TWM449051U - 翻轉裝置及其導引滑座及具有該翻轉裝置的檢測設備 - Google Patents

Description

翻轉裝置及其導引滑座及具有該翻轉裝置的檢測設備

本新型是有關於一種翻轉裝置，特別是指一種用於翻轉待測料片的翻轉裝置及具有該翻轉裝置的檢測設備。

現今，各種電子產品已經廣泛的運用，例如：智慧型手機、電腦、平板電腦以及平板電腦等等，而電路板則是上述各電子產品的重要電子組件。所以一旦電路板產生問題，則會影響到電子裝置的使用壽命、使用效能等，為了能夠避免在組裝成電子產品前，電路板就有瑕疵的問題，於是，事先的檢測電路板遂成為一個重要的課題。

AOI(Automated Optical Inspection，中文：自動光學檢測)設備普遍應用在半導體、印刷電路板等各種產業領域中。其主要操作原理是利用電腦程式驅動，並配合攝影鏡頭對檢測物掃描，採集檢測物的影像與資料庫中的合格參數比較分析，找出檢測物上的瑕疵，應用在電路板上，則可以檢測電路板表面是否有異物附著、刮傷或漏上金等瑕疵情形。AOI的優點為高速高精度光學影像檢測系統、能進行反覆精確的檢測，並且運用機器視覺做為檢測標準技術，而改良傳統上以人力使用光學儀器進行檢測的缺點。

而AOI設備主要是以光學檢測機構、檢測物輸送機構以及電腦分析系統組成。檢測物輸送機構負責運送電路板進入光學檢測區。而光學檢測區則裝設有光學檢測機構，當電路板進入光學檢測區後，光學檢測機構會對電路板打 光，使光自電路板反射回鏡頭，接著將所得到的資訊傳回電腦分析系統與一正常的電路板影像比較，以區分電路板為正常或者不正常(瑕疵)兩類。而為了能夠檢測一電路板的兩相反面，傳統上有兩種做法，第一種做法是裝設兩個光學檢測機構，當電路板進入光學檢測區時，即可同時由電路板的上方和下方對電路板的兩面做檢測，但是此種作法由於光學檢測設備皆為高精密的儀器，每當組裝上一個光學檢測設備，則需要耗費許多時間校正，因而一次要裝上兩個光學檢測設備，等於要耗費兩倍的時間，而且光學檢測設備本身的成本也高。另外，第二種做法，是在電路板通過光學檢測區經光學檢測後，在檢測物輸送機構的後段，另外設置一機械吸盤手臂及一翻面機構，先以機械吸盤手臂吸取該電路板，放置於該翻面機構，該翻面機構對該電路板完成翻面後，再以該機械吸盤手臂吸取該電路板放回檢測物輸送機構，然後送回光學檢測區檢測，但是機械吸盤手臂和現有翻面機構皆是自動化的精密機械，不論在程式的控制上或者是機械本身成本都不便宜。

面對上述種種的缺點，要如何能達到所要的效果，又可以降低設備的成本及所需耗費的前置時間，則是一個需要解決的問題。

因此，本新型之目的，即在提供一種構造簡單且製造成本低的翻轉裝置。

本新型的目的及解決先前技術問題是採用以下技術手 段來實現的，依據本新型所揭露的翻轉裝置，適於翻轉複數片待測料片，每一待測料片具有一上表面及一相反於該上表面的下表面，該翻轉裝置包含一輸送元件及一導引滑座。

該輸送元件，包括一承載面、一前端，及一後端，該等待測料片彼此前後相間隔排列地放置於該承載面上並可沿一由前朝後的輸送方向被輸送，各該待測料片的下表面貼靠於該承載面。

該導引滑座，包括一前導引座體，及一連接於該前導引座體的後阻擋座體，該前導引座體包含一鄰近於該輸送元件的該後端的頂端，及一由該頂端朝後並朝下傾斜延伸且連接至該後阻擋座體的第一斜面，該頂端高度低於該承載面高度，該第一斜面用以導引該等待測料片的其中一待測料片朝向該後阻擋座體滑移到一預定位置，使該待測料片的第一端抵接於該後阻擋座體，以及該下表面抵靠於該第一斜面且部分凸伸出該承載面上方，鄰近於該待測料片前方的另一待測料片的第一端可頂推凸伸出該承載面上方的該下表面以帶動該待測料片旋轉，使該上表面抵靠於該後阻擋座體且該下表面朝上。

較佳地，該第一斜面包括一相反於該頂端的下端，該後阻擋座體包含一凸設於該下端用以擋止該待測料片的該第一端的擋止部，該擋止部與該輸送元件的該承載面的一後緣之間界定一斜向距離，該待測料片的一長度大於該斜向距離。

較佳地，該後阻擋座體還包含一由該擋止部朝後並朝下傾斜延伸的第二斜面，及一設置於該第二斜面相反於該擋止部一端的容置區，該第二斜面用以供該待測料片的該上表面抵靠並可將該待測料片導引至該容置區，該容置區用以容置該待測料片使該下表面朝上，該擋止部為一由該下端朝上並朝後傾斜延伸的擋止斜面，該擋止部包括一與該下端相間隔的凸端，該第二斜面由該凸端延伸而出。

