TWM501890U

TWM501890U - 用於製造氰化氫之反應總成

Info

Publication number: TWM501890U
Application number: TW102223408U
Authority: TW
Inventors: John C Caton; John F Gehrke; Gary L Carrier
Original assignee: Invista Tech Sarl
Priority date: 2012-12-18
Filing date: 2013-12-12
Publication date: 2015-06-01
Also published as: CN203833629U

Description

用於製造氰化氫之反應總成

本實用新型係關於鈍氣覆蓋系統，例如，製程器件。此製程器件可用於使用安德盧梭(Andrussow)法製造氰化氫之方法中。具體而言，本實用新型係關於用於製造氰化氫及控制粗製氰化氫產物中之氧含量的反應總成。

習慣上，氰化氫(「HCN」)係根據安德盧梭法或BMA法以工業規模製造。(例如，參見Ullman’s Encyclopedia of Industrial Chemistry，第A8卷，Weinheim 1987，第161-163頁)。例如，在安德盧梭法中，HCN可藉由在升高溫度下在反應器中在適宜觸媒存在下使氨與含甲烷氣體及含氧氣體反應來商業製造(美國專利第1,934,838號及第6,596,251號)。硫化合物及甲烷之高級同系物可對甲烷之氧化氨解參數具有效應。例如，參見Trusov,Effect of Sulfur Compounds and Higher Homologues of Methane on Hydrogen Cyanide Production by the Andrussow Method,Russian J.Applied Chemistry,74：10(2001)，第1693-1697頁)。藉由使反應器流出物氣體流與磷酸銨水溶液在氨吸收器中接觸來分離未反應之氨與HCN。將經分離氨純化並濃縮以供再循環用於HCN轉化。通常藉由吸收至水中自經處理反應器流出物氣體流回收HCN。經回收HCN可用進一步精製步驟處理以產生經純化HCN。清潔發展機制項目設計文件表格(Clean Development Mechanism Project Design Document Form)(CDM PDD，第3版)，2006示意性地解釋了安德盧梭HCN製造方法。經純化HCN可用於氫氰化，例如含烯烴基團之氫氰化，或例如1,3-丁二烯及戊烯腈之氫氰化，其可用於製造己二腈(「ADN」)。在BMA方法中，HCN係自甲烷及氨在實質上不存在氧下及在鉑觸媒存在下合成，從而可製造HCN、氫、氮、殘餘氨及殘餘甲烷(例如，參見Ullman’s Encyclopedia of Industrial Chemistry，第A8卷，Weinheim 1987，第161-163頁)。商業操作人員需要進行方法安全性管理以處置氰化氫之有害性質。(參見Maxwell等人Assuring process safety in the transfer of hydrogen cyanide manufacturing technology,JHazMat 142(2007),677-684)。另外，來自製造設施之HCN製造製程排放物可能要服從於規章，此可影響製造HCN之經濟性。(參見Crump,Economic Impact Analysis For The Proposed Cyanide Manufacturing NESHAP,EPA，2000年5月)。

美國專利第2,797,148號揭示自含有氨及氰化氫之氣態混合物之氨之回收。來自藉由使氨與帶有烴之氣體及含氧氣體反應製備氰化氫之製程的反應廢氣包含氨、氰化氫、氫、氮、水蒸氣及碳氧化物。將廢氣冷卻至55℃至90℃之溫度且隨後將其引導至吸收塔中用於自廢氣分離氨。

儘管已知安德盧梭法及氰化氫之回收，但存在較少(若存在)與以下有關之揭示內容：1)鈍氣覆蓋製程器件或2)製程控制，其用於監測粗製氰化氫產物或氨吸收器廢氣流中之氧含量並在三元氣體混合物包含至少25vol.%氧時控制該氧含量。

因此，需要在觸媒存在下製造氰化氫且亦可監測及控制粗製氰化氫產物或廢氣流中之氧之量的方法。

上述公開案以引用方式併入本文中。

相關申請案交叉參考

本申請案主張於2012年12月18日提出申請之美國申請案第61/738,815號之優先權，其全部內容及揭示內容併入本文中。

在一個實施例中，本實用新型係關於用於製造氰化氫之反應總成，該反應總成包含：鈍氣儲存單元；混合容器，其包含含有含甲烷氣體、含氨氣體及含氧氣體之三元氣體混合物組份的第一入口埠；及反應器，其包含第二入口埠、至少一個出口埠及包含含觸媒之觸媒床的內反應室；不含聚四氟乙烯之粗製氰化氫產物轉向閥；其中將鈍氣儲存單元加壓至1300kPa至1600kPa；且另外，其中鈍氣儲存單元經組態以將鈍氣進給至混合容器。

在第二實施例中，本實用新型係關於用於製造氰化氫之反應總成，該反應總成包含：鈍氣儲存單元；用於將含氧氣體引入至反應總成中之第一導管及閥，其中第一導管連接至鈍氣儲存單元用於在閥之上游進給鈍氣；第二導管，其用於將二元氣體混合物引入至反應總成中；反應器，其包含至少一個出口埠、包含含觸媒之觸媒床的內反應室；及不含聚四氟乙烯之粗製氰化氫產物轉向閥；其中將鈍氣儲存單元加壓至1300kPa至1600kPa。

