TWM518593U - 塗佈頭清潔裝置 - Google Patents

Description

塗佈頭清潔裝置

本新型創作是有關於一種塗佈頭清潔裝置，且特別是有關於一種能快速清潔塗佈頭與節省清潔部材之塗佈頭清潔裝置。

目前國內高科技產業發展精密佈製程技術已有很長一段時間，而該技術所發展出來的應用產品更是不勝枚舉，為了因應產能需求與品質提升，各大廠紛紛投入大量的人力及物力於該製程產線上。

而在狹縫式塗佈製程中，塗佈頭在吐料時其塗料往往會黏附於吐料出口與鄰近表面，尤其是當塗料屬於高分子型塗料時，這種塗材容易吸收空氣中的水分而產生析出現象，造成塗頭阻塞與塗頭表面能改變產生塗膜缺陷等問題。所以生產線上需派駐人力來進行這項工作，但人工擦拭容易有清潔品質不均與清潔部材消耗量大等問題，而且需要拉長停機時間，所以塗佈頭線上清潔為當前精密塗佈製程技術須面對的重要課題。

本新型創作提供一種塗佈頭清潔裝置，能不停工即可快速清潔塗佈頭且節省清潔部材。

本新型創作的塗佈頭清潔裝置，包括沿著塗佈頭之幅寬方向移動的刮刀模組與沿著塗佈頭之幅寬方向移動的清潔布模組。刮刀模組至少包括刮刀片與第一溶劑噴灑口，清潔布模組至少包括清潔布材、捲繞機構與第二溶劑噴灑口，其中捲繞機構捲繞上述清潔布材。所述清潔裝置還具有升降設備，分別與刮刀模組以及清潔布模組相連，以獨立升降刮刀模組以及清潔布模組，使刮刀模組上升時，刮刀片與塗佈頭之出料口鄰近表面接觸，並使清潔布模組上升時，捲繞機構拉升清潔布材，使清潔布材與塗佈頭之出料口鄰近表面接觸。

在本新型創作的一實施例中，上述捲繞機構的捲繞方向可垂直於塗佈頭的幅寬方向。

在本新型創作的一實施例中，上述捲繞機構拉升清潔布材時，能使清潔布材的張力增加並與出料口鄰近表面接觸。

在本新型創作的一實施例中，上述刮刀片為一體成形式結構或分離式結構。

在本新型創作的一實施例中，上述刮刀模組還可包括第一彈性機構，連結於刮刀片，使刮刀片藉助第一彈性機構之彈力與出料口鄰近表面接觸。

在本新型創作的一實施例中，上述清潔布模組還可包括第二彈性機構，與上述清潔布連動，使清潔布藉助第二彈性機構之彈力與出料口鄰近表面接觸。

在本新型創作的一實施例中，上述塗佈頭清潔裝置還可包括廢料承載盤，位於刮刀模組下方。

在本新型創作的一實施例中，上述塗佈頭清潔裝置還可包括乘載平台，乘載上述升降設備、上述刮刀模組以及上述清潔布模組，並藉由乘載平台使刮刀模組與清潔布模組同時沿著塗佈頭之幅寬方向移動。

在本新型創作的一實施例中，上述塗佈頭清潔裝置還可包括溶劑供應設備，用以供應溶劑至刮刀模組並自第一溶劑噴灑口噴出以及供應溶劑至清潔布模組並自第二溶劑噴灑口噴出。

在本新型創作的一實施例中，上述溶劑供應設備包括閥件，用以切換供給溶劑至刮刀模組或清潔布模組。

在本新型創作的一實施例中，上述塗佈頭清潔裝置還可包括第一溶劑供應設備，用以供應第一溶劑至刮刀模組並自第一溶劑噴灑口噴出。

在本新型創作的一實施例中，上述塗佈頭清潔裝置還可包括第二溶劑供應設備，用以供應第二溶劑至清潔布模組並自第二溶劑噴灑口噴出。

在本新型創作的一實施例中，上述第一溶劑噴灑口位於刮刀片前方，以在刮刀片與出料口鄰近表面接觸前，先從第一溶劑噴灑口噴出第一溶劑。

在本新型創作的一實施例中，上述第二溶劑噴灑口位於清潔布材下方，以便第二溶劑噴灑口噴出第二溶劑時潤濕清潔布材。

在本新型創作的一實施例中，上述刮刀模組可沿著塗佈頭之幅寬方向來回移動。

在本新型創作的一實施例中，上述清潔布模組沿著塗佈頭之幅寬方向來回移動。

在本新型創作的一實施例中，上述刮刀模組以及上述清潔布模組可同時與塗佈頭之出料口鄰近表面接觸。

在本新型創作的一實施例中，上述刮刀模組以及上述清潔布模組與塗佈頭之出料口鄰近表面接觸可以是不同步的。

基於上述，本新型創作因為整合刮刀模組與清潔布模組，且於其中均設置溶劑噴灑口，所以能不停工即快速清潔塗佈頭且節省清潔部材，尤其適用於高黏度材料或高分子型塗料的清潔。