較佳地，該第一斜面與該擋止部之間夾一第一角度，該第一角度為70度至90度。

較佳地，該擋止部具有一界定於該下端與該凸端之間的長度，該長度大於該待測料片的一厚度。

較佳地，該第一斜面的長度大於或等於該待測料片的一長度的二分之一，該下端至該後端的水平距離以及該下端至該承載面的垂直距離皆為該待測料片的該長度的二分之一。

較佳地，該第二斜面包括一相反於該凸端的輸出端，該容置區包括一間隔位於該輸出端後方的擋止壁，及一連接於該擋止壁底端且間隔位於該輸出端下方的水平底壁，該擋止壁用以擋止該待測料片的一相反於該第一端的第二端，該水平底壁用以供該待測料片的該上表面貼靠。

較佳地，該第一斜面延伸至該水平底壁的一第一延伸線與該水平底壁之間夾一第二角度，該第二斜面延伸至該水平底壁的一第二延伸線與該水平底壁之間夾一第三角度，該第三角度小於或等於該第二角度。

較佳地，該第一斜面凹陷形成一容置槽，該翻轉裝置還包含一設置於該容置槽內的頂推機構，該頂推機構包括一用以頂推位在該預定位置的該待測料片的該下表面的頂推桿，及一可驅動該頂推桿往復移動的氣缸。

本新型之另一目的，在於提供一種構造簡單且製造成本低翻轉裝置的導引滑座。

依據本新型所揭露的導引滑座，適於與一輸送元件相配合，該輸送元件包括一承載面、一前端，及一後端，該輸送元件用以輸送複數片待測料片，每一待測料片具有一上表面及一相反於該上表面的下表面，該等待測料片彼此前後相間隔排列地放置於該承載面上並可沿一由前朝後的輸送方向被輸送，各該待測料片的下表面貼靠於該承載面，該導引滑座包含一前導引座體及一後阻擋座體。

該後阻擋座體連接於該前導引座體，該前導引座體包含一鄰近於該輸送元件的該後端的頂端，及一由該頂端朝後並朝下傾斜延伸且連接至該後阻擋座體的第一斜面，該頂端高度低於該承載面高度，該第一斜面用以導引該等待測料片的其中一待測料片朝向該後阻擋座體滑移到一預定位置，使該待測料片的第一端抵接於該後阻擋座體，以及該下表面抵靠於該第一斜面且部分凸伸出該承載面上方，鄰近於該待測料片前方的另一待測料片的第一端可頂推凸伸出該承載面上方的該下表面以帶動該待測料片旋轉，使該上表面抵靠於該後阻擋座體且該下表面朝上。

本新型之又一目的，在於提供一種具有翻轉裝置的檢 測設備，翻轉裝置的構造簡單且製造成本低，並能確實地進行待測料片的翻轉作業，以使檢測設備能對待測料片的上表面及下表面進行表面瑕疵的檢測。

依據本新型所揭露的具有翻轉裝置的檢測設備，適於檢測複數片待測料片的表面瑕疵，每一待測料片具有一上表面及一相反於該上表面的下表面，該檢測設備包括一輸送裝置、一進料裝置、一光學檢測裝置、一翻轉裝置，及一回送裝置。

該輸送裝置包含一前端緣、一後端緣，及一可沿著一由前朝後的輸送方向輸送該等待測料片的輸送帶體，該等待測料片彼此前後相間隔排列地放置於該輸送帶體上。該進料裝置鄰近於該輸送裝置的該前端緣，用以提供該等待測料片至該輸送帶體上。該光學檢測裝置設置該前端緣與該後端緣之間且位於該輸送帶體上方，該光學檢測裝置用以對該輸送帶體上的各該待測料片的該上表面或該下表面進行檢測。該翻轉裝置鄰近於該輸送裝置的該後端緣用以翻轉各該待測料片，該翻轉裝置包含一輸送元件及一導引滑座。

該輸送元件，包括一承載面、一鄰近於該後端緣的前端，及一後端，該等待測料片彼此前後相間隔排列地放置於該承載面上並可沿一由前朝後的輸送方向被輸送，各該待測料片的下表面貼靠於該承載面。

該導引滑座，包括一前導引座體，及一連接於該前導引座體的後阻擋座體，該前導引座體包含一鄰近於該輸送 元件的該後端的頂端，及一由該頂端朝後並朝下傾斜延伸且連接至該後阻擋座體的第一斜面，該頂端高度低於該承載面高度，該第一斜面用以導引該等待測料片的其中一待測料片朝向該後阻擋座體滑移到一預定位置，使該待測料片的第一端抵接於該後阻擋座體，以及該下表面抵靠於該第一斜面且部分凸伸出該承載面上方，鄰近於該待測料片前方的另一待測料片的第一端可頂推凸伸出該承載面上方的該下表面以帶動該待測料片旋轉，使該上表面抵靠於該後阻擋座體且該下表面朝上。

該回送裝置設置於該翻轉裝置一側，用以將位於該後阻擋座體上的該待測料片送回至該輸送元件的承載面，該輸送帶體可沿一由後朝前的移動方向輸送該待測料片。

本新型之功效在於：藉由構造簡單的翻轉裝置設計，能降低製造成本，且翻轉裝置能確實地進行待測料片的翻轉作業，以使檢測設備能對待測料片的上表面及下表面進行表面瑕疵的檢測。

有關本新型之前述及其他技術內容、特點與功效，在以下配合參考圖式之一個較佳實施例的詳細說明中，將可清楚地呈現。透過具體實施方式的說明，當可對本新型為達成預定目的所採取的技術手段及功效得以更加深入且具體的了解，然而所附圖式只是提供參考與說明之用，並非用來對本新型加以限制。