100‧‧‧HCN合成製程器件

101‧‧‧鈍氣

102‧‧‧含氧氣體

103‧‧‧含甲烷氣體

104‧‧‧含氨氣體

105‧‧‧二元氣體混合物

106‧‧‧混合容器/反應器

107‧‧‧粗製氰化氫產物

108‧‧‧感測器

110‧‧‧氨吸收器

111‧‧‧管線/氰化氫流

112‧‧‧管線/氨流

113‧‧‧框

115‧‧‧閥

116‧‧‧閥

117‧‧‧管線

118‧‧‧閥

119‧‧‧閥

120‧‧‧氨洗滌器

121‧‧‧洗滌器塔頂餾出物流

122‧‧‧洗滌器殘餘流/洗滌器尾流

123‧‧‧燃燒器

124‧‧‧管線

130‧‧‧HCN吸收器

131‧‧‧廢氣流

132‧‧‧HCN產物/管線

133‧‧‧感測器

圖1係本實用新型之實施例之HCN製造及回收製程器件之示意圖。

本文所用術語僅用於闡述特定實施例之目的而並非意欲限制本實用新型。除非上下文另有明確指示，否則本文所用單數形式「一(a、an)」及「該」亦意欲包括複數形式。應進一步瞭解，在本說明書中使用時，術語「包含」(「comprises」及/或「comprising」)表示所述特徵、整數、步驟、操作、元件及/或組件之存在，但不排除一個或多個其他特徵、整數、步驟、操作、元件群組組件及/或其群組之存在或添加。

諸如「包括」、「包含」、「具有」、「含有」或「涉及」及其變化形式等語言意欲拓寬且涵蓋下文所列舉之標的物以及等效形式及未列舉之其他標的物。此外，只要組合物、元件群組、製程或方法步驟或任何其他表述之前有連接詞「包含」、「包括」或「含有」，應理解，本文中亦涵蓋在引用組合物、元件群組、製程或方法步驟或任何其他表述之前具有連接詞「基本上由……組成」、「由……組成」或「選自由……組成之群」的相同組合物、元件群組、製程或方法步驟或任何其他表述。

申請專利範圍中所有構件或步驟附加功能元件之相應結構、材料、動作及等效形式意欲包括任一用於組合所具體主張之其他主張元件實施功能之結構、材料或動作。本實用新型之說明已出於例示及說明之目的加以呈現，但並不意欲具有窮盡性或限定於呈所揭示形式之本實用新型。在不背離本實用新型之範圍及精神下，熟習此項技術者將明瞭許多修改及變化形式。所述實施例之選擇及闡述旨在最佳地解釋本實用新型之原理及實際應用，且以使其他熟習此項技術者能夠以適合於所涵蓋特定應用之形式理解具有各種修改之各種實施例的本實用新型。因此，儘管已依照實施例對本實用新型進行了闡述，但熟習此項技術者將認識到，本實用新型可在修改的情況下實施且在隨附申請專利範圍之精神及範圍內。

現將詳細參照某些揭示標的物。儘管將結合所列舉之申請專利範圍來闡述所揭示標的物，但應理解，其並不意欲將所揭示標的物限定於彼等申請專利範圍。相反，所揭示標的物意欲涵蓋可包括在如由申請專利範圍所界定之目前所揭示標的物之範圍內的所有替代形式、修改及等效形式。

本實用新型提供製造氰化氫之反應總成、製造氰化氫之方法及使用鈍氣覆蓋製程器件控制用於製造氰化氫之製程之操作穩定性的方法。反應總成包括混合容器、反應器及加壓鈍氣，例如，壓力為1300kPa至1600kPa，自混合容器及反應器在外部儲存。除非另外指明，否則所有壓力皆係絕對的。所儲存氣體之體積通常大於反應器之體積，此允許在高氧事件期間沖洗。用於製造氰化氫之本實用新型方法納入在氧含量超過臨限值量時用加壓鈍氣沖洗氰化氫反應總成。可在粗製氰化氫產物或其衍生物流(例如廢氣流)中監測臨限值量。此臨限值量可經調節且在氧濃度超過粗製氰化氫產物中之可接受程度時，可基於操作條件設定以觸發鈍氣覆蓋製程器件以沖洗反應器。出於本實用新型之目的，鈍氣覆蓋製程器件連接至反應器以在氧含量超過臨限值量時將鈍氣引入至反應器。類似地，在氧含量超過臨限值時，本實用新型方法藉由使用加壓鈍氣控制操作穩定性。如本文所述，尤其在氰化氫製造製程使用增強氧之空氣或純氧作為反應物時，此加壓鈍氣可與製造氰化氫組合使用。

