥孔下方，且該第一縱向流道與第二縱向流道均位於由閥塊本體底部算起的一第一高度位置，該第一縱向流道與至少部分的該第一閥孔之間分別透過至少一個第一垂直流道相連通，該第二縱向流道與至少部分的該第二閥孔之間分別透過至少一個第二垂直流道相連通，該閥塊本體內部設有至少一個長橫向流道，各該長橫向流道位於由閥塊本體底部算起的一第二高度位置，且該第二高度位置大於該第一高度位置，又各該長 橫向流道的兩端係分別與各該第一流體出入口及各該第二流體出入口相連通，而使各該長橫向流道係與各該縱向流道呈上下垂直交錯之配置，此外，各該長橫向流道與其連通的第一流體出入口及第二流體出入口所對應的各該第一閥孔及各該第二閥孔之間分別透過一第三垂直流道及一第四垂直流道相連通。

其中，各該第一閥孔與各該第二閥孔係分別與一電磁閥相結合。

其中，該閥塊本體內部設有至少一個短橫向流道，且各該短橫向流道也分別位於該第二高度位置。

進一步的，各該短橫向流道分別與單一個第一流體出入口或第二流體出入口相連通。

藉此，本創作可對閥塊達到最佳的空間利用效果，因此，在流道數量相同的條件下，本創作的閥塊可具有更小的尺寸，進而可具有更佳的實用性。

1‧‧‧管路

2‧‧‧閥件

3‧‧‧閥塊本體

31‧‧‧第一流體出入口

32‧‧‧第二流體出入口

33‧‧‧第一閥孔

34‧‧‧第二閥孔

41‧‧‧第一縱向流道

42‧‧‧第二縱向流道

43‧‧‧長橫向流道

44‧‧‧短橫向流道

51‧‧‧第一垂直流道

52‧‧‧第二垂直流道

53‧‧‧第三垂直流道

54‧‧‧第四垂直流道

55‧‧‧第五垂直流道

6‧‧‧電磁閥

A1‧‧‧流體

第一圖係習用管線結構的示意圖。

第二圖係本創作之一實施例的結構示意圖。

第三圖係本創作之一實施例與電磁閥組設結合後的示意圖。

第四圖係本創作之一實施例進行流路變換的動作前示意圖。

第五圖係本創作之一實施例進行流路變換的動作後示意圖。

第六圖係本創作其第二實施例的結構示意圖。

請參閱第二圖所示，係為本創作的多流道閥塊之一實施例的結構示意圖，該多流道閥塊包含：一閥塊本體3，該閥塊本體3於相對的兩個側面(例如左、右兩側)上分別設有複數個第一流體出入口31及第二流體出入口32，用以供流體進出，其中，該第一流體出入口31的數量可相等或不相等於與該第二流體出入口32的數量，在本實施例與第二圖中，該第一流體出入口31的數量為3個，該第二流體出入口32的數量為2個，此外，請再參閱第六圖所示為本創作的多流道閥塊之第二實施例，其中，該第一流體出入口31的數量為5個，該第二流體出入口32的數量則為2個，在此，該第一流體出入口31及第二流體出入口32的數量可係依閥塊或系統之設計需求而加以調整、變化，甚至，該第一流體出入口31及第二流體出入口32的數量可以比實際需求來得多，這是因為使用時可將多餘用不到的出入口封閉起來，如此可以使閥塊保有擴充、改變設計或是轉用於其它應用的彈性空間，又該第二實施例的其餘結構設計方式與原理與第一實施例可以說是相同的，故為了說明上的方便，底下將以第一實施例為代表性的範例來說明本創作的其餘結構；請繼續參閱第二圖所示，該閥塊本體3於頂面上分別設有複數個第一閥孔33及第二閥孔34，該第一閥孔33的數量及位置係與該第一流體出入口31的數量及位置相對應，該第二閥孔34的數量及位置係與該第二流體出入口32的數量及位置相對應，此外，為了方便識別或區別不同位置的閥孔，以利閥塊的安裝與使用，本創作可於該閥塊本體3的表面如頂面分別設置(例如以印刷、塗設或刻印等方式)有對應於各該閥孔的識別符號，如 