參閱圖1及圖2，是本新型具有翻轉裝置的檢測設備 的一較佳實施例，適於檢測複數片待測料片1的表面瑕疵，本實施例的待測料片1是以一不可透光的電路基板為例作說明，每一待測料片1具有一上表面11及一相反於上表面11的下表面12。當然，待測料片1也可為其他不可透光的待測元件，並不以電路基板為限。

檢測設備200包括一機座21、一輸送裝置3、一進料裝置4、一光學檢測裝置5、一翻轉裝置6，及一回送裝置7。輸送裝置3設置於機座21頂端並包含一前端緣31、一後端緣32，及一可沿著一由前朝後的輸送方向I輸送該等待測料片1的輸送帶體33。進料裝置4鄰近於輸送裝置3的前端緣31，用以提供該等待測料片1至該輸送帶體33上，使該等待測料片1彼此前後相間隔排列地放置於輸送帶體33。光學檢測裝置5安裝於機座21頂端，光學檢測裝置5設置前端緣31與後端緣32之間且位於輸送帶體33上方，光學檢測裝置5用以對輸送帶體33上的待測料片1的上表面11或下表面12進行檢測。翻轉裝置6用以對已檢測後之待測料片1進行翻轉作業，以使待測料片1的下表面12朝上。回送裝置7設置於翻轉裝置6一側，用以將翻轉後的該等待測料片1送回至輸送帶體33，該回送裝置7包括一設置於翻轉裝置6旁的水平軌道71、一裝設於水平軌道71上的升降手臂72，及一與升降手臂72連接並用以吸取待測料片1的真空吸盤73。而回送裝置7詳細的作動方式容後說明。

如圖2、圖3及圖4所示，翻轉裝置6鄰近於輸送裝 置3的後端緣32並用以翻轉待測料片1，翻轉裝置6包含一輸送元件61，及一導引滑座62。輸送元件61包括一承載面611、一鄰近於後端緣32的前端612，及一後端613。輸送帶體33可依序將該等待測料片1輸送至輸送元件61，使該等待測料片1彼此前後相間隔排列地放置於承載面611上並可沿輸送方向I被輸送元件61輸送，各待測料片1的下表面12(如圖1所示)貼靠於承載面611。

導引滑座62包括一前導引座體621、一連接於前導引座體621後側的後阻擋座體622，及一頂推機構63。

前導引座體621包含一鄰近於輸送元件61的後端613的頂端6211，及一由頂端6211朝後並朝下傾斜延伸且連接至後阻擋座體622的第一斜面6213。頂端6211高度低於承載面611高度，使前導引座體621能夠承接來自輸送元件61的待測料片1，而不會阻擋在待測料片1的移動路徑上。第一斜面6213包括一相反於頂端6211並與後阻擋座體622相連接的下端6212，第一斜面6213用以導引該等待測料片1的其中一待測料片1朝向該後阻擋座體622滑移到一預定位置，使該待測料片1的第一端13抵接於後阻擋座體622，以及下表面12抵靠於第一斜面6213且部分凸伸出輸送元件61的承載面611上方。

具體而言，後阻擋座體622包含一凸設於下端6212用以擋止待測料片1的第一端13的擋止部6221，擋止部6221與輸送元件61的承載面611的一後緣614之間界定一斜向距離D0，待測料片1的一長度L1大於斜向距離D0，藉此， 能確保待測料片1滑移到預定位置時，待測料片1會部分凸伸出輸送元件61的承載面611上方，使得鄰近於該待測料片1前方的另一待測料片1的第一端13可頂推位在預定位置的該待測料片1。此外，當待測料片1滑移到預定位置時，待測料片1的下表面12會同時抵靠在輸送元件61的後端613，透過第一斜面6213與輸送元件61同時支撐待測料片1，使得待測料片1能穩固地定位在預定位置。

第一斜面6213的一長度L2等於或大於待測料片1的長度L1的二分之一，本實施例是以長度L2大於長度L1為例作說明，藉此，使得定位在預定位置的待測料片1的重心的垂直投影可以位於第一斜面6213上，藉此，使得第一斜面6213能提供待測料片1更穩定的支撐效果，更進一步來說，待測料片1則可以只靠第一斜面6213支撐，而不需要抵靠在輸送元件61的後端613。

第一斜面6213的下端6212與輸送元件61的後端613之間界定一水平距離D，第一斜面6213的下端6212與輸送元件61的承載面611之間界定一垂直距離H，水平距離D及垂直距離H在設計時是取決於待測料片1的長度L1，在本實施例中，水平距離D及垂直距離H皆為待測料片1的該長度L1的二分之一，透過前述導引滑座62與輸送元件61之間的尺寸限制，使得輸送元件61沿輸送方向I輸送待測料片1時，當待測料片1的重心移離後端613且待測料片1受到重力而向下掉時，待測料片1能夠順利地掉落在第一斜面6213上，防止待測料片1經由導引滑座62與輸送元件 61間的間隔掉落至地面上。