在用於形成HCN之安德盧梭法中，可使甲烷、氨及氧原材料於約1000℃以上之溫度下在觸媒存在下反應以製造包含HCN、氫、一氧化碳、二氧化碳、氮、殘餘氨、殘餘甲烷及水之粗製氰化氫產物。反應在包含混合容器及反應器之反應總成中發生。將亦稱作含氧氣體、含氨氣體及含甲烷氣體之原材料提供至混合容器以形成三元氣體混合物。通常使用天然氣作為甲烷來源，同時可使用空氣、富集氧之空氣或純氧作為氧來源。使三元氣體混合物通過觸媒以形成粗製氰化氫產物。隨後分離粗製氰化氫產物以回收HCN。

觸媒通常為金屬絲網鉑/銠合金或金屬絲網鉑/銥合金。可使用其他觸媒組合物且包括(但不限於)鉑族金屬、鉑族金屬合金、受支撐之鉑族金屬或受支撐之鉑族金屬合金。亦可使用其他觸媒組態且其包括 (但不限於)多孔結構，包括織造、非織造及針織組、絲網、小片、團塊、單塊、發泡體、浸漬塗層及洗滌塗層。觸媒應足夠強以耐受增加之速率，該觸媒可與包含至少25vol.%氧之三元氣體混合物組合使用。因此，85/15鉑/銠合金可在平坦觸媒支撐件上使用。90/10鉑/銠合金可與相比於平坦觸媒支撐件具有增加之表面積之波紋支撐件一起使用。

本文所用術語「空氣」係指組成與取自通常在地面高度之大氣之氣體之天然組成大致相同的氣體混合物。在一些實例中，空氣取自周圍環境。空氣之組成包括約78vol.%氮、約21vol.%氧、約1vol.%氬及約0.04vol.%二氧化碳以及少量其他氣體。

本文所用術語「富集氧之空氣」係指組成包含較空氣中所存在更多氧之氣體的混合物。富集氧之空氣之組成包括大於21vol.%氧、小於78vol.%氮、小於1vol.%氬及小於0.04vol.%二氧化碳。在一些實施例中，富集氧之空氣包含至少28vol.%氧，例如，至少80vol.%氧、至少95vol.%氧或至少99vol.%氧。

安德盧梭法中HCN之形成通常係由以下概括性反應表示：2CH₄ +2NH₃ +3O₂ → 2HCN+6H₂ O

然而，應瞭解，上述反應代表遠更複雜動力學順序之簡化，其中首先氧化一部分烴以產生支持自剩餘烴及氨之HCN之吸熱合成所需的熱能。

在HCN之合成期間，亦發生三個基本副反應：CH₄ +H₂ O → CO+3H₂

2CH₄ +3O₂ → 2CO+4H₂ O

4NH₃ +3O₂ → 2N₂ +6H₂ O

除副反應中生成之一定量之氮外，端視氧之來源，粗產物中可存在額外氮。儘管先前技術已表明富集氧之空氣或純氧可用作氧之來源，但尚未完全探索使用富集氧之空氣或純氧之優勢。在使用空氣作為氧之來源時，粗製氰化氫產物包含空氣之組份(例如約78vol.%氮)及氨及氧副反應中產生之氮。

由於氮之量較大，故在HCN之合成中使用富集氧之空氣係有利的，此乃因在HCN之製造中使用空氣作為氧之來源使得可在大體積鈍氣(氮)存在下實施合成，迫使在合成步驟中需要使用較大設備並在產物氣體中產生較低濃度之HCN。另外，由於惰性氮之存在，需要燃燒更多甲烷以將三元氣體混合物組份之溫度升高至可持續HCN合成之溫度。粗製氰化氫產物含有HCN亦及副產物氫、甲烷燃燒副產物(一氧化碳、二氧化碳、水)、殘餘甲烷及殘餘氨。然而，在使用空氣(亦即，21vol.%氧)時，在自其他氣態組份分離HCN及可回收氨後，惰性氮之存在使得殘餘氣態流具有燃燒值，其可低於能量回收所期望。

因此，在HCN製造中使用富集氧之空氣或純氧替代空氣可提供若干益處，包括回收氫之能力、天然氣至HCN之轉化率增加及製程設備之大小同時減小。因此，使用富集氧之空氣或純氧經由減少進入合成製程之惰性化合物來減小反應器及下游氣體處理設備之至少一個組件之大小。使用富集氧之空氣或純氧亦降低將含氧之氣體加熱至反應溫度所需之能量消耗。

然而，氧之增加量及氮之減少量產生關於製程安全性之問題。藉由可燃限值控制三元氣體混合物中存在之氧之量。空氣、甲烷及氨之某些組合係可燃的且因此在點火後傳播火焰。若氣體組成處於可燃上限與下限之間，則空氣、甲烷及氨之混合物將燃燒。此範圍外之空氣、甲烷及氨之混合物通常不可燃。使用富集氧之空氣會改變三元氣體混合物中之易燃物之濃度。增加含氧氣體進料流中之氧含量顯著拓寬可燃範圍。例如，將含有45vol.%空氣及55vol.%甲烷之混合物視為極富燃料且不可燃，其中含有45vol.%氧及55vol.%甲烷之混合物係可燃的。額外關注爆燃限值。例如，於大氣壓力及室溫下，含有60vol.%氧、20vol.%甲烷及20vol.%氨之氣體混合物可爆燃。