圖式中所呈現的VS1、VRV…等文字縮寫代號，該閥塊本體3內部設有彼此呈平行配置的一第一縱向流道41及一第二縱向流道42，該第一縱向流道41係位於各該第一閥孔33下方，該第二縱向流道42則位於各該第二閥孔34下方，且該第一縱向流道41與第二縱向流道42均位於由閥塊本體3底部算起的一第一高度位置，該第一縱向流道41與至少部分的該第一閥孔33之間分別透過至少一個第一垂直流道51相連通，該第二縱向流道42與至少部分的該第二閥孔34之間分別透過至少一個第二垂直流道52相連通，該閥塊本體3內部設有至少一個長橫向流道43以及至少一個短橫向流道44，其中，各該長橫向流道43與各該短橫向流道44均位於由閥塊本體3底部算起的一第二高度位置，且該第二高度位置大於該第一高度位置，亦即，本創作的各橫向流道之設置位置係高於各縱向流道的設置位置，又各該長橫向流道43的兩端係分別與各該第一流體出入口31及各該第二流體出入口32相連通，而使各該長橫向流道43係與各該縱向流道(即第一縱向流道41及/或第二縱向流道42)呈上下垂直交錯之配置，而各該短橫向流道44則僅分別與單一個第一流體出入口31或第二流體出入口32相連通，在此，該長橫向流道43與短橫向流道44的具體數量係依系統的實際設計需求而定，在本實施例與第二圖中，該長橫向流道43的數量係為2個，該短橫向流道44的數量則為1個，且該短橫向流道44係與其中的一個第一流體出入口31相連通，又該2個長橫向流道43則分別與其餘兩組呈左、右對應的第一流體出入口31及第二流體出入口32相連通，此外，各該長橫向流道43與其連通的第一流體出入口31及第二流體出入口32所對應的各該第一閥孔33及各該第二閥孔34之間分別透過一第三垂直流道53及一第四垂直流道54相連通，各該短橫向流道44與其連通的第一流體 出入口31或第二流體出入口32所對應的各該第一閥孔33或各該第二閥孔34之間則分別透過一第五垂直流道55相連通；藉由以上結構，請再配合參閱第三圖所示，本創作的各該第一閥孔33及各該第二閥孔34即可分別與一電磁閥6相結合，而可透過電磁閥6切換、控制某個閥孔的啟閉狀態，從而控制該閥孔的不同垂直流道之間的連通狀態，進一步切換位於該閥孔下方的縱向流道與橫向流道之間的連通狀態，如此即可達到閥塊或歧管塊之流路控制的目的，底下即以第二圖的識別符號VS1所對應到的第一閥孔33為例簡要說明本創作之工作原理：請參閱第四圖所示，一開始，一流體A1係由閥塊外流入該第一縱向流道41，此時，若該第一閥孔33所對應的電磁閥6由關閉狀態切換為開啟狀態，則該流體A1即可第一縱向流道41再經由該第一垂直流道51往上流入該第一閥孔33中，接下來，請再參閱第五圖所示，該流體A1可再經由該第三垂直流道53往下流入該長橫向流道43，然後再由該第一流體出入口31流出。

藉由於閥塊內部設置有位於不同高度位置而呈上下垂直交錯的縱向流道與橫向流道，從而可對閥塊達到最佳的空間利用效果，因此，在流道數量相同的條件下，本創作的閥塊可具有更小的尺寸，進而可具有更佳的實用性。

Claims (4)

1. 一種多流道閥塊，其包含：一閥塊本體，該閥塊本體於相對的兩個側面上分別設有複數個第一流體出入口及第二流體出入口，該閥塊本體於頂面上分別設有複數個第一閥孔及第二閥孔，該第一閥孔的數量及位置係與該第一流體出入口的數量及位置相對應，該第二閥孔的數量及位置係與該第二流體出入口的數量及位置相對應，該閥塊本體內部設有彼此呈平行配置的一第一縱向流道及一第二縱向流道，該第一縱向流道係位於各該第一閥孔下方，該第二縱向流道則位於各該第二閥孔下方，且該第一縱向流道與第二縱向流道均位於由閥塊本體底部算起的一第一高度位置，該第一縱向流道與至少部分的該第一閥孔之間分別透過至少一個第一垂直流道相連通，該第二縱向流道與至少部分的該第二閥孔之間分別透過至少一個第二垂直流道相連通，該閥塊本體內部設有至少一個長橫向流道，各該長橫向流道位於由閥塊本體底部算起的一第二高度位置，且該第二高度位置大於該第一高度位置，又各該長橫向流道的兩端係分別與各該第一流體出入口及各該第二流體出入口相連通，而使各該長橫向流道係與各該縱向流道呈上下垂直交錯之配置，此外，各該長橫向流道與其連通的第一流體出入口及第二流體出入口所對應的各該第一閥孔及各該第二閥孔之間分別透過一第三垂直流道及一第四垂直流道相連通。
2. 如申請專利範圍第1項所述之多流道閥塊，其中各該第一閥孔與各該第二閥孔係分別與一電磁閥相結合。
3. 如申請專利範圍第1項所述之多流道閥塊，其中該閥塊本體內部設有至少一個短橫向流道，且各該短橫向流道也分別位於該第二高度位置。
4. 如申請專利範圍第3項所述之多流道閥塊，其中各該短橫向流道分別與單一個第一流體出入口或第二流體出入口相連通。