後阻擋座體622還包含一由擋止部6221朝後並朝下傾斜延伸的第二斜面6222，及一設置於第二斜面6222相反於擋止部6221一端的容置區6223。本實施例的擋止部6221為一由下端6212朝上並朝後傾斜延伸的擋止斜面，擋止部6221包括一與該下端6212相間隔的凸端6224。具體來說，擋止部6221具有一界定於下端6212與凸端6224之間的長度L3，該長度L3大於待測料片1的一厚度T。在本實施例中，待測料片1的厚度T是以1.6mm為例說明，該擋止部6221的長度L3是以待測料片1厚度T的10倍為佳，使得擋止部6221能夠有效地擋止待測料片1的第一端13。此外，第一斜面6213與擋止部6221之間夾一第一角度A，該第一角度A可為70度至90度之間的任一角度，本實施例的第一角度A是以90度為例說明。透過長度L3大於厚度T，以及第一角度A可為70度至90度之間的任一角度的設計，當放置於預定位置的待測料片1受到另一待測料片1的頂推時，擋止部6221可以有效的防止被頂推的待測料片1產生滑動，使得該待測料片1被頂推的過程中能以第一端13為支點進行旋轉，以確保該待測料片1的上表面11朝向凸端6224方向旋轉。當該待測料片1旋轉到上表面11抵觸凸端6224時，該待測料片1會以上表面11與凸端6224抵觸的部位為支點旋轉，使該待測料片1的第一端13移離擋止部6221，同時待測料片1的上表面11抵靠於第二斜面6222，藉此，使得待測料片1可以順利的翻轉並越過擋止部6221 的凸端6224而旋轉到第二斜面6222上。要注意的是，擋止部6221也可以有其他各種實施態樣，例如：以凸柱、凸塊等方式取代擋止斜面。

第二斜面6222由凸端6224延伸而出，並用以供待測料片1的上表面11抵靠並可將待測料片1導引至容置區6223，且該第二斜面6222包括一相反於凸端6224的輸出端6225。容置區6223用以容置待測料片1使下表面12朝上，且該容置區6223包括一間隔位於輸出端6225後方的擋止壁6226，及一連接於擋止壁6226底端且間隔位於輸出端6225下方的水平底壁6227。擋止壁6226用以擋止待測料片1的一相反於第一端13的第二端14，水平底壁6227用以供待測料片1的上表面11貼靠。

定義由第一斜面6213的下端6212延伸至水平底壁6227的一第一延伸線S1，第一延伸線S1與水平底壁6227之間夾一第二角度B，定義由第二斜面6222的輸出端6225延伸至水平底壁6227的一第二延伸線S2，第二延伸線S2與水平底壁6227之間夾一第三角度C，第三角度C小於或等於第二角度B。第二角度B可為30度至45度之間的任一角度，第二角度B的角度選擇是以第一斜面6213能夠平穩地導引待測料片1向下滑移的角度為佳。第三角度C可為25度至30度之間的任一角度，第三角度C是以小於第二角度B為佳，藉此，能讓翻轉後的待測料片1在第二斜面6222上滑動時速率能夠較平緩。並且第二角度B的角度範圍考量是配合水平距離D及垂直距離H等，其理由與前述大致相同。

第一斜面6213凹陷形成一位於頂端6211與下端6212之間並用以供頂推機構63設置的容置槽6214，頂推機構63包括一用以頂推位在該預定位置的待測料片1的下表面12的頂推桿631，及一可驅動頂推桿631往復移動的氣缸632。頂推機構63主要是用以頂推最後一片停在預定位置的待測料片1，使該待測料片1能翻轉過擋止部6221的凸端6224，所以在實際的應用上也可以用旋轉擺臂頂推待測料片1的下表面12，甚至也可以用人工的方式直接用手頂推待測料片1的下表面12，或者在最後一片的待測料片1後放置一片推頂片，該推頂片目的就是用來頂推最後一片的待測料片1並不需要被檢測，因而頂推最後一片待測料片1的處理方式有許多種，並不以本實施例所揭露的方式為限。

接下來，將針對翻轉裝置6如何對待測料片1翻轉進行詳細的說明：如圖2及圖5所示，輸送帶體33會依序將已完成上表面11檢測之待測料片1輸送至翻轉裝置6的輸送元件61的承載面611上，輸送元件61會沿輸送方向I將待測料片1逐漸往後輸送，當位於最後端的該待測料片1的重心超出後端613時，該待測料片1即會受到重力的影響往下朝第一斜面6213掉落。接著，如圖6所示，該待測料片1往下掉落並在下表面12碰觸到第一斜面6213時，會受到第一斜面6213的導引而下滑，當待測料片1的第一端13受擋止部6221擋止時便停止滑動，該待測料片1的下表面12會貼靠 於第一斜面6213上，該待測料片1的第二端14會凸伸高於承載面611，且第一斜面6213部分凸伸出承載面611上方，此時，待測料片1定位在預定位置。

如圖7、圖8及圖9所示，鄰近於在預定位置的該待測料片1前方的另一待測料片1’會沿著輸送方向I移動，並且逐漸靠近該待測料片1，該另一待測料片1’的第一端13’會頂推該待測料片1的下表面12凸伸出承載面611上方的部位，使該待測料片1以第一端13為支點沿箭頭III方向旋轉，當該待測料片1旋轉到上表面11抵觸凸端6224時，該待測料片1會以上表面11與凸端6224抵觸的部位為支點旋轉，使該待測料片1的第一端13移離擋止部6221，同時待測料片1的上表面11抵靠於第二斜面6222，藉此，使得待測料片1可以順利的翻轉並越過擋止部6221的凸端6224而旋轉到第二斜面6222上。該待測料片1會沿著第二斜面6222朝容置區6223滑動。