因此，儘管已發現在HCN之製造中使用富集氧之空氣或純氧有利，但具有氧之空氣之富集必定導致三元氣體混合物中之易燃物之濃度變化且該易燃物之濃度變化增加進給至反應器之三元氣體混合物之可燃上限。因此，三元氣體混合物之緩燃及爆燃對氧濃度敏感。本文所用術語「緩燃」係指相對於在火焰正前方之未燃燒氣體以亞音速速度傳播的燃燒波。另一方面，「爆燃」係指相對於在火焰正前方之未燃燒氣體以超音速速度傳播的燃燒波。緩燃通常引起中等壓力升高，而爆燃可引起非尋常壓力升高。

儘管已建議使用富集氧之空氣用於增加HCN製造能力，但通常避免在可燃範圍內操作。參見美國專利第5,882,618號、第6,491,876號及第6,656,442號，該等案件之全部內容皆以引用方式併入本文中。在本實用新型中，控制富集氧之空氣或純氧進料以形成在可燃範圍內但不在可爆燃範圍內之三元氣體混合物。因此，在一些實施例中，三元氣體混合物包含大於25vol.%氧，例如，大於28vol.%氧。在一些實施例中，三元氣體混合物可包含25vol.%至32vol.%氧，例如，26vol.%至30vol.%氧。三元氣體混合物可具有1.2至1.6(例如，1.3至1.5)之氨對氧之莫耳比、1至1.5(例如，1.1至1.45)之氨對甲烷之莫耳比及1至1.25(例如1.05至1.15)之甲烷對氧之莫耳比。例如，三元氣體混合物可具有1.3之氨對氧及1.2之甲烷對氧之莫耳比。在另一實例性實施例中，三元氣體混合物可具有1.5之氨對氧及1.15之甲烷對氧之莫耳比。三元氣體混合物中之氧濃度可端視該等莫耳比而變化。

使用富集氧之空氣及可燃範圍內之穩定操作可達成且通常需要較非氧富集製程之操作所需更小心監測氨對氧及甲烷對氧莫耳比。例如，在可燃範圍內利用28vol.%氧操作時，可藉由監測及控制製程器件以防止所得三元氣體混合物轉變為具有在可爆燃範圍內之組成之混合物來穩定甲烷或氨流體之損失。此監測及控制可包括在HCN製造製程器件內之某些點處量測氧含量。

為控制氧含量及維持操作穩定性，可利用包含來自鈍氣儲存單元之鈍氣101、混合容器及反應器106(顯示為一個單元)之反應總成。儘管僅顯示一個反應器單元，但應理解，在一些實施例中，可平行使用兩個或更多個反應器。在一些實施例中，鈍氣與混合容器及反應器分開儲存，且可儲存於1300kPa至1600kPa(例如1350kPa至1550kPa或1400kPa至1500kPa)之壓力下。混合容器包含三元氣體混合物組份之第一入口埠。該等組份包括包含大於21vol.%氧之含氧氣體102、含甲烷氣體103及含氨氣體104。第一入口埠可包含至少兩個混合物組份導管。第一導管可用於將含氧氣體進給至第一入口埠。第二導管可用於將包含含甲烷氣體及含氨氣體之二元氣體混合物105進給至第一入口埠。在一些實施例中，第二導管可用於將含甲烷氣體進給至第一入口埠且第三導管可用於將含氨氣體進給至第一入口埠。

在其他實施例中，混合容器可包含兩個入口埠或三個入口埠(未顯示)。在混合容器包含兩個入口埠時，將含氧氣體進給至一個入口埠且將包含含甲烷氣體及含氨氣體之二元氣體混合物進給至另一入口埠。在混合容器包含三個入口埠時，將含氧氣體102進給至一個入口埠，將含甲烷氣體103進給至一個入口埠，且將含氨氣體104進給至一個入口埠。

在混合容器中混合三元氣體混合物組份以形成三元氣體混合物，其隨後流動穿過第二入口埠至反應器。在反應器中，三元氣體混合物流動穿過包含含有觸媒之觸媒床的內反應室。三元氣體混合物在觸媒存在下反應形成粗製氰化氫產物107。此粗製氰化氫產物107隨後經由出口埠離開反應器且可經受處理及/或分離步驟。