為讓本新型創作的上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。

在一般的狹縫式塗佈製程中所使用的塗佈頭如圖1所示，塗佈頭100的出料口102前端表面與鄰接前端的表面100a在塗佈前後都需要保持其潔淨度，以免影響塗膜品質。因此本新型創作提出一種如圖2的塗佈頭清潔裝置。

請參照圖1與圖2，本實施例中的塗佈頭清潔裝置200至少包括沿著塗佈頭100之幅寬方向移動的刮刀模組202與清潔布模組204。刮刀模組202基本包括刮刀片206與第一溶劑噴灑口208，其中刮刀片206為分離式結構，但本新型創作並不限於此。刮刀片206可裝設在第一清潔座210上，使刮刀片206的角度與位置對應於塗佈頭100的表面100a。此外，刮刀模組202的下方較佳是設置一廢料承載盤212，以藉由其中的廢料流道212a，匯流被刮刀片206刮除的塗料與自第一溶劑噴灑口208噴出的溶劑，並從廢料出料口212b除去。雖然圖2中沒有顯示，但應可理解廢料出料口212b能通過與其相連的管路(如負壓收料管)，將廢料(即塗料與溶劑)排出。在本實施例中，第一溶劑噴灑口208可位於刮刀片206前方，以在刮刀片206與出料口102鄰近的表面100a接觸前，先從第一溶劑噴灑口208噴出溶劑。此外，可通過設在第一清潔座210的溶劑進料口214，將溶劑通到第一溶劑噴灑口208。

請繼續參照圖1與圖2，清潔布模組204基本包括清潔布材216、捲繞機構218a~218b與第二溶劑噴灑口220，其中捲繞機構218a~218b能捲繞清潔布材216，且捲繞機構218a~218b的捲繞方向較佳是垂直於塗佈頭100的幅寬方向。雖然圖2中沒有顯示傳動機構，但應可理解捲繞機構218a~218b是藉由與其連接的機構(如馬達)轉動，且所述傳動機構也可裝設在捲繞機構218a上。至於第二溶劑噴灑口220則可通過設在第二清潔座224的溶劑進料口222來輸送溶劑。由於清潔布材216可裝設在第二清潔座224上，所以第二溶劑噴灑口220較佳是位於清潔布材216下方，以便第二溶劑噴灑口220噴出溶劑時能潤濕清潔布材216。另外，可藉由溶劑供應設備(未繪示)供應溶劑至刮刀模組202並自第一溶劑噴灑口208噴出，並且供應溶劑至清潔布模組204並自第二溶劑噴灑口208噴出，這樣的溶劑供應設備可通過其中設置的閥件，來切換供給溶劑至刮刀模組202或清潔布模組204。

在圖2的塗佈頭清潔裝置200中還有升降設備226a~226b，分別與刮刀模組202以及清潔布模組204相連，其中升降設備226a~226b例如氣壓缸，以獨立升降刮刀模組202與清潔布模組204，使刮刀模組202上升時，刮刀片206能與塗佈頭100之出料口102鄰近表面100a接觸，並使清潔布模組204(含溶劑進料口222、捲繞機構218b、第二清潔座224)上升時，繞捲機構218a拉升清潔布材216，使清潔布材216與塗佈頭100之出料口102鄰近表面100a接觸。而且，當捲繞機構218a拉升清潔布材216時，還可通過捲繞機構218b(如夾持惰輪) 增加清潔布材216的張力。在本實施例中，尚可藉由一乘載平台228，乘載升降設備226a~226b、刮刀模組202以及清潔布模組204，並藉由乘載平台226使刮刀模組202以及清潔布模組204同時沿著塗佈頭100之幅寬方向移動。