最後，如圖10所示，當待測料片1滑落至容置區6223時，擋止壁6226會擋止待測料片1的第二端14，以限制待測料片1向後滑動，使該待測料片1能掉落至水平底壁6227上，此時，待測料片1的上表面11貼靠於水平底壁6227且下表面12朝上。另外，待測料片1’則會下滑至預定位置，下表面12’貼靠於第一斜面6213，第二端14’凸伸出承載面611且下表面12’部分凸伸出承載面611上方，以供下一片待測料片1’頂推。藉由上述的翻轉原理，位在預定位置的待測料片1會受到相鄰的待測料片1頂推並完 成翻轉，使得該等待測料片1能依序地進行翻轉並且如圖11所示地堆疊在容置區6223內。利用簡單的機構設計，就可以達到待測料片1的翻轉效果，不但可以有效降低機台成本，也能減少花在裝設光學檢測裝置5的時間。

如圖11所示，當最後一片待測料片1位於預定位置時，由於並沒有其它待測料片1可以頂推該待測料片1，所以利用頂推機構63的氣缸632驅動頂推桿631去頂推該待測料片1的下表面12，使該待測料片1翻轉並越過擋止部6221的凸端6224而旋轉到第二斜面6222上，並藉由第二斜面6222導引而滑入容置區6223內。

如圖1與圖12所示，當所有經光學檢測裝置5檢測完上表面11的待測料片1完成翻轉並且堆疊在容置區6223後，接著，再以回送裝置7將容置於容置區6223內的該等待測料片1一片一片地依序送回至輸送元件61，此時輸送元件61會沿一由後朝前的移動方向II將該等待測料片1依序輸送至輸送帶體33，輸送帶體33同樣會沿移動方向II輸送該等待測料片1至光學檢測裝置5，使光學檢測裝置5能依序對該等待測料片1的下表面12進行檢測，進而能完成各待測料片1兩相反表面的檢測。

以下將詳細說明回送裝置7的作動方式：如圖13所示，升降手臂72會向下朝著容置區6223移動，使連接於升降手臂72的真空吸盤73可以碰觸到一待測料片1的下表面12，進而以抽真空的方式吸取該待測料片1的下表面12。如圖14所示，真空吸盤73吸取該待測料片1 後，升降手臂72會帶動真空吸盤73朝上移並回復至原圖13高度位置。接著，如圖15所示，升降手臂72以及吸取該待測料片1的真空吸盤73會在水平軌道71上沿移動方向II水平移動至輸送元件61的承載面611上方。如圖16所示，升降手臂72略往下移動使該待測料片1能夠放置於承載面611上，並使真空吸盤73停止抽真空而放下該待測料片1。如圖17所示，真空吸盤73放下該待測料片1於承載面611後，升降手臂72再上升回到原圖15所示的高度位置，最後升降手臂72沿水平軌道71移動回到容置區6223上方的位置，完成一次的待測料片1回送作業，重複上述的循環作業方式，就能夠將所有的待測料片1都依序送回到輸送元件61上。

綜上所述，藉由構造簡單的翻轉裝置6設計，能降低製造成本，且翻轉裝置6能確實地進行待測料片1的翻轉作業，以使檢測設備200能對待測料片1的上表面11及下表面12進行表面瑕疵的檢測，故確實能達成本新型之目的。

惟以上所述者，僅為本新型之較佳實施例而已，當不能以此限定本新型實施之範圍，即大凡依本新型申請專利範圍及新型說明內容所作之簡單的等效變化與修飾，皆仍屬本新型專利涵蓋之範圍內。