在一些實施例中，可在粗製氰化氫產物107離開反應器時使用感測器108量測粗製氰化氫產物107之氧含量。感測器108可為以實時或近實時監測濃度之GC感測器。感測器108能夠檢測低含量之氧。在正常操作條件下，粗製氰化氫產物中之氧濃度低，此乃因在反應期間通常消耗氧。因此，在正常操作條件下，氧濃度可自0vol.%變化至0.2vol.%。通常將用以觸發鈍氣覆蓋製程器件之氧之臨限值量設定高於粗製氰化氫產物中之正常預期氧濃度。出於本實用新型之目的，臨限值氧濃度可選自介於0.2vol.%氧與5vol.%氧之間(例如介於0.2vol.%氧與2vol.%氧之間或介於0.3vol.%氧與1vol.%氧之間)之任何值。較佳設定臨限值為較低值，以避免有大量氧洩漏穿過至粗製氰化氫產物中。然而，將值設定得過低會觸發非必要沖洗，從而導致停產時間。製程器件可耐受高於正常量之氧濃度，且因此可將臨限值設定為大於0.4vol.%(例如大於0.3vol.%或大於0.2vol.%)氧之值。在氧含量高於臨限值時，例如，大於0.4vol.%、大於0.3vol.%或大於0.2vol.%氧，可用鈍氣(例如氮)經由管線101沖洗反應總成。利用鈍氣沖洗應極快速地進行，以避免粗製氰化氫產物中之氧濃度進一步增加。基於將開始指示製程器件失衡之粗製氰化氫產物中之氧之量選擇大於0.4vol.%(例如大於0.3vol.%或大於0.2vol.%)氧之臨限值。製程器件失衡應較佳儘可能早檢測出以避免轉化率之進一步損失及避免在不安全條件中操作。監測粗製氰化氫產物中之氧濃度可早檢測潛在或實際製程器件失衡。大於0.4vol.%、大於0.3vol.%或大於0.2vol.%之氧量可指示製造問題，例如(1)氧繞過觸媒床；(2)反應轉化率降低；或(3)反應器中之甲烷及/或氨對氧之進料比不合格，其可使三元氣體移動至外延範圍。另外，粗製氰化氫產物107中之氧之較大濃度可出現分離困難且由於差的轉化率，可使得回收氰化氫花費更大。

如圖1中所示，經由含有閥115及116之導管將含氧氣體102引導至反應器。在製程器件失衡發生(例如氧含量高於臨限值)時，幾乎在感測器108檢測氧之較高濃度後立刻關閉進料閥115及116。閥115及116可包含不銹鋼。在進料閥115及116之間進給鈍氣且亦進給至閥116之下游之導管中之點。進給至兩個位置進一步有助於吹掃自導管剩餘之任何氧。進料閥115及116之間及隨後至閥116之下游之導管中之點之鈍氣之此進給可同時或依序。鈍氣可為氮、氦、氬、二氧化碳及其混合物。在一些態樣中，鈍氣係氮。在鈍氣進給至反應總成時，由於氧含量經測定且達到如本文所定義臨限值，含氧氣體流動減少或停止。

在一些實施例中，鈍氣亦可經由管線117直接進給至混合容器106。含氨氣體104及含甲烷氣體103可繼續流動經過反應器106或可切斷以避免反應物損失。在關閉閥115及116時，亦關閉閥118。關閉閥118會防止反應器106之出口流體進入HCN製造製程之分離部分。另外，在關閉閥115、116及118時，同時打開閥119以允許反應器106之出口流體流至燃燒器(flare)123，其中出口流體可燃燒且經由管線124自製程器件排出。向反應器中添加大體積鈍氣會抑制反應並停止氰化氫之產生。因此，利用鈍氣沖洗自反應器流出物回收氰化氫係不實際的且較佳吹掃反應器流出物。每一進料閥115及116可連接至加壓鈍氣儲存罐。加壓鈍氣儲存罐具有足以快速替代反應器之體積之體積。倘若電力故障，則儲存罐之壓力足以允許自製程器件吹掃氧之所需速率，例如1300kPa至1600kPa。閥可經設計以耐受溫度大於200℃之粗製氰化氫產物。閥118及119可包含可耐受大於200℃之溫度(即在該溫度下不變形)之任何材料(包括石墨與不銹鋼之組合)。含有石墨與不銹鋼之組合之閥包括由美國Kitz公司、Lunkenheimer Cincinnati Valve公司及Forum Energy Technologies以商品名DSI^® 銷售之金屬座閥。聚四氟乙烯對於此目的不足，此乃因高於200℃，其可變形。因此，閥不含聚四氟乙烯。在氧來源係氧增強之空氣或純氧時，儘管粗製氰化氫產物在離開反應器之前經冷卻，但粗製氰化氫產物之溫度仍高於200℃，例如高於220℃。未進一步冷卻粗製氰化氫產物且在反應器下游沒有如空氣方法中通常發現之冷卻器。不限於理論，據信必須維持粗製氰化氫產物高於其露點以避免HCN聚合。因此，在一些實施例中，在氧濃度超過臨限值時，可藉由不含聚四氟乙烯之閥將粗製氰化氫產物自分離系(例如，自其他氨回收或HCN精製)轉向。閥118及119亦可經選擇以耐受高達14MPa之壓力。