圖3是圖2中的刮刀模組的透視圖，其中使用與圖2相同的元件符號來代表相同的構件。

在圖3中，刮刀模組202還可包括第一彈性機構300(如彈簧)，直接連結於刮刀片206，或通過其他構件如第一清潔座210和廢料承載盤212間接連結於刮刀片206。刮刀片206可藉助第一彈性機構300之彈力與出料口102鄰近的表面100a接觸，且第一彈性機構300除了能維持上述接觸，也可加壓使刮刀片206與出料口102鄰近的表面100a緊密貼合。另外，可通過第一溶劑供應設備302連接溶劑進料口214，以供應溶劑至刮刀模組202並自第一溶劑噴灑口208噴出。

圖4是圖3的刮刀模組之變形例的透視圖，其中使用與圖3相同的元件符號來代表相同的構件，且為了清楚起見，省略部分構件。在圖4中，刮刀模組202中的刮刀片400為一體成形式結構，其具有配合塗佈頭的外型。而溶劑進料口402也可設置在第一清潔座210的側面。

此外，刮刀模組除了圖2至圖4的結構，還可依照需求作適當改變。

圖5是圖2中的清潔布模組的透視圖，其中使用與圖2相同的元件符號來代表相同的構件。

在圖5中，清潔布模組204還可包括第二彈性機構500(如彈簧)，與清潔布材216連動，使清潔布材216藉助第二彈性機構500之彈力與出料口102鄰近的表面100a接觸，且第二彈性機構500除了能維持上述接觸，也可加壓使清潔布材216與出料口102鄰近的表面100a緊密貼合。另外，可通過第二溶劑供應設備502連接溶劑進料口222，以供應溶劑至清潔布模組204並自第二溶劑噴灑口220噴出。

圖5中的捲繞機構218a例如是由收捲輪504、放捲輪506與數個惰輪508所構成的捲對捲(Roll-to-Roll)機構。在不進行清潔的時候，第二清潔座224會降到捲繞機構218a之間。然而，一旦要進行清潔，升降設備226b會上升第二清潔座224，如圖6所示。

圖6是圖5之清潔布組在清潔塗佈頭時的透視圖，其中使用與圖1、圖5相同的元件符號來代表相同的構件。

請參照圖6，在第二清掃清潔座224上升期間，捲繞機構218a的放捲輪506會放出清潔布材216，並藉由夾持惰輪218b夾持緊固清潔布材216，所以待第二清潔座224抵接至塗佈頭100會使清潔布材216放出段的張力增加，而使清潔布材216與塗佈頭100前端及鄰近表面100a緊密接觸。此時，第二溶劑供應設備(圖5的502)會將溶劑從第二溶劑噴灑口220噴出並潤濕清潔布材216。

圖7是圖6的清潔布模組之變形例的透視圖，其中使用與圖6相同的元件符號來代表相同的構件。在圖7中，第二清潔座700也可不設置夾持惰輪，而是藉由適當的形狀，使清潔布材216直接藉由上升的第二清潔座700，抵接至塗佈頭100。

此外，清潔布模組除了圖5至圖7的結構，還可依照需求作適當改變。

因此，上述實施例的裝置能解決塗料沾黏與乾燥殘留於塗佈頭，所造成塗佈缺陷及清洗裝置維護之問題。下表一顯示的是常見的塗料種類和可與其搭配的溶劑種類，但本新型創作並不限於此。

表一 <TABLE border="1" borderColor="#000000" width="_0002"><TBODY><tr><td></td><td> 塗料名稱 </td><td> 溶劑 </td></tr><tr><td> 1 </td><td> 正型光阻(酚醛樹酯) </td><td> 乙酸乙酯(EAC)、丙酮 </td></tr><tr><td> 2 </td><td> 負型光阻(聚異戊二烯) </td><td> 乙酸乙酯(EAC)、丙酮 </td></tr><tr><td> 3 </td><td> 矽膠(A、B膠) </td><td> 乙酸乙酯(EAC)、丙酮 </td></tr><tr><td> 4 </td><td> 光學固化膠體 </td><td> 乙酸乙酯(EAC)、丙酮 </td></tr><tr><td> 5 </td><td> 導電高分子 </td><td> 去離子水(DI Water) </td></tr><tr><td> 6 </td><td> PI(聚亞醯胺) </td><td> N-甲基吡咯烷酮(NMP) </td></tr><tr><td> 7 </td><td> 以乙醇類為溶劑的材料 </td><td> 乙醇 </td></tr></TBODY></TABLE>