1、1’‧‧‧待測料片

11、11’‧‧‧上表面

12、12’‧‧‧下表面

13、13’‧‧‧第一端

14、14’‧‧‧第二端

200‧‧‧檢測設備

21‧‧‧機座

3‧‧‧輸送裝置

31‧‧‧前端緣

32‧‧‧後端緣

33‧‧‧輸送帶體

4‧‧‧進料裝置

5‧‧‧光學檢測裝置

6‧‧‧翻轉裝置

61‧‧‧輸送元件

611‧‧‧承載面

612‧‧‧前端

613‧‧‧後端

614‧‧‧後緣

62‧‧‧導引滑座

621‧‧‧前導引座體

6211‧‧‧頂端

6212‧‧‧下端

6213‧‧‧第一斜面

6214‧‧‧容置槽

622‧‧‧後阻擋座體

6221‧‧‧擋止部

6222‧‧‧第二斜面

6223‧‧‧容置區

6224‧‧‧凸端

6225‧‧‧輸出端

6226‧‧‧擋止壁

6227‧‧‧水平底壁

63‧‧‧頂推機構

631‧‧‧頂推桿

632‧‧‧氣缸

7‧‧‧回送裝置

71‧‧‧水平軌道

72‧‧‧升降手臂

73‧‧‧真空吸盤

S1‧‧‧第一延伸線

S2‧‧‧第二延伸線

L1‧‧‧長度

L2‧‧‧長度

L3‧‧‧長度

T‧‧‧厚度

A‧‧‧第一角度

B‧‧‧第二角度

C‧‧‧第三角度

D‧‧‧水平距離

H‧‧‧垂直距離

D0‧‧‧斜向距離

I‧‧‧輸送方向

II‧‧‧移動方向

III‧‧‧箭頭

圖1是本新型具有翻轉裝置的檢測設備的一較佳實施例的側視圖，說明輸送裝置、進料裝置、光學檢測裝置、 翻轉裝置及回送裝置之間的位置關係；圖2是本新型具有翻轉裝置的檢測設備的一較佳實施例的俯視圖，說明輸送裝置、進料裝置、光學檢測裝置、翻轉裝置及回送裝置之間的位置關係；圖3是本新型具有翻轉裝置的檢測設備的一較佳實施例的翻轉裝置的立體圖，說明輸送元件與導引滑座之間的位置關係；圖4是本新型具有翻轉裝置的檢測設備的一較佳實施例的翻轉裝置的側視圖，說明輸送元件、導引滑座與頂推機構之間的位置關係；圖5是本新型具有翻轉裝置的檢測設備的一較佳實施例的翻轉裝置的側視圖，說明待測料片在翻轉裝置上的作動方式；圖6是本新型具有翻轉裝置的檢測設備的一較佳實施例的翻轉裝置的側視圖，說明待測料片在翻轉裝置上的作動方式；圖7是本新型具有翻轉裝置的檢測設備的一較佳實施例的翻轉裝置的側視圖，說明待測料片在翻轉裝置上的作動方式；圖8是本新型具有翻轉裝置的檢測設備的一較佳實施例的翻轉裝置的側視圖，說明待測料片在翻轉裝置上的作動方式；圖9是本新型具有翻轉裝置的檢測設備的一較佳實施例的翻轉裝置的側視圖，說明待測料片在翻轉裝置上的作 動方式；圖10是本新型具有翻轉裝置的檢測設備的一較佳實施例的翻轉裝置的側視圖，說明待測料片在翻轉裝置上的作動方式；圖11是本新型具有翻轉裝置的檢測設備的一較佳實施例的翻轉裝置的側視圖，說明頂推機構頂推待測料片的作動方式；圖12是本新型具有翻轉裝置的檢測設備的一較佳實施例的翻轉裝置與回送裝置的側視圖，說明翻轉裝置與回送裝置之間的位置關係；圖13是本新型具有翻轉裝置的檢測設備的一較佳實施例的翻轉裝置與回送裝置的側視圖，說明回送裝置回送待測料片的動作；圖14是本新型具有翻轉裝置的檢測設備的一較佳實施例的翻轉裝置與回送裝置的側視圖，說明回送裝置回送待測料片的動作；圖15是本新型具有翻轉裝置的檢測設備的一較佳實施例的翻轉裝置與回送裝置的側視圖，說明回送裝置回送待測料片的動作；圖16是本新型具有翻轉裝置的檢測設備的一較佳實施例的翻轉裝置與回送裝置的側視圖，說明回送裝置回送待測料片的動作；圖17是本新型具有翻轉裝置的檢測設備的一較佳實施例的翻轉裝置與回送裝置的側視圖，說明回送裝置回送待 測料片的動作。

1‧‧‧待測料片

61‧‧‧輸送元件

611‧‧‧承載面

612‧‧‧前端

613‧‧‧後端

614‧‧‧後緣

62‧‧‧導引滑座

621‧‧‧前導引座體

6211‧‧‧頂端

6212‧‧‧下端

6213‧‧‧第一斜面

6214‧‧‧容置槽

622‧‧‧後阻擋座體

6221‧‧‧擋止部

6222‧‧‧第二斜面

6223‧‧‧容置區

6224‧‧‧凸端

6225‧‧‧輸出端

6226‧‧‧擋止壁

6227‧‧‧水平底壁

63‧‧‧頂推機構

631‧‧‧頂推桿

632‧‧‧氣缸

S1‧‧‧第一延伸線

S2‧‧‧第二延伸線

L1‧‧‧長度

L2‧‧‧長度

L3‧‧‧長度

T‧‧‧厚度

A‧‧‧第一角度

B‧‧‧第二角度

C‧‧‧第三角度

D‧‧‧水平距離

H‧‧‧垂直距離

D0‧‧‧斜向距離

Claims (27)