在其他實施例中，可藉由感測器133在反應器下游(例如本文所述反應器廢氣131中)量測氧含量。在一個態樣中，感測器108及感測器133可量測製程中之至少兩個位置中之氧濃度。對於廢氣，氧含量臨限值可高於2vol.%，例如高於1.5vol.%或高於1vol.%。氧之臨限值含量於廢氣中較吸收器中高，此乃因氧在此廢氣中較粗製氰化氫產物中更濃縮。在一些態樣中，廢氣在變壓吸附器(「PSA」)中經受純化以回收氫。在感測器133量測反應器廢氣131中之氧含量時，操作控制可設定為將廢氣流體自PSA轉向。不限於理論，在氧含量大於1vol.%時，可使廢氣流體自PSA轉向，以節省與在廢氣具有較在正常操作條件下通常於廢氣中發現高之氧含量時使用PSA相關之能量成本。

因此，本實用新型亦係關於控制操作穩定性之方法，其係藉由以下方式達成：測定粗製氰化氫產物或廢氣流中之氧含量及將鈍氣進給至反應總成，藉此用鈍氣沖洗反應總成。利用鈍氣覆蓋製程器件之鈍氣之此沖洗用於快速減少反應總成中之氧含量並將三元氣體混合物移動出可爆燃氧範圍。粗製氰化氫中之氧含量將減少至臨限值氧濃度以下。鈍氣之覆蓋亦抑制反應以防止形成粗製氰化氫產物。

在鈍氣之反應總成之此沖洗期間，含氧氣體進料經調節以包含小於5vol.%氧及大於80vol.%鈍氣。調節取決於含氧氣體中存在之鈍氣之初始量。例如，與在使用包含23vol.%氧之富集氧之空氣作為含氧氣體時相比，在使用純氧作為含氧氣體時，將需要進給至反應總成更多鈍氣。類似地，三元氣體混合物經調節以包含小於25vol.%氧，例如小於15vol.%、小於10vol.%、小於5vol.%或實質上不含氧。

返回至圖1，正常操作條件下之粗製氰化氫產物107含有HCN且亦可包括副產物氫、甲烷燃燒副產物(例如二氧化碳、一氧化碳及水)、氮、殘餘甲烷及殘餘氨。殘餘氨可回收且可進一步經處理並與含氨氣體104組合。由於HCN之聚合速率可隨pH增加而增加，故必須去除殘餘氨以避免HCN聚合。HCN聚合不僅代表製程生產率問題，且亦係操作挑戰，此乃因聚合HCN可引起生產線阻斷，從而引起壓力增加及相關製程控制問題。通常，粗製氰化氫產物107於高溫(例如約1200℃)下離開反應器，且快速淬滅至小於400℃、小於300℃或小於200℃。此淬滅可藉由使用任何已知單元操作(例如廢熱鍋爐)完成。隨後在本文所述精製製程之第一步驟中自粗製氰化氫產物107分離氨，且藉由使粗製氰化氫產物與過量酸(例如，H₂ SO₄ 或H₃ PO₄ )立刻反應以使殘餘游離氨由酸捕獲作為銨鹽且溶液之pH保持酸性來抑制HCN聚合。將氨回收進料流中之甲酸及草酸以甲酸鹽及草酸鹽形式捕獲於氨回收製程器件中之水溶液中。

HCN在氫氰化製程(例如1,3-丁二烯(本文中有時稱作「丁二烯」)及戊烯腈之氫氰化以產生己二腈)中欲用作進料流時需要之低水及高純度之要求需要製造及處理未抑制HCN之方法。本文所用術語「未抑制」意指HCN實質上不含穩定聚合抑制劑。該等抑制劑可需要在(例如)氫氰化(例如藉由1,3-丁二烯之氫氰化及戊烯腈之氫氰化製造己二腈)及彼等熟習此項技術者已知之其他轉化製程中利用HCN之前去除。

返回至圖1，在存在殘餘氨時，將粗製氰化氫產物107進給至氨吸收器110，其中分離氨及氰化氫以在管線112中形成氨流且在管線 111中形成氰化氫流。亦可將磷酸鹽流(未顯示)進給至氨洗滌器120。磷酸鹽流可包含磷酸。在一些實施例中，磷酸鹽流係稀磷酸流。在其他實施例中，使用替代磷酸鹽，如本文所論述。

氨吸收器110可利用填料及/或塔板。在一個實施例中，氨吸收器110中之吸收級係閥塔板。閥塔板已為業內熟知且塔板設計經選擇以達成良好循環、防止停滯區並防止聚合及腐蝕。為避免聚合，設備經設計以使停滯區最小化，通常HCN存在於(例如)氨吸收器110中以及下文論述之其他區域中。氨吸收器110亦可在頂塔板上方納入挾帶物分離器以使攜帶最小化。挾帶分離器通常包括使用諸如降低速率、離心分離、除濕器、篩網或填料或其組合等技術。

在另一實施例中，氨吸收器110在氨吸收器110上部中提供有填料且在氨吸收器110下部中提供複數個閥塔板。填料用於減少及/或防止氨及磷酸鹽經由氰化氫流111逸出氨吸收器110。填料為氨吸收提供額外表面積，同時減少氰化氫流111中之挾帶物，從而產生整體增加之氨吸收能力。氨吸收器110上部中所採用之填料可為能夠實施上文所揭示功能之任何低壓力降之結構化填料。該填料已為業內熟知。可用於本實用新型中之當前可用之填料的實例係由Koch-Glitsch of Wichita,KS銷售之250Y FLEXIPAC^® 填料。氨吸收器110下部中之複數個固定閥塔板經設計以處置與HCN合成製程器件100之啟動及操作有關之壓力偏移。