圖8是圖2之塗佈頭清潔裝置進行清潔的流程側視圖，其中使用與圖1、圖2相同的元件符號來代表相同的構件，且為了簡潔起見，省略部分構件。

圖8的左側顯示未進行清潔時的刮刀模組202與清潔布模組204。可在塗佈設備(未繪示)上、下料時，將塗佈頭100移動到清潔位置，以避免清潔過程汙染塗佈環境。

然後，升降設備226a與226b上升刮刀模組202與清潔布模組204，並將溶劑從刮刀模組202之第一溶劑噴灑口與清潔布模組204之第二溶劑噴灑口噴出，再通過移動設備800來移動乘載平台228上的刮刀模組202與清潔布模組204沿著塗佈頭100之幅寬方向往右移動，如圖8的中間部位所示，此時刮刀模組202以及清潔布模組204會同時與塗佈頭100之出料口102鄰近的表面100a接觸。從刮刀模組202之第一溶劑噴灑口噴出的溶劑可同時溶解塗佈頭100與刮刀片上殘料，除提升清潔效果外同時清洗刮刀片，避免髒污累積。從清潔布模組204之第二溶劑噴灑口噴出的溶劑則可濕潤清潔布材216，然而根據不同情況，也可選擇不濕潤清潔布材216。

在整個塗佈頭清潔裝置移動到塗佈頭100幅寬另一端，若要結束清潔流程，可透過升降設備226a~226b下降刮刀模組202和清潔布模組204，如圖8的右側所示。

然而，若是繼續清潔流程，可不降下清潔布模組204，而是直接藉由捲繞機構218a捲收使用過的清潔布材216，替換成乾淨的清潔布材216，然後如圖9所示，透過升降設備226b上升清潔布模組204與塗佈頭100接觸，再通過移動設備800移動乘載平台228上的刮刀模組202與清潔布模組204沿著塗佈頭100之幅寬方向往左移動。此時刮刀模組202以及清潔布模組204與塗佈頭100之出料口102鄰近表面的接觸是不同步的，只有清潔布材216與塗佈頭100接觸，且清潔布模組204之第二溶劑噴灑口可供應溶劑也可不供應溶劑。因此，刮刀模組202和清潔布模組204可沿著塗佈頭100之幅寬方向來回移動。

綜上所述，本新型創作的裝置整合刮刀模組與清潔布模組，且均設置有溶劑噴灑口，因此整個清洗塗佈頭的過程只需花費沿著塗佈頭之幅寬方向移動一趟或者去、回各一趟的時間，所以能不停工即快速清潔塗佈頭，且清潔布材與溶劑用量也能降到最低。

雖然本新型創作已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本新型創作，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本新型創作的精神和範圍內，當可作些許的更動與潤飾，故本新型創作的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。

100‧‧‧塗佈頭
100a‧‧‧表面
102‧‧‧出料口
200‧‧‧塗佈頭清潔裝置
202‧‧‧刮刀模組
204‧‧‧清潔布模組
206、400‧‧‧刮刀片
208‧‧‧第一溶劑噴灑口
210‧‧‧第一清潔座
212‧‧‧廢料承載盤
212a‧‧‧廢料流道
212b‧‧‧廢料出料口
214、222、402‧‧‧溶劑進料口
216‧‧‧清潔布材
218a、218b‧‧‧捲繞機構
220‧‧‧第二溶劑噴灑口
224、700‧‧‧第二清潔座
226a、226b‧‧‧升降設備
228‧‧‧乘載平台
300‧‧‧第一彈性機構
302‧‧‧第一溶劑供應設備
500‧‧‧第二彈性機構
502‧‧‧第二溶劑供應設備
504‧‧‧收捲輪
506‧‧‧放捲輪
508‧‧‧惰輪
800‧‧‧移動設備

圖1是一種狹縫式塗佈頭的立體示意圖。 圖2是依照本新型創作的一實施例的一種塗佈頭清潔裝置的立體示意圖。 圖3是圖2中的刮刀模組的透視圖。 圖4是圖3的刮刀模組之變形例的透視圖。 圖5是圖2中的清潔布模組的透視圖。 圖6是圖5之清潔布模組在清潔塗佈頭時的透視圖。 圖7是圖6的清潔布模組之變形例的透視圖。 圖8是圖2之塗佈頭清潔裝置進行清潔的流程側視圖。 圖9是圖2之塗佈頭清潔裝置進行清潔的流程側視圖。

200‧‧‧塗佈頭清潔裝置

202‧‧‧刮刀模組

204‧‧‧清潔布模組

206‧‧‧刮刀片

208‧‧‧第一溶劑噴灑口

210‧‧‧第一清潔座

212‧‧‧廢料承載盤

212a‧‧‧廢料流道

212b‧‧‧廢料出料口

214、222‧‧‧溶劑進料口

216‧‧‧清潔布材

218a、218b‧‧‧捲繞機構

220‧‧‧第二溶劑噴灑口

224‧‧‧第二清潔座

226a、226b‧‧‧升降設備

228‧‧‧乘載平台

Claims (18)