1. 一種翻轉裝置，適於翻轉複數片待測料片，每一待測料片具有一上表面及一相反於該上表面的下表面，該翻轉裝置包含：一輸送元件，包括一承載面、一前端，及一後端，該等待測料片彼此前後相間隔排列地放置於該承載面上並可沿一由前朝後的輸送方向被輸送，各該待測料片的下表面貼靠於該承載面；一導引滑座，包括一前導引座體，及一連接於該前導引座體的後阻擋座體，該前導引座體包含一鄰近於該輸送元件的該後端的頂端，及一由該頂端朝後並朝下傾斜延伸且連接至該後阻擋座體的第一斜面，該頂端高度低於該承載面高度，該第一斜面用以導引該等待測料片的其中一待測料片朝向該後阻擋座體滑移到一預定位置，使該待測料片的第一端抵接於該後阻擋座體，以及該下表面抵靠於該第一斜面且部分凸伸出該承載面上方，鄰近於該待測料片前方的另一待測料片的第一端可頂推凸伸出該承載面上方的該下表面以帶動該待測料片旋轉，使該上表面抵靠於該後阻擋座體且該下表面朝上。
2. 根據申請專利範圍第1項所述之翻轉裝置，其中，該第一斜面包括一相反於該頂端的下端，該後阻擋座體包含一凸設於該下端用以擋止該待測料片的該第一端的擋止部，該擋止部與該輸送元件的該承載面的一後緣之間界定一斜向距離，該待測料片的一長度大於該斜向距離。
3. 根據申請專利範圍第2項所述之翻轉裝置，其中，該後阻擋座體還包含一由該擋止部朝後並朝下傾斜延伸的第二斜面，及一設置於該第二斜面相反於該擋止部一端的容置區，該第二斜面用以供該待測料片的該上表面抵靠並可將該待測料片導引至該容置區，該容置區用以容置該待測料片使該下表面朝上，該擋止部為一由該下端朝上並朝後傾斜延伸的擋止斜面，該擋止部包括一與該下端相間隔的凸端，該第二斜面由該凸端延伸而出。
4. 根據申請專利範圍第3項所述之翻轉裝置，其中，該第一斜面與該擋止部之間夾一第一角度，該第一角度為70度至90度。
5. 根據申請專利範圍第4項所述之翻轉裝置，其中，該擋止部具有一界定於該下端與該凸端之間的長度，該長度大於該待測料片的一厚度。
6. 根據申請專利範圍第5項所述之翻轉裝置，其中，該第一斜面的長度大於或等於該待測料片的一長度的二分之一，該下端至該後端的水平距離以及該下端至該承載面的垂直距離皆為該待測料片的該長度的二分之一。
7. 根據申請專利範圍第3項所述之翻轉裝置，其中，該第二斜面包括一相反於該凸端的輸出端，該容置區包括一間隔位於該輸出端後方的擋止壁，及一連接於該擋止壁底端且間隔位於該輸出端下方的水平底壁，該擋止壁用以擋止該待測料片的一相反於該第一端的第二端，該水平底壁用以供該待測料片的該上表面貼靠。
8. 根據申請專利範圍第7項所述之翻轉裝置，其中，該第一斜面延伸至該水平底壁的一第一延伸線與該水平底壁之間夾一第二角度，該第二斜面延伸至該水平底壁的一第二延伸線與該水平底壁之間夾一第三角度，該第三角度小於或等於該第二角度。
9. 根據申請專利範圍第2項所述之翻轉裝置，其中，該第一斜面凹陷形成一容置槽，該翻轉裝置還包含一設置於該容置槽內的頂推機構，該頂推機構包括一用以頂推位在該預定位置的該待測料片的該下表面的頂推桿，及一可驅動該頂推桿往復移動的氣缸。
10. 一種翻轉裝置的導引滑座，適於與一輸送元件相配合，該輸送元件包括一承載面、一前端，及一後端，該輸送元件用以輸送複數片待測料片，每一待測料片具有一上表面及一相反於該上表面的下表面，該等待測料片彼此前後相間隔排列地放置於該承載面上並可沿一由前朝後的輸送方向被輸送，各該待測料片的下表面貼靠於該承載面，該導引滑座包含：一前導引座體；及一後阻擋座體，連接於該前導引座體，該前導引座體包含一鄰近於該輸送元件的該後端的頂端，及一由該頂端朝後並朝下傾斜延伸且連接至該後阻擋座體的第一斜面，該頂端高度低於該承載面高度，該第一斜面用以導引該等待測料片的其中一待測料片朝向該後阻擋座體滑移到一預定位置，使該待測料片的第一端抵接於該後阻擋座體，以 及該下表面抵靠於該第一斜面且部分凸伸出該承載面上方，鄰近於該待測料片前方的另一待測料片的第一端可頂推凸伸出該承載面上方的該下表面以帶動該待測料片旋轉，使該上表面抵靠於該後阻擋座體且該下表面朝上。
11. 根據申請專利範圍第10項所述之翻轉裝置的導引滑座，其中，該第一斜面包括一相反於該頂端的下端，該後阻擋座體包含一凸設於該下端用以擋止該待測料片的該第一端的擋止部，該擋止部與該輸送元件的該承載面的一後緣之間界定一斜向距離，該待測料片的一長度大於該斜向距離。
12. 根據申請專利範圍第11項所述之翻轉裝置的導引滑座，其中，該後阻擋座體還包含一由該擋止部朝後並朝下傾斜延伸的第二斜面，及一設置於該第二斜面相反於該擋止部一端的容置區，該第二斜面用以供該待測料片的該上表面抵靠並可將該待測料片導引至該容置區，該容置區用以容置該待測料片使該下表面朝上，該擋止部為一由該下端朝上並朝後傾斜延伸的擋止斜面，該擋止部包括一與該下端相間隔的凸端，該第二斜面由該凸端延伸而出。
13. 根據申請專利範圍第12項所述之翻轉裝置的導引滑座，其中，該第一斜面與該擋止部之間夾一第一角度，該第一角度為70度至90度。
14. 根據申請專利範圍第13項所述之翻轉裝置的導引滑座，其中，該擋止部具有一界定於該下端與該凸端之間的長度，該長度大於該待測料片的一厚度。