在又一實施例中，藉由自氨吸收器110下部抽取一部分液體及使其循環穿過冷卻器並在抽取點上方之點處返回至氨吸收器110中至少部分維持氨吸收器110之溫度。

在一些實施例中，磷酸鹽流可包含磷酸氫單銨(NH₄ H₂ PO₄ )及磷酸氫二銨((NH₄ )₂ HPO₄ )之水溶液。磷酸鹽流可介於0℃至150℃(例如0℃至110℃或0℃至90℃)之溫度範圍內。

在一些實施例中，氨流112包含來自反應器流出物之大量氨，例如大於50wt.%、大於70wt.%或大於90wt.%。氨流112可如通常由框113所繪示進一步分離、純化及/或處理，以回收氨用於再循環至反應器進料。在較佳實施例中，氰化氫流111包含小於1000mpm(例如小於700mpm、小於500mpm或小於300mpm)氨。

氨洗滌器120經設計以在離開洗滌器120之洗滌器塔頂餾出物流121進入HCN吸收器130之前去除氰化氫流111中存在之實質上所有游離氨。洗滌器塔頂餾出物流121應實質上不含氨，此乃因游離氨(亦即未中和氨)將升高HCN精製製程器件100中之pH，由此增加HCN聚合之潛能。洗滌器殘餘流122包含氨且可再循環至氨吸收器110。

儘管酸(例如硫酸)可用於HCN精製，但單一酸(特定而言磷酸)用於HCN精製製程器件100用於製造未經抑制HCN。可添加濃磷酸(例如73wt%水性磷酸)以維持期望pH。通常，洗滌器尾流122中之pH維持為1.7至2.0。稀磷酸流中存在之磷酸之量可變且將在很大程度上取決於氰化氫流111中存在之氨之量。然而，通常，稀磷酸流含有5.5wt%至7.0wt%游離磷酸。

氨洗滌器120之塔頂餾出物洗滌器流121含有HCN、水、一氧化碳、氮、氫、二氧化碳及甲烷。在一個實施例中，將塔頂餾出物洗滌器流121進給至部分冷凝器(未顯示)，其中利用冷卻水將該流冷卻至約40℃之溫度以形成冷卻蒸氣流及冷凝液體流。可將稀磷酸噴霧至冷凝器及冷卻蒸氣流中以抑制HCN聚合。將冷凝液體流及冷卻蒸氣流獨立地進給至HCN吸收器下部用於HCN回收。

將塔頂餾出物洗滌器流121引導至HCN吸收器130，其中分離塔頂餾出物洗滌器流121以形成廢氣流131及HCN產物132。廢氣流131可含有一氧化碳、氮、氫、二氧化碳、氧及甲烷。可使用如本文所述感測器133量測廢氣流131之氧含量，且在氧含量大於2vol.%時，可用鈍氣沖洗反應總成。如本文所述，廢氣流中之氧臨限值高於粗製氰化氫產物中，此乃因廢氣流較粗製氰化氫產物更濃縮。主要燃料組份係氫及一氧化碳與一些甲烷。廢氣流131可燃燒，或可用作蒸汽製造鍋爐中之鍋爐燃料以回收能量。藉由利用廢氣流作為燃料，不僅生成蒸汽，且亦破壞廢氣中之任何殘餘HCN。另外，若氫濃度在經濟上可回收，例如在含氧氣體包含大於21vol.%氧時，可首先將廢氣流131發送至氫回收單元(例如變壓吸附器單元)以回收高純度氫。

針對氧氣安德盧梭法及空氣安德盧梭法自粗製氰化氫產物107分離後之廢氣流131的比較在下表1中製錶。

如表1中所示，在使用氧氣安德盧梭法時，廢氣流131包含0.2vol.%氧及5.6vol.%氮。若三元氣體混合物中之氧之vol.%增加，則廢氣流中之氧濃度同時增加。如本文所述，在此氧含量達到2vol.%時，將用鈍氣沖洗反應總成以降低反應總成中及由此粗製氰化氫產物中及廢氣流中之氧含量。

在一個實施例中，廢氣流中之氧之臨限值可用於使用變壓吸附器(「PSA」)控制氫回收。如表1中所示，在使用純氧作為含氧氣體時較在使用空氣時，廢氣流中之氫濃度遠遠更高。由於廢氣中之此高濃度的氫，可在高純度氫流中回收氫且用於其他製程中，從而在彼等其他製程中產生大量成本節約。亦可使用用以量測廢氣流之氧含量之感測器來設定用以將廢氣流自PSA轉向之氧臨限值。此臨限值可為1vol.%或更多氧，例如0.8vol.%或更多或0.6vol.%或更多。