1. 一種塗佈頭清潔裝置，包括： 刮刀模組，沿著塗佈頭之幅寬方向移動，其中該刮刀模組包括刮刀片與第一溶劑噴灑口； 清潔布模組，沿著該塗佈頭之該幅寬方向移動，其中該清潔布模組包括清潔布材、捲繞機構與第二溶劑噴灑口，該捲繞機構捲繞該清潔布材；以及 升降設備，分別與該刮刀模組以及該清潔布模組相連，以獨立升降該刮刀模組以及該清潔布模組，使該刮刀模組上升時，該刮刀片與該塗佈頭之出料口鄰近的表面接觸，且使該清潔布模組上升時，該捲繞機構拉升該清潔布材，使該清潔布材與該塗佈頭之該出料口鄰近的該表面接觸。
2. 如申請專利範圍第1項所述的塗佈頭清潔裝置，其中該捲繞機構的捲繞方向垂直於該塗佈頭的該幅寬方向。
3. 如申請專利範圍第1項所述的塗佈頭清潔裝置，其中該捲繞機構拉升該清潔布材時，使該清潔布材的張力增加並與該出料口鄰近的該表面接觸。
4. 如申請專利範圍第1項所述的塗佈頭清潔裝置，其中該刮刀片為一體成形式結構或分離式結構。
5. 如申請專利範圍第1項所述的塗佈頭清潔裝置，其中該刮刀模組更包括第一彈性機構，連結於該刮刀片，使該刮刀片藉助該第一彈性機構之彈力與該出料口鄰近的該表面接觸。
6. 如申請專利範圍第1項所述的塗佈頭清潔裝置，其中該清潔布模組更包括第二彈性機構，與該清潔布連動，使該清潔布藉助該第二彈性機構之彈力與該出料口鄰近的該表面接觸。
7. 如申請專利範圍第1項所述的塗佈頭清潔裝置，更包括廢料承載盤，位於該刮刀模組下方。
8. 如申請專利範圍第1項所述的塗佈頭清潔裝置，更包括乘載平台，乘載該升降設備、該刮刀模組以及該清潔布模組，並藉由該乘載平台使該刮刀模組以及該清潔布模組同時沿著該塗佈頭之該幅寬方向移動。
9. 如申請專利範圍第1項所述的塗佈頭清潔裝置，更包括溶劑供應設備，用以供應一溶劑至該刮刀模組並自該第一溶劑噴灑口噴出以及供應該溶劑至該清潔布模組並自該第二溶劑噴灑口噴出。
10. 如申請專利範圍第9項所述的塗佈頭清潔裝置，其中該溶劑供應設備包括閥件，用以切換供給該溶劑至該刮刀模組或該清潔布模組。
11. 如申請專利範圍第1項所述的塗佈頭清潔裝置，更包括第一溶劑供應設備，用以供應第一溶劑至該刮刀模組並自該第一溶劑噴灑口噴出。
12. 如申請專利範圍第1項所述的塗佈頭清潔裝置，更包括第二溶劑供應設備，用以供應第二溶劑至該清潔布模組並自該第二溶劑噴灑口噴出。
13. 如申請專利範圍第1項所述的塗佈頭清潔裝置，其中該第一溶劑噴灑口位於該刮刀片前方，以在該刮刀片與該出料口鄰近的該表面接觸前，先從該第一溶劑噴灑口噴出第一溶劑。
14. 如申請專利範圍第1項所述的塗佈頭清潔裝置，其中該第二溶劑噴灑口位於該清潔布材下方，以便該第二溶劑噴灑口噴出第二溶劑時潤濕該清潔布材。
15. 如申請專利範圍第1項所述的塗佈頭清潔裝置，其中該刮刀模組可沿著該塗佈頭之該幅寬方向來回移動。
16. 如申請專利範圍第1項所述的塗佈頭清潔裝置，其中該清潔布模組沿著該塗佈頭之該幅寬方向來回移動。
17. 如申請專利範圍第1項所述的塗佈頭清潔裝置，其中該刮刀模組以及該清潔布模組同時與該塗佈頭之該出料口鄰近的該表面接觸。
18. 如申請專利範圍第1項所述的塗佈頭清潔裝置，其中該刮刀模組以及該清潔布模組與該塗佈頭之該出料口鄰近的該表面接觸是不同步的。