15. 根據申請專利範圍第14項所述之翻轉裝置的導引滑座，其 中，該第一斜面的長度大於或等於該待測料片的該長度的二分之一，該下端至該後端的水平距離以及下端至該承載面的垂直距離皆為該待測料片的該長度的二分之一。
16. 根據申請專利範圍第12項所述之翻轉裝置的導引滑座，其中，該第二斜面包括一相反於該凸端的輸出端，該容置區包括一間隔位於該輸出端後方的擋止壁，及一連接於該擋止壁底端且間隔位於該輸出端下方的水平底壁，該擋止壁用以擋止該待測料片的一相反於該第一端的第二端，該水平底壁用以供該待測料片的該上表面貼靠。
17. 根據申請專利範圍第16項所述之翻轉裝置的導引滑座，其中，該第一斜面延伸至該水平底壁的一第一延伸線與該水平底壁之間夾一第二角度，該第二斜面延伸至該水平底壁的一第二延伸線與該水平底壁之間夾一第三角度，該第三角度小於或等於該第二角度。
18. 根據申請專利範圍第11項所述之翻轉裝置的導引滑座，其中，該第一斜面凹陷形成一容置槽，該翻轉裝置還包含一設置於該容置槽內的頂推機構，該頂推機構包括一用以頂推位在該預定位置的該待測料片的該下表面的頂推桿，及一可驅動該頂推桿往復移動的氣缸。
19. 一種具有翻轉裝置的檢測設備，適於檢測複數片待測料片的表面瑕疵，每一待測料片具有一上表面及一相反於該上表面的下表面，該檢測設備包括：一輸送裝置，包含一前端緣、一後端緣，及一可沿著一由前朝後的輸送方向輸送該等待測料片的輸送帶體，該 等待測料片彼此前後相間隔排列地放置於該輸送帶體上；一進料裝置，鄰近於該輸送裝置的該前端緣，用以提供該等待測料片至該輸送帶體上；一光學檢測裝置，設置該前端緣與該後端緣之間且位於該輸送帶體上方，該光學檢測裝置用以對該輸送帶體上的各該待測料片的該上表面或該下表面進行檢測；一翻轉裝置，鄰近於該輸送裝置的該後端緣用以翻轉各該待測料片，該翻轉裝置包含：一輸送元件，包括一承載面、一鄰近於該後端緣的前端，及一後端，該等待測料片彼此前後相間隔排列地放置於該承載面上並可沿該輸送方向被輸送，各該待測料片的下表面貼靠於該承載面；一導引滑座，包括一前導引座體，及一連接於該前導引座體的後阻擋座體，該前導引座體包含一鄰近於該輸送元件的該後端的頂端，及一由該頂端朝後並朝下傾斜延伸且連接至該後阻擋座體的第一斜面，該頂端高度低於該承載面高度，該第一斜面用以導引該等待測料片的其中一待測料片朝向該後阻擋座體滑移到一預定位置，使該待測料片的第一端抵接於該後阻擋座體，以及該下表面抵靠於該第一斜面且部分凸伸出該承載面上方，鄰近於該待測料片前方的另一待測料片的第一端可頂推凸伸出該承載面上方的該下表面以 帶動該待測料片旋轉，使該上表面抵靠於該後阻擋座體且該下表面朝上；及一回送裝置，設置於該翻轉裝置一側，用以將位於該後阻擋座體上的該待測料片送回至該輸送元件的承載面，該輸送帶體可沿一由後朝前的移動方向輸送該待測料片。
20. 根據申請專利範圍第19項所述之具有翻轉裝置的檢測設備，其中，該第一斜面包括一相反於該頂端的下端，該後阻擋座體包含一凸設於該下端用以擋止該待測料片的該第一端的擋止部，該擋止部與該輸送元件的該承載面的一後緣之間界定一斜向距離，該待測料片的一長度大於該斜向距離。
21. 根據申請專利範圍第20項所述之具有翻轉裝置的檢測設備，其中，該後阻擋座體還包含一由該擋止部朝後並朝下傾斜延伸的第二斜面，及一設置於該第二斜面相反於該擋止部一端的容置區，該第二斜面用以供該待測料片的該上表面抵靠並可將該待測料片導引至該容置區，該容置區用以容置該待測料片使該下表面朝上，該擋止部為一由該下端朝上並朝後傾斜延伸的擋止斜面，該擋止部包括一與該下端相間隔的凸端，該第二斜面由該凸端延伸而出。
22. 根據申請專利範圍第21項所述之具有翻轉裝置的檢測設備，其中，該第一斜面與該擋止部之間夾一第一角度，該第一角度為70度至90度。
23. 根據申請專利範圍第22項所述之具有翻轉裝置的檢測設備，其中，該擋止部具有一界定於該下端與該凸端之間的長 度，該長度大於該待測料片的一厚度。
24. 根據申請專利範圍第23項所述之具有翻轉裝置的檢測設備，其中，該第一斜面的長度大於或等於該待測料片的一長度的二分之一，該下端至該後端的水平距離以及該下端至該承載面的垂直距離皆為該待測料片的該長度的二分之一。
25. 根據申請專利範圍第21項所述之具有翻轉裝置的檢測設備，其中，該第二斜面包括一相反於該凸端的輸出端，該容置區包括一間隔位於該輸出端後方的擋止壁，及一連接於該擋止壁底端且間隔位於該輸出端下方的水平底壁，該擋止壁用以擋止該待測料片的一相反於該第一端的第二端，該水平底壁用以供該待測料片的該上表面貼靠。
26. 根據申請專利範圍第25項所述之具有翻轉裝置的檢測設備，其中，該第一斜面延伸至該水平底壁的一第一延伸線與該水平底壁之間夾一第二角度，該第二斜面延伸至該水平底壁的一第二延伸線與該水平底壁之間夾一第三角度，該第三角度小於或等於該第二角度。
27. 根據申請專利範圍第20項所述之具有翻轉裝置的檢測設備，其中，該第一斜面凹陷形成一容置槽，該翻轉裝置還包含一設置於該容置槽內的頂推機構，該頂推機構包括一用以頂推位在該預定位置的該待測料片的該下表面的頂推桿，及一可驅動該頂推桿往復移動的氣缸。