可將管線132中之氰化氫產物送至HCN富集器塔(未顯示)以回收無水HCN，且其可用作將來製程中之HCN之來源，例如用於氫氰化。本文所用術語「氫氰化」意欲包括包含至少一個碳-碳雙鍵或至少一個碳-碳三鍵或其組合且可進一步包含其他官能基(包括但不限於腈、酯及芳族化合物)之脂族不飽和化合物的氫氰化。該等脂族不飽和化合物之實例包括(但不限於)烯烴(alkene)(例如，烯烴(olefin))；炔烴；1,3-丁二烯；及戊烯腈。藉由本文所揭示及/或主張之實用新型製程、方法、裝置及組合物產生之經純化且未經抑制之HCN適用於如上文所述之氫氰化，包括1,3-丁二烯及戊烯腈氫氰化以產生己二腈(ADN)。自1,3-丁二烯之ADN製造涉及兩個合成步驟。第一步驟使用HCN以將1,3-丁二烯氫氰化成戊烯腈。第二步驟使用HCN以將戊烯腈氫氰化成己二腈(ADN)。此ADN製造製程在本文中有時稱作丁二烯氫氰化成ADN。ADN被用於製造商業上重要之產品，包括但不限於6-胺基己腈(ACN)；1,6-己二胺(HMD)；ε-己內醯胺；及聚醯胺，例如耐綸(nylon)6及耐綸6,6。

可使用各種控制製程器件藉由量測氧濃度及啟動鈍氣覆蓋製程器件來調控反應物氣體流動。例如，可使用量測反應物氣體之流速、溫度及壓力並且允許控制製程器件向操作人員及/或控制器件提供壓力及溫度補償流速之「即時」回饋的流量計。熟習此項技術者應瞭解，上述功能及/或製程可體現為製程器件、方法或電腦程式產品。例如，功能及/或製程可作為記錄在電腦可讀儲存器件中之電腦可執行程式指令實施，該器件在由電腦處理器擷取並執行時，控制計算製程器件以實施本文所述實施例之功能及/或製程。在一個實施例中，電腦製程器件可包括一或多個中央處理單元、電腦記憶體(例如，唯讀記憶體、隨機存取記憶體)及資料儲存器件(例如，硬磁碟機)。電腦可執行指令可使用任一適宜之電腦程式設計語言(例如，C++、JAVA等)編碼。因此，本實用新型之態樣可呈完全為軟體之實施例(包括韌體、常駐軟體、微程式碼等)或組合軟體與硬體態樣之實施例之形式。

根據上文闡述，可明瞭本實用新型非常適於實施目標及獲得本文所提及之優點以及目前所提供揭示內容中固有之優點。儘管已出於本實用新型之目的闡述本實用新型之較佳實施例，但應理解，可做出熟習此項技術者可容易地想到且在本實用新型精神內達成之變化。

可藉由參考以下實例來進一步理解本實用新型。

實例1

藉由組合純氧、含氨氣體及含甲烷氣體形成三元氣體混合物。三元氣體混合物中之氨對氧莫耳比係1.3：1且三元氣體混合物中之甲烷對氧之比係1.2：1。使包含27vol.%至29.5vol.%氧之三元氣體混合物在鉑/銠觸媒存在下反應以形成粗製氰化氫產物。存在氣體感測器以量測在進入氨及HCN分離系之前之粗製氰化氫產物中之氧含量。感測器使用氣體層析以量測氧含量。感測器報告0.5vol.%之氧含量，此指示製程器件失衡，且啟動鈍氣覆蓋製程器件。鈍氣係氮。用於將含氧氣體引導至反應器之導管具有兩個串聯之閥，即第一氧閥及第二氧閥，其中第二氧閥在下游且更靠近反應器入口。氧閥包含不銹鋼。藉由關閉第一氧閥暫停氧流動，同時自加壓儲存罐釋放氮。氮在兩個位置中流動穿過氧入口管道。第一位置介於第一氧閥與第二氧閥之間。第二位置介於第二氧閥與反應器入口之間。甲烷及氨進料不中斷地繼續行進至反應器。在氧流動停止的同時，啟動控制閥以暫停自反應器出口至氨及HCN分離系之流動。控制閥包含石墨及不銹鋼。控制閥不含聚四氟乙烯。打開包含與控制閥相同材料之通風閥以將流體自反應器出口引導至燃燒器。恢復製程器件平衡且可重啟該製程。倘若電力故障，加壓氮提供足夠體積之氮以自反應器吹掃氧。

實例2

如實例1中製造粗製氰化氫產物。將粗製氰化氫產物引導穿過氨吸收器、氨洗滌器及HCN吸收器以形成廢氣流。存在感測器以量測廢氣流中之氧含量。感測器報告大於2vol.%之氧含量，此指示製程器件失衡，且啟動鈍氣覆蓋製程器件。鈍氣覆蓋製程器件係如實例1中運行。

比較實例A

如實例1中遵循製程，只是控制閥及釋放閥由聚四氟乙烯組成。每一閥在啟動時(即在與粗製氰化氫產物接觸時)變形。僅將來自反應器出口之流體部分引導至燃燒器且製程器件失衡未恢復。